JPS61175928A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はビデオテープ、オーディオテープ、コンピュー
ターテープ等の磁気記録媒体に関するものである。

〔従来技術〕

現在一般に広く用いられている磁気記録媒体の製造方法
は非磁性支持体上に磁性塗液を塗布乾燥したのち、鏡面
仕上けの金属ロールと弾性ロールから成るカレンダーに
よって該塗布層を平滑化ししかるのち加熱などの手段に
より結合剤を架橋する方法である。しかしこの製造方法
は、塗布、乾燥工程とは別に平滑化二種が必要でろシ、
このため製造コストの高い方法でめった。また近年磁気
記録媒体の高度な電磁変換特性と走行耐久性を要求され
ているが、従来の製造方法ではこれらの要求を満たすこ
とができなかった。

上記の欠点を防止するだめのひとつの提案として、ポリ
インシアネート化合物等の熱硬化系に代えて放射線重合
性化合物をバインダーとして用い放射線照射により硬化
することが特開昭５６−２５２３１号、同５６−１２２
８０２号、同５６−１２４１１９号等に開示されている
が率に放射線重合性化合物をバインダーに用いても上記
の問題点を解決するには至らなかったものでるる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

塗布層の表面平滑性を向上させる技術としてＳｙｍｐｏ
ｓｉｕｍ　　ｏｎ　　Ｍａｇｎｅｔｉｃ　　Ｍｅｄｉａ
　　Ｍａｎｕ−ｆａｃｔｕｒｉｎｇ　　Ｍｅｔｈｏｄｓ
（１９８３年５月Ｈｏｎｏｌｕｌｕ）でＴｒａｎＳｆ８
ｒ　　Ｃｏａｔｉｎｇノ提案がＤｒ、　Ｎａｄｌｏによ
って為された（ＰＡＰＥＲＮＯＢ−４）が、ここで開示
された技術では、強磁性微粉末濃度（いわゆるピグメン
トとビヒクル比）を高くすることが出来ず、磁気記録媒
体の製造方法には使用できぬものであった。即ち、Ｄｒ
、　Ｎａｂｌｏの方法では充分な電磁変換特性を確保す
ることができないものでめシ、磁気記録媒体の製造方法
として採用できないものであった。

本発明の目的は、第１に、高度な電磁変換特性を有する
磁気記録媒体を製造する方法、第２は耐久性の良好な磁
気記録媒体を製造する方法、第３は製造コストの低い磁
気記録媒体を製造する方法、第４に、平滑性の良好な磁
性面を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供するこ
とにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の問題点を解決するため本発明者らは、鋭意研究の
結果、上記目的は、強磁性微粉末と結合剤及び有機浴剤
とから成る磁性塗液を非磁性支持体上に塗布して磁性層
を設けたのち、乾燥により該磁性層の溶剤含量が０．０
５〜１Ｑｗｔ％にあるときに該磁性層表面を鏡面仕上げ
のロール若しくは帯状物に接触させたのち該ロール若し
くは帯状物と磁性層とを剥離することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法によって達成されることを見出した
。

本発明の他の態様に於ては、上記方法に於て、結合剤が
放射線重合性化合物であり、かつ該磁性層を剥離したの
ち放射線照射することができ、また更に他の態様におり
ては、該結合剤が放射線重合性化合物であり、かつ該磁
性層表面を鏡面仕上げのロールもしくは帯状物に接触さ
せてから瞑ロールもしくは帯状物と磁性層とを剥離する
までの過程で放射線照射することができる。

本発明に用いられる強磁性粉末としては、強磁性酸化鉄
微粉末、ＣＯドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二酸
化クロム微粉末、強磁性合金粉末、・９リウムフエライ
トなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針
状比は、２／１〜２０／１程度、好ましくは５７１以上
平均長は０．２〜２．０Ｐ程度の範囲が有効でろる。強
磁性合金粉末は金属分が７５ｗｔ％以上であり、金属分
の８０ｗｔ％以上が強磁性金属（即ち、Ｆｅ　、　Ｇｏ
　、　Ｎｉ　、　Ｆｅ−Ｃｏ　、　Ｆｅ−Ｎｉ　。

Ｇｏ　−Ｎｉ　、　Ｆｅ−Ｇｏ−Ｎｉ　）で長径が約Ｌ
Ｏｐｍ以下の粒子である。

本発明に用いられる結合剤としては熱可塑性樹脂である
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸共重合体、塩化ビニル−フロピオン酸ビニル−
マレインＶ共Ｘ合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル
−ブテン酸共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マ
レイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体などの塩ビ酢ビ系共重合体、
セルロースナイトレート、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースジアセテ−・ト、セルロースプロピオ
ネートなどの繊維素系樹脂、ポリビニルフォルマール、
ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のアセ
タール系樹脂、フェノキシ樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロ
ニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニト
リル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重
合体、ブタジェンアクリロニトリル共重合体、ポリエス
テル樹脂、ポリイソシアネート化合物、あるいは放射線
重合性化合物であるポリエステル型ウレタンアクリレー
ト、ポリエーテル屋ウレタンアクリレート、ポリエステ
ルエーテル屋ウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリ
レートなどのアクリレートオリゴマー及びメタクリレー
トオリゴマーであり、これらの具体例は、Ａ、　Ｖｒａ
ｎｃｋｅｎ　”Ｆａｆｉｐｅｃ　Ｃｏｎｇｒｅｓｓ”　
１１　１９（１９７２）に引用されている。例えば、で
ある。また他の放射線重合性化合物は、エチレングリコ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールへキ
サアクリレート、ジペンタエリスリトールへブタアクリ
レート、ビス−２−アクリロイロキシエテル−ヒドロキ
シエチルイソシアヌレート、トリス（β−アクリロイロ
キシエチル）インシアヌレートその他の多官能アクリレ
ート化合物、及びこれらの多官能メタクリレート化合物
でメジ、更にアクリル酸、アクリル酸メチル及びこれら
の同族体のアクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸
アルキルエステル、スチレン、α−メチルスチレン、ア
クリロニトリル、アクリルアミド、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニルなどの炭素炭素不飽和結合を分子中に１個
以上有する化合物でおる。

上記結合剤は、２株以上混合して用いることができる。

放射線重合性化合物に熱可盟性樹脂を加えることも可能
である。

以上の中で特に好ましい結合剤は、繊維素系樹脂もしく
は塩ビ昨ピ系共重合体とウレタン樹脂及びポリインシア
ネートの６成分及び繊維素系もしくは、塩ピ酢ピ系共１
合体とウレタンアクリレートと多官能アクリレート化合
物の６成分系である。

史に好ましくは、繊維素系樹脂もしくは塩ビ酢ビ系共重
合体とウレタンアクリレートと多官能アクリレート化合
物の３成分系である。この場合好ましい比率は繊維素樹
脂もしくは塩ビ酢ビ系共重合体とウレタンアクリレート
の比は４／１〜１／２であり、これらの総和と多官能ア
クリレートの比は８／２〜１／１である。

結合剤として繊維素系もしくは塩ビ酢ビ系共重合体とウ
レタン樹脂とポリイソシアネートの６成分系即ち放射線
重合性化合物を含まない結合剤を用いるときは、該ロー
ルもしくは帯状物から剥離したのち、４０〜１００℃で
熱硬化を施すことが好ましい、、また放射Ｉ！重合性化
合物を含む系を選んだ場合は、鏡面仕上げのロールもし
くは帯状物と磁性層と非磁性支持体とがサン１インチ構
造になっている状態（過程）であるいは該ロールもしく
Ｆｉ帯状物から剥離後に放射線照射する。％に好ましく
は、上記サンドイッチ構造になっている状態で照射する
ことでおり鏡面仕上げのロールもしくは帯状物から磁性
層を剥離することが最も容易である。サンドインチ構造
で照射するときは非磁性支持体の側から照射するが、該
ロールもしくは帯状物から剥離後に照射する場合は磁性
ＩｔＩｉ側から照射してもよい。

用いる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルインブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル
、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル系；
エーテル、クリコールジメチルエーテル、クリコール七
ノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル
系；ベンゼン、トルエン、キ７し／等の芳香族炭化水素
噌メチレンクロライＰ１エチレンクロライド、四塩化炭
１クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベ
ンゼン等の塩素化炭化水素テトラヒドロフラン等のもの
が選択して使用できる。磁性塗液の強磁性支持体と結合
剤と溶剤の比率は重量で２／１／６〜６／１／１５の範
囲で任意に調整できる。

本発明に於て非磁性支持体への塗布方法としては、エア
ードクターコート、ブレードコート、エアナイフコート
、スクイズコート、含浸コート、リノ々−スロールコー
ト、トランスファーロールコート、グラビアコート、キ
スコート、キャストコート、スプレィコート、スピンコ
ード等が利用でき、その他の方法も可能でメジ、これら
の具体的説明は「コーティング工学」２５３頁〜２７７
頁（昭和４６年６月２０日朝倉嘗店発行）に詳細に記載
されている。

磁性層の厚みは、乾燥厚みで１〜１０μｍの範囲となる
ように塗布する。

非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−２，６−す７タレート等のポリエステル
類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類；セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートフチレート、セルロースア
セテートプロピオネート等のセルロース誘導体；ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂；ポリ
カーダネート、ポリイミド、ポリアミｔイミド等プラス
チックの他に用途に応じてアルミニウム、銅、スズ、亜
鉛またはこれらを含む非磁性合金などの非磁性金属類；
あるいはこれらの非磁性金属を真空蒸着などの方法によ
りプラスチック支持体上に薄層で設けた支持体などが使
用できる。これらの支持体は磁性層を塗布する前に下層
層塗布あるいはコロナ処理等の物理的処理をされている
ことが好ましい。またこれらの支持体は用いる前に、パ
ンクコート層を設けてあってもよい。また磁性層を塗設
後磁性層と反対側にバックコート層を設けてもよい。

本発明でいう放射線照射とは、紫外線、電子線、γ−線
、β−線、Ｘ−線などであるが、より好ましくは電子線
である。電子線照射装置としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式ブロ
ードビームカーテン方式などが採用できる。

電子線特性としては、加速電圧が１００〜１０００ｋＶ
、好ましくは１５０〜３００ｋＶでるり、吸収線値とし
て１．０〜２０メガ２ツド、好ましくは２〜１０メガラ
ツドである。加速電圧が１００ｋＶ以下の場合は、エネ
ルギーの透過量が不足し１０００ｋｖを超えると重合に
使われるエネルギー効率が低下し経済的でない。吸収線
量として、１．０メガラツド以下では硬化反応が不充分
で磁性層強度が得られず、２０メガラッド以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したシ、被照
射体が発熱し、特に非磁性支持体が変形するので好まし
くない。

磁性層塗布後の乾燥は、熱風により残留溶剤量が磁性層
の０，０５〜１Ｑｗｔ％になったときに、好ましくは０
．５〜８ｗｔ％麩に好ましくは１．５〜Ｓｗｔ％になっ
たときに鏡面仕上げのロールもしくは帯状物と接触する
。この時の接触圧力は１〜５０ｈ／ａＩｔ好１しくは５
〜６０Ｋｆ／浦である。接触後０．１〜５秒程度で磁性
層を該支持体に剥離する。必要によっては、鏡面ロール
もしくは帯状物を４０℃〜１００℃程度に加熱してもよ
い、放射線照射を用いるときは、接触後未だ剥離しない
間に照射すると剥離が容易であり、磁性層の平滑性を保
持することができる。該ロールもしくは帯状物から剥離
後にも一度乾燥ゾーンを設けることも可能である。また
乾燥後、必要によシ熱硬化もしくは放射線照射を施して
もよい。

また必要に応じて容易に塗布後磁場配向を施すこともで
きる。この場合、ソレノイド、電磁石、永久磁石を用い
ることができる。

また、本発明の磁性塗液には、潤滑性、研摩剤、分散剤
、帯電防止剤、防錆剤などの添加剤を加えてもよい。特
に潤滑剤は、飽和及び不飽和の高級　　　　　゛脂肪酸
、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコール
、シリコーンオイル、鉱油、食物油、７ラン系化合物な
どがアリ、これら＃ｉ血布液調製時に添加してもよく、
また該ロールもしくは帯状物から剥離後に有機溶剤に溶
解しであるいはそのまま磁性層表面に塗布あるいは、噴
霧してもよい。

以下に本発明を実施例および比較例により更に具体的に
説明する。以下の実施例および比較例において「部」は
すべて「重量部」を示す。

〔実施例〕

実施例１，２、比較例１，２ ｖ′／チア　　　　　　　　　　　　　　　４部ステア
リン酸　　　　　　　　　　　　４部ブチルステアレー
ト　　　　　　　　　４部カーＩンブラック　　　　　
　　　　　１０部メチルエチルケトン／トルエン＝５１
５　　８００部上記成分をゼールミルで５０時間混練し
て得られた塗料を、添付図に示されるように、１０μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルム１上に塗布液２
の厚みが２０μｍとなるように塗布した。

ＣＯ磁石で磁場配向したのち、第１乾燥部５で１００℃
で乾燥し鏡面ロール７にニップしくニップ圧２０ｈ／ｃ
ｍ）１１子線を照射した。電子線は加速電圧１６５ｋＶ
で１ＱＱ　Ｍｒａｄ照射した。しかるのち剥離し第２乾
燥を行った。ニップ部６での残留溶剤量はロールとクエ
ゾのスピードをコントロールし第１表のように得られた
。

第１表 実施例６ 実施例１に於て電子線照射を添付図の照射部９で行わず
に剥離直後に同一条件の電子線照射を尖施した。サンプ
ルＡ５とする。

比較例６ 実施例１の磁性塗液２を１０μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム１に塗布し、次いでＣＯ磁石で磁場配
向し、１００℃で乾燥したのち６０℃のカレンダーロー
ルで平滑化処理したのち電子線照射した。照射条件は１
６５ｋＶの加速電圧で１０Ｍｒａｄであった。尚カレン
ダーロールで平滑化処理するときの残留溶剤量は０　、
１　ｗｔ％以下であった。

サンプルＡ６とする。

上記残留溶剤量は全てガスクロマトゲ２７で測定し磁性
層に対する重量２で求めた。

以上のサンプルについて剥離後の様子を目視で観察し、
良好なものは以下の実験を行った。

磁性層の表面粗さ二東京精密製表面粗さ計で磁性層表面
を測定し、ＪＩＳ−ＢＯ６０１の５項で定義される中心
線平均あらさで示す（カットオフは０．２５ａｌｌ　）
。

ビデオＳ／Ｎ：松下電器（株）製ＮＶ８２００ビデオテ
ープレコーダーを使用し５０％セットアツプの灰色信号
管録画しシバツクｉ　９２５０　Ｗ　Ｓ／Ｎメーターで
ノイズを測定した。ビテオＳ／ＮはサンプルＩＣ１〜乙
の試料について、サンプルＡ１をＯｄＢとしたときのそ
れぞれの相対比較値で示した。

スチル耐久時間：　ＶＨＳビデオテープレコーダー（松
下寛器産業株式会社製、ＮＶ８２００型）を用いてビデ
オテープ（各サンプル）に一定のビデオ信号を記録し、
再生した静止画像が鮮明さを失なうまでの時間を示す。

以下の評価結果を第２表に示す。

第２表 実施例１　良好　　ｏ、ｏｏｓ　　　±０　　　　６０
以上〃　２　良好　　０．００８　　　−０．５　　　
６０以上比較例６　良好　　０．１２２　　−１０．５
　　　１以下実施例５　良好　　０．００６　　−０．
１　　　６０以上比較例６　　−　　０．０２２　　　
−３．０　　６０以下比較例のサンプルＡ４は磁性層の
一部が帯状物からうまく剥離せず艮好な磁気テープが得
られなかった。

〔発明の効果〕

第２表をみれば本発明がいかに磁性層の表面が平滑で電
磁特性良好でしかも耐久性が良好がかわかる。

【図面の簡単な説明】

添付図は、本発明の詳細な説明図の側面図である。 １・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム、２・・
・塗布液、６・・・塗布部、４・・・磁性層、５・・・
第１乾燥部、６・・・ニップ部、７・・・鏡面仕上けの
ロール、８・・・放射線照射装置、９・・・照射部、１
０・・・剥離部、１１・・・第２乾保部 手続補正書 昭和６０年７２月　７７日 １、事件の表示 昭和６０年特許願第　０１６４５０　　号３、補正をす
る者 事件との関係゛特許出願人 名称　（５２０）富士写真フィルム株式会社霞が関ビル
内郵便局　私書箱第４９号 ６、補正により増加する発明の数　０ ７、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ８、補正の内容 （１）　　明細書筒２頁１４行目の「二種」を「工程」
と補正する。 （２）同書筒２頁１６行目の「記録媒体の」を「記録媒
体に」と補正する。 （３）　　同書第３頁１１行目のｒ　Ｄｒ、Ｎａｄｌｏ
　Ｊをｒ　Ｄｒ。 ＮａｂｌｏＪと補正する。 （４）同書第６頁１２行目のｒ　ＰＡＰＥＲＮＯＢ−４
ＪをｒＰＡＰＥＲ階Ｂ−４」と補正する。 （５１Ｍ書第６頁５〜６行目の「セルロースアセテート
ゾチレート」を「セルロースアセテートプロ♂オネート
」と補正する。 （３）　　同書第７頁３行目の［１１１９Ｊを「１１１
９」と補正する。 （７）同書第１０頁２０行目の「スピンコード」を削除
する。 （８）同書第１２頁１行目の「下層層」を「下塗層」と
補正する。 （９）同書第１４頁下から５行目の「ニトロセルロール
」ヲ「ニトロセルロース」ト補正スル。 αＱ　同書筒１５頁１７行目のｒ　１００Ｍｒａｄ　Ｊ
を［１０Ｍｒａｄ　Ｊと補正する。 Ｉ　同書第１８頁第２表を下記の如く補正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）強磁性微粉末と結合剤及び有機溶剤とから成る磁性
   塗液を非磁性支持体上に塗布して磁性層を設けたのち、
   乾燥により該磁性層の溶剤含量が０．０５〜１０ｗｔ％
   にあるときに該磁性層表面を鏡面仕上げのロール若しく
   は帯状物に接触させたのち該ロール若しくは帯状物と磁
   性層とを剥離することを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。 ２）結合剤が放射線重合性化合物であり、かつ該磁性層
   を剥離したのち放射線照射することを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。 ３）結合剤が放射線重合性化合物であり１かつ該磁性層
   表面を鏡面仕上げのロールもしくは帯状物に接触させて
   から該ロールもしくは帯状物と磁性層とを剥離するまで
   の過程で放射線照射することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。