JP2001515930A - 重合触媒 - Google Patents
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Abstract
Description
その使用に関するものである。
合物の使用は従来技術にて充分確立されている。チーグラー・ナッタ触媒、たと
えばチタンハロゲン化物をたとえばトリエチルアルミニウムのような有機金属化
合物で活性化させて生成されるような触媒の使用が、ポリオレフィンを製造する
多くの工業的方法に基本的である。過去20年もしくは30年間にわたり技術上
の進歩は、極めて低濃度の残留触媒を含有するオレフィンポリマーもしくはコポ
リマーを工業的重合法にて直接製造しうるような高い活性を有するチーグラー・
ナッタ触媒の開発をもたらした。生成ポリマーに残留する残留触媒の量は、大抵
の工業用途につきその分離および除去を不必要にするよう充分少ない。この種の
方法は、モノマーを気相にて或いは液体炭化水素希釈剤における溶液もしくは懸
濁液にて重合させることにより操作することができる。モノマーの重合は気相に
て行うことができ(「気相法」)、たとえば重合条件下で標的ポリオレフィン粉
末および所望触媒の粒子からなる床を気体モノマーからなる流動化用ガス流を用
いて流動化させる。いわゆる「溶液法」においては、(共)重合はモノマーを液
体炭化水素希釈剤における触媒の溶液もしくは懸濁物に、生成ポリオレフィンが
炭化水素希釈剤における溶液として形成するような温度および圧力の条件下に導
入して行われる。「スラリー法」においては希釈剤の温度、圧力および選択を、
生成ポリマーが液体炭化水素希釈剤における懸濁物として形成するようにする。
これら方法は一般に比較的低圧力(たとえば10〜50バール)および低温度(
たとえば50〜150℃)にて操作される。
る。遷移金属系触媒でのエチレンの単独重合は、いわゆる「高密度」級ポリエチ
レンの生成をもたらす。これらポリマーは比較的高い剛性を有し、固有の剛性が
必要とされる物品を作成するのに有用である。エチレンと高級1−オレフィン(
たとえばブテン、ヘキセンもしくはオクテン)との共重合は、密度および他の重
要な物理的性質が異なる広範な種類のコポリマーを生成させるべく工業的に用い
られる。エチレンを遷移金属系触媒を用いて高級1−オレフィンと共重合させる
ことにより作成される特に重要なコポリマーは0.91〜0.93の範囲の密度
を有するコポリマーである。一般に当業界で「線状低密度ポリエチレン」と称す
るこれらコポリマーは多くの点で、エチレンの高圧遊離基触媒重合により製造さ
れるいわゆる「低密度」ポリエチレンに類似する。この種のポリマーおよびコポ
リマーは可撓性吹込フィルムの製造に広範に使用される。
クロペンタジエニルジルコニウムジクロライド)の使用が、極めて高活性を有す
る触媒を与えている。しかしながら、この種類のメタロセン触媒は、たとえば市
販入手しうるモノマー、希釈剤およびプロセスガス流と共に使用した際の高い不
純物に対する感受性、高活性を達成するには多量の高価なアルモキサンを使用す
る必要性、並びに触媒を適する支持体に付着させる困難性など多くの欠点を有す
る。
ンを選択された2,6−ピリジンカルボキシアルデヒドビス(イミン)および2
,6−ジアシルピリジンビス(イミン)の或る種の鉄もしくはコバルト錯体と接
触させることによりエチレンを重合させうることを開示している。
チレンを単独で重合させ或いはエチレンを高級1−オレフィンと共重合させるの
に適する新規な触媒を提供することにある。本発明の他の目的は、オレフィン(
特にエチレン)の単独重合またはエチレンと高級1−オレフィンとの共重合によ
り調節自在な分子量を有するホモポリマーおよびコポリマーを生成させる改良重
合方法を提供することにある。たとえば本発明の触媒を用いて、たとえば液体ポ
リオレフィン、オリゴマー、樹脂状もしくは粘着性ポリオレフィン、可撓性フィ
ルムを作成するのに適する固体ポリオレフィン、および高剛性を有する固体ポリ
オレフィンのような広範な種類のポリオレフィンを作成することができる。
活性化量の活性化剤化合物と からなる重合触媒を提供する:
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに
(1): MがFe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン
、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒド
ロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上
の環式置換基を形成することができ; または(2): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示
されると共にR7は基「Q」により示され;
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり; または(3): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する
基であると共にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R 32 は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、
R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができる]。
活性化量の活性化剤化合物と からなる重合触媒を提供する:
しくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有もしくはイオン結合した原子
もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であると共にbは原子もしくは基
Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4およびR6は独立して水素、ハロゲ
ン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換
ヘテロヒドロカルビルから選択され;R5およびR7は独立して水素、ハロゲン
、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択される]。
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる。
活性化量の活性化剤化合物と からなる重合触媒を提供する:
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである]。
部を形成しない場合は、R19およびR20の少なくとも一方、並びにR21お
よびR22の少なくとも一方はヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒ
ドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択されることが好ましい
。本発明の1具体例においてR19、R20、R21およびR22は環系Pおよ
びQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒドロカルビル、置
換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルで
ある。
本発明の式BおよびZに示した化合物におけるR1〜R4、R6およびR19〜
R28は好ましくは独立して水素およびC1〜C8ヒドロカルビル、たとえばメ
チル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ヘキシルおよびn−オクチルか
ら選択される。式BにおいてR5およびR7は好ましくは独立して置換もしくは
未置換の非環式、複素環式もしくは芳香族の基、たとえばフェニル、1−ナフチ
ル、2−ナフチル、2−メチルフェニル、2−エチルフェニル、2,6−ジイソ
プロピルフェニル、2,3−ジイソプロピルフェニル、2,4−ジイソプロピル
フェニル、2,6−ジ−n−ブチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,
3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2−t−ブチルフェニル、
2,6−ジフェニルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,6−トリ
フルオロメチルフェニル、4−ブロモ−2,6−ジメチルフェニル、3,5−ジ
クロル−2,6−ジエチルフェニルおよび2,6−ビス(2,6−ジメチルフェ
ニル)フェニル、シクロヘキシルおよびピリジニルから選択される。
ェニルもしくは融合環系ポリ芳香族、たとえば1−ナフチル、2−ナフチル、1
−フェニルアンスレニルおよび8−キノリニルである。
活性化量の活性化剤化合物と からなる重合触媒を提供する:
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる]。
活性化量の活性化剤化合物と からなる重合触媒を提供する:
;Tはコバルト原子の酸化状態であると共にCo[I]、Co[II]、Co[
III]とすることができ、bは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2 、R3、R4、R5、R6およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビ
ル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカル
ビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる]。
II)もしくはCo(II)である。
からの単独対の電子の供与により形成される結合)によって遷移金属Mに配位さ
れる。各窒素原子における残余の結合は、上記遷移金属錯体につき規定した式で
示される窒素原子と有機リガンドとの間に共有される電子により形成された共有
結合である。
ばハライド、サルフェート、ナイトレート、チオレート、チオカルボキシレート
、BF4 −、PF6 −、ハイドライド、ヒドロカルビルオキシド、カルボキシレ
ート、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよびヘテロヒドロカルビルから選
択することができる。この種の原子もしくは基の例はクロライド、ブロマイド、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、デシル、フェニル、ベンジル、
メトキシド、エトキシド、イソプロポキシド、トシレート、トリフレート、ホル
メート、アセテート、フェノキシドおよびベンゾエートである。式B、Z、Tお
よびWの化合物における原子もしくは基Xの好適例はハライド、たとえば、クロ
ライド、ブロマイド;ハイドライド;ヒドロカルビルオキシド、たとえばメトキ
シド、エトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド;カルボキシレート、たと
えばホルメート、アセテート、ベンゾエート;ヒドロカルビル、たとえばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、デシル、フェニル、ベンジル;置換ヒ
ドロカルビル;ヘテロヒドロカルビル;トシレート;およびトリフレートである
。好適Xはハライド、ハイドライドおよびヒドロカルビルから選択される。クロ
ライドが特に好適である。
ルアニル)FeCl2である。
びヒドロカルビル硼素化合物から選択される。適する有機アルミニウム化合物は
トリアルキルアルミニウム化合物、たとえばトリメチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリ−n−オクチルアルミニウム、
エチルアルミニウムジクロライド、ジエチルアルミニウムクロライドおよびアル
モキサンを包含する。アルモキサンは典型的には、アルキルアルミニウム化合物
(たとえばトリメチルアルミニウム)への水の調節付加により作成しうるオリゴ
マー化合物として当業界で周知されている。この種の化合物は線状、環式または
その混合物とすることができる。市販入手しうるアルモキサンは一般に線状化合
物と環式化合物との混合物であると思われる。環式アルモキサンは式[R16A
lO]sにより示すことができ、線状アルモキサンは式R17(R18AlO) s により示すことができ(ここでsは約2〜50の数である)、さらにR16、
R17、およびR18はヒドロカルビル基、好ましくはC1〜C6アルキル基、
たとえばメチル、エチルもしくはブチル基を示す。
(フェニル)ボレート、トリチルテトラ(フェニル)ボレート、トリフェニル硼
素、ジメチルフェニルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート
、ナトリウムテトラキス[(ビス−3,5−トリフルオロメチル)フェニル]ボ
レート、H+(OEt2)[(ビス−3,5−トリフルオロメチル)フェニル]
ボレート、トリチルテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートおよびトリス(
ペンタフルオロフェニル)硼素である。
ドロカルビル硼素化合物から選択される活性化用化合物の量は簡単な試験により
、たとえば少量のモノマーを重合させると共に生成触媒の活性を決定すべく使用
しうる小試験試料の作成により容易に決定することができる。一般に、用いる量
は式B、Z、TもしくはWの化合物におけるFe、Co、MnもしくはRu金属
原子1個当たり0.1〜20,000原子、好ましくは1〜2000原子のアル
ミニウムもしくは硼素を与えるのに充分な量であることが判明した。
の式Zもしくは式Tの化合物において、Mは好ましくはFe[II]、Mn[I
I]もしくはCo[II]である。
を有する化合物と、(2)有機アルミニウムおよびヒドロカルビル硼素化合物か
ら選択される活性化量の活性化剤化合物と、(3)中性ルイス塩基とからなる重
合触媒系を提供する。
合物に関する好適例は、本発明の触媒に関し上記したと同じである。中性ルイス
塩基はチーグラー・ナッタ触媒重合技術の分野で周知されている。本発明に好適
に用いられる種類の中性ルイス塩基の例は不飽和炭化水素、たとえばアルケン(
1−オレフィン以外)もしくはアルキン、第一、第二および第三アミン、アミド
、ホスホルアミド、ホスフィン、ホスファイト、エーテル、チオエーテル、ニト
リル、カルボニル化合物、たとえばエステル、ケトン、アルデヒド、一酸化炭素
および二酸化炭素、スルホキシド、スルホンおよびボロキシンである。1−オレ
フィンも本発明の目的で中性ルイス塩基として作用しうるが、これらはモノマー
もしくはコモノマー1−オレフィンと見なされ、中性ルイス塩基自身とは見なさ
れない。しかしながら内部オレフィン、たとえば2−ブテンおよびシクロヘキセ
ンであるアルケン類は本発明にて中性ルイス塩基と見なされる。好適ルイス塩基
は第三アミンおよび芳香族エステル、たとえばジメチルアニリン、ジエチルアニ
リン、トリブチルアミン、エチルベンゾエートおよびベンジルベンゾエートであ
る。この本発明の特定面において触媒系の成分(1)、(2)および(3)は同
時に或いは任意所望の順序で合体させることができる。しかしながら成分(2)
および(3)が互いに強力に相互作用し、たとえば一緒に安定化合物を形成する
化合物であれば、成分(1)と(2)とを或いは成分(1)と(3)とを最終の
規定成分を導入する前に初期工程で合体させることが好ましい。好ましくは成分
(1)と(3)とを、成分(2)を導入する前に互いに接触させる。この触媒系
の作成にて用いられる成分(1)および(2)の量は好適には、本発明の触媒に
関し上記した通りである。中性ルイス塩基[成分(3)]の量は好ましくは、1
00:1〜1:1000の範囲、特に好ましくは1:1〜1:20の範囲の成分
(1):成分(3)の比を与えるような量である。触媒系の成分(1)、(2)
および(3)はたとえば単味物質として、または適する希釈剤もしくは溶剤(た
とえば液体炭化水素)における物質の懸濁物もしくは溶液として、或いは各成分
の少なくとも1種が揮発性であればその成分の蒸気を用いることにより合体させ
ることができる。各成分は任意所望の温度で合体させることができる。各成分の
室温における混合にて一般に充分である。より高温度(たとえば120℃)まで
の加熱も所望に応じ行うことができ、たとえば各成分の一層良好な混合を達成す
ることができる。成分(1)、(2)および(3)の合体は不活性雰囲気(たと
えば乾燥窒素)下または減圧下で行うのが好適である。支持物質(下記参照)上
の触媒を使用することが望ましければ、これはたとえば成分(1)、(2)およ
び(3)からなる触媒系を予備生成させると共に支持物質に好ましくはその溶液
を含浸させることにより、或いは支持物質に各成分の1種もしくはそれ以上を同
時または順次に導入することにより達成することができる。所望ならば支持物質
自身は中性ルイス塩基の性質を有することができ、成分(3)として或いは成分
(3)の代わりに用いることができる。中性ルイス塩基の性質を有する支持物質
の例はポリ(アミノスチレン)またはスチレンとアミノスチレン(すなわちビニ
ルアニリン)とのコポリマーである。
る。触媒はたとえば2,6−ジアセチルピリジンビス(2,6−ジイソプロピル
アニル)FeCl2錯体と2,6−ジアセチルピリジンビス(2,4,6−トリ
メチルアニル)FeCl2錯体との混合物、または2,6−ジアセチルピリジン
(2,6−ジイソプロピルアニル)CoCl2と2,6−ジアセチルピリジンビ
ス(2,4,6−トリメチルアニル)FeCl2との混合物で構成することがで
きる。前記1種もしくはそれ以上の所定の遷移金属化合物に加え、本発明の触媒
はさらに1種もしくはそれ以上の他の種類の遷移金属化合物もしくは触媒、たと
えば慣用のチーグラー・ナッタ触媒系に使用される種類の遷移金属化合物、メタ
ロセン系触媒または熱活性化された支持酸化クロム触媒(たとえばフィリップ型
触媒)をも含むことができる。
くはジルコニアまたはポリマーもしくはプレポリマー、たとえばポリエチレン、
ポリスチレンもしくはポリ(アミノスチレン)に支持することができる。
活性化量の活性化剤化合物と からなり:
[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]、Mn
[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4および
R6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに(1)
: MがFe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン
、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒド
ロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上
の環式置換基を形成することができ; または(2): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示
されると共にR7は基「Q」により示され;
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり; または(3): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する
基であると共にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R 32 は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、
R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができる] 触媒を支持物質に支持したことを特徴とする触媒を提供する。
は支持物質を同時または順次に触媒成分の1種もしくはそれ以上で予備含浸また
は予備混合することもできる。本発明の触媒は所望ならば不均質触媒、たとえば
ハロゲン化マグネシウム支持チーグラー・ナッタ触媒、フィリップ型(酸化クロ
ム)支持触媒または支持メタロセン触媒に支持することもできる。支持触媒の形
成は、たとえば本発明の遷移金属化合物をアルモキサンにより適する不活性希釈
剤(たとえば揮発性炭化水素)中で処理し、微粒子支持物質を生成物でスラリー
化させ、揮発性希釈剤を蒸発させることにより達成することができる。生成され
た支持触媒は好ましくは自由流動性粉末の形態である。支持物質の使用量は、た
とえば遷移金属化合物に存在する金属1g当たり100,000〜1gの広範囲
で変化することができる。
させることからなる1−オレフィンの重合および共重合の方法をも提供する。
Z化合物に基づいている。
望ならば、触媒はポリマー物質が超臨界エチレンにおける溶融物として生成する
高圧/高温プロセス条件の下でエチレンを重合させるべく使用することができる
。好ましくは重合は気相流動床条件下で行われる。
き特に有用である。これら方法において、重合条件はバッチ式、連続式または半
連続式とすることができる。スラリー相法および気相法においては、触媒を一般
に微粒子固体の形態で重合帯域に供給する。この固体はたとえば窒素含有錯体と
活性化剤とから形成された未希釈の固体触媒系とすることができ、或いは固体錯
体単独とすることもできる。後者の場合、活性化剤は重合帯域へ、たとえば固体
錯体とは別途に或いは一緒に溶液として供給することができる。好ましくはスラ
リー重合および気相重合にて用いられる触媒系または触媒系の遷移金属錯体成分
は支持物質に支持される。特に好ましくは触媒系は重合帯域中へ導入する前に支
持物質に支持される。適する支持物質はたとえばシリカ、アルミナ、ジルコニア
、タルク、珪藻土もしくはマグネシアである。支持物質の含浸は慣用技術により
、たとえば適する希釈剤もしくは溶剤における触媒成分の溶液もしくは懸濁液を
形成させ、次いで支持物質をこれでスラリー化させることにより行うことができ
る。このように触媒で含浸された支持物質を次いでたとえば濾過または蒸発技術
により希釈剤から分離することができる。
燥粉末として或いは重合希釈剤におけるスラリーとして供給する。好ましくは粒
子は重合帯域へ重合希釈剤における懸濁物として供給される。重合帯域は、たと
えばフィリップ法によるポリエチレンの製造にて周知された種類のオートクレー
ブまたは同様な反応容器または連続ループ反応器とすることができる。本発明の
重合法をスラリー条件下で行う場合、重合は好ましくは0℃より高い、特に好ま
しくは15℃より高い温度にて行われる。重合温度は好ましくはポリマーが重合
希釈剤の存在下に軟化もしくは焼結を開始する温度よりも低く維持される。温度
を前記温度より高くすれば反応器の汚染が生じうる。これら所定温度範囲内にお
ける重合の調整は、生成ポリマーの平均分子量を調節する有用な手段を与えるこ
とができる。分子量を調節する他の有用な手段は、重合を連鎖延長剤として作用
する水素ガスの存在下に行うことである。一般に、用いる水素の濃度が高いほど
生成ポリマーの平均分子量が低くなる。
使用が一般に本発明の重合法に適用される。たとえば水素を用いて気相、スラリ
ー相もしくは溶液相の重合条件により作成されたポリマーもしくはコポリマーの
平均分子量を減少させることができる。所望の平均分子量を与えるべく用いられ
る水素ガスの量は簡単な「試行錯誤」の重合試験により決定することができる。
に高い生産率(触媒系にて用いられる窒素含有遷移金属錯体の単位重量当たりに
生成されるポリマーもしくはコポリマーの量に基づく)にて与える。これは、比
較的少量の遷移金属錯体が本発明の方法を用いて工業的方法で消費されることを
意味する。さらにこれは、本発明の重合法を触媒分離工程を用いないポリマー回
収条件下で操作して触媒またはその残渣をポリマー中に残せば(たとえば大抵の
工業的スラリー相および気相重合法にて生ずる)、生成ポリマーにおける遷移金
属錯体の量が極めて少なくなりうることをも意味する。本発明の触媒を用いて行
った実験は、たとえばスラリー重合条件下でのエチレンの重合が、たとえば遷移
金属の濃度をたとえば1ppmもしくはそれ以下(ここで「ppm」はポリマー
の1,000,000重量部当たりの遷移金属の重量部として規定される)まで
低下させるよう生成ポリエチレンで希釈された触媒を含有する微粒子ポリエチレ
ン生成物を与えうることを示す。すなわち、本発明の方法により重合反応器内で
生成されるポリエチレンは、その遷移金属含有量がたとえば1〜0.0001p
pm、好ましくは1〜0.001ppmの範囲となるような程度までポリエチレ
ンで希釈された触媒を含有することができる。本発明による窒素含有Fe錯体か
らなる触媒を、たとえばスラリー重合にて使用すれば、Fe濃度がたとえばポリ
エチレンの1,000,000重量部当たりたとえば1.03〜0.11重量部
のFeとなるポリエチレン粉末を得ることができる。
ン、ブテン、ヘキセン、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルア
クリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニルおよびスチレンである。単独重合法
に好適なモノマーはエチレンおよびプロピレンである。さらに触媒は、エチレン
を他の1−オレフィン、たとえばプロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−
メチルペンテン−1およびオクテンと共重合させるべく使用することもできる。
フィンを (1)下式Bを有する窒素含有遷移金属化合物と、 (2)有機アルミニウム化合物およびヒドロカルビル硼素化合物から選択される
活性化量の活性化剤化合物と からなる触媒と接触させることを特徴とする方法をも提供する:
[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]、Mn
[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4および
R6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに(1)
: MがFe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン
、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒド
ロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上
の環式置換基を形成することができ; または(2): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示
されると共にR7は基「Q」により示され;
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり; または(3): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する
基であると共にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R 32 は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、
R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができる]。
リレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、アクリロニトリル、酢酸
ビニルおよびスレンと共重合させるべく使用することもできる。
の方法はモノマーオレフィンを重合条件下に (1)下式Bを有する窒素含有遷移金属化合物と、 (2)有機アルミニウム化合物およびヒドロカルビル硼素化合物から選択される
活性化量の活性化剤化合物と からなる重合触媒と接触させることからなり:
[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]、Mn
[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4および
R6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに(1)
: Mが、Fe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲ
ン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、テロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒド
ロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上
の環式置換基を形成することができ; または(2): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示
されると共にR7は基「Q」により示され;
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり; または(3): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する
基であると共にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R 32 は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、
R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができる] 重合条件が気相重合条件であることを特徴とする。
媒の床または触媒を含有する標的ポリマー(すなわち、重合法にて作成すること
が望ましいポリマーと同じまたは同様な物理的性質を有するポリマー)の床を撹
拌し(たとえば掻き混ぜ、振動または流動化による)、次いでこれにモノマーの
流れを少なくとも部分的に気相にてモノマーの少なくとも1部が床における触媒
と接触するような条件下に供給することを含む。床は一般に冷ガス(たとえば循
環気体モノマー)および/または揮発性液(たとえば揮発性の不活性炭化水素ま
たは液体を形成すべく凝縮された気体モノマー)の添加により冷却される。気相
法にて生成されてそこから単離されたポリマーは直接に重合帯域内で固体を形成
し、液体を含まず或いは実質的に含まない。当業者には周知されているように、
液体を気相重合法の重合帯域に流入させる場合、液体の量は重合帯域に存在する
ポリマーの量に比べて少ない。これは、ポリマーを溶剤に溶解して生成させる「
溶液相」およびポリマーが液体希釈剤における懸濁物として生成する「スラリー
相」の各方法とは異なる。
ができる。モノマーを重合触媒を含有する撹拌重合帯域に連続循環させるような
条件下で操作することが好ましく、補充モノマーを供給して重合モノマーを補充
し、生成ポリマーを重合帯域からポリマーの生成速度に匹敵する速度で連続的ま
たは間歇的に抜き取り、新鮮触媒を重合帯域に添加して生成ポリマーと共に重合
帯域から抜き取られた触媒を補充する。
動床重合条件である。
当業界にて周知されている。この方法は、たとえば床を支持すると共に床を介し
流入する流動化ガス流を分配する有孔分配板が装着された垂直円筒反応器にて操
作することができる。床中を循環する流動化ガスは、床から重合熱を除去すると
共に重合用モノマーを床に供給するよう作用する。すなわち流動化ガスは一般に
モノマーを通常或る種の不活性ガス(たとえば窒素)と一緒および必要に応じ分
子量調整剤としての水素と一緒に含む。床の頂部から流出する熱流動化ガスを必
要に応じ減速帯域(これは、より広い直径を有する反応器の円筒部分とすること
ができる)に流過させ、所望ならばサイクロンおよび/またはフィルタに通過さ
せてガス流から微細固体粒子を離脱させる。次いで熱ガスを熱交換器に流過させ
て、重合熱の少なくとも1部を除去する。触媒は好ましくは連続的または定期間
隔にて床に供給される。この方法の始動時点にて、床は好ましくは標的ポリマー
と同様である流動性ポリマーで構成される。ポリマーは、モノマーの重合により
床内で連続的に生成される。好ましくは、ポリマーを床から連続的に或いは定期
間隔で放出させて流動床を所望高さに維持する手段を設ける。この方法は一般に
比較的低圧力(たとえば10〜50バール)および低温度(たとえば50〜12
0℃)にて操作される。床の温度を流動化されたポリマーの焼結温度未満に維持
して、凝集の問題を回避する。
熱は一般に流動化用ガス流により上記したように重合帯域(すなわち流動床)か
ら除去される。床の頂部から流出する熱反応器ガスは1つもしくはそれ以上の熱
交換器を流過し、そこでガスが冷却される。冷却した反応器ガスは補充ガスと一
緒に床の底部に循環される。本発明の気相流動床重合法においては、揮発性液を
床へ液体が床内で蒸発することにより追加重合熱を床から「蒸発潜熱」作用によ
り吸収するような条件下で供給することにより床をさらに冷却する(これにより
、この方法の空時収率を向上させる)ことが望ましい。床からの熱循環ガスが熱
交換器に流入する際、揮発性液は凝縮することができる。本発明の1具体例にお
いて揮発性液は循環ガスから分離されて別途に床に再導入される。たとえば揮発
性液を分離して床中へ噴霧することができる。本発明の他の具体例においては、
揮発性液を循環ガスと共に床に循環させる。かくして揮発性液は反応器から出る
流動化ガス流から凝縮すると共に循環ガスと一緒に床へ循環させることができ、
或いは循環ガスから分離して床中へ噴霧することもできる。
法はEP−A−0089691号およびEP−A−0241947号に記載され
ている。凝縮液を循環ガスとは別途に本出願人による米国特許第5541270
号(参考のため、その教示を本明細書に引用する)に記載された方法により床中
へ再導入することが好ましい。
く用いた各成分の1種もしくはそれ以上をたとえば重合反応帯域中へ液状にて、
たとえば不活性液体希釈剤における溶液として導入することができる。たとえば
遷移金属成分もしくは活性化剤成分またはこれら成分の両者を液体希釈剤に溶解
もしくはスラリー化させて重合帯域に供給することができる。これら状況下にて
、各成分を含有する液体は微細液滴として重合帯域に噴霧することが好ましい。
液滴直径は好ましくは1〜1000μmの範囲である。EP−A−059308
3号(その教示を参考のため本明細書に引用する)は、重合触媒を気相重合に導
入する方法を開示している。EP−A−0593083号に開示された方法を所
望に応じ好適に本発明の重合法に用いることができる。
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系を形成しなければヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルである] に示した骨格単位を含む新規な窒素含有遷移金属化合物を提供する。
を形成しない場合は、R19およびR20の少なくとも一方、並びにR21およ
びR22の少なくとも一方をヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒド
ロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択することが好ましい。本
発明の1具体例においてR19、R20、R21およびR22は環系PおよびQ
のいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しない場合はヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
る。
本発明の式BおよびZに示した化合物におけるR1〜R4、R6およびR19〜
R28は好ましくは独立して水素およびC1〜C8ヒドロカルビル、たとえばメ
チル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ヘキシルおよびn−オクチルか
ら選択される。式BにおいてR5およびR7は好ましくは独立して置換もしくは
未置換の非環式、複素環式もしくは芳香族の基、たとえばフェニル、1−ナフチ
ル、2−ナフチル、2−メチルフェニル、2−エチルフェニル、2,6−ジイソ
プロピルフェニル、2,3−ジイソプロピルフェニル、2,4−ジイソプロピル
フェニル、2,6−ジ−n−ブチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,
3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2−t−ブチルフェニル、
2,6−ジフェニルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,6−トリ
フルオロメチルフェニル、4−ブロモ−2,6−ジメチルフェニル、3,5−ジ
クロル−2,6−ジエチルフェニルおよび2,6−ビス(2,6−ジメチルフェ
ニル)フェニル、シクロヘキシルおよびピリジニルから選択される。
フェニルまたは融合環ポリ芳香族たとえば1−ナフチル、2−ナフチル、1−フ
ェニルアンスレニルおよび8−キノリニルである。
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] に示した骨格単位を含む新規な窒素含有遷移金属化合物をも提供する。
媒としての前記化合物の使用からなっている。
基から選択され;R14、R15および式Eに示したピリジン環およびベンゼン
環における残余の全環置換基は独立して水素およびC1〜C20炭化水素基から
選択される] を有する化合物からなる重合触媒を作成するのに有用な新規な化合物をも提供す
る。
慣用の合成有機化学である。たとえば、式Bにおける遷移金属原子に結合して示
した種類のリガンドは、たとえば置換もしくは未置換の2,6−ジカルボキシア
ルデヒドピリジンもしくは2,6−ジアシルピリジン化合物(すなわち、適する
R1、R2、R3、R4およびR6置換基を有する)を所望の置換基R5および
R7を有する2モル当量のジアミンと互いに反応させて作成することができる。
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR29〜R32の2個も
しくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル
もしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合し
て1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することができる] を有する化合物からなる重合触媒を作成するのに有用な新規な化合物をも提供す
る。好ましくはR29、R30、R31およびR32はヒドロカルビルである。
特に好ましくはR29およびR30の少なくとも一方、並びにR31およびR3 2 の少なくとも一方はアリール基、たとえばフェニル、ナフチルもしくは置換フ
ェニルである。式Pに示した種類のリガンドは周知方法により、たとえば置換も
しくは未置換2,6−ジ(カルボキシアルデヒド)ピリジンもしくは2,6−ジ
アシルピリジン化合物(すなわち、適するR1、R2、R3、R4およびR6置
換基を有する)と所望の置換基R29、R30、R31およびR32を有する2
モル当量のヒドラジン化合物との反応により作成することができる。
ルボニル)ピリジン化合物と適するアミンもしくはヒドラジンとの間の縮合反応
により作成することができる。この種の反応はたとえば酸(たとえば酢酸もしく
はトルエン−p−スルホン酸)により触媒することができる。この種の反応に際
し一般に反応帯域から、カルボニル基と−NH2基との反応により生じた水を除
去するのが有利である。この種の反応を用いるリガンドの作成に際し、反応混合
物を共沸物形成性の水不混和性液と共に還流させかつ水を適する還流ヘッド、た
とえばディーン・アンド・スタークヘッドにて蒸留液から分離および除去するこ
とにより水を除去するのが好適である。この目的に適する液体はたとえば炭化水
素、特にたとえばトルエンもしくはキシレンのような芳香族炭化水素である。
施例2はマンガン化合物(下式J参照)の作成を示し、実施例3はコバルト化合
物(式K参照)の作成を示す。試験1.1〜1.6、2.1、3.1および3.
2は本発明の触媒および方法によるエチレンの重合における触媒としてのこれら
化合物の使用を示す。
ン技術を用いて慣用の減圧/不活性雰囲気(窒素)ラインで或いは不活性雰囲気
グローブボックスにて行った。
)]は、中間体B[2,6−ジアセチルピリジン]と中間体C[2,6−ジイソ
プロピルアニリン]との反応により作成した。次いで、中間体Aをブタノール中
で塩化第一鉄と反応させて式Dの化合物を生成させた。
クション・インオーガニック・メタル−オーガニック・ケミストリー、1974
、第4巻、第535頁]に基づく手順を用い2,6−ジイソプロピルアニリン(
3.46ml、18.4ミリモル)を無水エタノール(25ml)における2,
6−ジアセチルピリジン(1.50g、9.2ミリモル)の溶液に滴下した[2
,6−ジイソプロピルアニリンおよび2,6−ジアセチルピリジンはアルドリッ
チ社から得られたものであり、前者は使用前に新たに蒸留したものである]。数
滴の氷酢酸を添加すると共に、溶液を48時間にわたり還流させた。溶液を半容
積まで濃縮すると共に−78℃まで冷却して、中間体Aを淡黄色結晶として得た
(80%)。C33H43N3の計算値:C、82.3;H、8.9;N、8.
7;実測値:C、81.9;H、8.5;8.7%。FABMS:M+(481
)。1H NMR(CDCl3):8.6−7.9[m、3H、C5H3N]、
7.2−6.9[m、6H、C6(CHMe2)H3]、2.73[sept、
4H、CHMe2]、2.26[s、6H、C5H3N(CMeNAr)2]お
よび1.16[m、24H、CHMe2]。FABMSは急速原子衝突質量分光
測定法である。
)FeCl2]の作成 FeCl2(0.24g;1.89ミリモル)を熱n−ブタノール(20ml
)に80℃にて溶解させた。n−ブタノールにおける2,6−ジアセチルピリジ
ンビス(2,6−ジイソプロピルアニル)(0.92g、1.89ミリモル)の
懸濁物を80℃にて滴下した。反応混合物は青色に変化した。80℃にて15分
間にわたり撹拌した後、反応物を室温まで冷却させた。反応容積を数mlまで減
少させ、石油エーテル(40/60)を添加して生成物(青色粉末)を沈殿させ
、これを次いで10mlの石油エーテル(40/60)で3回洗浄した。収量は
0.93g(81%)であった。 質量スペクトル:m/z607[M]+、572[M−Cl]+、482[M−
FeCl2]+ 分析:C33H43N3FeCl2につき;計算値:C、65.14;H、7.
12;N、6.91 実測値:C、64.19;H、6.90;N、6.70
媒および助触媒(メチルアルモキサン−「MAO」)をシュレンク管に添加する
と共にトルエン(40ml)に溶解させた。チューブをエチレンでパージし、内
容物を機械撹拌すると共に、重合期間にわたり1バールのエチレン下に維持した
。30分間の後、重合を塩化水素水溶液の添加により停止させた。生成した固体
ポリエチレンを濾別し、メタノールで洗浄し、50℃にて減圧オーブン内で乾燥
させた。試験1.1においては若干のトルエン可溶性ポリエチレンを濾液から、
トルエン層を分離し、MgSO4で脱水し、次いで溶剤を蒸発させることにより
回収した。
いることによりエチレンの重合にて高い活性を示したが、助触媒としてジエチル
アルミニウムクロライドの使用(試験1.4)は貧弱な活性を与えた。ペルフル
オロフェニル硼素化合物とトリイソブチルアルミニウムとよりなる助触媒の使用
は若干高い活性を与えた。
ミニウムクロライドである。「量」の単位はアルミニウムの原子に基づくミリ当
量である。MAOは、このMAOをE.ギアネッチ、G.M.ニコレッチ;R.
マゾッチ、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス、部A;ポリマー・ケミス
トリー(1985)、第23巻、第2117〜2133頁により示された方法に
従い作成した試験1.3以外は、アルドリッチ社による供給された。 2. トルエン反応媒体から回収。 3. 活性はg.ミリモル−1h−1バール−1として現す(1バールのエチレ
ン圧力当たり毎時触媒1ミリモルにつき生成されたポリマーのg数)。 4. 試験1.5において助触媒は1ミリ当量のトリス(ペルフルオロフェニル
)硼素と20ミリ当量のトリイソブチルアルミニウムとにより与えられた。
る触媒活性につき試験した。
−ジイソプロピルアニル)MnCl2)の作成 MnCl2・4H2O(0.50g、2.53ミリモル)と中間体A(1.2
2g、2.53ミリモル)との懸濁物をアセトニトリル(50ml)中で12時
間にわたり還流させて有機溶液を得た。室温まで冷却した際、式JのMn(II
)化合物の橙色結晶が得られた;収率59%。ミクロ分析データは式Jの実験式
を裏付けた。FAB質量スペクトルは、M+−Cl(571)イオンに対応する
最高ピークを示した。
ミニウムクロライド(DEAC)の1.8M溶液を注射器によりトルエン(40
ml)における式JのMn(II)化合物(18mg、0.03ミリモル)の撹
拌懸濁物に添加した。生成した触媒溶液を減圧下に脱ガスすると共に、エチレン
の雰囲気で再充填した。20時間の試験時間に際し、溶液を1気圧のエチレンの
供給に開放させると共に25℃にて激しく撹拌した。重合を希塩酸(約40ml
)の添加により停止させ、次いで30分間にわたり撹拌してアルキルアルミニウ
ム残渣を溶解させた。固体ポリエチレンを反応物から濾過し、酸性化メタノール
溶液で洗浄すると共に、40℃にて減圧下に1晩乾燥させた。収量0.011g
。活性は0.2g.ミリモル−1h−1バール−1であった。
Cl2−式Kの作成 塩化コバルト(CoCl2、0.057g、0.44ミリモル)を熱n−ブタ
ノール(10ml)に80℃にて溶解させた。n−ブタノールにおける中間体A
[2,6−ジアセチルピリジンビス(2,6−ジイソプロピルアニル)](0.
21g、0.44ミリモル)の懸濁物を80℃にて滴下した。80℃にて15分
間にわたり撹拌した後、生成した反応混合物を室温まで冷却させた。反応容積を
数mlまで減少させ、石油エーテル(40/60)を添加して生成物を沈殿させ
た。オリーブ緑色の粉末沈殿物を10mlづつの石油エーテル(40/60)で
3回洗浄した。コバルト錯体(式K、下記参照)の収量は0.18g(理論値の
67%)であった。質量スペクトルはm/z575[M−Cl]+、538[M
−2Cl]+を示した。
した。用いたMAO(アルドリッチ社から入手、カタログNo.40,459−
4)はトルエン中の10重量%溶液とした。
て高活性であった。
圧力当たり毎時1ミリモルの触媒につき生成されたポリマーのg数)
g;3.31ミリモル)の溶液に2−t−ブチルアニリン(1.23g;2.5
当量)を添加した。2滴の酢酸(氷酢酸)を添加した後、溶液を1晩にわたり還
流させた。室温まで冷却すると生成物がエタノールから結晶化した。この生成物
を濾過し、冷エタノールで洗浄すると共に減圧オーブン(50℃)内で1晩乾燥
させた。収量は1.07g(76%)であった。分析1H NMR(CDCl3 ):8.43、7.93、7.44、7.21、7.09、6.56(m、7H
、ArH、pyrH)、2.43(s、6H、N=CCH3)、1.39(s、
18H、CCH3)。
20ml)に溶解させた。n−ブタノールにおける2,6−ジアセチルピリジン
ビス(2−t−ブチルアニル)(0.5g;1.18ミリモル)の懸濁物を80
℃にて滴下した。反応混合物は青色に変化した。80℃にて15分間にわたり撹
拌した後、反応物を室温まで冷却させた。反応容積を数mlまで減少させ、ジエ
チルエーテルを添加して生成物を青色粉末として沈殿させ、次いでこれを10m
lのジエチルエーテルで3回洗浄した。収量は0.55g(85%)であった。
分析:質量スペクトル:m/z 551[M]+、516[M−Cl]+、42
6[M−FeCl2]+。
チルアニリンの代わりに使用した。収量は0.42g(33%)であった。1 H NMR(CDCl3):8.48(d、2H、pyrH)、7.91(t
、1H、pyrH)、7.28(m、4H、ArH)、7.10(m、2H、A
rH)、6.75(m、2H、ArH)、2.42(s、6H、N=CCH3)
、2.20(s、6H、CH3)。
成 手順は実施例4.2と同様にしたが、ただし2,6−ジアセチルピリジンビス
(2−メチルアニル)を2,6−ジアセチルピリジンビス(2−t−ブチルアニ
ル)の代わりに使用した。収率は理論値の77%であった。 質量スペクトル:m/z 467[M]+、432[M−Cl]+。
t−ブチルアニリンの代わりに使用した。収率は理論値の80%であった。1 H NMR(CDCl3):8.41、7.89、7.10、6.94、6.
55(m、9H、ArH、pyrH)、2.33(m、6H、N=CCH3、6
H、(CCH3)、2.05(s、6H、CCH3)。 質量スペクトル:m/z 369[M]+。
(2,3−ジメチルアニル)を2,6−ジアセチルピリジンビス(2−t−ブチ
ルアニル)の代わりに使用した。収率は理論値の83%であった。 質量スペクトル:m/z 496[M]+、461[M−Cl]+、425[M
−Cl2]+。
t−ブチルアニリンの代わりに使用した。収率は理論値の75%であった。1 H NMR(CDCl3):8.41、7.90、7.05、6.90、6.
55(m、9H、ArH、pyrH)、2.36(m、6H、N=CCH3、6
H、CCH3)、2.13(s、6H、CCH3)。 質量スペクトル:m/z 369[M]+。
(2,4−ジメチルアニル)を2,6−ジアセチルピリジンビス(2−t−ブチ
ルアニル)の代わりに使用した。収率は理論値の75%であった。 質量スペクトル: m/z 496[M]+、461[M−Cl]+、425[ M−Cl2]+。
t−ブチルアニリンの代わりに使用した。収率は理論値の78%であった。1 H NMR(CDCl3):8.48、8.13、7.98、7.08、6.
65(m、9H、ArH、pyrH)、2.25(s、6H、N=CCH3)、
2.05(m、12H、CCH3)。 質量スペクトル:m/z 369[M]+。
(2,6−ジメチルアニル)を2,6−ジアセチルピリジンビス(2−t−ブチ
ルアニル)の代わりに使用した。収率は理論値の78%であった。 質量スペクトル: m/z 496[M]+、461[M−Cl]+、425[ M−Cl2]+。
成 手順は実施例4.1と同様にしたが、ただし2,4,6−トリメチルアニリン
を2−t−ブチルアニリンの代わりに使用した。収率は理論値の60%であった
。1 H NMR(CDCl3):8.50、7.95、6.94(m、7H、Ar
H、pyrH)、2.33(s、6H、N=CCH3)、2.28(s、6H、
CCH3)、2.05(s、12H、CCH3)。 質量スペクトル:m/z 397[M]+。
eCl2の作成 手順は実施例4.2と同様にしたが、ただし2,6−ジアセチルピリジンビス
(2,4,6−トリメチルアニル)を2,6−ジアセチルピリジンビス(2−t
−ブチルアニル)の代わりに使用した。収率は理論値の64%であった。 質量スペクトル: m/z 523[M]+、488[M−Cl]+、435[ M−Cl2]+。
(鉄錯体)および助触媒(メチルアルモキサン−「MAO」)をシュレンク管に
添加すると共にトルエン(40ml)に溶解させた。「MAO」をトルエンにお
ける10重量%溶液として使用した(アルドリッチ社により供給、カタログNo
.40,459−4)。チューブをエチレンでパージすると共に内容物を機械撹
拌し、重合の期間にわたり1バールのエチレン下に維持した。重合試験をそれぞ
れ室温(20℃)にて開始させた。30分間の後、重合を塩化水素水溶液の添加
により停止させた。生成した固体ポリエチレンを濾別し、メタノールで洗浄し、
減圧オーブン内で50℃にて乾燥させた。トルエン可溶性フラクション(PEト
ルエン可溶性)を水層からのトルエン層の分離により濾液から単離し、MgSO 4 で脱水し、蒸留によりトルエンを除去した。GC/MS分析は、トルエン可溶
性フラクションがオリゴマー生成物よりなることを示した。
・ケミカル・カンパニー社により供給)および二酸化セレン(4.425g、0
.040モル、1当量)を1,4−ジオキサン(100ml)に溶解させ、還流
させた(4時間)。得られた混合物を濾過して透明な燈色溶液を得た。溶剤を減
圧除去すると共に、生成物をクロロホルム:石油エーテル(40/60℃)(1
:1)から再結晶化させて白色粉末(7.44g、75%)を得た。 分析:質量スペクトル(CI)136[M+H]+、153[M+NH3]+。
1H NMR(250Hz、CDCl3):10.17(2H、s)、8.19
(2H、d、J=8.4Hz)、8.17(1H、t、J=8.4Hz)。
成 無水エタノール(50ml)における上記で作成した2,6−ピリジンジカル
ボキシアルデヒド(0.80g、5.93ミリモル)に、再蒸留された2,6−
ジメチルアニリン(2.1当量、12.45ミリモル、1.5ml)および氷酢
酸(触媒量、3滴)を添加し、得られた混合物を還流させた(24時間)。冷却
および再結晶化(無水エタノール)は黄色粉末(1.654g、82%)を与え
た。 分析:質量スペクトル(CI)342[M+H]+。1 H NMR(250Hz、CDCl3):8.43(2H、s)、8.40(
2H、d、J=7.6Hz)、8.00(1H、t、7.6J)、7.10(4
H、d、J=7.4Hz)、6.99(2H、t、J=7.4Hz)、2.20
(12H、s)13 C NMR(250Hz、CDCl3):163.17、154.45、1
50.26、137.32、128.16、126.77、124.39、12
2.68、18.31。
Cl2の作成 80℃の熱乾燥n−ブタノール(40ml)に溶解されたFeCl2(0.1
27g、1.0ミリモル)に、熱乾燥n−ブタノール(10ml)における2,
6−ジアルジミンピリジンビス(2,6−ジメチルアニル)(0.341g、1
.0ミリモル、1当量)の懸濁物を80℃にて滴下した。反応混合物は緑色に変
化した。15分間にわたり80℃にて撹拌した後、混合物を室温まで冷却させ、
さらに12時間にわたり撹拌した。反応溶剤容積を約1mlまで減少させ、反応
混合物をジエチルエーテル(3x40ml)で洗浄して淡緑色粉末(0.279
g、60%)を得た。 質量スペクトル(FAB+)m/z:467[M]+、432[M−Cl]+。
成 無水エタノール(25ml)における上記実施例10.0で記載したように作
成された2,6−ピリジンジカルボキシアルデヒド(0.169g、1.25ミ
リモル)に、再蒸留された2,6−ジエチルアニリン(2.1当量、2.63ミ
リモル、0.36ml)および氷酢酸(触媒量、1滴)を添加した。得られた混
合物を還流させた(24h)。冷却および再結晶化(無水エタノール)により黄
色粉末(0.371g、75%)を得た。 分析:質量スペクトル(CI):398[M+H]+1 H NMR(250Hz、CDCl3):8.44(2H、s)、8.40(
2H、d、J=7.6Hz)、8.00(1H、t、J=7.6Hz)、7.2
5(6H、M)、2.55(8H、q、J=7.5Hz)、1.61(12H、
t、J=7.5Hz)。
Cl2の作成 80℃の熱乾燥n−ブタノール(40ml)に溶解されたFeCl2(0.0
76g、06ミリモル)に、熱乾燥n−ブタノール(10ml)における2,6
−ジアルジミンピリジンビス(2,6−ジエチルアニル)(0.240g、0.
6ミリモル、1当量)の懸濁物を80℃にて滴下した。反応混合物は暗緑色に変
化した。80℃にて15分間にわたり撹拌した後、混合物を室温まで冷却すると
共に、さらに12時間にわたり撹拌した。反応溶剤容積を約1mlまで減少させ
、反応混合物をジエチルエーテル(3x40ml)で洗浄して暗緑色粉末(0.
238g、76%)を得た。 分析:質量スペクトル(FAB+)m/z:523[M]+、488[M−Cl
]+、453[M−Cl2]+、398[M−FeCl2]+。
)の作成 無水エタノール(20ml)における上記実施例10.0で記載したように作
成した2,6−ピリジンジカルボキシアルデヒド(0.101g、0.75ミリ
モル)に、再蒸留された2,6−ジイソプロピルアニリン(2.1当量、1.5
7ミリモル、0.26ml)および氷酢酸(触媒量、1滴)を添加した。得られ
た混合物を還流させた(24h)。冷却および再結晶化(無水エタノール)によ
り黄色粉末(0.270g、80%)を得た。 分析:質量スペクトル(CI):454[M+H]+1 H NMR(250Hz、CDCl3):8.44(2H、s)、8.40(
2H、d、J=7.6Hz)、8.00(1H、t、J=7.6Hz)、7.2
3(6H、M)、3.01(4H、sept、J=6.9Hz)、1.21(2
4H、d、J=6.9Hz)13 C NMR(250Hz、CDCl3):163.52、162.69、1
54.43、148.30、137.36、137.14、123.05、12
2.76、27.99、23.44。
)FeCl2の作成 80℃の熱乾燥n−ブタノール(40ml)に溶解されたFeCl2(0.0
70g、055ミリモル)に、熱乾燥n−ブタノール(10ml)における2,
6−ジアルジミンピリジンビス(2,6−ジイソプロピルアニル)(0.245
g、0.55ミリモル、1当量)の懸濁物を80℃にて滴下した。反応混合物は
暗緑色に変化した。80℃にて15分間にわたり撹拌した後、混合物を室温まで
冷却させ、さらに12時間にわたり撹拌した。反応溶剤容積を約1mlまで減少
させ、反応混合物をジエチルエーテル(3x40ml)で洗浄して暗緑色粉末(
0.205g、65%)を得た。 分析:質量スペクトル(FAB+)m/z:576[M]+、544[M−Cl
]+、454[M−FeCl2]+。
成した2,6−ピリジンジカルボキシアルデヒド(0.658g、4.81ミリ
モル)に1−アミノナフタレン(2.1当量、10.10ミリモル、1.448
g)および氷酢酸(触媒量、1滴)を添加した。得られた混合物を還流させた(
24h)。冷却および再結晶化(無水エタノール)により黄色粉末(1.48g
、80%)を得た。 分析:質量スペクトル(EI):385[M]+。
成 80℃の熱乾燥n−ブタノール(80ml)に溶解されたFeCl2(0.2
0g、1.57ミリモル)に、熱乾燥n−ブタノール(25ml)における2,
6−ジアルジミンピリジンビス(1−ナフチル)(0.610g、1.57ミリ
モル、1当量)の懸濁物を80℃にて滴下した。反応混合物は緑色に変化した。
80℃にて15分間にわたり撹拌した後、混合物を室温まで冷却させ、さらに1
2時間にわたり撹拌した。反応溶剤容積を約1mlまで減少させ、反応混合物を
ジエチルエーテル(3x40ml)で洗浄して緑色粉末(0.57g、71%)
を得た。 分析:質量スペクトル(FAB+)m/z:511[M]+、476[M−Cl
]+、441[M−Cl2]+、386[M−FeCl2]+。
験した。シュレンク管おけるトルエン(40ml、乾燥)に溶解させた鉄錯体(
0.01ミリモル)に助触媒(メチルアルモキサン「MAO」)(0.065m
l、トルエン中10重量%、100当量(Fe:Al=1:100))を添加し
て橙色溶液を得た。シュレンク管を水浴に入れ、エチレンでパージすると共に内
容物を磁気撹拌し、1バールのエチレン下に重合の期間にわたり維持した。30
分間の後、重合を塩化水素水溶液の添加により停止させた。不溶性の固体ポリエ
チレンを濾過により回収し、メタノール(50ml)で洗浄すると共に乾燥させ
た(50℃の減圧オーブン)。トルエン溶液をMgSO4で脱水し、溶剤を減圧
除去して微量のワックス状物質を得た。トルエン溶液のGC−MSは、ワックス
状物質がα−オレフィン(ビニル末端オリゴマー炭化水素)よりなることを示し
た。重合試験の結果を次表に示す。
wは300であった。
いて「スラリー」重合条件下に10バールのエチレン圧力下で重合させる一連の
試験である。
,6−ジアセチルピリジンビス(2,6−ジイソプロピルアニル)FeCl2と
した(式D化合物)。
−ジアセチルピリジンビス(2,6−ジメチルアニル)FeCl2とした。
セチルピリジンビス(2,4−ジメチルアニル)FeCl2とした。
−ジアセチルピリジンビス(2,4,6−トリメチルアニル)FeCl2とした
。
セチルピリジンビス(2,6−ジイソプロピルアニル)CoCl2(式K)とし
た。
させ、活性化剤(助触媒)の溶液を室温にて添加した。この混合物を室温にて撹
拌し、次いで1部を重合反応器の注入ユニットに移した。触媒活性化で用いた各
試薬の量を下表に示す。全操作は特記しない限り窒素雰囲気下で行った。「MA
O」はメチルアルモキサンである(ウィトコ社により供給されるトルエン中1.
78M)。「MMAO」は改質メチルアルモキサン(ウィトコ社により供給され
るヘプタン中10%w/w)であり、購入したままで使用した。トルエン中1M
溶液としてのトリイソブチルアルミニウム(Al(iBu)3)はアルドリッチ
社により供給された。
給)と、ナトリウム/窒素で蒸留したヘキセン(アルドリッチ社により供給)と
、トリイソブチルアルミニウム(ヘキサン中1M、アルドリッチ社により供給)
にした。
成した。次いで反応器を50℃まで冷却させた。次いでイソブタン(0.5リッ
トル)とトリイソブチルアルミニウムとを添加し、反応器を窒素でシールした。
アルキルアルミニウムを反応器内の毒物を少なくとも1時間にわたり除去した。
エチレンを所定の過圧が達成されるまで反応器中へ導入し、次いで触媒溶液を窒
素下で注入した。反応器圧力を重合試験の全体にわたり追加エチレンのコンピュ
ータ制御添加により一定に維持した。重合時間は1時間とした。試験の終了後、
反応器内容物を分離し、酸性化メタノール(50ml HCl、2.5リットル
、メタノール)および水/エタノール(4:1 v/v)で洗浄し、減圧下で4
0℃にて16時間乾燥させた。
成した。次いで反応器を50℃まで冷却し、イソブタン(0.5リットル)と1
−ヘキセンとトリイソブチルアルミニウムとを添加し、反応器を窒素でシールし
た。アルキルアルミニウムを反応器内の毒物につき少なくとも1時間にわたり除
去した。エチレンを所定の過圧に達成するまで反応器中へ導入し、次いで触媒溶
液を窒素下で注入した。反応器圧力を重合試験の全体にわたりエチレンのコンピ
ュータ制御添加により一定に維持した。重合時間は40分間とした。試験の終了
後、反応器内容物を分離し、酸性化メタノール(50ml HCl/2.5リッ
トル、メタノール)および水/エタノール(4:1 v/v)で洗浄すると共に
減圧下で40℃にて16時間にわたり乾燥させた。重合試験からのデータを下表
に示す。
0ml)を重合に用いた。残余の実施例は全てエチレンの単独重合とした。 「ppm」はポリマー1,000,000重量部当たりの遷移金属の重量部とし
て規定する。
例示する。実施例26は2,6−ジアセチルピリジンビス(2,6−ジイソプロ
ピルアニル)FeCl2を使用し、実施例27は遷移金属錯体化合物として2,
6−ジアセチルピリジンビス(2,4,6−トリメチルアニル)FeCl2を使
用する。
ロスフィールド社により供給)をシュレンク管に入れ、トルエン(10ml)を
添加した。混合物を50℃まで加熱した。トルエン(10ml)における2,6
−ジアセチルピリジンビス(2,6−ジイソプロピルアニル)FeCl2(0.
036g)の溶液にメチルアルミノキサン(5ml、トルエン中1.78M、ウ
ィトコ社により供給)を添加した。この混合物を50℃にて加熱し、次いでシリ
カ/トルエン混合物に移した。シリカ/MAO/トルエン混合物を50℃に定期
的に撹拌しながら1時間維持した後、トルエンを65℃にて減圧除去することに
より自由流動性粉末を得た。
ロスフィールド社により供給)をシュレンク管に入れ、トルエン(10ml)を
添加した。トルエン(10ml)における2,6−ジアセチルピリジンビス(2
,4,6−トリメチルアニル)FeCl2(0.041g)の溶液にメチルアル
ミノキサン(13.2ml、トルエン中1.78M、ウィトコ社により供給)を
添加した。この混合物を40℃にて30分間加熱することにより、できるだけ多
量の鉄錯体を溶解させた。次いで溶液をシリカ/トルエンに移した。シリカ/M
AO/トルエン混合物を40℃にて定期的に撹拌しながら30分間維持した後、
トルエンを40℃にて減圧下に除去することにより自由流動性粉末を得た。シリ
カの分析は16.9%w/wのAlと0.144%w/wのFeとを示した。
ツ社により供給):エチレン級3.5(エア・プロダクツ社により供給):ナト
リウム/窒素にて蒸留したヘキセン(アルドリッチ社により供給):乾燥ペンタ
ン(アルドリッチ社により供給):メチルアルミニウム(ヘキサン中2M、アル
ドリッチ社により供給):およびトリイソブチルアルミニウム(ヘキサン中1M
、アルドリッチ社により供給)。3リットルの反応器を流動窒素下で少なくとも
1時間にわたり77〜85℃にて焼成した後、粉末塩化ナトリウム(300g、
減圧下、160℃、>4時間の予備乾燥)を添加した。塩化ナトリウムを流動化
可能/撹拌可能な始動充填粉末として気相重合につき使用した。トリメチルアル
ミニウム(3ml、ヘキサン中2M)を反応器に添加すると共に窒素でシールし
た。アルキルアルミニウムを反応器内の毒物につき1/2〜1時間にわたり除去
した後、4x4バールの窒素パージにより排気した。重合につき使用すべき気相
組成物を反応器に導入し、触媒組成物の注入前に77℃まで予熱した。触媒(0
.18〜0.22g)を窒素下で注入し、次いで温度を80℃に調整した。重合
の際のヘキセンおよび/または水素とエチレンとの比を、気相組成物を質量スペ
クトロメータにより監視すると共に所要に応じバランスを調整して一定に保った
。重合試験を1〜2時間にわたり持続させた後、各反応体を反応器から窒素でパ
ージすると共に温度を<30℃まで低下させることにより停止させた。生成ポリ
マーを水洗して塩化ナトリウムを除去し、次いで酸性化メタノール(50ml
HCl/2.5リットル メタノール)および最後に水/エタノール(4:1
v/v)で洗浄した。粉末を減圧下に40℃にて16時間乾燥させた。各種の操
作条件を用いる数回の試験を、それぞれ実施例26および27の触媒を用いて行
った。全重合試験は80℃の重合温度および8バールのエチレン圧力にて行った
。重合条件を下表に示す。
に対応する短鎖分枝(SCB)を含有した。
)の作成 無水エタノール(50ml)における2,6−ジメタノールピリジン(6.5
3g、0.048モル)と2,4,6−トリメチルアニリン(2.5当量、17
.0ml、0.12モル)と氷酢酸(3滴)とを互いに混合すると共に、24時
間にわたり還流させた。混合物を冷却すると2,6−ジアルジミンピリジンビス
(2,4,6−トリメチルアニル)の黄色結晶が分離した(14.28g、80
%収率)。1 H NMRによる結晶生成物の分析:(250Hz)8.42(s、2H)、
8.40(s、2H)、8.0(t、3J(HH)8、JH)、7.0(s、4
H)、2.33(s、6H)、2.19(s、12H)。 質量スペクトル:m/z369[M]+。
)FeCl3(式G)下記参照の作成 FeCl3(0.10g、0.615ミリモル)を室温にてMeCN(25m
l)に溶解させ、2,6−ジアルジミンピリジンビス(2,4,6−トリメチル
アニル)(0.227g、0.615ミリモル)を添加した。室温にて24時間
撹拌した後、2,6−ジアルジミンピリジンビス(2,4,6−トリメチルアニ
ル)FeCl3の赤色沈殿物(0.192g、60%)を回収すると共に乾燥さ
せた。生成物の分析:質量スペクトル:m/z531[M]+、496[M−C
l]+、462[M−2Cl]+。
メチルアニル)FeCl3(0.02ミリモル)をシュレンク管内でトルエン(
40ml)に溶解させて赤色溶液を得、助触媒(メチルアルモキサン、MAO)
(8.0ミリモル、400当量)を導入した(橙色溶液の形成が観察された)。
MAOはアルドリッチ社により供給された(カタログNo.40,459−4)
。チューブをエチレンでパージすると共に、内容物を1バールのエチレン下で重
合期間にわたり撹拌した。試験を0.5時間後にHCl水溶液の添加により停止
させた。固体ポリエチレン(1.5g)を濾過により回収し、メタノールで洗浄
すると共に減圧オーブン内で50℃にて乾燥させた。トルエンに可溶性のポリエ
チレンを水層からのトルエン層の分離により濾液から分離し、MgSO4で脱水
し、蒸留によりトルエンを除去した。トルエン可溶性の得られたポリエチレンの
重量は2.46gであった。触媒活性(得られたポリエチレンの全重量に対する
)は396gミリモル−1h−1バール−1であった。
リメチルアニル)FeCl2を作成した。−78℃にてEt2O(20ml)に
溶解された2,6−ジアセチルピリジンビス(2,4,6−トリメチルアニル)
FeCl2(17mg、0.03ミリモル)に、トリメチルシリルメチル マグ
ネシウムクロライドの溶液(0.164ミリモル、Et2O中1M溶液)を滴下
した。この溶液を10分間撹拌し、次いで0℃まで加温すると共に、さらに5分
間にわたり撹拌した。反応溶剤を減圧下で除去した。鉄錯体にトリチルテトラ(
ペンタフルオロフェニル)ボレート(151mg、0.164ミリモル)および
トルエン(20ml、乾燥)を添加して赤色溶液を得た。シュレンク管をエチレ
ンでパージすると共に内容物を磁気撹拌し、1バールのエチレン下に重合期間に
わたり維持した。60分間の後、重合を酸性化メタノール(50ml、HCl/
2.5リットル メタノール)の添加により停止させた。不溶性の固体ポリエチ
レンを濾過により回収し、メタノール/水(1:4 v/v)で洗浄すると共に
乾燥させた(40℃の減圧オーブン)。固体エチレンの収量は0.90gであり
、重合活性は28gミリモル−1バール−1h−1であった。実施例29で使用
した各試薬は次の通りである:
としてアルドリッチ社から購入) トリチルテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート(ブールダー社から購入) ジエチルエーテル(アルドリッチ社から購入、ナトリウムで脱水) トルエン(アルドリッチ社から購入、ナトリウムで脱水)
らなる鉄(II)錯体を合成すると共に、オレフィン重合触媒として試験した。
成 無水エタノールにおける2,6−ジアセチルピリジン(5.0g、30.6ミ
リモル)(アルドリッチ・ケミカルス社)および1−メチル,1−フェニルヒド
ラジン(7.21ml、61.3ミリモル)(アルドリッチ・ケミカルス社)を
互いに撹拌し、次いで12時間にわたり加熱乾留させた。若干のエタノールを蒸
発させると共に−20℃まで冷却することにより溶液の容積を減少させた後、2
,6−ビス(1−メチル,1−フェニルヒドラゾン)ピリジンの黄色針状結晶を
得、これを濾別した。収率約90%。 質量スペクトル:m/z.M+372。1 H NMRにより分析(300MHz、CDCl3、298K)δ:2.52
(s、6H、CH3C=N)、3.32(s、6H、CH3−N)、6.95−
8.31(マルチプレット、13H、アリール)。
Cl2錯体の作成 FeCl2・4H2O(0.21g、1.06ミリモル)と2,6−ビス(1
−メチル,1−フェニルヒドラゾン)ピリジン(0.39g、1.06ミリモル
)とを互いに無水n−ブタノール(10ml)中で撹拌し、80℃にて2時間加
熱した。次いで反応物を室温まで冷却した。減圧下での揮発物の除去、温MeC
n(30ml)中への抽出、および冷却(−20℃)は所望の鉄錯体(下式L)
を大褐色針状結晶として与えた。収率約85%。
ジアセチルピリジン(1.0g、6.13モル)と1,1−ジフェニルヒドラジ
ン塩酸塩(2.7g、12.3ミリモル)(アルドリッチ・ケミカルス社)とを
使用した。収率約85%。1 H NMRによる分析(300MHz、CDCl3、298K)δ:2.12
(s、6H、CH3C=N)、7.09−8.35(マルチプレット、23H、
アリール)。
Cl2・4H2O(0.5g、2.51ミリモル)および2,6−ビス(1,1
−ジフェニルヒドラゾン)ピリジン(1.19g、2.52ミリモル)から作成
した。収率約70%。 質量スペクトル:m/zM+−Cl586
の重合にて試験した。シュレンク管にてトルエン(40ml、ナトリウムワイヤ
で脱水)に溶解された鉄錯体に、助触媒(メチルアルミノキサン「MAO」)を
添加した。「MAO」はウィトコ社からトルエン中の1.78M溶液として購入
した。シュレンク管をエチレンでパージすると共に内容物を磁気撹拌し、1バー
ルのエチレン下に重合期間にわたり維持した。60分間の後、重合を酸性化メタ
ノール(50ml、HCl/2.5リットル メタノール)の添加により停止さ
せた。不溶性の固体ポリエチレンを濾過により回収し、メタノール/水(1:4
v/v)で洗浄すると共に乾燥させた(50℃の減圧オーブン)。実施例30
につき、生成ポリエチレン溶液をMgSO4で脱水し、溶剤を減圧除去して微量
のワックス状物質を得た。重合試験の結果を次表に示す。
(クロスフィールド社により供給される等級ES70)をヘキサン(110リッ
トル)にスラリー化させ、ヘキサメチルジシラザン(30モル)(フルカ社によ
り供給)を撹拌しながら50℃にて添加した。乾燥ヘキサン(120リットル)
を撹拌しながら添加し、固体を沈降させ、上澄液をデカンテーションにより除去
し、さらに乾燥へキサン(130リットル)を撹拌しながら添加した。ヘキサン
洗浄をさらに3回反復した。ジブチルマグネシウム(30モル)(FMC社によ
り供給)を添加すると共に50℃にて1時間撹拌した。塩化t−ブチル(60モ
ル)を添加し、50℃にて1時間撹拌した。このスラリーに、四塩化チタン(3
モル)とチタンテトラ−n−プロポキシド(3モル)との当モル混合物を撹拌し
ながら50℃にて2時間かけて添加し、次いで乾燥ヘキサン(130リットル)
で5回洗浄した。スラリーを流動する窒素流の下で乾燥させて固体のシリカ支持
チーグラー触媒成分を得た。
成 トルエン中10重量%溶液としてのメチルアルミノキサン(「MAO」、10
.2ミリモル)の溶液(ウィトコ社により供給)を、実施例9におけるように作
成された2,6−ジアセチルピリジンビス(2,4,6−トリメチルアニル)F
eCl2(5mlの乾燥トルエンにおける0.07ミリモル)の懸濁物を添加し
、混合物を5分間にわたり振とうさせた。この溶液を次いで上記(実施例32.
1)で作成された2.0gのシリカ支持チーグラー触媒に添加し、混合物を20
℃にて2時間振とうし、次いで溶剤を減圧下に20℃で除去して混合触媒を自由
流動性粉末として得た。
、乾燥窒素を流過させた。温度を50℃まで低下させ、乾燥塩化ナトリウム(3
00g)を次いでトリメチルアルミニウム(TMA)溶液(ヘキサンにおける2
モルTMA溶液2ml)と共に添加し、反応器を85℃にて2時間加熱した。反
応器を窒素でパージし、50℃まで冷却し、TMA溶液(ヘキサンにおける2モ
ルTMA溶液3ml)を添加した。温度を77℃まで上昇させ、水素(0.5バ
ール)およびエチレン(8バール)を1−ヘキセン(2.6ml)の添加に先立
ち添加した。反応を反応器中への上記で作成された混合触媒(0.20g)の注
入により開始させた。温度を80℃に維持すると共に、エチレンを添加して一定
圧力を維持した。気相を質量スペクトロメータにより監視し、水素および1−ヘ
キセンを必要に応じ添加して、これら各成分の一定の気相濃度を維持した。重合
を90分間行った。ポリマーを水洗して塩化ナトリウムを除去し、次いで酸性化
メタノール(50ml HCl/2.5リットル メタノール)および最終的に
水/エタノール4:1 v/v)で洗浄した。ポリマーを40℃にて16時間に
わたり減圧乾燥させた。111gの乾燥ポリマーが生成した。このポリマーは広
い分子量分布(ゲル透過クロマトグラフィーにより測定)を有した。多分散性(
Mw/Mn)は28.5であった。
ルド級ES70X)を流動窒素下で250℃にて16時間加熱した。このシリカ
(2.5g)の試料をシュレンク管に入れ、12.1mlの1.78Mメチルア
ルミノキサンMAO(ウィトコ社により供給)をこれに添加してスラリーを形成
させた。このスラリーを50℃にて4時間加熱した後、室温にて10日間にわた
り放置した。シリカ上の上澄液を除去し、シリカ/MAOをトルエン(3x10
ml)で室温にて3回洗浄し、上澄溶液をその都度除去した。
ロライド(0.101g)(実施例9に記載したように作成)をトルエン(20
ml)に室温でスラリー化させ、シリカ/MAOに添加した。この混合物を1時
間にわたり時々振とうさせた。上澄溶液を除去すると共に、シリカ/MAO/F
e錯体を濾液が無色となるまでトルエンにより洗浄した。固体を50℃にて減圧
乾燥させた。
した後、塩化ナトリウム(300g、直径<1mmの粒子、減圧下で予備乾燥、
160℃、>4時間)を添加した。塩化ナトリウムは、単に気相重合反応器のた
めの標準「充填粉末」として用いた。トリメチルアルミニウム(3ml、ヘキサ
ン中2M、アルドリッチ社により供給)を反応器に添加し、次いで反応器を密閉
した。アルキルアルミニウムを反応器内の毒物につき1/2時間にわたり除去し
た後、順次の加圧および4バールの窒素による反応器のパージによって排気した
。エチレン(等級3.5、エア・プロダクツ社により供給)を反応器に添加して
77℃で8バールの圧力を与えた後、触媒を注入した。実施例33.2に記載し
たように作成した支持触媒(0.215g)を窒素下で反応器に注入し、次いで
温度を80℃に調整した。重合を5時間にわたり持続させた後、エチレンを反応
器から窒素を用いてパージすると共に温度を30℃未満まで低下させることによ
り停止させた。ポリマーを水洗して塩化ナトリウムを除去し、次いで酸性化メタ
ノール(50ml HCl/2.5リットル メタノール)および最終的に水/
エタノール(4:1 v/v)で洗浄した。ポリマーを減圧下に40℃にて16
時間にわたり乾燥させた。161gの乾燥ポリマーが生成した。
ロピルアニル)FeCl2錯体を以下の標準条件下でエチレンの重合につき試験
した。シュレンクにて乾燥トルエン(10ml)に溶解させた鉄錯体(8μモル
)に、トルエン(10ml)におけるN,N-ジメチルアニリンの溶液、次いで トルエンにおける助触媒(メチルアルミノキサン−「MAO」、トルエンにおけ
る1.78M MAO溶液8ミリモル、ウィトコ社により供給、参照番号AL5
100/10T)を添加した。シュレンク管の内容物を磁気撹拌すると共に、1
バールのエチレン下に重合期間にわたり維持した。60分間の後、生成ポリマー
を酸性化メタノール(50ml HCl/2.5リットル メタノール)および
最終的に水/エタノール(4:1 v/v)で洗浄した。ポリマーを減圧下に4
0℃にて16時間乾燥させた。各種の操作条件を用いて数回の試験を行い、重合
条件を次表に示す。
レンの重合におけるその使用を例示する。
4,6−トリメチルアニル)鉄二塩化物の作成 シリカ支持物質(クロスフィールド社により供給される等級ES70X)を流
動窒素下にて250℃で16時間加熱した。このシリカの試料をシュレンク管に
入れ、12.1mlの1.78Mメチルアルミノキサン(ウィトコ社により供給
される「MAO」)をこれに添加してスラリーを形成させた。スラリーを4時間
にわたり50℃にて加熱した後、室温にて10日間にわたり放置した。次いでシ
リカ上の上澄液を除去し、シリカ/MAOをトルエン(10ml)にて室温で3
回洗浄し、その都度上澄溶液を除去した。2,6−ジアセチルピリジンビス(2
,4,6−トリメチルアニル)鉄ジクロライド錯体(0.101g)をトルエン
(20ml)中に室温にてスラリー化させ、シリカ/MAOに添加した。この混
合物を1時間にわたり時々振とうさせた。上澄溶液を除去し、生成したシリカ支
持MAO/Fe錯体をトルエンにより淡橙色の初期洗液が透明かつ無色となるま
で洗浄した。生成したシリカ支持触媒固体を減圧下に50℃にて乾燥させた。
5℃にて加熱した。反応器を40℃まで冷却し、500mlのイソブタンを添加
した。反応器の温度を80℃まで上昇させ、エチレンを反応器に流入させて10
バールの分圧を得た。上記35.1にて作成された支持触媒(0.201g、1
0mlのトルエンにスラリー化)を窒素下で注入すると共に、反応器における圧
力上昇を重合試験に際し反応器圧力の調節の間に考慮した。試験を1時間後に停
止させ、ポリマーを40℃にて減圧乾燥させた。5.9gのポリマーが回収され
た。GPCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそれぞれ124000お
よび15000であることを示した。
器を30℃未満まで冷却し、500mlのイソブタンを添加した。トリメチルア
ルミニウム(ヘキサン中2Mの3ml)を反応器に添加し、次いでこれを80℃
まで加熱した。反応器における圧力を13.8バールまで増大させ、次いでエチ
レンを流入させて23.8バールの全圧力を得た。上記35.1にて作成された
支持触媒(トルエンスラリーにおける0.201gの支持触媒固体)を窒素下で
反応器中へ注入して、反応器圧力を25.4バールまで上昇させた。触媒活性は
、エチレン流入により圧力を一定に保つには若干高過ぎ、従ってこれを23.2
バールまで低下させた。重合の大半につき反応器内に存在するエチレン圧力は7
.8バールであると推定された。この試験を1.75時間後に停止させ、ポリマ
ーをメタノール/HCl(2.5リットル/50ml)、次いで水/エタノール
(4:1 v/v)で洗浄し、さらに40℃にて減圧乾燥させた。166gの乾
燥ポリマーを回収した。GPCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそれ
ぞれ182000および11000であることを示した。
4,6−トリメチルアニル)鉄ジクロライドの作成 実施例35.1で作成された支持触媒の1部(約1〜1.5g)を5x10m
lづつのトルエンで100℃にて洗浄した。最初の洗液は濃橙色を有し、この色
は最終洗液が透明になるまでそれぞれ洗浄する毎に弱くなった。固体を100℃
で減圧乾燥させて自由流動性の固体支持触媒を得た。
ルミニウム(ヘキサン中2Mの3ml)を反応器に添加し、次いでこれを50℃
まで冷却した。イソブタン(500ml)を反応器に添加し、温度を76℃まで
上昇させた。反応器内の圧力は13バールまで上昇した。エチレンを反応器に流
入させて21バールの全圧力(8バールのエチレン)を得た。上記26.1で作
成した支持触媒(トルエンスラリーにおける0.11g)を反応器に注入し、試
験の際の反応器圧力の調節に際し圧力上昇を考慮した。温度を80℃まで上昇さ
せた。1時間の後、さらに同じ触媒の1部を注入し(ヘキサンスラリー中0.2
2g)、さらに3.5時間にわたり試験を持続した。25gのポリマーが回収さ
れた。GPCによるポリマーの分析は、それぞれMwおよびMnが343000
および35000であることを示した。
4,6−トリメチルアニル)鉄ジクロライドの作成 メチルアルミノキサン(トルエン中1.78Mの24ml、ウィトコ社により
供給)を、予め流動窒素下で250℃にて加熱されたシリカ(クロスフィールド
社により供給される5gの等級ES70X)に添加した。シリカ/MAOを80
℃にて1時間にわたり加熱した後、トルエン(5x10mlづつ)で洗浄した。
生成シリカ/MAOスラリーの半分を室温まで冷却し、触媒作成の次の段階に用
いた(他の半分は実施例38で使用すべく残した)。2,6−ジアセチルピリジ
ンビス(2,4,6−トリメチルアニル)鉄ジクロライド(73mg)をトルエ
ンにスラリー化させると共に、シリカ/MAO/トルエンの半分に移して2時間
にわたり時々撹拌しながら反応させた。シリカ/MAO/Fe錯体をトルエン(
3x10mlづつ)にて室温で洗浄し、次いでヘキサン(2x10mlづつ)で
室温にて洗浄することによりトルエンを除去した後、最終的にヘキサンで80℃
にて洗浄した(3x10mlづつ)。生成した支持触媒固体を室温にて減圧乾燥
した。この固体は0.107重量%のFeを含有した。
℃未満まで冷却し、500mlのイソブタンを添加した。反応器を77℃まで加
熱すると共に圧力を13.8バールまで上昇させた。エチレンを添加して21.
8バールの全圧力(8バールのエチレン)を得た。トリイソブチルアルミニウム
(ヘキサン中1Mの5ml)を反応器に添加し、20分間後に上記37.1にて
作成された支持触媒(ヘキサンスラリー中0.14g)を反応器に注入すると共
に、圧力上昇を試験の際の反応器圧力の調節に際し考慮した。温度を80℃まで
上昇させた。5時間の後、重合を終了させた。138gのポリマーが回収された
。GPCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそれぞれ567000およ
び53000であることを示した。生成ポリマーは、触媒から生じた1.02p
pmのFeを含有した。
℃未満まで冷却すると共に、500mlのイソブタンを添加した。トリイソブチ
ルアルミニウム(ヘキサン中1Mの3ml)を反応器に添加し、次いでこれを7
8℃まで加熱すると共に圧力を12.1バールまで上昇させた。エチレンを添加
して32.0バールの全圧力(19.9バールのエチレン)にした。上記37.
1で作成した支持触媒(0.0925g、ヘキサン中にスラリー化)を反応器に
注入し、全圧力を31.2バールに調節した。重合の際のエチレン圧力は約19
.1バールであると推定された。重合を80分間にわたり持続させた。181g
のポリマーが回収された。GPCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそ
れぞれ595000および44000であることを示した。このポリマーは、触
媒から生じた0.51ppmのFeを含有した。
まで冷却した。トリイソブチルアルミニウム(ヘキサン中1Mの3ml)を反応
器に添加した後、500mlのイソブタンを添加した。反応器を78℃まで加熱
すると共に、圧力を13.5バールまで上昇させた。エチレンを添加して17.
6バールの全圧力(4.1バールのエチレン)を得た。上記37.1で作成した
支持触媒(0.15g、ヘキサン中にスラリー化)を反応器に注入した。重合の
際のエチレン圧力は約4.7バールであると推定された。重合を80分間にわた
り持続させた。21gのポリマーが回収された。GPCによるポリマーの分析は
、MwおよびMnがそれぞれ347000および26000であることを示した
。
6−ジイソプロピルアニル)コバルトジクロライドの作成 実施例37.1で作成したシリカ/MAOの第2半部を減圧下で乾燥させた。
乾燥シリカ/MAOの1部(1g)をシュレンク管に入れ、2,6−ジアセチル
ピリジンビス(2,6−ジイソプロピルアニル)コバルトジクロライド(40m
g)をこれに乾燥粉末として添加した。次いでヘキサン(10ml)をシュレン
ク管に添加し、コバルト錯体とシリカ/MAOとを一緒に室温にて1時間にわた
りスラリー化させた。この混合物を室温にて減圧乾燥することにより、生成支持
触媒を乾燥自由流動性粉末として得た。
0℃まで冷却した。ヘキセン(250ml)とトリイソブチルアルミニウム(ヘ
キサン中1Mの3ml)と250mlのイソブタンとを反応器に添加した。反応
器を80℃まで加熱すると共に、圧力を7.1バールまで上昇させた。エチレン
を添加して19.2バールの全圧力(12.1バールのエチレン)を得た。上記
で作成した支持触媒(0.245g、ヘキサン中にスラリー化)を反応器に注入
すると共に、圧力上昇を試験の際の反応器圧力の調節に際し考慮した。重合を3
30分間にわたり持続させた。3.3gのポリマーが回収された。GPCによる
ポリマーの分析はMw=5300およびMn=1500であることを示した。
クロライドに基づく触媒を用いて一連の重合試験を行った。
冷却した。イソブタン(500ml)および次いでトリイソブチルアルミニウム
(ヘキサン中1Mの3ml)を反応器に添加した。反応器を78℃まで加熱する
と共に、圧力を13.2バールまで上昇させた。エチレンを添加して26.2バ
ールの全圧力を得た。実施例37.1の触媒(0.097g、ヘキサン中にスラ
リー化)を反応器に注入した。反応器圧力を試験に際し26.0バール(エチレ
ン圧力は約12.8バールであると推定される)に調節し、温度を80℃に調整
した。重合を60分間にわたり持続させた。78gのポリマーが回収された。G
PCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそれぞれ528000および4
0000であることを示した。
冷却した。イソブタン(500ml)に続きトリイソブチルアルミニウム(ヘキ
サン中1Mの3ml)を反応器に添加した。反応器を78℃まで加熱すると共に
、圧力を13.4バールまで上昇させた。エチレンを添加して21.2バールの
全圧力を得た。実施例37.1の触媒(0.124g、ヘキサン中にスラリー化
)を反応器に注入した。エチレン圧力は重合に際し約8.1バールであると推定
され、温度を80℃に調整した。重合を60分間にわたり持続させた。47gの
ポリマーが回収された。GPCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそれ
ぞれ376000および40000であることを示した。
冷却した。トリイソブチルアルミニウム(ヘキサン中1Mの3ml)を反応器に
添加した後、500mlのイソブタンを添加した。反応器を78℃まで加熱する
と共に、圧力を13.0バールまで上昇させた。エチレンを添加して26.0バ
ールの全圧力を得た。実施例37.1の触媒(0.0966g、ヘキサン中にス
ラリー化)および0.25mlのN,N−ジメチルアニリンを20分間にわたり
反応器に注入した。反応器における圧力を22.5バールまで低下させて触媒の
活性を減少させた。重合の大半に際し反応器内のエチレン圧力は9.0バールで
あると推定された。重合を60分間にわたり持続させた。88gのポリマーが回
収された。GPCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそれぞれ4300
00および35000であることを示した。
冷却した。トリイソブチルアルミニウム(ヘキサン中1Mの3ml)を反応器に
添加し、次いで500mlのイソブタンを添加した。反応器を78℃まで加熱す
ると共に、圧力を12.7バールまで上昇させた。エチレンを添加して14.7
バールの全圧力を得た。実施例37.1の触媒(0.104g、ヘキサン中にス
ラリー化)を反応器に注入した。重合の際のエチレン圧力は約2.2バールであ
ると推定された。重合を60分間にわたり持続させた。4.8gのポリマーが回
収された。GPCによるポリマーの分析は、MwおよびMnがそれぞれ3400
00および36000であることを示した。
成 トルエン(75ml)における2,6−ジアセチルピリジン(0.34g;2
.1ミリモル)の溶液にトリフェニルメチルアミン(1.20g;4.6ミリモ
ル)を添加した。トルエンスルホン酸一水塩(0.05g)を添加した後、溶液
を1晩にわたりディーン・スターク装置により還流させた。室温まで冷却した後
、反応混合物の揮発成分を減圧除去すると共に、生成物をメタノールから結晶化
させた。生成物を濾過し、冷メタノールで洗浄し、減圧オーブン(30℃)内で
1晩乾燥させた。収量は1.02g(33%)であった。
Br2の作成 FeBr2(0.182g;0.84ミリモル)を80℃の熱n−ブタノール
(30ml)に溶解させると共に固体2,6−ジアセチルピリジンビス(トリフ
ェニルメチルアミン)(0.60g;0.93ミリモル)を少しづつ添加した。
反応混合物は紫色に変化した。80℃にて60分間撹拌した後、反応物を室温ま
で冷却させた。撹拌を25時間にわたり持続した。溶液の揮発成分を減圧下で除
去すると共に、得られた紫色固体をペンタン(2x20cm3)で洗浄し、減圧
乾燥させた。収量は0.362g(理論値の64%)であった。
フェニルメチルアミン)FeBr2触媒(0.008ミリモル)をシュレンク管
に添加し、トルエン(15ml)に懸濁させ、次いでメチルアルモキサン助触媒
(「MAO」)を添加して1000:1のMAO:Fe錯体のモル比を得た。チ
ューブをエチレンでパージすると共に内容物を機械撹拌し、重合の期間にわたり
1バールのエチレンに維持した。90分間の後、重合を塩化水素水溶液の添加に
より停止させた。生成した固体ポリエチレンを濾別し、メタノールで洗浄し、5
0℃にて減圧オーブン内で乾燥させた。ポリエチレンの収量は0.185gであ
った。これは16gミリモル−1h−1バール−1の触媒活性に相当する。この
実施例で生成すると思われる可溶性ポリマーの量の測定は行わなかった。
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示されると共に
R7は基「Q」により示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]。
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] を有する請求の範囲第1項に記載の触媒。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがFe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン
、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒド
ロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上
の環式置換基を形成することができ、または(2): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共
にR7は基「Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3) MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する
基であると共にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R 32 は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、
R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができる]。
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] を有する請求の範囲第6項に記載の触媒。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3) MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]、 支持触媒の形成は所定の窒素含有遷移金属化合物を揮発性炭化水素不活性希釈剤
中でアルモキサンにより処理し、微粒子支持物質を生成物でスラリー化させ、揮
発性希釈剤を蒸発させることにより行われることを特徴とする支持重合触媒。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]、 水素ガスを重合に添加して生成ポリマーの平均分子量を調節することを特徴とす
る1−オレフィンの重合方法。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]、 重合条件が気相であることを特徴とする1−オレフィンの重合方法。
遷移金属Mに共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属
Mの酸化状態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、
R3、R4、およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択
され;R5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロ
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れる] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1つは環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。
請求の範囲第54〜58項のいずれか一項に記載の化合物の使用。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]Mn[I]、
Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属Mに
共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態
であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル
、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1 〜R4、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
であれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換
基を形成することができる]。
;Tはコバルト原子の酸化状態であると共にCo[I]、Co[II]、Co[
III]とすることができ、bは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2 、R3、R4、R5、R6およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビ
ル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカル
ビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] を有する請求の範囲第6項に記載の触媒。
第1〜15項のいずれか一項に記載の触媒。
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示されると共に
R7は基「Q」により示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]。
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] を有する請求の範囲第1項に記載の触媒。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがFe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン
、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒド
ロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上
の環式置換基を形成することができ、または(2): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共
にR7は基「Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3) MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する
基であると共にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R 32 は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、
R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができる]。
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] を有する請求の範囲第6項に記載の触媒。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]Mn[I]、
Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属Mに
共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態
であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル
、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1 〜R4、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
であれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換
基を形成することができる]。
;Tはコバルト原子の酸化状態であると共にCo[I]、Co[II]、Co[
III]とすることができ、bは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2 、R3、R4、R5、R6およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビ
ル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカル
ビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] を有する請求の範囲第6項に記載の触媒。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3) MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]、 支持触媒の形成は所定の窒素含有遷移金属化合物を揮発性炭化水素不活性希釈剤
中でアルモキサンにより処理し、微粒子支持物質を生成物でスラリー化させ、揮
発性希釈剤を蒸発させることにより行われることを特徴とする支持重合触媒。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]、 水素ガスを重合に添加して生成ポリマーの平均分子量を調節することを特徴とす
る1−オレフィンの重合方法。
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに
(1): MがRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、
置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビル
から選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができ、または(2): MがMnもしくはRuであればR5は基「P」により示されると共にR7は基「
Q」により次のように示され:
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり、または(3): MがMnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する基であると共
にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立し
て水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビ
ルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR 29 〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる]、 重合条件が気相であることを特徴とする1−オレフィンの重合方法。
遷移金属Mに共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属
Mの酸化状態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、
R3、R4、およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択
され;R5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロ
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れる] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1つは環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。
Claims (49)
- 【請求項1】 (1)下式Bを有する窒素含有遷移金属化合物と、 (2)有機アルミニウム化合物およびヒドロカルビル硼素化合物から選択される
活性化量の活性化剤化合物と からなる重合触媒: 【化1】 式B [式中、M[T]はFe[II]、Fe[III]、Co[I]、Co[II]
、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]
、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属M
に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状
態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4 およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに
(1): MがFe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン
、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘ
テロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒド
ロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上
の環式置換基を形成することができ; または(2): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示
されると共にR7は基「Q」により示され: 【化2】 ここでR19〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロ
カルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択さ
れ;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の
環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22 の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしく
は置換ヘテロヒドロカルビルであり; または(3): MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式−NR29R30を有する
基であると共にR7は式−NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R 32 は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ
ヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、
R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒド
ロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば
前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成
することができる]。 - 【請求項2】 式BにおいてM[T]がFe[II]、Fe[III]、R
u[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xが遷移金属Mに共
有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tが遷移金属Mの酸化状態で
あると共にbが原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4、R 5 、R6およびR7が独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカ
ルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され
;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、
ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もし
くはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することがで
きる請求の範囲第1項に記載の触媒。 - 【請求項3】 式Bの化合物が次式Z 【化3】 式Z [式中、MはFe[II]、Fe[III]、Co[I]、Co[II]、Co
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1個は環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] を有する請求の範囲第1項に記載の触媒。 - 【請求項4】 環系PおよびQのいずれもポリ芳香族環系の1部を形成せず
、さらにR19およびR20の少なくとも一方、並びにR21およびR22の少
なくとも一方がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルも
しくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択される請求の範囲第3項に記載の触媒
。 - 【請求項5】 環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成
せず、さらにR19、R20、R21およびR22のそれぞれがヒドロカルビル
、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビ
ルから選択される請求の範囲第3項に記載の触媒。 - 【請求項6】 式Bの化合物が次式T 【化4】 式T [式中、MはFe[II]、Fe[III]、Co[I]、Co[II]、Co
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] を有する請求の範囲第1項に記載の触媒。 - 【請求項7】 式Bの化合物が次式W 【化5】 式W [式中、Xはコバルト原子に共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し
;Tはコバルト原子の酸化状態であると共にCo[I]、Co[II]、Co[
III]とすることができ、bは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2 、R3、R4、R5、R6およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビ
ル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカル
ビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] を有する請求の範囲第1項に記載の触媒。 - 【請求項8】 Xがハライド、サルフェート、ナイトレート、チオレート、
チオカルボキシレート、BF4 −、PF6 −、ハイドライド、ヒドロカルビルオ
キシド、カルボキシレート、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよびヘテロ
ヒドロカルビルから選択される請求の範囲第1〜7項のいずれか一項に記載の触
媒。 - 【請求項9】 Xがクロライド、ブロマイド、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、オクチル、デシル、フェニル、ベンジル、メトキシド、エトキシド、イ
ソプロポキシド、トシレート、トリフレート、ホルメート、アセテート、フェノ
キシドおよびベンゾエートから選択される請求の範囲第1〜7項のいずれか一項
に記載の触媒。 - 【請求項10】 有機アルミニウム化合物がトリアルキルアルミニウム化合
物である請求の範囲第1〜9項のいずれか一項に記載の触媒。 - 【請求項11】 有機アルミニウム化合物がアルモキサンである請求の範囲
第1〜10項のいずれか一項に記載の触媒。 - 【請求項12】 ヒドロカルビル硼素化合物がジメチルフェニルアルミニウ
ムテトラ(フェニル)ボレート、トリチルテトラ(フェニル)ボレート、トリフ
ェニル硼素、ジメチルフェニルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)
ボレート、ナトリウムテトラキス[(ビス−3,5−トリフルオロメチル)フェ
ニル]ボレート、H+(OEt2)[(ビス−3,5−トリフルオロメチル)フ
ェニル]ボレート、トリチルテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートおよび
トリス(ペンタフルオロフェニル)硼素から選択される請求の範囲第1〜9項の
いずれか一項に記載の触媒。 - 【請求項13】 触媒が支持物質に支持されることを特徴とする請求の範囲
第1〜12項のいずれか一項に記載の触媒。 - 【請求項14】 支持物質がシリカ、アルミナもしくはジルコニア、または
ポリマーもしくはプレポリマーである請求の範囲第13項に記載の触媒。 - 【請求項15】 支持触媒の形成が、所定の窒素含有遷移金属化合物をアル
モキサンにより揮発性炭化水素不活性希釈剤中で処理し、微粒子支持物質を生成
物でスラリー化させ、さらに揮発性希釈剤を蒸発させることにより得られる請求
の範囲第13項または第14項に記載の触媒。 - 【請求項16】 自由流動性粉末の形態である請求の範囲第15項に記載の
触媒。 - 【請求項17】 請求の範囲第1〜16項のいずれか一項に記載の触媒を含
み、さらに(3)中性ルイス塩基をも含む触媒系。 - 【請求項18】 中性ルイス塩基が第三アミンもしくは芳香族エステルであ
る請求の範囲第17項に記載の触媒を含む触媒系。 - 【請求項19】 モノマーオレフィンを重合条件下で請求の範囲第1〜18
項のいずれか一項に記載の重合触媒と接触させることを特徴とする1−オレフィ
ンの重合もしくは共重合方法。 - 【請求項20】 モノマーがエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、メ
チルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、アクリロニト
リル、酢酸ビニルもしくはスチレンである請求の範囲第19項に記載の方法。 - 【請求項21】 エチレンもしくはプロピレンを単独重合させる方法である
請求の範囲第19項に記載の方法。 - 【請求項22】 エチレンをプロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−
メチルペンテン−1およびオクテンから選択される他の1−オレフィンと共重合
させる請求の範囲第19項に記載の方法。 - 【請求項23】 水素ガスを重合に添加して生成ポリマーの平均分子量を調
節する請求の範囲第19〜22項のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項24】 重合温度が50〜120℃の範囲であり、圧力が10〜5
0バールの範囲である請求の範囲第19〜23項のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項25】 重合条件が溶液相、スラリー相もしくは気相である請求の
範囲第19項に記載の方法。 - 【請求項26】 重合を気相流動床条件下で行う請求の範囲第19項に記載
の方法。 - 【請求項27】 揮発性液体を、この液体が床にて蒸発することにより床か
ら追加重合熱を吸収するような条件下で流動床に供給する請求の範囲第26項に
記載の方法。 - 【請求項28】 揮発性液体を熱交換器にて凝縮させる請求の範囲第27項
に記載の方法。 - 【請求項29】 前記揮発性液体を循環ガスから分離する請求の範囲第28
項に記載の方法。 - 【請求項30】 前記揮発性液体を床中に噴霧する請求の範囲第29項に記
載の方法。 - 【請求項31】 前記揮発性液体を循環ガスと共に床に循環させる請求の範
囲第28項に記載の方法。 - 【請求項32】 水素ガスを重合に添加して生成ポリマーの平均分子量を調
節する請求の範囲第26項に記載の方法。 - 【請求項33】 重合温度が50〜120℃の範囲であり、圧力が10〜5
0バールの範囲である請求の範囲第26項に記載の方法。 - 【請求項34】 Fe濃度がポリエチレン1,000,000重量部当たり
1.03〜0.11重量部のFeである窒素含有Fe錯体からなる触媒を含有す
ることを特徴とするポリエチレン粉末。 - 【請求項35】 触媒が請求の範囲第1〜16項のいずれか一項に記載の触
媒である請求の範囲第34項に記載のポリエチレン粉末。 - 【請求項36】 錯体が請求の範囲第1項に記載の式Bの窒素含有遷移金属
化合物から得られる請求の範囲第34項に記載のポリエチレン粉末。 - 【請求項37】 式B 【化6】 式B [式中、MはFe[II]、Fe[III]、Ru[II]、Ru[III]も
しくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有もしくはイオン結合した原子
もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であると共にbは原子もしくは基
Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4、およびR6は独立して水素、ハロ
ゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置
換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R5およびR7は独立して水素、ハロゲ
ン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換
ヘテロヒドロカルビルから選択される] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項38】 R1〜R4、R6およびR19〜R28が独立して水素お
よびC1〜C8ヒドロカルビルから選択される請求の範囲第37項に記載の窒素
含有遷移金属化合物。 - 【請求項39】 R1〜R4、R6およびR19〜R28が独立してメチル
、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ヘキシルおよびn−オクチルから選
択される請求の範囲第37項または第38項に記載の窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項40】 R5およびR7が独立してフェニル、1−ナフチル、2−
ナフチル、2−メチルフェニル、2−エチルフェニル、2,6−ジイソプロピル
フェニル、2,3−ジイソプロピルフェニル、2,4−ジイソプロピルフェニル
、2,6−ジ−n−ブチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,3−ジメ
チルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2−t−ブチルフェニル、2,6−
ジフェニルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,6−トリフルオロ
メチルフェニル、4−ブロモ−2,6−ジメチルフェニル、3,5−ジクロル−
2,6−ジエチルフェニルおよび2,6−ビス(2,6−ジメチルフェニル)フ
ェニル、シクロヘキシルおよびピリジニルから選択される請求の範囲第37項、
第38項または第39項に記載の窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項41】 錯体2,6−ジアセチルピリジンビス(2,4,6−トリ
メチルアニル)FeCl2。 - 【請求項42】 式Z: 【化7】 式Z [式中、MはFe[II]、Fe[III]、Co[I]、Co[II]、Co
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR19 〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができ;ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも
1つは環系PおよびQのいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルである] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項43】 R1〜R4、R6およびR19〜R28が独立して水素お
よびC1〜C8ヒドロカルビル、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、n−
ブチル、n−ヘキシルおよびn−オクチルから選択される請求の範囲第42項に
記載の窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項44】 R19およびR20の少なくとも一方、並びにR21およ
びR22の少なくとも一方がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒド
ロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され、さらに環系Pおよ
びQのいずれもポリ芳香族環系の1部を形成しない請求の範囲第42項に記載の
窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項45】 R19、R20、R21およびR22がそれぞれヒドロカ
ルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロ
カルビルから選択される請求の範囲第42項に記載の窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項46】 式T: 【化8】 式T [式中、MはFe[II]、Fe[III]、Co[I]、Co[II]、Co
[III]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]、Mn[IV]、Ru
[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有
もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であ
ると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1〜R4、R6およびR29 〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘ
テロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R 4 、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換
ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであ
れば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を
形成することができる] に示した骨格単位を含む窒素含有遷移金属化合物。 - 【請求項47】 次のような一般式E: 【化9】 式E [式中、R10、R11、R12およびR13は独立してC1〜C20炭化水素
基から選択され;R14、R15および式Eに示したピリジン環およびベンゼン
環における残余の全ての環置換基は独立して水素およびC1〜C20炭化水素基
から選択される] を有する化合物。 - 【請求項48】 次のような一般式P: 【化10】 式P [式中、R1〜R4、R6およびR29〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒ
ドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロ
ヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR29〜R32の2個も
しくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル
もしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合し
て1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することができる] を有する化合物。 - 【請求項49】 1−オレフィンを重合もしくは共重合させる触媒としての
請求の範囲第37〜48項のいずれか一項に記載の化合物の使用。
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