WO2017130946A1

WO2017130946A1 - 被覆アルカリ土類金属化合物微粒子、有機溶媒分散液、樹脂組成物及び画像表示装置

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Publication number: WO2017130946A1
Application number: PCT/JP2017/002296
Authority: WO
Inventors: 拓馬酒井; 里花野北; 武史日元; 長井　淳; 泰蔵松永
Original assignee: 宇部興産株式会社
Priority date: 2016-01-29
Filing date: 2017-01-24
Publication date: 2017-08-03
Also published as: CN108602687A; KR20180110672A; JPWO2017130946A1; JP6834990B2; CN108602687B; TW201741242A

Abstract

高分子の複屈折を打ち消しつつ、透明性が確保された光学フィルムを提供するため、高温での成膜時における分散性が高い被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を提供すること。被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、アルカリ土類金属化合物微粒子の表面が表面処理剤で被覆されており、大気雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での表面処理剤の質量減少率が３０質量％以下である。

Description

被覆アルカリ土類金属化合物微粒子、有機溶媒分散液、樹脂組成物及び画像表示装置

　本発明は、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子が分散されている有機溶媒分散液及び樹脂組成物並びに樹脂組成物が備えられている画像表示装置等に関する。

　液晶表示装置は複数の光学フィルム（樹脂組成物）が積層されている。光学フィルムとしては、例えば、偏光板や位相差フィルムが挙げられる。偏光板や位相差フィルムの原料には高分子が用いられる。偏光板や位相差フィルムは製造工程において延伸されるため、それらを形成する高分子は配向し、複屈折を示す。高分子の複屈折は材料に固有であり、正又は負のいずれかを示す。

　特許文献１には、高分子が示す正の複屈折を打ち消す方法として、当該高分子と逆の負の複屈折を示す針状炭酸ストロンチウム微粒子をフィラーとして高分子中に分散する方法が記載されている。特許文献２には、アルカリ土類金属を含む炭酸塩やアルカリ土類金属を含む複合酸化物といったアルカリ土類金属化合物からなる粒子（アルカリ土類金属化合物微粒子）が樹脂に分散されている光学フィルムが記載されている。特許文献１には、さらに、高分子の透明性を維持する上で微粒子が５００ｎｍ以下の平均長さを有することは極めて有利であり、特に２００ｎｍ以下であれば透明性が殆ど損なわれないことも記載されている。

　しかし、微粒子が微細化されると一次粒子（primary particle）のファンデルワールス力が強まり、二以上の一次粒子が凝集して二次粒子（secondary particle）が形成されやすくなる。二次粒子の粒径が大きくなると、二次粒子が透過光を遮断又は散乱し、光学フィルムの透明性が確保されにくくなる。そこで、アルカリ土類金属化合物微粒子の表面を高級脂肪酸からなる表面処理剤（分散剤）で被覆（表面処理）して被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を形成することによって、アルカリ土類金属化合物微粒子の分散性を向上させる。特許文献３には、針状炭酸ストロンチウム微粒子の表面を、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸からなる表面処理剤（分散剤）で被覆することによって、有機溶媒に対する針状炭酸ストロンチウム微粒子の分散性を向上させることが記載されている。

　なお、本明細書中において、一次粒子（primary particle）とは一般的な粉体系における単位粒子（ultimate particle）をいい、二次粒子（secondary particle）とは二以上の一次粒子が集合（凝集）した粒子をいう。また、粒子（「微粒子」を含む）とは、一の一次粒子、一の二次粒子、二以上の一次粒子の集合体、二以上の二次粒子の集合体、及び、二以上の一次粒子と二以上の二次粒子との集合体の形態を含み得るが、いずれの形態を意味するかは当業者には容易に理解できるであろう。さらに、表面処理剤（分散剤）とは、一次粒子及び二次粒子の表面の少なくとも一部を被覆することによって、一次粒子及び二次粒子に表面活性又は立体障害等の作用を付与し、表面処理剤で被覆された一次粒子及び二次粒子に分散性を付与する剤をいう。

特開２００４－３５３４７号公報特開２０１１－２３６１１１号公報国際公開第２０１５／１４１８１７号

　ところで、光学フィルム（樹脂組成物）の成膜方法として溶融混練法と溶液キャスト法とが知られる。近年、いずれの成膜方法も成膜温度がより高温になる傾向がある。しかし、従来の表面処理剤は、樹脂組成物の高温での成膜時に高い分散性を維持することができなかった。したがって、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、樹脂組成物の高温での成膜時の分散性の向上が求められている。

　また、光学フィルム（樹脂組成物）を溶液キャスト法で成膜する場合、高分子にアルカリ土類金属化合物微粒子を分散させるための分散媒として有機溶媒が用いられる。高分子が低吸水性の場合、有機溶媒は疎水性分散媒が用いられる。しかし、アルカリ土類金属化合物は親水性であるため、疎水性分散媒には分散しにくい。したがって、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒（特に、疎水性分散媒）に対して分散性の向上が求められている。

　本発明の第１～第４の態様は、光学フィルム（樹脂組成物）の高温での成膜時に高い分散性を維持することができる被覆アルカリ土類金属化合物微粒子、その被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を分散した有機溶媒分散液及び樹脂組成物並びにその樹脂組成物を備える画像表示装置を提供することを目的とする。

　本発明の第５～第９の態様は、有機溶媒（特に、疎水性分散媒）に対する分散性が高い被覆アルカリ土類金属化合物微粒子、その被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を分散した有機溶媒分散液及び樹脂組成物並びにその樹脂組成物を備える画像表示装置を提供することを目的とする。

（１）第１の態様
（１－１）第１の態様その１
　本発明の第１の態様は、アルカリ土類金属化合物微粒子の表面が表面処理剤で被覆された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子であって、大気雰囲気中で熱重量測定（Thermogravimetry）・示差熱分析（Differential Thermal Analysis）（ＴＧ－ＤＴＡ）を行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の前記表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での前記表面処理剤の質量減少率が３０質量％以下であることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子に関する。

（１－２）第１の態様その２
　本発明の第１の態様では、前記表面処理剤は、前記アルカリ土類金属化合物微粒子１００質量部に対して１～５０質量部であって、大気雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の前記被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での前記被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の質量減少率が２０質量％以下であることが好ましい。

（１－３）第１の態様その３
　本発明の第１の態様では、大気雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の前記表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～２５０℃の温度範囲での前記表面処理剤の質量減少率が５質量％以下であることが好ましい。

（１－４）第１の態様その４
　本発明の第１の態様では、１質量％の前記被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を有機溶媒に分散した有機溶媒分散液の個数基準粒度分布を、動的光散乱法を用いて測定すると、前記個数基準粒度分布のＤ５０（粒子を粒径の小さい方から順に並べたとき、全体の５０％に位置する粒子の粒径）が１００ｎｍ以下であることが好ましい。

（１－５）第１の態様その５
　本発明の第１の態様では、前記有機溶媒がＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）であることが好ましい。

（１－６）第１の態様その６
　本発明の第１の態様では、前記表面処理剤がフェニル基を有することが好ましい。

（１－７）第１の態様その７
　本発明の第１の態様では、前記表面処理剤がポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルであることが好ましい。

（１－８）第１の態様その８
　本発明の第１の態様では、前記表面処理剤が非イオン性ポリマーであることが好ましい。

（１－９）第１の態様その９
　本発明の第１の態様では、前記表面処理剤がポリ－Ｎ－ビニルアセトアミドであることが好ましい。

（１－１０）第１の態様その１０
　本発明の第１の態様では、前記アルカリ土類金属化合物微粒子が針状炭酸ストロンチウム微粒子であることが好ましい。

（２）第２の態様
　本発明の第２の態様は、第１の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子が有機溶媒に分散されていることを特徴とする有機溶媒分散液に関する。

（３）第３の態様
　本発明の第３の態様は、第１の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子が樹脂に分散されていることを特徴とする樹脂組成物に関する。

（４）第４の態様
　本発明の第４の態様は、第３の態様の樹脂組成物が画像表示装置に備えられていることを特徴とする画像表示装置に関する。

（５）第５の態様
（５－１）第５の態様その１
　本発明の第５の態様は、１質量％の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を疎水性分散媒に分散した疎水性分散液の累積粒度分布を、動的光散乱法を用いて測定すると、累積粒度分布のＤ５０が１００ｎｍ以下であることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子に関する。

（５－２）第５の態様その２
　本発明の第５の態様では、前記Ｄ５０が７５ｎｍ以下であることが好ましい。

（５－３）第５の態様その３
　本発明の第５の態様では、前記疎水性分散媒がｎ－ヘキサンであることが好ましい。

（６）第６の態様
（６－１）第６の態様その１
　本発明の第６の態様は、アルカリ土類金属化合物微粒子の表面が表面処理剤で被覆された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子であって、前記表面処理剤が分岐型高級脂肪酸を有することを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子に関する。

（６－２）第６の態様その２
　本発明の第６の態様では、前記分岐型高級脂肪酸がイソステアリン酸又はイソパルミチン酸であることが好ましい。

（６－３）第５の態様その４又は第６の態様その３
　本発明の第５又は第６の態様では、前記アルカリ土類金属化合物微粒子が針状炭酸ストロンチウム微粒子であることが好ましい。

（７）第７の態様
（７－１）第７の態様その１
　本発明の第７の態様は、第５又は第６の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子が有機溶媒に分散されていることを特徴とする有機溶媒分散液に関する。

（７－２）第７の態様その２
　本発明の第７の態様では、前記有機溶媒が疎水性分散媒であることが好ましい。

（８）第８の態様
　本発明の第８の態様は、第５又は第６の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子が樹脂に分散されていることを特徴とする樹脂組成物に関する。

（９）第９の態様
　本発明の第９の態様は、第８の態様の樹脂組成物が画像表示装置に備えられていることを特徴とする画像表示装置に関する。

（１）第１の態様の効果
（１－１）第１の態様その１
　アルカリ土類金属化合物微粒子の表面が表面処理剤で被覆された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が高い。さらに、ＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での表面処理剤の質量減少率が３０質量％以下であることから、この被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、従来のアルカリ土類金属化合物微粒子よりも表面処理剤の質量減少率が小さく、耐熱性が高い。

（１－２）第１の態様その２
　アルカリ土類金属化合物微粒子１００質量部に対して１～５０質量部の表面処理剤で被覆された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性がより高い。さらに、ＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の質量減少率が２０質量％以下であることから、この被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、従来のアルカリ土類金属化合物微粒子よりも質量減少率が小さく、耐熱性がより高い。

（１－３）第１の態様その３
　ＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～２５０℃の温度範囲での表面処理剤の質量減少率が５質量％以下であり、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は耐熱性がさらに高い。

（１－４）第１の態様その４
　１質量％の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を有機溶媒に分散した有機溶媒分散液の個数基準粒度分布を、動的光散乱法を用いて測定すると、個数基準粒度分布のＤ５０が１００ｎｍ以下である被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が非常に高い。

（１－５）第１の態様その５
　Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）は有機溶媒の中でも疎水性が高いため、低吸水性の高分子を原料とする光学フィルム（樹脂組成物）に被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を分散させるための分散媒として非常に好適である。

（１－６）第１の態様その６
　表面処理剤がフェニル基を有する被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が非常に高く、耐熱性も非常に高い。

（１－７）第１の態様その７
　表面処理剤がポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルである被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が特に高く、耐熱性も特に高い。

（１－８）第１の態様その８
　表面処理剤が非イオン性ポリマーである被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が非常に高く、耐熱性も非常に高い。

（１－９）第１の態様その９
　表面処理剤がポリ－Ｎ－ビニルアセトアミドである被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が特に高く、耐熱性も特に高い。

（１－１０）第１の態様その１０
　針状炭酸ストロンチウム微粒子は負の複屈折が大きいため、高分子中に分散すると、高分子が示す正の複屈折を小さくすることができる。

（２）第２の態様の効果
　第１の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が高く、耐熱性も高いため、高分子中に被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を分散させるための分散液として好適である。

（３）第３の態様の効果
　第１の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が高く、耐熱性も高いため、樹脂組成物の高温での成膜時に被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は高い分散性を維持することができる。このため、樹脂組成物は、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の凝集による透過光の遮断又は散乱が少なく、透明性を確保することができる。

（４）第４の態様の効果
　第３の態様の樹脂組成物は透明性を確保することができるため、画像表示装置の画面を明るく、かつ、鮮明にすることができる。

（５）第５の態様の効果
（５－１）第５の態様その１
　１質量％の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を疎水性分散媒に分散した疎水性分散液の累積粒度分布を、動的光散乱法を用いて測定すると、累積粒度分布のＤ５０が１００ｎｍ以下である被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒の中でも疎水性分散媒に対する分散性が非常に高い。

（５－２）第５の態様その２
　累積粒度分布のＤ５０が７５ｎｍ以下である被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、疎水性分散媒に対する分散性がより高い。

（５－３）第５の態様その３
　ｎ－ヘキサンは疎水性分散媒の中でも疎水性が高いため、低吸水性の高分子を原料とする光学フィルム（樹脂組成物）に被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を分散させるための分散媒として非常に好適である。

（６）第６の態様の効果
（６－１）第６の態様その１
　アルカリ土類金属化合物微粒子の表面が表面処理剤で被覆された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子であって、前記表面処理剤は、分岐型高級脂肪酸を有する分散剤である被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が非常に高い。アルカリ土類金属化合物微粒子の表面を被覆する分岐型高級脂肪酸の炭素鎖の分岐によって立体障害が大きくなるためと考えられる。

（６－２）第６の態様その２
　イソステアリン酸又はイソパルミチン酸を有する分散剤で被覆された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が特に高い。１質量％の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子をｎ－ヘキサンに分散した分散液の累積粒度分布を、動的光散乱法を用いて測定すると、累積粒度分布のＤ５０を１００ｎｍ以下にすることができる。

（６－３）第５の態様その４又は第６の態様その３
　針状炭酸ストロンチウム微粒子は負の複屈折が大きいため、高分子中に分散すると、高分子が示す正の複屈折を小さくすることができる。

（７）第７の態様の効果
（７－１）第７の態様その１
　第５の又は第６の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が高いため、有機溶媒は、高分子中に被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を分散させるための分散液として好適である。

（７－２）第７の態様その２
　第５又は第６の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒の中でも疎水性分散媒に対して分散性が特に高いため、疎水性分散媒は、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の分散液としてさらに好適である。

（８）第８の態様の効果
　第５又は第６の態様の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、有機溶媒に対する分散性が高いため、樹脂組成物は、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の凝集による透過光の遮断又は散乱が少なく、透明性を確保することができる。

（９）第９の態様の効果
　第８の態様の樹脂組成物の透明性を確保することができるため、画像表示装置の画面を明るく、かつ、鮮明にすることができる。

　アルカリ土類金属化合物微粒子としては、例えば、酸化カルシウム微粒子、酸化ストロンチウム微粒子及び酸化バリウム微粒子を含む酸化物微粒子、炭酸マグネシウム微粒子、炭酸カルシウム微粒子、炭酸ストロンチウム微粒子及び炭酸バリウム微粒子を含む炭酸塩微粒子並びに水酸化マグネシウム微粒子、水酸化カルシウム微粒子、水酸化ストロンチウム微粒子及び水酸化バリウム微粒子を含む水酸化物微粒子が挙げられる。以下、アルカリ土類金属化合物微粒子のうち、本発明の好適な実施形態（本実施形態）である針状炭酸ストロンチウム微粒子について詳細に説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成のすべてが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。

（１）被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の製造方法
　本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の製造方法は、針状炭酸ストロンチウム微粒子を製造する工程と、針状炭酸ストロンチウム微粒子の表面を表面処理剤で被覆して被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を製造する工程と、を有する。以下に、さらに詳しく説明する。

（１－１）針状炭酸ストロンチウム微粒子の製造工程
　針状炭酸ストロンチウム微粒子を製造する工程は、球状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を製造する工程と、球状炭酸ストロンチウム微粒子を粒成長させる工程（熟成工程）と、を有する。

（１－１－１）球状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液の製造工程
　球状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を製造する工程は、水酸化ストロンチウムの水溶液又は水性懸濁液を撹拌しながら有機酸の添加と二酸化炭素ガスの導入を行うことによって水酸化ストロンチウムを炭酸化する工程を有する。

　水酸化ストロンチウムの水溶液又は水性懸濁液の濃度は１～２０質量％であり、好ましくは２～１５質量％であり、さらに好ましくは３～８質量％である。

　有機酸は、水酸化ストロンチウムの炭酸化によって生成する炭酸ストロンチウムの結晶成長を抑制する結晶成長抑制剤として作用すると共に、炭酸化によって生成する炭酸ストロンチウム粒子の凝集を抑制する凝集抑制剤としても作用する。有機酸は、水酸基とカルボキシル基をそれぞれ少なくとも１個、かつ、合計で少なくとも３個含む。好ましくは、有機酸は、カルボキシル基を１個又は２個、かつ、水酸基とカルボキシル基を合計で３～６個含む。好ましい有機酸としては、例えば、酒石酸、リンゴ酸又はグルコン酸が挙げられる。有機酸の添加量は、水酸化ストロンチウム１００質量部に対して０．１～２０質量部であり、好ましくは１～１０質量部である。

　二酸化炭素ガスの流量は、水酸化ストロンチウム１ｇに対して０．５～２００ｍＬ／分であり、好ましくは０．５～１００ｍＬ／分である。炭酸化する際の水酸化ストロンチウムの水溶液又は水性懸濁液の温度は０～４０℃であり、好ましくは０～３０℃であり、さらに好ましくは５～１５℃である。炭酸化の終点は、一般には水溶液又は水性懸濁液のｐＨが７以下になる時点である。

（１－１－２）球状炭酸ストロンチウム微粒子の粒成長工程（熟成工程）
　球状炭酸ストロンチウム微粒子を粒成長させる工程は、得られた球状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を所定温度で所定時間保持する工程（熟成工程）を有する。熟成工程によって球状炭酸ストロンチウム微粒子は長軸方向に粒成長する。

　熟成工程の所定温度は６０℃以上であり、好ましくは６０～１００℃であり、さらに好ましくは７０～１００℃である。熟成工程の所定時間は、所定形状の針状粒子が得られれば特に制限はない。針状粒子の所定形状については、平均長径は５～５０ｎｍ、平均アスペクト比（長径／短径）は２．２～５．０が好ましい。熟成工程によって得られた針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液では、一次粒子の一部は凝集して二次粒子を形成している可能性があるが、一次粒子の多くは分散状態を維持していると考えられる。

（１－２）針状炭酸ストロンチウム微粒子の被覆工程
　針状炭酸ストロンチウム微粒子の表面を表面処理剤で被覆する工程は、針状炭酸ストロンチウム微粒子の表面を表面処理剤で表面処理を行って被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る工程と、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を乾燥して被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る工程と、を有する。

（１－２－１）針状炭酸ストロンチウム微粒子の表面処理工程
　針状炭酸ストロンチウム微粒子の表面処理を行って被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る工程は、針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液に下記の表面処理剤を添加後、水性分散液に強いせん断力を付与する工程を有する。

（１－２－１－１）表面処理剤
（１－２－１－１－１）第１の態様の実施形態
　本発明の第１の態様の実施形態である被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を製造するための表面処理剤について説明する。本実施形態の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は耐熱性が高く、光学フィルム（樹脂組成物）の高温での成膜時に高い分散性を維持することができる。

（１－２－１－１－１－１）フェニル基含有表面処理剤
　添加される表面処理剤はフェニル基を有することが好ましい。フェニル基を有する表面処理剤は、従来の針状炭酸ストロンチウム微粒子に用いられた表面処理剤よりも耐熱性が高い。このため、フェニル基を有する表面処理剤で被覆された被覆炭酸ストロンチウム微粒子は、光学フィルム（樹脂組成物）の高温での成膜時に高い分散性を維持することができる。被覆炭酸ストロンチウム微粒子による透過光の遮断又は散乱が少なくなるため、光学フィルム（樹脂組成物）の透明性を確保することができる。

　フェニル基を有する表面処理剤は、アニオン表面処理剤が好ましく、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルがさらに好ましい。アニオン表面処理剤は有機溶媒に対する分散性が高く、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルは耐熱性がさらに高い。これらによって、光学フィルムの高温での成膜時に被覆炭酸ストロンチウム微粒子はより高い分散性を維持することができる。被覆炭酸ストロンチウム微粒子による透過光の遮断又は散乱がより少なくなるため、光学フィルム（樹脂組成物）のより高い透明性を確保することができる。

　ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルとしては、例えば、化学式１及び化学式１のＲが化学式２で表されるポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルが挙げられる。

（１－２－１－１－１－２）非イオン性ポリマー
　添加される他の表面処理剤は非イオン性ポリマーが好ましく、ポリ－Ｎ－ビニルアセトアミド（ＰＮＶＡ）であることがさらに好ましい。非イオン性ポリマーは有機溶媒に対する分散性が高く、ＰＮＶＡは耐熱性がさらに高い。ＰＮＶＡの化学式を化学式３に示す。

（１－２－１－１－２）第５及び第６の態様の実施形態
　本発明の第５及び第６の態様の実施形態である被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を製造するための表面処理剤について説明する。本実施形態の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は有機溶媒（特に、疎水性分散媒）に対する分散性が高い。

　添加される表面処理剤は分岐型高級脂肪酸、疎水性炭素鎖を有する高級脂肪酸又は炭素鎖にエチレンオキサイド鎖を有さない高級脂肪酸が好ましい。従来の直鎖型高級脂肪酸よりも有機溶媒、特に、疎水性分散媒に対する分散性が高くなるからである。分岐型高級脂肪酸は炭素鎖の分岐によって立体障害が大きくなるためと考えられる。

　分岐型高級脂肪酸としては、化学式４で表される高級脂肪酸が挙げられる。

　Ｒ^１はアルキル基が好ましい。また、Ｒ^１は第３級炭素原子及び第４級炭素原子を合計で１個以上、好ましくは１～１０個含む。さらに、Ｒ^１は炭素原子を１０～３２個、好ましくは１０～１８個含む。化学式４で表される高級脂肪酸は、第３級炭素原子を１個含み、化学式５で表される分岐型高級脂肪酸がより好ましい。

化学式５のｘ＋ｙは7～２９であり、好ましくは７～１５である。

（１－２－１－２）表面処理剤の添加量
　針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液への表面処理剤の添加量は、針状炭酸ストロンチウム微粒子１００質量部に対して１～５０質量部であり、好ましくは５～４０質量部であり、さらに好ましくは１０～３５質量部であり、特に好ましくは２０～３５質量部である。

（１－２－１－３）せん断力の付与
　針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液に強いせん断力を付与するために、１０～６０ｍ／秒の周速で高速回転している回転体が用いられる。回転体の周速は、２０～５０ｍ／秒がより好ましく、３０～４０ｍ／秒がさらに好ましい。せん断力を与える装置としては、必要なせん断力を与えることができれば特に制限はない。

　強いせん断力によって針状炭酸ストロンチウム微粒子は凝集が解され、分散性が向上する。凝集が一次粒子まで解されない針状炭酸ストロンチウム微粒子が存在する可能性もあるが、加えられるせん断力が非常に強いため、少なくとも一次粒子近くまで解されると考えられる。この効果が持続している間に、添加された表面処理剤が針状炭酸ストロンチウム微粒子の一次粒子及び一次粒子近くまで解された二次粒子の表面を被覆し、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子が得られる。一次粒子及び一次粒子近くまで解された二次粒子の表面が表面処理剤で被覆されるため、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は、一次粒子及び一次粒子近くまで解された二次粒子の分散状態が維持される。

　被覆の態様としては、一次粒子及び一次粒子近くまで解された二次粒子からなる針状炭酸ストロンチウム微粒子の表面の少なくとも一部が、表面処理剤で被覆されていればよい。即ち、針状炭酸ストロンチウムからなる一次粒子の表面の少なくとも一部が表面処理剤で被覆されていてもよいし、一次粒子近くまで解された針状炭酸ストロンチウムからなる二次粒子（二以上の一次粒子の凝集体）の表面の少なくとも一部が表面処理剤で被覆されていてもよい。

（１－２－２）被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の乾燥工程
　被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を乾燥して、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る工程では、水性分散液を乾燥、除去する。水性分散液を乾燥する方法は、水性分散媒の水が除去されれば特に制限はなく、スプレードライヤーやドラムドライヤーを含む公知の乾燥方法を用いることができる。得られた被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は、必要に応じて有機溶媒に投入され、撹拌混合されて分散性が高い被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の有機溶媒分散液が製造され、光学フィルムの製造等に供される。

（２）被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の耐熱性及び分散性
　本実施形態のうち、本発明の第１の態様の実施形態における被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の耐熱性及び本実施形態（第１の態様並びに第５及び第６の態様）における被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の分散性は以下のとおりである。

（２－１）第１の態様の実施形態の耐熱性
（２－１－１）大気雰囲気及び１００℃～３００℃の温度範囲
　大気雰囲気中で熱重量測定（Thermogravimetry）・示差熱分析（Differential Thermal Analysis）（ＴＧ－ＤＴＡ）を行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での表面処理剤の質量減少率は７０質量％以下であり、好ましくは４０質量％以下であり、より好ましくは３０質量％以下であり、さらに好ましくは２４質量％以下であり、特に好ましくは２２質量％以下である。

　また、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の質量減少率は２０質量％以下であり、好ましくは１５質量％以下であり、より好ましくは１１質量％以下であり、より好ましくは１０質量％以下であり、さらに好ましくは８質量％以下であり、特に好ましくは７．５質量％以下である。

（２－１－２）大気雰囲気及び１００℃～２５０℃の温度範囲
　大気雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～２５０℃の温度範囲での表面処理剤の質量減少率は１９質量％以下であり、好ましくは１０質量％以下であり、より好ましくは５質量％以下であり、さらに好ましくは２質量％以下であり、特に好ましくは１．５質量％以下ある。

　また、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の質量を１００質量％としたとき、１００℃～２５０℃の温度範囲での表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の質量減少率は１６質量％以下であり、好ましくは１０質量％以下であり、より好ましくは５質量％以下であり、さらに好ましくは２．５質量％以下であり、特に好ましくは１．６質量％以下である。

（２－１－３）窒素雰囲気及び１００℃～２５０℃の温度範囲
　窒素雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の質量を１００質量％としたとき、１００℃～２５０℃の温度範囲での表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の質量減少率は３．６質量％以下であり、好ましくは２．３質量％以下であり、より好ましくは２質量％以下であり、さらに好ましくは１．５質量％以下である。

（２－２）本実施形態（第１の態様並びに第５及び第６の態様）の分散性
（２－２－１）被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の有機溶媒分散液
　本実施形態（第１の態様並びに第５及び第６の態様）の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は有機溶媒に投入され、撹拌混合されることにより、分散性が高い被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の有機溶媒分散液が製造される。有機溶媒の例としては、アルコール（例えば、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、エチレングルコール）、塩化メチレン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、酢酸ブチル、１－メトキシ－２－プロパノール（ＰＥＧＭＥ）、１－メトキシ－２－プロピルアセテ－ト（ＰＥＧＭＥＡ）、炭化水素系溶剤（ｎ－ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ－ヘプタン等）、芳香族炭化水素系溶剤（トルエン、キシレン等）等を挙げることができる。有機溶媒は上記有機溶媒のうち１種類のみを用いてもよいし、上記有機溶媒の複数を組み合わせて用いてもよい。本発明の第１の態様の実施形態ではＮＭＰを用い、本発明の第５及び第６の態様の実施形態ではｎ－ヘキサンを用いる。被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の濃度は利用目的に応じて適宜決定することができる。本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の濃度は、後述するように、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の有機溶媒に対する分散性を、動的光散乱法を用いて評価するため、１質量％とする。

　撹拌混合に用いられる装置としては、例えば、超音波ホモジナイザー、ホモミキサー、インペラー式攪拌機、マグネットスターラーが挙げられる。撹拌混合時間は所定の分散性が得られれば特に制限はない。その後、フィルターで異物を除去してもよい。

（２－２－２）分散性
　被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の有機溶媒分散液では、一部の一次粒子が凝集して二次粒子が形成される可能性があるが、多くの一次粒子は分散状態が維持される。即ち、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は分散性が高い。１質量％の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子をＮＭＰ又はｎ－ヘキサンに分散した有機溶媒分散液の個数基準粒度分布を、動的光散乱法を用いて測定すると、個数基準粒度分布のＤ５０（粒子を粒径の小さい方から順に並べたとき、全体の５０％に位置する粒子の粒径）は１００ｎｍ以下であり、好ましくは７５ｎｍ以下であり、より好ましくは６０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５０ｎｍ以下である。本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は有機溶媒に対する分散性が高いため、有機溶媒分散液として高分子樹脂組成物の工業的な製造等に供することができる。

　なお、動的光散乱法とは、分散液に光を照射したときに、分散媒（本実施形態では、ＮＭＰ）中でブラウン運動をしている分散質（本実施形態では、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子）に散乱されることによって生じる散乱光の強度の揺らぎから分散質の粒径を測定する方法である。動的光散乱法を用いて測定される被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の粒径は、累積粒度分布であり、一次粒子が凝集して二次粒子を形成している場合は二次粒子の粒径を含む。累積粒度分布に基づいて個数基準の粒度分布を算出することができる。

（３）被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の応用
　本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子と同様に、表面処理された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は有機溶媒に対する分散性が高い。このため、高分子を原料とする光学フィルム（樹脂組成物）に被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を添加するときに分散媒として有機溶媒を用いた場合、アルカリ土類金属化合物の機能を光学フィルム（樹脂組成物）に付与することができると同時に、アルカリ土類金属化合物微粒子による透過光の遮断又は散乱が少なくなるため、光学フィルムの透明性を確保することができる。特に、本発明の第１の態様の実施形態である被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子と同様に表面処理された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子は、高い分散性に加え、耐熱性も高い。このため、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を樹脂に分散させ、高温で成膜した場合でも高い分散性を維持することができる。光学フィルム（樹脂組成物）の原料となる高分子としては、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、セルロースエステル、ポリスチレン、スチレンアクリロニトリル共重合体、ポリフマル酸ジエステル、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、マレイミド系共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレタンアクリレートが挙げられる。この光学フィルム（樹脂組成物）を偏光板又は位相差フィルム等として備える画像表示装置は、画面を明るく、かつ、鮮明にすることができる。

　上記高分子への被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の分散方法としては、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の分散液に高分子を溶解する方法（溶液キャスト法）、アルカリ土類金属化合物の分散液に高分子を均一に溶解し、その後溶媒を除去し、ペレット化又は粉化する方法、アルカリ土類金属化合物と高分子を押出機等で溶融混練する方法（溶融混練法）などが挙げられる。また、あらかじめマスターバッチを作製し、混練機にて混練を行ってもよい。マスターバッチは、上記の溶液キャスト法、溶融混練法などで作製できる。また、樹脂組成物と適当な溶媒とを混合したドープ溶液を調製し、塗膜により光学フィルムを成膜してもよい。このような溶媒の種類としては特に制限はなく、樹脂組成物の性質等に応じて適宜選択される。溶媒としては、上記に例示したものを用いることができる。

　以下、本発明の実施例及び比較例を詳細に説明する。なお、実施例１、２は本発明の第１の態様の実施形態の１つであり、実施例３は本発明の第５及び第６の態様の実施形態の１つであるが、本発明の態様はこれらの実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。

（１）被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の製造方法
（１－１）実施例１
　１０℃の純水３Ｌに、水酸化ストロンチウム八水和物３６６ｇ（水酸化ストロンチウム１６７．６ｇ）を添加、混合して５．０質量％の水酸化ストロンチウムの水性懸濁液を調製する。調製した水酸化ストロンチウムの水性懸濁液を１０℃で撹拌しながら、水酸化ストロンチウム１００質量部に対して８．５質量部（１４．２ｇ）の酒石酸を有機酸として添加した後、５００ｍＬ／分（水酸化ストロンチウム１ｇに対して３．０ｍＬ／分）の流量で二酸化炭素を導入し、水酸化ストロンチウムを炭酸化する。炭酸化の終点は、一般には水性懸濁液のｐＨが７以下になる時点であるが、本実施例ではｐＨが７になった後、さらに３０分間撹拌を続け、球状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を得る。球状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を９５℃で１２時間保持して粒成長させ（熟成工程）、針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を得る。

　針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液に表面処理剤を添加する。本実施例の表面処理剤はフェニル基を有し、化学式１及び化学式１のＲが化学式２で表されるポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルである。

　本実施例では、フェニル基を２～４個とエチレンオキサイド鎖（ＥＯ鎖）を１０個未満（ｎ＜１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルと、フェニル基を２～４個とＥＯ鎖を１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルの２種類を用いる。

　針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液への表面処理剤の添加量は、針状炭酸ストロンチウム微粒子１００質量部に対して３０質量部である。針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液に表面処理剤を添加後、エム・テクニック株式会社製のクレアミックス（登録商標）を用いて水性分散液に３５ｍ／秒のせん断力を付与し（針状炭酸ストロンチウム微粒子の被覆工程）、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を得る。被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液を１３０℃に加熱した鉄板の表面に吹き付けて水を蒸発させ、鉄板の表面に残存する粒子を削ぎ取ることにより、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。

（１－２）実施例２
　添加する表面処理剤を、化学式３で表されるポリ－Ｎ－ビニルアセトアミド（ＰＮＶＡ）とする以外は実施例１と同様の製造工程を行い、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。

（１－３）比較例１
　本発明の第１の態様に対する比較例として、下記表面処理剤を添加する。表面処理剤以外は実施例１と同様の製造工程を行い、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。

　比較例に用いる表面処理剤として、特許文献３に記載され、化学式６で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸と、化学式１のＲがフェニル基を含まないポリオキシアルキレンエーテルリン酸エステルを用いる。

　化学式６のＲ^１は第３級炭素原子又は第４級炭素原子を含まない。Ｒ^１は置換若しくは無置換のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を意味し、Ｅ^１は炭素原子を１～８個含むアルキレン基を意味する。ａは１～２０であり、好ましくは２～６である。本比較例では、炭素原子を１２個含むＲ^１と炭素原子を２個含むＥ^１とａ＝３を有するポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸を用いた。用いたポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸の化学式を化学式７に示す。

　化学式１のＲがフェニル基を含まないポリオキシアルキレンエーテルリン酸エステルとして、本比較例では、ＥＯ鎖を６個（ｎ＝６）含む化学式８及び化学式８のＲが化学式９で表されるポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルを用いる。

（１－４）比較例２
　本発明の第１の態様に対する比較例として、表面処理剤（分散剤）として汎用されているステアリン酸を添加する。エタノールに対し、針状炭酸ストロンチウム微粒子とステアリン酸を添加し、５時間攪拌して表面処理を行う。ステアリン酸の添加量は針状炭酸ストロンチウム微粒子１００質量部に対して３０質量部である。表面処理後、吸引ろ過して固形分を回収し、１２０℃で乾燥して被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。

（１－５）比較例３
　本発明の第１の態様に対する比較例として、表面処理剤（分散剤）として汎用されているグリセリンステアレートを添加する。エタノールに対し、針状炭酸ストロンチウム微粒子とグリセリンステアレート（エキセルＴ９５花王株式会社製）を添加し、５０℃にて５時間攪拌して表面処理を行う。グリセリンステアレートの添加量は針状炭酸ストロンチウム微粒子１００質量部に対して３０質量部である。表面処理後、吸引ろ過して固形分を回収し、１２０℃で乾燥して被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。

（１－６）実施例３
　針状炭酸ストロンチウム微粒子１００質量部に対して２０質量部の下記表面処理剤を、針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液に添加する。表面処理剤及びその添加量以外は実施例１と同様の製造工程を行い、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。

　実施例３に用いる表面処理剤は、化学式５で表される分岐型高級脂肪酸のうち、炭素原子を１７個含むイソステアリン酸（ｘ＋ｙ＝１４）及び１５個含むイソパルミチン酸（ｘ＋ｙ＝１２）とする。用いたイソステアリン酸とイソパルミチン酸の化学式をそれぞれ化学式１０と化学式１１に示す。

（１－７）比較例４
　本発明の第５及び第６の態様に対する比較例として、下記表面処理剤を添加する。表面処理剤以外は実施例３と同様の製造工程を行い、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。

　比較例に用いる表面処理剤として、特許文献３に記載され、化学式１２で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸を用いる。

　化学式１２のＲ^２は第３級炭素原子又は第４級炭素原子を含まない。Ｒ^２は置換若しくは無置換のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を意味し、Ｅ^１は炭素原子を１～８個含むアルキレン基を意味する。ａは１～２０の範囲であり、好ましくは２～６の範囲である。本比較例では、炭素原子を１８個含むＲ^２と、炭素原子を２個含むＥ^１と、ａ＝２を有するポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸を用いる。用いたポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸の化学式を化学式１３に示す。

（２）評価
　表面処理前の針状炭酸ストロンチウム微粒子（一次粒子）の形状並びに表面処理後の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の耐熱性及び分散性を評価する。

（２－１）針状炭酸ストロンチウム微粒子（一次粒子）の形状
　表面処理前の針状炭酸ストロンチウム微粒子の水性分散液から一部を分取し、乾燥して、針状炭酸ストロンチウム微粒子を得る。得られた針状炭酸ストロンチウム微粒子を、電解放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）を用いて撮影し、電子顕微鏡画像から１０００個の針状炭酸ストロンチウム微粒子（一次粒子）について長径と短径を測定する。平均長径は３５ｎｍであり、平均アスペクト比（長径／短径）は２．３である。

（２－２）実施例１、２（第１の態様）及び比較例１～３の耐熱性
　実施例１、２（本発明の第１の態様の実施形態）及び比較例１～３の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の耐熱性を、ＴＧ－ＤＴＡを行うことによって評価する。ＴＧ－ＤＴＡの測定対象物は、表面処理後の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）、表面処理前の針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理前ＳｒＣＯ_３）及び表面処理剤とする。表面処理剤としては、本実施形態としてＥＯ鎖を１０個未満（ｎ＜１０）及び１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル並びにＰＮＶＡを用い、比較例としてポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸、ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、ステアリン酸及びグリセリンステアレートを用いる。ＴＧ－ＤＴＡの雰囲気としては、大気及び窒素を用いる。ＴＧ－ＤＴＡ開始時の測定対象物の質量を１００質量％とし、１００℃～３００℃及び１００℃～２５０℃の温度範囲での測定対象物の質量減少率（質量％）を測定する。なお、表面処理剤の質量減少率は、１００℃～６００℃（表面処理剤がすべて分解・揮発する温度）の温度範囲で減少する質量を表面処理剤の全吸着量（１００質量％）とし、この全吸着量に対して１００℃～３００℃及び１００℃～２５０℃の温度範囲で減少する質量の割合のことをいう。

（２－２－１）大気雰囲気及び１００℃～３００℃の温度範囲
　大気雰囲気中のＴＧ－ＤＴＡにおける１００℃～３００℃の温度範囲での質量減少率を表１に示す。

　ＥＯ鎖をそれぞれ１０個未満（ｎ＜１０）及び１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル並びにＰＮＶＡで表面処理され、表面処理剤を含む本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は、それぞれ１０．９５質量％、９．７０質量％及び７．４８質量％である。これに対して、比較例としてポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸及びポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルで表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は、それぞれ２０．９６質量％及び２０．１８質量％である。また、表面処理されていない針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理前ＳｒＣＯ_３）の質量減少率は２．６７質量％である。さらに、表面処理剤のみで質量減少率を測定すると、ＥＯ鎖をそれぞれ１０個未満（ｎ＜１０）及び１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル並びにＰＮＶＡはそれぞれ２１．３４質量％、２５．４９質量％及び２３．４０質量％である。これに対して、比較例に用いたポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸、ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、ステアリン酸及びグリセリンステアレートはそれぞれ７４．９１質量％、８６．７８質量％、５３．８０質量％及び８１．００質量％である。なお、ステアリン酸及びグリセリンステアレートで表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は測定できなかった。これは、ステアリン酸及びグリセリンステアレートは炭酸ストロンチウム微粒子の表面に付着するための結合基を有していないため、炭酸ストロンチウム微粒子の表面に測定可能な量が付着することができなかったためと考えられる。

　以上より、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル及びＰＮＶＡで表面処理された本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は表面処理剤の質量減少率が小さく、耐熱性が比較例の従来技術を大きく上回っていることがわかる。したがって、本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は、光学フィルムの高温での成膜時に高い分散性を維持することができる。

（２－２－２）大気雰囲気及び１００℃～２５０℃の温度範囲
　大気雰囲気中のＴＧ－ＤＴＡにおける１００℃～２５０℃の温度範囲での質量減少率を表２に示す。

　ＥＯ鎖をそれぞれ１０個未満（ｎ＜１０）及び１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル並びにＰＮＶＡで表面処理され、表面処理剤を含む本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は、それぞれ２．４５質量％、１．５９質量％及び１．７０質量％である。これに対して、比較例としてポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸及びポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルで表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は、それぞれ１６．２９質量％及び１７．００質量％である。また、表面処理されていない針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理前ＳｒＣＯ_３）の質量減少率は０．９０質量％である。さらに、表面処理剤のみで質量減少率を測定すると、本実施形態に用いた、ＥＯ鎖をそれぞれ１０個未満（ｎ＜１０）及び１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル並びにＰＮＶＡはそれぞれ１．６２質量％、１．５０質量％及び４．１０質量％である。これに対して、比較例に用いたポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸、ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、ステアリン酸及びグリセリンステアレートはそれぞれ３６．９０質量％、１９．３８質量％、１３．９０質量％及び４７．００質量％である。なお、ステアリン酸及びグリセリンステアレートで表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は、１００℃～３００℃の温度範囲の場合と同様に測定できなかった。これは、ステアリン酸及びグリセリンステアレートは炭酸ストロンチウム微粒子の表面に付着するための結合基を有していないため、炭酸ストロンチウム微粒子の表面に測定可能な量が付着することができなかったためと考えられる。

（２－２－３）窒素雰囲気及び１００℃～２５０℃の温度範囲
　窒素雰囲気中のＴＧ－ＤＴＡにおける１００℃～２５０℃の温度範囲での質量減少率を表３に示す。

　ＥＯ鎖をそれぞれ１０個未満（ｎ＜１０）及び１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルで表面処理され、表面処理剤を含む本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は、それぞれ２．２７質量％、１．４９質量％である。これに対して、比較例としてポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸及びポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルで表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子（表面処理後ＳｒＣＯ_３＋表面処理剤）の質量減少率は、それぞれ３．６７質量％及び５．５０質量％である。

　以上より、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルで表面処理された本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は表面処理剤の質量減少率が小さく、耐熱性が比較例の従来技術を大きく上回っていることがわかる。したがって、本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は、光学フィルムの高温での成膜時に高い分散性を維持することができる。

（２－３）被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の分散性
　実施例１、２（本発明の第１の態様）及び比較例１並びに実施例３（第５及び第６の態様）及び比較例４の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の分散性を、動的光散乱法を用いて個数基準粒度分布を測定することによって評価する。

（２－３－１）被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の有機溶媒分散液の製造
　被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の分散性を評価するために、本実施形態（第１の態様並びに第５及び第６の態様）の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子を有機溶媒に投入、撹拌混合して、被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の有機溶媒分散液を製造する。有機溶媒は、実施例１（第１の態様）の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子にはＮＭＰを用い、実施例３（第５及び第６の態様）の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子にはｎ－ヘキサンを用いる。被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の濃度は１質量％である。撹拌混合には、超音波ホモジナイザーを用い、撹拌混合時間は３分とする。その後、目開き１μｍのシリンジフィルターを用いて異物を除去する。

（２－３－２）実施例１（第１の態様）の分散性
　実施例１（第１の態様）及び比較例１の個数基準粒度分布のＤ５０（粒子を粒径の小さい方から順に並べたとき５０％となる粒子の粒径）を表４に示す。

　ＥＯ鎖をそれぞれ１０個未満（ｎ＜１０）及び１０個超（ｎ＞１０）含むポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルで表面処理された本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子のＤ５０は、それぞれ６６．１ｎｍ及び３３．３ｎｍである。これに対して、比較例としてポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸及びポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルで表面処理された被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は、いずれも個数基準粒度分布を測定することができない。これは、比較例の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子はいずれも凝集し、目開き１μｍのシリンジフィルターを通過することができないためである。

　分散媒がＮＭＰの場合、針状炭酸ストロンチウム微粒子の凝集力が強く作用し、従来の表面処理剤では被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の分散性を維持することができないと考えられる。したがって、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルで表面処理された本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子は、有機溶媒（特に、疎水性分散媒）に対する分散性が比較例の従来技術を大きく上回っていることがわかる。

（３－２－３－２）実施例３（第５及び第６の態様）の分散性
　実施例３（第５及び第６の態様）及び比較例４の個数基準粒度分布のＤ５０を表５に示す。

　比較例であるポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸を分散剤に用いたときのＤ５０は１０７．４ｎｍである。これに対して、本実施形態のイソステアリン酸及びイソパルミチン酸を分散剤に用いたときのＤ５０はそれぞれ５８．１ｎｍ及び７４．４ｎｍである。本実施形態の被覆針状炭酸ストロンチウム微粒子の疎水性分散媒に対する分散性が比較例を大きく上回っていることがわかる。

　なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項及び効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。したがって、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれる。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義又は同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子、被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を分散した有機溶媒分散液及び光学フィルム並びにその光学フィルムを備える画像表示装置等の構成及び動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形が可能である。

Claims

　アルカリ土類金属化合物微粒子の表面が表面処理剤で被覆された被覆アルカリ土類金属化合物微粒子であって、
　大気雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の前記表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での前記表面処理剤の質量減少率が３０質量％以下であることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項１に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　前記表面処理剤は、前記アルカリ土類金属化合物微粒子１００質量部に対して１～５０質量部であって、
　大気雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の前記被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の質量を１００質量％としたとき、１００℃～３００℃の温度範囲での前記被覆アルカリ土類金属化合物微粒子の質量減少率が２０質量％以下であることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項１又は２に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　大気雰囲気中でＴＧ－ＤＴＡを行うと、ＴＧ－ＤＴＡ開始時の前記表面処理剤の質量を１００質量％としたとき、１００℃～２５０℃の温度範囲での前記表面処理剤の質量減少率が５質量％以下であることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項１乃至３のいずれか１項に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　１質量％の前記被覆アルカリ土類金属化合物微粒子を有機溶媒のＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）に分散した有機溶媒分散液の個数基準粒度分布を、動的光散乱法を用いて測定すると、前記個数基準粒度分布のＤ５０が１００ｎｍ以下であることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項１乃至４のいずれか１項に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　前記表面処理剤がフェニル基を有することを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項５に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　前記表面処理剤がポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステルであることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項１乃至３のいずれか１項に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　前記表面処理剤が非イオン性ポリマーであることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項７に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　前記表面処理剤がポリ－Ｎ－ビニルアセトアミドであることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項１乃至８のいずれか１項に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子において、
　前記アルカリ土類金属化合物微粒子が針状炭酸ストロンチウム微粒子であることを特徴とする被覆アルカリ土類金属化合物微粒子。
　請求項１乃至９のいずれか１項に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子が有機溶媒に分散されていることを特徴とする有機溶媒分散液。
　請求項１乃至９のいずれか１項に記載の被覆アルカリ土類金属化合物微粒子が樹脂に分散されていることを特徴とする樹脂組成物。
　請求項１１に記載の樹脂組成物が画像表示装置に備えられていることを特徴とする画像表示装置。