JP2001032062A - 表面処理方法、表面処理装置、蒸着材料および表面処理された希土類系永久磁石 - Google Patents

表面処理方法、表面処理装置、蒸着材料および表面処理された希土類系永久磁石

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い真空度を得るために長時間をかけたり、
特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムの
ような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被
処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法、この方
法を実施するために好適な表面処理装置などを提供する
こと。 【解決手段】 易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被
処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室
内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御
ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、アルミニ
ウムや亜鉛のような易酸化性蒸着材料を希土類永久磁石
のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方
法、この方法を実施するために好適な表面処理装置と蒸
着材料、この方法によって得られる希土類永久磁石に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、例えば、酸化によって劣化し
やすい性質を持つ希土類永久磁石などは、その表面にア
ルミニウム被膜などを蒸着形成して酸化による劣化を防
止するようにしていた。このような表面処理方法のため
には、例えば、図３に示すような表面処理装置が用いら
れている。図３は、具体的には希土類永久磁石表面にア
ルミニウム蒸着被膜を形成するための装置を示すもの
で、図略の真空排気系に連なる処理室（真空槽）１内の
下部には、蒸着材料であるアルミニウム１０を蒸発させ
る溶融蒸発部であるハース（蒸着材料を溶解するための
容器）２が、支持テーブル３上に立設されたハース支持
台４上に１個または複数個配設されている。また、処理
室１内の上方には網状部材で形成された籠状の被処理物
保持部５が回転軸６を中心に回転自在に２個並設されて
いる。そして、この装置によれば、前記被処理物保持部
５内に被処理物として希土類系永久磁石３０が収容さ
れ、この被処理物保持部５、５を回転させながら、図略
の加熱手段によって所定温度に加熱された前記ハース２
からアルミニウム１０を蒸発させ、被処理物保持部５、
５内の希土類系永久磁石３０の表面にアルミニウム蒸着
被膜を形成するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような表
面処理装置を使用して処理室内の酸素分圧が高い状態で
蒸着処理を行った場合、溶融蒸発部から蒸発したアルミ
ニウムが、被処理物に到達するまでの間に室内に存在す
る酸素によって酸化してしまい、優れた膜質のアルミニ
ウム被膜を形成することができないという問題や、溶融
蒸発部内のアルミニウム溶湯の表面に酸化アルミニウム
の被膜が形成されてしまい蒸着材料であるアルミニウム
が十分に蒸発されないという問題があった。また、これ
らの問題を解消するために、酸素分圧を低くすることを
目的として真空度を上げようとすると、長時間の真空排
気を行う必要がある。従って、例えば、全体の処理時間
が２．５時間に対して、１０−４Ｐａ以下の真空度を得
るために１時間を要するというように、生産性が劣ると
いう問題があった。そこで本発明は、高い真空度を得る
ために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりする
ことなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希
土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるた
めの表面処理方法、この方法を実施するために好適な表
面処理装置などを提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題点を解決するために鋭意検討の結果、処理室内におけ
る溶融蒸発部と被処理物の近傍を、水素などによって蒸
着を制御するガス雰囲気にした状態で前記蒸着材料を蒸
発させると、高い真空度を得るために長時間をかけた
り、特別の装置を使用したりしなくても、極めて安定に
蒸着処理を行うことができることを知見した。
【０００５】本発明は、上記の知見に基づきなされたも
のであり、本発明の表面処理装置は、請求項１記載の通
り、易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表
面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なく
とも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給
した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とす
る。また、請求項２記載の表面処理方法は、請求項１記
載の表面処理方法において、蒸着制御ガスを含有するワ
イヤー状蒸着材料を溶融蒸発部に供給しながら蒸発させ
ることによって、前記蒸着材料から蒸着制御ガスを供給
することを特徴とする。また、請求項３記載の表面処理
方法は、請求項２記載の表面処理方法において、前記蒸
着制御ガスが水素であることを特徴とする。また、請求
項４記載の表面処理方法は、請求項３記載の表面処理方
法において、蒸着材料の蒸発を１０−３Ｐａ以上の酸素
分圧下で行うことを特徴とする。また、請求項５記載の
表面処理方法は、請求項４記載の表面処理方法におい
て、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空
間における水素／酸素モル比を１０〜２５０の範囲とす
ることを特徴とする。また、請求項６記載の表面処理方
法は、請求項３乃至５のいずれかに記載の表面処理方法
において、前記蒸着材料が水素含有量が０．５ｐｐｍ〜
１１ｐｐｍのアルミニウムワイヤーであることを特徴と
する。また、請求項７記載の表面処理方法は、請求項１
記載の表面処理方法において、蒸着制御ガスを処理室外
部から導入することによって供給することを特徴とす
る。また、請求項８記載の表面処理方法は、請求項７記
載の表面処理方法において、前記蒸着制御ガスが水素で
あることを特徴とする。また、請求項９記載の表面処理
方法は、請求項８記載の表面処理方法において、蒸着材
料の蒸発を１０−３Ｐａ以上の酸素分圧下で行うことを
特徴とする。また、請求項１０記載の表面処理方法は、
請求項９記載の表面処理方法において、処理室内の少な
くとも溶融蒸発部と被処理物間の空間における水素／酸
素モル比を１０〜２５０の範囲とすることを特徴とす
る。また、請求項１１記載の表面処理方法は、請求項８
記載の表面処理方法において、前記蒸着材料が水素含有
量が０．５ｐｐｍ以下のアルミニウムであることを特徴
とする。また、本発明の表面処理装置は、請求項１２記
載の通り、真空排気系に連なる処理室内に、蒸着材料の
溶融蒸発部と、この蒸着材料が蒸着される被処理物の保
持部を備えた表面処理装置であって、蒸着制御ガスを含
有するワイヤー状蒸着材料を前記溶融蒸発部に供給する
ための蒸着材料供給手段を備えることを特徴とする。ま
た、請求項１３記載の表面処理装置は、請求項１２記載
の表面処理装置において、前記蒸着材料供給手段は、前
記ワイヤー状蒸着材料の繰り出しリールからなることを
特徴とする。また、請求項１４記載の表面処理装置は、
請求項１２または１３記載の表面処理装置において、前
記蒸着制御ガスが水素であることを特徴とする。また、
請求項１５記載の表面処理装置は、請求項１３または１
４記載の表面処理装置において、前記繰り出しリールの
繰り出し速度で、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被
処理物間の空間における蒸着制御ガス／酸素モル比を調
整自在としたことを特徴とする。また、本発明の蒸着材
料は、請求項１６記載の通り、水素含有量が０．５ｐｐ
ｍ〜１１ｐｐｍでワイヤー状であることを特徴とする。
また、本発明の被処理物は、請求項１７記載の通り、請
求項１乃至１１のいずれかに記載の表面処理方法によっ
て、アルミニウム、チタニウム、亜鉛、錫、鉛、ビスマ
スから選ばれる少なくとも一成分の蒸着被膜が形成され
ていることを特徴とする。また、請求項１８記載の被処
理物は、請求項１７記載の被処理物において、前記蒸着
被膜が水素を含有することを特徴とする。また、請求項
１９記載の被処理物は、請求項１８記載の被処理物にお
いて、前記蒸着被膜中の水素含有量が１ｐｐｍ〜２０ｐ
ｐｍであることを特徴とする。また、請求項２０記載の
被処理物は、請求項１７乃至１９のいずれかに記載の被
処理物において、前記被処理物が希土類系永久磁石であ
ることを特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の表面処理方法において表
面処理の対象となる被処理物は、特に限定されるもので
はなく、蒸着処理によって蒸着被膜の形成が可能なもの
であればどのようなものでも構わない。しかしながら、
本発明の表面処理方法によれば、蒸着処理を行う前工程
である真空排気に長時間を要することがないため、連続
的に大量処理することが要求される製品、例えば、電子
部品材料などに用いられる希土類系永久磁石の表面処理
に特に好適である。
【０００７】本発明の表面処理方法は、例えば、真空蒸
着法のように蒸着材料を単に加熱によって蒸発させて被
膜を形成する方法にも適用することができるし、例え
ば、イオンプレーティング法のように蒸発したものをイ
オン化させて被膜を形成する方法にも適用することがで
きる。
【０００８】本発明の表面処理方法において使用される
易酸化性蒸着材料は、特に限定されるものではなく、蒸
着被膜の材料となるものであればどのようなものでも構
わない。しかしながら、本発明の表面処理方法は、微量
の酸素の存在でも直ちに酸化してしまうアルミニウムな
どを使用した蒸着処理に好適である。アルミニウム以外
の材料としては、チタニウム、亜鉛、錫、鉛、ビスマス
などが挙げられる。
【０００９】本発明の意図するところは、処理室内の少
なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に存在する酸素に
よる悪影響をいかに抑制して、溶融蒸発部から蒸発した
易酸化性蒸着材料を被処理物に到達させ、また、溶融蒸
発部内の蒸着材料溶湯の表面に酸化物被膜を形成させず
に、優れた膜質の蒸着被膜を被処理物表面に形成するか
ということにある。従って、酸素の存在による悪影響を
抑制するためには、蒸着制御ガスの供給は、処理室内の
溶融蒸発部と被処理物の近傍、即ち、溶融蒸発部と被処
理物間の空間に行われればよい。しかしながら、蒸着制
御ガスの供給は、上記領域のみに行わなければならない
ということではなく、室内全体に供給してもよいことは
いうまでもない。
【００１０】本発明における蒸着制御ガスとは、当該ガ
スを供給することで、当該ガスを供給しない場合と比較
して蒸着結果を改善する作用を有するガスを意味し、具
体的には、酸素との反応性を有する還元性ガスを意味す
る。還元性ガスには、一酸化炭素や水素などが挙げられ
るが、取り扱いの容易性などの観点からは水素を使用す
ることが望ましい。
【００１１】処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理
物の近傍に蒸着制御ガスを供給する方法としては、蒸着
制御ガス、例えば、水素を含有するワイヤー状蒸着材料
を溶融蒸発部に供給しながら蒸発させることによって、
前記蒸着材料から蒸着制御ガスを供給する方法が挙げら
れる。この方法によれば、所望する領域に効率よく蒸着
制御ガスを供給することができる。
【００１２】以下、上記の表面処理方法を実施するため
の表面処理装置について、図面に基づき説明する。な
お、以下の説明は、易酸化性蒸着材料として水素を含有
するアルミニウムワイヤーを使用し、被処理物として希
土類系永久磁石の表面処理を行う場合についてのもので
ある。図１および図２は、好適な表面処理装置の一実施
の形態を示すものである。図略の真空排気系に連なる処
理室（真空槽）１内の下部には、蒸着材料であるアルミ
ニウム１０を蒸発させる溶融蒸発部であるハース（蒸着
材料を溶解するための容器）２が、支持テーブル３上に
立設されたハース支持台４上に複数個配設されている。
また、処理室１内の上方には網状部材で形成された籠状
の被処理物保持部５が回転軸６を中心に回転自在に２個
並設されている。そして、この装置によれば、前記被処
理物保持部５内に被処理物として希土類系永久磁石３０
が収容され、この被処理物保持部５、５を回転させなが
ら、図略の加熱手段によって所定温度に加熱された前記
ハース２からアルミニウム１０を蒸発させ、被処理物保
持部５、５内の希土類系永久磁石３０の表面にアルミニ
ウム蒸着被膜を形成するようにしている。
【００１３】以上の構成は、従来の表面処理装置と特に
その構成を異にするものではないが、本発明の装置で
は、更に、支持テーブル３の下方内部に、蒸着材料であ
る水素を所定量含有するアルミニウムワイヤー１１が繰
り出しリール２０に回巻保持されている。前記繰り出し
リール２０への前記アルミニウムワイヤー１１の回巻方
向を水平方向としているのは、ワイヤーの送り方向、即
ち、鉛直方向と直交させることによって、送り出される
ワイヤーがねじれたりぶれたりすることを防止するため
である。前記アルミニウムワイヤー１１の先端は、ハー
ス２の内面に向かって臨ませた耐熱性の保護チューブ２
１によってハース２の上方に案内されている。該保護チ
ューブ２１の一部には切り欠き窓２２が設けられてお
り、この切り欠き窓２２に対応して設けられた一対の繰
り出しギヤー２３、２３によって、前記アルミニウムワ
イヤー１１をハース２内に所定の繰り出し速度で送り出
し自在としている。
【００１４】かくして、前記ハース２を所定温度に加熱
して、前記繰り出しリール２０から前記アルミニウムワ
イヤー１１をハース２に向かって連続的に送り出すこと
によって、ハース２内に送り込まれたアルミニウムワイ
ヤー１１がハース２内で溶融した際に、アルミニウムワ
イヤー１１から所定量の水素が放出され、処理室１内に
おける少なくとも溶融蒸発部であるハース２と被処理物
である希土類系永久磁石３０の近傍、即ち、ハースと希
土類系永久磁石間の空間において水素雰囲気を生成させ
た状態で前記蒸着材料であるアルミニウムを蒸発させる
ことが可能となるものである。
【００１５】この時、アルミニウムワイヤーに含有され
る水素量および／またはアルミニウムワイヤーの繰り出
し速度を調整することで、酸素の存在による悪影響を抑
制するための必要量の水素を供給することができ、前記
処理室１内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間
における水素／酸素モル比を所望の値に調節することが
可能となる。
【００１６】例えば、従来の方法では処理室内の酸素の
存在量が多すぎて蒸着処理が困難であるような１０−３
Ｐａ以上の酸素分圧下であっても、上記モル比が望まし
くは１０〜２５０の範囲となるように、より望ましくは
２０〜１５０の範囲となるように水素を供給した状態で
アルミニウムの蒸発を行えば、安定した蒸着が可能とな
り、優れた膜質のアルミニウム被膜を被処理物表面に形
成することができる。なお、前記モル比が１０未満であ
ると、水素の存在量が少なすぎて溶融蒸発部内の蒸着材
料溶湯の表面に酸化物被膜が形成されて蒸着ができなく
なるおそれがあり、また、２５０を超えると、溶融蒸発
部内の蒸着材料溶湯の表面において、アルミニウムワイ
ヤーに含まれていた水素がボイリングして溶融した蒸着
材料が飛び散る現象（スプラッシュ）が生じたり、処理
室内の全圧の上昇に起因して真空度が低下し、蒸着材料
が蒸発しにくくなったり、被処理物が希土類系永久磁石
の場合は、磁石が水素吸蔵を起こして磁気特性が劣化す
るおそれがある。
【００１７】本発明者らの検討によれば、処理室内の少
なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空間を上記の望まし
い水素／酸素モル比とするには、ワイヤー径が１ｍｍ〜
２ｍｍで水素含有量が０．５ｐｐｍ〜１１ｐｐｍのアル
ミニウムワイヤーを使用し、１ｇ／ｍｉｎ〜１０ｇ／ｍ
ｉｎの繰り出し速度で溶融蒸発部内にこのアルミニウム
ワイヤーを送り込むことが望ましい。
【００１８】以上の条件において、蒸着処理を行うこと
によって、蒸着被膜中の水素含有量が１ｐｐｍ〜２０ｐ
ｐｍ、とりわけ、２ｐｐｍ〜１５ｐｐｍの優れた膜質の
被膜を被処理物表面に形成することができる。
【００１９】処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理
物の近傍に蒸着制御ガスを供給する方法としては、上記
のように、蒸着制御ガスを含有するワイヤー状蒸着材料
を溶融蒸発部に供給しながら蒸発させることによって、
前記蒸着材料から蒸着制御ガスを発生させて供給する方
法の他、蒸着制御ガスを処理室外部から導入することに
よって供給する方法がある。両者は各々単独で採用して
もよいし、組み合わせて採用してもよい。
【００２０】蒸着制御ガスを外部から導入することによ
って供給する方法を採用する場合、処理室内の少なくと
も溶融蒸発部と被処理物間の空間にのみ蒸着制御ガスが
供給されるようにしてもよいし、室内全体に蒸着制御ガ
スが供給されるようにしてもよい。この方法を単独で採
用した場合でも、例えば、従来の方法では処理室内の酸
素の存在量が多すぎて蒸着処理が困難であるような１０
−３Ｐａ以上の酸素分圧下であっても、処理室内の少な
くとも溶融蒸発部と被処理物間の空間における水素／酸
素モル比が望ましくは１０〜２５０の範囲となるよう
に、より望ましくは２０〜１５０の範囲となるように水
素を供給した状態でアルミニウムの蒸発を行えば、安定
した蒸着が可能となり、優れた膜質のアルミニウム被膜
を被処理物表面に形成することができる。
【００２１】蒸着制御ガスを外部から導入することによ
って供給する方法を単独で採用する場合、処理室内への
蒸着制御ガスの導入量でその供給量を簡易に制御するこ
とができる点において都合がよい。従って、この場合に
おいては、蒸着材料に含まれる蒸着制御ガス量は極力少
ないことが望ましい。また、含まれる蒸着制御ガス量が
極力少ない蒸着材料を使用すれば、予め、溶融蒸発部内
に供給された蒸着材料を加熱して蒸発させる場合であっ
ても、スプラッシュが生じるおそれも少なく、種々の加
熱方式の蒸着処理方法を採用することができる点におい
て都合がよい。好適な蒸着材料としては、水素含有量が
０．５ｐｐｍ以下の蒸着材料が挙げられる。
【００２２】上記のように、本発明は、従来の方法では
処理室内の酸素の存在量が多すぎて蒸着処理が困難であ
るような条件下での蒸着処理に特に効果を発揮するが、
本発明の有用性は、酸素の存在量が少ない高い真空度の
下での蒸着処理においても効果を発揮する。即ち、例え
ば、電子ビーム加熱法による蒸着（ＥＢ蒸着）処理は、
通常、１０−３Ｐａ未満の高い真空度の下で行われる
が、このような条件下であっても、蒸着時間が長時間に
及んだ場合には、溶融蒸発部内の蒸着材料溶湯の表面で
の酸化は進行するので、安定な蒸着が困難となる。本発
明の表面処理方法によれば、このような問題を、酸素の
存在量を勘案した上で、所望量の蒸着制御ガスを供給す
ることによって解決することができる点において効果を
発揮する。なお、ＥＢ蒸着を行う場合は、蒸着材料に蒸
着制御ガスが含まれていると、スプラッシュが生じるお
それがあるので、安定した蒸着のためには、蒸着材料に
含まれる蒸着制御ガス量は極力少ないことが望ましく、
蒸着制御ガスは処理室外部から供給することが望まし
い。
【００２３】被処理物としてＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石な
どの希土類系永久磁石を選択し、この表面にアルミニウ
ムなどの蒸着被膜を形成すれば、希土類系永久磁石を優
れた膜質の被膜で密着被覆することができる。従って、
耐食性に優れた希土類永久磁石を簡易かつ確実に製造す
ることができる。また、本方法によって得られる、例え
ば、アルミニウム被膜を有する希土類永久磁石には、更
なる耐食性の向上のため、クロム酸処理やショットピー
ニング等の公知の処理を施すことができる。
【００２４】
【実施例】次に、具体的な実施例を説明する。 実施例Ａ（実施例１〜６と比較例１、２） 公知の鋳造インゴットを粉砕し、微粉砕後に成形、焼
結、熱処理、表面加工を行い、１７Ｎｄ−１Ｐｒ−７５
Ｆｅ−７Ｂ組成の２３ｍｍ×１０ｍｍ×６ｍｍ寸法の磁
石体試験片を得た。図１および図２に示した表面処理装
置（内容積２．２ｍ３）の処理室（真空槽）内に前記磁
石体試験片を挿入した後、真空槽内の全圧が１．０×１
０−１Ｐａになるまで真空排気を行った。この時の四重
極質量分析計（ＱＩＧ−０６６：アネルバ社製）で測定
した真空槽の酸素分圧と、真空槽内の溶融蒸発部と被処
理物間の空間体積を０．１ｍ３、蒸着時の溶融蒸発部と
被処理物間の空間の平均温度を２００℃として算出し
た、この空間に存在する酸素分子数を表１に示す。な
お、酸素分圧は、真空槽外壁と接続した差動排気システ
ムによって全圧を１．０×１０−４Ｐａに減圧した場所
に四重極質量分析計を設置し、後述する、磁石体試験片
表面の清浄化を目的とする表面スパッタ時の四重極質量
分析計での全圧測定値を１．０Ｐａにするように換算し
て求めた。その後、真空槽内にＡｒガスを全圧が１．０
Ｐａになるように導入し、表面スパッタによって磁石体
試験片表面を清浄化した後、電圧１．５ｋＶを印加し、
アルミニウムワイヤーを加熱して溶融し、蒸発させ、イ
オン化させてイオンプレーティングを行い、磁石体試験
片に２０分で２０μｍのアルミニウム被膜を形成する試
験を行った。なお、アルミニウムワイヤーは、表１中に
実施例１〜６と比較例１、２として記載の通り、水素含
有量の異なるものを使用し、蒸着の可否の検討を行った
（いずれのワイヤーもワイヤー径は１．６ｍｍ）。アル
ミニウムワイヤーは、繰り出し速度を３ｇ／ｍｉｎと
し、真空槽内の通電加熱した６個のハースのそれぞれに
連続的に送り込まれるようにした。本実施例１〜６と比
較例１、２について、アルミニウムワイヤー中の水素含
有量から算出した１分間あたりの発生水素量、上記の酸
素分子数とこの１分間あたりの発生水素量から算出し
た、溶融蒸発部と被処理物間の空間における１分間あた
りに発生する水素／酸素モル比の値を表１に示す。ま
た、上記の酸素分圧と同じ方法で換算して求めた蒸着時
の水素分圧を表１に示す。試験の結果と、実施例１〜６
で得られたＡｌ被膜中の水素量をグロー放電発光分析
（ＧＤＳ）（ＧＤＬＳ−５０１７：島津製作所社製）で
測定した測定値を表１に示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】表１から明らかなように、実施例１〜６で
は磁石体試験片に対してアルミニウムを問題なく蒸着さ
せることができた。特に、実施例２〜４では良好な蒸着
ができた。これに対し、比較例１では残留酸素に対する
発生水素量が十分でなかったため、アルミニウム溶湯表
面に酸化被膜が形成されてしまい、蒸着ができなかっ
た。また、比較例２では、発生水素量が多すぎたため、
アルミニウム溶湯のボイリングが生じ、安定な蒸着がで
きず、しかも、磁石体試験片の水素吸蔵による磁気特性
の劣化が見られた。
【００２７】次に、実施例２の条件において得られたア
ルミニウム被膜を有する磁石体試験片について、温度８
０℃×相対湿度９０％の高温高湿下での５００時間の耐
食性試験を行ったところ、試験前の（ＢＨ）ｍａｘが２
４３ｋＪ／ｍ３、試験後の（ＢＨ）ｍａｘが２３３ｋＪ
／ｍ３であり、磁気特性の劣化率は５％以下で、磁石体
試験片からの発錆などは観察されず、優れた耐食性を有
していることがわかった。
【００２８】実施例Ｂ（実施例７〜９と比較例３〜５） 実施例Ａと同様の方法で得られた磁石体試験片を用い
て、１時間で３μｍのアルミニウム被膜を形成する試験
を行った。図３に示した、ハースが１個配設された表面
処理装置（内容積０．６ｍ３）の処理室（真空槽）内に
前記磁石体試験片を挿入した後、真空槽内の全圧が３．
０×１０−５Ｐａになるまで真空排気を行った。この時
の真空槽外壁に直接設置した四重極質量分析計（同上）
で測定した真空槽内の酸素分圧を表２に示す。その後、
真空槽内にＡｒガスを全圧が５．０×１０−４Ｐａにな
るように導入し、表面スパッタによって磁石体試験片表
面を清浄化した後、全圧が３．０×１０−４Ｐａになる
ようにＡｒガスの導入量を調整した。また、この際にＡ
ｒガスと同時に水素ガスを表２の実施例７〜９と比較例
３、４に示す分圧になるように導入した。その後、電圧
１ｋＶを印加し、電子ビーム加熱法によって水素含有量
が０．５ｐｐｍのアルミニウムインゴットに電子ビーム
を照射、加熱してこれを溶融し、蒸発させ、イオン化さ
せてイオンプレーティングを行った。また、比較例５と
して、水素含有量が１．２ｐｐｍのアルミニウムインゴ
ットを使用し、実施例８と同一条件による試験を行っ
た。結果を表２に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】表２から明らかなように、実施例７〜９で
は３．０×１０−６Ｐａ以上の水素ガスを供給すること
によって、長時間の蒸着においても安定した蒸着ができ
たのに対し、比較例３、４では長時間の蒸着によって溶
湯表面にアルミニウムの酸化被膜が形成されてしまい、
安定した蒸着ができなかった。また、比較例５では、ア
ルミニウムインゴットに含まれる水素量が多すぎたた
め、アルミニウム溶湯のボイリングが生じ、安定な蒸着
ができなかった。
【００３１】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、処
理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に水素
などの蒸着制御ガスを供給した状態で易酸化性蒸着材料
を蒸発させることによって、高い真空度を得るために長
時間をかけたり、特別の装置を使用したりしなくても、
安定に蒸着材料からなる蒸着被膜を所望の被処理物表面
に形成することができる。そして、本発明の表面処理方
法を採用すれば、極めて酸化しやすい希土類系永久磁石
に対し、それが有する高い磁気特性を損なうことなく耐
食性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の表面処理方法を実施するための表面
処理装置の一実施の形態の模式的正面図
【図２】 同要部の模式的拡大斜視図
【図３】 従来から使用されている表面処理装置の模式
的正面図
【符号の説明】
１ 処理室 ２ ハース ３ 支持テーブル ４ ハース支持台 ５ 被処理物保持部 ６ 回転軸 １０ アルミニウム １１ アルミニウムワイヤー ２０ 繰り出しリール ２１ 保護チューブ ２２ 切り欠き窓 ２３ 繰り出しギヤー ３０ 希土類系永久磁石
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年１０月１９日（２０００．１０．
１９）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】本発明は、上記の知見に基づきなされたも
のであり、本発明の表面処理方法は、請求項１記載の通
り、易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表
面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なく
とも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給
した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とす
る。また、請求項２記載の表面処理方法は、請求項１記
載の表面処理方法において、蒸着制御ガスを含有するワ
イヤー状蒸着材料を溶融蒸発部に供給しながら蒸発させ
ることによって、前記蒸着材料から蒸着制御ガスを供給
することを特徴とする。また、請求項３記載の表面処理
方法は、請求項２記載の表面処理方法において、前記蒸
着制御ガスが水素であることを特徴とする。また、請求
項４記載の表面処理方法は、請求項３記載の表面処理方
法において、蒸着材料の蒸発を１０−３Ｐａ以上の酸素
分圧下で行うことを特徴とする。また、請求項５記載の
表面処理方法は、請求項４記載の表面処理方法におい
て、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空
間における水素／酸素モル比を１０〜２５０の範囲とす
ることを特徴とする。また、請求項６記載の表面処理方
法は、請求項３乃至５のいずれかに記載の表面処理方法
において、前記蒸着材料が水素含有量が０．５ｐｐｍ〜
１１ｐｐｍのアルミニウムワイヤーであることを特徴と
する。また、請求項７記載の表面処理方法は、請求項１
記載の表面処理方法において、蒸着制御ガスを処理室外
部から導入することによって供給することを特徴とす
る。また、請求項８記載の表面処理方法は、請求項７記
載の表面処理方法において、前記蒸着制御ガスが水素で
あることを特徴とする。また、請求項９記載の表面処理
方法は、請求項８記載の表面処理方法において、蒸着材
料の蒸発を１０−３Ｐａ以上の酸素分圧下で行うことを
特徴とする。また、請求項１０記載の表面処理方法は、
請求項９記載の表面処理方法において、処理室内の少な
くとも溶融蒸発部と被処理物間の空間における水素／酸
素モル比を１０〜２５０の範囲とすることを特徴とす
る。また、請求項１１記載の表面処理方法は、請求項８
記載の表面処理方法において、前記蒸着材料が水素含有
量が０．５ｐｐｍ以下のアルミニウムであることを特徴
とする。また、本発明の表面処理装置は、請求項１２記
載の通り、真空排気系に連なる処理室内に、蒸着材料の
溶融蒸発部と、この蒸着材料が蒸着される被処理物の保
持部を備えた表面処理装置であって、蒸着制御ガスを含
有するワイヤー状蒸着材料を前記溶融蒸発部に供給する
ための蒸着材料供給手段を備えることを特徴とする。ま
た、請求項１３記載の表面処理装置は、請求項１２記載
の表面処理装置において、前記蒸着材料供給手段は、前
記ワイヤー状蒸着材料の繰り出しリールからなることを
特徴とする。また、請求項１４記載の表面処理装置は、
請求項１２または１３記載の表面処理装置において、前
記蒸着制御ガスが水素であることを特徴とする。また、
請求項１５記載の表面処理装置は、請求項１３または１
４記載の表面処理装置において、前記繰り出しリールの
繰り出し速度で、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被
処理物間の空間における蒸着制御ガス／酸素モル比を調
整自在としたことを特徴とする。また、本発明の蒸着材
料は、請求項１６記載の通り、水素含有量が０．５ｐｐ
ｍ〜１１ｐｐｍでワイヤー状であることを特徴とする。
また、本発明の被処理物は、請求項１７記載の通り、請
求項１乃至１１のいずれかに記載の表面処理方法によっ
て、アルミニウム、チタニウム、亜鉛、錫、鉛、ビスマ
スから選ばれる少なくとも一成分の蒸着被膜が形成され
ていることを特徴とする。また、請求項１８記載の被処
理物は、請求項１７記載の被処理物において、前記蒸着
被膜が水素を含有することを特徴とする。また、請求項
１９記載の被処理物は、請求項１８記載の被処理物にお
いて、前記蒸着被膜中の水素含有量が１ｐｐｍ〜２０ｐ
ｐｍであることを特徴とする。また、請求項２０記載の
被処理物は、請求項１７乃至１９のいずれかに記載の被
処理物において、前記被処理物が希土類系永久磁石であ
ることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２６】表１から明らかなように、実施例１〜６で
は磁石体試験片に対してアルミニウムを問題なく蒸着さ
せることができた。特に、実施例２〜５では良好な蒸着
ができた。これに対し、比較例１では残留酸素に対する
発生水素量が十分でなかったため、アルミニウム溶湯表
面に酸化被膜が形成されてしまい、蒸着ができなかっ
た。また、比較例２では、発生水素量が多すぎたため、
アルミニウム溶湯のボイリングが生じ、安定な蒸着がで
きず、しかも、磁石体試験片の水素吸蔵による磁気特性
の劣化が見られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栃下 佳己 兵庫県養父郡養父町大薮1062番地 近畿住 特電子株式会社内 (72)発明者 木澤 光央 兵庫県養父郡養父町大薮1062番地 近畿住 特電子株式会社内 Ｆターム(参考） 4K029 AA02 BA02 BA03 BA15 BA17 BA18 BA32 BC01 BD00 CA01 CA03 DA06 DB03 DB09 EA03 EA05 JA02

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被
    処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室
    内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御
    ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを
    特徴とする表面処理方法。
  2. 【請求項２】 蒸着制御ガスを含有するワイヤー状蒸着
    材料を溶融蒸発部に供給しながら蒸発させることによっ
    て、前記蒸着材料から蒸着制御ガスを供給することを特
    徴とする請求項１記載の表面処理方法。
  3. 【請求項３】 前記蒸着制御ガスが水素であることを特
    徴とする請求項２記載の表面処理方法。
  4. 【請求項４】 蒸着材料の蒸発を１０−３Ｐａ以上の酸
    素分圧下で行うことを特徴とする請求項３記載の表面処
    理方法。
  5. 【請求項５】 処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処
    理物間の空間における水素／酸素モル比を１０〜２５０
    の範囲とすることを特徴とする請求項４記載の表面処理
    方法。
  6. 【請求項６】 前記蒸着材料が水素含有量が０．５ｐｐ
    ｍ〜１１ｐｐｍのアルミニウムワイヤーであることを特
    徴とする請求項３乃至５のいずれかに記載の表面処理方
    法。
  7. 【請求項７】 蒸着制御ガスを処理室外部から導入する
    ことによって供給することを特徴とする請求項１記載の
    表面処理方法。
  8. 【請求項８】 前記蒸着制御ガスが水素であることを特
    徴とする請求項７記載の表面処理方法。
  9. 【請求項９】 蒸着材料の蒸発を１０−３Ｐａ以上の酸
    素分圧下で行うことを特徴とする請求項８記載の表面処
    理方法。
  10. 【請求項１０】 処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被
    処理物間の空間における水素／酸素モル比を１０〜２５
    ０の範囲とすることを特徴とする請求項９記載の表面処
    理方法。
  11. 【請求項１１】 前記蒸着材料が水素含有量が０．５ｐ
    ｐｍ以下のアルミニウムであることを特徴とする請求項
    ８記載の表面処理方法。
  12. 【請求項１２】 真空排気系に連なる処理室内に、蒸着
    材料の溶融蒸発部と、この蒸着材料が蒸着される被処理
    物の保持部を備えた表面処理装置であって、蒸着制御ガ
    スを含有するワイヤー状蒸着材料を前記溶融蒸発部に供
    給するための蒸着材料供給手段を備えることを特徴とす
    る表面処理装置。
  13. 【請求項１３】 前記蒸着材料供給手段は、前記ワイヤ
    ー状蒸着材料の繰り出しリールからなることを特徴とす
    る請求項１２記載の表面処理装置。
  14. 【請求項１４】 前記蒸着制御ガスが水素であることを
    特徴とする請求項１２または１３記載の表面処理装置。
  15. 【請求項１５】 前記繰り出しリールの繰り出し速度
    で、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物間の空
    間における蒸着制御ガス／酸素モル比を調整自在とした
    ことを特徴とする請求項１３または１４記載の表面処理
    装置。
  16. 【請求項１６】 水素含有量が０．５ｐｐｍ〜１１ｐｐ
    ｍでワイヤー状であることを特徴とする蒸着材料。
  17. 【請求項１７】 請求項１乃至１１のいずれかに記載の
    表面処理方法によって、アルミニウム、チタニウム、亜
    鉛、錫、鉛、ビスマスから選ばれる少なくとも一成分の
    蒸着被膜が形成されていることを特徴とする被処理物。
  18. 【請求項１８】 前記蒸着被膜が水素を含有することを
    特徴とする請求項１７記載の被処理物。
  19. 【請求項１９】 前記蒸着被膜中の水素含有量が１ｐｐ
    ｍ〜２０ｐｐｍであることを特徴とする請求項１８記載
    の被処理物。
  20. 【請求項２０】 前記被処理物が希土類系永久磁石であ
    ることを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれかに記
    載の被処理物。
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DE (1) DE60043871D1 (ja)
MY (1) MY121472A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002363734A (ja) * 2001-06-07 2002-12-18 Sumitomo Special Metals Co Ltd 金属蒸着被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法
JP2003027217A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Sumitomo Special Metals Co Ltd 蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法
JP2006183098A (ja) * 2004-12-27 2006-07-13 Neomax Co Ltd 蒸着被膜形成方法
WO2007114336A1 (ja) 2006-03-31 2007-10-11 Hitachi Metals, Ltd. 希土類系永久磁石の製造方法
JP2011157572A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Hitachi Metals Ltd 蒸着形成される金属被膜の緻密性を向上させる方法
JP2014189847A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Hitachi Metals Ltd 抵抗加熱方式によってＡｌの蒸着被膜を形成する方法、および溶融蒸発部として用いる蒸着用ボート

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6861089B2 (en) * 2000-07-10 2005-03-01 Neomax Co. Ltd. Method of inhibiting production of projections in metal deposited-film
EP1172177B1 (en) 2000-07-13 2004-10-20 Neomax Co., Ltd. Dry surface treating apparatus and dry surface treating method using the same apparatus
WO2005083725A1 (ja) * 2004-02-26 2005-09-09 Sumitomo Electric Industries, Ltd. 軟磁性材料ならびに圧粉磁心およびその製造方法
WO2008032668A1 (en) * 2006-09-11 2008-03-20 Ulvac, Inc. Vacuum evaporation processing equipment
JP2009149916A (ja) * 2006-09-14 2009-07-09 Ulvac Japan Ltd 真空蒸気処理装置
US8163106B2 (en) * 2007-05-09 2012-04-24 Hitachi Metals, Ltd. R-Fe-B based sintered magnet having on the surface thereof vapor deposited film of aluminum or alloy thereof, and method for producing the same
JP2009174044A (ja) * 2007-12-27 2009-08-06 Canon Anelva Corp 蒸気供給装置を含む基板処理装置
WO2010124532A1 (zh) * 2009-04-30 2010-11-04 清华大学 陶瓷表面金属化的方法及陶瓷与铝的连接方法
CN102864432A (zh) * 2012-09-10 2013-01-09 顾建 一种用于钕铁硼铁氧体防腐的处理方法
CN102851646A (zh) * 2012-09-10 2013-01-02 虞雪君 钕铁硼铁氧体表面防腐的处理方法
CN102864431A (zh) * 2012-09-10 2013-01-09 顾建 一种用于钕铁硼铁氧体防腐方法
KR101381676B1 (ko) * 2012-10-25 2014-04-17 주식회사 선익시스템 열증발 증착 장비의 알루미늄 와이어 주입 장치
CN104480440A (zh) 2014-11-05 2015-04-01 烟台首钢磁性材料股份有限公司 小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备
CN104611698B (zh) * 2015-01-17 2017-11-24 浙江和也健康科技有限公司 一种柔性磁条表面处理工艺
CN104651779A (zh) 2015-02-11 2015-05-27 烟台首钢磁性材料股份有限公司 一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备及镀膜工艺
US10495146B2 (en) * 2016-01-19 2019-12-03 National Institute For Materials Science ZnO coating method for rolling body, rolling body with ZnO coating, and bearing incorporating same
CN107653440A (zh) * 2017-09-26 2018-02-02 湖北汽车工业学院 一种烧结钕铁硼永磁体表面制备铝或铝锡合金镀层的方法
CN111411325A (zh) * 2019-01-04 2020-07-14 董元 钐铁氮或钕铁氮各向异性粘结磁粉及其制备方法

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3097113A (en) * 1959-11-09 1963-07-09 Stokes F J Corp Vacuum coating apparatus
US3750623A (en) * 1972-02-11 1973-08-07 Mc Donnell Douglas Corp Glow discharge coating apparatus
US3926147A (en) * 1974-11-15 1975-12-16 Mc Donnell Douglas Corp Glow discharge-tumbling vapor deposition apparatus
US4116161A (en) * 1976-11-12 1978-09-26 Mcdonnell Douglas Corporation Dual tumbling barrel plating apparatus
JPS5487683A (en) * 1977-12-26 1979-07-12 Ulvac Corp Metal film depositing apparatus
US4233937A (en) * 1978-07-20 1980-11-18 Mcdonnell Douglas Corporation Vapor deposition coating machine
JPS56137614A (en) * 1980-03-31 1981-10-27 Futaba Corp Manufacture of amorphous silicon coat
JPS5957416A (ja) * 1982-09-27 1984-04-03 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 化合物半導体層の形成方法
GB8324779D0 (en) * 1982-09-29 1983-10-19 Nat Res Dev Depositing film onto substrate
JPS6092466A (ja) 1983-10-25 1985-05-24 Sumitomo Electric Ind Ltd アルミニウムの蒸着方法
JPS60243843A (ja) * 1984-05-18 1985-12-03 Fujitsu Ltd 光熱磁気記録媒体の製造方法
JPS6154023A (ja) * 1984-08-24 1986-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体
CN1007847B (zh) * 1984-12-24 1990-05-02 住友特殊金属株式会社 制造具有改进耐蚀性磁铁的方法
JPS61166115A (ja) * 1985-01-18 1986-07-26 Sumitomo Special Metals Co Ltd 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
JPS61185910A (ja) * 1985-02-13 1986-08-19 Sumitomo Special Metals Co Ltd 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
JPS639919A (ja) * 1986-07-01 1988-01-16 Seiko Instr & Electronics Ltd 磁石の製造方法
JPS63110706A (ja) * 1986-10-29 1988-05-16 Hitachi Metals Ltd 永久磁石およびその製造方法
JPS63190165A (ja) * 1987-02-03 1988-08-05 Seiko Epson Corp 情報記録円板の蒸着装置
CN1015548B (zh) * 1987-07-01 1992-02-19 王�锋 高温高压钻井液助剂的制备方法
KR900000758B1 (ko) * 1987-12-03 1990-02-15 한국기계 연구소 삼극관식 이온 플레이팅장치
US5154978A (en) * 1989-03-22 1992-10-13 Tdk Corporation Highly corrosion-resistant rare-earth-iron magnets
JPH04254312A (ja) * 1991-02-06 1992-09-09 Seiko Electronic Components Ltd 希土類磁石の製造方法
JPH06158285A (ja) 1992-11-27 1994-06-07 Kobe Steel Ltd Ａｌ系蒸着めっき材の製造方法
JP3129593B2 (ja) * 1994-01-12 2001-01-31 川崎定徳株式会社 希土類・鉄・ボロン系燒結磁石又はボンド磁石の製造法
JPH07272913A (ja) * 1994-03-30 1995-10-20 Kawasaki Teitoku Kk 永久磁石原料、その製造法及び永久磁石
FR2721622B1 (fr) * 1994-06-24 1997-11-21 Inst Francais Du Petrole Méthode de passivation de pièces métalliques en super-alliage à base de nickel et de fer.
US6080498A (en) * 1995-12-25 2000-06-27 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Permanent magnet for ultra-high vacuum and production process thereof
JP3003608B2 (ja) * 1997-01-23 2000-01-31 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法
EP0984460B1 (en) * 1998-08-31 2004-03-17 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Fe-B-R based permanent magnet having corrosion-resistant film, and process for producing the same
JP3192642B2 (ja) * 1998-10-02 2001-07-30 住友特殊金属株式会社 表面処理用支持部材、表面処理用ホルダー、並びに表面処理方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002363734A (ja) * 2001-06-07 2002-12-18 Sumitomo Special Metals Co Ltd 金属蒸着被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法
JP4691833B2 (ja) * 2001-06-07 2011-06-01 日立金属株式会社 金属蒸着被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法
JP2003027217A (ja) * 2001-07-13 2003-01-29 Sumitomo Special Metals Co Ltd 蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法
JP2006183098A (ja) * 2004-12-27 2006-07-13 Neomax Co Ltd 蒸着被膜形成方法
WO2007114336A1 (ja) 2006-03-31 2007-10-11 Hitachi Metals, Ltd. 希土類系永久磁石の製造方法
JP2011157572A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Hitachi Metals Ltd 蒸着形成される金属被膜の緻密性を向上させる方法
JP2014189847A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Hitachi Metals Ltd 抵抗加熱方式によってＡｌの蒸着被膜を形成する方法、および溶融蒸発部として用いる蒸着用ボート

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Publication number Publication date
JP3801418B2 (ja) 2006-07-26
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