JPS6022416B2 - 磁気ディスク記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気ディスク記録媒体の製造方法

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JPS6022416B2
JPS6022416B2 JP14475179A JP14475179A JPS6022416B2 JP S6022416 B2 JPS6022416 B2 JP S6022416B2 JP 14475179 A JP14475179 A JP 14475179A JP 14475179 A JP14475179 A JP 14475179A JP S6022416 B2 JPS6022416 B2 JP S6022416B2
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JP
Japan
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magnetic
magnetic field
boiling point
paint
substrate
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JP14475179A
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巳代三 前田
祥二 石田
健一 伊藤
清也 小川
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体の製造方法に係り、とくに1山m
以下の磁性層を有する磁気記録媒体を製造する場合に適
用して好適な磁気記録媒体の製造方法に係る。
近年、磁気的記憶装置、すなわち磁気ディスク装置や磁
気テープ装置に対してその記憶容量を高めることが強く
要望されている。
記憶容量を高めるためには、磁気記録媒体の単位面積当
りの情報記録密度を高めることが必要であるし、ことは
言うまでもない。
また、記録密度を高めるには、磁気ヘッドから発生する
書込み磁束を微小な面積に集中しなければならず、磁気
ヘッドが小型化され、発生磁束量も減少する。
すると、このような減ぜられた微小量の磁束で磁化の方
向を反転することができる磁気記録層の体積も減ぜられ
、従って磁気記録層の厚みを減少させなければ完全な磁
化反転を生じさせることができない。このような理由で
、上記要望に応ずるためには磁気記録層をlrmとする
ことが必要となってきている。
ところが、再生出力を増大させるため磁気記録媒体の角
形比(Br/Bs)を向上させる方法として、従釆より
磁性塗料を非磁性基体上に塗布する際、非磁性基体表面
面に印加するようにしたものが知られている。
このようにすれば、磁性塗料中に分散されている針状の
磁性粒子の磁化容易軸方向がほぼ一方向に揃えられ、上
記角形比が高められる。また、角形比を一層高くするた
め上記非磁性基体表面に磁界の強度を大にする場合には
、非磁性基体表面に垂直な磁界を上記水平磁界と交互に
印加することにより、磁性粒子の凝集を防止し、塗膜欠
陥が少なくかつ高い角形比の記録媒体が得られることも
知られている(たとえば公開特許公報 昭54−990
5,昭54一11704)。ところが、膜厚が1山m以
下の磁性塗膜を上記従来の塗布方法を適用してみると、
膜厚が1ムmより厚い磁性塗膜に適用した場合に比較し
て特性すなわち角形比があまり改善されないことが判明
した。そこで、この原因をつきとめてみると、膜厚がl
Am以下の磁性塗料の量(体積)に比較して表面積が大
であるために、磁性塗料中の溶剤(シンナー)の蒸発に
よる単位時間当りの減少率が大となり、充分な磁性粒子
の配向が行われないうちに塗膜の粘性が増大することに
起因するものであることが判明した。
すなわち、従来の磁性塗料の溶剤は低沸点有機溶剤が王
であり、蒸発速度が過大だったのである。本発明は酸厚
がlAm以下の塗膜生成に適した溶剤を使用する磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的としており「
この目的は本発明においては磁性粒子を含有する磁性塗
料を非磁性基体上に塗布する際、該非磁性基体表面に平
行な磁界と磁界とを塗膜に印加する磁気記録媒体の製造
方法において、沸点が160〜23000である高沸点
有機溶剤を15〜3の重量%含み残部が沸点160℃未
満の低沸点有機溶剤からなる溶剤を使用し、上記磁性塗
料中の磁性粒子および樹脂からなる固形分の濃度を10
〜25重量%としたことを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法によって達成されるが、以下その実施例を図面に
従って詳細に説明する。
本発明において使用することができる高沸点溶剤は次表
に示すものが代表的なものであるが、これに限定されな
い。
第1表 上記高沸点溶剤を全溶剤量に対し15%以上添加すると
、角形比が0.85以上の実用に通した磁性塗膜を形成
することができる。
一方、高沸点溶剤の添加が全溶剤量の30%を越えると
、磁性塗腰の特性の増加は殆んどなく、乾燥が遅くなる
だけである。よって、高沸点溶剤の添加量は全溶剤量に
対し15〜3の重量%とする。また、膜厚がlAm以下
の平滑な磁性塗料膜を形成するには、磁性塗料中の固形
成分、すなわち磁性粒子および樹脂の構成比を10〜2
5重量%とする必要がある。
第1図はこの構成比(NV:NonVolatiliV
)に対する形成可能な膜厚を示す線図で示すものである
。塗布条件としては、半径178肋の円形基体を用い、
高沸点溶剤の全溶剤量に対する添加量を3の重量%とし
、円形基体の回転速度を30仇pm,50びpm,80
仇pmと夫々変化させるようにした。また膜厚は円形基
体の中心から100凧の箇所でのものを測定した。線A
は回転速度30仇pmに対応し、線Bは回転速度50仇
pmに対応し、線Cは回転速度80仇pmに対応してい
る。尚、磁界の印加も行っているが詳しくは後述する。
図において、回転速度が30仇pm以下の領域すなわち
線Aより上方の領域では、円形基体の内周外周の膜厚の
差が大きく、外周部に塗料が停溜するので、実用するこ
とができない。
また、回転速度が80仇pm以上の領域、すなわちCよ
り下方の領域では、塗膜上に渦状の綿が生じ、これも実
用には不適当である。また、磁性粒子および樹脂の濃度
(NV)が10%より少ない場合には磁性塗料中の磁性
粒子の分散が一様とならない。これらのことから磁性粒
子の濃度を10〜25重量%とすることにより膜厚が1
〃m以下の磁性塗膜を形成することができる。
次に磁性塗料の塗布時における磁界の印加について説明
する。
第2図は磁気ディスク用記録媒体の製造の一工程である
磁性塗料塗布工程において用いられる配向。
分散装鷹を示す平面図であり、図中1は円環形状(ドー
ナツ形)の非磁性基体(ディスクと云う入 2は非磁性
基体1に垂直な磁界(垂直磁界と云う)を発生する磁石
、3は非磁性基体1に平行で円周方向の磁界(配向磁界
と云う)を発生する磁石を示している。第3図は第2図
A−A′断面を示し、第4図は同図B−B′断面を示し
ている。本実施例においては垂直磁場用磁石2をディス
ク11こ対して1組配し、ディスク1の中心に関し対称
位瞳に配向磁場用磁石3を1組配した。
この配贋の仕方は他にも適当な組合せがあり「特に本例
に制限されるものではない。配向作用は第3図を見て判
る如く、ディスク1の上面及び下面に対し同方向に磁遠
を形成して、ディスク面上に塗布された記録用磁性粒子
を磁気記録再生を行うに効率のよい磁気配列となさしめ
るものである。
一方磁性塗膜形成中の垂直磁場印加は第4図用いて説明
する。
この垂直磁場用磁石2はディスクーの両面をはさんで配
燈してもよいが、図に示す如く一方だけ(通常下方が作
業上好都合である)でも良好な絹果が得られる。
加工条件は材料形状等により異なるので、本実施例の場
合についてのみ述べるが「本方式はこ)に述べた条件の
みに限定されるものではない。
磁場強度は磁性塗料の材料等の配合によって変わるが、
ディスク面で50〜2000ェルステッドの範囲が通常
用いられ、100〜1000ヱルステッドの範囲が常用
される。印加時間は1の砂〜10分が通常の範囲で、3
M秒〜3分が常用される。
配向用磁場は塗布の際、垂直磁場と同時に印加しておい
ても、又垂直磁場より後で印加しても何れでもよい。
好ましくは塗布と同時に垂直磁界を印加し、しかる後配
向用磁場を印加する。磁場の印加中止の手順は何れを先
にしても、又同時でも特に不都合はないが、印加時間を
一定とするためには、垂直磁場を先に中止にするのがよ
い。
以上述べた如き磁性塗料の配合、及び磁界印加を伴う製
造工程により完成した磁気記録媒体は、一見して従来の
製品と判別しうる表面光沢を有し且つ表面状態が平滑で
あって表面処理工程は殆んど必要としない位い良好に仕
上がる。
出釆上った製品は、ピンホール等の欠陥の殆んどない、
繊密な磁性皮膜であって、特性は、次表に示す通りであ
る。
尚、磁性塗膜は磁気ディスク用のもので日,は垂直磁場
を意味する。第2表 第2表は第3表ような材料・組成でボーレミルを4報時
間行って磁性塗料を作り、アルミ基板にスピンコートし
、垂直磁場と水平磁場とを印加し配向後200qo程度
の温度で熱処理して塗膜を形成した。
第3表 第2表から明らかなように本発明によれば、1ノイズ電
圧が1仙肘zバンド幅従来の15山V肌sに対し8〃V
皿s2 配向度が角形比で表わして従釆の0.機に対し
0.85〜0.903 塗布直後表面平滑度が従釆品の
0.080ムmRa に対し0.025仏mRa等の特
性を有する磁気記録媒体が提案され記録品質が向上する
と共に、表面仕上げ処理の簡易化によるコストダウンと
、磁性塗料により摩耗を生ずる部位、機構例えば磁気デ
ィスク装置のヘッド等の摩耗が減少する。
【図面の簡単な説明】
第1図は磁性塗料中の固形分濃度と膜厚との対応関係を
示す図「第2図は磁気ディスクに適用された本発明の一
実施例図であり、第3図は第2図A−A′断面図、第4
図は第2図B−B′断面図である。 図中1は磁気ディスク基板(基体)であり、2は垂直磁
場用磁石、3は配向磁場用磁石である。 繁,図鱗2図 繁う図 繁々図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 磁気異方性を有する磁性粒子を含有する磁性塗料を
    非磁性基体上に塗布する察、該非磁性基体表面に平行な
    磁界と垂直な磁界とを塗膜に印加し、膜厚が1μm以下
    の磁性塗膜生成を行う磁気デイスク記録媒体の製造方法
    であって、沸点が160〜230℃である高沸点有機溶
    剤を15〜30重量%含み残部が沸点160℃未満の低
    沸点有機溶剤からなる溶剤を使用し、上記磁性塗料中の
    磁性粒子及び樹脂からなる固形分の濃度を10〜25重
    量%としたことを特徴とする磁気デイスク記録媒体の製
    造方法。
JP14475179A 1979-11-08 1979-11-08 磁気ディスク記録媒体の製造方法 Expired JPS6022416B2 (ja)

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JP14475179A JPS6022416B2 (ja) 1979-11-08 1979-11-08 磁気ディスク記録媒体の製造方法

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JPS5668934A JPS5668934A (en) 1981-06-09
JPS6022416B2 true JPS6022416B2 (ja) 1985-06-01

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ID=15369519

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5812138A (ja) * 1981-07-13 1983-01-24 Toshiba Corp 磁気記録媒体の製造方法
JP2796901B2 (ja) * 1991-04-19 1998-09-10 富士写真フイルム株式会社 磁気記録媒体の製造方法

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JPS5668934A (en) 1981-06-09

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