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  1. 駆動回路と、
    第1のトランジスタと、
    第2のトランジスタと、を有し、
    前記第1のトランジスタは、酸化物半導体を有し、
    前記第2のトランジスタは、シリコンを有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第2のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、スイッチを介して、前記駆動回路と電気的に接続されている
    ことを特徴とする半導体装置。
  2. 駆動回路と、
    第1のトランジスタと、
    第2のトランジスタと、
    絶縁膜と、を有し、
    前記第1のトランジスタは、酸化物半導体を有し、
    前記第2のトランジスタは、シリコンを有し、
    前記絶縁膜は、前記酸化物半導体と、前記シリコンとの間にあり、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記絶縁膜の開口部を介して、前記第2のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、スイッチを介して、前記駆動回路と電気的に接続されている
    ことを特徴とする半導体装置。
  3. 駆動回路と、
    シリコンと、
    酸化物半導体と、
    第1の導電膜と、
    第2の導電膜と、
    第3の導電膜とを有し、
    前記第1の導電膜は、前記シリコンを有する第2のトランジスタのゲートとして機能する領域を有し、
    前記第2の導電膜は、前記酸化物半導体を有する第1のトランジスタのソース又はドレインとして機能する領域を有し、
    前記第2の導電膜と、前記酸化物半導体と、前記第3の導電膜とが重なる領域に容量を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第2のトランジスタのゲートの上面と接する領域を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、スイッチを介して、前記駆動回路と電気的に接続されている
    ことを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
    前記第2のトランジスタは、n型を有することを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
    前記第2のトランジスタは、p型を有することを特徴とする半導体装置。
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