JPH11298286A - 弾性表面波導波路構造及びそれを用いたデバイス - Google Patents

弾性表面波導波路構造及びそれを用いたデバイス

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JPH11298286A JP11601898A JP11601898A JPH11298286A JP H11298286 A JPH11298286 A JP H11298286A JP 11601898 A JP11601898 A JP 11601898A JP 11601898 A JP11601898 A JP 11601898A JP H11298286 A JPH11298286 A JP H11298286A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 タンタル酸リチウムのような表面波の逆速度
面が進行方向に凹になる圧電基板において導波路を形成
する手段を得る。 【解決手段】 表面波の主伝搬方向の逆速度面が凹面と
なる圧電基板において、IDT電極、グレーティング電
極の開口の両外側に開口部の電極指よりも幅広の電極指
を有するグレーティング電極を配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は弾性表面波(以下、
SAWと称す)変換器および反射器などの弾性表面波導
波路構造に関し、特にIDT電極、グレーティング反射
器と並行して両側に電極指幅の異なるグレーティングを
配した弾性表面波導波路構造に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高性能、小型、高生産性等の優れ
た特徴を有するSAWフィルタが多くの通信分野で用い
られ、ことに携帯電話等の普及の一翼を担っている。図
6は従来のSAWデバイスの弾性表面波導波路として用
いられるIDT電極20とグレーティング電極21との
構成を示す平面図である。IDT電極20は、周知のよ
うに圧電基板上に表面波の伝搬方向に沿って幅LTの電極
指を間隙STおいてピッチP1( P1 = LT + ST )にて配列
し、交互に正負のバスバー22a、22bと電気的に接
続する構造である。即ちIDT電極指20の電極指周期
LはピッチP1の2倍L=2 P1となる。一方、グレーティン
グ電極21は、IDT電極20と同様に幅LRの電極指を
間隙SRおいてピッチP2( P2= LR + SR )にて配列し、
一般的にはその両端をバスバー22c、22dと電気的
に接続する構造である。ただ、表面波を反射するという
機能があれば十分であるため、バスバーを省略した電極
指の配列のみで用いる場合もある。
【0003】図6に示したIDT電極20及びグレーテ
ィング電極21を伝搬する表面波を導波という観点から
考察する。IDT電極20により励起された表面波は、
励起された位置では電極指列と垂直方向に位相速度を持
つ平面波に近いが、伝搬するにしたがい回折して広が
り、平面波の波面はしだいに乱れてくる。ここで、ID
T電極20の電極指はグレーティング電極21の電極指
と同様に電界短絡、質量負荷効果による反射及び速度変
化の作用を有するので、グレーティング効果を記述する
ときは、IDT電極20、グレーティング電極21共に
グレーティングと云うことにする。図6に示すIDT電
極20、グレーティング電極21の構成がある長さ以上
連続するか、あるいはグレーティング電極21と同様な
グレーティング電極(図示していない)をIDT電極2
0を中心として対称に配置することにより、励起された
表面波がグレーティング電極間を何度も往復するような
状態であれば、IDT電極20とグレーティング電極2
1とは導波路として機能し、導波モードが形成される場
合がある。
【0004】この原因は、図6に示すグレーティング領
域Aとバスバー22a、b、c及び22dの領域Bとに
おける表面波の位相速度の違いにより、A、B両者の境
界で表面波が全反射を起こすためであると考えることが
出来る。このとき、領域Aで示す導波路と直角方向の最
低次対称モードの変位分布は、概略、図6中の破線αで
示されたようになり導波路内部に表面波の振動エネルギ
ーが閉じ込められることになる。
【0005】上記のような、導波状態、即ち表面波の振
動エネルギーが閉じ込められる状態を形成するために
は、いくつかの条件を充たする必要がある。橋本らが
「有限厚金属グレーティングを斜め伝搬する弾性表面波
の高速解析法」、電子情報通信学会技報、US95-47(1955-
09)に示しているように、導波状態を形成するために
は、IDT電極20の電極指の垂直方向(主伝搬方向)
と表面波の伝搬方向とのなす角度が小さい範囲で、表面
波の逆速度面(逆速度とは表面波の位相速度の逆数即ち
Slownessを云う)が図7(a)に示すように進行方向に
凸である場合には、図6に示す内側のグレーティング領
域Aにおける表面波の速度を外側の領域Bのそれよりも
遅く、また、図7(b)に示すように逆速度面が進行方
向に凹である場合には、領域Bの速度の方を領域Aのそ
れよりも遅くしなければならないことが示されている。
【0006】例えば、上記の条件が満たされない場合に
は、励振された表面波が回折のため領域Bの外側へ放射
され、その変位分布は図6に示す実線βのようになり、
表面波のエネルギーを領域Aに閉じ込めることはでき
ず、導波モードは形成されない。この放射による損失
は、導波路が長いほど大きく、共振子であればQ値の低
下、フィルタであれば挿入損失の増加をもたらすことに
なる。
【0007】図6の領域A、Bにおける伝搬速度の違い
についてさらに詳しく述べる。前述したように橋本らは
文献中で、逆速度面が進行方向に凸である場合、導波状
態を形成するためには、外側領域Bの表面波の速度を領
域Aのそれより速くすればよいと述べている。例えば、
バスバーの領域BがIDT電極20、グレーティング電
極21の電極指と同じ膜厚のメタライズ膜にて構成した
場合、バスバーの領域Bはグレーティング領域Aよりも
電極面積密度が大きくなるため、短絡効果および質量負
荷効果が大きく、領域Bにおける伝搬速度が領域Aのそ
れより遅くなるはずである。ところが、電極パターンの
膜厚がある厚さ以上となると、領域Bがグレーティング
と同じメタライズ面であっても、グレーティング領域A
の電極指端部における電気的及び機械的なエネルギー蓄
積効果により領域Aにおける表面波の伝搬速度が領域B
のそれより遅くなるため、図6の電極構成であっても表
面波が導波されることが知られている。実際に、ST-cut
水晶基板(逆速度面が凸)にアルミニウム(Al)電極
を用いた場合では、0.3〜0.4%L(L=2P1)とい
う非常に薄い膜厚以上で、グレーティング領域Aにおけ
る伝搬速度の方が領域Bのそれより遅くなることが分か
っている。ここで、LはIDT電極20の周期であり、
デバイスの中心周波数における表面波の波長とほぼ等し
い。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】逆に、表面波の逆速度
面が凹となる基板材料を用いる場合、導波状態を形成す
るためには領域Bの速度をグレーティング領域Aよりも
遅くしなければならない。 例えば、上記の橋本の文献
中にも示されているように、主伝搬方向の逆速度面が凹
となる代表的な圧電基板には36゜YカットX伝搬Li
TaO3(または42゜Yカット)があり、この基板
は、携帯電話等のRFフィルタ用として数多く用いられ
ている。これまでは比較的膜厚の薄い電極を用いてデバ
イスを構成していたが、インピーダンスを低く抑えロス
を低減するために、電極膜厚h/Lが10%にも及ぶような
厚い膜厚の共振器型表面波RFフィルタが必要になり、
実用化されつつある。しかしながら、前述したように電
極膜厚を厚くするとA<Bとなり、凹の場合、導波状態
を形成することができなくなってしまう。そのためフィ
ルタの挿入損失が増大して所望の特性が得られないとい
う不具合が生じる。このフィルタは無線機のフロントエ
ンドに用いられるため挿入損失への要求は厳しく、挿入
損失が大きいと無線機の感度を劣化させるという問題が
あった。本発明は上記問題を解決するためになされたも
のであって、主伝搬方向の逆速度面が凹であるような基
板において、従来のIDT電極構造では導波が出来ない
膜厚でも導波を可能とし、回折による損失の増加を低減
する弾性表面波導波路構造を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係る弾性表面波導波路構造及びそれを用いた
デバイスの請求項1記載の発明は、表面波の主伝搬方向
の逆速度面が凹面となるような圧電基板において、ID
T電極の開口の両外側に、開口部の電極指よりも幅広の
電極指を有するグレーティング電極を配置したことを特
徴とする弾性表面波導波路である。請求項2記載の発明
は、前記弾性表面波導波路のIDT電極をグレーティン
グ反射器で置き換えたことを特徴とする弾性表面波導波
路である。請求項3記載の発明は、請求項1又は請求項
2記載の弾性表面波導波路を用いて構成した共振子やフ
ィルタなどの弾性表面波デバイスである。
【0010】
【発明の実施の形態】以下本発明を図面に示した実施の
形態に基づいて詳細に説明する。本発明の理解を容易に
するためグレーティング効果について少し説明する。図
2は実験値を基に計算した36゜Y−X伝搬LiTaO
3基板上のリーキータイプ表面波を用いて、ライン占有
率η(η=LT/( LT +ST))の値をη=0.5とした場合の自
由表面速度Vfに対する表面波の位相速度Vの比V/Vfと、
電極膜厚h/Lとの関係を示す図である。グレーティング
上の速度は、橋本らも示しているようにブラッグ周波数
(各電極指からの反射波が同位相となる周波数)付近で
分散を示すため、グレーティングが形成するストップバ
ンド中央における速度Vg(平均的な速度)を破線Vgで示
し、ストップバンド下端における速度VgL(最低速度)
を点線VgLで代表的に示してある。実線Vmは領域Bのメ
タライズ面における速度であり、周波数依存性はない。
尚、同図においては、これらいずれの速度も自由表面速
度Vfにより正規化した値となっている。
【0011】図2からも明らかのように膜厚h/L=0(膜
厚は0であるが電気的には短絡)では、強い電気的短絡
効果のためグレーティング電極上の速度より領域Bのメ
タライズ面の速度の方が遅くなる。しかし、膜厚h/Lが
図中矢印で示す約4.5%を超えると、グレーティングの
電極指のエネルギー蓄積効果が大きくなり、励起される
周波数がストップバンド下端付近ではグレーティング領
域Aの速度の方が遅くなる。その結果として、グレーテ
ィング領域Aでは導波できずに表面波のエネルギーが領
域Bの外側に放射され損失が生ずることになる。一般
に、ストップバンド下端付近の共振を用いて表面波共振
子や共振器型表面波フィルタを構成するため、このグレ
ーティング領域Aでの回折損失は、表面波共振子のQ値
の低下や前記フィルタの挿入損失の増加をもたらす。
【0012】グレーティングからの反射によりストップ
バンドが形成され、速度分散が起こることは前述した通
りである。図3はこの速度分散の周波数依存性を36゜
Y−XLiTaO3基板上に付着したアルミニウム合金
電極の膜厚h/Lが7%の場合について示したものであ
る。縦軸は自由表面波速度Vfに対する表面波の速度Vの
比V/Vf 、横軸は自由表面波速度VfをIDT電極の周期
で除した周波数f0に対する表面波の周波数fの比f/f0
して、各々のライン占有率に対する速度変化を図示して
いる。この図に示した横軸に並行な直線γはメタライズ
面を伝搬する表面波の速度Vmに相当する。ライン占有率
ηが0.5の場合を見ると、前述したように図中矢印δで
示すストップバンド下端付近の周波数では、表面波の速
度が直線γで示すメタライズ面における速度Vmより遅く
なることを示している。
【0013】メタライズ面即ち、バスバーの領域の電極
膜厚のみ厚くすることにより、領域Bの速度をさらに低
下させることが出来るものの、成膜およびフォトリソグ
ラフィーの工程が2度必要になり、製造コストを増加さ
せるので好ましくない。本発明は1回のフォトリソグラ
フィ工程にて製造可能な弾性表面波電極構造を提供する
ものである。
【0014】図1は本発明に係る導波路構造を示す平面
図であり、圧電基板(図示しない)の主面上に表面波の
伝搬方向に沿ってIDT電極2とグレーティング電極3
を配置すると共にIDT電極2の開口部の両側にグレー
ティング電極4a、4bをIDT電極2、グレーティン
グ電極3と近接して並置する。IDT電極2は互いに間
挿し合う複数本の電極指を有する一対のくし形電極によ
り構成され、グレーティング電極3はほぼピッチで電極
指が配置されたものである。
【0015】IDT電極2、グレーティング電極3及び
グレーティング電極4a、4bのそれぞれの隣接する電
極指中央の間隔即ち電極指ピッチはほぼ等しくする。I
DT電極2、グレーティング電極3それぞれの電極指幅
LT、LRはほぼ等しくするが、グレーティング電極4a、
4bの電極指幅LGは電極指幅LT、LRより幅広に形成す
る。IDT電極2、グレーティング3とグレーティング
4a、4bのそれぞれの共通バスバー5a、5bをグレ
ーティング領域Aと領域Bの境界に設ける。このような
構成とすることによりIDT電極2とグレーティング電
極3とからなるグレーティング領域Aとグレーティング
電極4a、4bからなる領域Bのそれぞれの表面波の伝
搬速度を異ならせることが可能となる。これにより表面
波の逆速度面が凹となる圧電基板の場合であっても図中
左端に示した変位分布曲線αに示すように導波が可能と
なる。
【0016】図3にライン占有率η=0.6と0.5の場合の
速度分散を示したが、ライン占有率η=0.6速度はどの周
波数においても占有率η=0.5の速度より遅い。即ち、図
1に示す領域Bのライン占有率をグレーティング領域A
のそれより大きくすれば、領域Bの表面波の伝搬速度を
領域Aのそれより遅くすることができて、リーキータイ
プ表面波の導波が可能であることを示している。
【0017】図4は本発明に係る弾性表面波導波路構造
の他の実施例で、圧電基板上にIDT電極6とグレーテ
ィング電極7を配置し、IDT電極6の開口部の両側に
グレーティング8a、9bを並置する。IDT電極6の
電極指より図中上下方向に交互に電極指を延在し、また
グレーティング電極7より上下方向に電極指を延在し
て、グレーティング8a、9bの電極指と接続し、それ
ぞれの両端にバスバー9a、9bを形成した例である。
この場合もIDT電極6、グレーティング7の電極指の
幅はほぼ同じくするが、グレーティング電極9a、9b
の電極指幅はIDT電極6の電極指幅より幅広に形成す
る。
【0018】図5は本発明に係る他の実施例でIDT電
極10、グレーティング電極11の開口部の両側に並置
したグレーティング電極12a、12bより構成され
る。IDT電極10、グレーティング電極11とグレー
ティング電極12a、12bとの間にそれぞれバスバー
13b、13cを形成すると共にグレーティング電極1
2a、12bの両端にもバスバー13a、13dを形成
した例である。グレーティング電極12a、12bの電
極指幅をIDT電極10、グレーティング電極11の電
極指はより幅広に形成することにより、領域Bの伝搬速
度を領域Aのそれより遅くすることができる。更に、バ
スバーを多用して電極指のオーミックロスを減少させる
ことが可能である。電極指の抵抗による影響、例えばQ
値の劣化等を避けるためには場合には、図1よりも図5
を用いる方が望ましく、グレーティング領域Aと領域B
との間にメタライズ領域を少しでも配置したくない場合
には図4の構造を用いれば良い。
【0019】図1、4、5に示した弾性表面波導波路構
造を応用した例としは、SAW共振器、SAWフィルタ
等がある。SAW共振子を構成する場合は図1、4、5
に示したIDT部とグレーティング部を用いて、表面波
の伝搬方向に沿ってグレーティング部、IDT部、グレ
ーティング部の順に近接して配置すればよい。また、S
AWフィルタを構成する場合は、図1、4、5に示した
グレーティング部を表面波の伝搬方向に沿って2つ配置
し、その間に複数のIDT部あるいは2つのIDT部と
1つ以上のグレーティング部とを近接配置すればよい。
このような配置により縦結合型多重モードSAWフィル
タを構成することができる。なお、IDT電極部のピッ
チとグレーティング部のピッチとはそれによって構成さ
れるSAWデバイスのQ値が最大になるように適宜設定
すればよいことは云うまでもない。
【0020】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成したの
で、主伝搬方向の逆速度面が凹面となるような弾性表面
波基板において膜厚を厚くした場合にも、全ての周波数
範囲において導波が可能となり、低損失なフィルタを実
現する上で著しい効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る弾性表面波導波路構造のIDT電
極部、グレーティング電極部の構成を示す電極パターン
図である。
【図2】36°Y−X伝搬LiTaO3基板上のメタライズ部の速
度Vm、グレーティング電極を付着した場合のストップバ
ンド中央における速度Vgとストップバンド下端における
速度VgLと膜厚h/Lとの関係を示す図である。
【図3】電極指占有率ηを変えた場合のストップバンド
部の自由表面速度に対する表面波の速度比の周波数依存
性を示す図である。
【図4】本発明に係る他の弾性表面波導波路構造のID
T電極部、グレーティング電極部の構成を示す電極パタ
ーン図である。
【図5】本発明に係る他の弾性表面波導波路構造のID
T電極部、グレーティング電極部の構成を示す電極パタ
ーン図である。
【図6】従来の弾性表面波導波路構造のIDT電極部、
グレーティング電極部の構成を示す電極パターン図であ
る。
【図7】表面波のX軸方向の逆速度面SXが(a)は凸で
ある場合、(b)は凹である場合の説明図である。
【符号の説明】
2、6、10・・IDT電極 3、7、11・・グレーティング電極 4a、4b、8a、8b,12a、12b・・グレーテ
ィング電極 5a、5b、9a、9b、13a、13b、13c、1
3d・・バスバー A、B・・領域 α・・最低次の対称モードの変位分布 V・・表面波の速度 Vf・・自由表面波速度 Vg・・ストップバンド中央における速度(平均速度) Vm・・メタライズ面の速度 VgL・・ストップバンド下端における速度 h/L・・膜厚 η・・ライン占有率 f・・表面波の周波数 f0・・自由表面波速度VfをIDT電極の周期で除した周
波数 γ・・メタライズ面の速度Vmを示す δ・・ストップバンド下端近傍

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面波の主伝搬方向の逆速度面が凹面と
    なるような圧電基板において、IDT電極の開口の両外
    側に、開口部の電極指よりも幅広の電極指を有するグレ
    ーティング電極を配置したことを特徴とする弾性表面波
    導波路構造及びそれを用いたデバイス。
  2. 【請求項2】 前記弾性表面波導波路のIDT電極をグ
    レーティング反射器で置き換えたことを特徴とする弾性
    表面波導波路構造及びそれを用いたデバイス。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の弾性表面波
    導波路を用いて構成した共振子やフィルタなどの弾性表
    面波導波路構造及びそれを用いたデバイス。
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