JPS60111341A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳し
くは放射線硬化型樹脂を結合剤成分として含む表面平滑
性に優れた磁気記録媒体の製造方法に関する。

磁気記録媒体は、通常、常温で固体の高分子量の樹脂を
有機溶剤に熔解させ、これに磁性粉末およびその他の必
要成分を分散、熔解させた磁性塗料を基体上に塗布、乾
燥し、次いで鏡面化処理してつくられており、鏡面化処
理は複数のカレンダーロール間に磁性塗料を塗布、乾燥
した基体を挟接させることによって行われている。とこ
ろが、このカレンダーロール間に挟接させる方法では、
カレンダーロールによって基体が削れ、ドロップアウト
の原因になるなどの難点がある。

この発明者らは、かかる現状に鑑み種々検討を行った結
果、結合剤成分として放射線硬化型樹脂を使用し、この
放射線硬化型樹脂を含む磁性塗料を基体上に塗布、乾燥
した後、この塗膜を平滑なフィルムあるいは鏡面ドラム
に接触させて放射線を照射し、放射線硬化型樹脂を硬化
させると同時に鏡面化処理すると、カレンダーロール間
に挟接されることがないため、基体が削れることなく磁
性塗膜の鏡面化処理が良好に行え、磁性塗膜の表面平滑
性が良好でドロップアウト等のほとんどない磁気特性に
優れた磁気記録媒体が得られることを見いだし、この発
明をなすに至った。

以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。

第１図は、鏡面化処理を平滑なフィルムに接触させて行
う場合の、製造工程の概略を示したものであり、この図
に示すようにベースフィルム１は繰り出しロール２から
繰り出されて圧胴ロール３および版胴ロール４間を走行
する間に、容器５内の結合剤成分として放射線硬化型樹
脂を含む磁性塗料６が版胴ロール４を介して塗布され、
磁性塗膜７が形成される。次いで、ベースフィルム１上
に形成された磁性塗Ｉ！７は乾燥機８内に導入されて乾
燥され、磁性塗料調製時に使用した有機溶剤が蒸発され
て除去された後、乾燥機８がら導出されて、一対のロー
ル９および１０間で挟接される。この際、この一対のロ
ール９および１ｏ間には、他の繰り出しロール１１から
繰り出された平滑なフィルム１２が同時に挟接され、ベ
ースフィルム１上の磁性塗膜７−ヒにはり合わされる。

次いで、配向処理装置１３に導入されて磁性塗膜中の磁
性粉末の配向処理が行われ、その後、放射線照射処理装
置１４に導かれ、放射線加速装置１５により放射線が照
射されて磁性塗膜７中の放射線硬化型樹脂が硬化される
と同時に磁性塗膜７上にばり合わされた平滑なフィルム
１２によって磁性塗膜７の表面は鏡面化される。放射線
照射処理装置１４導出後は、磁性塗膜７上にはり合わさ
れた平滑なフィルム１２が剥離され、磁性塗膜７ををす
るベースフィルム１は案内ロール１６を介して巻き取り
ロール１７に巻き取られ、平滑なフィルム１２は案内ロ
ーへ弓８を介して巻き取りロー月利９に巻き取られる。

このように、この方法では乾燥機で有機溶剤を蒸発除去
させた後、ベースフィルム１上の磁性塗膜７上に平滑な
フィルム１２をはり合わせ、これを放射線照射処理装置
１４に導びいて放射線を照射し放射線硬化型樹脂を硬化
しているため、放射線硬化型樹脂が硬化される際、平滑
なフィルム１２により流動性を有する磁性塗膜の表面は
良好に鏡面化されて硬化され、表面平滑性に優れた磁性
塗膜が形成される。また、従来のカレンダーロールを用
いて鏡面化処理を行う場合のように磁性塗膜が形成され
たヘ−スフィルムを複数のカレンダーロールで挟接する
ことがないため、ベースフィルムが削れることもなく、
ドロップアウトが生しることもほとんどない。さらに、
磁性塗膜７上に平滑なフィルム１２をはり合わせ、磁性
塗膜７を平滑なフィルム１２で押しつけた状態で放射線
を照射して放射線硬化型樹脂を硬化させているため、配
向処理装置１３で磁性粉末を垂直方向に配向させた後、
磁性塗膜が表面平滑性を劣化させることなく硬化され、
表面平滑性が良好で垂直磁気記録に適した磁性塗膜が良
好に形成される。

第２図は、鏡面化処理を鏡面ドラムに接触させて行う場
合の製造工程の概略を示したものであり、ベースフィル
ム１を繰り出しロール２から繰り出し、圧胴ロール３お
よび版胴ロール４を用いて結合剤成分として放射線硬化
型樹脂を含む磁性塗料６をベースフィルム１上に塗布し
、乾燥Ｉａ８で乾燥して有機溶剤を除去するまでは第１
図と同様であるが、乾燥後は、鏡面ドラム２０を内装し
た放射線照射処理装置２１に導入し、案内ロール２２を
介して鏡面ドラム２０の周側面に沿って走行させ、放射
線加速装置１５で放射線を照射し放射線硬化型）Ｌ１脂
を硬化するとともに鏡面化処理が行われる。そして案内
ロール２３を介して放射線照射処理装置２Ｉ外に導出さ
れ、巻き取りロール１７に巻き取られる。この方法では
乾燥機で有機溶剤を蒸発除去させた後、ベースフィルム
１上の磁性塗膜７を鏡面ドラム２０に接触させながら放
射線を照射し放射線硬化型樹脂を硬化しているため、放
射線硬化型樹脂が硬化される際、鏡面ドラム２０により
流動性を有する磁性塗膜の表面は良好に鏡面化されて表
面平滑性に優れた磁性塗膜が形成される。また従来のカ
レンダーロールを用いて鏡面化処理を行う場合のように
磁性簡膜が形成されたベースフィルムを複数のカレンダ
ーロール間で挟接することがないため、ベースフィルム
が削れることもなく、ドロップアウトが生じることもほ
とんどない。さらに、磁性塗膜７を鏡面ドラム２０の周
側面に沿って接触させ、磁性塗膜７を鏡面ドラム２０に
押しつげた状態で放射線を照射して放射線硬化型樹脂を
硬化させているため、配向処理装置１３で磁性粉末を垂
直方向に配向させた後、磁性塗膜が表面平滑性を劣化さ
せることなく硬化され、表面平滑性が良好で垂直磁気記
録に適した磁性塗膜が良好に形成される。また磁場配向
時、加温することは、結合剤成分が軟化し、磁性粉末が
動きやすくなって高配向性が得られるので好適である。

ここで結合剤成分として使用される放射線硬化型樹脂は
、放射線重合性の二重結合を有する単量体ないしオリゴ
ヤ−で、これを含む磁性塗膜を基体上に塗布、乾燥した
後、平滑なフィルムあるいは鏡面ドラムに接触させて放
射線を照射すると、前記したように、磁性塗膜中の放射
線硬化型樹脂は流動性を有した状態で平清なフィルムあ
るいは鏡面ドラムに表面を密着して硬化されるため、硬
化と同時に鏡面化処理が行われ、表面平滑性に優れた磁
性塗膜が形成される。また、磁性塗膜を平滑なフィルム
あるいは鏡面ドラムに押しつげた状態で放射線を照射し
て放射線硬化型樹脂を硬化させることができるため、磁
性塗膜の表面平滑性を劣化させることなく磁性塗膜中の
磁性粉末を垂直方向に配向させることができ、表面平滑
性が良好で垂直磁気記録に適した磁性塗膜を良好に形成
することができる。このような放射線硬化型樹脂として
は、分子量が２００００未満で官能基数１〜２０のもの
が好適なものとして使用され、たとえば、メタクリル酸
メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸、メタクリル酸等のアクリル系モノマーあるいはこ
れらの混合物、スチレンと酢酸ビニルとアクリロニトリ
ルとの混合物、２−ヒドロキシエチルメタクリレートと
ジメチルアミノエチルメタクリレートとグリシジルメタ
クリレートとの混合物、ｌ・リメチロールプロパントリ
メククリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート ンタアクリレート、ウレタンアクリルオリゴマー、エポ
キシアクリルオリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴ
マー、ポリブタジェンアクリルオリゴマー、ポリアミド
アクリルオリゴマー、ポリエーテルアクリルオリゴマー
、オリゴエステルアクリルオリゴマー、スピロアセクー
ルアクリルオリゴマーなどが好ましく使用される。市販
品の具体例としては、例えば、新中村化学工業社ＩＪＴ
ＭＰ′ｒ、日本化薬社製ＤＰＨＡ，ＤＰＰＡ、東亜合成
社製Ｍ−６２５０、Ｍ−７１００、Ｍ−８１３０、ｌ’
ｌ−１１００、Ｍ−１２００、チオコール社製Ｕ−７８
２、Ｕ−７８３、Ｕ−７８８、Ｕ−８９３、昭和高分子
社ＮＳＰ４０１０、Ｕ−３０００、Ｅ−、４０００、セ
ラニーズ社製３２００、３５００、３６００、３７００
、三洋化成社盟ＵＶＵ−５１２等が挙げられる。

このような放射線硬化型樹脂は単独であるいは二種以上
混合したものを結合剤樹脂として使用し、放射線の照射
によって硬化させてもよいが、一般に結合剤樹脂として
使用される熱可塑性樹脂等と併用してもよく、併用され
る熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共
重合体、ポリヒニルブチラール樹脂、繊維素系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、イソシアネート化合物等の従来一般
に使用されるものがいずれも好適なものとして併用され
る。このように熱可塑性樹脂等と併用する場合の配合割
合は重量比（放射線硬化型樹脂対熱可塑性樹脂）で２対
８〜８対２の範囲内となるようにするのが好ましく、放
射線硬化型樹脂が少なずぎると所期の効果が得られず、
多ずぎると磁性粉末の分散性を充分に良好にできない。

放射線硬化型樹脂を重合硬化させるに際して使用される
放射線は、電子線などのβ線、および紫外線、Ｘ線など
のγ線などがいずれも好適に使用され、紫外線を使用す
るときは照射による効果をより効率的にするため、増感
剤が同時に使用される。このような放射線の照射は加速
電圧１５０〜７５０ＫＶの放射線を用い、吸収線量が３
〜１５Ｍ　ｒａｄとなるように照射するのが好ましく、
吸収線量が少なずぎると放射線硬化型樹脂の架橋結合が
不充分となって良好な磁気記録媒体がｉＭられない。

鏡面化処理に使用する平滑なフィルム１２としては、表
面粗度が波高値０．１μ以下の平滑性に優れたものが好
ましく使用され、ポリエステル、ホリプロピレン等のプ
ラスチックフィルムおよび金属製フィルム等が好適に使
用される。また、鏡面１′ラム２０は表面粗度が０．１
ｓ　（波高値０．１ｕ）以下の鏡面化された表面を有す
る金属製ドラムが好ましく使用される。

また、乾燥機８での乾燥は、磁性塗料調製時に使用した
有機溶剤を良好に蒸発して除去することができるように
８０〜１２０°Ｃの温度で乾燥させるのが好ましく、さ
らにベースフィルム１上に磁性塗膜７および平滑なフィ
ルム１２を順次に積層して放射線照射処理装置内で放射
線を照射する際、あるいはベースフィルム１上に磁性塗
膜７を形成し鏡面ドラム２００周側面に沿って走行させ
ながら放射線照射処理装置内で放射線を照射する際、ヘ
ースフイルム１に負荷される張力は、鏡面化処理が良好
に行え、かつ配向処理装置で磁性塗膜中の磁性粉末を垂
直方向に配向した後、磁性塗膜の表面平滑性を劣化させ
ずに硬化できるように、０．５〜２０　Ｋｇ／　ｍ　ｒ
ｉの範囲内で負荷させるのが好ましい。

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例Ｉ Ｃｏ含有１−Ｆｅ２．０３粉末　８００重量部（粒径０
．４μ、軸比−） ＵＶＵ−５１２（三洋化成工業　１００〃社製、ウレタ
ンアクリレ−１・） ＴＭＰＴ　（新中村化学工業社製、１００〃トリメチロ
ールプロパントリ メタクリレート） シクロへキサノン　５００〃 トルエン　５００〃 これらの組成物からなる磁性塗料を、第１図に示す製造
装置を用い、圧胴ロールエおよび版胴ロール４を介して
厚さ１５μのポリエステルベースフィルム１上に塗布し
、乾燥機８で１００℃の温度で１５秒間乾燥して有機溶
剤を磁性塗膜から蒸発させた。次いで、一対のロール９
および１０間で別の繰り出しロール１１から繰り出され
た表面粗度が０．０５μのポリエステルフィルム１２を
磁性塗膜７上にはり合わせ、配向処理装置１３に導入し
てＮ−８対向磁石を用い、温度７５℃で１０００ガウス
の配向磁場を印加し、磁性塗膜中の磁性粉末を垂直方向
に配向させた。その後、放射線照射処理装置１４に導入
し、放射線照射後Ｗ１５がら、加速電圧１６５ＫＶ、全
照射線量１０Ｍｒａｄで酸素濃度４．００ｐｐｍの雰囲
気下にて放射線を照射した。次いでポリエステルフィル
ム１２を磁性塗膜７から剥離し、ロール１６および１８
を介して磁性塗膜７を有するポリエステルベースフィル
ム１は巻き取りロール１７に巻き取り、ポリエステルフ
ィルム１２は巻き取りロール１９に巻き取った。しかる
後、巻き取りロール１７に巻き取ったポリエステルベー
スフィルム１を所定の巾に裁断して磁気テープをつくっ
た。

実施例２ α−Ｆｅ磁性粉末　８００重量部 （粒径０．３μ、軸比８） エスレソクＡ（漬水化学工業社　１００〃製、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル 一ビニルアルコール共重合体） ＤＰＨＡ（日本化薬社製、ジペ　１００〃ンタエリスリ
トールヘキザア クリレートとジペンタエリス リトールペンタアクリレ−Ｉ・ の１対１の混合物） シクロへキサノン　５２５〃 トルエン　５２５〃 これらの組成物からなる磁性塗料を、第２図に示す製造
装置を用い、圧胴ロール３および版胴ロール４を介して
厚さ１５μのポリエステルベースフィルム１上に塗布し
、乾燥ｔａ８で１００℃の温度で１５秒間乾燥して有機
溶剤を磁性塗膜から蒸発させた。次いで、実施例１と同
様にして磁性塗膜中の磁性粉末を磁性塗膜に対して垂直
方向に配向させた後放射線照射処理装置２１に導入し、
案内ロール２２を介して表面粗度が０．０５μの表面ク
ロムメッキ鏡面ロール２０の周側面に沿って走行させる
と同時に、放射線照Ｕ＝Ｊ処理装置２１で放射線加速装
置１５から、加速電圧１６５ＫＶ、全照射線量１０Ｍｒ
ａｄで酸素濃度４．ＯＯｒｌｌ）ｍの雰囲気下にて放射
線を照射し、放射線照射後、案内ロール２３を介して巻
き取りロール１７に巻き取った。しかる後、巻き取りロ
ール１７に巻き取ったポリエステルベースフィルム１を
所定の巾に裁断して磁気テープをつくった。

実施例３ 実施例１における配向処理装置での配向処理において、
Ｎ−３対向磁石に代えてＮ−Ｎ対向磁石を用い、温度７
５℃で２０００ガウスの配向磁場を印加して、磁性塗膜
中の磁性粉末を磁性系１漠の長手方向に配向させた以外
は、実施例１と同様にして磁気テープをつくった。

実施例４ 実施例２における配向処理装置での配向処理において、
Ｎ−３対向磁石に代えてＮ−Ｎ対向磁石を用い、温度７
５°Ｃで３５００ガウスの配向磁場を印加して、磁性塗
膜中の磁性粉末を磁性塗膜の長手方向に配向させた以外
は、実施例２と同様にして磁気テープをつくった。

比較例１ 実施例１において、製造装置からロール１０、繰す出し
ロール１１、ポリエステルフィルム１２、案内ロール１
８および巻き取りロール１９を取り除き、磁場配向後に
、一対のカレンダーロールを配置し、磁性塗膜７を形成
したポリエステルヘースフイルＪＡｌをこの一対のカレ
ンダーロール間に挾接させて鏡面化処理を行った以外は
、実施例１と同様にして磁気テープをつくった。

比較例２ 実施例２において、製造装置から鏡面ロール２０、案内
ロール２２および２３を取り除き、磁場配向後に、一対
のカレンダーロールを配置し、磁性塗膜７を形成したポ
リエステルベースフィルム１をこの一対のカレンダーロ
ール間に挾接すせて鏡面化処理を行った以外は、実施例
２と同様にして磁気テープをつくった。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
磁性塗膜の表面粗度およびドロップアウトを測定した。

磁性塗膜の表面粗度は、東京精密社製触４式表面粗度計
を用い、カットオフ０　、０８ｍｍで中心線平均粗度を
測定した。またドロソプアウ１〜し才、ビデオデツキを
用いて４．Ｍｔｌｚの信号を記録再生し、出力が１／１
０以下で長さ５μｓ以」二の信号落ちの１分間あたりの
数を測定した。

下表はその結果である。

表 上表から明らかなように、この発明の製造方法で得られ
た磁気テープ（比較例１ないし４）は従来の製造方法で
得られた磁気テープ（比較例１および２）に比し、いず
れもドロップアウトが極めて少なく、また表面粗度ば同
等で、このことからこの発明の製造方法によれば基体が
削れることなく磁性塗膜の表面平滑性に優れた磁気記録
媒体が１６られるのがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の磁気テープを製造するのに使用する
製造装置の１例を示す概略断面説明図、第２図は同地の
例を示す概略断面説明図である。 １・・・基体、３・・・圧胴ロール、４・・・版胴ロー
ル、６・・・磁性塗料、７・・・磁性塗膜、８・・・乾
燥機、９゜１０・・・ロール、】２・・・平滑なフィル
ム、１４．２１・・・放射線照射処理装置、１５・・・
放射線加速装置、２０・・・鏡面ドラム

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ■、結合剤成分として放射線硬化型樹脂を含む磁性塗料
   を基体上に塗布し、乾燥した後、この塗膜を平滑なフィ
   ルムあるいは鏡面ドラムに接触させて放射線を照射し、
   放射線硬化型樹脂を硬化させると同時に鏡面化処理する
   ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法