JP2023507593A - 原材料から球状化粉末を製造する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2019年12月19日に出願された米国仮特許出願第62/950778号明細書の35 U.S.C.セクション119(c)に基づく利益を主張し、その開示全体は、参照により本明細書に援用される。
施態様では、溶融及び球状化により平均粒径が減少する。いくつかの実施態様では、球状化粉末粒子の粒径分布が、ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の粒径分布と比較して、10%~95%の少なくとも50%少ない。
を製造する方法の実施形態であり、ここでxは粒径分布の低端を表し、yは粒径分布の高端を表し、該方法は以下のことを包含する:金属スクラップ又は使用済み金属部品を粉砕又は破砕することによって得られる金属粒子を、マイクロ波プラズマトーチに導入すること、ここで、この導入金属粒子の大部分は約4/3π(x/2)3~約4/3π(y/2)3の体積を有し、かつこの導入金属粒子は2:1~200:1の集合平均又は中央アスペクト比を有する;そして、マイクロ波プラズマトーチ内で金属粒子を溶解及び球状化させて、約x~約yの所望する粒径分布を持つ球状化粉末を形成する。
とも2つの領域を形成することができて、しかも各領域は異なる微細構造を有する。いくつかの実施形態では、少なくとも2つの領域には、コア部分及びスキン部分が含まれ得、スキン部分を、供給材料の微細構造とは異なる微細構造を持つものとすることができる。いくつかの実施形態では、供給材料を1.0μm以上300μm以下の粒径を持つものとすることができる。いくつかの実施形態では、供給材料をTi6Al-4Vを含むものとすることができる。
本明細書で開示されるのは、金属/合金スクラップ及び/又は金属/合金からなる使用済み部品を再利用する方法、装置及び組立品の実施形態(例えば、墓場からゆりかごへ又はスクラップからプレミアムへ)である。特に、本開示の実施形態では、旋削物などの金属スクラップ又は使用済み金属部品を使って、(水素化又は極低温の使用などによる)脆化させずに、マイクロ波プラズマ処理用の原料を作成することができる。具体的には、スクラップ又は使用済み金属部品を-いくつかの実施形態では粉砕されなくてもよいが-所望の体積の原料粒子又は旋削物粒子に粉砕することができる。そして、原料又は旋削物を、マイクロ波プラズマ処理用の原料として使用することで、最終的には球状化粉末を形成することができ、さらに、積層造形プロセスなどの異なるプロセスで使用することも可能となる。しかし、スクラップ材は、マイクロ波プラズマ処理向けに適した原料として加工するのが極めて困難である。
。
ズのものから、直接原料として使用できる小さな粒子/旋削物を分離する。旋削物をさらに所望の大きさにする方法として、粉砕加工が例示される。この粉砕処理後の生成物を、その後、異なるサイズに再び篩い分けて、球状化向けの供給原料として使用できるように、所望のサイズの生成物を選択する。使用する材料は、金属及び金属合金原料を使用して部品を製造する任意の除去法からのものを選択することができる。
本開示の一態様は、マイクロ波生成プラズマを使用した金属及び金属合金の球状化プロセスを含む。このプロセスでは、金属及び/又は金属合金からなる容易に入手可能な、既存の予備選別された又は予備選別されていない原料を供給材料として使用する。粉末原料を、不活性及び又は還元性及び/又は酸化性のガス内に巻き込み、マイクロ波プラズマ環境下に注入する。原料を高温のプラズマ中に注入して球状化し、不活性ガスで満たされたチャンバー内に放出し、密閉ドラムに向かわせてそこで保管する。該プロセスは、大気圧下、部分真空下、又は大気圧よりわずかに高い圧力下で行うことができる。これに替わる実施形態では、該プロセスを、低、中、又は高真空環境下で行うことができる。該プロセスは連続的に実行することができ、ドラムは、球状化金属又は金属合金粒子で満たされると交換する。さらに、マイクロ波プラズマプロセスにおいて均質性が確保されているのであれば、粒子凝集を完全に抑えることができないまでも減らせるので、少なくとも元の供給材料の粒径分布を維持することができる。しかし、原料のサイズ基準は厳格なため、原料を適切にサイジングすることが困難な場合がある。異なる処理方法を採用する場合であれば、異なる原料サイズ基準を使うことが可能となる。
本明細書に開示の実施態様は、後処理した、又は歩留まり回収物のような、使用済み粉末(例えば、廃棄物副産物)をリサイクル/再利用/再生する方法、装置、及び組立品である。以前に使用された粉末は、積層造形プロセスなどの製造工程を既に経た粉末であり得る。いくつかの実施形態では、以前に使用された粉末は、積層造形プロセスなどの特定のプロセス用に使う上で許容できない粒子サイズを有する、前もって製造された粉末である。特に、本開示の実施形態では、使用済み粉末を採取し、それをマイクロ波プラズマプロセス用の原料に変換して最終の球状化粉末を形成し、それを積層造形プロセス、金属射出成形(MIM)、又は高温静水圧プレス(HIP)プロセスなどの異なるプロセスで使用することができるようにする。このことは、過度に大きな粒子を生成し得るガスアトマイズ工程を使用して製造された粉末に対して特に有用であり得る。したがって、一部の実施形態では、大粒子及び/又は奇形粒子を再球状化することができる。使用済み粉末によってはそれぞれ品質が異なる場合があるので、使用済み粉末を原料として利用することが困難な場合がある。供給原料は、汚染されていたり、サイズが不適切であったり、加工が全くできなかったりすることがある。
同時に粉末の全体サイズを減少させることができる。例えば、粒子の50パーセンタイルは約34μmであるのに対し、粉末のほうは元々、粒子の50パーセンタイルが52μmである場合である。したがって、平均粒径を減少させることができる(又は他の実施形態において必要に応じて増加させることができる。)。さらに、全体の粉末分布は狭くなり、元の粒子が21~101μm(10%~95%)に及んでいるのに対し、処理後の粒子は23~58μm(10%~95%)となっている。
いくつかの実施形態では、プラズマ処理により達成される最終粒子は、球状又は楕円状とすることができ、これらの用語は互換的に使用することができる。有利なことに、開示される異なる原料の各々について、重要かつ特定の本開示内容を適用することによって、原料の全てを球状粉末に変換することができる。
の流動性、タップ性、嵩比重が低下したり、炭素や窒素が混入したりすることがあり、同じ工程で使用できなくなることがある。このような粉末を再利用することで、経済的なメリットやコストダウンが可能になる。
2θ=22.230°のピークに対して、
立方晶の場合、K=0.94と仮定、
ピークにおけるFWHM(全幅半値)=4.0度
ピークにおけるB(22.230°)=0.06981 rad
λ=1.5406A=0.15406nmとすると、
加工プロセス中に硬化された旋削物、又は硬化された材料で作られ、球状化プロセス用の原料として使用するために所望サイズに粉砕される大きなスクラップ片とすることができる。
これらに限定されるものではない。洗浄には、有機物、セラミック、又は他の金属汚染物を除去することが含まれる。
プロセスパラメータを原料の初期状態に応じて最適化することにより、球状化を達成することができる。各原料特性に対して、プロセスパラメータを、特定の結果を得るために最適化することができる。特許文献3、特許文献4、及び特許文献5には、本開示のプロセス、特にマイクロ波プラズマ処理に使用できる特定の処理技術が開示されている。したがって、特許文献6、特許文献7、及び特許文献8は、その全体が参照により援用され、記載されている技術は、本明細書に記載の原料に適用可能であると考えられるはずである。
例えば、粒子の冷却速度又はクエンチング速度を、冷却ガスの流速を増加させることによって増加させることができる。プラズマから出た球状化粒子を通過する冷却ガスの流速が速いほど、クエンチング速度は速くなり、それによって特定の所望の微細構造を閉じ込めることができる。又、プラズマの高温部における粒子の滞留時間を調整することで、得られる微細構造を制御することができる。すなわち、粒子がプラズマに曝される時間の長さによって、粒子の溶融程度(すなわち、粒子の最内部又はコアと比較して、粒子の表面が溶融している)が決定される。その結果、溶融の程度により凝固に必要な冷却の程度は影響を受けるが、これこそ冷却プロセスパラメータとなる。粒子の溶融程度により、粒子全体又はその一部に微細構造上の変化をもたらすことができる。滞留時間の調整は、高温部での粒子注入速度、流量(及び層流、乱流などの条件)等の操作変数を調整することにより行うことができる。又、装置変更によっても滞留時間を調整することができる。例えば、高温部の断面積を変更することにより滞留時間を調整することができる。
上の領域(例えば、シェル領域、コア領域)に様々な微細構造を有する楕円状粒子を創り出すことが可能である。
本開示の特定の実施形態は、本明細書の最後に提示される請求項、又は後日提示される他の請求項に包含される。追加の実施形態は、以下の番号付けされた実施形態群に包含される。
前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を粉砕又は破砕することによって得られた金属粒子をマイクロ波プラズマトーチに導入すること、及び
前記マイクロ波プラズマトーチ内で前記金属粒子を溶融及び球状化し、球状化粉末を形成すること、
を含む方法。
実施の形態2.前記粉砕又は破砕された粒子が、所望の粒径分布を有する、実施形態1に記載の方法。
実施形態3.前記所望の粒径分布が15~63μmである、実施形態2に記載の方法。
実施形態4.前記粉砕又は破砕された粒子が、所望の範囲の粒子体積を有する、実施形態1に記載の方法。
実施形態5.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を脆化させることなく、前記粒子を粉砕又は破砕する、先行する実施形態のいずれかに記載の方法。
実施形態6.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を粉砕又は破砕して、前記金属粒子を生成することをさらに含む、先行する実施形態のいずれかに記載の方法。
実施形態7.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、チタン又はチタン合金を含む、先行する実施形態のいずれかに記載の方法。
実施形態8.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、ニッケル又はニッケル合金を含む、実施形態1~7のいずれか1つに記載の方法。
実施形態9.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、コバルト又はコバルト合金を含む、実施形態1~7のいずれか1つに記載の方法。
実施形態10.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、鋼又は鋼合金を含む、実施形態1~7のいずれか1つに記載の方法。
実施形態12.前記金属粒子は、除去加工から生じる粉砕後の旋削物からなる、先行する実施形態のいずれかに記載の方法。
実施形態13.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、シャープ旋削物、鋸屑、研削屑、研削微粉末、及び/又は洗浄ライン微粉末からなる、実施形態1~11のいずれか1つに記載の方法。
実施形態14.前記金属粒子が、前記溶融及び球状化後に、加工硬化ミクロ構造が少なくとも部分的に保持される構造を含む、先行する実施形態のいずれかに記載の方法。
実施形態15.前記金属粒子の表面が部分的にのみ溶融される、先行する実施形態のいずれかに記載の方法。
実施形態16.金属スクラップ又は使用済み金属部品から球状化粉末を製造する方法であって、
チタン、チタン合金、又は他の延性金属もしくは延性金属合金を含む金属スクラップ又は使用済み金属部品を提供すること;
前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を粉砕して、マイクロ波プラズマプロセスの原料に使用するのに適した、予め決められた範囲の粒子体積を有する金属粒子を生成し、
ここで、前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、前記粉砕後に予め決められた範囲の粒子体積を有する金属粒子となるような、サイズ及び/又はアスペクト比を有する前記粒子を前記粉砕用に選別し、前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を脆化させずに前記粉砕を行う;及び
前記決められた範囲の粒子体積を有する金属粒子にマイクロ波プラズマプロセスを適用して、球状化粉末を形成すること、
を含む方法。
実施形態17.前記決定された粒子体積の範囲内に入るように粉砕するのに適したサイズ及び/又はアスペクト比を有する、前記金属スクラップ又は使用済み金属部品の一部分を選択することをさらに含む、実施形態16に記載の方法。
実施形態18.前記決定された粒子体積の範囲は、15~63μmである、実施形態16又は17に記載の方法。
実施形態19.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、前記マイクロ波プラズマ処理を適用した後に球状化粉末に保持される加工硬化微細構造を含む、実施形態16~18のいずれか1つに記載の方法。
実施形態20.前記粉砕が水中で行われる、実施形態16~19のいずれか1つに記載の方法。
実施形態22.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品に対して水素化又は極低温を適用して、前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を脆化させることなく粉砕することを含む、実施形態16~21のいずれか1つに記載の方法。
実施形態23.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、除去加工から生じる旋削物を含む、実施形態16~22のいずれか1つに記載の方法。
実施形態24.前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、Ti-6-4を含む、実施形態16~23のいずれか1つに記載の方法。
実施形態25.実施形態16~24のいずれか1つから得られる球状化粉末を使用することを含む、積層造形法。
実施形態26.実施形態16~24のいずれか1つから得られる球状化粉末を使用することを含む、レーザー床融合法。
実施形態27.実施形態16~24のいずれか1つから得られる球状化粉末を使用することを含む、電子ビーム製造法。
実施形態28.実施形態15~23のいずれか1つから得られる球状化粉末を用いることを含む、金属射出成形法。
実施形態29.金属スクラップ又は使用済み金属部品から球状化粉末を製造する方法であって、
金属スクラップ又は使用済み金属部品を提供すること;
前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を粉砕して、マイクロ波プラズマプロセスの原料に使用するのに適した、予め決められた範囲の粒子体積を有する金属粒子を生成し、ここで、前記金属スクラップ又は使用済み金属部品が、前記粉砕後に予め決められた範囲の粒子体積を有する金属粒子となるような、サイズ及び/又はアスペクト比を有する前記粒子を前記粉砕用に選別し、前記金属スクラップ又は使用済み金属部品を脆化させずに前記粉砕を行うこと;及び
前記決定された粒子体積の範囲内にある金属粒子にマイクロ波プラズマプロセスを適用して、球状化粉末を形成すること、
を含む方法。
実施の形態30.実施形態1~24又は29のいずれかに記載の方法に従って製造された球状化粉末。
マイクロ波プラズマトーチに、以前に使用された粉末粒子を導入すること;及び
前記マイクロ波プラズマトーチ内で、前記以前に使用された粉末粒子を溶融し、球状化粉末粒子を形成すること、
を含む方法。
実施形態32.前記以前に使用された粉末粒子は、所望の粒径分布を有する、実施形態31に記載の方法。
実施形態33.前記以前に使用された粉末粒子がサテライトを含み、前記サテライトが前記溶融及び球状化の間に除去される、実施形態31~32のいずれか1つに記載の方法。
実施形態34.前記以前に使用された粉末粒子が凝集体を含み、前記凝集体が前記溶融及び球状の間に除去される、実施形態31~33のいずれか1つに記載の方法。
実施形態35.前記以前に使用された粉末粒子が汚染物質を含み、前記汚染物質が前記溶融及び球状化の間に除去される、実施形態31~34のいずれか1つに記載の方法。
実施形態36.前記以前に使用された粉末粒子は、金属又は金属合金を含む、実施形態31~35のいずれか1つに記載の方法。
実施形態37.前記以前に使用された粉末粒子は、チタン又はチタン合金を含む、実施形態31~36のいずれか1つに記載の方法。
実施形態38.前記以前に使用された粉末粒子は、ニッケル又はニッケル合金を含む、実施形態31~36のいずれか1つに記載の方法。
実施形態39.前記以前に使用された粉末粒子は、延性金属又は金属合金を含む、実施形態31~36のいずれか1つに記載の方法。
実施形態40.前記以前に使用された粉末粒子は、コバルト又はコバルト合金を含む、実施形態31~36のいずれか1つに記載の方法。
実施形態42.前記以前に使用された粉末粒子は、セラミックを含む、実施形態31~36のいずれか1つに記載の方法。
実施形態43.前記溶融及び球状化により、前記以前に使用された粉末粒子の流動性を改善する、実施形態31~42のいずれか1つに記載の方法。
実施形態44.前記溶融及び球状化により、前記以前に使用された粉末粒子の密度を増加させる、実施形態31~43のいずれか1つに記載の方法。
実施形態45.前記溶融及び球状化の間に、炭素、窒素及び/又は他の汚染物質が、前記以前に使用された粉末粒子から除去される、実施形態31~44のいずれか1つに記載の方法。
実施形態46.希ガス、アルゴンガス、アルゴンガスと水素ガスの混合ガス、又は窒素ガスを、前記溶融及び球状化の間に使用する、実施形態31~45のいずれか1つに記載の方法。
実施形態47.前記以前に使用された粉末粒子が、積層造形プロセスにより形成される、実施形態31~46のいずれか1つに記載の方法。
実施形態48.積層造形プロセスが、レーザー焼結、電子ビーム溶融、フィラメント溶融堆積、指向性エネルギー堆積、粉末床溶融、又はバインダージェッティングを含む、実施形態47に記載の方法。
実施形態49.前記球状化粉末粒子は、前記溶融及び球状化の後に、前記以前に使用された粉末粒子と同じレオロジー特性を保持する、実施形態31~48のいずれか1つに記載の方法。
実施形態50.球状化粉末粒子において、合金成分化学及び/又副成分化学が10重量%未満であることが、前記以前に使用された粉末粒子と同じである、実施形態31~49のいずれか1つに記載の方法。
実施形態52.前記以前に使用された粉末粒子が、実質的にサテライト、汚染物、及び/又は凝集体を有する粒子のみを含む、実施形態31~50のいずれか1つに記載の方法。
実施形態53.前記以前に使用された粉末粒子が、楕円状でない粒子と、サテライト、汚染物、及び/又は凝集体を有さず楕円状である粒子とを含む、実施形態31~50のいずれか1つに記載の方法。
実施形態54.脱水素又は非水素化チタン又はチタン合金を含む供給材料から球状化粉末を製造する方法であって、
脱水素又は非水素化チタン又はチタン合金粒子を含む供給材料をマイクロ波プラズマトーチに導入すること;及び
前記マイクロ波プラズマトーチによって生成されたプラズマ内で前記粒子を溶融し、球状化し、球状化粉末を形成すること;
を含む方法。
実施形態55.前記供給材料が、水素化脱水素(HDH)プロセスによって処理されたチタン又はチタン合金粒子を含む、実施形態54に記載の方法。
実施形態56.前記球状化粉末は、少なくとも0.75の中央球形度を有する粒子を含む、実施形態54~55のいずれか1つに記載の方法。
実施形態57.前記球状化粉末が、少なくとも0.91の中央球形度を有する粒子を含む、実施形態54~56のいずれか1つに記載の方法。
実施形態58.前記球状化粉末は、15~45μmの粒径分布を有する、実施形態54~57のいずれか1つに記載の方法。
実施形態59.前記球状化粉末は、45~105μmの粒径分布を有する、実施形態54~58のいずれか1つに記載の方法。
実施形態60.前記球状化粒子を不活性ガスに曝露することをさらに含む、実施形態54~59のいずれか1つに記載の方法。
実施形態62.1つ以上の冷却処理変数を設定することに、冷却ガス流量を選択及び制御すること含む、実施形態61に記載の方法。
実施形態63.1つ以上の冷却処理変数を設定することに、前記プラズマ内の前記供給材料の粒子の滞留時間を選択し、制御することを含む、実施形態61に記載の方法。
実施形態64.1つ以上の冷却処理変数を設定することに、冷却ガス組成を選択し、制御することを含む、実施形態61に記載の方法。
実施形態65.前記冷却ガス組成が、高熱伝導率を呈すように選択される、実施形態64に記載の方法。
実施形態66.1つ以上の冷却処理変数が、前記球状化粒子においてマルテンサイト微細構造を形成するように設定される、実施形態61に記載の方法。
実施形態67.1つ以上の冷却処理変数が、前記球状化粒子においてウィドマンシュテッテン微細構造を形成するように設定される、実施形態61に記載の方法。
実施形態68.1つ以上の冷却処理変数が、前記球状化された粒子において等軸微細構を形成するように設定される、実施形態61に記載の方法。
実施形態69.1つ以上の冷却処理変数が、少なくとも2つの領域を形成し、各領域が異なる微細構造を有するように設定される、実施形態61に記載の方法。
実施形態70.前記少なくとも2つの領域が、コア部分及びスキン部分を含む、実施形態69に記載の方法。
実施形態72.前記粒子の溶融及び球状化が、約4000K~8000Kの実質的に均一な温度プロファイル内で起こる、実施形態54~71のいずれか1つに記載の方法。
実施形態73.前記供給材料が、1.0μm以上300μm以下の粒径を有する、実施形態54~71のいずれか1つに記載の方法。
実施形態74.前記供給材料がTi-6-4を含み、前記溶融及び球状化が、球状化粉末がTi-6-4を含むように制御される、実施形態54~71のいずれか1つに記載の方法。
実施形態75.実施形態31~74のいずれかに記載の方法に従って製造された球状化粉末。
のZの存在を必要とする、というようには概して意図されていない。
Claims (20)
- ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末から球状化粉末を製造する方法であって、
前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末をマイクロ波プラズマトーチに導入する工程であって、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の平均粒径は、積層造形法のための範囲の外にある、工程;及び
前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末を、前記マイクロ波プラズマトーチ内で溶融及び球状化し、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の平均粒径及び粒径分布とは異なる平均粒径及び狭い粒径分布を有する球状化粉末粒子を形成する工程;
を含む方法。 - 前記溶融及び球状化により、前記平均粒径を増大させる、請求項1に記載の方法。
- 前記溶融及び球状化により前記平均粒径を減少させる、請求項1に記載の方法。
- 前記球状化粉末粒子の前記粒径分布が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の前記粒径分布と比較して、10%~95%の少なくとも50%少ない、請求項1又は3に記載の方法。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも40%減少する、請求項1又は3及び4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも50%減少する、請求項1又は3~5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも40%増加する、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも50%増加する、請求項1、2、又は7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末が、チタン、チタン合金、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金、鉄、鉄合金、延性金属、延性金属合金、及びセラミックからなる群より選択される材料を含む、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記溶融及び球状化中に、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末から炭素及び窒素を除去する、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記球状化粉末粒子が、前記溶融及び球状化の後に、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末と同じレオロジー特性を保持する、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。
- ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末をマイクロ波プラズマトーチに導入
する工程であって、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の平均粒径は、積層造形法のための範囲の外にある、工程;及び
前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末を、マイクロ波プラズマトーチ内で溶融及び球状化し、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の平均粒径及び粒径分布とは異なる平均粒径及び狭い粒径分布を有する球状化粉末粒子を形成する工程;
を含む方法によって製造された球状化粉末。 - 前記溶融及び球状化により前記平均粒径を増大させる、請求項12に記載の球状化粉末。
- 前記溶融及び球状化により前記平均粒径を減少させる、請求項12に記載の球状化粉末。
- 前記球状化粉末粒子の前記粒径分布が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の粒径分布と比較して、10%~95%の少なくとも50%減少する、請求項12又は14に記載の球状化粉末。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも40%減少している、請求項12又は14~15のいずれか一項に記載の球状化粉末。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも50%減少する、請求項12又は14~16のいずれか一項に記載の球状化粉末。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも40%増加する、請求項12又は13に記載の球状化粉末。
- 前記球状化粉末の50パーセンタイル粒径が、前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末の50パーセンタイル粒径と比較して少なくとも50%増加する、請求項12、13、又は18のいずれか一項に記載の球状化粉末。
- 前記ガスアトマイズ工程により前もって製造された粉末が、チタン、チタン合金、ニッケル、ニッケル合金、コバルト、コバルト合金、鉄、鉄合金、延性金属、延性金属合金、及びセラミックからなる群から選択される材料を含む、請求項12~19のいずれか一項に記載の球状化粉末。
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