JP2016149570A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016149570A5
JP2016149570A5 JP2016084925A JP2016084925A JP2016149570A5 JP 2016149570 A5 JP2016149570 A5 JP 2016149570A5 JP 2016084925 A JP2016084925 A JP 2016084925A JP 2016084925 A JP2016084925 A JP 2016084925A JP 2016149570 A5 JP2016149570 A5 JP 2016149570A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating film
oxide semiconductor
gate
film
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016084925A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6170589B2 (ja
JP2016149570A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2016149570A publication Critical patent/JP2016149570A/ja
Publication of JP2016149570A5 publication Critical patent/JP2016149570A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6170589B2 publication Critical patent/JP6170589B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (1)

  1. ゲート電極と、
    前記ゲート電極上方の第1のゲート絶縁膜と、
    前記第1のゲート絶縁膜上方の第2のゲート絶縁膜と、
    前記第2のゲート絶縁膜上方の酸化物半導体膜と、
    前記酸化物半導体膜上方のソース電極と、
    前記酸化物半導体膜上方のドレイン電極と、
    酸化物半導体膜上方、前記ソース電極上方及び前記ドレイン電極上方の酸化物絶縁膜と、
    前記酸化物絶縁膜上方の保護絶縁膜と、
    前記保護絶縁膜上方の平坦化絶縁膜と、
    前記平坦化絶縁膜上方の画素電極と、を有し、
    前記第1のゲート絶縁膜は、窒素と、珪素と、を有し、
    前記第2のゲート絶縁膜は、酸素と、珪素と、を有し、
    前記酸化物絶縁膜は、前記酸化物半導体膜と接する領域を有し、
    前記保護絶縁膜は、窒素と、珪素と、有し、
    前記酸化物半導体膜を有するトランジスタは、前記画素電極と電気的に接続され、且つオフ電流が1×10 −13 A以下であることを特徴とする半導体装置。
JP2016084925A 2009-10-21 2016-04-21 半導体装置及び半導体装置の作製方法 Active JP6170589B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009242707 2009-10-21
JP2009242698 2009-10-21
JP2009242698 2009-10-21
JP2009242707 2009-10-21

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014135714A Division JP2014232325A (ja) 2009-10-21 2014-07-01 表示装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017128541A Division JP6546220B2 (ja) 2009-10-21 2017-06-30 半導体装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016149570A JP2016149570A (ja) 2016-08-18
JP2016149570A5 true JP2016149570A5 (ja) 2017-02-23
JP6170589B2 JP6170589B2 (ja) 2017-07-26

Family

ID=43878919

Family Applications (8)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010235784A Active JP5779330B2 (ja) 2009-10-21 2010-10-20 表示装置
JP2014135714A Withdrawn JP2014232325A (ja) 2009-10-21 2014-07-01 表示装置
JP2016084925A Active JP6170589B2 (ja) 2009-10-21 2016-04-21 半導体装置及び半導体装置の作製方法
JP2017128541A Active JP6546220B2 (ja) 2009-10-21 2017-06-30 半導体装置
JP2019114328A Active JP6719624B2 (ja) 2009-10-21 2019-06-20 半導体装置及び電子書籍
JP2020103787A Active JP6964721B2 (ja) 2009-10-21 2020-06-16 半導体装置
JP2021170755A Withdrawn JP2022009230A (ja) 2009-10-21 2021-10-19 半導体装置
JP2023189565A Pending JP2024023237A (ja) 2009-10-21 2023-11-06 電子書籍

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010235784A Active JP5779330B2 (ja) 2009-10-21 2010-10-20 表示装置
JP2014135714A Withdrawn JP2014232325A (ja) 2009-10-21 2014-07-01 表示装置

Family Applications After (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017128541A Active JP6546220B2 (ja) 2009-10-21 2017-06-30 半導体装置
JP2019114328A Active JP6719624B2 (ja) 2009-10-21 2019-06-20 半導体装置及び電子書籍
JP2020103787A Active JP6964721B2 (ja) 2009-10-21 2020-06-16 半導体装置
JP2021170755A Withdrawn JP2022009230A (ja) 2009-10-21 2021-10-19 半導体装置
JP2023189565A Pending JP2024023237A (ja) 2009-10-21 2023-11-06 電子書籍

Country Status (4)

Country Link
US (4) US9245484B2 (ja)
JP (8) JP5779330B2 (ja)
TW (4) TWI607271B (ja)
WO (1) WO2011048923A1 (ja)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201108104A (en) * 2009-08-31 2011-03-01 Walton Advanced Eng Inc Integrated circuit module with display device
KR101801959B1 (ko) 2009-10-21 2017-11-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 액정 표시 장치 및 그 액정 표시 장치를 구비하는 전자기기
US9305496B2 (en) 2010-07-01 2016-04-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electric field driving display device
TWI423346B (zh) * 2010-10-26 2014-01-11 Au Optronics Corp 薄膜電晶體及其製造方法
US9781783B2 (en) * 2011-04-15 2017-10-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device, display device, light-emitting system, and display system
JP2013229010A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd タッチパネルとその駆動方法、タッチパネルモジュール
TWI471839B (zh) * 2012-04-03 2015-02-01 Wintek Corp 整合發光元件與電子書的顯示器與其驅動的方法
JP6016455B2 (ja) * 2012-05-23 2016-10-26 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
KR102078213B1 (ko) 2012-07-20 2020-02-17 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
US8947158B2 (en) * 2012-09-03 2015-02-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and electronic device
TWI600959B (zh) * 2013-01-24 2017-10-01 達意科技股份有限公司 電泳顯示器及其面板的驅動方法
TWI505164B (zh) * 2013-09-26 2015-10-21 Ye Xin Technology Consulting Co Ltd 觸控裝置
US9461500B2 (en) 2013-11-21 2016-10-04 Htc Corporation Wireless charging receiving device and wireless charging system using the same
TWI533279B (zh) * 2013-12-27 2016-05-11 元太科技工業股份有限公司 電子書寫裝置及其驅動方法
US10204898B2 (en) 2014-08-08 2019-02-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and electronic device
KR101636146B1 (ko) * 2014-09-16 2016-07-07 한양대학교 산학협력단 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법
CN106533281A (zh) * 2015-09-11 2017-03-22 德昌电机(深圳)有限公司 电动工具及其电机驱动电路
US10394284B2 (en) 2016-06-08 2019-08-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device and method for driving the electronic device
JP6822114B2 (ja) * 2016-12-13 2021-01-27 天馬微電子有限公司 表示装置、トランジスタ回路及び薄膜トランジスタの駆動方法
KR102078403B1 (ko) 2017-04-27 2020-04-07 주식회사 엘지화학 전기변색소자
JP6924943B2 (ja) * 2017-05-12 2021-08-25 東京エレクトロン株式会社 成膜方法及び成膜装置
US11353759B2 (en) 2018-09-17 2022-06-07 Nuclera Nucleics Ltd. Backplanes with hexagonal and triangular electrodes
KR102186882B1 (ko) * 2018-11-30 2020-12-04 한국생산기술연구원 저온 용액 공정 산화물 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법
CN110850627A (zh) * 2019-11-29 2020-02-28 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
US11513578B1 (en) * 2020-02-03 2022-11-29 Meta Platforms Technologies, Llc Power management system for an artificial reality system
DE102021121623A1 (de) 2021-08-19 2023-02-23 Olympus Winter & Ibe Gmbh Medizingerät und Verfahren zum Betrieb eines Medizingeräts

Family Cites Families (152)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60198861A (ja) 1984-03-23 1985-10-08 Fujitsu Ltd 薄膜トランジスタ
JPH0244256B2 (ja) 1987-01-28 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn2o5deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPS63210023A (ja) 1987-02-24 1988-08-31 Natl Inst For Res In Inorg Mater InGaZn↓4O↓7で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法
JPH0244260B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn5o8deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244258B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn3o6deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH07101268B2 (ja) 1987-02-25 1995-11-01 日本電信電話株式会社 薄膜トランジスタアレイ
JPH0244262B2 (ja) 1987-02-27 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn6o9deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244263B2 (ja) 1987-04-22 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn7o10deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH03163530A (ja) * 1989-11-22 1991-07-15 Sharp Corp アクティブマトリクス表示装置
US5305128A (en) 1989-12-22 1994-04-19 North American Philips Corporation Active matrix electro-optic display device with storage capacitors and projection color apparatus employing same
DE69022010T2 (de) 1989-12-22 1996-04-18 Philips Electronics Nv Elektrooptische Anzeigevorrichtung mit aktiver Matrix und Speicherkondensatoren sowie Farbprojektionsapparat, der diese verwendet.
JPH05251705A (ja) 1992-03-04 1993-09-28 Fuji Xerox Co Ltd 薄膜トランジスタ
JP4293434B2 (ja) * 1994-08-31 2009-07-08 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置
US5847413A (en) 1994-08-31 1998-12-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Differential amplifier circuit and analog buffer
JP3479375B2 (ja) 1995-03-27 2003-12-15 科学技術振興事業団 亜酸化銅等の金属酸化物半導体による薄膜トランジスタとpn接合を形成した金属酸化物半導体装置およびそれらの製造方法
WO1997006554A2 (en) 1995-08-03 1997-02-20 Philips Electronics N.V. Semiconductor device provided with transparent switching element
JP3625598B2 (ja) 1995-12-30 2005-03-02 三星電子株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH1091099A (ja) 1996-09-18 1998-04-10 Toshiba Corp 液晶表示装置
JPH10198292A (ja) * 1996-12-30 1998-07-31 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置およびその作製方法
JP4170454B2 (ja) 1998-07-24 2008-10-22 Hoya株式会社 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法
JP2000150861A (ja) 1998-11-16 2000-05-30 Tdk Corp 酸化物薄膜
JP3276930B2 (ja) 1998-11-17 2002-04-22 科学技術振興事業団 トランジスタ及び半導体装置
TW404070B (en) 1999-02-02 2000-09-01 Nat Science Council Poly-silicon thin film transistor process
JP3064790U (ja) * 1999-06-11 2000-01-21 株式会社バンダイ 電子装置
JP3974305B2 (ja) * 1999-06-18 2007-09-12 エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド エッチング剤及びこれを用いた電子機器用基板の製造方法と電子機器
TW460731B (en) 1999-09-03 2001-10-21 Ind Tech Res Inst Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD
US6620719B1 (en) * 2000-03-31 2003-09-16 International Business Machines Corporation Method of forming ohmic contacts using a self doping layer for thin-film transistors
JP4089858B2 (ja) 2000-09-01 2008-05-28 国立大学法人東北大学 半導体デバイス
KR20020038482A (ko) 2000-11-15 2002-05-23 모리시타 요이찌 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널
TWI313059B (ja) * 2000-12-08 2009-08-01 Sony Corporatio
JP4586266B2 (ja) * 2000-12-18 2010-11-24 ソニー株式会社 薄膜トランジスタ製造システム及び物体表面の評価装置
JP3997731B2 (ja) 2001-03-19 2007-10-24 富士ゼロックス株式会社 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法
JP2002289859A (ja) 2001-03-23 2002-10-04 Minolta Co Ltd 薄膜トランジスタ
JP3925839B2 (ja) 2001-09-10 2007-06-06 シャープ株式会社 半導体記憶装置およびその試験方法
JP4090716B2 (ja) 2001-09-10 2008-05-28 雅司 川崎 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置
WO2003040441A1 (en) 2001-11-05 2003-05-15 Japan Science And Technology Agency Natural superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film
JP4164562B2 (ja) 2002-09-11 2008-10-15 独立行政法人科学技術振興機構 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ
JP4083486B2 (ja) 2002-02-21 2008-04-30 独立行政法人科学技術振興機構 LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法
US7049190B2 (en) 2002-03-15 2006-05-23 Sanyo Electric Co., Ltd. Method for forming ZnO film, method for forming ZnO semiconductor layer, method for fabricating semiconductor device, and semiconductor device
JP3933591B2 (ja) 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
US7339187B2 (en) 2002-05-21 2008-03-04 State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Transistor structures
JP2004022625A (ja) 2002-06-13 2004-01-22 Murata Mfg Co Ltd 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法
US7105868B2 (en) 2002-06-24 2006-09-12 Cermet, Inc. High-electron mobility transistor with zinc oxide
US7067843B2 (en) 2002-10-11 2006-06-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Transparent oxide semiconductor thin film transistors
JP4464053B2 (ja) * 2003-02-04 2010-05-19 株式会社東海理化電機製作所 携帯機
JP4166105B2 (ja) 2003-03-06 2008-10-15 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2004273732A (ja) 2003-03-07 2004-09-30 Sharp Corp アクティブマトリクス基板およびその製造方法
JP4108633B2 (ja) 2003-06-20 2008-06-25 シャープ株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス
US7262463B2 (en) 2003-07-25 2007-08-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Transistor including a deposited channel region having a doped portion
KR101078509B1 (ko) 2004-03-12 2011-10-31 도꾸리쯔교세이호징 가가꾸 기쥬쯔 신꼬 기꼬 박막 트랜지스터의 제조 방법
US7282782B2 (en) 2004-03-12 2007-10-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Combined binary oxide semiconductor device
US7145174B2 (en) 2004-03-12 2006-12-05 Hewlett-Packard Development Company, Lp. Semiconductor device
US7297977B2 (en) 2004-03-12 2007-11-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Semiconductor device
US7211825B2 (en) 2004-06-14 2007-05-01 Yi-Chi Shih Indium oxide-based thin film transistors and circuits
JP2006005116A (ja) * 2004-06-17 2006-01-05 Casio Comput Co Ltd 膜形成方法、半導体膜、及び積層絶縁膜
JP2006100760A (ja) 2004-09-02 2006-04-13 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
US7285501B2 (en) 2004-09-17 2007-10-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of forming a solution processed device
US7298084B2 (en) 2004-11-02 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes
CN102938420B (zh) 2004-11-10 2015-12-02 佳能株式会社 无定形氧化物和场效应晶体管
US7829444B2 (en) 2004-11-10 2010-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor manufacturing method
CA2585071A1 (en) 2004-11-10 2006-05-18 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor employing an amorphous oxide
JP5126729B2 (ja) 2004-11-10 2013-01-23 キヤノン株式会社 画像表示装置
US7453065B2 (en) 2004-11-10 2008-11-18 Canon Kabushiki Kaisha Sensor and image pickup device
JP5138163B2 (ja) 2004-11-10 2013-02-06 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ
WO2006051994A2 (en) 2004-11-10 2006-05-18 Canon Kabushiki Kaisha Light-emitting device
JP5118810B2 (ja) 2004-11-10 2013-01-16 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ
US7863611B2 (en) 2004-11-10 2011-01-04 Canon Kabushiki Kaisha Integrated circuits utilizing amorphous oxides
US7791072B2 (en) 2004-11-10 2010-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Display
US7579224B2 (en) 2005-01-21 2009-08-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a thin film semiconductor device
TWI472037B (zh) 2005-01-28 2015-02-01 Semiconductor Energy Lab 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
TWI569441B (zh) 2005-01-28 2017-02-01 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
US7858451B2 (en) 2005-02-03 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof
US7948171B2 (en) 2005-02-18 2011-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US20060197092A1 (en) 2005-03-03 2006-09-07 Randy Hoffman System and method for forming conductive material on a substrate
US8681077B2 (en) 2005-03-18 2014-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof
WO2006105077A2 (en) 2005-03-28 2006-10-05 Massachusetts Institute Of Technology Low voltage thin film transistor with high-k dielectric material
US7645478B2 (en) 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
US8300031B2 (en) 2005-04-20 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element
JP2006344849A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタ
US7402506B2 (en) 2005-06-16 2008-07-22 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7691666B2 (en) 2005-06-16 2010-04-06 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7507618B2 (en) 2005-06-27 2009-03-24 3M Innovative Properties Company Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles
KR100711890B1 (ko) 2005-07-28 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법
US7838347B2 (en) * 2005-08-12 2010-11-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method of display device
JP2007059128A (ja) 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 有機el表示装置およびその製造方法
JP4958253B2 (ja) 2005-09-02 2012-06-20 財団法人高知県産業振興センター 薄膜トランジスタ
JP4850457B2 (ja) 2005-09-06 2012-01-11 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード
CN101258607B (zh) * 2005-09-06 2011-01-05 佳能株式会社 使用非晶氧化物膜作为沟道层的场效应晶体管、使用非晶氧化物膜作为沟道层的场效应晶体管的制造方法、以及非晶氧化物膜的制造方法
JP5116225B2 (ja) 2005-09-06 2013-01-09 キヤノン株式会社 酸化物半導体デバイスの製造方法
JP4280736B2 (ja) 2005-09-06 2009-06-17 キヤノン株式会社 半導体素子
JP4560502B2 (ja) 2005-09-06 2010-10-13 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ
JP2007073705A (ja) 2005-09-06 2007-03-22 Canon Inc 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法
EP1995787A3 (en) 2005-09-29 2012-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method therof
JP5064747B2 (ja) 2005-09-29 2012-10-31 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、電気泳動表示装置、表示モジュール、電子機器、及び半導体装置の作製方法
JP5427340B2 (ja) * 2005-10-14 2014-02-26 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP5037808B2 (ja) 2005-10-20 2012-10-03 キヤノン株式会社 アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置
CN101707212B (zh) 2005-11-15 2012-07-11 株式会社半导体能源研究所 半导体器件及其制造方法
JP5171258B2 (ja) * 2005-12-02 2013-03-27 出光興産株式会社 Tft基板及びtft基板の製造方法
JP5111758B2 (ja) * 2005-12-19 2013-01-09 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 薄膜トランジスタ
TWI292281B (en) 2005-12-29 2008-01-01 Ind Tech Res Inst Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same
US7867636B2 (en) 2006-01-11 2011-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transparent conductive film and method for manufacturing the same
JP4977478B2 (ja) 2006-01-21 2012-07-18 三星電子株式会社 ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法
US7576394B2 (en) 2006-02-02 2009-08-18 Kochi Industrial Promotion Center Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof
US7977169B2 (en) 2006-02-15 2011-07-12 Kochi Industrial Promotion Center Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof
EP1843194A1 (en) * 2006-04-06 2007-10-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device, semiconductor device, and electronic appliance
KR20070101595A (ko) 2006-04-11 2007-10-17 삼성전자주식회사 ZnO TFT
JP5312728B2 (ja) 2006-04-28 2013-10-09 凸版印刷株式会社 表示装置およびその製造方法
US20070252928A1 (en) 2006-04-28 2007-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof
JP5028033B2 (ja) 2006-06-13 2012-09-19 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4999400B2 (ja) 2006-08-09 2012-08-15 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4609797B2 (ja) 2006-08-09 2011-01-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 薄膜デバイス及びその製造方法
KR20080023907A (ko) * 2006-09-12 2008-03-17 삼성전자주식회사 전기 영동 표시 장치 및 그 제조 방법
JP4332545B2 (ja) 2006-09-15 2009-09-16 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
JP5164357B2 (ja) 2006-09-27 2013-03-21 キヤノン株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP4274219B2 (ja) 2006-09-27 2009-06-03 セイコーエプソン株式会社 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置
JP2008089884A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Toshiba Corp 表示素子
US7622371B2 (en) 2006-10-10 2009-11-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fused nanocrystal thin film semiconductor and method
JP5116290B2 (ja) * 2006-11-21 2013-01-09 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタの製造方法
JP2008129314A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Hitachi Displays Ltd 画像表示装置およびその製造方法
US7772021B2 (en) 2006-11-29 2010-08-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays
JP2008140684A (ja) 2006-12-04 2008-06-19 Toppan Printing Co Ltd カラーelディスプレイおよびその製造方法
JP5205042B2 (ja) * 2006-12-20 2013-06-05 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
US20080150901A1 (en) * 2006-12-22 2008-06-26 Robert Lowles Integrated Liquid Crystal Display And Touchscreen For An Electronic Device
KR101303578B1 (ko) 2007-01-05 2013-09-09 삼성전자주식회사 박막 식각 방법
US8207063B2 (en) 2007-01-26 2012-06-26 Eastman Kodak Company Process for atomic layer deposition
KR100851215B1 (ko) 2007-03-14 2008-08-07 삼성에스디아이 주식회사 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치
US7795613B2 (en) 2007-04-17 2010-09-14 Toppan Printing Co., Ltd. Structure with transistor
KR101325053B1 (ko) 2007-04-18 2013-11-05 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
KR20080094300A (ko) 2007-04-19 2008-10-23 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
KR101334181B1 (ko) 2007-04-20 2013-11-28 삼성전자주식회사 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
JP5261979B2 (ja) 2007-05-16 2013-08-14 凸版印刷株式会社 画像表示装置
US8803781B2 (en) * 2007-05-18 2014-08-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and display device
KR101345376B1 (ko) 2007-05-29 2013-12-24 삼성전자주식회사 ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
KR20090002841A (ko) * 2007-07-04 2009-01-09 삼성전자주식회사 산화물 반도체, 이를 포함하는 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
JP5272342B2 (ja) 2007-07-13 2013-08-28 凸版印刷株式会社 薄膜トランジスタ基板の製造方法及び画像表示装置
JP5395384B2 (ja) * 2007-09-07 2014-01-22 株式会社半導体エネルギー研究所 薄膜トランジスタの作製方法
JP2009117620A (ja) 2007-11-07 2009-05-28 Casio Comput Co Ltd 画像読取装置およびその製造方法
US8202365B2 (en) 2007-12-17 2012-06-19 Fujifilm Corporation Process for producing oriented inorganic crystalline film, and semiconductor device using the oriented inorganic crystalline film
US8461583B2 (en) * 2007-12-25 2013-06-11 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Oxide semiconductor field effect transistor and method for manufacturing the same
WO2009091013A1 (ja) * 2008-01-17 2009-07-23 Idemitsu Kosan Co., Ltd. 電界効果型トランジスタ、半導体装置及びその製造方法
US20100295042A1 (en) 2008-01-23 2010-11-25 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Field-effect transistor, method for manufacturing field-effect transistor, display device using field-effect transistor, and semiconductor device
JP5264197B2 (ja) 2008-01-23 2013-08-14 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタ
JP2009206508A (ja) * 2008-01-31 2009-09-10 Canon Inc 薄膜トランジスタ及び表示装置
JP5360968B2 (ja) * 2008-03-03 2013-12-04 パナソニック株式会社 情報処理装置および集積回路
KR100975204B1 (ko) * 2008-08-04 2010-08-10 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 트랜지스터, 그의 제조 방법 및 박막 트랜지스터를구비하는 평판 표시 장치
KR101515382B1 (ko) * 2008-08-26 2015-04-27 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 표시판
CN103928476A (zh) * 2008-10-03 2014-07-16 株式会社半导体能源研究所 显示装置及其制造方法
JP2010122651A (ja) * 2008-10-22 2010-06-03 Konica Minolta Holdings Inc 表示素子
KR101671210B1 (ko) * 2009-03-06 2016-11-01 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법
TWI529942B (zh) * 2009-03-27 2016-04-11 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置
US8832574B2 (en) * 2009-06-30 2014-09-09 Nokia Corporation Apparatus and associated methods
KR101782176B1 (ko) * 2009-07-18 2017-09-26 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016149570A5 (ja)
JP2017059856A5 (ja)
JP2016195262A5 (ja)
JP2019135550A5 (ja)
JP2015130487A5 (ja)
JP2013236068A5 (ja) 半導体装置
JP2015128163A5 (ja)
JP2012039058A5 (ja)
JP2015144271A5 (ja)
JP2013084941A5 (ja) 半導体装置
JP2015111706A5 (ja) 表示装置および電子機器
JP2014112720A5 (ja)
JP2014241404A5 (ja)
JP2015046580A5 (ja)
JP2015053477A5 (ja) 半導体装置
JP2014241403A5 (ja)
JP2017059829A5 (ja) 撮像装置
JP2013138191A5 (ja)
JP2015179822A5 (ja) 半導体装置
JP2015109433A5 (ja)
JP2015073089A5 (ja)
JP2013190804A5 (ja)
JP2016139800A5 (ja) 半導体装置
JP2014195063A5 (ja)
JP2016136622A5 (ja) 記憶装置