JPH0890729A - 化粧シート - Google Patents
化粧シートInfo
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- JPH0890729A JPH0890729A JP25756894A JP25756894A JPH0890729A JP H0890729 A JPH0890729 A JP H0890729A JP 25756894 A JP25756894 A JP 25756894A JP 25756894 A JP25756894 A JP 25756894A JP H0890729 A JPH0890729 A JP H0890729A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗膜の耐久性に優れた化粧シートを提供す
る。 【構成】 化粧シート基材上に電離放射線の照射により
硬化された電離放射線硬化型樹脂を含有した樹脂層を有
する化粧シートに於いて、該電離放射線硬化型樹脂層中
に電離放射線反応型シリコーンを含有する。
る。 【構成】 化粧シート基材上に電離放射線の照射により
硬化された電離放射線硬化型樹脂を含有した樹脂層を有
する化粧シートに於いて、該電離放射線硬化型樹脂層中
に電離放射線反応型シリコーンを含有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、家具、壁面、床面など
の表面に対して意匠賦与および表面保護の目的で設けら
れる建材用化粧シートに関する。
の表面に対して意匠賦与および表面保護の目的で設けら
れる建材用化粧シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の従来の技術として、プラスチッ
クフィルム等の表面に絵柄印刷した化粧シートの表面に
電離放射線硬化型樹脂組成物を塗布し、紫外線や電子線
等の電離放射線を照射して表面保護層を形成する方法が
知られている。更に上記電離放射線硬化型樹脂にシリコ
ンオイルを添加して耐セロテープ剥離性を向上させた化
粧シートが知られている。
クフィルム等の表面に絵柄印刷した化粧シートの表面に
電離放射線硬化型樹脂組成物を塗布し、紫外線や電子線
等の電離放射線を照射して表面保護層を形成する方法が
知られている。更に上記電離放射線硬化型樹脂にシリコ
ンオイルを添加して耐セロテープ剥離性を向上させた化
粧シートが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題として、本発明の従来の技術で述べた電離放射
線硬化型樹脂組成物中にシリコンオイルを含む硬化塗膜
では、製造直後の耐セロテープ剥離性を向上させること
は可能であるが、経時とともに耐セロテープ剥離性が低
下する、即ち表面層の基材との密着性が悪くなる欠点が
ある。
する課題として、本発明の従来の技術で述べた電離放射
線硬化型樹脂組成物中にシリコンオイルを含む硬化塗膜
では、製造直後の耐セロテープ剥離性を向上させること
は可能であるが、経時とともに耐セロテープ剥離性が低
下する、即ち表面層の基材との密着性が悪くなる欠点が
ある。
【０００４】これに対して、本発明は十分な耐セロテー
プ剥離性を有する化粧シートを提供することを課題とす
る。
プ剥離性を有する化粧シートを提供することを課題とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の発明は、
化粧シート基材１上に電離放射線の照射により硬化され
た電離放射線硬化型樹脂を主成分とする樹脂層２を有す
る化粧シートにおいて、該電離放射線硬化型樹脂層２
が、電離放射線反応型シリコーンを含有することを特徴
とする化粧シートである。本発明の第２の発明は、第１
の発明の電離放射線反応型シリコーンが、一分子中にア
クリロイル基またはメタクリロイル基の官能基数１〜２
０個を有し、平均分子量１０００〜３００００であるこ
とを特徴とする化粧シートである。本発明の第３の発明
は、第１および第２の発明の電離放射線硬化型樹脂の主
成分が、ウレタンアクリレートプレポリマーであること
を特徴とする化粧シートである。
化粧シート基材１上に電離放射線の照射により硬化され
た電離放射線硬化型樹脂を主成分とする樹脂層２を有す
る化粧シートにおいて、該電離放射線硬化型樹脂層２
が、電離放射線反応型シリコーンを含有することを特徴
とする化粧シートである。本発明の第２の発明は、第１
の発明の電離放射線反応型シリコーンが、一分子中にア
クリロイル基またはメタクリロイル基の官能基数１〜２
０個を有し、平均分子量１０００〜３００００であるこ
とを特徴とする化粧シートである。本発明の第３の発明
は、第１および第２の発明の電離放射線硬化型樹脂の主
成分が、ウレタンアクリレートプレポリマーであること
を特徴とする化粧シートである。
【０００６】前記構成による本発明の化粧シートにおい
て、電離放射線反応型シリコーンとしては、電離放射線
により架橋重合反応を起こし固体化するシリコーンのポ
リマー、プレポリマー、或いはモノマーが用いられる。
具体的には、シリコーンの片末端、両末端または側鎖に
アクリロイル基、メタクリロイル基、チオール基、エポ
キシ基、二重結合を有する官能基をもつ化合物が使用で
き、チオール基、エポキシ基、二重結合を有する官能基
の場合は各々の架橋剤を添加する。特に、一分子中にア
クリロイル基またはメタクリロイル基の官能基数１〜２
０個を有し、平均分子量１０００〜３００００である電
離放射線反応型シリコーンは電離放射線硬化型樹脂への
分散性、および反応性が向上する点で好ましい。
て、電離放射線反応型シリコーンとしては、電離放射線
により架橋重合反応を起こし固体化するシリコーンのポ
リマー、プレポリマー、或いはモノマーが用いられる。
具体的には、シリコーンの片末端、両末端または側鎖に
アクリロイル基、メタクリロイル基、チオール基、エポ
キシ基、二重結合を有する官能基をもつ化合物が使用で
き、チオール基、エポキシ基、二重結合を有する官能基
の場合は各々の架橋剤を添加する。特に、一分子中にア
クリロイル基またはメタクリロイル基の官能基数１〜２
０個を有し、平均分子量１０００〜３００００である電
離放射線反応型シリコーンは電離放射線硬化型樹脂への
分散性、および反応性が向上する点で好ましい。
【０００７】本発明の電離放射線硬化型樹脂としては、
電離放射線により架橋重合反応を起こし固体化するポリ
マー、プレポリマー、或いはモノマーが用いられる。具
体的には、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル
ニトリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エ
ステルなどの（メタ）アクリロイル基をもつ化合物から
なるラジカル重合系（此処で、（メタ）アクリロイルと
はアクリロイル又はメタアクリロイルを意味する。以下
同様）、エポキシ、環状エーテル、環状アセタール、ラ
クトン、ビニルモノマー、環状シロキサンと リールジ
アゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩などとの組合
せからなるカチオン重合系、チオール基を有する化合物
例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペ
ンタエリスリトールテトラチオグリコールとポリエン化
合物からなるポリエン・チオール系などが使用できる。
該電離放射線硬化型樹脂の厚みは１〜５０μｍ程度であ
るが、耐擦傷性、成形加工性を要する用途には、１０〜
３０μｍが好ましい。
電離放射線により架橋重合反応を起こし固体化するポリ
マー、プレポリマー、或いはモノマーが用いられる。具
体的には、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル
ニトリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エ
ステルなどの（メタ）アクリロイル基をもつ化合物から
なるラジカル重合系（此処で、（メタ）アクリロイルと
はアクリロイル又はメタアクリロイルを意味する。以下
同様）、エポキシ、環状エーテル、環状アセタール、ラ
クトン、ビニルモノマー、環状シロキサンと リールジ
アゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩などとの組合
せからなるカチオン重合系、チオール基を有する化合物
例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペ
ンタエリスリトールテトラチオグリコールとポリエン化
合物からなるポリエン・チオール系などが使用できる。
該電離放射線硬化型樹脂の厚みは１〜５０μｍ程度であ
るが、耐擦傷性、成形加工性を要する用途には、１０〜
３０μｍが好ましい。
【０００８】ラジカル重合系の（メタ）アクリレート化
合物の単官能モノマーとしては、例えば、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アク
リレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ブト
キシエチル（メタ）アクリレート、２エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ
ート、イソボルニル（メタ）アクリレート、エチルカル
ビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、テトラヒドキシフルフリル（メ
タ）クリレート、メトキシトリプロピレングリコール
（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキ
シエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−
（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタ
レート等が挙げられる。
合物の単官能モノマーとしては、例えば、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アク
リレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ブト
キシエチル（メタ）アクリレート、２エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ
ート、イソボルニル（メタ）アクリレート、エチルカル
ビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、テトラヒドキシフルフリル（メ
タ）クリレート、メトキシトリプロピレングリコール
（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキ
シエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−
（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタ
レート等が挙げられる。
【０００９】およびラジカル重合系の多官能モノマーと
しては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキシルジオール
ジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリプロリレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−ジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイ
ドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、グリセリンポリエチレンオキサ
イドトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリ
ロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。
しては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキシルジオール
ジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリプロリレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−ジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイ
ドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、グリセリンポリエチレンオキサ
イドトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリ
ロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。
【００１０】プレポリマーとしてはアルキッド（メタ）
アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキ
シ（メタ）アクリレート、ポリエスル（メタ）アクリレ
ート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート等の（メ
タ）アクリレート、不飽和ポリエステルなどがある。な
かでもウレタン（メタ）アクリレートが、強靱でありな
がら、可撓性に優れる化粧シートが得られる点で好まし
い。
アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキ
シ（メタ）アクリレート、ポリエスル（メタ）アクリレ
ート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート等の（メ
タ）アクリレート、不飽和ポリエステルなどがある。な
かでもウレタン（メタ）アクリレートが、強靱でありな
がら、可撓性に優れる化粧シートが得られる点で好まし
い。
【００１１】これら（メタ）アクリロイル基を含む化合
物の中でも特にアクリロイル基を含む化合物、即ちアク
リレートの方がより重合反応速度が速い。その為、電離
放射線硬化型樹脂層を塗工形成する生産速度を重視する
場合はアクリレートの方がメタアクリレートより好まし
い。
物の中でも特にアクリロイル基を含む化合物、即ちアク
リレートの方がより重合反応速度が速い。その為、電離
放射線硬化型樹脂層を塗工形成する生産速度を重視する
場合はアクリレートの方がメタアクリレートより好まし
い。
【００１２】以上の化合物を必要に応じて１種もしくは
２種以上混合して用いる。また混合された組成物の（メ
タ）アクリロイル基の総和が０．２〜１２ｍｍｏｌ／
ｇ、好ましくは、２〜１０ｍｍｏｌ／ｇがよい。
２種以上混合して用いる。また混合された組成物の（メ
タ）アクリロイル基の総和が０．２〜１２ｍｍｏｌ／
ｇ、好ましくは、２〜１０ｍｍｏｌ／ｇがよい。
【００１３】ここで、紫外線照射による硬化の場合の光
重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファ
イド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾー
ル、イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエー
トなどの１種もしくは２種以上を該電離放射線硬化型樹
脂１００重量部に対し０．１〜１０重量部を混合して用
いることができる。
重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファ
イド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾー
ル、イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエー
トなどの１種もしくは２種以上を該電離放射線硬化型樹
脂１００重量部に対し０．１〜１０重量部を混合して用
いることができる。
【００１４】此処で該電離放射線硬化型樹脂を含む組成
物中に、該電離放射線硬化型樹脂を溶解してその粘度な
どを調整し塗工適性を持たせるための溶剤として、酢酸
エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール等のアルコール類など
の１種または２種以上を任意に混合して使用することが
できる。
物中に、該電離放射線硬化型樹脂を溶解してその粘度な
どを調整し塗工適性を持たせるための溶剤として、酢酸
エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール等のアルコール類など
の１種または２種以上を任意に混合して使用することが
できる。
【００１５】該電離放射線硬化型樹脂を含む組成物中に
は、その硬化性を損なわない程度であれば、塗膜の耐擦
傷性、艶消し性を向上させるために、これ以外の添加剤
を添加しても良い。例えば、艶消し材としては、例えば
シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、沈降性硫酸バリウ
ム、クレイ、シラスバルーン、ベンゾクアナミン、タル
ク等があげられる。さらに、耐衝撃性樹脂微粒子、また
は多孔質構造を有する合成樹脂ビーズが好ましい。耐衝
撃性樹脂微粒子とは、硬質ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリアセタール、ナイロン、エチルセルロー
ス、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート等のアイゾット衝撃値１０Ｋｇｃｍ／ｃ
ｍ以上、好ましくは３０Ｋｇｃｍ／ｃｍ以上である樹脂
を粒径０．１〜５０μｍに微粒子化させたものである。
耐衝撃性樹脂微粒子の分散性を向上させる為、粒径が耐
衝撃性樹脂微粒子の１／３以下のシリカ、タルク、炭酸
カルシウム、硫酸バリウム、有機ベントナイト等の微粒
子状分散改良材、耐衝撃性樹脂微粒子の分散性を向上或
いは塗膜の帯電防止の為の界面活性剤、染料や顔料等の
着色剤等が上げられる。多孔質構造を有する合成樹脂ビ
ーズとしては、合成樹脂ビーズの少なくとも表面が多孔
質構造になっているものが使用でき、例えば、アクリル
樹脂、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミ
ド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂
等が挙げられる。
は、その硬化性を損なわない程度であれば、塗膜の耐擦
傷性、艶消し性を向上させるために、これ以外の添加剤
を添加しても良い。例えば、艶消し材としては、例えば
シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、沈降性硫酸バリウ
ム、クレイ、シラスバルーン、ベンゾクアナミン、タル
ク等があげられる。さらに、耐衝撃性樹脂微粒子、また
は多孔質構造を有する合成樹脂ビーズが好ましい。耐衝
撃性樹脂微粒子とは、硬質ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリアセタール、ナイロン、エチルセルロー
ス、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート等のアイゾット衝撃値１０Ｋｇｃｍ／ｃ
ｍ以上、好ましくは３０Ｋｇｃｍ／ｃｍ以上である樹脂
を粒径０．１〜５０μｍに微粒子化させたものである。
耐衝撃性樹脂微粒子の分散性を向上させる為、粒径が耐
衝撃性樹脂微粒子の１／３以下のシリカ、タルク、炭酸
カルシウム、硫酸バリウム、有機ベントナイト等の微粒
子状分散改良材、耐衝撃性樹脂微粒子の分散性を向上或
いは塗膜の帯電防止の為の界面活性剤、染料や顔料等の
着色剤等が上げられる。多孔質構造を有する合成樹脂ビ
ーズとしては、合成樹脂ビーズの少なくとも表面が多孔
質構造になっているものが使用でき、例えば、アクリル
樹脂、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミ
ド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂
等が挙げられる。
【００１６】本発明の化粧シート用基材としては、合成
樹脂シートが成形性、塗工適性の点で最も好ましい。例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニル
アルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンビ
ニルアルコール共重合体等のビニル樹脂、ポリエチレン
テレフタート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエ
ステル、ポリスチレン、アクリルスチレン共重合体、Ａ
ＢＳ樹脂等のスチレン系樹脂、ポリカーボネート、ナイ
ロン、アイオノマー樹脂等が使用できる。これらの中で
も、特に厚さ５０〜３００μｍで可塑剤部数が８〜３０
重量部の半硬質ポリ塩化ビニル、或いはこれと同等の可
撓性、弾性的性質を有する樹脂シートが化粧シート全体
の成形性、耐衝撃性、及び耐擦傷性の点で良好である。
樹脂シートが成形性、塗工適性の点で最も好ましい。例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニル
アルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンビ
ニルアルコール共重合体等のビニル樹脂、ポリエチレン
テレフタート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエ
ステル、ポリスチレン、アクリルスチレン共重合体、Ａ
ＢＳ樹脂等のスチレン系樹脂、ポリカーボネート、ナイ
ロン、アイオノマー樹脂等が使用できる。これらの中で
も、特に厚さ５０〜３００μｍで可塑剤部数が８〜３０
重量部の半硬質ポリ塩化ビニル、或いはこれと同等の可
撓性、弾性的性質を有する樹脂シートが化粧シート全体
の成形性、耐衝撃性、及び耐擦傷性の点で良好である。
【００１７】その他基材としては、薄葉紙、上質紙等の
紙、織布、不織布等の布帛等が挙げられる。
紙、織布、不織布等の布帛等が挙げられる。
【００１８】又該基材の表面には例えば、木目、石目、
天然皮革の表面柄、布目、抽象柄などを表現する印刷が
付されてもよく、さらに、木目の導管部に模した凹部を
はじめ石目、皮革の絞り、布目などに類似する形状をな
す凹部を前述の印刷模様を組み合わせて賦形させてもよ
い。
天然皮革の表面柄、布目、抽象柄などを表現する印刷が
付されてもよく、さらに、木目の導管部に模した凹部を
はじめ石目、皮革の絞り、布目などに類似する形状をな
す凹部を前述の印刷模様を組み合わせて賦形させてもよ
い。
【００１９】なお、凹部を有する化粧シート基材として
は、前述の印刷面に対して凹部を直接形成させたもので
あっても、あるいは印刷が付されている熱可塑性合成樹
脂シートの印刷面に対して別製の熱可塑性合成樹脂シー
トを熱接着によって積層すると共に、積層されたシート
表面にエンボスによる賦形を行うことによって得られる
いわゆるダブリングエンボスすることによって得られる
積層シートを化粧シート用基材として使用することがで
きる。特に、印刷模様層を有する場合、耐摩耗性が要求
されるが、耐擦傷性に加えて耐摩耗性をも賦与する為に
は、印刷模様層を２つの基材シートの間に挾み、『裏面
シート基材／印刷模様層／透明表面シート基材／電離放
射線硬化型樹脂層』の層構成にすると良い。その理由
は、耐擦傷性即ち、引っ掻き傷への耐性は、表面への瞬
間的、且つ局部的な応力の集中に耐える事のみで得られ
るのに対して、耐摩耗性即ち、長期間繰り返し摩擦によ
る表面層の削り取られへの耐性は、保護層の物理的厚み
により得るのが有効だからである。但し、電離放射線硬
化型樹脂層を厚くし過ぎると（特に５０μｍ以上）、硬
化収縮による化粧シートの反り、塗膜／基材界面の収縮
応力集中による塗膜密着の低下等の弊害が出てくる。よ
って電離放射線硬化型樹脂層は耐擦傷性を出すのに十分
な最大５０μｍに止め、それで不足する耐摩耗性は透明
表面シート基材の厚みで賦与する事が最適である。
は、前述の印刷面に対して凹部を直接形成させたもので
あっても、あるいは印刷が付されている熱可塑性合成樹
脂シートの印刷面に対して別製の熱可塑性合成樹脂シー
トを熱接着によって積層すると共に、積層されたシート
表面にエンボスによる賦形を行うことによって得られる
いわゆるダブリングエンボスすることによって得られる
積層シートを化粧シート用基材として使用することがで
きる。特に、印刷模様層を有する場合、耐摩耗性が要求
されるが、耐擦傷性に加えて耐摩耗性をも賦与する為に
は、印刷模様層を２つの基材シートの間に挾み、『裏面
シート基材／印刷模様層／透明表面シート基材／電離放
射線硬化型樹脂層』の層構成にすると良い。その理由
は、耐擦傷性即ち、引っ掻き傷への耐性は、表面への瞬
間的、且つ局部的な応力の集中に耐える事のみで得られ
るのに対して、耐摩耗性即ち、長期間繰り返し摩擦によ
る表面層の削り取られへの耐性は、保護層の物理的厚み
により得るのが有効だからである。但し、電離放射線硬
化型樹脂層を厚くし過ぎると（特に５０μｍ以上）、硬
化収縮による化粧シートの反り、塗膜／基材界面の収縮
応力集中による塗膜密着の低下等の弊害が出てくる。よ
って電離放射線硬化型樹脂層は耐擦傷性を出すのに十分
な最大５０μｍに止め、それで不足する耐摩耗性は透明
表面シート基材の厚みで賦与する事が最適である。
【００２０】化粧シート用基材の表面における凹部内に
着色塗料を充填させるためのワイピング処理は、例え
ば、ビヒクルとして熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、また
は電離放射線硬化型脂を用いた塗料を使用することがで
きる。
着色塗料を充填させるためのワイピング処理は、例え
ば、ビヒクルとして熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、また
は電離放射線硬化型脂を用いた塗料を使用することがで
きる。
【００２１】また、本発明の化粧シートは各種の材料に
貼合わせて使用される。例えば、不織布、織布等の布
帛、突板、パーチクルボード、木質合板等の木質基材、
ＡＢＳ板、アクリル板等のプラスチック板、アルミ箔な
どの金属箔、、アルミニウム板、鋼板等の金属板、硅酸
カルシウム板、石膏板、セメント板等の窯業系板などに
適用される。
貼合わせて使用される。例えば、不織布、織布等の布
帛、突板、パーチクルボード、木質合板等の木質基材、
ＡＢＳ板、アクリル板等のプラスチック板、アルミ箔な
どの金属箔、、アルミニウム板、鋼板等の金属板、硅酸
カルシウム板、石膏板、セメント板等の窯業系板などに
適用される。
【００２２】電離放射線硬化型樹脂組成物の化粧シート
表面への形成方法としては、例えば塗布による。塗布方
法には、グラビアコート、グラビアリバースコート、グ
ラビアオフセットコート、ロールコート、リバースロー
ルコート、ナイフコート、ワイヤーバーコート、フロー
コート、コンマコート、ディップコート、ホイラーコー
ト、スピンナーコート、スプレーコート、シルクスクリ
ーン、かけ流しコート、刷毛塗り等が適用される３
表面への形成方法としては、例えば塗布による。塗布方
法には、グラビアコート、グラビアリバースコート、グ
ラビアオフセットコート、ロールコート、リバースロー
ルコート、ナイフコート、ワイヤーバーコート、フロー
コート、コンマコート、ディップコート、ホイラーコー
ト、スピンナーコート、スプレーコート、シルクスクリ
ーン、かけ流しコート、刷毛塗り等が適用される３
【００２４】化粧シート基材への印刷方法には、グラビ
ア、グラビアオフセット等の凹版印刷、活版、フレキソ
等の凸版印刷、平版オフセット、ダイリソ等の平版印刷
や、シルクスクリー４印刷、静電印刷、インクジェット
等の無版印刷が適用される。
ア、グラビアオフセット等の凹版印刷、活版、フレキソ
等の凸版印刷、平版オフセット、ダイリソ等の平版印刷
や、シルクスクリー４印刷、静電印刷、インクジェット
等の無版印刷が適用される。
【００２５】電離放射線としては、可視光線、紫外線、
Ｘ線、電子線等の電磁波又は粒子線が用いられる。実用
上主に使用されるのは、紫外線又は電子線である。紫外
線源としては、高圧水銀燈、超高圧水銀燈、低圧水銀
燈、カーボンアーク、ブラックライト、メタルハライド
ランプ、などの光源が使用できる。
Ｘ線、電子線等の電磁波又は粒子線が用いられる。実用
上主に使用されるのは、紫外線又は電子線である。紫外
線源としては、高圧水銀燈、超高圧水銀燈、低圧水銀
燈、カーボンアーク、ブラックライト、メタルハライド
ランプ、などの光源が使用できる。
【００２５】電子線源としては、コックロフトワルトン
型、バンデグラフトがた、共振変圧器型、絶縁コア変圧
器型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型
などの各種電子線加速器を用い、１００〜１０００Ｋｅ
Ｖ、好ましくは、１００〜３０ＫｅＶのエネルギーをも
つ電子を照射するものを使用できる。通常照射線量は
０．５〜３０Ｍｒａｄ程度である。
型、バンデグラフトがた、共振変圧器型、絶縁コア変圧
器型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型
などの各種電子線加速器を用い、１００〜１０００Ｋｅ
Ｖ、好ましくは、１００〜３０ＫｅＶのエネルギーをも
つ電子を照射するものを使用できる。通常照射線量は
０．５〜３０Ｍｒａｄ程度である。
【００２６】尚電離放射線の照射方法として、まず紫外
線を照射して該電離放射線硬化型樹脂層を少なくとも表
面が指触乾燥する程度以上に硬化させ、而る後電子線で
完全に硬化させるようにしても良い。
線を照射して該電離放射線硬化型樹脂層を少なくとも表
面が指触乾燥する程度以上に硬化させ、而る後電子線で
完全に硬化させるようにしても良い。
【００２７】
【作用】上記のように構成された本発明の第１の発明の
化粧シートは、電離放射線硬化型樹脂中の電離放射線反
応型シリコーンの官能基が電離放射線照射によって、架
橋高分子中にシリコーン分子が取り込まれることによっ
て、電離放射線硬化型樹脂層の表面の密着性を上げ、経
時的に塗膜を保護する。
化粧シートは、電離放射線硬化型樹脂中の電離放射線反
応型シリコーンの官能基が電離放射線照射によって、架
橋高分子中にシリコーン分子が取り込まれることによっ
て、電離放射線硬化型樹脂層の表面の密着性を上げ、経
時的に塗膜を保護する。
【００２８】
【実施例】次に本発明における化粧シートの実施例につ
いて具体的に説明する。
いて具体的に説明する。
【００２９】（実施例１）ポリ塩化ビニルシート（可塑
剤２３ｐｈｒ、厚さ１６０μｍ）の表面に、下記組成物
をロールコーターにて厚み２０μｍとなり塗工した後
に、冷風ドライヤーにて一分間乾燥させた後、ＵＶラン
プ（高圧水銀灯）を１６０Ｗ、１５ｍ／ｍｉｎで３秒間
通過照射させて化粧シートを得た。
剤２３ｐｈｒ、厚さ１６０μｍ）の表面に、下記組成物
をロールコーターにて厚み２０μｍとなり塗工した後
に、冷風ドライヤーにて一分間乾燥させた後、ＵＶラン
プ（高圧水銀灯）を１６０Ｗ、１５ｍ／ｍｉｎで３秒間
通過照射させて化粧シートを得た。
【００３０】 電離放射線硬化型樹脂組成物（Ａ） 電離放射線硬化型樹脂 ３０重量部 ウレタンアクリレートプレポリマー ２０重量部 アクリレートモノマー 光重合開始剤 ２重量部 溶剤 ４８重量部 反応型シリコーン（信越化学工業製：分子量５０００、１分子当たりアクリ ロイル基を１０個有するシリコーン樹脂。） ０．５重量部
【００３１】（実施例２）実施例１の電離放射線硬化型
樹脂組成物（Ａ）の代わりに、下記の電離放射線硬化型
樹脂組成物（Ｃ）を使用し、その他の構成については実
施例１の対応する構成と同一である化粧シートを得た。
樹脂組成物（Ａ）の代わりに、下記の電離放射線硬化型
樹脂組成物（Ｃ）を使用し、その他の構成については実
施例１の対応する構成と同一である化粧シートを得た。
【００３２】 電離放射線硬化型樹脂組成物（Ｃ） 電離放射線硬化型樹脂 ３０重量部 ウレタンアクリレートプレポリマー ２０重量部 アクリレートモノマー 光重合開始剤 ２重量部 溶剤 ４４重量部 ポリカーボネート微粒子（平均重合度９０、アイゾット衝撃 ４重量部 値７０Ｋｇｃｍ／ｃｍ、のビスフ ェノール型ポリカーボネート樹脂 からなる粒径分布０．１〜５０μｍ の不定型微粒子） 反応型シリコーン（信越化学工業製：分子量５０００、１分子当たりアクリ ロイル基を１０個有するシリコーン樹脂。） ０．５重量部
【００３３】（実施例３）ハードコート化粧シートの化
粧基材シートとして、厚さ０．０８ｍ／ｍの着色塩化ビ
ニルシートに、グラビア輪転機で木目の印刷模様層を印
刷した後、透明塩化ビニルシート０．０８ｍ／ｍとダブ
リングしたシートを作成した。該シート表面に実施例１
の電離放射線硬化型樹脂組成物（Ａ）をロールコーター
にて厚み１２μｍとなるように塗工した後に、冷風ドラ
イヤーにて一分間乾燥させた後、ＵＶランプ（高圧水銀
灯）を１６０Ｗ、１５ｍ／ｍｉｎで３秒間通過照射させ
て化粧シートを得た。
粧基材シートとして、厚さ０．０８ｍ／ｍの着色塩化ビ
ニルシートに、グラビア輪転機で木目の印刷模様層を印
刷した後、透明塩化ビニルシート０．０８ｍ／ｍとダブ
リングしたシートを作成した。該シート表面に実施例１
の電離放射線硬化型樹脂組成物（Ａ）をロールコーター
にて厚み１２μｍとなるように塗工した後に、冷風ドラ
イヤーにて一分間乾燥させた後、ＵＶランプ（高圧水銀
灯）を１６０Ｗ、１５ｍ／ｍｉｎで３秒間通過照射させ
て化粧シートを得た。
【００３４】（実施例４）ハードコート化粧シートの化
粧基材シートとして、厚さ０．０８ｍ／ｍの着色塩化ビ
ニルシートに、グラビア輪転機で木目の印刷模様層を印
刷した後、透明塩化ビニルシート０．０８ｍ／ｍとダブ
リングしたシートを作成した。該シート表面に実施例２
の電離放射線硬化型樹脂組成物（Ｂ）をロールコーター
にて厚み１２μｍとなるように塗工した後に、冷風ドラ
イヤーにて一分間乾燥させた後、ＵＶランプ（高圧水銀
灯）を１６０Ｗ、１５ｍ／ｍｉｎで３秒間通過照射させ
て化粧シートを得た。 （比較例１）実施例１の電離放射線硬化型樹脂組成物
（Ａ）の代わりに、下記の電離放射線硬化型樹脂組成物
（Ｂ）を使用し、その他の構成については実施例１の対
応する構成と同一である化粧シートを得た。
粧基材シートとして、厚さ０．０８ｍ／ｍの着色塩化ビ
ニルシートに、グラビア輪転機で木目の印刷模様層を印
刷した後、透明塩化ビニルシート０．０８ｍ／ｍとダブ
リングしたシートを作成した。該シート表面に実施例２
の電離放射線硬化型樹脂組成物（Ｂ）をロールコーター
にて厚み１２μｍとなるように塗工した後に、冷風ドラ
イヤーにて一分間乾燥させた後、ＵＶランプ（高圧水銀
灯）を１６０Ｗ、１５ｍ／ｍｉｎで３秒間通過照射させ
て化粧シートを得た。 （比較例１）実施例１の電離放射線硬化型樹脂組成物
（Ａ）の代わりに、下記の電離放射線硬化型樹脂組成物
（Ｂ）を使用し、その他の構成については実施例１の対
応する構成と同一である化粧シートを得た。
【００３６】 電離放射線硬化型樹脂組成物（Ｂ） 電離放射線硬化型樹脂 ３０重量部 ウレタンアクリレートプレポリマー ２０重量部 アクリレートモノマー 光重合開始剤 ２重量部 溶剤（イソプロピルアルコール等） ４８重量部 シリコンオイル（信越化学工業製：分子量５０００のジメチルポリシロキサ ン） ０．５重量部
【００３７】（比較例２）実施例１の電離放射線硬化型
樹脂組成物（Ａ）の代わりに、下記の電離放射線硬化型
樹脂組成物（Ｄ）を使用し、その他の構成については実
施例１の対応する構成と同一である化粧シートを得た。
樹脂組成物（Ａ）の代わりに、下記の電離放射線硬化型
樹脂組成物（Ｄ）を使用し、その他の構成については実
施例１の対応する構成と同一である化粧シートを得た。
【００３８】 電離放射線硬化型樹脂組成物（Ｄ） 電離放射線硬化型樹脂 ３０重量部 ウレタンアクリレートプレポリマー ２０重量部 アクリレートモノマー 光重合開始剤 ２重量部 溶剤（イソプロピルアルコール等） ４４重量部 ポリカーボネート微粒子（平均重合度９０、アイゾット衝撃 ４重量部 値７０Ｋｇｃｍ／ｃｍ、のビスフ ェノール型ポリカーボネート樹脂 からなる粒径分布０．１〜５０μｍ の不定型微粒子） シリコンオイル（信越化学工業製：分子量５０００のジメチルポリオキシ サン） ０．５重量部
【００３９】（測定・評価方法）以下に測定・評価方法
を記載する。
を記載する。
【００４０】（１）密着試験 ２ｍｍ碁盤目セロテープ５回剥離試験。
【００４１】（２）密着試験─環境促進テスト 条件Ａ：温度４０℃、湿度９０％、５０時間 条件Ｂ：温度６０℃、湿度９０％、１００時間
【００４２】
【表１】
【００４１】
【発明の効果】本発明の化粧シートは上記のように構成
されているので、耐久性を要する建材用化粧シート等の
塗膜耐久性を向上させ、耐セロテープ剥離性に優れた化
粧シートを提供することができた。
されているので、耐久性を要する建材用化粧シート等の
塗膜耐久性を向上させ、耐セロテープ剥離性に優れた化
粧シートを提供することができた。
Claims (3)
- 【請求項１】 化粧シート基材上に電離放射線の照射に
より硬化された電離放射線硬化型樹脂を含有した樹脂層
を有する化粧シートに於いて、該電離放射線硬化型樹脂
層中に電離放射線反応型シリコーンを含有することを特
徴とする化粧シート。 - 【請求項２】 請求項１に記載の電離放射線反応型シリ
コーンが、一分子中にアクリロイル基またはメタクリロ
イル基の官能基数１〜２０個を有し、平均分子量１００
０〜３００００であることを特徴とする化粧シート。 - 【請求項３】 請求項１および２に記載の電離放射線硬
化型樹脂に、ウレタンアクリレートプレポリマーを含有
することを特徴とする化粧シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25756894A JP3841838B2 (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | 化粧シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25756894A JP3841838B2 (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | 化粧シート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0890729A true JPH0890729A (ja) | 1996-04-09 |
| JP3841838B2 JP3841838B2 (ja) | 2006-11-08 |
Family
ID=17308085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25756894A Expired - Fee Related JP3841838B2 (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | 化粧シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3841838B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001248096A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-09-14 | Ibiden Co Ltd | 化粧板 |
| WO2011073262A1 (en) * | 2009-12-16 | 2011-06-23 | Bostik Sa | Method of producing a self-adhesive surface on a wall or floor covering and a wall or floor covering |
| JP2012011677A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 熱転写フィルム及びこれを用いたハードコート体 |
| JP2014084684A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Toli Corp | 床材、及び床材の製造方法 |
-
1994
- 1994-09-27 JP JP25756894A patent/JP3841838B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001248096A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-09-14 | Ibiden Co Ltd | 化粧板 |
| WO2011073262A1 (en) * | 2009-12-16 | 2011-06-23 | Bostik Sa | Method of producing a self-adhesive surface on a wall or floor covering and a wall or floor covering |
| JP2012011677A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 熱転写フィルム及びこれを用いたハードコート体 |
| JP2014084684A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Toli Corp | 床材、及び床材の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3841838B2 (ja) | 2006-11-08 |
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|---|---|---|---|
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