JP2010519038A - 銅chaゼオライト触媒 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
本願は、35U.S.C.§119(e)に基づいて、U.S.特許出願No.60/891,835(出願日、2007年2月27日)及びU.S.特許出願No.12/038,423(出願日、2008年2月27日)の優先権を主張する。これらの文献はその全てがここに導入される。
本発明は、(International Zeolite Assosiationによって定義された)CHA結晶構造を有するゼオライト、このようなゼオライトを含む触媒、及びこのような触媒を組込んだ排気ガス処理(装置)に関する。この触媒は、排気ガス流(特にガソリン又はディーゼルエンジンから放出される排気ガス流)を処理するために使用される排気ガス処理システムの一部であって良い。
図1は、実施例1の方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2Oを、反応温度の関数として表したグラフである;
図1Aは、実施例1及び1Aの方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2O(ppm)を、反応温度の関数として表したグラフである;
図2は、実施例2の方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2Oを、反応温度の関数として表したグラフである;
図3は、実施例3の方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2O(ppm)を、反応温度の関数として表したグラフである;
図4は、実施例4の方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2O(ppm)を、反応温度の関数として表したグラフである;
図5は、種々の温度での、CO、プロペン、n−オクタン、及び水がCuCHA SCR活性に与える影響を表したグラフである;
図5Aは、実施例12Aに従いテストされたサンプルについて、貯蔵、放出、コークスとして堆積したHCの量及び燃焼コークスの量を表したグラフである;
図5Bは、実施例12Aに従う、CuY及びFeベータゼオライトと比較したCuCHAの炭化水素性能を表した棒グラフである;
図6は、実施例13及び14の方法に従って製造され、及び熟成されたAMOX触媒出口からのNH3、NOX(=NO+NO2)、N2O及びN2の放出を、窒素原子をベースにppmで表したグラフである;
図7は、実施例16の方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2O(ppm)を、反応温度の関数として表したグラフである;
図8は、実施例17の方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2O(ppm)を、反応温度の関数として表したグラフである;
図9は、実施例18の方法に従い製造されたCuCHAについて、窒素酸化物除去効率(%)、アンモニア消費(%)、及びCuCHA触媒の生成N2O(ppm)を、反応温度の関数として表したグラフである;
図10A、10B及び10Cは、本発明の排気処理システムの3つの例示的な実施の形態の概略図である;
図11は、実施例20と22AのUV/VISである;
図12は、CHA及び熟成CHAサンプルと比較した、実施例22及び22Aの27AlMASNMRスペクトルである。
本発明の例示的な実施の形態をいくつか説明する前に、本発明は、以下に記載する構成又は工程の詳細に限定されるものではないことが理解されるべきである。本発明は、他の実施の形態が可能であり、そして種々の方法で行うことができる。
触媒組成物は、基材に設けられる。基材は、触媒を製造するために使用される如何なるものであっても良く、そして通常、セラミック又は金属ハニカム構造を含む。適切な如何なる基材も使用して良く、例えば入口から出口面まで伸びる微細で平行なガス流通路(該ガス流通路は開口しており、流体が通路を流れることができる)を有するモノリス基材(ハニカム流通基材と称される)を使用して良い。その流体入口から流体出口までを実質的にまっすぐに伸びる通路は、壁部によって規定されており、この壁部に触媒材料がワッシュコートとして堆積され、これにより通路を流れるガスが触媒材料と接触する。モノリス基材の流体通路は薄壁の流路(通路:channel)であり、該流路は、台形、長方形、四角形、正弦曲線、六角形、長円形、円形等の適切な如何なる断面形状と大きさを有していても良い。このような構造は、断面の1平方インチ当たり、約60〜約400又はそれ以上の入口開口部(すなわちセル)を含んでいても良い。
一つ以上の実施の形態では、CuCHAのワッシュコートは、バインダーを使用して製造することができる。一つ以上の実施の形態では、適切な前駆体、例えばジルコニルアセテート又は他の適切なジルコニウム前駆体、例えばジルコニルニトレートから誘導されるZrO2が使用される。一実施の形態では、ジルコニルアセテートバインダーは、均質性を保持し、及び熱的熟成の後、例えば、触媒が、少なくとも約600℃、例えば、約800℃以上で、約10%以上の高水蒸気の環境に曝された場合に損なわれていない触媒被覆を提供する。ワッシュコートを損なうことなく保持することは有利である。この理由は、弛んだ、又は遊離し(単離した)被覆物は、CSFを塞ぎ得るもので、背圧が増加する原因になるからである。
このことは、次ぎのように行って良い。すなわち、微細な粒子状耐火金属酸化物担体材料、例えば、ガンマアルミナを1種以上の触媒金属成分、例えば貴金属、すなわち白金族、化合物又は他の貴金属又は卑金属に浸漬させ、乾燥させ、及び浸漬(含浸)した担体粒子をか焼(焼成)し、及びこれら粒子の水性スラリーを形成することによって行って良い。バルク銅菱沸石の粒子をスラリーに含んでも良い。触媒成分をその上に分散させる前に、活性化したアルミナを熱的に安定化しても良い。この熱的な安定化は、この技術分野では公知のように、例えば、バリウム、ランタン、ジルコニウム、希土類金属の溶解性の塩又は他の適切な安定剤前駆体の溶液に浸漬(含浸)させ、次に乾燥(例えば、110℃で1時間)させ、そして浸漬させて活性化したアルミナを、か焼(例えば、550℃で1時間)させてアルミナ上に分散した安定化金属酸化物を形成することにより行っても良い。卑金属触媒を、任意に活性化アルミナに含浸させて良く、例えば、卑金属の溶液をアルミナ粒子に含浸させ、そしてか焼(焼成)してアルミナ粒子に分散した卑金属酸化物を得ても良い。
(シリカ/アルミナモル割合が30の)100gのNH4 +状CHAを400mLの1.0Mの銅(II)サルフェート溶液と混合することにより、CuCHA粉末触媒を製造した。硝酸で、pHを3.5に調節した。スラリーを80℃で1時間攪拌させて、NH4 +状CHAと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、800mLの脱イオン水で、ろ液が透明で無色になるまで(3箇所で)洗浄した。このことは、溶解性又は遊離銅がサンプル内に実質的に残っていないことを示す。そして洗浄したサンプルを90℃に乾燥した。イオン交換、ろ過、洗浄及び乾燥を含む上述した工程を、もう一度繰り返した。
実施例1の被覆スラリーに、銅サルフェートペンタハイドレートが加えられ、合計CuOレベルを3.2%とした。モノリスを640℃でか焼したこと以外は、実施例1に概説したようにスラリーをモノリスに被覆し、及び熟成させ、そしてSCR NOXについて試験した。図1Aで、触媒性能を実施例1と比較した。被覆スラリーに銅サルフェートを加えることにより、熱水的な安定性と低温活性がかなり改良される。
(シリカ/アルミナモル割合が30の)17KgのNH4 +状CHAと、68Lの1.0Mの銅(II)サルフェート溶液を混合することにより、CuCHA粉末触媒を製造した。硝酸で、pHを3.5に調節した。スラリーを80℃で1時間攪拌させて、NH4 +状CHAと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、そして空気乾燥した。イオン交換、及びろ過を含む上述した工程を、もう一度繰り返した。濡れた状態のろ過ケーキを40Lの脱イオン水に再スラリー化し、次にろ過し、そして90℃で乾燥した。得られたCuCHA生成物を次に空気中で640℃で6時間か焼した。得られたCuCHA触媒は2.75質量%のCuOを含んでいた。
実施例2と同様の工程及び次に初期湿潤含浸を行うことにより、3.36質量%CuOを含むCuCHO触媒を製造した。
初期湿潤含浸工程だけで、3.85質量%CuOを含むCuCHO触媒を製造した。18.3gの銅サルフェートペンタハイドレート及び168mLの脱イオン水を含む銅サルフェート溶液を、シリカ/アルミナモル割合が30の、140gのNH4 +状CHAに含浸させた。次に、含浸させたサンプルを90℃で乾燥させ、そして640℃で6時間か焼した。
スラリーの製造、被覆及びSCR NOX評価は、実施例1について概説したものと同様である。図4に示したように、実施例4は、熱水熟成の後、350℃と450℃の間で、性能の低下を示した。
単一イオン交換(single ion-exchange)でサンプルを製造したこと以外は実施例1と同様の方法で、1.94質量%CuOを含むCuCHA触媒を製造した。
(シリカ/アルミナモル割合が15の)0.2KgのNH4 +状CHAと、16mLの25mMの銅(II)サルフェート溶液を混合することにより、CuCHA粉末触媒を製造した。スラリーを80℃で1時間攪拌させて、NH4 +状CHAと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、脱イオン水で洗浄し、そして90℃で乾燥した。イオン交換、ろ過、洗浄及び乾燥を含む上述した工程を、もう一度繰り返した。得られたCuCHA生成物を次に空気中で540℃で16時間か焼した。得られたCuCHA触媒は4.57質量%のCuOを含んでいた。
シリカ/アルミナモル割合が30、及びイオン交換工程を4回繰り返したこと以外は、実施例6と同様の方法(該方法は、イオン交換、ろ過、洗浄、乾燥、か焼及び熱水的熟成を含む)を使用して、2.94質量%のCuOを含むCuCHA粉触媒を製造した。
シリカ/アルミナモル割合が50であること以外は、実施例6と同様の方法(該方法は、イオン交換、ろ過、洗浄、乾燥、か焼及び熱水的熟成を含む)を使用して、0.45質量%のCuOを含むCuCHA粉触媒を製造した。
(シリカ/アルミナモル割合が256の)15.0gのNH4 +状CHAと、61mLの0.64Mの銅(II)サルフェート溶液を混合することにより、CuCHA粉末触媒を製造した。スラリーを80℃で1時間攪拌させて、NH4 +状CHAと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。得られた混合物を次にろ過し、脱イオン水で洗浄し、そして90℃で乾燥した。イオン交換、ろ過、洗浄及び乾燥を含む上述した工程を、もう4回繰り返した。得られたCuCHA生成物を次に空気中で540℃で16時間か焼した。得られたCuCHA触媒は2.63質量%のCuOを含んでいた。
シリカ/アルミナモル割合が5のCu/Yゼオライト粉触媒を以下に説明するように製造した。
実施例10で製造したサンプルに類似した手順を使用して、シリカ/アルミナモル割合が35のCu/Beta粉末触媒を製造した。熱水熟成及びSCR評は、実施例1で概説したものと同様である。
実施例で試験するサンプルを以下のように製造した。
HC貯蔵/放出試験:
ガス及び装置:
144個の開口したセルを示し、及び長さが1”のセラミックモノリス(400cpsi/6mill)に被覆されたCuCHAの触媒コアを50時間、800℃で、10%H2O、10%O2、バランスO2中に熟成させた。次に、触媒を実験室反応器内に配置した。触媒を4%H2O、14%O2、100ppmNO、バランスN2を含むガス混合物中に曝し、そして100℃に加熱した。100℃で温度的に安定化させた後、トルエンオクタンのブレンドを質量流制御器を介して加えた。これは、合計空間速度が104kh-1で、オクタンとして100ppmC1、及びトルエンとして100ppmC1の目標濃度を達成するように行った。流出するガスをPt/アルミナベース酸化触媒を含む再燃焼装置(アフターバーナー)に案内し、そして600℃で一定に保持した。部分的な酸化生成物及びCuCHA触媒上で形成されても良いCOが、再燃焼装置を通過した時にCO2にされる。再燃焼装置からのCO2流出物が、IRCO2分析装置によって監視される。平行して、再燃焼装置を迂回した、CuCHAからの流出物のスリップ流が、FID−HC分析装置によって分析された。
100℃で、4%H2O、14%O2、100ppmNO、バランスN2中でCuCHA触媒を安定化させた後、オクタンとトルエンの炭化水素ブレンドを導入した。10分の間、触媒温度を100℃に維持した。この期間、HCを触媒上に貯蔵し、これによりCO2再燃焼装置出口信号がHC入口濃度未満になった。貯蔵期間の後、温度を、20℃/分の傾斜で、直線的に100℃から600℃に上昇させた。CO2再燃焼装置信号は、鋭く上昇した。これは、貯蔵されたHCが触媒から放出されたことに起因する。脱離が完了した後、CO2信号は、基準値(=供給ガス濃度)に戻った。温度が上昇するに従い、再燃焼装置出口CO2が、供給ガスレベル未満に僅かに減少し、HC除去の第2のタイプを示す。これは、触媒上で、トルエンとオクタンから形成された炭素質の堆積(沈澱)に起因する。温度が上昇するに従い、形成された炭素質の更なる堆積物が燃焼され、そして、CO2再燃焼装置出口信号を上昇させる要因になる。炭素質堆積物の燃焼が完了した後、CO2再燃焼装置信号は、最終的にその基準値に戻る。
(コークス及び燃焼コークスとして)貯蔵、放出、堆積したHCの量を測定(調査)するために、CO2信号再燃焼装置を定量的に評価した。図5Aに示した、再燃焼装置出口CO2トレースとHC供給ガス濃度との交差点を積分限界(integration limit)として使用した。CuCHAの実施例のために、これらの積分限界は、貯蔵について、おおよそ0〜800s、放出について、おおよそ800s〜1000s、コークス化について、おおよそ1000s〜1400sであった。貯蔵、放出、コークスとして堆積及び次に燃焼される量を、供給ガス流HCの平均C:H割合に基いて、mgHCとして表した。
この実験を、同一条件下で、同一堆積の、Cu−Y(10%H2O、10%O2、バランスN2中、25時間@750℃で熟成後)及びFe−Beta(10%H2O、10%O2、バランスN2中、50時間@800℃で熟成後)SCR触媒を使用して行なった。CuCHAの場合、コークス化は非常に少なく、そしてその結果、顕著なバーンオフ信号はなかった。結果を図5Bに9示す。CuCHA触媒がHCを最小の量で貯蔵し、大半のHCをHCとして放出し、そしてコークスとして殆ど堆積しないことが明確である。これとは対照的に、Cu−Y触媒は、約200℃〜450℃の温度範囲で、炭素質の堆積を相当量形成した。形成されたコークスの一部は、次に高温で燃焼除去された。
CuCHAを含むアンモニア酸化触媒を実施例12のように製造し、そしてこの触媒は、CuOとして計算して銅の含有量が3.68%、及びSiO2/Al2O3割合が30であった。この材料を、400セル/in3の四角形セル形状を有する標準モノリスコージライト担体に被覆し、モノリスバルク体積に対して2.40g/in3の積載量とした。この予備被服されたモノリスを次に、白金含有前駆体(プラチナヒドロキシアミン錯体)の溶液中に漬け、白金前駆体を該当部位に完全に及び均一に分散させた。この部位を110℃で乾燥させ、次に450℃で1時間か焼(焼成)した。これにより、上記部位について、モノリスバルク体積に対して4.3g/ft3の積載量を得た。従って、触媒は、次の組成を有していた:標準コージライト400/6担体に被覆された、CuCHAに担持された3.68%CuO+0.10%Prで、部位の合計積載量が約2.4g/in3。本触媒のAl:Cu:Pt原子割合は、約190:90:1である。Al/M割合(M=Cu+Pt)は、約2.1であった。
熱水熟成させたAMOX触媒コア(実施例13に記載されたように製造)のアンモニア除去効率及び酸化生成物の選択性を測定した。該測定は、N2でバランスさせた、500ppmのNH3、10%O2,5%H2Oの供給ガス混合物を定常状態の反応器(反応器内には、正面の断面に144個の開口セルを含む、長さが3.0インチの四角シリンダー状の触媒コアが配置されている)に加えることによって行った。反応は、150℃〜460℃の温度範囲で、空間速度(space velocity)が100,000hr-1で行った。熱水敵熟成の条件は、空気中、10時間、700℃及び10%H2Oであった。図6は、熱水的熟成させたCuCHAサンプルからの放出と比較した放出を示したグラフである。このデータは、1)Pt含浸を行わなかったCuCHAによって触媒作用を及ぼされた、NH3のN2への変換の高い選択性、及び2)白金成分を含めることによって、(N2の高い選択性を損なうことなく)NH3変換が飛躍的に上昇することを示している。従来技術は、
金属ガーゼとしの白金、又は他の酸化物又はゼオライト担体に担持された白金が、通常では、N2O又はNOXを生成するのに選択性を有するという点で、後者が重要である。
同程度の積載量での、流通基材及び壁流フィルター上のCuCHA処方物の比較。壁流フィルターを実施例3の流通触媒担体と同じ触媒で被覆し、そして2個のサンプルを計測して触媒活性を比較した。
608gのNH4 +−CHA(シリカ/アルミナモル割合が30)と796mLの脱イオン水を混合することにより、NH4 +−CHAスラリーを製造した。この混合物をNetzsch Millを使用して粉砕(製粉)し、90%の粒子が8.4μmよりも小さいもののスラリーを得た。稀酢酸中の106gのジルコニウムアセテート(30%ZrO2を含む)をスラリーに攪拌させながら加えた。
12.1gの銅アセテートモノハイドレートを420gの脱イオン化した水に溶解し、次にシリカ/アルミナモル割合が30のNH4 +−CHAを加えた。Netzsch Millを使用して、この混合物を粉砕し、90%の粒子が3.5μmよりも小さいもののスラリーを得た。
銅アセテートでイオン交換することにより、CuCHA粉末触媒を製造した。89.8gの銅塩を1.125Lの脱イオン水に70℃で加えることにより銅(II)アセテートモノヒドレート溶液を製造した。次に、300gのNH4 +状CHAをこの溶液に加えた。このスラリーを70℃で1時間攪拌することにより、NH4 +状CHAと銅イオンとの間のイオン交換反応を行った。反応の間、pHは、4.8〜4.5の間であった。得られた混合物を次にろ過し、ろ液の伝導度が<200μScm-1になるまで洗浄し(このことは、溶解性銅又は遊離銅がサンプル内に残っていないことを示す)、そして洗浄したサンプルを90℃で乾燥させた。得られたCuCHA触媒はCuOを3.06質量%及びNa2Oを140ppm含んでいた。
0.30MCu溶液中でこのサンプルを製造したこと以外は、実施例18と同様の方法で、CuOを2.99質量%含むCuCHA触媒を製造した。
イオン交換を45℃で行ったこと以外は、実施例18と同様の方法で、CuOを2.69質量%含むCuCHA触媒を製造した。
イオン交換を45℃で行ったこと以外は、実施例19と同様の方法で、CuOを2.51質量%含むCuCHA触媒を製造した。
実施例2で製造したCu/CHA粉末を空気中、10%H2O、800℃で48時間、熱水的に熟成した。図11及び図12及び表5及び6では、実施例2からの分析した材料を実施例22とした。表5及び6及び図11及び12では、熱水的に熟成したサンプルを実施例22Aとした。
19 エンジン
23 バルブ
24 混合ステーション
25 ライン
26 ライン
27 基材
34 触媒基材
Claims (38)
- CHA結晶構造を有し、及びシリカのアルミナに対するモル割合が約15よりも大きく、及び銅のアルミニウムに対する原子割合が約0.25を超えるゼオライトを含むことを特徴とする触媒。
- 前記シリカのアルミナに対するモル割合が約15〜約256の範囲であり、及び前記銅のアルミニウムに対する原子割合が約0.25〜0.50の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の触媒。
- 前記シリカのアルミナに対するモル割合が約25〜約40の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の触媒。
- 前記シリカのアルミナに対するモル割合が約30であることを特徴とする請求項2に記載の触媒。
- 前記銅のアルミニウムに対する原子割合が約0.30〜0.50の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の触媒。
- 前記銅のアルミニウムに対する原子割合が約0.40であることを特徴とする請求項2に記載の触媒。
- 前記シリカのアルミナに対するモル割合が約25〜約40の範囲であり、及び前記銅のアルミニウムに対する原子割合が約0.30〜0.50の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の触媒。
- 前記シリカのアルミナに対するモル割合が約30であり、及び前記銅のアルミナに対する原子割合が約0.40であることを特徴とする請求項2に記載の触媒。
- 触媒が、イオン交換した銅と非交換の銅を含み、及び
前記非交換の銅の量が、触媒を熱水的に熟成させた後の前記触媒の、酸化窒素を含む排気ガス流におけるNOX変換性能を維持するのに充分な量であることを特徴とする請求項2に記載の触媒。 - 熟成の後の触媒の、約200℃におけるNOX変換性能が、熟成の前の触媒の、約200℃におけるNOX変換性能に対して、少なくとも90%であることを特徴とする請求項9に記載の触媒。
- 触媒が、少なくとも約2.00質量%の酸化銅を含むことを特徴とする請求項9に記載の触媒。
- 触媒が、ハニカム基材に堆積されていることを特徴とする請求項1に記載の触媒。
- ハニカム基材が壁流基材を含むことを特徴とする請求項12に記載の触媒。
- ハニカム基材が流通基材を含むことを特徴とする請求項12に記載の触媒。
- 流通基材の少なくとも一部分が、基材を通って流れるガス流中に含まれる窒素の酸化物を還元するために適用されたCuCHAで被覆されていることを特徴とする請求項14に記載の触媒。
- 流通基材の少なくとも一部分が、排気ガス流中のアンモニアを酸化するために適用されたPt及びCuCHAで被覆されていることを特徴とする請求項15に記載の触媒。
- 流通基材の少なくとも一部分が、排気ガス流中のアンモニアを酸化するために適用されたPt及びCuCHAで被覆されていることを特徴とする請求項14に記載の触媒。
- 壁流基材の少なくとも一部分が、基材を通って流れるガス流中に含まれる窒素の酸化物を還元するために適用されたCuCHAで被覆されていることを特徴とする請求項13に記載の触媒。
- 壁流基材の少なくとも一部分が、排気ガス流中のアンモニアを酸化するために適用されたPt及びCuCHAで被覆されていることを特徴とする請求項18に記載の触媒。
- 壁流基材の少なくとも一部分が、排気ガス流中のアンモニアを酸化するために適用されたPt及びCuCHAで被覆されていることを特徴とする請求項13に記載の触媒。
- 請求項15に記載の触媒を含む排気ガス処理システム。
- 請求項17に記載の触媒を含む排気ガス処理システム。
- 請求項18に記載の触媒を含む排気ガス処理システム。
- 請求項20に記載の触媒を含む排気ガス処理システム。
- 酸素の存在下に、ガス流中に含まれる窒素の酸化物を還元する方法であって、請求項1に記載の触媒に、ガス流を接触させることを含む方法。
- 酸素の存在下に、ガス流中に含まれる窒素の酸化物を還元する方法であって、請求項15に記載の触媒に、ガス流を接触させることを含む方法。
- 酸素の存在下に、ガス流中に含まれる窒素の酸化物を還元する方法であって、請求項16に記載の触媒に、ガス流を接触させることを含む方法。
- 更に、請求項17に記載の触媒に、ガス流を接触させることを含む請求項26に記載の方法。
- 酸素の存在下に、ガス流中に含まれる窒素の酸化物を還元する方法であって、ガス流を請求項18に記載の触媒に接触させることを特徴とする方法。
- 酸素の存在下に、ガス流中に含まれる窒素の酸化物を還元する方法であって、ガス流を請求項19に記載の触媒に接触させることを特徴とする方法。
- 更に、ガス流を、請求項20に記載の触媒と接触させることを特徴とする請求項29に記載の方法。
- 基材に堆積したCHA結晶構造を有するゼオライトを有するハニカム基材を含む触媒製品であって、ゼオライトは、シリカのアルミナに対するモル割合が約15を超え、及び銅のアルミニウムに対する原子割合が約0.25を超え、及びイオン交換した銅を超える量の遊離銅を含むことを特徴とする触媒製品。
- 遊離銅の量は、触媒の窒素酸化物の変換性能の熱水による劣化を防止するのに十分な量であることを特徴とする請求項32に記載の触媒。
- 遊離銅が、熱水的熟成において、触媒の窒素酸化物の変換性能の熱水的劣化を防止することを特徴とする請求項33に記載の触媒。
- 更にバインダーを含むことを特徴とする請求項32に記載の触媒。
- イオン交換銅が酢酸銅を使用して交換されることを特徴とする請求項32に記載の触媒。
- NOXを含む排気ガス流、及び排気ガス中のNOXの少なくとも1種の成分を選択的に触媒還元するのに有効な請求項1に記載の触媒を含むことを特徴とする排気ガス処理システム。
- アンモニアを含む排気ガス流、及び排気ガス中のアンモニアの少なくとも一部を破壊するのに有効な請求項1に記載の触媒を含むことを特徴とする排気ガス処理システム。
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