JPS5883335A - 金属薄膜型円盤状磁気記録媒体の製法 - Google Patents
金属薄膜型円盤状磁気記録媒体の製法Info
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- JPS5883335A JPS5883335A JP17924981A JP17924981A JPS5883335A JP S5883335 A JPS5883335 A JP S5883335A JP 17924981 A JP17924981 A JP 17924981A JP 17924981 A JP17924981 A JP 17924981A JP S5883335 A JPS5883335 A JP S5883335A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
磁気記録媒体を円盤状となしてその円周方向に−記録再
生を行うようにした磁気記録再生装置は、計算機の記憶
装置として実用化されるに至っているが、更に最近オー
ディオ信号、ビデオ信号の記録再生用として用いられる
に至っている。この場合、スチル画の再生、コマ送りラ
ンダムアクセスが簡単となってその用途が広範囲に広が
る。このようにその円周方向に関して記録・再生を行う
磁気記録媒体は、その円周方向忙関して磁気異方性を有
すること、すなわちその円周方同和高抗磁力、高飽和磁
束密度を有すること、従ってこの円周方向に磁性体の配
向がなされることが短波長記録及び高出力を得る上で望
ましく、更忙はぼ同一円周上でできるだけ均一な磁気的
特性を有することがイコライザーによる出力補正の簡便
さの上で望ましい。
生を行うようにした磁気記録再生装置は、計算機の記憶
装置として実用化されるに至っているが、更に最近オー
ディオ信号、ビデオ信号の記録再生用として用いられる
に至っている。この場合、スチル画の再生、コマ送りラ
ンダムアクセスが簡単となってその用途が広範囲に広が
る。このようにその円周方向に関して記録・再生を行う
磁気記録媒体は、その円周方向忙関して磁気異方性を有
すること、すなわちその円周方同和高抗磁力、高飽和磁
束密度を有すること、従ってこの円周方向に磁性体の配
向がなされることが短波長記録及び高出力を得る上で望
ましく、更忙はぼ同一円周上でできるだけ均一な磁気的
特性を有することがイコライザーによる出力補正の簡便
さの上で望ましい。
ところが、通常の磁気記録媒体は、磁性材を結合剤と混
練した磁性塗料を非磁性基体上に塗布する方法が採られ
るものであり、この場合、その磁性体の配向は、その塗
布手段の非磁性基体への摺！ｉｋ沿った方向となる。従
って仁のような方法で形成された円盤状磁気記録媒体は
、一般にその磁気異方性が円周方向に存在しないこ−と
Ｋなるので、この円盤状磁気記録媒体に対し、その円周
方向に磁気ヘッドを相対的に走査させて、ギの記録・再
生を行う場合１例えばその再生出力信号の大きさは円盤
の回転角によって変動してしまい、この変動の補正を回
路的に行５ことは可成り困難となる。
練した磁性塗料を非磁性基体上に塗布する方法が採られ
るものであり、この場合、その磁性体の配向は、その塗
布手段の非磁性基体への摺！ｉｋ沿った方向となる。従
って仁のような方法で形成された円盤状磁気記録媒体は
、一般にその磁気異方性が円周方向に存在しないこ−と
Ｋなるので、この円盤状磁気記録媒体に対し、その円周
方向に磁気ヘッドを相対的に走査させて、ギの記録・再
生を行う場合１例えばその再生出力信号の大きさは円盤
の回転角によって変動してしまい、この変動の補正を回
路的に行５ことは可成り困難となる。
−万、基体何見ばポリエチレンテレ７、タレイト。
ポリエステル等よりなる非磁性基体上に、Ｃｏ、Ｆｅ。
Ｎ１或いはこれらを主体とする合金等の強磁性金属を、
メッキ、蒸着、スパッタリング或いはイオンプレイディ
ング忙よって被着して磁性層を形成した金属薄膜型磁気
記録媒体は、その充填密度が高められ高密度配録が可能
となるので脚光を浴びるに至っている。
メッキ、蒸着、スパッタリング或いはイオンプレイディ
ング忙よって被着して磁性層を形成した金属薄膜型磁気
記録媒体は、その充填密度が高められ高密度配録が可能
となるので脚光を浴びるに至っている。
そして、このような金属薄膜型磁気記録媒体を、前述し
た円盤状磁気記録媒体忙適用する場合、一般的に考えら
れる製法としては、円盤状基体を比較的ゆっくり回転さ
せながらそのほぼ回転中心軸上に対向配設した磁性金属
の蒸着源からの蒸着によって被着するという方法である
。ところがこの場合、円周方向に関してほぼ均一の磁気
特性を有する記録媒体は得られるものの、円周方向忙関
してすぐれた磁気特性を示すという磁気異方性は充分得
られない。
た円盤状磁気記録媒体忙適用する場合、一般的に考えら
れる製法としては、円盤状基体を比較的ゆっくり回転さ
せながらそのほぼ回転中心軸上に対向配設した磁性金属
の蒸着源からの蒸着によって被着するという方法である
。ところがこの場合、円周方向に関してほぼ均一の磁気
特性を有する記録媒体は得られるものの、円周方向忙関
してすぐれた磁気特性を示すという磁気異方性は充分得
られない。
一万、金属薄膜型円盤状磁気記録媒体において、例えば
第１図に示すように、円盤状非磁性基体（１）をその中
心において回転軸（２）上忙装着してこれを回転させ、
一方この基体（１）に近接対向して例えば第２図に示す
ようにスリット（６）を有する板状マスク（３）を配置
し、これら基体（１）及びマスク（３）に対して斜め方
向よりＣｏ 、 Ｃｏ−Ｎ１等の気相金属磁性材流を矢
印１１に示すようにとばして気相メッキ例えば蒸着を施
して基体［１１上忙基体（１；の回転に伴う円周方向に
沿い且つ斜め蒸着を行って磁性金属薄膜（４）を形成し
て得た磁気記録媒体（５）はその円周方向に磁気異方性
を呈せしめることができる。
第１図に示すように、円盤状非磁性基体（１）をその中
心において回転軸（２）上忙装着してこれを回転させ、
一方この基体（１）に近接対向して例えば第２図に示す
ようにスリット（６）を有する板状マスク（３）を配置
し、これら基体（１）及びマスク（３）に対して斜め方
向よりＣｏ 、 Ｃｏ−Ｎ１等の気相金属磁性材流を矢
印１１に示すようにとばして気相メッキ例えば蒸着を施
して基体［１１上忙基体（１；の回転に伴う円周方向に
沿い且つ斜め蒸着を行って磁性金属薄膜（４）を形成し
て得た磁気記録媒体（５）はその円周方向に磁気異方性
を呈せしめることができる。
ところがこのような斜め蒸着によってその金属薄膜磁性
層を形成する場合、蒸着効率が低く生産性において、や
や問題がある。
層を形成する場合、蒸着効率が低く生産性において、や
や問題がある。
本発明においては、円周方向に磁気異方性を有し１円周
方向に高い抗磁力と、高い飽和磁束密度と、高い角型比
（残留磁束密度／飽和磁束密度）を呈する金属薄膜型円
盤状磁気記録媒体を能率よく得ることのできる製法を提
供するものである。
方向に高い抗磁力と、高い飽和磁束密度と、高い角型比
（残留磁束密度／飽和磁束密度）を呈する金属薄膜型円
盤状磁気記録媒体を能率よく得ることのできる製法を提
供するものである。
すなわち本発明においては、円盤状磁気記録媒体を構成
する非磁性支持体例えばポリエチレンテレ７タレイト、
ポリエステル、アルミナ等の円盤状基体をその中心軸上
で回転するよらに支持し、この基体に対して、金属磁性
材例えばＦｅ 、 Ｃｏ 、 Ｃ。
する非磁性支持体例えばポリエチレンテレ７タレイト、
ポリエステル、アルミナ等の円盤状基体をその中心軸上
で回転するよらに支持し、この基体に対して、金属磁性
材例えばＦｅ 、 Ｃｏ 、 Ｃ。
−Ｎｌを蒸着、スパッタリング或いはイオンプレイティ
ング等の気相メッキを施すものであるが、例えばこの気
相メッキのための気相流が基体に対μその回転中心軸に
沿う方向ないしは、その回転中心軸を中心とするも所要
の立体角をもって基体に向って広がるように選定し、更
に特に本実明忙おいては、この気相メッキを、基体が高
速回転された状態でなして、結果的に気相流が基体上の
各位置に対して実質的に所要の入射角を有するよう忙し
て、実質的に基体の円周方向忙斜め蒸着がなされるよう
にする。この場合の基体の回転速度は、円周方向に抗磁
力ＨＣが７００エルステツド（ｏｅ ）以上、飽和磁束
密度Ｂｒが４０００ガウス（Ｇ）以上、角型比ｆ（８が
少なくとも７０％以上好着しくけ７５％以上となるよう
に、その基体と気相メッキ源とのなわち例えば１０００
ｒｐｍ以上、好萱しくはｌ０ｔｒｙ’ｌ１１３０以上
の線速度に選ばれる。そしてこの金属薄膜磁性ａの厚さ
＋ｔ５００−１ｓｏｏＸＶｃｘ定する。
ング等の気相メッキを施すものであるが、例えばこの気
相メッキのための気相流が基体に対μその回転中心軸に
沿う方向ないしは、その回転中心軸を中心とするも所要
の立体角をもって基体に向って広がるように選定し、更
に特に本実明忙おいては、この気相メッキを、基体が高
速回転された状態でなして、結果的に気相流が基体上の
各位置に対して実質的に所要の入射角を有するよう忙し
て、実質的に基体の円周方向忙斜め蒸着がなされるよう
にする。この場合の基体の回転速度は、円周方向に抗磁
力ＨＣが７００エルステツド（ｏｅ ）以上、飽和磁束
密度Ｂｒが４０００ガウス（Ｇ）以上、角型比ｆ（８が
少なくとも７０％以上好着しくけ７５％以上となるよう
に、その基体と気相メッキ源とのなわち例えば１０００
ｒｐｍ以上、好萱しくはｌ０ｔｒｙ’ｌ１１３０以上
の線速度に選ばれる。そしてこの金属薄膜磁性ａの厚さ
＋ｔ５００−１ｓｏｏＸＶｃｘ定する。
第３図を参照して本発明製法′を実施する装置の一例と
本発明の一実施例を説明する。０υは真空容器で、この
容器ａＤ内は真空ポンプα２によって排気されて高真空
度に保持される。容器０１）内には、円盤状磁気記録媒
体を構成する基体、例えば非磁性円盤状基体ａ３がその
ホルダー（＋４１上に支持される。
本発明の一実施例を説明する。０υは真空容器で、この
容器ａＤ内は真空ポンプα２によって排気されて高真空
度に保持される。容器０１）内には、円盤状磁気記録媒
体を構成する基体、例えば非磁性円盤状基体ａ３がその
ホルダー（＋４１上に支持される。
ホルダー０４はモーター０９等によって駆動される回転
軸ｏｅ上に支持されてこれが回転するようになされ、基
体αＪをその中心軸上で高速回転するようになされる。
軸ｏｅ上に支持されてこれが回転するようになされ、基
体αＪをその中心軸上で高速回転するようになされる。
−！た、基体ａ？Ｊに近接対向してマスク（１７１が配
置される。こめマスクαηは、例えば第４図に示すよ５
に中心部と周辺部Ｖｃｍ蔽部（１７ａ）及び（１７ｂ）
を有し両者間に連結幅部（１７ｃ）を有し連蔽部（１７
ａ）及び（１７ｂ）間に開口（１７ｄ）が形成されてな
る。そして、マスクａηを介して基板０３に対向して例
えばＣｏ 、 Ｃｏ −Ｎ１合金等の金属磁性材の気相
メッキ源すなわち蒸発源ａδが配置され、これに例えば
電子銃α９よりの電子ビーム（至）が衝撃されて、蒸発
源α９の金属磁性材を基体α３に向つそ飛ばして基体Ｏ
Ｊ上に金属磁性薄膜ｅ２１＋が形成されるようにする。
置される。こめマスクαηは、例えば第４図に示すよ５
に中心部と周辺部Ｖｃｍ蔽部（１７ａ）及び（１７ｂ）
を有し両者間に連結幅部（１７ｃ）を有し連蔽部（１７
ａ）及び（１７ｂ）間に開口（１７ｄ）が形成されてな
る。そして、マスクａηを介して基板０３に対向して例
えばＣｏ 、 Ｃｏ −Ｎ１合金等の金属磁性材の気相
メッキ源すなわち蒸発源ａδが配置され、これに例えば
電子銃α９よりの電子ビーム（至）が衝撃されて、蒸発
源α９の金属磁性材を基体α３に向つそ飛ばして基体Ｏ
Ｊ上に金属磁性薄膜ｅ２１＋が形成されるようにする。
この場合の気相メッキは前述したように基体（＋３１を
高速回転させて行う。このようにして基体峙上に金属磁
性薄膜（２Ｄが被着された金属薄膜型円盤状Ｓ気記録媒
体のを得る。
高速回転させて行う。このようにして基体峙上に金属磁
性薄膜（２Ｄが被着された金属薄膜型円盤状Ｓ気記録媒
体のを得る。
今、この回転数を］０００ｒｐ＋ｎｌＣ選定した場合、
すなわち中心から半径方向Ｋ ５ ｃｍの位置での線速
度が５ｍ／１Ｉｅｃとして厚さ１００ＯＡの金属磁性薄
膜を形成した場合の、中心から半径方向Ｋ ５ ｃｍの
位置における角型比が７０％となった。また同様の基体
（１３１の回転速度２００Ｏｒｐｍすなわち同様の位置
における線速度をｌ Ｑ ｍ／ＲＣとした場合、角型比
が７５％で、Ｈｃは７５００ｅｓＢｒは９５００Ｇとな
った。また、同様の回転速度を４０００ｒｐｍとすると
き角型比は７８％になった。尚この場合の中心から半径
方向に７．５ｃｍのところでは４０００ｒｐｍの回転数
による気相メッキで８２％の角型比が得られた。
すなわち中心から半径方向Ｋ ５ ｃｍの位置での線速
度が５ｍ／１Ｉｅｃとして厚さ１００ＯＡの金属磁性薄
膜を形成した場合の、中心から半径方向Ｋ ５ ｃｍの
位置における角型比が７０％となった。また同様の基体
（１３１の回転速度２００Ｏｒｐｍすなわち同様の位置
における線速度をｌ Ｑ ｍ／ＲＣとした場合、角型比
が７５％で、Ｈｃは７５００ｅｓＢｒは９５００Ｇとな
った。また、同様の回転速度を４０００ｒｐｍとすると
き角型比は７８％になった。尚この場合の中心から半径
方向に７．５ｃｍのところでは４０００ｒｐｍの回転数
による気相メッキで８２％の角型比が得られた。
上述したように本発明によれば、基体（１３を高速回転
することＫよって、この基体０に対して、その円周万同
忙関して実質的に斜め蒸溜の効果な得るようにしたので
、円周方向に関して磁気異方性を有する円盤状磁気配録
媒体が容易に得られる。
することＫよって、この基体０に対して、その円周万同
忙関して実質的に斜め蒸溜の効果な得るようにしたので
、円周方向に関して磁気異方性を有する円盤状磁気配録
媒体が容易に得られる。
そして、この場合、基体０３Ｉの回転面に対して蒸着気
流の軸心は垂直に選び得るので従来の斜め蒸着における
場合のような蒸着効率の低下は生じないものであり、量
産性の向上を図ることができるものであるが、成る場合
は、蒸着気流を基体ａ３の回転中心に沿わない斜め方向
とし、基体Ｑ３の高速回転との併用忙よって円周方向に
磁気異方性を有するこの種金属薄膜型円盤状磁気記録媒
体を得ることもできる。
流の軸心は垂直に選び得るので従来の斜め蒸着における
場合のような蒸着効率の低下は生じないものであり、量
産性の向上を図ることができるものであるが、成る場合
は、蒸着気流を基体ａ３の回転中心に沿わない斜め方向
とし、基体Ｑ３の高速回転との併用忙よって円周方向に
磁気異方性を有するこの種金属薄膜型円盤状磁気記録媒
体を得ることもできる。
尚、本実明忙よる磁気記骨媒体のは１例えば第５図忙示
すよつ忙、円盤状非磁性基体αＪの中心部に、この媒体
（２）に対する配分再生を行う磁気記録再生装置におけ
る回転軸忙この媒体（ハ）を装着するに供する軸受リン
グ（至）を貫通配設する。リング■の一端にＧｉり！＠
（３Ｏａ）が一体に設けられ他端に他の鍔部（３０り
が嵌着され、両１部（３０り及び（３０ｂ）間に金属磁
性薄膜（２１＋を有する基体ａ３ととも釦、この金属磁
性薄膜Ｃ？１１１Ｃ接してその”中心部処液状滑剤例え
ばオレイン酸を含浸させたリング状含浸体、例えば厚さ
１１００ｔｔのフェルトリングの含浸体０１）を重ね合
せて挾み込む。このような構成によるときは円盤状磁気
配録媒体のの記録再生時の回転によって含浸体０１）Ｋ
含浸された滑剤が円心力によって金属磁性薄膜（２１＋
士に流延するようになし得て、常時金属磁性薄膜Ｑｌ上
に対する磁気ヘッドとの対接を滑らかにすることができ
る。
すよつ忙、円盤状非磁性基体αＪの中心部に、この媒体
（２）に対する配分再生を行う磁気記録再生装置におけ
る回転軸忙この媒体（ハ）を装着するに供する軸受リン
グ（至）を貫通配設する。リング■の一端にＧｉり！＠
（３Ｏａ）が一体に設けられ他端に他の鍔部（３０り
が嵌着され、両１部（３０り及び（３０ｂ）間に金属磁
性薄膜（２１＋を有する基体ａ３ととも釦、この金属磁
性薄膜Ｃ？１１１Ｃ接してその”中心部処液状滑剤例え
ばオレイン酸を含浸させたリング状含浸体、例えば厚さ
１１００ｔｔのフェルトリングの含浸体０１）を重ね合
せて挾み込む。このような構成によるときは円盤状磁気
配録媒体のの記録再生時の回転によって含浸体０１）Ｋ
含浸された滑剤が円心力によって金属磁性薄膜（２１＋
士に流延するようになし得て、常時金属磁性薄膜Ｑｌ上
に対する磁気ヘッドとの対接を滑らかにすることができ
る。
第１図は本発明の説明に供する金属薄膜型円盤状磁気記
録媒体の路線的構成図、第２図はそのマスクの平面図、
＠３図は本発明製法を実施する装置の一例の路線的構成
図、ｉｌｌ！４図はそのマスクの一例の平面図、第５図
は本発明製法によって得た金属薄膜型円盤状磁気記録媒
体の一例の路線的断面図である。 ａ３は非缶性基体、Ｃ２１１は金属磁性薄膜、のは本発
明による金属薄膜型円盤状磁気記録媒体である。 第２図
録媒体の路線的構成図、第２図はそのマスクの平面図、
＠３図は本発明製法を実施する装置の一例の路線的構成
図、ｉｌｌ！４図はそのマスクの一例の平面図、第５図
は本発明製法によって得た金属薄膜型円盤状磁気記録媒
体の一例の路線的断面図である。 ａ３は非缶性基体、Ｃ２１１は金属磁性薄膜、のは本発
明による金属薄膜型円盤状磁気記録媒体である。 第２図
Claims (1)
- 基体を回転させながら該基体に対して金属穐性材を気相
メッキして金属磁性薄膜を形成し、該金属磁性薄膜が円
周方向に磁気異方性を呈するように上記基体の回転速度
を選定することを特徴とする金属薄膜型円盤状磁気記録
媒体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17924981A JPS5883335A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | 金属薄膜型円盤状磁気記録媒体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17924981A JPS5883335A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | 金属薄膜型円盤状磁気記録媒体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5883335A true JPS5883335A (ja) | 1983-05-19 |
Family
ID=16062538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17924981A Pending JPS5883335A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | 金属薄膜型円盤状磁気記録媒体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5883335A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59201227A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気デイスクの製造装置 |
-
1981
- 1981-11-09 JP JP17924981A patent/JPS5883335A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59201227A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気デイスクの製造装置 |
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