JPS6364631A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
バリウム−フェライト磁性粉のような平板面に対して垂
直方向の磁化容易軸を有する平板状磁性粉を含む磁性塗
料をディスク基板上にスピンコートした後、基板面に対
して平行方向の磁場のみを印加して、磁性粉を水平配向
させて磁気ディスクを製造するに際し、スピンコート装
置の塗料滴下位置を半径方向内側から外側へ、10mm
/sec以下の速度で移動させ乍らスピンコートして薄
膜で膜厚勾配のない磁気ディスクを製造する方法。
直方向の磁化容易軸を有する平板状磁性粉を含む磁性塗
料をディスク基板上にスピンコートした後、基板面に対
して平行方向の磁場のみを印加して、磁性粉を水平配向
させて磁気ディスクを製造するに際し、スピンコート装
置の塗料滴下位置を半径方向内側から外側へ、10mm
/sec以下の速度で移動させ乍らスピンコートして薄
膜で膜厚勾配のない磁気ディスクを製造する方法。
本発明は磁気ディスクの製造方法に関し、更に詳しくは
バリウム−フェライト(以下、単にBaフェライトとい
う)磁性粉のような平板面に対して垂直方向の磁化容易
軸を有する平板状磁性粉を水平配向させた薄膜で膜厚勾
配が実質上圧められない磁気ディスクの製造方法に関す
る。
バリウム−フェライト(以下、単にBaフェライトとい
う)磁性粉のような平板面に対して垂直方向の磁化容易
軸を有する平板状磁性粉を水平配向させた薄膜で膜厚勾
配が実質上圧められない磁気ディスクの製造方法に関す
る。
従来、磁気ディスクは、アルミニウム合金などの非磁性
ディスク基板上に、フェライト(T−酸化鉄(r F
ewO+)やBaフェライト(BaOH6FezO:+
)などの酸化物磁性材料などをスピンコート法によって
塗布して磁性膜を形成したり、或いはニッケル・コバル
ト・燐やコバルト・クロムなどのような磁性合金膜を真
空蒸着法、スパッタ法などによって被覆したりして作成
されている。このうち、Baフェライトは六角板状の形
状をした結晶で磁化容易軸が板面に対し直角方向に存在
するため垂直配向しやすく、従って垂直配向塗膜として
用いられている。
ディスク基板上に、フェライト(T−酸化鉄(r F
ewO+)やBaフェライト(BaOH6FezO:+
)などの酸化物磁性材料などをスピンコート法によって
塗布して磁性膜を形成したり、或いはニッケル・コバル
ト・燐やコバルト・クロムなどのような磁性合金膜を真
空蒸着法、スパッタ法などによって被覆したりして作成
されている。このうち、Baフェライトは六角板状の形
状をした結晶で磁化容易軸が板面に対し直角方向に存在
するため垂直配向しやすく、従って垂直配向塗膜として
用いられている。
しかしながら、Baフェライト磁性膜は垂直配向させる
ことにより高記録密度が得られるものと期待されている
が単層膜/リングヘッドという一般的なディスク構成で
は、例えば特願昭61−78159号明細書昭和61年
4月7日出願)に記載のように、出力が小さく、また波
形が非対称性のためピークシフトが大きくなるという問
題があり、広く実用化されるには至っていなかった。
ことにより高記録密度が得られるものと期待されている
が単層膜/リングヘッドという一般的なディスク構成で
は、例えば特願昭61−78159号明細書昭和61年
4月7日出願)に記載のように、出力が小さく、また波
形が非対称性のためピークシフトが大きくなるという問
題があり、広く実用化されるには至っていなかった。
前述の如く、従来Baフェライト磁性粉は形状的、磁気
的に垂直配向しやすいために垂直配向塗膜として用いら
れているが、垂直配向させた場合には出力が小さく、波
形が非対称性のためピークシフトが大きくなるという問
題があった。
的に垂直配向しやすいために垂直配向塗膜として用いら
れているが、垂直配向させた場合には出力が小さく、波
形が非対称性のためピークシフトが大きくなるという問
題があった。
そこでBaフェライト磁性粉と水平方向に配向させた場
合には上記問題点を解決でき、単層膜リングヘッドのデ
ィスク構成で容易に記録・再生を行なうことができるが
、Baフェライト磁性粉は垂直配向しやすいため水平配
向させることが難しく、このため本発明者らはBaミツ
エライト磁性粉含む磁性塗料を基板上にディスク回転数
を低くしてスピンコートし、その後、基板を低速で回転
させ乍ら基板面に対して平行方向の磁場のみを印加して
Baフェライト磁性粉を水平配向させる方法を先きに提
案したく特願昭61−78159号参照)。
合には上記問題点を解決でき、単層膜リングヘッドのデ
ィスク構成で容易に記録・再生を行なうことができるが
、Baフェライト磁性粉は垂直配向しやすいため水平配
向させることが難しく、このため本発明者らはBaミツ
エライト磁性粉含む磁性塗料を基板上にディスク回転数
を低くしてスピンコートし、その後、基板を低速で回転
させ乍ら基板面に対して平行方向の磁場のみを印加して
Baフェライト磁性粉を水平配向させる方法を先きに提
案したく特願昭61−78159号参照)。
しかしながら、この方法Baフェライト粉を水平配向さ
せるために磁性塗料の塗布時に基板ディスクの回転数を
低くせざるを得ずそのために磁性塗料の塗膜厚が厚くな
り、しかも膜厚勾配が大きくってディスク外周部が厚く
ならざるを得す塗布乾燥後の研磨加工工程に実用上間口
が生じると共に得られる磁気ディスクの記録特性が不良
となる傾向にあった。
せるために磁性塗料の塗布時に基板ディスクの回転数を
低くせざるを得ずそのために磁性塗料の塗膜厚が厚くな
り、しかも膜厚勾配が大きくってディスク外周部が厚く
ならざるを得す塗布乾燥後の研磨加工工程に実用上間口
が生じると共に得られる磁気ディスクの記録特性が不良
となる傾向にあった。
本発明に従えば、前記問題点は、平板面に対して垂直方
向の磁化容易軸を有する平板状磁性粉を含む磁性塗料を
ディスク基板上にスピンコートした後、基板面に対して
平行方向の磁場のみを印加して、磁性粉を水平配向させ
て磁気ディスクを製造するに際し、スピンコート装置の
塗料滴下位置を半径方向内側から外側へ10mm/se
c以下の速度で移動させ乍らスピンコートすることによ
って解決できる。
向の磁化容易軸を有する平板状磁性粉を含む磁性塗料を
ディスク基板上にスピンコートした後、基板面に対して
平行方向の磁場のみを印加して、磁性粉を水平配向させ
て磁気ディスクを製造するに際し、スピンコート装置の
塗料滴下位置を半径方向内側から外側へ10mm/se
c以下の速度で移動させ乍らスピンコートすることによ
って解決できる。
本発明に従えば、前述したように、例えばBaフェライ
ト磁性粉やストロンチウムフェライト磁性粉のような平
板面に対して垂直方向の磁化容易軸を有する平板状磁性
粉(以下簡単のため、Baフェライト磁性粉という)を
含む磁性塗料をディスク基板上に塗布して平板状のBa
フェライト粉を水平配向させるために、ディスク基板を
、周速13m/sec以下、好ましくは2〜6m/B6
(でゆっ(り回転させ乍ら、スピンコート装置の塗料滴
下位置をディスク内縁から外周部へ、10mm/sec
以下、好ましくは3〜5 mm/secの速度で一定速
度で移動させながらスピンコートし、次いでスピンコー
トしたディスクを、例えば周速0.1 m/sec以下
、好ましくは0.01〜0.05m/secでゆっくり
回転させ乍ら基板面に対して平行方向の磁場のみを印加
する。
ト磁性粉やストロンチウムフェライト磁性粉のような平
板面に対して垂直方向の磁化容易軸を有する平板状磁性
粉(以下簡単のため、Baフェライト磁性粉という)を
含む磁性塗料をディスク基板上に塗布して平板状のBa
フェライト粉を水平配向させるために、ディスク基板を
、周速13m/sec以下、好ましくは2〜6m/B6
(でゆっ(り回転させ乍ら、スピンコート装置の塗料滴
下位置をディスク内縁から外周部へ、10mm/sec
以下、好ましくは3〜5 mm/secの速度で一定速
度で移動させながらスピンコートし、次いでスピンコー
トしたディスクを、例えば周速0.1 m/sec以下
、好ましくは0.01〜0.05m/secでゆっくり
回転させ乍ら基板面に対して平行方向の磁場のみを印加
する。
かかる操作は通常常温で実施し、平行方向の磁場の印加
時間には特に制限はないが、一般には1〜10分、好ま
しくは2〜3分である。なお、ディスクの回転周速が3
m/secを超えると磁性粉を水平配向させるのが難し
くなる傾向にあるので好ましくない。またスピンコート
装置の塗料滴下位置の移動速度が3 mm/secを超
えると塗布膜厚が厚くなるのと、膜厚勾配が太き(なる
ことから好ましくない。なお、使用する平板状磁性粉の
板状比(代表長さl/厚さd)には特に限定はないが、
所望の水平配向を得るためには板状比が10以上、更に
好ましくは15〜20であるのが好適である。
時間には特に制限はないが、一般には1〜10分、好ま
しくは2〜3分である。なお、ディスクの回転周速が3
m/secを超えると磁性粉を水平配向させるのが難し
くなる傾向にあるので好ましくない。またスピンコート
装置の塗料滴下位置の移動速度が3 mm/secを超
えると塗布膜厚が厚くなるのと、膜厚勾配が太き(なる
ことから好ましくない。なお、使用する平板状磁性粉の
板状比(代表長さl/厚さd)には特に限定はないが、
所望の水平配向を得るためには板状比が10以上、更に
好ましくは15〜20であるのが好適である。
このようにして本発明を従えば、磁気塗膜の内側にでも
外側にでも十分な書き込みができる高密度磁気塗膜を有
する磁気ディスクを製造することができる。
外側にでも十分な書き込みができる高密度磁気塗膜を有
する磁気ディスクを製造することができる。
ズ」1医
以下実施例に従って本発明を更に詳細に説明するが、本
発明の技術的範囲をこれらの実施例に限定するものでな
いことはいうまでもない。
発明の技術的範囲をこれらの実施例に限定するものでな
いことはいうまでもない。
1 び ′11
板状比が20で平均径が0.2μmのBaミツエライト
磁性粉配合して以下に示す組成の磁性塗料を調製した。
磁性粉配合して以下に示す組成の磁性塗料を調製した。
以下余白
男−」−一表
Baフェライト磁性粉 55エポキシ
樹脂 30フエノール樹脂
10アクリル樹脂
5キシレン
170トルエン 18
0酢酸セロソルブ 60このよ
うにして得られた磁性塗料を用いて第1図に示したタイ
ムチャートに従ってアルミニウム製基板上に種々の条件
でスピンコートした。
樹脂 30フエノール樹脂
10アクリル樹脂
5キシレン
170トルエン 18
0酢酸セロソルブ 60このよ
うにして得られた磁性塗料を用いて第1図に示したタイ
ムチャートに従ってアルミニウム製基板上に種々の条件
でスピンコートした。
先ず、スピナーの塗料滴下位置の移動速度を10mm/
secで一定としてディスク回転数を30Orpm。
secで一定としてディスク回転数を30Orpm。
500rpm 、 700rpm及び11000rpと
変化させたときのディスク半径位置65〜95mmでの
塗膜厚と回転数との関係を第2図に示す。次にディスク
回転数を50Orpmと一定としてスピナーの塗料滴下
位置の移動速度を3〜20mm/seeの範囲で変化さ
せたときのディスク半径位置65〜95mmにおける塗
膜厚とスピナー塗料滴下位置の移動速度との関係を第3
図に示す。
変化させたときのディスク半径位置65〜95mmでの
塗膜厚と回転数との関係を第2図に示す。次にディスク
回転数を50Orpmと一定としてスピナーの塗料滴下
位置の移動速度を3〜20mm/seeの範囲で変化さ
せたときのディスク半径位置65〜95mmにおける塗
膜厚とスピナー塗料滴下位置の移動速度との関係を第3
図に示す。
これらの結果よりスピナー滴下位置の移動速度が10m
m/sec以下、特に2〜51IIIIl/secでは
ディスク回転数が50Orpm程度の低速回転でも薄膜
で膜厚勾配が実質上圧められない磁気塗膜を得ることが
できた。
m/sec以下、特に2〜51IIIIl/secでは
ディスク回転数が50Orpm程度の低速回転でも薄膜
で膜厚勾配が実質上圧められない磁気塗膜を得ることが
できた。
更に、ディスク回転数60Orpmにおいてスピナーの
塗料滴下位置を3 mm/secの速度で移動した場合
(実施例1)とスピナーの塗料滴下位置を固定(半径位
置60mmの点)した場合(比較例1)の各半径位置に
おける膜厚をプロットしたものを第4図に示す。第4図
の結果から明きらかなように、本発明に従った実施例1
では膜厚約0.5μmの膜厚勾配のない薄膜が得られた
のに対し、従来法に従った比較例1では膜厚が半径位置
により0.8〜1.7μmと膜厚勾配の極めて大きい厚
膜の塗膜しか得られなかった。
塗料滴下位置を3 mm/secの速度で移動した場合
(実施例1)とスピナーの塗料滴下位置を固定(半径位
置60mmの点)した場合(比較例1)の各半径位置に
おける膜厚をプロットしたものを第4図に示す。第4図
の結果から明きらかなように、本発明に従った実施例1
では膜厚約0.5μmの膜厚勾配のない薄膜が得られた
のに対し、従来法に従った比較例1では膜厚が半径位置
により0.8〜1.7μmと膜厚勾配の極めて大きい厚
膜の塗膜しか得られなかった。
なお、このようにして得られた実施例1の磁性膜はBa
フェライトが水平配向したものであった。
フェライトが水平配向したものであった。
2 び 六v2
実施例1で用いた第1表の組成の磁性塗料の配合におい
て、磁気粉としてBaフェライトに代えて同じBaフェ
ライトにCo−γ−FezO= 20重世%を配合した
ものを用いた以外は実施例1及び比較例1と同様にして
スピンコートし、同様の結果を得た。
て、磁気粉としてBaフェライトに代えて同じBaフェ
ライトにCo−γ−FezO= 20重世%を配合した
ものを用いた以外は実施例1及び比較例1と同様にして
スピンコートし、同様の結果を得た。
以上説明したように、本発明に従えば、ディスク基板を
低速回転で回転させ乍らBaフェライト粉をスピンコー
トしているにも拘らず、薄膜で膜厚勾配のない、Baフ
ェライト粉が水平配向した磁気塗膜を得ることができる
。
低速回転で回転させ乍らBaフェライト粉をスピンコー
トしているにも拘らず、薄膜で膜厚勾配のない、Baフ
ェライト粉が水平配向した磁気塗膜を得ることができる
。
第1図は実施例及び比較例でスピンコートした際のタイ
ムチャートを示し、 第2図、第3図及び第4図は、それぞれ、実施例1及び
比較例1においてBaフェライト含有磁性塗料をスピン
コートした場合に得られた膜厚とディスク回転数、膜厚
と移動速度、膜厚とディスク基板半径位置との関係を示
すグラフ図である。
ムチャートを示し、 第2図、第3図及び第4図は、それぞれ、実施例1及び
比較例1においてBaフェライト含有磁性塗料をスピン
コートした場合に得られた膜厚とディスク回転数、膜厚
と移動速度、膜厚とディスク基板半径位置との関係を示
すグラフ図である。
Claims (1)
- 1、平板面に対して垂直方向の磁化容易軸を有する平板
状磁性粉を含む磁性塗料をディスク基板上にスピンコー
トした後、基板面に対して平行方向の磁場のみを印加し
て磁性粉を水平配向させて磁気ディスクを製造するに際
し、スピンコート装置の塗料滴下位置を半径方向内側か
ら外側へ、10mm/sec以下の速度で移動させ乍ら
スピンコートすることを特徴とする磁気ディスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20801886A JPS6364631A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20801886A JPS6364631A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6364631A true JPS6364631A (ja) | 1988-03-23 |
Family
ID=16549312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20801886A Pending JPS6364631A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6364631A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008094428A (ja) * | 2006-10-12 | 2008-04-24 | Sanko Co Ltd | 合成樹脂製パレット |
JP2009154933A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Meiji Rubber & Chem Co Ltd | 合成樹脂製パレット |
-
1986
- 1986-09-05 JP JP20801886A patent/JPS6364631A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008094428A (ja) * | 2006-10-12 | 2008-04-24 | Sanko Co Ltd | 合成樹脂製パレット |
JP2009154933A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Meiji Rubber & Chem Co Ltd | 合成樹脂製パレット |
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