JP2012186808A - トリミング効果とピストンモードでの不安定性を最小化する音響波導波装置および方法 - Google Patents
トリミング効果とピストンモードでの不安定性を最小化する音響波導波装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012186808A JP2012186808A JP2012049020A JP2012049020A JP2012186808A JP 2012186808 A JP2012186808 A JP 2012186808A JP 2012049020 A JP2012049020 A JP 2012049020A JP 2012049020 A JP2012049020 A JP 2012049020A JP 2012186808 A JP2012186808 A JP 2012186808A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transducer
- dielectric layer
- region
- edge
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000009966 trimming Methods 0.000 title claims description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 title description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 43
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 claims description 21
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 12
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 10
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 10
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910003327 LiNbO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
【解決手段】圧電基板の表面上にインターデジタルトランスデューサを形成し、音響波を該トランスデューサを通って横方向に誘導するための、横方向に延在する中央領域と横方向に対向するエッジ領域を有する電極で、酸化ケイ素保護膜は該トランスデューサを被覆し、窒化ケイ素層は、該中央領域とエッジ領域内だけの酸化ケイ素保護膜を被覆する。窒化ケイ素層の厚みは中央領域内の音響波の周波数を変更させるに十分なものであり、対向するエッジ領域それぞれ内のチタンストリップの配置によって最適化される。該チタンストリップは、エッジ領域内の音響波速度がトランスデューサ中央領域内の波速度より小さくなるように、エッジ領域内の速度を低減する。
【選択図】図1
Description
本出願は、2009年9月22日出願の米国特許出願第12/564,305号の一部継続出願であり、その開示のすべては参照により本明細書に援用され、すべては共通に所有される。
金属層は電極の上方または下方のエッジに追加されてもよい。
Claims (26)
- 音響波をサポートする表面を有する圧電基板と;
前記圧電基板の前記表面上に担持されたインターデジタルトランスデューサであって、このトランスデューサの複数の電極のそれぞれは、第1のバスバーと第2のバスバーの内の少なくとも1つに電気的に接続された第1の端部と、前記対向するバスバーから離れたエッジを有する対向する第2の端部と、を有して、前記トランスデューサに沿って長手方向に延在するギャップ領域を形成する、前記各電極のエッジと前記対向するバスバー間のギャップを形成し、前記各電極は、前記バスバーに近接し概ね前記ギャップ領域内に含まれる横方向に延在する第1の部分と、前記エッジに近接し、前記トランスデューサに沿って長手方向に延在するエッジ領域を定義する横方向に延在する第2の部分と、トランスデューサ中央領域を定義する、前記第1の部分と前記第2の部分間の電極の横方向に延在する第3の部分と、トランスデューサを埋め込むためにトランスデューサを被覆する第の誘電体層と、によってさらに定義されるトランスデューサと;
少なくとも前記中央領域とエッジ領域内の前記複数の電極を被覆し、前記中央領域内の前記音響波の周波数変更に十分なものである第2の誘電体層と;
前記中央領域と前記エッジ領域の内の少なくとも1つ内の前記音響波の速度変更に十分な誘電体層であって、前記中央領域と2つのエッジ領域の1つだけ内に延在する第3の層と、を備え、前記エッジ領域での速度は前記中央領域での速度より小さいことを特徴とする音響波装置。 - 前記第3の層は、誘電体層または金属層の内の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記金属層はチタンストリップを含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 前記圧電基板はニオブ酸リチウムを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記電極は、密度がアルミニウムより高い金属から形成されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記第1の誘電体層は、その感温性を低減するために、前記トランスデューサを十分に被覆する保護膜を形成する酸化ケイ素材を含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記第2の誘電体層は窒化ケイ素を含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記第3の層は前記第1の誘電体層内に配置されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記第3の層は、前記電極の頂面より前記第1の誘電体層の頂面により近接して配置されることを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 前記ギャップの横方向の長さ寸法は、一音響波長と三音響波長超の内の少なくとも1つであることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記電極はh/p厚みが概ね0.10〜0.20の銅を含み、前記第1の誘電体層は厚みが約0.5h/pの酸化ケイ素材を含み、前記第3の層はh/p厚みが概ね0.06〜0.10のチタンストリップを含み、前記第2の誘電体層はh/p厚みが概ね0.005〜0.015の窒化ケイ素材を含み、前記チタンストリップは前記第1の誘電体層内に存在することを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記基板は、カットアングルがY+120°〜Y+140°のニオブ酸リチウムを含むことを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 圧電基板と、
前記圧電基板の表面上に前記トランスデューサを形成する複数の電極であって、前記複数の電極のそれぞれが、前記トランスデューサを通る長手方向に音響波を誘導するための横方向に延在する中央領域と横方向に対向するエッジ領域とを含む電極と、
前記インターデジタルトランスデューサを被覆する第1の誘電体層と、
少なくとも前記中央領域とエッジ領域内の前記第1の誘電体層を被覆し、前記中央領域内の前記音響波の周波数変更に十分なものである第2の誘電体層と、
前記対向するエッジ領域のそれぞれ内にのみ延在し、前記エッジ領域内の前記音響波の速度の低減に十分なものである金属層と、を備え、前記エッジ領域での速度はトランスデューサ中央領域内の波速度より小さいことを特徴とする音響波装置。 - 前記第1の誘電体層は、その感温性を低減するために、前記トランスデューサを十分に被覆する保護膜を形成する酸化ケイ素材を含むことを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記第3の層は前記第1の誘電体層内に配置されることを特徴とする請求項14に記載の装置。
- 前記第2の誘電体層は窒化ケイ素を含むことを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記金属層は前記第1の誘電体層内に配置されることを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記金属層は、前記電極の頂面より前記第1の誘電体層の頂面により近接して配置されることを特徴とする請求項17に記載の装置。
- 前記圧電基板はニオブ酸リチウムを含み、前記電極はh/p厚みが概ね0.10〜0.20の銅を実質的に含み、前記第1の誘電体層は厚みが約0.5h/pの酸化ケイ素材を含み、前記金属層はh/p厚みが概ね0.06〜0.10のチタンストリップを含み、前記第2の誘電体層はh/p厚みが概ね0.005〜0.015の窒化ケイ素材を含み、前記チタンストリップは前記第1の誘電体層内に存在することを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記基板は、カットアングルがY+120°〜Y+140°のニオブ酸リチウムを含むことを特徴とする請求項19に記載の装置。
- 複数の電極を圧電基板の表面上のインターデジタルトランスデューサに形成するステップであって、前記複数の電極のそれぞれが、前記インターデジタルトランスデューサを通る長手方向に音響波を誘導するための横方向に延在する中央領域と横方向に対向するエッジ領域とを含むステップと、
前記インターデジタルトランスデューサを第1の誘電体層で被覆して保護膜を形成するステップと、
前記対向するエッジ領域のそれぞれ内だけに、前記エッジ領域内の前記音響波速度の低減に十分なものである第3の層を配置するステップであって、前記エッジ領域での速度は前記トランスデューサ中央領域内での波速度より小さいステップと、
前記第1の誘電体層を、前記中央領域内の前記音響波の周波数変更に十分なものである第2の誘電体層で被覆するステップと、を備えることを特徴とする、ピストンモード導波として機能する表面音響波装置の製造方法。 - 酸化ケイ素材から前記第1の誘電体層を形成するステップと、
前記第3の層を金属ストリップとして形成するステップと、
ピストンモード導波を得るに十分な速度シフトを得るための前記金属ストリップの厚みを選択するステップと、
前記金属ストリップを前記保護膜内に配置するステップと、
前記電極の頂面と前記第1の誘電体層の頂面間の前記金属ストリップの垂直位置を調節してピストンモードでの不安定性を最小化するステップと、をさらに備えることを特徴とする請求項21に記載の方法。 - 前記金属ストリップはチタンを含むことを特徴とする請求項22に記載の方法。
- 前記第2の誘電体を窒化ケイ素材から形成するステップと、
前記導波の望ましいピストンモード機能を得るに十分な共振器周波数と周波数トリミング範囲とを変更するために、前記第2の誘電体の厚みを選択するステップと、をさらに備えることを特徴とする請求項22に記載の方法。 - 前記金属ストリップの配置は、前記電極の頂面より前記第1の誘電体層の頂面により近接して前記金属ストリップを配置するステップを含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記圧電基板をニオブ酸リチウムから形成するステップと、
h/p厚みが概ね0.10〜0.20の銅材から前記電極を形成するステップと、
厚みが約0.5h/pの酸化ケイ素材から前記第1の誘電体層をっ形成するステップと、
前記第3の層をh/p厚みが概ね0.06〜0.10のチタンストリップとして形成するステップと、
h/p厚みが概ね0.005〜0.015の窒化ケイ素材から前記第2の誘電体層を形成するステップと、をさらに備えることを特徴とする請求項21に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/041,653 | 2011-03-07 | ||
US13/041,653 US8294331B2 (en) | 2009-09-22 | 2011-03-07 | Acoustic wave guide device and method for minimizing trimming effects and piston mode instabilities |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012186808A true JP2012186808A (ja) | 2012-09-27 |
JP5936393B2 JP5936393B2 (ja) | 2016-06-22 |
Family
ID=46816104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012049020A Active JP5936393B2 (ja) | 2011-03-07 | 2012-03-06 | トリミング効果とピストンモードでの不安定性を最小化する音響波導波装置および方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5936393B2 (ja) |
CN (1) | CN102684639B (ja) |
Cited By (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012253738A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-12-20 | Kyocera Corp | 弾性波素子およびそれを用いた弾性波装置 |
JP2015073207A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | スカイワークス・パナソニック フィルターソリューションズ ジャパン株式会社 | 弾性波共振器 |
JP2015119413A (ja) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | 太陽誘電株式会社 | 弾性表面波デバイス及びフィルタ |
WO2015119025A1 (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2015182521A1 (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びラダー型フィルタ |
WO2015182522A1 (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
JP2016516326A (ja) * | 2013-03-06 | 2016-06-02 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | マイクロアコースティック部品および製造方法 |
KR20160075305A (ko) | 2014-12-19 | 2016-06-29 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 탄성파 디바이스 |
US9473108B2 (en) | 2013-11-01 | 2016-10-18 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and filter |
JPWO2015198897A1 (ja) * | 2014-06-23 | 2017-04-20 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2017086004A1 (ja) * | 2015-11-17 | 2017-05-26 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びその製造方法 |
JP2017126862A (ja) * | 2016-01-13 | 2017-07-20 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波共振器、フィルタ、及びデュプレクサ |
KR20170099567A (ko) * | 2016-02-24 | 2017-09-01 | (주)와이솔 | 횡모드 억제를 위한 표면 탄성파 디바이스 |
JP2017175276A (ja) * | 2016-03-22 | 2017-09-28 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波共振器、フィルタおよびマルチプレクサ並びに弾性波共振器の製造方法 |
WO2017187724A1 (ja) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2018003338A1 (ja) * | 2016-06-27 | 2018-01-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性波フィルタ装置 |
WO2018003282A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
KR20180042401A (ko) | 2015-10-23 | 2018-04-25 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
KR20180075584A (ko) | 2015-12-25 | 2018-07-04 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
WO2018123882A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2018131360A1 (ja) * | 2017-01-10 | 2018-07-19 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2018146910A1 (ja) * | 2017-02-08 | 2018-08-16 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置、高周波フロントエンド回路及び通信装置 |
KR20180122734A (ko) * | 2016-06-07 | 2018-11-13 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
JP2018182544A (ja) * | 2017-04-13 | 2018-11-15 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波素子、フィルタおよびマルチプレクサ |
JP2018191112A (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-29 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波共振器、フィルタおよびマルチプレクサ |
KR20180129463A (ko) * | 2017-05-26 | 2018-12-05 | (주)와이솔 | 횡모드 억제를 위한 표면 탄성파 디바이스 |
WO2018225650A1 (ja) * | 2017-06-06 | 2018-12-13 | 株式会社村田製作所 | 弾性波フィルタ装置、マルチプレクサ及び複合フィルタ装置 |
WO2019123811A1 (ja) * | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2019177028A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2020069805A1 (en) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | RF360 Europe GmbH | Electroacoustic resonator with several transversal wave velocity portions |
CN112886938A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-06-01 | 杭州左蓝微电子技术有限公司 | 可抑制横向模式的声表面波谐振器及其制造方法 |
KR20210115002A (ko) | 2019-02-18 | 2021-09-24 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
WO2021241364A1 (ja) * | 2020-05-27 | 2021-12-02 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
CN113839648A (zh) * | 2021-09-14 | 2021-12-24 | 常州承芯半导体有限公司 | 声表面波谐振装置及形成方法、滤波装置及射频前端装置 |
WO2022025040A1 (ja) * | 2020-07-27 | 2022-02-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2022025039A1 (ja) * | 2020-07-27 | 2022-02-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
CN114337582A (zh) * | 2021-12-03 | 2022-04-12 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种声表面波谐振器 |
WO2022158363A1 (ja) * | 2021-01-19 | 2022-07-28 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2023002790A1 (ja) * | 2021-07-21 | 2023-01-26 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US11595024B2 (en) | 2016-12-05 | 2023-02-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device, high-frequency front end circuit, and communication apparatus |
CN116566349A (zh) * | 2023-04-17 | 2023-08-08 | 无锡市好达电子股份有限公司 | 一种基于活塞模式的声表面波装置及制备方法 |
US11791798B2 (en) | 2017-05-22 | 2023-10-17 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device |
CN114337582B (zh) * | 2021-12-03 | 2024-06-11 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种声表面波谐振器 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016095967A1 (en) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | Epcos Ag | Electroacoustic transducer with improved suppression of unwanted modes |
DE112016001894B4 (de) * | 2015-04-24 | 2022-02-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Vorrichtung für elastische Wellen |
WO2018051597A1 (ja) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置、高周波フロントエンド回路及び通信装置 |
CN109004914B (zh) * | 2018-07-11 | 2022-05-03 | 开元通信技术(厦门)有限公司 | 一种声表面波器件及其制备方法 |
WO2021226826A1 (zh) * | 2020-05-12 | 2021-11-18 | 华为技术有限公司 | 声表面波滤波器的制作方法及声表面波滤波器 |
CN114726334B (zh) * | 2022-04-28 | 2023-08-08 | 重庆大学 | 一种声波谐振器及其制造方法 |
CN115037274B (zh) * | 2022-08-12 | 2022-12-20 | 常州承芯半导体有限公司 | 声表面波谐振装置及其形成方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1022765A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-23 | Hitachi Ltd | 弾性表面波共振子及び共振子型フィルタ |
JPH11298286A (ja) * | 1998-04-10 | 1999-10-29 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 弾性表面波導波路構造及びそれを用いたデバイス |
JP2000165186A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-06-16 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波フィルタ |
JP2000183681A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Seiko Epson Corp | 弾性表面波装置 |
JP2001044787A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Kyocera Corp | 弾性表面波装置 |
JP2003198322A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-11 | Kyocera Corp | 弾性表面波素子用基板及びそれを用いた弾性表面波素子 |
WO2005083881A1 (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性表面波装置 |
WO2007099742A1 (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性波装置及びその製造方法 |
JP2009232242A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Fujitsu Ltd | 弾性波素子、フィルタ、通信モジュール、および通信装置 |
JP2009290472A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Fujitsu Ltd | 弾性波デバイス、フィルタ、通信モジュール、および通信装置 |
JP2011101350A (ja) * | 2009-09-22 | 2011-05-19 | Triquint Semiconductor Inc | ピストンモード音響波装置と高結合係数を提供する方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3161439B2 (ja) * | 1998-11-25 | 2001-04-25 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波フィルタ |
DE10302633B4 (de) * | 2003-01-23 | 2013-08-22 | Epcos Ag | SAW-Bauelement mit verbessertem Temperaturgang |
KR100884209B1 (ko) * | 2005-04-08 | 2009-02-18 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파소자 |
DE102006042546A1 (de) * | 2006-09-11 | 2008-03-27 | Epcos Ag | Mit Oberflächenwellen arbeitendes elektrisches Bauelement |
US7576471B1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-08-18 | Triquint Semiconductor, Inc. | SAW filter operable in a piston mode |
-
2012
- 2012-03-06 CN CN201210057488.2A patent/CN102684639B/zh active Active
- 2012-03-06 JP JP2012049020A patent/JP5936393B2/ja active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1022765A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-23 | Hitachi Ltd | 弾性表面波共振子及び共振子型フィルタ |
JPH11298286A (ja) * | 1998-04-10 | 1999-10-29 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 弾性表面波導波路構造及びそれを用いたデバイス |
JP2000165186A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-06-16 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波フィルタ |
JP2000183681A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Seiko Epson Corp | 弾性表面波装置 |
JP2001044787A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Kyocera Corp | 弾性表面波装置 |
JP2003198322A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-11 | Kyocera Corp | 弾性表面波素子用基板及びそれを用いた弾性表面波素子 |
WO2005083881A1 (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性表面波装置 |
WO2007099742A1 (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性波装置及びその製造方法 |
JP2009232242A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Fujitsu Ltd | 弾性波素子、フィルタ、通信モジュール、および通信装置 |
US20090267707A1 (en) * | 2008-03-24 | 2009-10-29 | Fujitsu Limited | Elastic wave device |
JP2009290472A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Fujitsu Ltd | 弾性波デバイス、フィルタ、通信モジュール、および通信装置 |
JP2011101350A (ja) * | 2009-09-22 | 2011-05-19 | Triquint Semiconductor Inc | ピストンモード音響波装置と高結合係数を提供する方法 |
Cited By (93)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012253738A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-12-20 | Kyocera Corp | 弾性波素子およびそれを用いた弾性波装置 |
US9991873B2 (en) | 2013-03-06 | 2018-06-05 | Snaptrack, Inc. | Microacoustic component and method for the production thereof |
JP2016516326A (ja) * | 2013-03-06 | 2016-06-02 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | マイクロアコースティック部品および製造方法 |
JP2015073207A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | スカイワークス・パナソニック フィルターソリューションズ ジャパン株式会社 | 弾性波共振器 |
US9473108B2 (en) | 2013-11-01 | 2016-10-18 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and filter |
JP2015119413A (ja) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | 太陽誘電株式会社 | 弾性表面波デバイス及びフィルタ |
US9667226B2 (en) | 2013-12-19 | 2017-05-30 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and filter with additional covering films |
WO2015119025A1 (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
KR101924025B1 (ko) | 2014-02-04 | 2018-11-30 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
US9998092B2 (en) | 2014-02-04 | 2018-06-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device |
JPWO2015119025A1 (ja) * | 2014-02-04 | 2017-03-23 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2015182521A1 (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びラダー型フィルタ |
US10009003B2 (en) | 2014-05-26 | 2018-06-26 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device |
JP5861809B1 (ja) * | 2014-05-26 | 2016-02-16 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2015182522A1 (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US10418970B2 (en) | 2014-05-26 | 2019-09-17 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device and ladder filter |
JPWO2015198897A1 (ja) * | 2014-06-23 | 2017-04-20 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US9641152B2 (en) | 2014-12-19 | 2017-05-02 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Acoustic wave device |
KR20160075305A (ko) | 2014-12-19 | 2016-06-29 | 다이요 유덴 가부시키가이샤 | 탄성파 디바이스 |
US11424731B2 (en) | 2015-10-23 | 2022-08-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device |
KR20200058594A (ko) | 2015-10-23 | 2020-05-27 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
KR20180042401A (ko) | 2015-10-23 | 2018-04-25 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
US11456716B2 (en) | 2015-11-17 | 2022-09-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device and manufacturing method thereof |
WO2017086004A1 (ja) * | 2015-11-17 | 2017-05-26 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びその製造方法 |
CN108292913A (zh) * | 2015-12-25 | 2018-07-17 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置 |
KR20180075584A (ko) | 2015-12-25 | 2018-07-04 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
KR102011468B1 (ko) | 2015-12-25 | 2019-08-16 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
CN108292913B (zh) * | 2015-12-25 | 2021-08-31 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置 |
US11374550B2 (en) | 2015-12-25 | 2022-06-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device |
JP2017126862A (ja) * | 2016-01-13 | 2017-07-20 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波共振器、フィルタ、及びデュプレクサ |
US10476474B2 (en) | 2016-01-13 | 2019-11-12 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Acoustic wave resonator, filter, and duplexer |
KR20170099567A (ko) * | 2016-02-24 | 2017-09-01 | (주)와이솔 | 횡모드 억제를 위한 표면 탄성파 디바이스 |
KR102636251B1 (ko) * | 2016-02-24 | 2024-02-14 | (주)와이솔 | 횡모드 억제를 위한 표면 탄성파 디바이스 |
JP2017175276A (ja) * | 2016-03-22 | 2017-09-28 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波共振器、フィルタおよびマルチプレクサ並びに弾性波共振器の製造方法 |
US10270424B2 (en) | 2016-03-22 | 2019-04-23 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Acoustic wave resonator, filter, multiplexer, and method of fabricating acoustic wave resonator |
WO2017187724A1 (ja) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
KR20180122734A (ko) * | 2016-06-07 | 2018-11-13 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
US11239820B2 (en) | 2016-06-07 | 2022-02-01 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device |
KR102095213B1 (ko) * | 2016-06-07 | 2020-03-31 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
US10862452B2 (en) | 2016-06-27 | 2020-12-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave filter device |
JPWO2018003338A1 (ja) * | 2016-06-27 | 2018-09-13 | 株式会社村田製作所 | 弾性波フィルタ装置 |
WO2018003338A1 (ja) * | 2016-06-27 | 2018-01-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性波フィルタ装置 |
WO2018003282A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
KR20180123562A (ko) * | 2016-06-28 | 2018-11-16 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
KR102082798B1 (ko) * | 2016-06-28 | 2020-02-28 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
US10707833B2 (en) | 2016-06-28 | 2020-07-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device |
JPWO2018003282A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2019-01-17 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US11595024B2 (en) | 2016-12-05 | 2023-02-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave device, high-frequency front end circuit, and communication apparatus |
US11018650B2 (en) | 2016-12-26 | 2021-05-25 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device |
CN110114973A (zh) * | 2016-12-26 | 2019-08-09 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置 |
CN110114973B (zh) * | 2016-12-26 | 2024-04-26 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置 |
WO2018123882A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
JPWO2018131360A1 (ja) * | 2017-01-10 | 2019-11-07 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
KR20190077551A (ko) | 2017-01-10 | 2019-07-03 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
WO2018131360A1 (ja) * | 2017-01-10 | 2018-07-19 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
US10797678B2 (en) | 2017-02-08 | 2020-10-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device, radio-frequency front end circuit, and communication device |
WO2018146910A1 (ja) * | 2017-02-08 | 2018-08-16 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置、高周波フロントエンド回路及び通信装置 |
KR20190092557A (ko) | 2017-02-08 | 2019-08-07 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치, 고주파 프론트 엔드 회로 및 통신 장치 |
JP2018182544A (ja) * | 2017-04-13 | 2018-11-15 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波素子、フィルタおよびマルチプレクサ |
JP2018191112A (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-29 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波共振器、フィルタおよびマルチプレクサ |
US11791798B2 (en) | 2017-05-22 | 2023-10-17 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device |
KR102431710B1 (ko) * | 2017-05-26 | 2022-08-11 | (주)와이솔 | 횡모드 억제를 위한 표면 탄성파 디바이스 |
KR20180129463A (ko) * | 2017-05-26 | 2018-12-05 | (주)와이솔 | 횡모드 억제를 위한 표면 탄성파 디바이스 |
JPWO2018225650A1 (ja) * | 2017-06-06 | 2020-01-16 | 株式会社村田製作所 | 弾性波フィルタ装置、マルチプレクサ及び複合フィルタ装置 |
CN110663174A (zh) * | 2017-06-06 | 2020-01-07 | 株式会社村田制作所 | 弹性波滤波器装置、多工器以及复合滤波器装置 |
KR102332100B1 (ko) * | 2017-06-06 | 2021-11-29 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 필터 장치, 멀티플렉서 및 복합 필터 장치 |
US11496116B2 (en) | 2017-06-06 | 2022-11-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave filter device, multiplexer and composite filter device |
CN110663174B (zh) * | 2017-06-06 | 2023-12-29 | 株式会社村田制作所 | 弹性波滤波器装置、多工器以及复合滤波器装置 |
WO2018225650A1 (ja) * | 2017-06-06 | 2018-12-13 | 株式会社村田製作所 | 弾性波フィルタ装置、マルチプレクサ及び複合フィルタ装置 |
KR20190133052A (ko) * | 2017-06-06 | 2019-11-29 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 필터 장치, 멀티플렉서 및 복합 필터 장치 |
US11646713B2 (en) | 2017-12-19 | 2023-05-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device |
KR102441867B1 (ko) | 2017-12-19 | 2022-09-08 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
WO2019123811A1 (ja) * | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
JPWO2019123811A1 (ja) * | 2017-12-19 | 2020-11-19 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
KR20200089705A (ko) * | 2017-12-19 | 2020-07-27 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
US11444601B2 (en) | 2018-03-14 | 2022-09-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device |
WO2019177028A1 (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2020069805A1 (en) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | RF360 Europe GmbH | Electroacoustic resonator with several transversal wave velocity portions |
KR20210115002A (ko) | 2019-02-18 | 2021-09-24 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
US11824518B2 (en) | 2019-02-18 | 2023-11-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic wave device |
JP7464116B2 (ja) | 2020-05-27 | 2024-04-09 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2021241364A1 (ja) * | 2020-05-27 | 2021-12-02 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2022025039A1 (ja) * | 2020-07-27 | 2022-02-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2022025040A1 (ja) * | 2020-07-27 | 2022-02-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
CN112886938A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-06-01 | 杭州左蓝微电子技术有限公司 | 可抑制横向模式的声表面波谐振器及其制造方法 |
WO2022158363A1 (ja) * | 2021-01-19 | 2022-07-28 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
WO2023002790A1 (ja) * | 2021-07-21 | 2023-01-26 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
CN113839648B (zh) * | 2021-09-14 | 2023-08-29 | 常州承芯半导体有限公司 | 声表面波谐振装置及形成方法、滤波装置及射频前端装置 |
CN113839648A (zh) * | 2021-09-14 | 2021-12-24 | 常州承芯半导体有限公司 | 声表面波谐振装置及形成方法、滤波装置及射频前端装置 |
CN114337582A (zh) * | 2021-12-03 | 2022-04-12 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种声表面波谐振器 |
CN114337582B (zh) * | 2021-12-03 | 2024-06-11 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种声表面波谐振器 |
CN116566349B (zh) * | 2023-04-17 | 2023-11-17 | 无锡市好达电子股份有限公司 | 一种基于活塞模式的声表面波装置及制备方法 |
CN116566349A (zh) * | 2023-04-17 | 2023-08-08 | 无锡市好达电子股份有限公司 | 一种基于活塞模式的声表面波装置及制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5936393B2 (ja) | 2016-06-22 |
CN102684639B (zh) | 2016-08-17 |
CN102684639A (zh) | 2012-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5936393B2 (ja) | トリミング効果とピストンモードでの不安定性を最小化する音響波導波装置および方法 | |
US8294331B2 (en) | Acoustic wave guide device and method for minimizing trimming effects and piston mode instabilities | |
US7939989B2 (en) | Piston mode acoustic wave device and method providing a high coupling factor | |
JP7377920B2 (ja) | 弾性表面波素子 | |
JP5503020B2 (ja) | 横方向放射損失を低減させ,横方向モードの抑制により性能を高めた電気音響変換器 | |
JP4337816B2 (ja) | 弾性境界波装置 | |
JP5035421B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP5187444B2 (ja) | 弾性表面波装置 | |
US7982365B2 (en) | Elastic wave device and filter and electronic equipment using the device | |
JP2018504816A (ja) | 不要なモードの抑制が改善された電気音響変換器 | |
KR20190077551A (ko) | 탄성파 장치 | |
CN113872562A (zh) | 表面声波元件 | |
JP7120441B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP4883089B2 (ja) | 弾性境界波装置 | |
JP7168009B2 (ja) | 弾性波デバイスおよびマルチプレクサ | |
JP2010088109A (ja) | 弾性波素子と、これを用いた電子機器 | |
JP2008294538A (ja) | 弾性境界波装置及びその製造方法 | |
CN115642891A (zh) | 一种声表面波谐振器 | |
JP7203578B2 (ja) | 弾性表面波素子 | |
JP4998032B2 (ja) | 弾性境界波装置 | |
JP2015167272A (ja) | 弾性表面波デバイス | |
US20190372553A1 (en) | Surface acoustic wave device | |
JP7493306B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP7027079B2 (ja) | 弾性波デバイスおよびその製造方法 | |
JP5526858B2 (ja) | 弾性境界波フィルタ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121003 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20121003 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160330 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160419 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160510 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5936393 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |