JP2007534813A - 射出成形用ポリエチレン - Google Patents

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Abstract

エチレンホモポリマーおよび/またはエチレンと1−アルケンとのコポリマーを含み、3〜30のモル質量分布幅Mw/Mn、0.945〜0.965g/cm3の密度、50000g/mol〜200000g/molの重量平均モル質量Mw、10〜300g/10minのHLMIを有し、炭素原子1000個あたり0.1〜15分岐を有するポリエチレンであって、最大モル質量を有する1〜15重量%のポリエチレンが、炭素原子1000個あたり1分岐を超える分岐度のCH3より大きな側鎖を有する、前記ポリエチレン、その調製方法、その調製に適した触媒、およびこのポリエチレンが中に存在している射出成形品に関する。

Description

発明の詳細な説明
説明
本発明は、エチレンホモポリマーおよび/またはエチレンと1−アルケンとのコポリマーを含み、3〜30のモル質量分布幅(molar mass distribution width)Mw/Mn、0.945〜0.965g/cm3の密度、50000g/mol〜200000g/molの重量平均モル質量(weight average molar mass)Mw、10〜300g/10minのHLMIを有し、炭素原子1000個あたり0.1〜15分岐を有する新規ポリエチレンであって、最大モル質量を有する1〜15重量%のポリエチレンが、炭素原子1000個あたり1分岐を超える分岐度のCH3より大きな側鎖を有する、前記ポリエチレン、触媒組成物、およびその調製方法、ならびに、このポリエチレンが中に存在している射出成形品に関する。
異なるポリエチレンのブレンドは公知であり、DE−C3437116に開示されているように高い耐応力亀裂性を伴う射出成形品の作製に用いられている。
最近、ポリエチレンブレンドを射出成形に用いて、多くのタイプのねじ込みクロージャーが生産されている。ねじ込みクロージャーが射出成形手順後の冷却中にその寸法および形状を保持する、すなわち収縮しない(低い収縮)と有利である。低い収縮は、形状の保持と相まって、例えば正確にかみ合うねじ込みクロージャーを生産するために用いられるプラスチックの重要な性質に相当する。さらに、射出成形工程は通常、ポリエチレン成形材料が溶融体において良好な流動性を有する場合、実施することがより容易になる。高まり続ける需要は、ポリエチレンを含む成形品の機械的強度に起因する。他方、高い処理料を達成する良好な加工性が求められている。
WO00/71615には、0.950〜0.98g/cm3の密度、60〜90%の結晶化度を有し、異なるモル質量分布を伴う少なくとも2種のポリエチレン成分からなり、ここにおいて、少なくとも1成分がエチレンのコポリマーである、二峰性(bimodal)ポリエチレンからの射出成形容器が開示されている。該ポリエチレンは、反応器のカスケードを経るか、2成分の溶融押出により得られる。
公知のエチレンコポリマーブレンドは、良好な機械的性質、溶融体の高い流動性、および良好な光学的性質の組合わせに関し、今なお十分ではない。
意外にも、特定の触媒組成物であって、これにより良好な機械的性質、良好な加工性および良好な光学的性質を有するポリエチレンを調製することができるものを用いることにより、この目的を達成することができることを見いだした。
したがって、われわれは、エチレンホモポリマーおよび/またはエチレンと1−アルケンとのコポリマーを含み、3〜30のモル質量分布幅Mw/Mn、0.945〜0.965g/cm3の密度、50000g/mol〜200000g/molの重量平均モル質量Mw、10〜300g/10minのHLMIを有し、炭素原子1000個あたり0.1〜15分岐を有するポリエチレンであって、最大モル質量を有する1〜15重量%のポリエチレンが、炭素原子1000個あたり1分岐を超える分岐度のCH3より大きな側鎖を有するものを見いだした。
われわれはまた、本発明のポリエチレンが主要成分として中に存在している射出成形品、キャップおよびクロージャーを見いだした。さらに、われわれは、射出成形品を生産するための本発明のポリエチレンの使用を見いだした。
われわれはまた、本発明のポリエチレンを調製するための触媒系、エチレンの重合および/またはエチレンと1−アルケンとの共重合での該触媒系の使用、ならびに該触媒系の存在下でエチレンの重合および/またはエチレンと1−アルケンとの共重合により本発明のポリエチレンを調製するための方法を見いだした。
本発明のポリエチレンは、3〜30、好ましくは5〜20、とりわけ好ましくは6〜15の範囲にモル質量分布幅Mw/Mnを有する。本発明のポリエチレンの密度は、0.945〜0.965g/cm3の範囲、好ましくは0.947〜0.96g/cm3、とりわけ好ましくは0.948〜0.955g/cm3の範囲にある。本発明のポリエチレンの重量平均モル質量Mwは、50000g/mol〜200000g/mol、好ましくは70000g/mol〜150000g/mol、とりわけ好ましくは80000g/mol〜120000g/molの範囲にある。本発明のポリエチレンのHLMIは、10〜300g/10minの範囲、好ましくは50〜200g/10min、とりわけ好ましくは70〜150g/10minの範囲にある。本発明の目的に関し、“HLMI”という表現は公知のように“高荷重メルトインデックス”をさし、ISO 1133に従って190℃において21.6kgの荷重下(190℃/21.6kg)で決定される。
密度[g/cm3]はISO 1183に従って決定した。モル質量分布および平均値Mn、Mwおよびそれらから導かれるMw/Mnの決定は、DIN55672に基づく方法で、順次接続された以下のカラム:3×SHODEX AT 806 MS、1×SHODEX UT 807および1×SHODEX AT−Gを用いて、以下の条件:溶媒:1,2,4−トリクロロベンゼン(0.025重量%の2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールで安定化したもの)、流量:1mL/min、500μL注入容量、温度:135℃、PE標準液を用いての較正において、WATERS 150Cで高温ゲル透過クロマトグラフィーにより実施した。評価は、WIN−GPCを用いて実施した。
本発明のポリエチレンは、炭素原子1000個あたり0.1〜15分岐、好ましくは炭素原子1000個あたり0.2〜8分岐、とりわけ好ましくは炭素原子1000個あたり0.3〜3分岐を有する。炭素原子1000個あたりの分岐は、James.C.Randall,JMS−REV.Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),201−317(1989)により記載されているように13C−NMRにより決定し、炭素原子1000個あたりのCH3基の全含量をさす。
さらに、本発明のポリエチレンでは、最大モル質量を有する1〜15重量%、好ましくは2〜12重量%、とりわけ好ましくは3〜8重量%のポリエチレンが、炭素原子1000個あたり1分岐を超える分岐度のCH3より大きな側鎖、好ましくは炭素原子1000個あたり2〜20分岐の範囲のCH3より大きな側鎖、とりわけ好ましくは炭素原子1000個あたり5〜15分岐の範囲のCH3より大きな側鎖を有する。これは、W.Holtrup,Makromol.Chem.178,2335(1997)に記載されているような後にHoltrup分別とよばれる溶媒−非溶媒分別を、異なる画分のIR測定と結びつけることにより、決定することができる。130℃でキシレンとエチレングリコールジエチルエーテルを分別用の溶媒として用いた。5gのポリエチレンを用い、8画分に分けた。その後、それら画分を13C−NMR分光法により試験した。さまざまなポリマー画分における分岐度は、James.C.Randall,JMS−REV.Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),201−317(1989)により記載されているように13C−NMRにより決定することができる。本発明のポリエチレンは、50%未満、とりわけ10〜45%のCDBIを有することが好ましい。CDBIの決定方法は、例えばWO93/03093に記載されている。TREF法は、例えば、Wild,Advances in Polymer Science,98,p.1−47,57p.153,1992に記載されている。CDBIは、平均全モルコモノマー含量の±25%のコモノマー含量を有するコポリマー分子の重量百分率と定義される。CH3より大きな側鎖の分岐は、末端基を除く炭素原子1000個あたりの側鎖の含量をさす。
本発明のポリエチレンのモル質量分布は、単峰性(monomodal)、二峰性または多峰性であることができる。本特許出願において、単峰性モル質量分布とは、モル質量分布が単一の極大を有することを意味する。二峰性モル質量分布とは、本特許出願の目的に関し、モル質量分布が、極大から開始する一側面(flank)に少なくとも2つの変曲点を有することを意味する。モル質量分布は単峰性または二峰性、とりわけ二峰性であることが好ましい。
ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)により分別すると、本発明のポリエチレンの1〜15重量%、好ましくは2〜12重量%、とりわけ好ましくは3〜8重量%が最大モル質量を有し、続いてこの画分を“分析温度上昇溶離分別技術”(TREF)により試験すると、極大が80℃より高温、好ましくは85℃より高温、とりわけ好ましくは90℃より高温である高密度ポリエチレンのピークは示されないことが好ましい。さまざまな温度で得られる画分におけるポリマーの濃度は、赤外分光法により測定する。TREFの結果は、規定数の短鎖分岐を有する予備単離されたポリエチレン画分により較正することができる。TREF法は、例えば、Wild,Advances in Polymer Science,98,p.1−47,57p.153,1992に記載されている。
本発明のポリエチレンをTREFにより試験すると、GPCにより試験したときに80℃より高温、好ましくは85℃より高温、とりわけ好ましくは90℃より高温の極大における画分は、通常のチーグラー触媒で得られるポリエチレンとは対照的に、1Mio g/mol未満のモル質量を伴うポリエチレンしか示さない。
本発明のポリエチレンは、炭素原子10000個あたり0〜2分岐の長鎖、とりわけ好ましくは炭素原子10000個あたり0.1〜1.5分岐の長鎖の長鎖分岐度λ(ラムダ)を有することが好ましい。長鎖分岐度λ(ラムダ)は、例えば、ACS Series 521,1993,Chromatography of Polymers,Theodore Provder編集;Simon PangおよびAlfred Rudin:Size−Exclusion Chromatographic Assessment of Long−Chain Branch Frequency in Polyethylenes,254〜269頁に記載されているような光散乱により測定した。
最小モル質量を有する5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%、とりわけ好ましくは15〜30重量%の本発明のポリエチレンは、炭素原子1000個あたり10分岐未満の分岐度を有することが好ましい。ポリエチレンの最小モル質量を有する部分におけるこの分岐度は、好ましくは炭素原子1000個あたり0.01〜9分岐、とりわけ好ましくは炭素原子1000個あたり0.1〜6分岐である。これは、上記Holtrup/13C−NMR法により決定することができる。炭素原子1000個あたりの分岐は、James.C.Randall,JMS−REV.Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),201−317(1989)により記載されているような13C−NMRにより決定され、炭素原子1000個あたりのCH3基の全含量をさす。
本発明のポリエチレンは、炭素原子1000個あたり少なくとも0.2個のビニル基、好ましくは炭素原子1000個あたり0.7〜5個のビニル基、とりわけ好ましくは炭素原子1000個あたり0.9〜3個のビニル基を有する。炭素原子1000個あたりのビニル基の含量は、IR、ASTM D6248−98により決定する。本発明の目的に関し、ビニル基という表現は−CH=CH2基をさす;ビニリデン基および内部オレフィン基は、この表現に包含されない。ビニル基は通常エチレン挿入後のポリマー停止反応に起因するが、ビニリデン末端基は通常コモノマー挿入後のポリマー停止反応後に形成する。
本発明のポリエチレンは、炭素原子1000個あたりCH3より大きな側鎖、好ましくは炭素原子1000個あたりC2−C6からの側鎖を0.01〜20分岐、好ましくは、炭素原子1000個あたりCH3より大きな側鎖、好ましくは炭素原子1000個あたりC2−C6からの側鎖を1〜15分岐、とりわけ好ましくは、炭素原子1000個あたりCH3より大きな側鎖、好ましくは炭素原子1000個あたりC2−C6からの側鎖を2〜8分岐有する。炭素原子1000個あたりのCH3より大きな側鎖の分岐は、James.C.Randall,JMS−REV.Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),201−317(1989)により記載されているような13C−NMRにより決定され、炭素原子1000個あたり(末端基を除く)のCH3基より大きな側鎖の全含量をさす。1−ブテン、1−ヘキセンまたは1−オクテンをα−オレフィンとして伴うポリエチレンでは、炭素原子1000個あたり0.01〜20個のエチル、ブチルまたはヘキシル側枝、好ましくは炭素原子1000個あたり1〜15個のエチル、ブチルまたはヘキシル側枝、とりわけ好ましくは炭素原子1000個あたり2〜8個のエチル、ブチルまたはヘキシル側枝を有することがとりわけ好ましい。これは、末端基を除く炭素原子1000個あたりのエチル、ブチルまたはヘキシル側鎖の含量をさす。
本発明のポリエチレンにおいて、10000g/mol未満、好ましくは20000g/mol未満のモル質量を有するポリエチレン部分は、炭素原子1000個あたりCH3より大きな側鎖、好ましくは炭素原子1000個あたりC2−C6からの側鎖を、0〜1.5分岐の分岐度で有することが好ましい。10000g/mol未満、好ましくは20000g/mol未満のモル質量を有するポリエチレン部分が、炭素原子1000個あたりCH3より大きな側鎖、好ましくは炭素原子1000個あたりC2−C6からの側鎖を0.1〜0.9分岐の分岐度で有することがとりわけ好ましい。好ましくは、1−アルケンとして1−ブテン、1−ヘキセンまたは1−オクテンを伴う本発明のポリエチレンでは、10000g/mol未満、好ましくは20000g/mol未満のモル質量を有するポリエチレン部分は、炭素原子1000個あたり0〜1.5分岐度のエチル、ブチルまたはヘキシル側鎖を有することが好ましい。10000g/mol未満、好ましくは20000g/mol未満のモル質量を有するポリエチレン部分が、炭素原子1000個あたり0.1〜0.9分岐の分岐度のエチル、ブチルまたはヘキシル側鎖を有することがとりわけ好ましい。これも、上記Holtrup/13C−NMR法により決定することができる。
さらに、本発明のポリエチレン中のCH3より大きな側鎖分岐の少なくとも70%は、最大モル質量を有する50重量%のポリエチレン中に存在することが好ましい。これも、上記Holtrup/13C−NMR法により決定することができる。
本発明のポリエチレンは、3未満、とりわけ0〜2.5のISO 13949に従って測定される混合品質を有することが好ましい。この値は、反応器から直接取り出したポリエチレン、すなわち、押出機における事前溶融なしのポリエチレン粉末に基づく。好ましくは、このポリエチレン粉末は、単一の反応器での重合により得ることができる。
本発明のポリエチレンのエチレンコポリマー部分において、エチレンに加えてエチレンコポリマー中に個々にまたは互いとの混合物として存在することができるコモノマーである1−アルケンとしては、3〜12個の炭素原子を有するあらゆる1−アルケン、例えば、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘプテン、1−オクテンおよび1−デセンを用いることが可能である。エチレンコポリマーは、4〜8個の炭素原子を有する1−アルケン、例えば、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチルペンテンまたは1−オクテンを、コモノマー単位として共重合された形で含むことが好ましい。1−ブテン、1−ヘキセンおよび1−オクテンからなる群より選択される1−アルケンを用いることが、とりわけ好ましい。本発明のポリエチレンは、優先的には0.01〜5重量%、好ましくは0.1〜3重量%のコモノマーを含む。
本発明のポリエチレンはさらに、0〜6重量%、好ましくは0.1〜1重量%の助剤および/またはそれ自体公知の添加剤、例えば、加工安定剤、光および熱の影響に対する安定剤、ならびに通例の添加剤、例えば、潤滑剤、酸化防止剤、粘着防止剤、帯電防止剤、および適切な場合は染料も含むことができる。当業者なら、これら添加剤のタイプおよび量を熟知しているであろう。
さらに、本発明のポリエチレンの加工特性を、少量のフルオロエラストマーまたは熱可塑性ポリエステルを組み込むことにより、さらに改善できることを見いだした。そのようなフルオロエラストマーは加工助剤などとして公知であり、例えば、商品名Viton(登録商標)およびDynamar(登録商標)(例えば、US−A−3125547も参照)で市販されている。それらは、本発明に従ったポリエチレンブレンドの全質量に基づき10〜1000ppm、とりわけ好ましくは20〜200ppmの量で加えることが好ましい。
一般に、添加剤と本発明のポリエチレンの混合は、公知のあらゆる方法により実施することができる。例えば、粉末成分を造粒装置、例えば、二軸スクリュー混練機(ZSK)、Farrel混練機またはKobe混練機に投入することにより行うことができる。造粒した混合物を、フィルム生産プラントで直接加工することもできる。
われわれはまた、本発明のポリエチレンを射出成形品を生産するために使用すること、ならびに本発明のポリエチレンが主要成分として中に存在している射出成形品、好ましくは、ねじ込みクロージャー、キャップ、チューブショルダーおよび工業用部品を見いだした。
本発明のポリエチレンが主要成分として中に存在している射出成形品、ねじ込みクロージャーおよびキャップ、チューブショルダーならびに工業用部品は、製造に用いられるポリマー材料全体に基づき本発明のポリエチレンを50〜100重量%、好ましくは60〜90重量%含有するものである。とりわけ、層のうち1つが本発明のポリエチレンを50〜100重量%含有する射出成形品、ねじ込みクロージャーおよびキャップも、包含される。
厚さ1mmの本発明のポリエチレンおよび射出成形品は、ASTM D 1003−00に従ってBYK Gardener Haze Guard Plus Deviceにおいて少なくとも5枚の10×10cmのフィルムで決定して、94%未満、好ましくは10〜92%、とりわけ好ましくは50〜91%の曇り度を有することが好ましい。ISO DIS2 16770に従って3.5Mbarの圧力、80℃において水中のAkropal N(N=10)の2重量%溶液中で決定したポリエチレンと射出成形品の耐応力亀裂性(フルノッチクリープ試験(FNCT))は、好ましくは少なくとも5時間、好ましくは6〜80時間、とりわけ好ましくは7〜20時間である。厚さ1mmの本発明のポリエチレンおよび射出成形品は、ISO 6603に従って−20℃で計器(instrument)落錘衝撃試験に従って決定して少なくとも12Jの耐衝撃性を有することが好ましい。
本ポリエチレンは、従来の射出成形機で加工することができる。得られる成形品の仕上がりは均質であり、射出率を高めるか成形温度を上昇させることにより、さらに改善することができる。
加工条件下での流れ特性は、スパイラルフロー試験で決定した。ポリエチレンを、規定された温度、圧力およびスクリュー速度でスパイラル金型に射出して、さまざまな肉厚のコイルを得る。得られたコイルの長さを、流れの尺度とみなすことができる。スパイラルフロー試験は、100tの型締圧および3mmのダイを用いてDemag ET100−310で測定した。
本発明のポリエチレンの寸法安定性および形状安定性は、ねじ径28.2mmのねじ込みキャップを180〜270℃で射出成形することにより試験した。キャップを冷却し、50試料のねじ径を測定し、平均値を算出し、もとのねじ径と比較した。試料をさらに、形状安定性および寸法安定性について視覚的に検査した。
本発明のポリエチレンは、250℃の素材温度、1000barの射出成形圧、スクリュー速度90mm/s、30℃の金型温度および肉厚2mmで測定して、40cmを超える渦巻きの長さを伴う高い流れ特性を示した。
本発明のポリエチレンが主要成分として中に存在している射出成形品、好ましくは、クロージャー、キャップ、ねじ込みクロージャーおよびキャップ、チューブショルダー、ならびに工業用部品は、製造に用いられるポリマー材料全体に基づき本発明のポリエチレンを50〜100重量%、好ましくは60〜90重量%含有するものである。ねじ込みキャップおよびクロージャーは、ボトル、好ましくは飲料用ボトルに用いられることが好ましい。
本発明のポリエチレンは、本発明および詳細にはその好ましい態様の触媒系を用いて得ることができる。
本発明はさらに、少なくとも2種の異なる重合触媒を含む触媒組成物を提供する。ここにおいて、該重合触媒のうちA)は、シクロペンタジエニル系が非荷電供与体(A1)またはハフノセン(A2)により置換されている元素の周期表の第4〜6族の金属のモノシクロペンタジエニル錯体に基づく少なくとも1種の重合触媒であり、B)は、少なくとも2個のオルト、オルト−二置換アリール基を持つ三座配位子を有する鉄成分に基づく少なくとも1種の重合触媒(B)である。
本発明はさらに、本発明の触媒組成物の存在下でオレフィンを重合するための方法を提供する。
本発明の目的に関し、非荷電供与体は、周期表の第15または16族の元素を含有する非荷電官能基である。
ハフノセン触媒成分は、例えば、シクロペンタジエニル錯体である。シクロペンタジエニル錯体は、例えば、EP129368、EP561479、EP545304およびEP576970などに記載されているような架橋もしくは非架橋ビスシクロペンタジエニル錯体、EP416815などに記載されている架橋アミドシクロペンタジエニル錯体のようなモノシクロペンタジエニル錯体、EP632063に記載されているような多核シクロペンタジエニル錯体、EP659758に記載されているようなπ−配位子−置換テトラヒドロペンタレン、またはEP661300に記載されているようなπ−配位子−置換テトラヒドロインデンであることができる。
一般式Cp−YmA(I)の以下の構造的特徴を含有するモノシクロペンタジエニル錯体(A1)が好ましく、ここにおいて、可変要素は以下の意味を有する:
Cpは、シクロペンタジエニル系であり、
Yは、Cpに結合しており、周期表の第15または16族の原子を少なくとも1個含有する少なくとも1種の非荷電供与体を含有し、
Aは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデンまたはタングステン、とりわけクロムであり、そして、
mは、1、2または3である。
適したモノシクロペンタジエニル錯体(A1)は、一般式Cp−YmA(I)の構造要素を含有し、ここにおいて、可変要素は先に定義したとおりである。したがって、さらなる配位子が金属原子MAに結合していてもよい。さらなる配位子の数は、例えば、金属原子の酸化状態に依存する。これらの配位子は、さらなるシクロペンタジエニル系ではない。適した配位子としては、例えばXについて記載したようなモノアニオンおよびジアニオン配位子が挙げられる。これに加えて、アミン、エーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、硫化物またはホスフィンなどのルイス塩基も、金属中心Mに結合することができる。該モノシクロペンタジエニル錯体は、モノマー、ダイマーまたはオリゴマーの形にあることができる。該モノシクロペンタジエニル錯体は、モノマーの形にあることが好ましい。
Aは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデンおよびタングステンからなる群より選択される金属である。触媒的に活性な錯体中の遷移金属MAの酸化状態は、通常当業者に公知である。クロム、モリブデンおよびタングステンは酸化状態+3、ジルコニウムおよびハフニウムは酸化状態+4、チタンは酸化状態+3または+4で存在する可能性が高い。しかしながら、酸化状態が活性触媒の酸化状態に相当しない錯体を用いることも可能である。その場合、そのような錯体を、適した活性剤により適切に還元または酸化することができる。MAは、酸化状態3にあるチタンか、またはバナジウム、クロム、モリブデンもしくはタングステンであることが好ましい。酸化状態2、3および4、とりわけ3にあるクロムが、とりわけ好ましい。
mは1、2または3であることができる、すなわち、1、2または3個の供与体基YがCpに結合することができ、これらは、2または3個の基Yが存在する場合、同一または異なっていることができる。供与体基Yが1個だけCpに結合している(m=1)ことが好ましい。
非荷電供与体Yは、周期表の第15または16族の元素を含有する非荷電官能基、例えば、アミン、イミン、カルボキサミド、カルボキシルエステル、ケトン(オキソ)、エーテル、チオケトン、ホスフィン、ホスファイト、ホスフィンオキシド、スルホニル、スルホンアミド、または非置換、置換もしくは縮合した部分的不飽和のヘテロ環式環系もしくはヘテロ芳香環系である。供与体Yは、遷移金属MAに分子間結合もしくは分子内結合していることができ、またはこれに結合していなくてもよい。供与体Yは、金属中心MAに分子内結合していることが好ましい。一般式Cp−Y−MAの構造要素を含有するモノシクロペンタジエニル錯体が、とりわけ好ましい。
Cpは、あらゆる形で置換されていることができる、および/または1個以上の芳香環、脂肪族環、ヘテロ環式環もしくはヘテロ芳香環と縮合していることができるシクロペンタジエニル系であって、1、2または3個の置換基、好ましくは1個の置換基が基Yにより形成されていて、および/または縮合している芳香環、脂肪族環、ヘテロ環式環もしくはヘテロ芳香環が、1、2もしくは3個の置換基、好ましくは1個の置換基を持つものである。シクロペンタジエニル骨格それ自体は、炭素原子の1つが窒素またはリン、好ましくはリンにより置換されていることもできる、6個のπ電子を有するC5環系である。ヘテロ原子により置換されていないC5環系を用いることが好ましい。このシクロペンタジエニル骨格は、例えば、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有するヘテロ芳香族か、または芳香族と、縮合していることができる。この文脈において、縮合しているとは、ヘテロ環とシクロペンタジエニル骨格が2個の原子、好ましくは炭素原子を共有していることを意味する。該シクロペンタジエニル系はMAに結合している。
とりわけ適切なモノシクロペンタジエニル錯体(A1)は、Yが基−ZK−A−により形成されていて、シクロペンタジエニル系CpおよびMAと一緒になって、一般式Cp−ZK−A−MA(II)の構造要素を含有するモノシクロペンタジエニル錯体を形成しているものであり、ここにおいて、可変要素は以下の意味を有する:
Cp−ZK−Aは、
Figure 2007534813
であり、ここにおいて、可変要素は以下の意味を有する:
1A−E5Aは、それぞれ炭素であるか、またはE1A〜E5Aの1個以下がリンであり、
1A−R4Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル基に1〜10個の炭素原子およびアリール基に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、NR5A 2、N(SiR5A 32、OR5A、OSiR5A 3、SiR5A 3、BR5A 2であり、ここにおいて、有機基R1A−R4Aは、ハロゲンにより置換されていることもでき、2個の隣接基R1A−R4Aは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R1A−R4Aは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、
基R5Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリールであり、2個のジェミナル基R5Aは、接合して五または六員環を形成することもでき、
Zは、以下の群
Figure 2007534813
から選択される、AとCpの間の二価の架橋であり、ここにおいて、
1A−L3Aはそれぞれ、互いに独立して、ケイ素またはゲルマニウムであり、
6A−R11Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、またはSiR12A 3であり、ここにおいて、有機基R6A−R11Aは、ハロゲンにより置換されていることもでき、2個のジェミナルまたは隣接基R6A−R11Aは、接合して五または六員環を形成することもでき、そして
基R12Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、またはアルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、C1−C10−アルコキシ、またはC6−C10−アリールオキシであり、2個の基R12Aは、接合して五または六員環を形成することもでき、そして、
Aは、元素の周期表の第15および/または16族の原子を1個以上含有する非荷電供与体基、好ましくは、非置換、置換または縮合ヘテロ芳香環系であり、
Aは、酸化状態3にあるチタン、ならびにバナジウム、クロム、モリブデンおよびタングステンからなる群より選択される金属、とりわけクロムであり、そして
kは、0または1である。
好ましいシクロペンタジエニル系Cpにおいて、E1A〜E5Aはすべて炭素である。
金属錯体の重合挙動は、置換基R1A−R4Aを変動させることにより影響を受ける可能性がある。置換基の数およびタイプは、重合するオレフィンに対する金属原子Mの接近容易性に影響を及ぼすことができる。このようにして、さまざまなモノマー、とりわけ塊状(bulky)モノマーに関し、触媒の活性および選択性を改変することが可能である。置換基は、成長中の重合鎖の停止反応速度にも影響を及ぼすことができるので、形成したポリマーの分子量もこのようにして変更することができる。したがって、置換基R1A−R4Aの化学構造を広い範囲内で変動させると、所望の結果を達成し、目的に合った触媒系を得ることができる。考えうるカルボ有機(carboorganic)置換基R1A−R4Aは、例えば以下のものである:水素;線状または分岐状であることができるC1−C22−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルまたはn−ドデシル;順次C1−C10−アルキル基および/またはC6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロドデシル;線状、環状または分岐状であることができ、二重結合が内部または末端にあることができるC2−C22−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルまたはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C22−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−または2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−または3,4,5−トリメチルフェニル;あるいは、さらなるアルキル基により置換されていることができるアリールアルキル、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−または2−エチルフェニル;ここにおいて、2個の基R1A−R4Aは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R1A−R4Aは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成することができ、および/または有機基R1A−R4Aは、フッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲンにより置換されていることもできる。さらに、R1A−R4Aは、、アミノNR5A 2もしくはN(SiR5A 32、アルコキシまたはアリールオキシOR5A、例えば、ジメチルアミノ、N−ピロリジニル、ピコリニル、メトキシ、エトキシまたはイソプロポキシであることができる。有機シリコン(organosilicone)置換基SiR5A 3中の基R5Aは、R1A−R4Aについて上記したものと同じカルボ有機基であることができ、ここにおいて、2個の基R5Aは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリ−tert−ブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。これらのSiR5A 3基は、酸素または窒素を介してシクロペンタジエニル骨格に接合することもでき、例えば、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、ブチルジメチルシリルオキシ、トリブチルシリルオキシ、またはトリ−tert−ブチルシリルオキシである。好ましい基R1A−R4Aは、水素、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、オルト−ジアルキルもしくはジクロロ置換フェニル、トリアルキルもしくはトリクロロ置換フェニル、ナフチル、ビフェニルおよびアントラニルである。考えうる有機シリコン置換基は、とりわけ、アルキル基に1〜10個の炭素原子を有するトリアルキルシリル基、とりわけトリメチルシリル基である。
2個の隣接基R1A−R4Aは、それらを持つE1A−E5Aと一緒になって、窒素、リン、酸素および硫黄、とりわけ好ましくは窒素および/または硫黄からなる群からの少なくとも1個の原子を含有するヘテロ環、好ましくはヘテロ芳香族化合物を形成することができ、ここにおいて、該ヘテロ環またはヘテロ芳香族化合物中に存在するE1A−E5Aは、炭素であることが好ましい。5または6個の環原子の環サイズを有するヘテロ環およびヘテロ芳香族化合物が好ましい。炭素原子に加えて環原子として1〜4個の窒素原子および/または1個の硫黄もしくは酸素原子を含有することができる五員ヘテロ環の例は、1,2−ジヒドロフラン、フラン、チオフェン、ピロール、イソオキサゾール、3−イソチアゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、1,2,4−オキサジアゾール、1,2,5−オキサジアゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,2,3−トリアゾールおよび1,2,4−トリアゾールである。1〜4個の窒素原子および/または1個のリン原子を含有することができる六員ヘテロアリール基の例は、ピリジン、ホスファベンゼン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、1,3,5−トリアジン、1,2,4−トリアジンまたは1,2,3−トリアジンである。五員および六員ヘテロ環は、C1−C10−アルキル;C6−C10−アリール;アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜10個の炭素原子を有するアルキルアリール;トリアルキルシリル;またはフッ素、塩素もしくは臭素などのハロゲン;ジアルキルサミド;アルキルアリールアミド;ジアリールアミド;アルコキシ;またはアリールオキシにより置換されていることもでき、あるいは、1個以上の芳香族化合物またはヘテロ芳香族化合物と縮合していることもできる。ベンゾ縮合五員ヘテロアリール基の例は、インドール、インダゾール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾールおよびベンゾイミダゾールである。ベンゾ縮合六員ヘテロアリール基の例は、クロマン、ベンゾピラン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキサリン、1,10−フェナントロリンおよびキノリジンである。ヘテロ環の命名および番号付けは、Lettau,Chemie der Heterocyclen,第1版,VEB,Weinheim 1979からとった。ヘテロ環/ヘテロ芳香族化合物は、ヘテロ環/ヘテロ芳香族化合物のC−C二重結合を介してシクロペンタジエニル骨格と縮合していることが好ましい。ヘテロ原子を1個有するヘテロ環/ヘテロ芳香族化合物は、2,3−またはb−位で縮合していることが好ましい。
縮合しているヘテロ環を有するシクロペンタジエニル系Cpは、例えば、チアペンタレン、2−メチルチアペンタレン、2−エチルチアペンタレン、2−イソプロピルチアペンタレン、2−n−ブチルチアペンタレン、2−tert−ブチルチアペンタレン、2−トリメチルシリルチアペンタレン、2−フェニルチアペンタレン、2−ナフチルチアペンタレン、3−メチルチオペンタレン、4−フェニル−2,6−ジメチル−1−チオペンタレン、4−フェニル−2,6−ジエチル−1−チオペンタレン、4−フェニル−2,6−ジイソプロピル−1−チオペンタレン、4−フェニル−2,6−ジ−n−ブチル−1−チオペンタレン、4−フェニル−2,6−ジトリメチルシリル−1−チオペンタレン、アザペンタレン、2−メチルアザペンタレン、2−エチルアザペンタレン、2−イソプロピルアザペンタレン、2−n−ブチルアザペンタレン、2−トリメチルシリルアザペンタレン、2−フェニルアザペンタレン、2−ナフチルアザペンタレン、1−フェニル−2,5−ジメチル−1−アザペンタレン、1−フェニル−2,5−ジエチル−1−アザペンタレン、1−フェニル−2,5−ジ−n−ブチル−1−アザペンタレン、1−フェニル−2,5−ジ−tert−ブチル−1−アザペンタレン、1−フェニル−2,5−ジ−トリメチルシリル−1−アザペンタレン、1−tert−ブチル−2,5−ジメチル−1−アザペンタレン、オキサペンタレン、ホスファペンタレン、1−フェニル−2,5−ジメチル−1−ホスファペンタレン、1−フェニル−2,5−ジエチル−1−ホスファペンタレン、1−フェニル−2,5−ジ−n−ブチル−1−ホスファペンタレン、1−フェニル−2,5−ジ−tert−ブチル−1−ホスファペンタレン、1−フェニル−2,5−ジ−トリメチルシリル−1−ホスファペンタレン、1−メチル−2,5−ジメチル−1−ホスファペンタレン、1−tert−ブチル−2,5−ジメチル−1−ホスファペンタレン、7−シクロペンタ[1,2]チオフェン[3,4]シクロペンタジエンまたは7−シクロペンタ[1,2]ピロル[3,4]シクロペンタジエンである。
他の好ましいシクロペンタジエニル系Cpにおいて、4個の基R1A−R4A、すなわち、2組の隣接基は、2個のヘテロ環、とりわけヘテロ芳香族炭化水素を形成する。ヘテロ環式系は上記のものと同じである。
2個の縮合ヘテロ環を有するシクロペンタジエニル系Cpは、例えば、7−シクロペンタジチオフェン、7−シクロペンタジピロールまたは7−シクロペンタジホスホールである。
縮合しているヘテロ環を有するそのようなシクロペンタジエニル系の合成は、例えば、上記WO98/22486に記載されている。“metalorganic catalysts for synthesis and polymerisation”,Springer Verlag 1999,Ewen et al.,p.150ffには、これらシクロペンタジエニル系の他の合成法が記載されている。
とりわけ好ましい置換基R1A−R4Aは、上記のカルボ有機置換基、および、環状縮合環系を形成する、すなわち、E1A−E5A−シクロペンタジエニル骨格、好ましくはC5−シクロペンタジエニル骨格と一緒になって、例えば、非置換または置換インデニル、ベンゾインデニル、フェナントレニル、フルオレニルもしくはテトラヒドロインデニル系を形成するカルボ有機置換基であり、そしてまた、とりわけ、それらの好ましい態様である。
そのようなシクロペンタジエニル系(第1位に位置することが好ましい基−Z−A−を含まない)の例は、3−メチルシクロペンタジエニル;3−エチルシクロペンタジエニル;3−イソプロピルシクロペンタジエニル;3−tert−ブチルシクロペンタジエニル;ジアルキルアルキルシクロペンタジエニル、例えば、テトラヒドロインデニル、2,4−ジメチルシクロペンタジエニルもしくは3−メチル−5−tert−ブチルシクロペンタジエニル;トリアルキルシクロペンタジエニル、例えば、2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル;またはテトラアルキルシクロペンタジエニル、例えば、2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル;そしてまた、インデニル;2−メチルインデニル;2−エチルインデニル;2−イソプロピルインデニル;3−メチルインデニル;ベンゾインデニル;および2−メチルベンゾインデニルである。縮合環系はさらに、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、NR5A 2、N(SiR5A 32、OR5A、OSiR5A 3、またはSiR5A 3を持つことができ、例えば、4−メチルインデニル、4−エチルインデニル、4−イソプロピルインデニル、5−メチルインデニル、4−フェニルインデニル、5−メチル−4−フェニルインデニル、2−メチル−4−フェニルインデニルまたは4−ナフチルインデニルである。
とりわけ好ましい態様において、置換基R1A−R4Aの1つ、好ましくはR2Aは、C6−C22−アリール、またはアルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、好ましくは、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラセニルまたはフェナントレニルなどのC6−C22−アリールであり、ここにおいて、該アリールは、N−、P−、O−もしくはS−含有置換基、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、ハロゲン、または1〜10個の炭素原子を有するハロアルキルもしくはハロアリールにより置換されていることもでき、例えば、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェニル、o−、m−、p−ジメチルアミノフェニル、o−、m−、p−メトキシフェニル、o−、m−、p−フルオロフェニル、o−、m−、p−クロロフェニル、o−、m−、p−トリフルオロメチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジフルオロフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジクロロフェニル、または2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジ(トリフルオロメチル)フェニルである。アリール基上の置換基としてのN−、P−、O−もしくはS−含有置換基、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、ハロゲン、または1〜10個の炭素原子を有するハロアルキルもしくはハロアリールは、シクロペンタジエニル環への結合に対してパラ位に位置することが好ましい。アリール置換基は、置換基−Z−Aに対し隣接する位置に結合していることができ、または、それら2個の置換基は、シクロペンタジエニル環上で互いに関連して1,3位に位置する。−Z−Aおよびアリール置換基は、シクロペンタジエニル環上で互いに関連して1,3位に存在することが好ましい。
メタロセンの場合のように、モノシクロペンタジエニル錯体(A1)はキラルであることができる。したがって、シクロペンタジエニル骨格の置換基R1A−R4Aの1つは1個以上のキラル中心を有することができ、または、シクロペンタジエニル系Cpそれ自体が、遷移金属Mに結合している場合にのみキラリティーが導かれるようなエナンチオトピックであることができる(シクロペンタジエニル化合物におけるキラリティーに関する数学的表現(formalism)については、R.Halteman,Chem.Rev.92,(1992),965−994参照)。
シクロペンタジエニル系Cpと非荷電供与体Aの間の架橋Zは、炭素および/またはケイ素および/またはホウ素を含有する架橋構成要素からなることが好ましい二価の有機架橋(k=1)である。シクロペンタジエニル系とAとの連結の長さを変化させることにより、触媒の活性に影響を及ぼすことができる。Zは、縮合しているヘテロ環または縮合している芳香族化合物に隣接するシクロペンタジエニル骨格に結合していることが好ましい。したがって、ヘテロ環または芳香族化合物がシクロペンタジエニル骨格の2,3位に縮合している場合、Zはシクロペンタジエニル骨格の1または4位に位置することが好ましい。
連結Z上の考えうるカルボ有機置換基R6A−R11Aは、例えば以下のものである:水素、線状もしくは分岐状であることができるC1−C20−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルもしくはn−ドデシル;順次C6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルもしくはシクロドデシル;線状、環状もしくは分岐状であることができ、二重結合が内部もしくは末端にあることができるC2−C20−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルもしくはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C20−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェン−1−イル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェン−1−イル;または、さらなるアルキル基により置換されていることができるアリールアルキル、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−もしくは2−エチルフェニル;ここにおいて、2個のR6A−R11Aは、接合して五または六員環、例えばシクロヘキサンを形成することもでき、ならびに有機基R6A−R11Aは、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンにより置換されていることもでき、例えば、ペンタフルオロフェニルまたはビス−3,5−トリフルオロメチルフェン−1−イルであり、およびアルキルまたはアリールにより置換されていることもできる。
有機シリコン置換基SiR12A 3中の基R12Aは、R6A−R11Aについて上記したものと同じ基であることができ、ここにおいて、2個の基R12Aは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリ−tert−ブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。好ましい基R6A−R11Aは、水素、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ベンジル、フェニル、オルト−ジアルキルもしくはジクロロ置換フェニル、トリアルキルもしくはトリクロロ置換フェニル、ナフチル、ビフェニルおよびアントラニルである。
とりわけ好ましい置換基R6A−R11Aは、水素;線状もしくは分岐状であることができるC1−C20−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルもしくはn−ドデシル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C20−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェン−1−イル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェン−1−イル;または、さらなるアルキル基により置換されていることができるアリールアルキル、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−もしくは2−エチルフェニルであり、ここにおいて、2個の基R6A−R11Aは、接合して五または六員環、例えばシクロヘキサンを形成することもでき、ならびに有機基R6A−R2Bは、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲン、とりわけフッ素により置換されていることもでき、例えば、ペンタフルオロフェニルまたはビス−3,5−トリフルオロメチルフェン−1−イルであり、およびアルキルまたはアリールにより置換されていることもできる。メチル、エチル、1−プロピル、2−イソプロピル、1−ブチル、2−tert−ブチル、フェニルおよびペンタフルオロフェニルが、とりわけ好ましい。
Zは、基−CR6A7A−、−SiR6A7A−、詳細には−Si(CH32−、−CR6A7ACR8A9A−、−SiR6A7ACR8A9A−、または置換もしくは非置換1,2−フェニレン、とりわけ−CR6A7A−である。上記置換基R6A〜R11Aの好ましい態様は、ここでも同様に好ましい態様である。−CR6A7A−は、−CHR6A−、−CH2−または−C(CH32−基であることが好ましい。−L1A6A7ACR8A9A−中の基−SiR6A7A−は、シクロペンタジエニル系またはAに結合することができる。この基−SiR6A7A−またはその好ましい態様は、Cpに結合していることが好ましい。
kは0または1である;詳細には、kは、1であるか、Aが非置換、置換または縮合ヘテロ環式環系である場合は0であることもできる。好ましくは、kは1である。
Aは、周期表の第15または16族の原子、好ましくは、酸素、硫黄、窒素およびリンからなる群より選択される1個以上の原子、好ましくは窒素およびリンを含有する非荷電供与体である。Aにおける供与体の機能により、金属MAへの分子間結合または分子内結合が可能になる。Aにおける供与体は、Mに分子内結合することが好ましい。考えうる供与体は、周期表の第15または16族の元素を含有する非荷電官能基、例えば、アミン、イミン、カルボキサミド、カルボキシルエステル、ケトン(オキソ)、エーテル、チオケトン、ホスフィン、ホスファイト、ホスフィンオキシド、スルホニル、スルホンアミド、あるいは非置換、置換または縮合ヘテロ環式環系である。シクロペンタジエニル基およびZへのAの付着は、例えば、WO00/35928に記載されている方法と類似の方法により合成的に実施することができる。
Aは、−OR13A−、−SR13A−、−NR13A14A−、−PR13A14A−、−C=NR13A−、および非置換、置換または縮合ヘテロ芳香環系、とりわけ、−NR13A14A−、−C=NR13A−、および非置換、置換または縮合ヘテロ芳香環系のうちから選択される基であることが好ましい。
13AおよびR14Aはそれぞれ、互いに独立して、水素;線状もしくは分岐状であることができるC1−C20−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルもしくはn−ドデシル;順次C6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルもしくはシクロドデシル;線状、環状もしくは分岐状であることができ、二重結合が内部もしくは末端にあることができるC2−C20−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルもしくはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C20−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェン−1−イル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェン−1−イル;アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有し、さらなるアルキル基により置換されていることができるアルキルアリール、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−もしくは2−エチルフェニル;またはSiR15A 3であり;ここにおいて、有機基R13A−R14Aは、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンまたは窒素含有基、およびさらにC1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、またはSiR15A 3基により置換されていることもでき、2個の隣接基R13A−R14Aは、接合して五または六員環を形成することもでき、そして基R15Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、またはアルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリールであり、2個の基R15Aは、接合して五または六員環を形成することもできる。
NR13A14Aはアミド置換基である。ジメチルアミド、N−エチルメチルアミド、ジエチルアミド、N−メチルプロピルアミド、N−メチルイソプロピルアミド、N−エチルイソプロピルアミド、ジプロピルアミド、ジイソプロピルアミド、N−メチルブチルアミド、N−エチルブチルアミド、N−メチル−tert−ブチルアミド、N−tert−ブチルイソプロピルアミド、ジブチルアミド、ジ−sec−ブチルアミド、ジイソブチルアミド、tert−アミル−tert−ブチルアミド、ジペンチルアミド、N−メチルヘキシルアミド、ジヘキシルアミド、tert−アミル−tert−オクチルアミド、ジオクチルアミド、ビス(2−エチルヘキシル)アミド、ジデシルアミド、N−メチルオクタデシルアミド、N−メチルシクロヘキシルアミド、N−エチルシクロヘキシルアミド、N−イソプロピルシクロヘキシルアミド、N−tert−ブチルシクロヘキシルアミド、ジシクロヘキシルアミド、ピロリジン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン、デカヒドロキノリン、ジフェニルアミン、N−メチルアニリドまたはN−エチルアニリドなどの第二級アミドがであること好ましい。
イミノ基−C=NR13Aにおいて、R13Aは、さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C20−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェン−1−イル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェン−1−イルであることが好ましい。
Aは、環炭素に加えて酸素、硫黄、窒素およびリンからなる群からのヘテロ原子を含有することができる非置換、置換または縮合ヘテロ芳香環系であることが好ましい。炭素原子に加えて1〜4個の窒素原子または1〜3個の窒素原子および/または1個の硫黄もしくは酸素原子を環構成要素として含有することができる五員ヘテロアリール基の例は、2−フリル、2−チエニル、2−ピロリル、3−イソオキサゾリル、5−イソオキサゾリル、3−イソチアゾリル、5−イソチアゾリル、1−ピラゾリル、3−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2−オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、5−イミダゾリル、1,2,4−オキサジアゾル−3−イル、1,2,4−オキサジアゾル−5−イル、1,3,4−オキサジアゾル−2−イルおよび1,2,4−トリアゾル−3−イルである。1〜4個の窒素原子および/または1個のリン原子を含有することができる六員ヘテロアリール基の例は、2−ピリジニル、2−ホスファベンゼニル(phosphabenzenyl)、3−ピリダジニル、2−ピリミジニル、4−ピリミジニル、2−ピラジニル、1,3,5−トリアジン−2−イルならびに1,2,4−トリアジン−3−イル、1,2,4−トリアジン−5−イルおよび1,2,4−トリアジン−6−イルである。五員および六員ヘテロアリール基は、C1−C10−アルキル;C6−C10−アリール;アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜10個の炭素原子を有するアルキルアリール;トリアルキルシリル;またはフッ素、塩素もしくは臭素などのハロゲンにより置換されていることもでき、あるいは、1個以上の芳香族化合物またはヘテロ芳香族化合物と縮合していることもできる。ベンゾ縮合五員ヘテロアリール基の例は、2−インドリル、7−インドリル、2−クマロニル(coumaronyl)、7−クマロニル、2−チオナフテニル、7−チオナフテニル、3−インダゾリル、7−インダゾリル、2−ベンゾイミダゾリルおよび7−ベンゾイミダゾリルである。ベンゾ縮合六員ヘテロアリール基の例は、2−キノリル、8−キノリル、3−シンノリル、8−シンノリル、1−フタラジル、2−キナゾリル、4−キナゾリル、8−キナゾリル、5−キノキサリル、4−アクリジル、1−フェナントリジル(phenanthridyl)および1−フェナンジルである。ヘテロ環の命名および番号付けは、L.FieserおよびM.Fieser,Lehrbuch der organischen Chemie,第3改訂版,Verlag Chemie,Weinheim 1957からとった。
これらのヘテロ芳香族系Aのうち、ヘテロ芳香族部に1、2、3、4または5個の窒素原子を有する非置換、置換および/または縮合六員ヘテロ芳香族化合物、とりわけ、置換および非置換2−ピリジルまたは2−キノリルであることが好ましい。したがって、Aは式(IV)の基であることが好ましい
Figure 2007534813
[式中、
6A−E9Aはそれぞれ、互いに独立して、炭素または窒素であり、
16A−R19Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、またはSiR20A 3であり、ここにおいて、有機基R16A−R19Aは、ハロゲンまたは窒素、およびさらなるC1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、またはSiR20A 3により置換されていることもでき、2個の隣接基R16A−R19A、またはR16AおよびZは、接合して五または六員環を形成することもでき、そして
基R20Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、またはアルキル基に1〜10個の炭素原子およびアリール基に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリールであり、2個の基R20Aは、接合して五または六員環を形成することもでき、そして、
pは、E6A−E9Aが窒素である場合は0であり、E6A−E9Aが炭素である場合は1である]。
とりわけ、0または1個のE6A−E9Aが窒素であり、残りが炭素である。Aは、2−ピリジル、6−メチル−2−ピリジル、4−メチル−2−ピリジル、5−メチル−2−ピリジル、5−エチル−2−ピリジル、4,6−ジメチル−2−ピリジル、3−ピリダジル、4−ピリミジル、2−ピラジニル、6−メチル−2−ピラジニル、5−メチル−2−ピラジニル、3−メチル−2−ピラジニル、3−エチルピラジニル、3,5,6−トリメチル−2−ピラジニル、2−キノリル、4−メチル−2−キノリル、6−メチル−2−キノリル、7−メチル−2−キノリル、2−キノキサリルまたは3−メチル−2−キノキサリルであることが、とりわけ好ましい。
調製が容易なため、ZとAの好ましい組合わせは、Zが非置換または置換1,2−フェニレンであり、AがNR16A17Aである組合わせ、およびZが−CHR6A−、−CH2−、−C(CH32−または−Si(CH32−であり、Aが非置換もしくは置換2−キノリルまたは非置換もしくは置換2−ピリジルである組合わせである。kが0であり架橋Zが含まれない系も、とりわけ合成するのが簡単である。この場合、Aは非置換または置換8−キノリルであることが好ましい。これに加えて、kが0である場合、R2AはC6−C22−アリール、またはアルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、好ましくは、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラセニルまたはフェナントレニルなどのC6−C22−アリールであることが好ましく、ここにおいて、該アリールは、N−、P−、O−もしくはS−含有置換基、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、ハロゲン、または1〜10個の炭素原子を有するハロアルキルもしくはハロアリールにより置換されていることもできる。
可変要素について上記した好ましい態様は、これらの好ましい組合わせにおいても好ましい。
Aは、酸化状態3にあるチタン、ならびにバナジウム、クロム、モリブデンおよびタングステンからなる群から選択される金属であり、好ましくは酸化状態3にあるチタン、およびクロムである。酸化状態2、3および4、とりわけ3にあるクロムが、とりわけ好ましい。金属錯体、とりわけクロム錯体は、適切な金属塩、例えば金属塩化物を配位子アニオンと反応させることにより簡単に得ることができる(例えば、DE19710615中の実施例と類似の方法を用いる)。
適したモノシクロペンタジエニル錯体(A1)のうち、式Cp−YmAn(V)のものが好ましく、ここにおいて、可変要素Cp、Y、A、mおよびMAは上記したとおりであり、それらの好ましい態様はここでも好ましく、そして:
Aはそれぞれ、互いに独立して、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、C1−C10−アルキル、C2−C10−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、NR21A22A、OR21A、SR21A、SO321A、OC(O)R21A、CN、SCN、β−ジケトネート、CO、BF4 -、PF6 -もしくは塊状非配位性アニオンであるか、または、2個の基XAは、置換もしくは非置換ジエン配位子、とりわけ1,3−ジエン配位子を形成し、基XAは互いに接合することができ、
21A−R22Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、SiR23A 3であり、ここにおいて、有機基R21A−R22Aは、ハロゲンまたは窒素含有基および酸素含有基により置換されていることもでき、2個の基R21A−R22Aは、接合して五または六員環を形成することもでき、
基R23Aはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリールであり、2個の基R23Aは、接合して五または六員環を形成することもでき、そして
nは、1、2または3である。
Cp、Y、Z、A、mおよびMAについて上記した態様および好ましい態様は、個別および組合わせで、これら好ましいモノシクロペンタジエニル錯体にも適合する。
配位子XAは、例えば、モノシクロペンタジエニル錯体の合成に用いられる適切な出発金属化合物の選択に由来するが、後で変動させることもできる。考えうる配位子XAは、とりわけ、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン、特に塩素である。メチル、エチル、プロピル、ブチル、ビニル、アリル、フェニルまたはベンジルのようなアルキル基も有利な配位子XAである。記載することができるさらなる配位子XAは、トリフルオロアセテート、BF4 -、PF6 -、および弱配位性または非配位性アニオン(例えば、Chem.Rev.1993,93,927−942のS.Strauss参照)、例えばB(C654 -であるが、ほんの一例としてであり、決して包括的なものではない。
アミド、アルコキシド、スルホネート、カルボキシレートおよびβ−ジケトネートも、とりわけ有用な配位子XAである。基R21AおよびR22Aの変動は、例えば、溶解度のような物理的性質を緻密に調整することを可能にする。考えうるカルボ有機置換基R21A−R22Aは、例えば、以下のものである:線状または分岐状であることができるC1−C20−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルまたはn−ドデシル;順次C6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロドデシル;線状、環状または分岐状であることができ、二重結合が内部または末端にあることができるC2−C20−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルまたはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基および/またはN−もしくはO−含有基により置換されていることができるC6−C20−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−または2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−または3,4,5−トリメチルフェニル、2−メトキシフェニル、2−N,N−ジメチルアミノフェニル;あるいは、アリールアルキル、ここにおいて、該アリールアルキルは、さらなるアルキル基により置換されていることができ、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−または2−エチルフェニルであり;ここにおいて、R21Aは、R22Aに接合して五または六員環を形成することもでき、および有機基R21A−R22Aは、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンにより置換されていることもできる。有機シリコン置換基SiR23A 3中の考えうる基R23Aは、R21A−R22Aについて上記したものと同じ基であり、ここにおいて、2個のR23Aは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。C1−C10−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、そしてまたビニルアリル、ベンジルおよびフェニルを基R21AおよびR22Aとして使用することが好ましい。これらの置換されている配位子Xのいくつかは、安価で容易に入手可能な出発材料から得ることができるので、とりわけ好ましく用いられる。したがって、とりわけ好ましい態様は、XAがジメチルアミド、メトキシド、エトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ナフトキシド、トリフレート、p−トルエンスルホネート、アセテートまたはアセチルアセトネートである態様である。
配位子XAの数は、遷移金属MAの酸化状態に依存する。したがって、数nを一般名に与えることはできない。触媒的に活性な錯体中の遷移金属MAの酸化状態は、通常当業者に公知である。クロム、モリブデンおよびタングステンは酸化状態+3、バナジウムは酸化状態+3または+4で存在する可能性が高い。しかしながら、酸化状態が活性触媒の酸化状態に相当しない錯体を用いることも可能である。その場合、そのような錯体を、適した活性剤により適切に還元または酸化することができる。酸化状態+3にあるクロム錯体および酸化状態3にあるチタン錯体を用いることが好ましい。
このタイプの好ましいモノシクロペンタジエニル錯体(A1)は、1−(8−キノリル)−3−フェニルシクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−キノリル)−3−(1−ナフチル)シクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−キノリル)−3−(4−トリフルオロメチルフェニル)シクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−キノリル)−2−メチル−3−フェニルシクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−キノリル)−2−メチル−3−(1−ナフチル)シクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−キノリル)−2−メチル−3−(4−トリフルオロメチルフェニル)シクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−キノリル)−2−フェニルインデニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−キノリル)−2−フェニルベンゾインデニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−(2−メチルキノリル))−2−メチル−3−フェニルシクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(8−(2−メチルキノリル))−2−フェニルインデニルクロム(III)ジクロリド、1−(2−ピリジルメチル)−3−フェニルシクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(2−ピリジルメチル)−2−メチル−3−フェニルシクロペンタジエニルクロム(III)ジクロリド、1−(2−キノリルメチル)−3−フェニルシクロペンタジエニルクロムジクロリド、1−(2−ピリジルエチル)−3−フェニルシクロペンタジエニルクロムジクロリド、1−(2−ピリジル−1−メチルエチル)−3−フェニルシクロペンタジエニルクロムジクロリド、1−(2−ピリジル−1−フェニルメチル)−3−フェニルシクロペンタジエニルクロムジクロリド、1−(2−ピリジルメチル)インデニルクロム(III)ジクロリド、1−(2−キノリルメチル)インデニルクロムジクロリド、1−(2−ピリジルエチル)インデニルクロムジクロリド、1−(2−ピリジル−1−メチルエチル)インデニルクロムジクロリド、1−(2−ピリジル−1−フェニルメチル)インデニルクロムジクロリド、5−[(2−ピリジル)メチル]−1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニルクロムジクロリドおよび1−(8−(2−メチルキノリル))−2−メチルベンゾインデニルクロム(III)ジクロリドである。
そのような官能性シクロペンタジエニル配位子の調製法は公知である。これら錯体を形成する配位子(complexing ligands)へのさまざまな合成経路は、例えば、Chem.Ber.(1996),129,459−463のM.Enders et al.,またはJ.Orgmet.Chem.(1995),500,175−185のP.JutziおよびU.Siemelingにより記載されている。
そのような錯体の合成は、適切に置換されている環状炭化水素アニオンと、好ましくはチタン、バナジウムまたはクロムのハロゲン化物との反応を含む、それ自体が公知の方法により、実施することができる。適切な準備法(preparative method)の例は、例えば、Journal of Organometallic Chemistry,369(1989),359−370およびEP−A−1212333に記載されている。
とりわけ適したハフノセン(A2)は、一般式(VI)のハフニウム錯体である
Figure 2007534813
ここにおいて、置換基および印は以下の意味を有する:
Bは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、C1−C10−アルキル、C2−C10−アルケニル、C6−C15−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、−OR6Bもしくは−NR6B7Bであるか、または、2個の基XBは、置換もしくは非置換ジエン配位子、とりわけ1,3−ジエン配位子を形成し、基XBは同一もしくは異なっていて、互いに接合することができ、
1B−E5Bはそれぞれ炭素であるか、またはE1BからE5Bの1つ以下がリンもしくは窒素、好ましくは炭素であり、
tは、1、2または3であり、Hfの原子価に応じて、一般式(VI)のメタロセン錯体が帯電していないようなものであり、
ここにおいて、
6BおよびR7Bはそれぞれ、C1−C10−アルキル、C6−C15−アリール、または、それぞれアルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、アリールアルキル、フルオロアルキルもしくはフルオロアリールであり、そして、
1B〜R5Bはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、順次C1−C10−アルキル基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキルもしくはシクロアルケニル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜16個の炭素原子およびアリール部に6〜21個の炭素原子を有するアリールアルキル、NR8B 2、N(SiR8B 32、OR8B、OSiR8B 3、SiR8B 3であり、ここにおいて、有機基R1B−R5Bは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の基、詳細には隣接基R1B−R5Bは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R1D−R5Dは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成することができ、ここにおいて、
基R8Bは、同一または異なっていることができ、それぞれC1−C10−アルキル、C3−C10−シクロアルキル、C6−C15−アリール、C1−C4−アルコキシまたはC6−C10−アリールオキシであることができ、そして、
1Bは、XBまたは
Figure 2007534813
であり、ここにおいて、
基R9B〜R13Bはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、順次C1−C10−アルキル基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキルもしくはシクロアルケニル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜16個の炭素原子およびアリール部に6〜21個の炭素原子を有するアリールアルキル、NR14B 2、N(SiR14B 32、OR14B、OSiR14B 3、SiR14B 3であり、ここにおいて、有機基R9B−R13Bは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の基、詳細には隣接基R9B−R13Bは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R9B−R13Bは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成することができ、ここにおいて、
基R14Bは、同一または異なっていて、それぞれC1−C10−アルキル、C3−C10−シクロアルキル、C6−C15−アリール、C1−C4−アルコキシまたはC6−C10−アリールオキシであり、
6B−E10Bは、それぞれ炭素であるか、またはE6B〜E10Bの1つ以下がリンもしくは窒素、好ましくは炭素であり、
あるいは、ここにおいて、基R4BとZ1Bは一緒になって−R15B−A1B−基を形成し、ここにおいて、
15Bは、
Figure 2007534813
であり、
ここにおいて、
16B−R21Bは、同一または異なっていて、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、トリメチルシリル基、C1−C10−アルキル基、C1−C10−フルオロアルキル基、C6−C10−フルオロアリール基、C6−C10−アリール基、C1−C10−アルコキシ基、C7−C15−アルキルアリールオキシ基、C2−C10−アルケニル基、C7−C40−アリールアルキル基、C8−C40−アリールアルケニル基もしくはC7−C40−アリールアルキル基であるか、または、2個の隣接する基が、それらを接続している原子と一緒になって、4〜15個の炭素原子を有する飽和もしくは不飽和環を形成し、そして
2B−M4Bはそれぞれケイ素、ゲルマニウムまたはスズであるか、好ましくはケイ素であり、
1Bは、
Figure 2007534813
または非置換、置換もしくは縮合ヘテロ環式環系であり、ここにおいて、
基R22Bはそれぞれ、互いに独立して、C1−C10−アルキル、C6−C15−アリール、C3−C10−シクロアルキル、C7−C18−アルキルアリールまたはSi(R23B3であり、
23Bは、水素、C1−C10−アルキル、順次C1−C4−アルキル基を置換基として持つことができるC6−C15−アリール、またはC3−C10−シクロアルキルであり、
vは、1であるか、A1Bが非置換、置換または縮合ヘテロ環式環系である場合、0であることもでき、
あるいはここにおいて、基R4BとR12Bは、一緒になって−R15B−基を形成する。
1Bは、例えば架橋R15Bと一緒になって、アミン、エーテル、チオエーテルまたはホスフィンを形成することができる。しかしながら、A1Bは、環炭素に加えて酸素、硫黄、窒素およびリンからなる群からのヘテロ原子を含有することができる非置換、置換または縮合ヘテロ環式芳香環系であることもできる。炭素原子に加えて1〜4個の窒素原子および/または1個の硫黄もしくは酸素原子を環構成要素として含有することができる五員ヘテロアリール基の例は、2−フリル、2−チエニル、2−ピロリル、3−イソオキサゾリル、5−イソオキサゾリル、3−イソチアゾリル、5−イソチアゾリル、1−ピラゾリル、3−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2−オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、5−イミダゾリル、1,2,4−オキサジアゾル−3−イル、1,2,4−オキサジアゾル−5−イル、1,3,4−オキサジアゾル−2−イルおよび1,2,4−トリアゾル−3−イルである。1〜4個の窒素原子および/または1個のリン原子を含有することができる六員ヘテロアリール基の例は、2−ピリジニル、2−ホスファベンゼニル、3−ピリダジニル、2−ピリミジニル、4−ピリミジニル、2−ピラジニル、1,3,5−トリアジン−2−イルならびに1,2,4−トリアジン−3−イル、1,2,4−トリアジン−5−イルおよび1,2,4−トリアジン−6−イルである。五員および六員ヘテロアリール基は、C1−C10−アルキル;C6−C10−アリール;アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜10個の炭素原子を有するアルキルアリール;トリアルキルシリル;またはフッ素、塩素もしくは臭素などのハロゲンにより置換されていることもでき、あるいは、1個以上の芳香族化合物またはヘテロ芳香族化合物と縮合していることもできる。ベンゾ縮合五員ヘテロアリール基の例は、2−インドリル、7−インドリル、2−クマロニル、7−クマロニル、2−チオナフテニル、7−チオナフテニル、3−インダゾリル、7−インダゾリル、2−ベンゾイミダゾリルおよび7−ベンゾイミダゾリルである。ベンゾ縮合六員ヘテロアリール基の例は、2−キノリル、8−キノリル、3−シンノリル、8−シンノリル、1−フタラジル、2−キナゾリル、4−キナゾリル、8−キナゾリル、5−キノキサリル、4−アクリジル、1−フェナントリジルおよび1−フェナンジルである。ヘテロ環の命名および番号付けは、L.FieserおよびM.Fieser,Lehrbuch der organischen Chemie,第3改訂版,Verlag Chemie,Weinheim 1957からとった。
一般式(XIV)中の基XBは、好ましくは同一であり、好ましくは、フッ素、塩素、臭素、C1−C7−アルキルまたはアラルキル、とりわけ塩素、メチルまたはベンジルである。
そのような錯体の合成は、適切に置換されている環状炭化水素アニオンと、好ましくはハフニウムのハロゲン化物との反応を含む、それ自体が公知の方法により、実施することができる。適切な準備法の例は、例えば、Journal of Organometallic Chemistry,369(1989),359−370に記載されている。
ハフノセンは、Racまたは擬Rac形で用いることができる。偽Racという用語は、2個のシクロペンタジエニル配位子が、錯体の他の置換基すべてを無視したときに、互いに関連してRac配置にある錯体をさす。
適切なハフノセン(A2)の例は、とりわけ、メチレンビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、メチレンビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、メチレンビス(3−n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、メチレンビス(インデニル)ハフニウムジクロリド、メチレンビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピリデンビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピリデンビス(3−トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピリデンビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピリデンビス(3−n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピリデンビス(3−フェニルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピリデンビス(インデニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピリデンビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロリド、エチレンビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、エチレンビス(インデニル)ハフニウムジクロリド、エチレンビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロリド、テトラメチルエチレン−9−フルオレニル−シクロペンタジエニルハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(3−トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(3−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(3−n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−エチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−tert−ブチルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジエチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ハフニウムジブロミド、ジメチルシランジイルビス(3−メチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(3−エチル−5−イソプロピルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−エチルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4,5−ベンゾインデニル)ハフニウムジクロリド、メチルフェニルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)ハフニウムジクロリド、メチルフェニルシランジイルビス(2−エチル−4,5−ベンゾインデニル)ハフニウムジクロリド、ジフェニルシランジイルビス(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)ハフニウムジクロリド、ジフェニルシランジイルビス(2−エチル−4,5−ベンゾインデニル)ハフニウムジクロリド、ジフェニルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−フェニルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−(1−ナフチル)インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−4−(1−ナフチル)インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−i−ブチル−4−(1−ナフチル)インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−4−(9−フェナントリル)インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−イソプロピルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2,7−ジメチル−4−イソプロピルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4[p−トリフルオロメチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−[3’,5’−ジメチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジエチルシランジイルビス(2−メチル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイル(2−イソプロピル−4−フェニルインデニル)(2−メチル−4−フェニルインデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイル(2−イソプロピル−4−(1−ナフチル)インデニル)(2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイル(2−イソプロピル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)(2−メチル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、ジメチルシランジイル(2−イソプロピル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)(2−メチル−4−[1’−ナフチル]インデニル)ハフニウムジクロリド、およびエチレン(2−イソプロピル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)(2−メチル−4−[4’−tert−ブチルフェニル]インデニル)ハフニウムジクロリド、そしてまた対応するジメチルハフニウム、モノクロロモノ(アルキルアリールオキシ)ハフニウムおよびジ(アルキルアリールオキシ)ハフニウム化合物である。該錯体は、ラセミ形、メソ形、またはこれらの混合物として用いることができる。
一般式(VI)のハフノセンのうち、式(VII)のもの
Figure 2007534813
が好ましい。
式(VII)の化合物のうち、
Bが、フッ素、塩素、臭素、C1−C4−アルキルもしくはベンジルであるか、または2個の基XBが、置換もしくは非置換ブタジエン配位子を形成し、
tが1または2、好ましくは2であり、
1B〜R5Bがそれぞれ、水素、C1−C8−アルキル、C6−C8−アリール、NR8B 2、OSiR8B 3またはSi(R8B3であり、
9B〜R13Bがそれぞれ、水素、C1−C8−アルキルまたはC6−C8−アリール、NR14B 2、OSiR14B 3またはSi(R14B3であり、
あるいはいずれの場合も、2個の基R1B〜R5Bおよび/またはR9B〜R13Bが、C5環と一緒になって、インデニル、フルオレニルまたは置換されたインデニルもしくはフルオレニル系を形成する、
ものが好ましい。
シクロペンタジエニル基が同一である式(VII)のハフノセンが、とりわけ有用である。
式(VII)のとりわけ適切な化合物D)の例は、とりわけ:ビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(インデニル)ハフニウムジクロリド、ビス(フルオレニル)ハフニウムジクロリド、ビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジクロリド、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(トリメトキシシリルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(イソブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(3−ブテニルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1,3−ジ−tert−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(トリフルオロメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(tert−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(フェニルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(N,N−ジメチルアミノメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(1−n−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、(シクロペンタジエニル)(メチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、(シクロペンタジエニル)(n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、(メチルシクロペンタジエニル)(n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、(シクロペンタジエニル)(1−メチル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリド、そしてまた対応するジメチルハフニウム化合物である。さらなる例は、1または2個の塩素配位子が臭素またはヨウ素により置換されている、対応するハフノセン化合物である。
適した触媒B)は、一般式XV〜XIXの少なくとも1個の配位子を伴う遷移金属錯体であり、
Figure 2007534813
ここにおいて、可変要素は以下の意味を有する:
1Cは、窒素またはリン、とりわけ窒素であり、
2C−E4Cはそれぞれ、互いに独立して、炭素、窒素またはリン、とりわけ炭素であり、
1C−R3Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、ハロゲン、NR18C 2、OR18C、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R1C−R3Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の隣接基R1C−R3Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R1C−R3Cは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、
4C−R7Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、NR18C 2、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R4C−R7Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個のジェミナルもしくは隣接基R4C−R7Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個のジェミナルもしくは隣接基R4C−R9Cは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、そして、vが0である場合、R6CはL1Cに結合し、および/またはR7CはL2Cに結合し、これにより、L1Cは、R4Cを持つ炭素原子に対し二重結合を形成し、および/またはL2Cは、R5Cを持つ炭素原子に対し二重結合を形成し、
uは、E2C−E4Cが窒素またはリンである場合0であり、E2C−E4Cが炭素である場合1であり、
1C−L2Cはそれぞれ、互いに独立して、窒素またはリン、とりわけ窒素であり、
8C−R11Cはそれぞれ、互いに独立して、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、ハロゲン、NR18C 2、OR18C、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R8C−R11Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、
12C−R17Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、ハロゲン、NR18C 2、OR18C、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R12C−R17Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、
印vはそれぞれ、互いに独立して、0または1であり、
基XCはそれぞれ、互いに独立して、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、C1−C10−アルキル、C2−C10−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、NR18C 2、OR18C、SR18C、SO318C、OC(O)R18C、CN、SCN、β−ジケトネート、CO、BF4 -、PF6 -もしくは塊状非配位性アニオンであり、基XCは互いに接合することができ、
基R18Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R18Cは、ハロゲンまたは窒素含有基および酸素含有基により置換されていることもでき、2個の基R18Cは、接合して五または六員環を形成することもでき、
基R19Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリールであり、ここにおいて、有機基R19Cは、ハロゲンまたは窒素含有基および酸素含有基により置換されていることもでき、2個の基R19Cは、接合して五または六員環を形成することもでき、
sは、1、2、3または4、とりわけ2または3であり、
Dは、非荷電供与体であり、そして、
tは、0〜4、とりわけ0、1または2である。
分子中の3つの原子E2C〜E4Cは、同一または異なっていることができる。E1Cがリンである場合、E2C〜E4Cはそれぞれ炭素であることが好ましい。E1Cが窒素である場合、E2C〜E4Cはそれぞれ窒素または炭素、とりわけ炭素であることが好ましい。
置換基R1C−R3CおよびR8C−R17Cは、幅広い範囲内で変動することができる。考えうるカルボ有機置換基R1C−R3CおよびR8C−R17Cは、例えば、以下のものである:線状もしくは分岐状であることができるC1−C22−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルもしくはn−ドデシル;順次C1−C10−アルキル基および/もしくはC6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルもしくはシクロドデシル;線状、環状もしくは分岐状であることができ、二重結合が内部もしくは末端にあることができるC2−C22−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルもしくはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C22−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェニル;または、さらなるアルキル基により置換されていることができるアリールアルキル、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−もしくは2−エチルフェニル;ここにおいて、2個の基R1C〜R3Cおよび/もしくは2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または隣接基R1C−R3Cのうち2個および/もしくは隣接基R8C−R17Cのうち2個は、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成することができ、および/または有機基R1C−R3Cおよび/もしくはR8C−R17Cは、フッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲンにより置換されていることもできる。さらに、R1C−R3CおよびR8C−R17Cは、アミノNR18C 2もしくはN(SiR19C 32、アルコキシまたはアリールオキシOR18C、例えば、ジメチルアミノ、N−ピロリジニル、ピコリニル、メトキシ、エトキシもしくはイソプロポキシ、またはハロゲン、例えば、フッ素、塩素もしくは臭素であることもできる。有機シリコン置換基SiR19C 3中の考えうる基R19Cは、R1C−R3Cについて上記したものと同じカルボ有機基であり、ここにおいて、2個のR19Cは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリ−tert−ブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。これらのSiR19C 3基は、酸素または窒素を介してE2C−E4Cに接合することもでき、例えば、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、ブチルジメチルシリルオキシ、トリブチルシリルオキシまたはトリ−tert−ブチルシリルオキシである。
好ましい基R1C−R3Cは、水素、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、オルト−ジアルキルもしくはジクロロ置換フェニル、トリアルキルもしくはトリクロロ置換フェニル、ナフチル、ビフェニルおよびアントラニルである。とりわけ好ましい有機シリコン置換基は、アルキル基中に1〜10個の炭素原子を有するトリアルキルシリル基、とりわけトリメチルシリル基である。
好ましい基R12C−R17Cは、水素、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、フッ素、塩素および臭素、とりわけ水素である。詳細には、R13CおよびR16Cはそれぞれ、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、フッ素、塩素または臭素であり、R12C、R14C、R15CおよびR17Cはそれぞれ水素である。
好ましい基R8C−R11Cは、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、フッ素、塩素および臭素である。詳細には、R8CおよびR10Cはそれぞれ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−アルキル、とりわけ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−n−アルキル、例えば、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニルであるか、またはフッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲンであり、R9CおよびR11Cはそれぞれ、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンである。R8CおよびR10Cがそれぞれ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−アルキル、とりわけ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−n−アルキル、例えば、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニルであり、R9CおよびR11Cがそれぞれ、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンであることが、とりわけ好ましい。
詳細には、R12C、R14C、R15CおよびR17Cは同一であり、R13CおよびR16Cは同一であり、R9CおよびR11Cは同一であり、R8CおよびR10Cは同一である。これは、上記好ましい態様においても好ましい。
置換基R4C−R7Cも、幅広い範囲内で変動することができる。考えうるカルボ有機置換基R4C−R7Cは、例えば、以下のものである:線状もしくは分岐状であることができるC1−C22−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルもしくはn−ドデシル;順次C1−C10−アルキル基および/もしくはC6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルもしくはシクロドデシル;線状、環状もしくは分岐状であることができ、二重結合が内部もしくは末端にあることができるC2−C22−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルもしくはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C22−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェニル;または、アリールアルキル、ここにおいて、該アリールアルキルは、さらなるアルキル基により置換されていることができ、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−もしくは2−エチルフェニルであり;ここにおいて、2個の基R4C〜R7Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個のジェミナル基R4C−R7Cは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成することができ、および/または有機基R4C−R7Cは、フッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲンにより置換されていることもできる。さらに、R4C−R7Cは、アミノNR18C 2またはN(SiR19C 32、例えば、ジメチルアミノ、N−ピロリジニルまたはピコリニルであることができる。有機シリコン(organosilicone)置換基SiR19C 3中の考えうる基R19Cは、R1C−R3Cについて上記したものと同じカルボ有機基であり、ここにおいて、2個の基R19Cは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリ−tert−ブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。これらのSiR19C 3基は、それらを持つ炭素に窒素を介して結合することもできる。vが0である場合、R6CはL1Cに結合し、および/またはR7CはL2Cに結合し、これにより、L1Cは、R4Cを持つ炭素原子に対し二重結合を形成し、および/またはL2Cは、R5Cを持つ炭素原子に対し二重結合を形成する。
好ましい基R4C−R7Cは、水素、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ベンジル、フェニル、オルト−ジアルキルもしくはジクロロ置換フェニル、トリアルキルもしくはトリクロロ置換フェニル、ナフチル、ビフェニルおよびアントラニルである。アミド置換基NR18C 2、とりわけ、ジメチルアミド、N−エチルメチルアミド、ジエチルアミド、N−メチルプロピルアミド、N−メチルイソプロピルアミド、N−エチルイソプロピルアミド、ジプロピルアミド、ジイソプロピルアミド、N−メチルブチルアミド、N−エチルブチルアミド、N−メチル−tert−ブチルアミド、N−tert−ブチルイソプロピルアミド、ジブチルアミド、ジ−sec−ブチルアミド、ジイソブチルアミド、tert−アミル−tert−ブチルアミド、ジペンチルアミド、N−メチルヘキシルアミド、ジヘキシルアミド、tert−アミル−tert−オクチルアミド、ジオクチルアミド、ビス(2−エチルヘキシル)アミド、ジデシルアミド、N−メチルオクタデシルアミド、N−メチルシクロヘキシルアミド、N−エチルシクロヘキシルアミド、N−イソプロピルシクロヘキシルアミド、N−tert−ブチルシクロヘキシルアミド、ジシクロヘキシルアミド、ピロリジン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン、デカヒドロキノリン、ジフェニルアミン、N−メチルアニリドまたはN−エチルアニリドのような第二級アミドも好ましい。
1CおよびL2Cはそれぞれ、互いに独立して、窒素またはリン、とりわけ窒素であり、vが0である場合、R4CまたはR5Cを持つ炭素原子と二重結合を形成することができる。詳細には、vが0である場合、L1Cおよび/またはL2Cは、R4CまたはR5Cを持つ炭素原子と一緒になって、イミノ基−CR4C=N−または−CR5C=N−を形成する。vが1である場合、L1Cおよび/またはL2Cは、R4CまたはR5Cを持つ炭素原子と一緒になって、とりわけアミノ基−CR4C6C−N−または−CR5C7C−N−を形成する。
配位子XCは、例えば、鉄錯体の合成に用いられる適切な出発金属化合物の選択に由来するが、後で変動させることもできる。考えうる配位子XCは、とりわけ、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン、とりわけ塩素である。メチル、エチル、プロピル、ブチル、ビニル、アリル、フェニルまたはベンジルのようなアルキル基も有利な配位子XCである。さらなる配位子XCとして、トリフルオロアセテート、BF4 -、PF6 -、および弱配位性または非配位性アニオン(例えば、Chem.Rev.1993,93,927−942のS.Strauss参照)、例えばB(C654 -について言及することができるが、ほんの一例としてであり、決して包括的なものではない。アミド、アルコキシド、スルホネート、カルボキシレートおよびβ−ジケトネートも、とりわけ有用な配位子XCである。これら置換された配位子Xのいくつかは、安価で容易に入手可能な出発材料から得ることができるので、とりわけ好ましく用いられる。したがって、とりわけ好ましい態様は、XCがジメチルアミド、メトキシド、エトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、ナフトキシド、トリフレート、p−トルエンスルホネート、アセテートまたはアセチルアセトネートであるものである。
基R18Cの変動は、例えば、溶解度のような物理的性質を緻密に調整することを可能にする。考えうるカルボ有機置換基R18Cは、例えば、以下のものである:線状または分岐状であることができるC1−C20−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルまたはn−ドデシル;順次C6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロドデシル;線状、環状または分岐状であることができ、二重結合が内部または末端にあることができるC2−C20−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルまたはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基および/またはN−もしくはO−含有基により置換されていることができるC6−C20−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェニル、2−メトキシフェニル、2−N,N−ジメチルアミノフェニル;または、さらなるアルキル基により置換されていることができるアリールアルキル、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−または2−エチルフェニルであり;ここにおいて、2個の基R18Cは、接合して五または六員環を形成することもでき、有機基R18Cは、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンにより置換されていることもできる。有機シリコン置換基SiR19C 3中の考えうる基R19Cは、R18Cについて上記したものと同じ基であり、ここにおいて、2個のR19Cは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。C1−C10−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、そしてまたビニルアリル、ベンジルおよびフェニルを基R18Cとして使用することが好ましい。
配位子XCの数sは、鉄の酸化状態に依存する。したがって、数sを一般名に与えることはできない。触媒的に活性な錯体中の鉄の酸化状態は、通常当業者に公知である。しかしながら、酸化状態が活性触媒の酸化状態に相当しない錯体を用いることも可能である。その場合、そのような錯体を、適した活性剤により適切に還元または酸化することができる。酸化状態+3または+2にある鉄錯体を用いることが好ましい。
Dは、非荷電供与体、とりわけ非荷電ルイス塩基またはルイス酸、例えば、鉄中心に結合していることができるか、鉄錯体の調製からの残留溶媒としてなお存在している、アミン、アルコール、エーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、スルフィドまたはホスフィンである。
配位子Dの数tは0〜4であることができ、鉄錯体をその中で調製する溶媒、および得られた錯体を乾燥する時間に依存することが多く、したがって、0.5または1.5のような非整数であることもできる。とりわけ、tは0、1〜2である。
好ましい態様には、
Figure 2007534813
がある
[式中、
2C−E4Cはそれぞれ、互いに独立して、炭素、窒素またはリン、とりわけ炭素であり、
1C−R3Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、ハロゲン、NR18C 2、OR18C、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R1C−R3Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の隣接基R1C−R3Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R1C−R3Cは、結合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、
4C−R5Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、NR18C 2、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R4C−R5Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、
uは、E2C−E4Cが窒素またはリンである場合0であり、E2C−E4Cが炭素である場合1であり、
1C−L2Cはそれぞれ、互いに独立して、窒素またはリン、とりわけ窒素であり、
8C−R11Cはそれぞれ、互いに独立して、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、ハロゲン、NR18C 2、OR18C、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R8C−R11Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、
12C−R17Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C22−アルキル、C2−C22−アルケニル、C6−C22−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、ハロゲン、NR18C 2、OR18C、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R12C−R17Cは、ハロゲンにより置換されていることもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または2個の隣接基R8C−R17Cは、接合して、N、P、OまたはSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成し、
印vはそれぞれ、互いに独立して、0または1であり、
基XCはそれぞれ、互いに独立して、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、C1−C10−アルキル、C2−C10−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、NR18C 2、OR18C、SR18C、SO318C、OC(O)R18C、CN、SCN、β−ジケトネート、CO、BF4 -、PF6 -もしくは塊状非配位性アニオンであり、基XCは互いに接合することができ、
基R18Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、SiR19C 3であり、ここにおいて、有機基R18Cは、ハロゲンまたは窒素含有基および酸素含有基により置換されていることもでき、2個の基R18Cは、接合して五または六員環を形成することもでき、
基R19Cはそれぞれ、互いに独立して、水素、C1−C20−アルキル、C2−C20−アルケニル、C6−C20−アリール、アルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリールであり、ここにおいて、有機基R19Cは、ハロゲンまたは窒素含有基および酸素含有基により置換されていることもでき、2個の基R19Cは、接合して五または六員環を形成することもでき、
sは、1、2、3または4、とりわけ2または3であり、
Dは、非荷電供与体であり、そして、
tは、0〜4、とりわけ0、1または2である。
上記態様および好ましい態様は、E2C−E4C、R1C−R3C、XC、R18CおよびR19Cにも同様に適合する。
置換基R4C−R5Cは、幅広い範囲内で変動することができる。考えうるカルボ有機置換基R4C−R5Cは、例えば、以下のものである:水素;線状もしくは分岐状であることができるC1−C22−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルもしくはn−ドデシル;順次C1−C10−アルキル基および/もしくはC6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルもしくはシクロドデシル;線状、環状もしくは分岐状であることができ、二重結合が内部もしくは末端にあることができるC2−C22−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルもしくはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C22−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェニル;または、さらなるアルキル基により置換されていることができるアリールアルキル、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−もしくは2−エチルフェニル;ここにおいて、有機基R4C−R5Cは、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンにより置換されていることもできる。さらに、R4C−R5Cは、アミノNR18C 2もしくはN(SiR19C 32、例えば、ジメチルアミノ、N−ピロリジニルまたはピコリニルであることができる。有機シリコン置換基SiR19C 3中の考えうる基R19Cは、R1C−R3Cについて上記したものと同じカルボ有機基であり、ここにおいて、2個の基R19Cは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリ−tert−ブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。これらのSiR19C 3基は、それらを持つ炭素に窒素を介して結合することもできる。
好ましい基R4C−R5Cは、水素、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチルまたはベンジル、とりわけメチルである。
置換基R8C−R17Cは、幅広い範囲内で変動することができる。考えうるカルボ有機置換基R8C−R17Cは、例えば、以下のものである:線状もしくは分岐状であることができるC1−C22−アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシルもしくはn−ドデシル;順次C1−C10−アルキル基および/もしくはC6−C10−アリール基を置換基として持つことができる五〜七員シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルもしくはシクロドデシル;線状、環状もしくは分岐状であることができ、二重結合が内部もしくは末端にあることができるC2−C22−アルケニル、例えば、ビニル、1−アリル、2−アリル、3−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルもしくはシクロオクタジエニル;さらなるアルキル基により置換されていることができるC6−C22−アリール、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、o−、m−、p−メチルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−もしくは2,6−ジメチルフェニル、2,3,4−、2,3,5−、2,3,6−、2,4,5−、2,4,6−もしくは3,4,5−トリメチルフェニル;または、さらなるアルキル基により置換されていることができるアリールアルキル、例えば、ベンジル、o−、m−、p−メチルベンジル、1−もしくは2−エチルフェニルであり;ここにおいて、2個の基R8C〜R17Cは、接合して五、六もしくは七員環を形成することもでき、および/または隣接基R8C−R17Cのうち2個は、接合して、N、P、OおよびSからなる群からの少なくとも1個の原子を含有する五、六もしくは七員ヘテロ環を形成することができ、および/または有機基R8C−R17Cは、フッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲンにより置換されていることもできる。さらに、R8C−R17Cは、フッ素、塩素、臭素のようなハロゲン、アミノNR18C 2もしくはN(SiR19C 32、アルコキシまたはアリールオキシOR18C、例えば、ジメチルアミノ、N−ピロリジニル、ピコリニル、メトキシ、エトキシまたはイソプロポキシであることができる。有機シリコン置換基SiR19C 3中の考えうる基R19Cは、R1C−R3Cについて上記したものと同じカルボ有機基であり、ここにおいて、2個の基R19Cは、接合して五または六員環を形成することもできる。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリ−tert−ブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。これらのSiR19C 3基は、酸素または窒素を介して結合することもでき、例えば、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、ブチルジメチルシリルオキシ、トリブチルシリルオキシ、またはトリ−tert−ブチルシリルオキシである。
好ましい基R12C−R17Cは、水素、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、フッ素、塩素および臭素、とりわけ水素である。詳細には、R13CおよびR16Cはそれぞれ、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、フッ素、塩素または臭素であり、R12C、R14C、R15CおよびR17Cはそれぞれ水素である。
好ましい基R8C−R11Cは、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、フッ素、塩素および臭素である。詳細には、R8CおよびR10Cはそれぞれ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−アルキル、とりわけ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−n−アルキル、例えば、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニルであるか、またはフッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲンであり、R9CおよびR11Cはそれぞれ、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンである。R8CおよびR10Cがそれぞれ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−アルキル、とりわけ、ハロゲンにより置換されていることもできるC1−C22−n−アルキル、例えば、メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、ビニルであり、R9CおよびR11Cがそれぞれ、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲンであることが、とりわけ好ましい。
詳細には、R12C、R14C、R15CおよびR17Cは同一であり、R13CおよびR16Cは同一であり、R9CおよびR11Cは同一であり、R8CおよびR10Cは同一である。これは、上記好ましい態様においても好ましい。
化合物B)の調製法は、例えば、J.Am.Chem.Soc.120,p4049ff.(1998)、J.Chem.Soc.,Chem,Commun.1998,849およびWO98/27124に記載されている。好ましい錯体B)は、2,6−ビス[1−(2,6−ジメチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2,4,6−トリメチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2−クロロ−6−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2,6−ジイソプロピルフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2,6−ジクロロフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2,6−ジイソプロピルフェニルイミノ)メチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2,4−ジクロロ−6−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2,6−ジフルオロフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、2,6−ビス[1−(2,6−ジブロモフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、またはそれぞれのジブロミドもしくはトリブロミドである。
以下において、遷移金属錯体(A)または触媒(A)に対する言及は、モノシクロペンタジエニル錯体(A1)および/またはハフノセン(A2)を意味する。遷移金属錯体A)と重合触媒B)のモル比は、通常1:100〜100:1、好ましくは1:10〜10:1、とりわけ好ましくは1:5〜5:1の範囲にある。エチレンの単独重合または共重合において遷移金属錯体A)を唯一の触媒として同じ反応条件下で用いる場合、錯体(B)を唯一の錯体として同じ反応条件下で用いる場合と比較して、より大きなMwを生じることが好ましい。錯体(A1)、(A2)および(B)の好ましい態様は、錯体(A1)と(B)の組合わせおよび錯体(A2)と(B)の組合わせにおいても同様に好ましい。
本発明の触媒組成物は、単独で、または他の成分と一緒に触媒系として、オレフィン重合に用いることができる。さらに、われわれは、
A)シクロペンタジエニル系が非荷電供与体(A1)またはハフノセン(A2)により置換されている元素の周期表の第4〜6族の金属のモノシクロペンタジエニル錯体に基づく少なくとも1種の重合触媒、
B)少なくとも2個のオルト、オルト−二置換アリール基を持つ三座配位子を有する鉄成分に基づく少なくとも1種の重合触媒、
C)所望により1種以上の活性化化合物
D)所望により1種以上の有機または無機担体、
E)所望により、周期表の第1、2または13族の金属の金属化合物1種以上、
を含むオレフィン重合用触媒系を見いだした。
以下において、遷移金属錯体(A)または触媒(A)に対する言及は、モノシクロペンタジエニル錯体(A1)および/またはハフノセン(A2)を意味する。遷移金属錯体A)と重合触媒B)のモル比は、通常1:100〜100:1、好ましくは1:10〜10:1、とりわけ好ましくは1:5〜5:1の範囲にある。エチレンの単独重合または共重合において遷移金属錯体A)を唯一の触媒として同じ反応条件下で用いる場合、錯体(B)を唯一の錯体として同じ反応条件下で用いる場合と比較して、より大きなMwを生じることが好ましい。錯体(A1)、(A2)および(B)の好ましい態様は、錯体(A1)と(B)の組合わせおよび錯体(A2)と(B)の組合わせにおいても同様に好ましい。
モノシクロペンタジエニル錯体(A1)、ハフノセン(A2)および/または鉄錯体(B)は、低い重合活性しか有さないことがあり、その場合、良好な重合活性を示すことが可能になるように、これらを1種以上の活性剤、すなわち成分(C)と接触させる。したがって、触媒系は、成分(C)として、1種以上の活性化化合物、好ましくは1または2種の活性化化合物(C)を、さらに含んでいてもよい。本発明の触媒系は、1種以上の活性剤(C)を含むことが好ましい。触媒の組合わせ(A)および(B)によっては、1種以上の活性化化合物(C)は有利である。触媒組成物の遷移金属錯体(A)と鉄錯体(B)の活性化は、同じ活性剤もしくは活性剤混合物、または異なる活性剤を用いて、実施することができる。触媒(A)と(B)の両方に同じ活性剤(C)を用いることが、有利なことが多い。
1種または複数の活性剤(C)は、各場合において、本発明の触媒組成物の錯体(A)および(B)に基づき任意の量で用いることができる。それらは、各場合において、それらが活性化する錯体(A)または(B)に基づき、過剰量または理論量で用いることが好ましい。用いられる活性化化合物(1種以上)の量は、活性剤(C)のタイプに依存する。一般に、遷移金属錯体(A)と活性化化合物(C)とのモル比は、1:0.1〜1:10000、好ましくは1:1〜1:2000であることができる。鉄錯体(B)と活性化化合物(C)とのモル比も、通常1:0.1〜1:10000、好ましくは1:1〜1:2000の範囲にある。
遷移金属錯体(A)または鉄錯体(B)と反応して、それを触媒的に活性またはより活性な化合物に転化することができる適切な化合物(C)は、例えば、アルミノキサン、強い非荷電ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン化合物、またはブレンステッド酸をカチオンとして含有するイオン化合物などの化合物である。
アルミノキサンとしては、例えばWO00/31090に記載されている化合物を用いることが可能である。とりわけ有用なアルミノキサンは、一般式(X)または(XI)の開鎖または環状アルミノキサン化合物である
Figure 2007534813
[式中、R1D−R4Dはそれぞれ、互いに独立して、C1−C6−アルキル基、好ましくは、メチル、エチル、ブチルまたはイソブチル基であり、Iは、1〜40、好ましくは4〜25の整数である]。
とりわけ有用なアルミノキサン化合物は、メチルアルミノキサンである。
これらのオリゴマー性アルミノキサン化合物は通常、トリアルキルアルミニウム、詳細にはトリメチルアルミニウムの溶液と水との制御された反応により調製される。一般に、得られるオリゴマー性アルミノキサン化合物は、さまざまな長さの線状および環状両方の鎖状分子の混合物の形にあり、したがってIは平均値と考えるべきである。アルミノキサン化合物は、他のアルキル金属、通常アルキルアルミニウムとの混合材(admixture)中に存在することもできる。成分(C)として適切なアルミノキサン調製物は市販されている。
さらに、炭化水素基の一部が水素原子またはアルコキシ、アリールオキシ、シロキシもしくはアミド基により置換されている修飾アルミノキサンを、成分(C)として式(X)または(XI)のアルミノキサン化合物の代わりに用いることもできる。
遷移金属錯体A)または鉄錯体B)とアルミノキサン化合物を、なお存在している(still present)任意のアルキルアルミニウムを含むアルミノキサン化合物からのアルミニウムと遷移金属錯体(A)からの遷移金属との原子比が、1:1〜2000:1、好ましくは10:1〜500:1、とりわけ20:1〜400:1の範囲にあるような量で用いることが、有利であることを見いだした。なお存在している任意のアルキルアルミニウムを含むアルミノキサン化合物からのアルミニウムと鉄錯体(B)からの鉄との原子比は、通常1:1〜2000:1、好ましくは10:1〜500:1、とりわけ20:1〜400:1の範囲にある。
適した活性化成分(C)のさらなるクラスは、ヒドロキシアルミノキサンである。これらは、例えば、1当量のアルミニウムあたり0.5〜1.2当量の水、好ましくは0.8〜1.2当量の水を、アルキルアルミニウム化合物、とりわけトリイソブチルアルミニウムに、低温、通常0℃未満で加えることにより、調製することができる。そのような化合物およびオレフィン重合におけるそれらの使用は、例えば、WO00/24787に記載されている。ヒドロキシアルミノキサン化合物からのアルミニウムと遷移金属錯体(A)または鉄錯体(B)からの遷移金属との原子比は、通常1:1〜100:1、好ましくは10:1〜50:1、とりわけ20:1〜40:1の範囲にある。モノシクロペンタジエニル金属ジアルキル化合物(A1)またはハフノセンジアルキル化合物(A2)を用いることが好ましい。
強い非荷電ルイス酸としては、一般式(XII)の化合物が好ましい
2D1D2D3D (XII)
[式中、
2Dは、元素の周期表の第13族の元素、詳細にはB、AlまたはGa、好ましくはBであり、
1D、X2DおよびX3Dはそれぞれ、水素、C1−C10−アルキル、C6−C15−アリール、それぞれアルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、アリールアルキル、ハロアルキルもしくはハロアリール、または、フッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素、とりわけハロアリール、好ましくはペンタフルオロフェニルである]。
強い非荷電ルイス酸の他の例は、WO00/31090に記載されている。
成分(C)としてとりわけ有用な化合物は、ボランおよびボロキシン、例えば、トリアルキルボラン、トリアリールボランまたはトリメチルボロキシンである。少なくとも2個の過フッ素化アリール基を持つボランを用いることがとりわけ好ましい。X1D、X2DおよびX3Dが同一である一般式(XII)の化合物、例えば、トリフェニルボラン、トリス(4−フルオロフェニル)ボラン、トリス(3,5−ジフルオロフェニル)ボラン、トリス(4−フルオロメチルフェニル)ボラン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(トリル)ボラン、トリス(3,5−ジメチルフェニル)ボラン、トリス(3,5−ジフルオロフェニル)ボランまたはトリス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボランが、とりわけ好ましい。トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランを用いることが好ましい。
適した化合物(C)は、式(XII)のアルミニウムまたはホウ素化合物と、水、アルコール、フェノール誘導体、チオフェノール誘導体またはアニリン誘導体との反応により調製することが好ましく、ハロゲン化または特に過フッ素化アルコールおよびフェノールがとりわけ重要である。とりわけ有用な化合物の例は、ペンタフルオロフェノール、1,1−ビス(ペンタフルオロフェニル)メタノール、および4−ヒドロキシ−2,2’,3,3’,4’,5,5’,6,6’−ノナフルオロビフェニルである。式(XII)の化合物とブレンステッド酸との組合わせの例は、とりわけ、トリメチルアルミニウム/ペンタフルオロフェノール、トリメチルアルミニウム/1−ビス(ペンタフルオロフェニル)メタノール、トリメチルアルミニウム/4−ヒドロキシ−2,2’,3,3’,4’,5,5’,6,6’−ノナフルオロビフェニル、トリエチルアルミニウム/ペンタフルオロフェノール、およびトリイソブチルアルミニウム/ペンタフルオロフェノール、およびトリエチルアルミニウム/4,4’−ジヒドロキシ−2,2’,3,3’,5,5’,6,6’−オクタフルオロビフェニル水和物である。
式(XII)の他の適したアルミニウムおよびホウ素化合物において、R1DはOH基であり、例えば、ボロン酸およびボリン酸などである。とりわけ、過フッ素化アリール基を有するボリン酸、例えば(C652BOHについて言及することができる。
活性化化合物(C)として適する強い非荷電ルイス酸としては、ボロン酸と2当量のトリアルキルアルミニウムとの反応の反応生成物、またはトリアルキルアルミニウムと2当量の酸性のフッ素化、とりわけ過フッ素化炭素化合物、例えばペンタフルオロフェノールもしくはビス(ペンタフルオロフェニル)ボリン酸との反応の反応生成物も挙げられる。
ルイス酸カチオンを有する適切なイオン化合物は、一般式(XIII)のカチオンの塩様(salt-like)化合物を包含する
[((M3Da+)Q12...Qzd+ (XIII)
[式中、
3Dは、元素の周期表の第1〜16族の元素であり、
1〜Qzは、単に負に帯電している基、例えば、C1−C28−アルキル;C6−C15−アリール;それぞれアリール部に6〜20個の炭素原子とアルキル部に1〜28個の炭素原子を有するアルキルアリール、アリールアルキル、ハロアルキル、ハロアリール;C1−C10−アルキル基を置換基として持つことができるC3−C10−シクロアルキル;ハロゲン;C1−C28−アルコキシ;C6−C15−アリールオキシ;シリル;またはメルカプチル基であり、
aは、1〜6の整数であり、
zは、0〜5の整数であり、
dは、a−zの差に相当するが、dは1以上である]。
とりわけ有用なカチオンは、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオンおよびスルホニウムカチオン、そしてまたカチオン性遷移金属錯体である。とりわけ、トリフェニルメチルカチオン、銀カチオンおよび1,1’−ジメチルフェロセニルカチオンに言及することができる。それらは、非配位性対イオンを有することが好ましく、とりわけWO91/09882でも言及されているようなホウ素化合物、好ましくはテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートである。
非配位性アニオンを有する塩も、ホウ素またはアルミニウム化合物、例えばアルキルアルミニウムを、反応して2個以上のホウ素またはアルミニウム原子に連結することができる第2化合物、例えば水、およびホウ素またはアルミニウム化合物と一緒に解離性(ionizing)イオン化合物を形成する第3化合物、例えばトリフェニルクロロメタン、または所望により塩基、好ましくは有機窒素含有塩基、例えば、アミン、アニリン誘導体もしくは窒素ヘテロ環と組み合わせることにより、調製することができる。これに加えて、同様にホウ素またはアルミニウム化合物と反応する第4化合物、例えばペンタフルオロフェノールを、加えることができる。
ブレンステッド酸をカチオンとして含有するイオン化合物も同様に、非配位性対イオンを有する。ブレンステッド酸としては、プロトン化アミンまたはアニリン誘導体がとりわけ好ましい。好ましいカチオンは、N,N−ジメチルアニリニウム、N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウムおよびN,N−ジメチルベンジルアンモニウム、そしてまた後者2つの誘導体である。
WO9736937に記載されているようなアニオン性ホウ素ヘテロ環を含有する化合物、とりわけジメチルアニリニウムボラタベンゼンまたはトリチルボラタベンゼンも、成分(C)として適している。
好ましいイオン化合物C)は、少なくとも2個の過フッ素化アリール基を持つボレートを含有する。N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、とりわけ、N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルベンジルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートまたはトリチルテトラキスペンタフルオロフェニルボレートが、とりわけ好ましい。
ジアニオン[(C652B−C64−B(C6522-でのように、2個以上のボレートアニオンが互いに接合することも可能であり、または、ボレートアニオンは、架橋を介して、担体表面上の適切な官能基に結合することができる。
さらなる適した活性化化合物(C)は、WO00/31090に挙げられている。
強い非荷電ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン化合物、またはブレンステッド酸をカチオンとして含有するイオン化合物の量は、遷移金属錯体(A)または鉄錯体(B)に基づき、好ましくは0.1〜20当量、より好ましくは1〜10当量、とりわけ好ましくは1〜2当量である。
適した活性化化合物(C)は、ジ[ビス(ペンタフルオロフェニルボロキシ)]メチルアランのようなホウ素−アルミニウム化合物も包含する。そのようなホウ素−アルミニウム化合物の例は、WO99/06414に開示されているものである。
すべての上記活性化化合物(C)の混合物を用いることも可能である。好ましい混合物は、アルミノキサン、詳細にはメチルアルミノキサン、およびイオン化合物、詳細にはテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオンを含有するもの、および/または強い非荷電ルイス酸、詳細にはトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランまたはボロキシンを含む。
遷移金属錯体(A)または鉄錯体(B)と活性化化合物(C)の両方とも、溶媒、好ましくは6〜20個の炭素原子を有する芳香族炭化水素、詳細には、キシレン、トルエン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはそれらの混合物中で用いることが好ましい。
さらに、同時に担体(D)として採用することができる活性化化合物(C)を用いることが可能である。そのような系は、例えば、ジルコニウムアルコキシドで処理し、続いて例えば四塩化炭素により塩素化した無機酸化物から得られる。そのような系の調製法は、例えばWO01/41920に記載されている。
(C)の好ましい態様と(A)および/または(B)の好ましい態様との組合わせが、とりわけ好ましい。
触媒成分(A)および(B)のための共通の活性剤(C)としては、アルミノキサンを用いることが好ましい。ハフノセン(A2)のための活性剤(C)としての一般式(XIII)のカチオンの塩様化合物、詳細には、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルベンジルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートまたはトリチルテトラキスペンタフルオロフェニルボレートを、とりわけ鉄錯体(B)のための活性剤(C)としてのアルミノキサンと組み合わせる組合わせも好ましい。
他のとりわけ有用な接合活性剤(C)は、式(XII)のアルミニウム化合物と過フッ素化アルコールおよびフェノールとの反応生成物である。
遷移金属錯体(A)と鉄錯体(B)を気相または懸濁液中での重合工程に用いることを可能にするためには、錯体を固体の形状で用いる、すなわち、それらを固体担体(D)に施用することが、有利であることが多い。さらに、担持された錯体は高い生産性を有する。したがって、遷移金属錯体(A)および/または鉄錯体(B)は、所望により、有機または無機担体(D)上に固定されていることもでき、担持された形で重合に用いることもできる。これにより、例えば、反応器中での付着物を回避し、ポリマーの形態学を制御することが可能になる。担体材料としては、シリカゲル、塩化マグネシウム、酸化アルミニウム、メソ多孔質材料、アルミノシリケート、ハイドロタルサイト、および有機ポリマー、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレン、または極性官能基を持つポリマー、例えば、エテンとアクリル酸エステル、アクロレインもしくは酢酸ビニルとのコポリマーを用いることが好ましい。
少なくとも1種の遷移金属錯体(A)、少なくとも1種の鉄錯体(B)、少なくとも1種の活性化化合物(C)および少なくとも1種の担体成分(D)を含む触媒系が、とりわけ好ましい。
本発明に従った好ましい触媒組成物は、1種以上の担体成分を含む。遷移金属成分(A)と鉄錯体(B)の両方を担持させることが可能であり、または2成分のうち一方だけを担持させることができる。好ましい態様では、成分(A)と(B)の両方を担持させる。この場合、2成分(A)および(B)を、異なる担体に施用するか、共通の担体に一緒に施用することができる。成分(A)および(B)を共通の担体に施用して、さまざまな触媒中心の比較的近い空間的近接性を確実にし、このようにして、形成した異なるポリマーの良好な混合を確実にすることが好ましい。
本発明の触媒系を調製するためには、成分(A)の1種および成分(B)の1種および/または活性剤(C)または担体(D)を、物理吸着によるか、または化学反応、すなわち、反応性基を担体表面上にあるようにする成分の共有結合により、固定化することが好ましい。
担体成分D)、遷移金属錯体(A)、鉄錯体(B)および活性化化合物(C)を化合する順序は、原則として重要ではない。個々の工程段階の後、さまざまな中間体を、適切な不活性溶媒、例えば、脂肪族または芳香族炭化水素で洗浄することができる。
遷移金属錯体(A)、鉄錯体(B)および活性化化合物(C)は、互いに独立して、例えば、連続して、または同時に、固定化することができる。したがって、担体成分(D)は、最初に1種または複数の活性化化合物(C)と接触させることができ、または、担体成分(D)は、最初に遷移金属錯体(A)および/もしくは鉄錯体(B)と接触させることができる。担体(D)と混合する前に、1種以上の活性化化合物(C)により遷移金属錯体A)を予備活性化することも可能である。鉄成分は、例えば、遷移金属錯体と同時に活性化化合物(C)と反応させることができ、または、後者により別個に予備活性化することができる。予備活性化した鉄錯体(B)は、予備活性化した遷移金属錯体(A)の前または後に担体に施用することができる。考えうる一態様では、遷移金属錯体(A)および/または鉄錯体(B)を、担体材料の存在下で調製することもできる。他の固定化方法は、先に担体に施用しているまたは施用していない触媒系の予備重合である。
固定化は一般に、固定化後に濾過または蒸発により除去することができる不活性溶媒中で実施する。個々の工程段階の後、固体を適切な不活性溶媒、例えば脂肪族もしくは芳香族炭化水素で洗浄し、乾燥することができる。しかしながら、まだ湿っている担持触媒を用いることも可能である。
担持触媒系の好ましい調製法では、少なくとも1種の鉄錯体(B)を活性化化合物(C)に接触させた後、脱水または不動態化した担体材料(D)と混合する。遷移金属錯体(A)も、適切な溶媒中で少なくとも1種の活性化化合物(C)と同様に接触させると、好ましくは可溶性反応生成物、付加物または混合物が得られる。その後、このようにして得られた調製物を、固定化した鉄錯体と混合し、これを直接または溶媒を分離して除去した後に用い、溶媒は完全または部分的に除去する。得られた担持触媒系を好ましくは乾燥して、溶媒のすべてまたはほとんどを担体材料の細孔から確実に除去する。担持触媒は、さらさらした粉末として得られることが好ましい。上記工程の工業的実施の例は、WO96/00243、WO98/40419またはWO00/05277に記載されている。他の好ましい態様は、最初に担体成分(D)上に活性化化合物(C)をもたらした後、この担持化合物を遷移金属錯体(A)および鉄錯体(B)と接触させることを含む。
担体成分(D)としては、任意の有機または無機固体であることができる微細担体を用いることが好ましい。詳細には、担体成分(D)は、タルクのような多孔質担体、モンモリロナイト、雲母もしくは無機酸化物のような層状シリケート、または微細ポリマー粉末(例えば、ポリオレフィンまたは極性官能基を有するポリマー)であることができる。
用いられる担体材料は、10〜1000m2/gの範囲の比表面積、0.1〜5mL/gの範囲の細孔容積、および1〜500μmの平均粒径を有することが好ましい。50〜700m2/gの範囲の比表面積、0.4〜3.5mL/gの範囲の細孔容積、および5〜350μmの平均粒径を有する担体が好ましい。200〜550m2/gの範囲の比表面積、0.5〜3.0mL/gの範囲の細孔容積、および10〜150μmの平均粒径を有する担体が、とりわけ好ましい。
遷移金属錯体(A)は、完成した触媒系において、遷移金属錯体(A)からの遷移金属の濃度が、担体(D)1gあたり1〜200μmol、好ましくは5〜100μmol、とりわけ好ましくは10〜70μmolになるような量で、施用することが好ましい。鉄錯体(B)は、完成した触媒系において、鉄錯体(B)からの鉄の濃度が、担体(D)1gあたり1〜200μmol、好ましくは5〜100μmol、とりわけ好ましくは10〜70μmolになるような量で、施用することが好ましい。
無機担体は、例えば吸着水を除去するために、熱処理に付すことができる。そのような乾燥処理は一般に、50〜1000℃、好ましくは100〜600℃の範囲の温度で実施し、100〜200℃での乾燥を減圧下および/または不活性ガス(例えば窒素)のガスシール下で実施することが好ましく、あるいは、無機担体を、200〜1000℃の温度で焼成して、固体の望ましい構造を作り出し、および/または表面上を望ましいOH濃度にすることができる。担体は、通例の乾燥剤、例えばアルキル金属、好ましくはアルキルアルミニウム、クロロシランすなわちSiCl4、またはメチルアルミノキサンを用いて化学的に処理することもできる。適切な処理法は、例えば、WO00/31090に記載されている。
無機担体材料を化学的に修飾することもできる。例えば、シリカゲルをNH4SiF6または他のフッ素化剤で処理すると、シリカゲル表面のフッ素化がもたらされ、またはシリカゲルを窒素含有基、フッ素含有基もしくは硫黄含有基を含有するシランで処理すると、相応して修飾されたシリカゲル表面がもたらされる。
微細ポリオレフィン粉末(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンまたはポリスチレン)のような有機担体材料を用いることもでき、これも同様に、使用する前の適切な精製および乾燥作業により、密着している水分(adhering moisture)、溶媒残留物または他の不純物が取り除かれていることが好ましい。官能基化したポリマー担体、例えば、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレンまたはポリブチレンに基づくものであって、その官能基、例えばアンモニウム基またはヒドロキシ基により、触媒成分の少なくとも1つを固定化することができるものを用いることも可能である。ポリマーブレンドを用いることも可能である。
担体成分(D)として適する無機酸化物は、元素の周期表の第2、3、4、5、13、14、15および16族の元素の酸化物に見いだすことができる。担体として好ましい酸化物の例としては、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、および元素カルシウム、アルミニウム、ケイ素、マグネシウムまたはチタンの混合酸化物、そしてまた対応する酸化物混合物が挙げられる。単独または上記好ましい酸化物担体との組合わせで用いることができる他の無機酸化物は、例えば、MgO、CaO、AlPO4、ZrO2、TiO2、B23またはそれらの混合物である。
他の好ましい無機担体材料は、無機ハロゲン化物、例えば、MgCl2;炭酸塩、例えば、Na2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3;硫酸塩、例えばNa2SO4、Al2(SO43、BaSO4;硝酸塩、例えば、KNO3、Mg(NO32またはAl(NO33である。
オレフィン重合用触媒のための固体担体材料(D)としては、シリカゲルを用いることが好ましい。これは、サイズおよび構造によりオレフィン重合用触媒として適切なものになる粒子を、この材料から生産することができるためである。比較的小さな粒状粒子、すなわち一次粒子の球状凝集体である噴霧乾燥したシリカゲルは、とりわけ有用であることが見いだされている。シリカゲルは、使用前に乾燥および/または焼成することができる。
他の好ましい担体(D)は、ハイドロタルサイトおよび焼成ハイドロタルサイトである。鉱物学において、ハイドロタルサイトは、理想的式
Mg6Al2(OH)16CO3・4H2
を有する天然鉱物であり、その構造は、ブルーサイトMg(OH)2の構造に由来する。ブルーサイトは、金属イオンが2層の最密充填ヒドロキシルイオンの間の八面体空孔にある層状構造で結晶化し、2層ごとの八面体空孔のみが占有されている。ハイドロタルサイトでは、マグネシウムイオンの一部がアルミニウムイオンにより置き換わられており、その結果、層のパケットが正電荷を得る。これは、結晶水と一緒に中間層に位置しているアニオンにより、バランスを保たれている。
そのような層状構造は、マグネシウム−アルミニウム−水酸化物だけでなく、一般に、層状構造を有する一般式
M(II)2x 2+M(III)2 3+(OH)4x+4・A2/n n-・zH2
の混合金属水酸化物でも見いだされ、ここにおいて、M(II)は、二価の金属、例えば、Mg、Zn、Cu、Ni、Co、Mn、Caおよび/またはFeであり、M(III)は、三価の金属、例えば、Al、Fe、Co、Mn、La、Ceおよび/またはCrであり、xは0.5〜10の0.5ずつの数であり、Aは格子間アニオンであり、nは、1〜8、通常1〜4であることができる格子間アニオンの電荷であり、zは、1〜6、とりわけ2〜4の整数である。考えうる格子間アニオンは、アルコキシドアニオン、アルキルエーテルスルフェート、アリールエーテルスルフェートもしくはグリコールエーテルスルフェートのような有機アニオンか、とりわけ炭酸塩、炭酸水素塩、硝酸塩、塩化物、硫酸塩もしくはB(OH)4 -のような無機アニオンか、またはMo724 6-またはV1028 6-のようなポリオキソ金属アニオンである。しかしながら、複数のそのようなアニオンの混合物も可能である。
したがって、層状構造を有するそのような混合金属水酸化物はすべて、本発明の目的に関しハイドロタルサイトと考えるべきである。
焼成ハイドロタルサイトは、焼成、すなわち加熱によりハイドロタルサイトから調製することができ、この焼成すなわち加熱により、とりわけ所望の水酸化物基含量に調節することができる。これに加えて、結晶構造も変化する。本発明に従って用いられる焼成ハイドロタルサイトの調製は、通常180℃を超える温度で実施される。250℃〜1000℃、とりわけ400℃〜700℃の温度での3〜24時間にわたる焼成が好ましい。空気または不活性ガスを固体の上方に通す、または同時に真空を適用することが可能である。
加熱中に、天然または合成ハイドロタルサイトは最初に水を発する、すなわち乾燥が起こる。さらなる加熱、すなわち実際の焼成中に、金属水酸化物は、ヒドロキシル基および格子間アニオンの脱離により金属酸化物に転化する;OH基または炭酸塩のような格子間アニオンは、焼成ハイドロタルサイト中にもなお存在していてもよい。この尺度は、強熱源量である。これは、最初に乾燥オーブンにおいて200℃で30分間、次ぎにマッフル炉において950℃で1時間という2段階で加熱される試料が経る損失重量である。
したがって、成分(D)として用いられる焼成ハイドロタルサイトは、二価および三価の金属M(II)およびM(III)の混合酸化物であり、M(II)とM(III)のモル比は一般に0.5〜10、好ましくは0.75〜8、とりわけ1〜4の範囲にある。さらに、標準的量の不純物、例えば、Si、Fe、Na、CaまたはTi、そしてまた塩化物および硫酸塩も、存在することができる。
好ましい焼成ハイドロタルサイト(D)は、M(II)がマグネシウムでM(III)がアルミニウムである混合酸化物である。そのようなアルミニウム−マグネシウム混合酸化物は、Puralox Mgの商品名でHamburgのCondea Chemie GmbH(現在Sasol Chemie)から得ることができる。
構造変態が完了またはほぼ完了している焼成ハイドロタルサイトも好ましい。焼成、すなわち構造の変態は、例えば、X線回折パターンにより確認することができる。
用いられるハイドロタルサイト、焼成ハイドロタルサイトまたはシリカゲルは一般に、5〜200μm、好ましくは10〜150μm、とりわけ好ましくは15〜100μm、とりわけ20〜70μmの平均粒径D50を有する微細粉末として用いられ、通常、0.1〜10cm3/g、好ましくは0.2〜5cm3/gの細孔容積、および30〜1000m2/g、好ましくは50〜800m2/g、とりわけ100〜600m2/gの比表面積を有する。遷移金属錯体(A)は、完成した触媒系において、遷移金属錯体(A)からの遷移金属の濃度が、担体(D)1gあたり1〜100μmol、好ましくは5〜80μmol、とりわけ好ましくは10〜60μmolになるような量で、施用することが好ましい。
触媒系はさらに、追加的成分(E)、すなわち一般式(XX)の金属化合物を含むことができる
Figure 2007534813
[式中、
Gは、Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、亜鉛、とりわけLi、Na、K、Mg、ホウ素、アルミニウムまたはZnであり、
1Gは、水素、C1−C10−アルキル、C6−C15−アリール、それぞれアルキル部に1〜10個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリールまたはアリールアルキルであり、
2GおよびR3Gはそれぞれ、水素、ハロゲン、C1−C10−アルキル、C6−C15−アリール、それぞれアルキル部に1〜20個の炭素原子およびアリール部に6〜20個の炭素原子をそれぞれ有するアルキルアリール、アリールアルキルもしくはアルコキシ、またはC1−C10−アルキルもしくはC6−C15−アリールを一緒に伴うアルコキシであり、
Gは、1〜3の整数であり、
GおよびtGは、0〜2の整数であり、rG+sG+tGの合計はMGの原子価に相当し、
ここにおいて、成分(E)は通常成分(C)と同一でない]。
式(XX)のさまざまな金属化合物の混合物を用いることも可能である。
一般式(XX)の金属化合物のうち、
Gが、リチウム、マグネシウム、ホウ素またはアルミニウムであり、
1Gが、C1−C20−アルキルである
ものが好ましい。
式(XX)のとりわけ好ましい金属化合物は、メチルリチウム、エチルリチウム、n−ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、臭化メチルマグネシウム、塩化エチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウム、塩化ブチルマグネシウム、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、n−ブチル−n−オクチルマグネシウム、n−ブチル−n−ヘプチルマグネシウム、とりわけn−ブチル−n−オクチルマグネシウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、塩化ジメチルアルミニウム、フッ化ジメチルアルミニウム、二塩化メチルアルミニウム、セスキ塩化メチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウムおよびトリメチルアルミニウム、ならびにそれらの混合物である。アルコールを用いたアルキルアルミニウムの部分的加水分解生成物も用いることができる。
金属化合物(E)を用いる場合、それは、触媒系中に、式(XX)からのMGと遷移金属錯体(A)および鉄錯体(B)からの遷移金属の合計とのモル比が、3000:1〜0.1:1、好ましくは800:1〜0.2:1、とりわけ好ましくは100:1〜1:1になるような量で、存在することが好ましい。
一般に、一般式(XX)の金属化合物(E)は、オレフィンの重合または共重合用の触媒系の構成要素として用いられる。ここで、金属化合物(E)は、例えば、担体(D)を含む触媒固体を調製するために用いることができ、および/または重合中もしくはその直前に加えることができる。用いられる金属化合物(E)は、同一または異なっていることができる。とりわけ触媒固体が活性化成分(C)を含有しない場合、触媒系がさらに、触媒固体に加えて、触媒固体中に存在する任意の化合物(E)と同一または異なっている1種以上の活性化化合物(C)を含むことも可能である。
成分E)も同様に、成分(A)、(B)ならびに所望により(C)および(D)と任意の順序で反応させることができる。例えば、成分(A)は、重合するオレフィンと接触させる前または後のいずれかに、成分(1以上)(C)および/または(D)と接触させることができる。オレフィンとの混合前に1種以上の成分(C)により予備活性化し、さらに、この混合物をオレフィンと接触させた後に同じまたは他の成分(C)および/または(D)を加えることも可能である。予備活性化は、一般に10〜100℃、好ましくは20〜80℃の温度で実施する。
他の好ましい態様では、触媒固体を、上記のような成分(A)、(B)、(C)および(D)から調製し、これを、重合中、重合開始時または重合直前に、成分(E)と接触させる。
最初に、重合するα−オレフィンと(E)を接触させた後、上記のような成分(A)、(B)、(C)および(D)を含む触媒固体を加えることが好ましい。
他の好ましい態様では、担体(D)を最初に成分(E)と接触させた後、成分(A)および(B)ならびに任意の他の活性剤(C)を上記のように処理する。
触媒系を最初にα−オレフィン、好ましくは線状C2−C10−1−アルケン、とりわけエチレンまたはプロピレンと予備重合した後、得られた予備重合触媒固体を実際の重合に用いることも可能である。予備重合に用いられる触媒固体と、その上で重合されるモノマーとの質量比は、通常1:0.1〜1:1000、好ましくは1:1〜1:200の範囲にある。
さらに、改質成分としてのオレフィン、好ましくはα−オレフィン、例えば、ビニルシクロヘキサン、スチレンまたはフェニルジメチルビニルシラン、帯電防止的または適切な不活性化合物、例えばワックスまたはオイルを、触媒系の調製中または調製後に添加剤として少量加えることができる。添加剤と遷移金属錯体(A)および鉄錯体(B)の合計とのモル比は、通常1:1000〜1000:1、好ましくは1:5〜20:1である。
本発明の触媒組成物または触媒系は、有利な用途および加工特性を有する本発明のポリエチレンを調製するのに適している。
本発明のポリエチレンを調製するために、エチレンを、3〜12個の炭素原子を有するα−オレフィンと上記のように重合する。
本発明の共重合法では、エチレンを、3〜12個の炭素原子を有するα−オレフィンと重合する。好ましいα−オレフィンは、線状または分岐状C2−C12−1−アルケン、とりわけ線状C2−C10−1−アルケン、例えば、エテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−デセン、または分岐状C2−C10−1−アルケン、例えば、4−メチル−1−ペンテンである。とりわけ好ましいα−オレフィンは、C4−C12−1−アルケン、とりわけ線状C6−C10−1−アルケンである。さまざまなα−オレフィンの混合物を重合することも可能である。エテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテンおよび1−デセンからなる群より選択される少なくとも1種のα−オレフィンを重合することが好ましい。少なくとも50mol%のエテンを含有するモノマー混合物を用いることが好ましい。
エチレンをα−オレフィンと重合するための本発明の方法は、あらゆる工業的に公知の重合法を用いて、−60〜350℃、好ましくは0〜200℃、とりわけ好ましくは25〜150℃の範囲の温度において、0.5〜4000bar、好ましくは1〜100bar、とりわけ好ましくは3〜40barの圧力下で実施することができる。重合は、オレフィンの重合に用いられている通例の反応器において、塊、懸濁液、気相または超臨界媒体中で、公知のように実施することができる。バッチ式で、または好ましくは1段階以上で連続的に、実施することができる。チューブ反応器またはオートクレーブでの高圧重合法、溶液法、懸濁法、撹拌気相法(stirred gas-phase process)および気相流動床法は、すべて可能である。
重合は通常、−60〜350℃、好ましくは20〜300℃の範囲の温度において、0.5〜4000barの圧力下で実施する。平均滞留時間は、通常0.5〜5時間、好ましくは0.5〜3時間である。重合を実施するのに有利な圧力および温度範囲は、通常重合法に依存する。通例1000〜4000bar、好ましくは2000〜3500barの圧力で実施される高圧重合法の場合、一般に高い重合温度も設定される。これら高圧重合法に有利な温度範囲は、200〜320℃、とりわけ220〜290℃である。低圧重合法の場合、通常ポリマーの軟化温度より少なくとも2、3℃低い温度に設定する。詳細には、これらの重合法では50〜180℃、好ましくは70〜120℃の温度に設定する。懸濁重合の場合、重合は通常、懸濁媒体、好ましくは不活性炭化水素、例えばイソブタン中、または炭化水素の混合物中、またはモノマー自体の中で実施する。重合温度は一般に−20〜115℃の範囲であり、圧力は一般に1〜100barの範囲である。懸濁液の固体含量は一般に10〜80%の範囲である。重合は、バッチ式、例えば撹拌オートクレーブ中か、または連続的、例えば、チューブ反応器、好ましくはループ状反応器のいずれかで、実施することができる。US−A3242150およびUS−A3248179に記載されているようなフィリップスPF法を採用することが、とりわけ好ましい。気相重合は一般に、30〜125℃の範囲において1〜50barの圧力で実施する。
上記重合法のうち、とりわけ気相流動床反応器内での気相重合、溶液重合、ならびに、とりわけループ状反応器および撹拌タンク反応器内での懸濁重合が、とりわけ好ましい。気相重合は、循環ガスの一部を露点未満まで冷却し、2相混合物として反応器に再循環させる縮合または超縮合モードで実施することもできる。さらに、2つの重合帯域を互いに連結し、ポリマーをこれら2つの帯域に何回も交互に通過させる、多帯域反応器を用いることが可能である。2つの帯域は、異なる重合条件を有することもできる。そのような反応器は、例えば、WO97/04015に記載されている。所望の場合、異なるまたは同一の重合工程を連続して接続して、例えばHostalen(登録商標)法でのような重合カスケードを形成することもできる。2種以上の同一または異なる工程を用いる平行な反応器配列も可能である。さらに、モル質量調節剤、例えば水素、または帯電防止剤のような通例の添加剤も、重合に用いることができる。
重合は、単一の反応器、詳細には気相反応器で実施することが好ましい。エチレンと3〜12個の炭素原子を有するα−オレフィンとの重合は、本発明の触媒を用いると、本発明のポリエチレンをもたらす。反応器から直接得られるポリエチレン粉末は非常に高い均質性を示し、これにより、カスケード法の場合とは異なり、これに続く均質な製品を得るための押出は必要ない。
個々の成分を例えば押出機での溶融押出または混練機により均質混合することによるポリマーブレンドの生産は(例えば、Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,第6版、1998、Electronic Releaseの“Polymer Blends”参照)、特有の問題点を伴うことが多い。二峰性ポリエチレンブレンドの高分子量および低分子量成分の溶融粘度は、大きく異なる。低分子量成分はブレンドの生産に用いられる約190〜210℃の通例の温度においてかなり流動的であるが、高分子量成分は軟化するのみである(“平豆のスープ”)。したがって、2成分の均質混合は非常に難しい。これに加えて、高分子量成分は、熱応力の結果として、および押出機での剪断力により、容易に損害を受ける可能性があり、その結果、ブレンドの性質が悪影響を受けることが知られている。したがって、そのようなポリエチレンブレンドの混合品質は、十分でないことが多い。
反応器から直接得られるポリエチレン粉末の混合品質は、光学顕微鏡で試料の薄片(“ミクロトーム切片”)を評価することにより試験することができる。不均質性は、斑点すなわち“白色スポット”の形で現れる。斑点すなわち“白色スポット”は主に、低粘性マトリックス中の高分子量で高粘度の粒子である(例えば、“Aufbereiten von Polymeren mit neuartigen Eigenschaften”,VDI−Verlag,Duesseldorf,1995,p.71のU.Burkhardt et al.参照)。そのような包含物は最大300μmのサイズに達する場合があり、成分の応力亀裂を引き起こし、脆性破損をもたらす。ポリマーの混合品質が良好なほど、観察されるこれら包含物は少なくて小さい。ポリマーの混合品質は、ISO 13949に従って定量的に決定する。該測定法に従い、ミクロトーム切片をポリマー試料から作成し、これら包含物の数およびサイズを計数し、規定の評価スキームに従ってポリマーの混合品質について等級を決定する。反応器から直接得られたポリエチレン、すなわち押し出していないポリマー粉末における混合品質は、3未満であることが好ましい。
反応器中での本発明のポリエチレンの調製は、エネルギー消費量を低下させ、続くブレンド工程を必要とせず、さまざまなポリマーの分子量分布および分子量画分の制御を簡単にする。これに加えて、ポリエチレンの良好な混合が達成される。
以下の実施例は、本発明の範囲を制限することなく本発明を例示するものである。
記載した測定値は、以下のように決定した:
NMR試料は、不活性ガス下のチューブに入れ、適切な場合は溶融した。溶媒の信号は1H−および13C−NMRスペクトルにおいて内部標準として機能し、それらの化学シフトをTMSに対する値に変換した。
ビニル基含量は、ASTM D 6248−98に従ってIRにより決定する。炭素原子1000個あたりの分岐は、James.C.Randall,JMS−REV.Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),201−317(1989)により記載されているような13C−NMRにより決定し、末端基を含む炭素原子1000個あたりのCH3基の全含量に基づいている。末端基を除く炭素原子1000個あたりのCH3より大きな側鎖、特にエチル、ブチルおよびヘキシル側鎖分岐も同様に、このように決定する。
個々のポリマー画分における分岐度は、Holtrupの方法(W.Holtrup,Makromol.Chem.178,2335(1977))を、James.C.Randall,JMS−REV.Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),201−317(1989)により記載されているような13C−NMRと結びつけた方法により決定する。
密度[g/cm3]は、ISO 1183に従って決定した。
モル質量分布ならびに平均値Mn、Mwおよびそれらから誘導されるMw/Mnの決定は、DIN55672に基づく方法で、順次接続された以下のカラム:3×SHODEX AT 806 MS、1×SHODEX UT 807および1×SHODEX AT−Gを用いて、以下の条件:溶媒:1,2,4−トリクロロベンゼン(0.025重量%の2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールで安定化したもの)、流量:1mL/min、500μL注入容量、温度:135℃、PE標準液を用いての較正において、WATERS150Cで高温ゲル透過クロマトグラフィーにより実施した。評価は、WIN−GPCを用いて実施した。
本発明の目的に関し、“HLMI”という表現は、一般に公知のように、“高荷重溶融流量”をさし、常にISO 1133に従って190℃において21.6kgの荷重下(190℃/21.6kg)で決定される。
曇り度は、ASTM D 1003−00に従ってBYK Gardener Haze Guard Plus Deviceにおいて少なくとも5枚の10×10cmで厚さ1mmのフィルムで決定した。
耐衝撃性は、ISO 6603に従って−20℃で計器落錘衝撃試験に従って決定した。
耐応力亀裂性(フルノッチクリープ試験(FNCT))は、ISO DIS2 16770に従って3.5Mbarの圧力、80℃において水中のAkropal N(N=10)の2重量%溶液中で決定した。
スパイラルフロー試験は、100tの型締圧および3mmのダイを用いて、250℃の素材温度、1000barの射出成形圧、90mm/sのスクリュー速度、30℃の金型温度および肉厚2mmで、Demag ET100−310において測定した。
以下の表中の略語:
Cat. 触媒
T(ポリ) 重合温度
Mw 重量平均分子質量
Mn 数平均分子質量
密度 ポリマー密度
ビニル/1000Cは、炭素原子1000個あたりのビニル基の量をさす
b/1000Cは、炭素原子1000個あたりの分岐をさし、これは、末端基を含む炭素原子1000個あたりのCH3の量である
15% PE hmwにおけるbrは、末端基を除く炭素原子1000個あたりのCH3より大きな側鎖の分岐度とともに、最大モル質量を有する15重量%のポリエチレンをさす
Prod. 用いた触媒1gにつき1時間あたりに得られたポリマーのg単位での触媒の生産性
衝撃 ISO 6603に従って−20℃で計器落錘衝撃試験に従って決定した耐衝撃性。
個々の成分の調製
ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリドは、Cromptonから市販されている。
2,6−ビス[1−(2,4−ジクロロ−6−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリドは、Qian et al.,Organometallics 2003,22,4312−4321の方法に従って調製した。ここで、65.6gの2,6−ジアセチルピリジン(0.4mol)、170gの2,4−ジクロロ−6−メチルアニリン(0.483mol)、32gのタイプ135のシリカゲル、および160gのモレキュラーシーブ(4Å)を、1500mLのトルエン中、80℃で5時間撹拌した後、さらに32gのタイプ135のシリカゲルおよび160gのモレキュラーシーブ(4Å)を加えた。該混合物を80℃でさらに8時間撹拌し、不溶性固体を濾過により除去し、トルエンで2回洗浄した。このようにして得られた濾液から溶媒を留去し、残留物を200mLのメタノールと混ぜた後、55℃で1時間撹拌した。このようにして形成させた懸濁液を濾過し、得られた固体をメタノールで洗浄し、溶媒を取り除いた。これにより、95gの2,6−ビス[1−(2,4−ジクロロ−6−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジンが47%の収率で得られた。塩化鉄(II)との反応を、Qian et al.,Organometallics 2003,22,4312−4321により記載されているように実施した。
混合触媒系の調製
実施例1
a)担体の前処理
Graceからの噴霧乾燥シリカゲルXPO−2107を、600℃で6時間ベーキングした。
b)混合触媒系の調製
1.43g(2.37mmol)の2,6−ビス[1−(2,4−ジクロロ−6−メチルフェニルイミノ)エチル]ピリジン鉄(II)ジクロリド、9.98gのビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロリドおよび443mLのMAO(トルエン中4.75M、2.1mol)の混合物を室温で1時間撹拌した後、500mLのトルエン中の338gの前処理した担体材料a)に、撹拌しつつ加えた。得られた固体は778.4gの触媒を与え、これはなお23.9重量%の溶媒を含有していた(全重量に基づいており、全成分の担体への完全施用に基づき算出している)。
触媒の重合
重合は、0.5mの直径および20barの全体的圧力を有する流動床反応器で実施した。重合温度は95℃であり、実施例1の触媒を用い、これを1時間あたり38.97gの速度で反応器に供給した。エチレンを1時間あたり40.7kgの速度、1−ヘキセンを1時間あたり410gの速度、および水素を1時間あたり2.1Lで、反応器に供給した。1時間あたり4.62kgのプロパン、1時間あたり0.33kgの窒素、および1時間あたり0.5gのトリイソブチルアルミニウムも反応器に供給した。ポリマーは、30.1kg/hで排出された。得られたポリマーの性質を表1に要約する。
比較例1
チーグラー触媒をEP−A−739937に記載されているように調製し、重合を、第1反応器にエチレン/水素を用い、第2反応器にエチレン/1−ブテンを0.8重量%の1−ブテンで用いる懸濁カスケードで実施した。生成物のデータを表1に示す。
Figure 2007534813
ポリマーをそれぞれ、Engel射出成形機で厚さ1mmの小さなプレートにした。押出温度は225℃、スクリュー速度は1分あたり116回転、射出速度は50mm/sであった。保圧時間は20秒で、保持圧力は687barであった。
Figure 2007534813

Claims (9)

  1. エチレンホモポリマーおよび/またはエチレンと1−アルケンとのコポリマーを含み、3〜30のモル質量分布幅Mw/Mn、0.945〜0.965g/cm3の密度、50000g/mol〜200000g/molの重量平均モル質量Mw、10〜300g/10分のHLMIを有し、炭素原子1000個あたり0.1〜15分岐を有するポリエチレンであって、最大モル質量を有する1〜15重量%のポリエチレンが、炭素原子1000個あたり1分岐を超える分岐度のCH3より大きな側鎖を有する、前記ポリエチレン。
  2. 少なくとも二峰性の短鎖分岐分布を有する、請求項1に記載のポリエチレン。
  3. 炭素原子1000個あたり0.2〜8分岐の分岐度を有する、請求項1または2に記載のポリエチレン。
  4. 単一の反応器で調製されている、請求項1〜3のいずれかに記載のポリエチレン。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載のポリエチレンを含む射出成形品。
  6. ASTM D 1003−00に従って決定して94%未満の曇り度を有する、請求項5に記載の射出成形品。
  7. ISO DIS2 16770に従って3.5Mbarの圧力、80℃において水中のAkropal N(N=10)の2重量%溶液中で決定して、耐応力亀裂性(FNCT))が少なくとも5時間である、請求項5〜6のいずれかに記載の射出成形品。
  8. 射出成形品がキャップ、クロージャー、ねじ込みキャップ、ねじ込みクロージャー、チューブショルダーまたは工業用部品である、請求項5〜7のいずれかに記載の射出成形品。
  9. 請求項1〜4のいずれかに記載のポリエチレンを含むねじ込みキャップ。
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