DE69518518T2 - Verfahren zur erzeugung von reaktiven spezies und seine verwendung - Google Patents
Verfahren zur erzeugung von reaktiven spezies und seine verwendungInfo
- Publication number
- DE69518518T2 DE69518518T2 DE69518518T DE69518518T DE69518518T2 DE 69518518 T2 DE69518518 T2 DE 69518518T2 DE 69518518 T DE69518518 T DE 69518518T DE 69518518 T DE69518518 T DE 69518518T DE 69518518 T2 DE69518518 T2 DE 69518518T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- wavelength
- reactive species
- specific sensitizer
- radiation
- photoreactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 120
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 73
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N dihydroxyacetone Chemical class OCC(=O)CO RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 47
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 34
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 34
- -1 nitrene Chemical class 0.000 claims description 34
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 30
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 26
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 16
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 9
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 claims description 8
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 4
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CMYKNVKCQCJOKO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-[2-[4-(3-oxobutyl)phenoxy]ethoxy]phenyl]propan-1-one Chemical group C1=CC(CCC(=O)C)=CC=C1OCCOC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 CMYKNVKCQCJOKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NYNCZOLNVTXTTP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(1,3-dioxoisoindol-2-yl)acetate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CC(=O)OCC)C(=O)C2=C1 NYNCZOLNVTXTTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- AODLDBUFTUGNEM-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-benzoylcyclohexyl)oxyphenyl]butan-2-one Chemical group C1=CC(CCC(=O)C)=CC=C1OC1CCC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)CC1 AODLDBUFTUGNEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 15
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical group CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- WQINSVOOIJDOLJ-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-dioxoisoindol-2-yl)acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CC(=O)O)C(=O)C2=C1 WQINSVOOIJDOLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009739 binding Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- VWMVAQHMFFZQGD-UHFFFAOYSA-N p-Hydroxybenzyl acetone Natural products CC(=O)CC1=CC=C(O)C=C1 VWMVAQHMFFZQGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- NJGBTKGETPDVIK-UHFFFAOYSA-N raspberry ketone Chemical compound CC(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 NJGBTKGETPDVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJAGVZWVOPODJZ-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(4-benzoylcyclohexyl)oxyphenyl]butan-2-one Chemical compound C1=CC(CC(=O)CC)=CC=C1OC1CCC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)CC1 ZJAGVZWVOPODJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOELQEYVJLFZLS-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-phenylbutan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 VOELQEYVJLFZLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxirane Chemical compound C1CO1.CCC(CO)(CO)CO RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANHQLUBMNSSPBV-UHFFFAOYSA-N 4h-pyrido[3,2-b][1,4]oxazin-3-one Chemical group C1=CN=C2NC(=O)COC2=C1 ANHQLUBMNSSPBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012958 Amine synergist Substances 0.000 description 1
- YQHHCMVUMULAPZ-UHFFFAOYSA-N C[CH2+] Chemical compound C[CH2+] YQHHCMVUMULAPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013175 Crataegus laevigata Nutrition 0.000 description 1
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N Cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229910021552 Vanadium(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 125000005399 allylmethacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000010113 energy transfer pathway Effects 0.000 description 1
- BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl prop-2-enoate Chemical class C=COC(=O)C=C BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012259 ether extract Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- JUHDUIDUEUEQND-UHFFFAOYSA-N methylium Chemical compound [CH3+] JUHDUIDUEUEQND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical group 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000006069 physical mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000003211 polymerization photoinitiator Substances 0.000 description 1
- WTXMTPLATLKWQS-UHFFFAOYSA-N propane Chemical compound CC[CH2+] WTXMTPLATLKWQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 238000006462 rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000028327 secretion Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229940080262 sodium tetrachloroaurate Drugs 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- JDHPYCPDPUCXHE-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 1-nitro-9-oxofluorene-4-carboperoxoate Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C2=C1C([N+]([O-])=O)=CC=C2C(=O)OOC(C)(C)C JDHPYCPDPUCXHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGQWBZUGSZVOOK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 9-oxofluorene-2-carboperoxoate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C3C2=C1 MGQWBZUGSZVOOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J vanadium tetrachloride Chemical compound Cl[V](Cl)(Cl)Cl JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/12—Layered products comprising a layer of synthetic resin next to a fibrous or filamentary layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/14—Polymers provided for in subclass C08G
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J4/00—Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2913—Rod, strand, filament or fiber
- Y10T428/2933—Coated or with bond, impregnation or core
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2913—Rod, strand, filament or fiber
- Y10T428/2933—Coated or with bond, impregnation or core
- Y10T428/2938—Coating on discrete and individual rods, strands or filaments
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31573—Next to addition polymer of ethylenically unsaturated monomer
- Y10T428/31587—Hydrocarbon polymer [polyethylene, polybutadiene, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31591—Next to cellulosic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/3188—Next to cellulosic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31909—Next to second addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31913—Monoolefin polymer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T442/00—Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
- Y10T442/20—Coated or impregnated woven, knit, or nonwoven fabric which is not [a] associated with another preformed layer or fiber layer or, [b] with respect to woven and knit, characterized, respectively, by a particular or differential weave or knit, wherein the coating or impregnation is neither a foamed material nor a free metal or alloy layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies. Die vorliegende Erfindung betrifft auch durch Strahlung angeregte Polymerisations- und Vernetzungsvorgänge. Zur besseren Handhabbarkeit dreht sich ein Großteil der folgenden Besprechung um freie Radikale als eine besonders kennzeichnende reaktive Spezies. Solch eine Besprechung darf jedoch nicht als den Geist oder den Umfang der vorliegenden Erfindung beschränkend ausgelegt werden.
- Polymere decken seit Langem wesentliche Bedürfnisse in unserer Gesellschaft. Viele Jahre wurden diese Bedürfnisse durch natürliche Polymere abgedeckt. In jüngerer Zeit spielen synthetische Polymere eine zunehmend größere Rolle, insbesondere seit dem Anfang des 20. Jahrhunderts. Besonders nützlich sind jene Polymere, die durch einen hinzufügenden Polymerisationsmechanismus zubereitet werden, d. h. durch Kettenpolymerisation nicht gesättigter Monomere mit Hilfe freier Radikale, und die hier nur beispielhaft angeführten Beschichtungen und Haftmittel. Tatsächlich beruht die Mehrheit der wirtschaftlich bedeutenden Verfahren auf der Chemie der freien Radikale. Das bedeutet, dass Kettenpolymerisation durch eine reaktive Spezies eingeleitet wird, die oft ein freies Radikal ist. Die Quelle der freien Radikale wird als ein Initiator oder Photoinitiator bezeichnet.
- Verbesserungen bei der Kettenpolymerisation mit Hilfe freier Radikale beschäftigen sich sowohl mit dem hergestellten Polymer als auch mit dem Photoinitiator.
- EP-0,375,160 offenbart polymerisierbare Mischungen mit freien Radikalen, die ein Sulfoniumsalz, das an zumin dest einen Elektronendonator und einen Sensibilisator angebunden ist, und ein polymerisierbares Monomer umfassen, das wesentlich verbesserte Lichtempfindlichkeit zeigt. Des Weiteren beschreibt das Dokument geschichtete Strukturen, die ein Substrat, das mit einer polymerisierbaren Mischung mit freien Radikalen beschichtet ist, die ein Sulfoniumsalz enthält, das wiederum an zumindest einen Elektronendonator und einen Sensibilisator angebunden ist, und polymerisierte geschichtete Strukturen umfassen. Dieses Dokument befaßt sich nicht mit Laminaten, Fasern oder Gewebebahnen.
- Ob ein bestimmtes ungesättigtes Monomer in ein Polymer umgewandelt werden kann, erfordert strukturelle, thermodynamische und kinetische Machbarkeit. Auch wenn alle drei Komponenten vorhanden sind, wird die kinetische Machbarkeit in vielen Fällen nur mit einer besonderen Art von Photoinitiator erzielt. Darüber hinaus kann der Photoinitiator eine deutliche Wirkung auf die Reaktionsrate haben, die wiederum ihrerseits den wirtschaftlichen Erfolg oder Mißerfolg eines bestimmten Polymerisationsvorgangs oder -produkts bestimmen kann.
- Ein Photoinitiator, der freie Radikale erzeugt, kann freie Radikale auf mehreren verschiedenen Wegen erzeugen. Zum Beispiel ergibt der thermische, homolytische Zerfall eines Initiators typischerweise zwei freie Radikale pro Initiatormolekül. Ein Photoinitiator, d. h. ein Initiator der Lichtenergie absorbiert, kann freie Radikale auf jedem von zwei Wegen herstellen:
- (1) der Photoinitiator wird der Anregung durch Energieaufnahme mit darauf folgender Zersetzung in ein oder mehrere Radikale unterworfen; oder
- (2) der Photoinitiator unterliegt der Anregung und die angeregte Spezies wirkt mit einem zweiten Bestandteil aufeinander ein (entweder durch Energieübergang oder eine Redox-Reaktion), um freie Radikale auf dem zweiteren und/oder ersteren Bestandteil zu bilden.
- [0007] Während jeder Kettenpolymerisationsvorgang mit freien Radikalen das Vorhandensein von Spezies, die vorzeitig die Polymerisationsreaktion beenden kann, vermeiden sollte, sorgen herkömmliche Photoinitiatoren für besondere Probleme. Zum Beispiel kann die Absorption des Lichts durch das Reaktionsmedium die Menge an Energie, die für die Absorption durch den Photoinitiator verfügbar ist, begrenzen. Auch kann die oft zueinander in Konkurrenz stehende und komplexe Kinetik, die hier im Spiel ist, eine nachteilige Wirkung auf die Reaktionsrate ausüben. Darüber hinaus strahlen im Handel erhältliche Strahlungsquellen wie Mittel- und Hochdruckquecksilber- und Xenonlampen über einen breiten Wellenlängenbereich ab, wodurch auch einzelne Abstrahlungsbänder von relativ niedriger Intensität bereitgestellt werden. Die meisten Photoinitiatoren absorbieren nur über einen kleinen Bereich der Emissionsspektren und als Folge daraus bleibt ein Großteil der Strahlung der Lampen ungenutzt. Zusätzlich weisen die meisten bekannten Photoinitiatoren eine nur mäßige Quantenausbeute (im Allgemeinen weniger als 0,4) bei diesen Wellenlängen auf, was darauf hinweist, dass die Umwandlung der Lichtstrahlung in Radikalenausbildung wirksamer sein könnte. Daher bestehend fortdauernd Gelegenheiten zur Verbesserung bei Polymerisationsphotoinitiatoren mit freien Radikalen.
- [0008] Die vorliegende Erfindung spricht einige der oben bespröchenen Schwierigkeiten und Probleme durch die Entdeckung eines wirksamen Verfahrens zur Ausnutzung von Strahlung an. Daher betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies, die das Bereitstellen eines wellenlängenspezifischen Sensibilisators, der an einen reaktive Spezies erzeugenden Photoini tiator kovalent gebunden ist, wobei der wellenlängenspezifische Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder ein phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat ist, und das Bestrahlen des wellenlängenspezifischen Sensibilisators umfasst. Solch ein Verfahren beinhaltet das wirkungsvolle Abstimmen der energieabsorbierenden Größe, hierin als ein polymolekularer Photoreaktor bezeichnet, um wirksam ein ausgestrahltes Strahlungsband auszunutzen. Der wellenlängenspezifische Sensibilisator absorbiert wirkungsvoll Photonen und überträgt die absorbierte Energie wirkungsvoll zum Photoinitiator, der seinerseits reine reaktive Spezies erzeugt. Der wellenlängenspezifische Sensibilisator ist so angepasst, dass er eine Absorptionsspitze aufweist, die im wesentlichen einem größten Emissionsband der Strahlungsquelle entspricht. Die vorliegende Erfindung betrifft des Weiteren Laminate, polymerumhüllte Fasern und polymerbeschichtete Bahnen, wobei der Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator umfasst, der an einen reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator kovalent gebunden ist.
- [0009] Die Zusammenfügung eines wellenlängenspezifischen Sensibilisators mit einem reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator ergibt eine Struktur, die hierin aus Gründen der Einfachheit als ein polymolekularer Photoreaktor bezeichnet wird. Daher kann das Verfahren der vorliegenden Erfindung als ein Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies beschrieben werden, das das einer Strahlung Aussetzen eines polymolekularen Photoreaktors umfasst, wobei der polymolekulare Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator mitumfasst, der einem reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator beigefügt ist.
- [0010] Die Strahlung, der der polymolekulare Photoreaktor ausgesetzt wird, weist im allgemeinen eine Wellenlänge von ungefähr 4 bis ungefähr 1000 Nanometer auf. Daher kann die Strahlung ultraviolette Strahlung sein, wobei mittleres Ultraviolett und fernes Ultraviolett oder Vakuumultraviolettstrahlung, sichtbare Strahlung und mittlere Infrarotstrahlung mitumfasst sind. Wünschenswerterweise weist die Strahlung eine Wellenlänge von ungefähr 100 bis ungefähr 900 Nanometer auf. Noch besser ist es, wenn es sich bei der Strahlung um Ultraviolettstrahlung handelt, z. B. Ultraviolettstrahlung mit einer Wellenlänge von ungefähr 100 bis ungefähr 375 Nanometer. Die Strahlung ist wünschenswerterweise inkohärente, gepulste Ultraviolettstrahlung von einer dielektrischen Sperrentladungsexcimerlampe.
- [0011] In seiner einfachsten Form besteht der polymolekulare Photoreaktor aus einem einwellenlängenspezifischen Sensibilisator, der an einen eine reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator gebunden ist. In diesem Fall ist der Photoreaktor ein bimolekularer Photoreaktor. Jedoch kann der Photoreaktor mehr als einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator und/oder mehr als einen reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator umfassen. Wenn der polymolekulare Photoreaktor ein bimolekularer oder ein trimolekularer Photoreaktor ist und die Strahlung, der er ausgesetzt wird, Ultraviolettstrahlung ist, dann enthält der bimolekulare oder trimolekulare Photoreaktor erstrebenswerterweise einen Benzoylanteil und einen Anteil, der entweder ein Phthalsäurederivat oder ein phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat ist.
- [0012] Die vorliegende Erfindung umfasst ebenfalls ein Verfahren zur Polymerisierung eines ungesättigten Monomers durch der Strahlung Aussetzen des ungesättigten Monomers bei Anwesenheit des oben beschriebenen wirkungsvollen polymolekularen Photoreaktors. Wenn eine ungesättigte Oligomer/Monomermischung anstatt des ungesättigten Monomers eingesetzt wird, wird Vernetzung erzielt.
- [0013] Fig. 1 ist eine schematische Darstellung der Excimerlampe, die in den Beispielen eingesetzt wird.
- [0014] Fig. 2 ist eine Serie von Ausdrucken der Konzentration von Kontrollphotoinitiator und polymolekularem Photoreaktor in einem Haftmittel über Durchhärtungszeiten (Strahlungseinwirkzeiten für vollständiges Aushärten) für zwei Kontrollphotoinitiatoren und vier polymolekularen Photoreaktoren der vorliegenden Erfindung.
- [0015] Fig. 3 umfasst Ausdrucke von Durchhärtungszeiten für einen Kontrollphotoinitiator und einen polymolekularen Photoreaktor der vorliegenden Erfindung bei einer konstanten Konzentration in einem Haftmittel über der Filmstärke.
- [0016] Der Begriff "Polymerisation" wird hierin so verwendet, dass er das Sich-Verbinden, d. h. kovalente Zusammenwachsen, einer großen Anzahl von kleineren Molekülen wie Monomere bedeutet, um sehr große Moleküle auszubilden, d. h. Makromoleküle oder Polymere. Die Monomere können sich so verbinden, um nur lineare Makromoleküle auszubilden, oder sie können sich so verbinden, um dreidimensionale Makromoleküle auszubilden, die üblicherweise als vernetzte Polymere bezeichnet werden.
- [0017] Wie hierin verwendet, bedeutet der Begriff "Vernetzen" die Polymerisation von funktionalen Oligomeren und Monomeren in ein vernetztes Polymernetzwerk. Daher ist Vernetzen die Polymerisation ungesättigter Monomere oder Oligomere unter Anwesenheit von Vernetzungsmitteln.
- [0018] Die Begriffe "ungesättigtes Monomer", "funktionales Oligomer" und "Vernetzungsmittel" werden hierin mit ihrer üblichen Bedeutung verwendet und werden von den Durchschnittsfachleuten auf diesem Gebiet richtig verstanden.
- Die Einzahlform jedes Begriffes umfasst beabsichtigterweise sowohl die Einzahl als auch die Mehrzahl, d. h. eines oder mehrere jedes entsprechenden Materials.
- [0019] Der Begriff "ungesättigtes polymerisierbares Material" umfasst beabsichtigterweise jedes ungesättigte Material, das geeignet ist, einer Polymerisation unterzogen zu werden. der begriff umfasst ungesättigte Monomere, Oligomere und Vernetzungsmittel. Wiederum soll die Einzahlform jedes Begriffes sowohl die Einzahl als auch die Mehrzahl umfassen.
- [0020] Der Begriff "wellenlängenspezifischer Sensibilisator" wird hierin so verwendet, dass er bedeutet, dass der Sensibilisator so angepasst ist, dass er ein Absorptionswellenlängenband aufweist, das im Wesentlichen einer Emissionsspitze der Strahlung entspricht. Sowohl der Sensibilisator als auch die Strahlung oder beide können mehr als ein Absorptionswellenlängenband beziehungsweise eine Emissionsspitze aufweisen. In dem Fall, in dem sowohl der Sensibilisator als auch die Strahlung mehr als ein Absorptionswellenlängenband und eine Emissionsspitze haben, braucht die allgemeine Entsprechung, die gerade beschrieben worden ist, nicht auf ein einziges Absorptionswellenlängenband und auf eine einzige Emissionsspitze beschränkt werden.
- [0021] Der Begriff "Quantenausbeute" wird hierin dazu verwendet, um den Wirkungsgrad eines photochemischen Vorgangs anzuzeigen. Insbesondere ist die Quantenausbeute ein Maß für die Wahrscheinlichkeit, dass ein bestimmtes Molekül eine Menge an Licht während seiner Wechselwirkung mit einem Proton absorbiert. Der Begriff drückt die Anzahl der photochemischen Ereignisse pro absorbiertem Proton aus. Daher können die Ausbeuten von null (keine Absorption) bis 1 schwanken.
- [0022] Der Begriff "reaktive Spezies" wird hierin so verwendet, dass er jede chemisch reaktive Spezies bedeutet, wobei, ohne auf sie beschränkt zu sein, freie Radikale, Kationen, Anionen, Nitrene und Carbene, umfaßt sind.
- [0023] Der Begriff "beimischen", wie er hierin verwendet wird, soll jedes Mittel umfassen, das dazu führt, dass sich der wellenlängenspezifische Sensibilisator und der reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator in ausreichend enger Nähe zueinander befinden, um die Übertragung der durch den Sensibilisator absorbierten Energie auf den Photoinitiator zu erlauben. Zum Beispiel können der wellenlängenspezifische Sensibilisator und der reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator fest miteinander oder mit einem Spacer-Molekül verbunden sein, wie hierin im Folgenden durch kovalente, Wasserstoff-, von der Waals- oder Ionenbindung beschrieben. Alternativ dazu können der Sensibilisator und der Photoinitiator physikalisch zusammengemischt werden.
- [0024] Das Verfahren der vorliegenden Erfindung umfasst das Erzeugen einer reaktiven Spezies durch das einer Strahlung Aussetzen eines polymolekularen Photoreaktors, wobei der polymolekulare Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator umfasst, der einem reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator beigemischt ist. In anderen Worten umfasst das Verfahren das Bereitstellen eines wellenlängenspezifischen Sensibilisators in Beimischung mit einem reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator und Bestrahlen des wellenlängenspezifischen Sensibilisators. Der Sensibilisator absorbiert Photonen, die eine bestimmte Wellenlänge aufweisen und überträgt die absorbierte Energie auf den Photoinitiator, welcher seinerseits eine reaktive Spezies erzeugt. Jedoch ist der Wirkungsgrad, mit dem eine reaktive Spezies erzeugt wird, deutlich größer als jener, der nur mit dem eine reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator allein gelingt. Zum Beispiel soll der gewünschte polymolekulare Photoreaktor eine Quantenausbeute größer als ungefähr 0,5 aufweisen. Besser soll die Quantenausbeute des polymolekularen Photoreaktors größer als ungefähr 0,6 sein. Noch besser soll die Quantenausbeute des polymolekularen Photoreaktors größer als ungefähr 0,7 sein. Wiederum noch besser soll die Quantenausbeute des polymolekularen Photoreaktors größer als ungefähr 0,8 sein, wobei die beste Quantenausbeute größer als ungefähr 0,9 sein sollte.
- [0025] Wie oben festgestellt, umfasst der polymolekulare Photoreaktor der vorliegenden Erfindung einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator in Beimischung mit einem reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator. Jeder wellenlängenspezifische Sensibilisator, der den Durchschnittsfachleuten der Technik bekannt ist, kann in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, wobei der wellenlängenspezifische Sensibilisator in dem Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies oder zur Polymerisierung eines ungesättigten polymerisierbaren Materials ein Phthalsäurederivat oder ein phenylaliphatisches Ketonderivat ist oder so angepasst ist, um ein Absorptionswellenlängenband aufzuweisen, das der Emissionsspitze der Strahlung in einem weiteren Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies oder zur Polymerisierung eines ungesättigten polymerisierbaren Materials entspricht. In ähnlicher Weise ist der wellenlängenspezifische Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder ein phenylaliphatisches Ketonderivat in einer vernetzbaren Haftmittelmischung nach der vorliegenden Erfindung. In ähnlicher Weise kann jeder reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator verwendet werden, der die gewünschte reaktive Spezies erzeugt. Beispiele von reaktiver Spezies umfassen freie Radikale, Carbene, Nitrene, Katione und Anione, wobei die Beispiele aber nicht darauf beschränkt sind. Im Folgenden sind Beispiele mehrerer solcher Spezies dargestellt.
- [0026] Beispiele für Carbene umfassen zum Beispiel Methylen oder Carben, Dichlorcarben, Diphenylcarben, Alkylcarbonylcarbene, Siloxycarbene und Dicarbene. Beispiele für Nitrene umfassen, auch wiederum nur beispielhaft, Nitren, Alkylnitrene und Arylnitrene. Katione (manchmal als Carbokationen oder Carbonium-Ione bezeichnet) umfassen, wiederum beispielhaft, primäre, sekundäre und tertiäre Alkylkatione wie das Methylkation, Ethylkation, Propylkation, t-butylkation, t-phenylkation, t-hexylkation; Allylkatione; Benzylkatione; Arylkatione wie Triphenylkation; Cyclopropylmethylkatione; Methoxymethylkation; Triarylsulphoniumkatione; und Acylkatione. Katione umfassen auch jene, die von verschiedenen Metallsalzen gebildet werden wie Tetra-nbutylammonium tetrahaloaurat(III)salze; Natriumtetrachloroaurat(III); Vanadiumtetrachlorid; und Silber, Kupfer(I) und (II) und Thallium(I)-triflate. Beispiele für Anione (manchmal als Carbonione bezeichnet) umfassen wiederum bloß als Beispiele Alkylanione wie Ethylanion, n-propylanion, Isobutylanion und Neopentylanion; Cycloalkylanione wie Cyclopropylanion, Cyclobutylanion und Cyclopentylanion; Allylanione; Benzylanione; Arylanione; und schwefel- oder phosphorhaltige Alkylanione. Schließlich umfassen Beispiele von organometallischen Photoinitiatoren Titanocene, fluorierte Diaryltitanocene, Eisenarencomplexe, Mangandecacarbonyl und Methylcyclopentadienylmangantricarbonyl. Organometallische Photoinitiatoren erzeugen im Wesentlichen freie Radikale oder Kationen.
- [0027] Die Arten der Reaktionen, in die verschiedene reaktive Spezies eintreten, umfassen, wiederum nicht beschränkend, Anlagerungsreaktionen, wobei Polymerisationsreaktionen mitumfasst sind; Absonderungsreaktionen; Umlagerungsreaktionen; Abspaltungsreaktionen, wobei Decarboxylationsreaktionen mitumfasst sind; Oxidations-Reduktions (Redox) Reaktionen; Austauschreaktionen; und Konjugations/Dekonjugationsreaktionen.
- [0028] Mit Bezug auf die freie Radikale erzeugenden Photoinitiatoren können diese Photoinitiatoren jeder der Photoinitiatoren sein, die den Durchschnittsfachleuten in der Technik bekannt sind. Die größte Gruppe der Photoinitiatoren sind Carbonylverbindungen wie Ketone, insbesondere αaromatische Ketone. Beispiele von α-aromatischen Ketonphotoinitiatoren umfassen, wiederum nur als Beispiele, Benzophenone; Xanthone und Thixanthone; α-ketocaumarine; Benzile; α-alkoxydeoxybenzoine; Benzilketale oder α,α-dialkoxydeoxybenzoine; Benzoyldialkylphosphonate; Acetophenone wie α-hydroxycyclohexylphenylketon, α,α-dimethyl-α-hydroxyacetophenon, α,α-dimethyl-α-morpholino-4-methylthioacetophenon, α-ethyl-α-benzyl-α-dimethylaminoacetophenon, α-ethylα-benzyl-α-dimethylamino-4-morpholinoacetophenon, α-ethylα-benzyl-α-dimethylamino-3,4-dimethoxyacetophenon, α-ethylα-benzyl-α-dimethylamino-4-methoxyacetophenon, α-ethyl-αbenzyl-α-dimethylamino-4-dimethylaminoacetophenon, α-ethylα-benzyl-α-dimethylamino-4-methylacetophenon, α-ethyl-α-(2- propenyl)-α-dimethylamino-4-morpholinoacetophenon, α,αbis(2-propenyl)-α-dimethylamino-4-morpholinoacetophenon, αmethyl-α-benzyl-α-dimethylamino-4-morpholinoacetophenon und amethyl-α-(2-propenyl)-α-dimethylamino-4-morpholinoacetophenon; α,α-dialkoxyacetophenone; α-hydroxyalkylphenone; O- acryl α-oximinoketone; Acylphosphinoxide; Fluorenone wie Fluorenon, 2-t-butylperoxicarbonyl-9-fluorenon, 4-t-butylperoxicarbonylnitro-9-fluorenon und 2,7-di-t-butylperoxicarbonyl-9-fluorenon; und α- und β-naphthylcarbonylverbindungen. Andere freie Radikale erzeugende Photoinitiatoren umfassen wiederum nur beispielhaft Triarylsilylperoxide wie Triarylsilyln t-butylperoxide; Acylsilane und einige organometallische Verbindungen. Der gewünschte freie Radikale erzeugende Initiator ist ein Acetophenon.
- [0029] Der andere Bestandteil des polymolekularen Photoreaktors ist ein wellenlängenspezifischer Sensibilisator. Solche Sensibilisatoren sind im Wesentlichen Verbindungen, die, wenn sie dem reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator beigemischt sind, Photonen absorbieren, die eine spezifische Wellenlänge aufweisen, und die absorbierte Energie auf den Photoinitiator übertragen. In einem Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies, in einem Verfahren zur Polymerisation eines ungesättigten polymerisierbaren Materials und in der vernetzbaren Haftmittelmischung nach der vorliegenden Erfindung werden zwei Klassen von Verbindungen als wellenlängenspezifische Sensibilisatoren verwendet, nämlich Phthalsäurederivate und phenylsubstituierte aliphatische Ketone. Ein besonders nützliches Beispiel jeder Klasse sind entsprechend zugeordnet Phthaloylglyzin und 4- (4-hydroxyphenyl)butan-2-on. In einem weiteren Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies und in einem weiteren Verfahren der Polymerisation eines ungesättigten polymerisierbaren Materials ist der wellenlängenspezifische Sensibilisator so angepasst, um ein Absorptionswellenlängenband aufzuweisen, das der Emissionsspitze der Bestrahlung entspricht.
- [0030] Wie oben festgestellt, umfasst der polymolekulare Photoreaktor der vorliegenden Erfindung einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator, der kovalent an einen reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator gebunden ist.
- [0031] Wünschenswerterweise ist der reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator der vorliegenden Erfindung 2-[p-(2- methyllactoyl)phenoxy]ethyl 1,3-dioxo-2-isoindolinazetat, das die folgende Struktur aufweist:
- [0032] In einer anderen Ausführungsform ist der wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator gebunden ist, wünschenswerterweise 2-hydroxy-2-methyl-4'-[2-[p-(3-oxobutyl)phenoxy]ethoxy]propiophenon, das die folgende Struktur aufweist:
- [0033] In wieder einer anderen Ausführungsform ist der wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator gebunden ist, wünschenswerterweise 4-[p-[(4-benzoylcyclohexyl)oxy]phenyl]-2-butanon, das die folgende Struktur aufweist:
- [0034] In noch einer anderen Ausführungsform ist der wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator gebunden ist, wünschenswerterweise 1,3-dioxo-2-isoindolinazetatsäurediester mit 2- hydroxy-4'-(2-hydroyethoxy)-2-methylpropiophenon mit der folgenden Struktur:
- [0035] Wie bereits früher angeführt, ist der wellenlängenspezifische Sensibilisator so angepasst, um ein Wellenlängenabsorptionsband aufzuweisen, das im wesentlichen einer Emissionsspitze der Strahlung entspricht. Zusätzlich weist der wellenlängenspezifische Sensibilisator eine hohe Absorptionsintensität auf. Zum Beispiel kann der wellenlängenspezifische Sensibilisator einen molaren Schwächungs koeffizienten von größer als ungefähr 5.000 Liter pro Mol pro cm (1 mol&supmin;¹ cm&supmin;¹) als ein Absorptionsmaximum besitzen. Als ein anderes Beispiel kann der wellenlängenspezifische Sensibilisator einen molaren Schwächungskoeffizienten (Absorptionsvermögen) von größer als ungefähr 10.000 l mol&supmin;¹ cm&supmin;¹ besitzen. Als ein weiteres Beispiel kann der wellenlängenspezifische Sensibilisator einen molaren Schwächungskoeffizienten von größer als ungefähr 20.000 l mol&supmin;¹cm&supmin;¹ aufweisen.
- [0036] Die Absorptionsmerkmale des wellenlängenspezifischen Sensibilisators sind nicht auf ein einzelnes Wellenlängenband beschränkt. Viele Mischungen bringen mehr als ein Absorptionswellenlängenband hervor. Folglich kann ein wellenlängenspezifischer Sensibilisator eingestellt werden, um zwei oder mehr Wellenlängenbänder an Strahlung zu absorbieren. Alternativ können zwei oder mehr wellenlängenspezifische Sensibilisatoren mit einem reaktive Spezies erzeugenden Photoreaktor zusammengefügt werden. Solche zwei oder mehr wellenlängenspezifische Sensibilisatoren können dasselbe Wellenlängenband absorbieren oder sie können zwei oder mehr verschiedene Wellenlängenbänder an Strahlung absorbieren.
- [0037] In der Ausführungsform, in der der wellenlängenspezifische Sensibilisator an den reaktive Spezies erzeugenden Photoreaktor gebunden ist, kann jedes geeignete Verfahren, das in der Technik bekannt ist, eingesetzt werden, um den Sensibilisator an den Photoinitiator fest zu binden. Die Auswahl eines solchen Verfahrens hängt von den funktionalen Gruppen ab, die im Sensibilisator und im Photoinitiator vorhanden sind, und wird leicht von Durchschnittsfachleuten in diesem Gebiet der Technik getroffen werden. Solch ein festes Verbinden kann mittels funktionaler Gruppen, die bereits in den zu verbindenden Molekülen vorhanden sind, indem eine oder mehrere funktionale Gruppen in andere funktionale Gruppen überführt werden, oder durch ein oder mehrere Spacer-Moleküle erreicht werden. Der Begriff "Spacer-Molekül" wird hierin so verwendet, dass er jedes Molekül bezeichnet, das im Bindungsvorgang hilft. Zum Beispiel kann ein Spacer-Molekül in der Bindungsreaktion durch Entspannen der sterischen Hinderung beistehen. Alternativ kann ein Spacer-Molekül den Einsatz von reaktiveren oder besser geeigneten funktionalen Gruppen zulassen, was von den im Sensibilisator und im Photoinitiator vorhandenen funktionalen Gruppen abhängt. Es wird in Erwägung gezogen, dass ein Spacer-Molekül beim Energieübergang vom Sensibilisator auf den Photoinitiator behilflich sein kann, entweder indem es eine günstigere Angleichung erlaubt oder indem es einen günstigeren Energieübertragungsweg bereitstellt.
- [0038] Das der Strahlung Aussetzen des polymolekularen Photoreaktors führt zur Erzeugung einer reaktiven Spezies. Daher kann der polymolekulare Photoreaktor in jeder Situation eingesetzt werden, wo eine reaktive Spezies erforderlich ist, so wie für die Polymerisation eines ungesättigten Monomers und die Vernetzung eines ungesättigten Oligomer/Monomergemisches. Die ungesättigten Monomere und Oligomere können beliebige aus den den Durchschnittsfachleuten auf diesem Gebiet bekannten sein. Zusätzlich können die Polymerisations- und Vernetzungsmedien auch je nach Wunsch andere Materialien wie Pigmente, Streckmittel, Aminsynergisten und andere solche Zusätze umfassen, wie sie den Durchschnittsfachleuten auf diesem technischen Gebiet gut bekannt sind.
- [0039] Nur zum Zwecke der Veranschaulichung umfassen Beispiele von ungesättigten Monomeren und Oligomeren Ethylen; Propylen; vinylchloriertes Isobutylen; Styren; Isopren; Acrylnitril; acrylsaure methacyclische Säure; Ethylacrylat; Methylmetaacrylat; Vinylacrylate; Allylmethacrylate; Tripropylenglykoldiacrylat; Trimethylolpropanethoxylat- acrylat; Epoxyacrylate wie das Reaktionsprodukt eines Bisphenol-A-Epoxids mit Acrylsäure; Polyesteracrylate wie das Reaktionsprodukt von Acrylsäure mit einem auf Adipinsäure/Hexanediol basierenden Polyester; Urethanacrylate wie das Reaktionsprodukt von Hydroxypropylacrylat mit Diphenylmethan-4,4'-diisocyanyt; und Polybutadiendiacrylatoligomer.
- [0040] Wie bereits festgestellt, weist die Strahlung, der der polymolekulare Photoreaktor ausgesetzt wird, eine Wellenlänge von ungefähr 4 bis 1000 Nanometer auf. Daher kann die Strahlung Ultraviolettstrahlung sein, wobei mittleres Ultraviolett und fernes Ultraviolett oder Vakuumultraviolettstrahlung, sichtbare Strahlung und mittlere Infrarotstrahlung mitumfasst sind. Wünschenswerterweise weist die Strahlung eine Wellenlänge von ungefähr 100 bis ungefähr 900 Nanometer auf. Besser ist es, wenn die Strahlung eine Wellenlänge von ungefähr 100 bis 700 Nanometer aufweist.
- [0041] Wenn der reaktive Spezies erzeugende Photoinitiator eine organische Verbindung ist, dann ist die Strahlung wünschenswerterweise Ultraviolettstrahlung mit einer Wellenlänge von ungefähr 4 bis 400 Nanometer. Noch besser ist, wenn die Strahlung eine Wellenlänge von ungefähr 100 bis ungefähr 375 Nanometer aufweist, und noch besser sollte die Strahlung eine Wellenlänge von 200 bis ungefähr 370 Nanometer aufweisen. Zum Beispiel kann die Strahlung eine Wellenlänge von ungefähr 222 bis ungefähr 308 Nanometer aufweisen. Die Strahlung ist wünschenswerterweise inkohärente, gepulste Ultraviolettstrahlung von einer dielektrischen Sperrentladungsexcimerlampe.
- [0042] Wenn der wellenlängenspezifische Sensibilisator eine organometallische Verbindung ist, weist die Strahlung wünschenswerterweise eine Wellenlänge von ungefähr 4 bis ungefähr 1000 Nanometer auf. Besser ist es, die Strahlung weist eine Wellenlänge von ungefähr 700 bis ungefähr 900 Nanometer auf. Noch besser weist die Strahlung eine Wellenlänge von ungefähr 785 bis ungefähr 825 Nanometer auf. Am besten ist es, die Strahlung weist eine Wellenlänge von ungefähr 800 Nanometer auf.
- [0043] Dielektrische Sperrentladungsexcimerlampen (hierin im Folgenden auch als "Excimerlampen" bezeichnet) werden zum Beispiel in U. Kogelschatz, "Silent discharges of the generation of ultraviolet and vacuum ultraviolet excimer radiation. Pure&Appl.Chem., 62, Nr. 9, pp. 1667-1674 (1990); und E. Eliasson und U. Kogelschatz, "UV Excimer Radiation from Dielectric-Barrier Discharges." Appl. Phys. B. 46, pp. 299-303 (1988) beschrieben. Excimer Lampen werden von ABB Infocom GmbH, Lenzburg, Schweiz entwickelt und sind zur Zeit von Heraeus Noblelight GmbH, Kleinostheim, Deutschland vertrieben.
- [0044] Die Excimerlampe strahlt inkohärente, gepulste Ultraviolettstrahlung aus. Solche Strahlung weist eine relativ enge Bandbreite auf, d. h. die halbe Breite liegt in der Größenordnung von ungefähr 5 bis 100 Nanometer. Wünschenswerterweise weist die Strahlung eine Halbbreite in der Größenordnung von ungefähr 5 bis 50 Nanometer auf und noch besser eine Halbbreite in der Größenordnung von 5 bis 25 Nanometer. Am besten liegt die Halbbreite in der Größenordnung von 5 bis 15 Nanometer.
- [0045] Die Ultraviolettstrahlung, die von der Excimerlampeausgestrahlt wird, kann in einer Mehrzahl von Wellenlängen ausgestrahlt werden, wobei eine oder mehrere der Wellenlängen innerhalb des Bandes mit einer maximalen Intensität ausgestrahlt werden. Dementsprechend erzeugt eine Aufzeichnung der Wellenlänge in dem Band in Bezug auf die Intensität jeder Wellenlänge im Band eine Glockenkurve. Die "halbe Breite" des Bereichs der Ultraviolettstrahlung, die durch die Excimerlampe ausgestrahlt wird, wird als die Breite der Glockenkurve bei 50% der größten Höhe der Glockenkurve festgelegt.
- [0046] Die ausgestrahlte Strahlung einer Excimerlampe ist inkohärent und gepulst, die Frequenz der Pulse hängen von der Frequenz der Wechselstromversorgungsquelle ab, die üblicherweise in einem Bereich von ungefähr 20 bis ungefähr 300 kHz liegt. Eine Excimerlampe wird typischerweise durch die Wellenlänge gekennzeichnet oder bezeichnet, bei der die größte Intensität der Strahlung auftritt, wobei dieser Übereinkunft in dieser Beschreibung und in den Ansprüchen gefolgt wird. Daher ist im Vergleich zu den meisten anderen wirtschaftlich nutzbaren Quellen von Ultraviolettstrahlung, die typischerweise über das gesamte Ultraviolettspektrum und sogar in den sichtbaren Bereich hinein emittieren, die Strahlung von Excimerlampen im Wesentlichen monochromatisch.
- [0047] Excimer sind unstabile, im Anregungszustand befindliche Molekularkomplexe, die nur unter extremen Bedingungen auftreten, wie dies jene sind, die in besonderen Arten von Gasentladungen vorübergehend bestehen. Typische Beispiele sind die Molekularbindungen zwischen zwei gasförmigen Edelgasatomen oder zwischen einem Edelgasatom und einem Halogenatom. Excimerkomplexe spalten sich innerhalb weniger als einer Mikrosekunde und setzen, während sie sich trennen, ihre Bindungsenergie in der Form von ultravioletter Strahlung frei. Dielektrische Sperrexcimer strahlen im Wesentlichen im Bereich von ungefähr 125 nm bis ungefähr 500 nm aus, was von der Excimergasmischung abhängt.
- [0048] Daher stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Erzeugen einer reaktiven Spezies durch einer Strahlung Aussetzen eines polymolekularen Photoreaktors bereit, in welchem der polymolekulare Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator in Zusammenfügung mit einem reaktive Spezies erzeugenden Photoinitiator umfasst. Auch kann, wie oben festgestellt, der polymolekulare Photoreaktor in jeder Situation eingesetzt werden, wo reaktive Spezies erforderlich sind, wie dies für die Polymerisation eines ungesättigten Monomers und das Vernetzen eines ungesättigten Oligomer/Monomergemischs der Fall ist.
- [0049] Insbesondere stellt die vorliegende Erfindung auch ein Verfahren zur Polymerisierung eines ungesättigten polymerisierbaren Materials bereit, umfassend das Beimischen des polymolekularen Photoreaktors der vorliegenden Erfindung zu ungesättigtem polymerisierbarem Material und Bestrahlen der Beimischung. Wünschenswerterweise wird die Beimischung mit Strahlung mit einer Wellenlänge von ungefähr 4 bis ungefähr 1000 Nanometer bestrahlt. Das ungesättigte polymerisierbare Material, der polymolekulare Photoreaktor und die Strahlung, die in dem Verfahren zur Polymerisierung eines ungesättigten polymerisierbaren Materials verwendet werden können, sind in vollem Umfang oben beschrieben worden. In einer Ausführungsform ist das ungesättigte polymerisierbare Material eine ungesättigte Oligomer/Monomermischung.
- [0050] Die vorliegende Erfindung stellt des Weiteren eine Klebemischung, die den polymolekularen Photoreaktor der vorliegenden Erfindung umfasst, und ein ungesättigtes polymerisierbares Material bereit, das durch Strahlungsaussetzung vernetzbar ist. In ähnlicher Weise stellt die vorliegende Erfindung auch eine beschichtete Struktur bereit, die zumindest zwei Schichten umfasst, die mit der Klebemischung der vorliegenden Erfindung zusammengeklebt sind, von denen zumindest eine Schicht ein Zellstoff- oder Polyolefinvlies bzw. -film ist und wobei die Klebemischung durch Strahlungsaussetzung vernetzt worden ist. Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zum Laminieren einer Struktur bereit, die zumindest zwei Schichten umfasst, von denen zumindest eine Schicht ein Zellulose- oder Polyolefinvlies oder -film ist, mit der Klebemischung der vorliegenden Erfindung zwischen den Schichten, durch Bestrahlen der Klebemischung, um die Klebemischung zu vernetzen. Das ungesättigte polymerisierbare Material, der polymolekulare Photoreaktor und die Strahlung, die in dieser Ausführungsform verwendet werden, sind oben in vollem Umfang beschrieben.
- [0051] Die vorliegende Erfindung stellt auch eine polymerbeschichtete Faser bereit, die durch Beschichten einer Faser mit einer Mischung, die eine Beimischung von ungesättigtem polymerisierbarem Material und dem polymolekularen Photoreaktor der vorliegenden Erfindung umfasst, und durch Bestrahlen der Beschichtung auf der Faser mit einer Menge an Strahlung, die ausreicht, um die Mischung zu vernetzen, hergestellt wird. In einer Ausführungsform ist das ungesättigte polymerisierbare Material ein ungesättigtes Oligomer/Monomergemisch. Die vorliegende Erfindung stellt ebenfalls ein Verfahren zum Beschichten einer Faser bereit, die das Beschichten einer Faser mit einer Mischung, die eine Beimischung aus ungesättigtem polymerisierbarem Material und dem polymolekularen Photoreaktor der vorliegenden Erfindung umfasst, und das Bestrahlen der Beschichtung auf der Faser mit einer Menge an Strahlung, die ausreicht, um die Mischung zu vernetzen, umfasst. In einer Ausführungsform ist das ungesättigte polymerisierbare Material ein ungesättigtes Oligomer/Monomergemisch. Das ungesättigte polymerisierbare Material, der polymolekulare Photoreaktor, die Strahlung, die in dieser Ausführungsform verwendet werden, sind oben in vollem Umfang beschrieben.
- [0052] Die vorliegende Erfindung stellt des Weiteren eine polymerbeschichtete Bahn bereit, das durch Beschichten einer Bahn mit einer Mischung, die eine Beimischung aus ungesättigtem polymerisierbarem Material und dem polymolekularen Photoreaktor der vorliegenden Erfindung umfasst, und durch Bestrahlen der Beschichtung auf der Bahn mit einer Menge an Strahlung, die ausreicht, um die Mischung zu vernetzen, hergestellt wird. Die vorliegende Erfindung stellt auch ein Verfahren zur Beschichtung einer Bahn bereit, das das Beschichten einer Bahn mit einer Mischung, die eine Beimischung aus ungesättigtem polymerisierbarem Material und dem polymolekularen Photoreaktor der vorliegenden Erfindung umfasst, und das Bestrahlen der Beschichtung auf der Bahn mit einer Menge an Strahlung, die ausreicht, um die Mischung zu vernetzen, umfasst.
- [0053] Es versteht sich von selbst, dass das polymerisierbare Material, dem der polymolekulare Photoreaktor der vorliegenden Erfindung beigemischt wird, mit jedem Mittel, das in der Technik bekannt ist, beigemischt werden kann und dass die Mischung mit einer Menge an Strahlung bestrahlt wird, die ausreicht, um das Material zu polymerisieren. Die Menge an Strahlung, die ausreicht, um das Material zu polymerisieren, ist leicht von jemandem mit gewöhnlichen Kenntnissen in der Technik bestimmbar und hängt von der Art und der Menge des polymerisierbaren Materials, der Intensität und der Wellenlänge der Strahlung und der Dauer der Strahlungsaussetzung ab.
- [0054] Es versteht sich ebenfalls von selbst, dass das Polymerbeschichten auf einer Bahn oder Faser jede gewünschte Dicke durch die Dicke der aufgebrachten Beimischung annehmen kann, solange die Mischung ausreichend bei Strahlenaussetzung polymerisiert. Jedes in der Technik bekannte Verfahren kann eingesetzt werde, um eine Bahn oder Faser mit der Beimischung der vorliegenden Erfindung zu beschichten.
- [0055] Der Begriff "Faser", wie er hierin verwendet wird, bezeichnet eine fadenförmige Struktur. Die Fasern, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, können beliebige in der Technik bekannte sein. Die Begriffe "Bahn" oder "Vliesbahn" werden austauschbar verwendet, um eine bahnartige Sache zu bezeichnen, die aus einer oder mehreren überlappenden oder miteinander verbundenen Fasern in einer nicht gewebten Weise besteht. Es versteht sich von selbst, dass alle in der Technik bekannten Vliesfasern in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können.
- [0056] Mit Bezug auf die laminierten Strukturen der vorliegenden Erfindung versteht es sich von selbst, dass jede Art Schicht in der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, unter der Bedingung, dass zumindest eine der Schichten genügend Strahlung durch die Schicht hindurch eindringen lässt, um es der Beimischung zu ermöglichen ausreichend zu polymerisieren. Dementsprechend können alle Zellulose- oder Polyolefinvliesbahnen oder -filme, die in der Technik bekannt sind, als eine der Schichten verwendet werden, solange sie Strahlung hindurchgehen lassen. Wiederum ist die Menge an Strahlung, die ausreicht, um die Beimischung zu polymerisieren, leicht von jemandem mit gewöhnlichen Kenntnissen in der Technik bestimmbar und hängt von der Art und der Menge der Photoreaktorzusammensetzung, von der Art und der Menge des polymerisierbaren Materials, der Art und Dicke der Schicht, der Intensität und der Wellenlänge der Strahlung und der Dauer der Strahlungsaussetzung ab.
- [0057] Die vorliegende Erfindung ist des Weiteren durch die Beispiele, die folgen, beschrieben. Solche Beispiele dürfen jedoch nicht als in irgendeiner Weise als beschränkend in Bezug auf den Geist und den Umfang der vorliegenden Erfindung angesehen werden. In den Beispielen sind alle Teile mit ihrem Gewicht angegeben, außer es ist anders festgestellt.
- [0058] Dieses Beispiel beschreibt die Zubereitung des bimolekularen Photoreaktors 2-[p-(2-methyllactoyl)phenoxy]ethyl 1,3-dioxo-2-isoindolinazetat.
- [0059] Ein 250 ml, dreihälsiger Glaskolben mit rundem Boden wurde mit einer Dean-and-Stark Vorrichtung mit Kondensator und zwei Glasstöpseln ausgerüstet. Der Glaskolben wurde mit 20,5 g (0,1 mol) Phthaloylgyclin (Aldrich Chemical Company, Milwaukee, Wisconsin), 24,6 g (0,1 mol) IRGACURE® 2959 (α,α-dimethyl-α-hydroxy-4(2-hydroxyethoxy)acetophenon, Ciba-Geigy Corporation, Hawthorne, New York), 100 ml Benzen (Aldrich) und 0,4 g p-toluensulfonsäure (Aldrich) beladen. Die sich ergebende Mischung wurde auf Rückflusstemperatur über drei Stunden erhitzt, wonach 1,8 ml (0,1 mol) Wasser in der Dean-and-Stark Vorrichtung gesammelt wurden. Das Lösungsmittel wurde entfernt, um 43,1 g weißen Pulvers zu gewinnen. Das Pulver wurde aus 30 Volumsprozent Ethylazetat in Hexan (Fisher Scientific, Pittsburgh, Pennsylvania) rekristallisiert, um 40,2 g (93 Prozent Ausbeute) eines weißen kristallinen Pulvers mit einem Schmelzpunkt von 153 - 4ºC zu ergeben.
- [0060] Die erwartete Struktur wurde durch Infrarot- und Nuklearmagnetresonanzanalysen verifiziert. Das Infrarotspektrum des Pulvers wurde als ein Nujol-Mull erzielt und zeigte Absorptionsspitzen bei 3440, 1760, 1680 und 1600 cm&supmin;¹. Die Nuklearmagnetresonanzdaten für das Pulver waren wie folgt:
- ¹HNMR (CDCl&sub3;): 1,64 (s), 4,25 (m), 4,49 (m), 6,92 (m), 7,25 (m), 7,86 (m), 7,98 (m), 8,06 (m) ppm.
- [0061] Dieses Beispiel beschreibt die Zubereitung des bimolekularen Photoreaktors 2-hydroxy-2-methyl-4'-[2-[p-(3- oxobutyl)phenoxy]ethoxy]propiophenon. Die Zubereitung erfolgte in zwei Schritten,
- [0062] Ein 100 ml Glaskolben mit rundem Boden wurde mit 24,6 g (0,1 mol) IRGACURE® 2959, 20 ml Toluen (Aldrich), 11,9 g (0,1 mol) Thionylchlorid (Aldrich) und 0,5 ml Pyridin (Aldrich) beladen. Der Glaskolben wurde mit einem Kondensator ausgerüstet und die Reaktionsmischung wurde auf Rückflusstemperatur über zwei Stunden erhitzt. Das Lösungsmittel wurde durch Destillation bei vermindertem Druck (0,1 Torr) entfernt, um einen farblosen Feststoff zu gewinnen, der ohne Reinigung verwendet wurde.
- [0063] Einem 250 ml, dreihälsigen Glaskolben mit rundem Boden, der mit einem Kondensator und einer Magnetrührstange ausgerüstet war, wurden 17,6 g (0,1 mol) 4-(4-hydroxyphenyl)butan-2-on (Aldrich) das chlorsubstituierte IRGACURE® 2959 (α,α-dimethyl-α-hydroxy-4(2-hydroxyethoxy)acetophenon), zubereitet wie oben beschrieben, 1,0 ml Pyridin und 100 ml wasserfreies Tetrahydrofuran (Aldrich) hinzugefügt. Die Mischung wurde bei Rückflusstemperatur drei Stunden erhitzt und das Lösungsmittel wurde dann teilweise (ungefähr 60 Volumsprozent) unter verringertem Druck entfernt. Die verbleibende Mischung wurde in Eiswasser geleert und zwei 50-ml-Aliquot restlos Diethylether (Aldrich) extrahiert. Die Etherextrakte wurden verbunden und über wasserlosem Magnesiumsulfat getrocknet. Die Entfernung des Lösungsmittels ließ 39,1 g eines weißen Feststoffs zurück. Rekristallisation des Feststoffs, wie in Beispiel 1 beschrieben, ergab 36,7 g (91 Prozent Ausbeute) eines weißen kristallinen Pulvers mit einem Schmelzpunkt von 142 3ºC.
- [0064] Die erwartete Struktur wurde durch Infrarot- und Nuklearmagnetresonanzanalysen verifiziert. Das Infrarotspektrum des Pulvers wurde als ein Nujol-Mull erzielt und zeigte Absorptionsspitzen bei 3460, 1740, 1700, 1620 und 1600 cm&supmin;¹. Die Nuklearmagnetresonanzdaten für das Pulver waren wie folgt:
- ¹HNMR (CDCl&sub3;): 1,62 (s), 4,2 (m), 4,5 (m), 6,9 (m) ppm.
- [0065] Dieses Beispiel beschreibt die Zubereitung des bimolekularen Photoreaktors [p-[(4-benzoylcyclohexyl)oxy]phenyl]-2-butanon.
- [0066] Einem 250 ml, zweihälsigen Glaskolben mit rundem Boden, der mit einem Kondensator und einem Stöpsel ausgerüstet war, wurden 20,4 g (0,1 mol) IRGACURE® 184 (Ciba- Geigy) und 100 ml wasserfreies Tetrahydrofuran hinzugefügt. Die Mischung wurde gerührt und auf Eis/Salzbadtemperatur gekühlt, während der Glaskolben mit Argon gespült wurde. Der sich ergebenden Lösung wurde langsam 20,0 g (0,15 mol) Aluminiumchlorid (Aldrich) über eine 40-minütige Zeitspanne hinweg hinzugefügt. Die sich ergebende Mischung wurde 20 zusätzliche Minuten gerührt. Der Mischung wurde dann 17,6 g (0,1 mol) 4-(4-hydroxyphenyl)butan-2-on hinzugefügt. Die neue Mischung wurde über Nacht gerührt, während sie sich auf die Umgebungstemperatur erwärmen durfte. Die Reaktionsmischung wurde dann in Eiswasser geleert und mit drei 50-ml Portionen Diethylether extrahiert. Entfernung des Ethers ergab 34,1 g weißen Feststoffs. Rekristallisation des Feststoffs von einem 10 volumsprozentigen Ethylazetat in Hexan ergab 30,2 g (83 Prozent) weißen kristallinen Pulvers mit einem Schmelzpunkt von 136 - 8ºC.
- [0067] Die erwartete Struktur wurde durch Infrarot- und Nuklearmagnetresonanzanalysen verifiziert. Das Infrarotspektrum des Pulvers wurde als ein Nujol-Mull erzielt und zeigte Absorptionsspitzen bei 1760, 1740, 1620 und 1600 cm&supmin;¹. Die Nuklearmagnetresonanzdaten für das Pulver waren wie folgt:
- ¹HNMR (CDCl&sub3;): 2,10 (s), 2,70 (m), 6,80 (m), 6,92 (m), 8,42 (m) ppm.
- [0068] Dieses Beispiel beschreibt die Zubereitung des trimolekularen Photoreaktors 1,3-dioxo-2-isoindolinazetatsäurediester mit 2-hydroxy-4'-(2-hydroyethoxy)-2-methylpropiophenon.
- [0069] Ein 250 ml, zweihälsiger Glaskolben mit rundem Boden wurde mit einem Kondensator und mit einer Dean-and-Stark Vorrichtung ausgerüstet. Der Glaskolben wurde mit 41,0 g (0,2 mol) Phthaloylgyclin, 24,6 g (0,1 mol) IRGACURE® 2959, 100 ml Benzen und 3 ml konzentrierter Schwefelsäure (Fisher) beladen. Die Mischung wurde auf Rückflusstemperatur drei Stunden lang erhitzt, wonach sich 3,6 ml (0,2 mol) Wasser in der Dean-and-Stark Vorrichtung angesammelt hatten. Das Lösungsmittel wurde aus der Reaktionsmischung entfernt, um 61,8 g eines Feststoffs zu ergeben. Das Material wurde rekristallisiert, wie in Beispiel 1 beschrieben, um 57,6 g (93 Prozent) an Produkt mit einem Schmelzpunkt von 168 - 9ºC zu ergeben.
- [0070] Die erwartete Struktur wurde durch Infrarot- und Nuklearmagnetresonanzanalysen verifiziert. Das Infrarotspektrum des Pulvers wurde als ein Nujol-Mull erzielt und zeigte Absorptionsspitzen bei 1760, 1740, 1620 und 1600 cm&supmin;¹. Die Nuklearmagnetresonanzdaten für das Pulver waren wie folgt:
- ¹HNMR (CDCl&sub3;): 1,64 (s), 4,25 (m), 4,49 (m), 6,91 (m), 7,30 (m), 7,84 (m), 98 (m) 8,06 (m) ppm.
- [0071] Dieses Beispiel beschreibt die Bewertung des Vernetzungsverhaltens der Haftmittel, die die polymolekularen Photoreaktoren der Beispiele 1-4 einschließlich enthalten, wobei sie der ultravioletten Strahlung einer Excimerlampe ausgesetzt wurden.
- [0072] Eine Excimerlampe, die im Wesentlichen so gestaltet ist, wie sie von Kozelschatz und Eliasson et al., supra, beschrieben worden ist, wurde eingesetzt und wird schematisch in Fig. 1 gezeigt. Mit Bezug auf Fig. 1 umfasste die Excimerlampe 100 drei koaxiale Quarzzylinder und zwei koaxiale Elektroden. Der äußere koaxiale Quarzzylinder 102 war an den Enden desselben mit einem mittigen koaxialen Quarzzylinder 104 verschmolzen, um einen ringförmigen Entladungsraum 106 zu bilden. Eine Excimer-bildende Gasmischung war in dem ringförmigen Entladungsraum 106 eingeschlossen. Ein innerer koaxialer Quarzzylinder 108 war innerhalb des mittigen Zylinders 104 angeordnet. Die innere koaxiale Elektrode 110 umfasste einen um den inneren Zylinder 108 gewickelten Draht. Die äußere koaxiale Elektrode 112 umfasste ein Drahtgitter mit einer Mehrzahl von Öffnungen 114. Die innere koaxiale Elektrode 110 und die äußere koaxiale Elektrode 112 waren mit einem Hochspannungsgenerator 116 verbunden. Elektrische Entladung wurde durch Anlegen einer Wechselstromhochspannung an die koaxialen Elektroden 110 und 112 aufrechterhalten. Die Betriebsfrequenz betrug 40 kHz, die Betriebsspannung 10 kV. Kühlwasser wurde durch den inneren koaxialen Quarzzylinder 108 hindurchgeleitet, wodurch die Temperatur an der äußeren Oberfläche der Lampe weniger als ungefähr 120ºC betrug. Die sich ergebende Ultraviolettstrahlung wurde durch die Öffnungen 114 ausgesandt, wie durch die Linien 118 gezeigt. Die Lampe wurde als ein Zusammenbau aus vier Lampen 100, die Seite an Seite in einer parallelen Anordnung aufgebaut waren, eingesetzt.
- [0073] Eine Standardklebermischung wurde durch Mischen von 90 Gewichtsteilen GENOMER®D15OOB Difunktionales Polyesterurethänacrylat (Mader, Biddle Sawyer Corporation, New York, New York) und 9 Teilen Pentaerythritoltriacrylat (Polysciences, Inc., Warrington, Pennsylvania) zubereitet. Die Mischung wurde mittels eines Magnetrührstabs 20 Minuten lang bei 80ºC gerührt.
- [0074] Gleichteilen der Standardklebermischung wurden jeweils entsprechend die Verbindungen der Beispiele 1-4 hinzugefügt. Zwei Kontrollmischungen wurden unter Einsatz von im Handel erhältlicher Photoinitiatoren zubereitet, wobei IRGACURE® 907 (α,α-dimethyl-α-morpholino-4-methylthiophenylacetophenon oder 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropanon-1, Ciba-Geigy) als Kontrollprobe A und IRGACURE® 2959 als Kontrollprobe B dient. In jedem Fall war die hinzugefügte Menge an Photoinitiator oder Photoreaktor 1 Teil. Jede sich ergebende Mischung wurde gründlich gerührt. Ein paar Tropfen jeder Mischung wurden auf eine Metallplatte (Q-Panel Company, Cleveland, Ohio) gegeben und mittels einer Abziehstange (Industry Tech., Oldsmar, Florida) zu einem Film ausgestrichen, der eine Dicke von ungefähr 0,6 mil (ungefähr 0,015 mm) aufwies. Jeder Film wurde dann 222 Nanometer (nm) Ultraviolettstrahlung, die von einer KrCI* Excimerlampe ausgestrahlt wurde, über eine Zeitdauer ausgesetzt, die ausreicht, um den Film zu vernetzen (Durchnetzungszeit).
- [0075] Ein Kleberfilm wurde als vollständig vernetzt bezeichnet, d. h. durch die gesamte Dicke des Films, wenn er den Kratztest bestand; siehe z. B. M. Braithwaite et al., "Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings, Inks & Paints.", Vol. IV, SITA Technology Ltd., London, 1991, pp. 11-12. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 zusammengefasst.
- Kontrolle A 15,0
- Kontrolle B 12,4
- Beispiel 1 2,0
- Beispiel 2 3,2
- Beispiel 3 4,6
- Beispiel 4 2,2
- [0076] Das Verfahren aus Beispiel 5 wurde mit unterschiedlichen Konzentrationen an Photoreaktor wiederholt. Die Menge an Pentaerythritoltriacrylat wurde so verringert, wie es erforderlich war, um 100 Teile kontrollphotoinitiatorhaltigen oder photoreaktorhaltigen Klebers bereitzustellen. Die Ergebnisse werden in Tabelle 2 zusammengefasst (die Daten für eine Kontrollphotoinitiator- oder eine Photoreaktorkonzentration von 1 Prozent sind aus Beispiel 1). Tabelle 2 Zusammenfassung der Durchnetzungszeiten mit unterschiedlichen Photoreaktorkonzentrationen
- [0077] Während die Daten in Tabelle 1 und 2 die beachtlichen Verbesserungen in den Durchnetzungsraten deutlich zeigen, die mit den polymolekularen Photoreaktoren der vorliegenden Erfindung erzielt werden, wurden die Daten in Tabelle 2 auch als Photoreaktorkonzentration über Durchnetzungszeit ausgedruckt. Die sich ergebenden Ausdrucke, die in Fig. 2 gezeigt werden, zeigen auf dramatische Weise solche beachtlichen Verbesserungen.
- [0078] Eine Serie von Experimenten wurde wie in Beispiel 5 beschrieben durchgeführt, wobei nur Kontrollcharge B und der polymolekulare Photoreaktor aus Beispiel 1 verwendet wurden, um die Auswirkung der Filmdicke auf die Durchnetzungszeiten zu bestimmen. In jedem Fall betrug die Konzentration des Kontrollphotoinitiators oder des Photoreaktors 4 Gewichtsprozent. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 zusammengefasst (die Daten für eine Filmdicke von 0,6 mil sind Tabelle 1 entnommen). Tabelle 3 Zusammenfassung der Durchnetzungszeiten mit unterschiedlichen Filmdicken
- [0079] Unabhängig von der eingesetzten Filmdicke stellte der polymolekulare Photoreaktor aus Beispiel 1 deutlich viel schnellere Durchnetzungsraten bereit. Um das Ausmaß der Verbesserung und etwaige Trends, die vorhanden sein können, besser zu veranschaulichen, wurden die Daten aus Tabelle 3 als Filmdicke in mil über Durchnetzungszeit ausgedruckt. Die Ausdrucke werden in Fig. 3 gezeigt. Während es offensichtlich ist, dass die Filmdicke die Durchnetzungszeit in jedem Fall ungefähr linear beeinflusst, ist die Zuwachsrate mit zunehmender Filmdicke für den Kontrollphotoinitiator viel größer als für den polymolekularen Photoreaktor aus Beispiel 1.
- [0080] Es kann bemerkt werden, dass auf Grund des hohen molaren Absorptionsvermögens des polymolekularen Photoreak tors der vorliegenden Erfindung Filmdicke/Durchnetzungsbeschränkungen bei sehr hoher Filmdicke beobachtet werden kann. Zum Beispiel blieb ein 25 mil (ungefähr 0,64 mm) Kleberfilm, der den Photoreaktor aus Beispiel 1 enthielt, auf der Seite, die benachbart zu der den Film tragenden Metallplatte war, klebrig, obwohl die obere Oberfläche oder Oberseite des Films den Kratztest bestand.
- [0081] Die Vorgangsweise aus Beispiel 1 wurde mit Kontrollcharge A, Kontrollcharge B und dem Photoreaktor aus Beispiel 1 wiederholt, um das Vernetzungsverhalten der Filme bei Strahlungsaussetzung von einer anderen Ultraviolettlichtquelle zu prüfen. In diesem Fall wurde eine 550- Watt Hanovia Mitteldruckquecksilberlampe mit breitem Emissionsspektrum (Hanovia Lamp Co., Hewark, New Jersey) an Stelle der Excimerlampe eingesetzt. Der Abstand von der Lampe zur zu bestrahlenden Probe betrug ungefähr 16 Inch (ungefähr 41 cm). Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 zusammengefasst.
- Kontrolle A 60 Sekunden
- Kontrolle B 90 Sekunden
- Beispiel 1 15 Sekunden
- [0082] Die Überlegenheit des polymolekularen Photoreaktors der vorliegenden Erfindung gegenüber bekannten Photoinitiatoren zeigt sich deutlich, auch wenn die Strahlung nicht die im Wesentlichen monochromatische Abstrahlung aufweist, die kennzeichnend für eine Excimerlampe ist. Das wirkungsvolle Einstellen des polymolekularen Photoreaktors auf ein bestimmtes Wellenlängenband erlaubt es dem Photoreaktor, eine beliebige Strahlung im Emissionsspektrum der Strahlungsquelle, die mit dem "eingestellten" Wellenlängenband übereinstimmt, besser auszunutzen, auch wenn die Intensität einer solchen Strahlung geringer ist als, zum Beispiel, Strahlung von einem Strahler mit engem Band, wie bei einer Excimerlampe. Mit anderen Worten hängt die Wirksamkeit des polymolekularen Photoreaktors der vorliegenden Erfindung nicht von der Verfügbarkeit oder dem Einsatz einer Strahlungsquelle mit einem engen Wellenlängenband ab.
- [0083] Schließlich wurde die Vorgangsweise aus Beispiel 5 unter Verwendung einfacher Mischungen von Sensibilisator und Photoinitiator wiederholt. Zwei Mischungen wurden untersucht. Die erste Mischung (Mischung A) umfasste die Kontrollcharge A und Phthaloylglyzin, wobei beide auf dem Niveau von 1 Gewichtsprozent im Kleber vorhanden waren. Die zweite Mischung (Mischung B) umfasste die Kontrollcharge B und Phthaloylglyzin; wiederum war jeder Bestandteil auf dem Niveau von 1 Gewichtsprozent im Kleber vorhanden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 zusammengefasst.
- A 12,8 Sekunden
- B 10,1 Sekunden
- [0084] Es ist aus Tabelle 1 des Beispiels 5 erinnerlich, dass die Durchnetzungszeiten für Kontrollcharge A und B bei 1 Gewichtsprozent 15,0 beziehungsweise 12,4 Sekunden betrugen. In gleicher Weise ist erinnerlich, dass die Durchnetzungszeit für den bimolekularen Photoreaktor aus Beispiel 1, der ebenfalls auf dem Niveau 1 Gewichtsprozent vorhanden war, 2,0 Sekunden betrug. Wenn man nun bedenkt, dass jeder der Bestandteile in den Mischungen, die in Tabelle 5 zusammengefasst sind, auf dem Niveau von 1 Gewichtsprozent vorhanden war, so ist offensichtlich, dass Mischungen aus den Sensibilisatoren und Photoinitiatoren in diesen Beispielen im Wesentlichen nicht wirkungsvoller sind als die Photoinitiatoren allein. Daher waren die einzigartigen Ergebnisse, die mit den polymolekularen Photoreaktoren dieser Beispiele erzielt wurden, von der kovalenten Bindung des Sensibilisators an den freie Radikale erzeugenden Photoinitiator abhängig. Nichtsdestoweniger wird angenommen, dass physikalische Mischungen des Sensibilisators und Photoinitiators in der Lage sind, bessere Ergebnisse als jene zu liefern, die mit dem Photoinitiator allein erzielbar wären. Es wird als gegeben festgestellt, dass solche Mischungen durch Verbessern des Mischens und/oder der Mengenverhältnisse der zwei Bestandteile optimiert werden können.
- [0085] Während die Beschreibung genau mit Bezug auf besondere Ausführungsformen davon durchgeführt worden ist, versteht es sich von selbst, dass Fachleute in dieser Technik, nachdem sie das Vorangehende verstanden haben, leicht Abänderungen, Variationen und Gleichwertiges zu diesen Ausführungsformen erstellen können. Dementsprechend sollte der Umfang der vorliegenden Erfindung als jener der angefügten Ansprüche und jedweder Äquivalente dazu bewertet werden.
Claims (54)
1. Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies,
umfassend: die Bereitstellung eines
wellenlängenspezifischen Sensibilisators, der an einen reaktiven
spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent gebunden
ist, wobei der wellenlängenspezifische Sensibilisator
ein Phthalsäurederivat oder ein phenylsubstituiertes
aliphatisches Ketonderivat ist, sowie die Bestrahlung
des wellenlängenspezifischen Sensibilisators.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator mit einer Strahlung der
Wellenlänge von 4 bis 1000 nm bestrahlt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die erzeugte reaktive
Spezies ein freies Radikal, Carben, Nitren, ein Anion
oder ein Kation ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, wobei ein Spacer-Molekül
zwischen dem wellenlängenspezifischen Sensibilisator
und dem Photoinitiator, der die reaktive Spezies
erzeugt, angeordnet ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Photoinitiator,
der die reaktive Spezies erzeugt, gebunden ist, die
folgende Struktur aufweist:
6. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Photoinitiator,
der die reaktive Spezies erzeugt, gebunden ist, die
folgende Struktur aufweist:
7. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Initiator, der
die reaktive Spezies erzeugt, gebunden ist, die
folgende Struktur aufweist:
8. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Photoinitiator,
der die reaktive Spezies erzeugt, gebunden ist, die
folgende Struktur aufweist:
9. Verfahren zur Erzeugung einer reaktiven Spezies,
umfassend: die Bereitstellung eines
wellenlängenspezifischen Sensibilisators, der an einen reaktiven
spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent gebunden
ist, sowie die Bestrahlung des
wellenlängenspezifischen Sensibilisators mit inkohärenter, gepulster
Ultraviolettstrahlung, wobei die Strahlung eine
Wellenlänge von 100 bis 375 nm und eine
Halbwertsbreite von 5 bis 100 nm aufweist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator so angepaßt
ist, daß er ein Absorptionswellenlängenband
entsprechend des Emissionsmaximums der Strahlung
aufweist, wobei der wellenlängenspezifische
Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder ein
phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat ist.
10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator mit einer Strahlung der
Wellenlänge von 222 bis 308 nm bestrahlt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 9, wobei die erzeugte reaktive
Spezies ein freies Radikal, Carben, Nitren, ein Anion
oder ein Kation ist.
12. Verfahren nach Anspruch 9, wobei ein Spacer-Molekül
zwischen dem wellenlängenspezifischen Sensibilisator
und dem Photoinitiator, der die reaktive Spezies
erzeugt, angeordnet ist.
13. Verfahren zur Polymerisation eines ungesättigten
polymerisierbaren Materials, umfassend: Bereitstellung
eines Photoreaktors, dem ein ungesättigtes
polymerisierbares Material beigemischt ist, wobei der
Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator
umfaßt, der an einen reaktiven spezieserzeugenden
Photoinitiator kovalent gebunden ist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator ein
Phthalsäu
rederivat oder ein phenylsubstituiertes aliphatisches
Ketonderivat ist; und Bestrahlung des ungesättigten
polymerisierbaren Materials, das dem Photoreaktor
beigemischt ist.
14. Verfahren nach Anspruch 13, wobei das ungesättigte
polymerisierbare Material, das dem Photoreaktor
beigemischt ist, mit einer Strahlung der Wellenlänge von 4
bis 1000 nm bestrahlt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 13, wobei der reaktive
spezieserzeugende Photoinitiator, wenn er bestrahlt
wird, eine reaktive Spezies erzeugt, die ein freies
Radikal, Carben, Nitren, ein Anion oder ein Kation
ist.
16. Verfahren nach Anspruch 13, wobei das ungesättigte
polymerisierbare Material eine ungesättigte Oligomer-
Monomer-Mischung ist.
17. Verfahren nach Anspruch 13, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Photoinitiator,
der die reaktive Spezies erzeugt, kovalent gebunden
ist, die folgende Struktur aufweist:
18. Verfahren nach Anspruch 13, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Initiator, der die
reaktive Spezies erzeugt, kovalent gebunden ist, die
folgende Struktur aufweist:
19. Verfahren nach Anspruch 13, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Initiator, der die
reaktive Spezies erzeugt, kovalent gebunden ist, die
folgende Struktur aufweist:
20. Verfahren nach Anspruch 13, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator, der an den Initiator, der die
reaktive Spezies erzeugt, kovalent gebunden ist, die
folgende Struktur aufweist:
21. Verfahren nach Anspruch 13, wobei ein Spacer-Molekül
zwischen dem wellenlängenspezifischen Sensibilisator
und dem Photoinitiator, der die reaktive Spezies
erzeugt, angeordnet ist.
22. Verfahren nach Anspruch 13, wobei das ungesättigte
polymerisierbare Material, das dem Photoreaktor
beigemischt ist, mit inkohärenter, gepulster UV-Strahlung
bestrahlt wird, wobei die Strahlung eine Wellenlänge
von 100 bis 375 nm und eine Halbwertsbreite von 5 bis
100 nm aufweist, wobei der wellenlängenspezifische
Sensibilisator so angepaßt ist, daß er ein
Absorptionswellenlängenband entsprechend der
Emissionsspitze der Strahlung aufweist.
23. Verfahren nach Anspruch 13, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator mit einer Strahlung der
Wellenlänge von 222 bis 308 nm bestrahlt wird.
24. Verfahren nach Anspruch 13, wobei ein Spacer-Molekül
zwischen dem wellenlängenspezifischen Sensibilisator
und dem Photoinitiator, der die reaktive Spezies
erzeugt, angeordnet ist.
25. Verfahren zur Polymerisation eines ungesättigten
polymerisierbaren Materials, umfassend: Bereitstellung
eines Photoreaktors, dem ein ungesättigtes
polymerisierbares Material beigemischt wird, wobei der
Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator
umfaßt, der an einen reaktiven spezieserzeugenden
Photoinitiator kovalent gebunden ist; und Bestrahlung
des ungesättigten polymerisierbaren Materials, das dem
Photoreaktor beigemischt ist, mit inkohärenter,
gepulster Ultraviolettstrahlung, wobei die Strahlung eine
Wellenlänge von 100 bis 375 nm und eine
Halbwertsbreite von 5 bis 100 nm aufweist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator so angepaßt
ist, daß er ein Absorptionswellenlängenband
entsprechend des Emissionsmaximums der Strahlung
aufweist, wobei der wellenlängenspezifische
Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder ein
phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat ist.
26. Verfahren nach Anspruch 25, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator mit einer Strahlung der
Wellenlänge von 222 bis 308 nm bestrahlt wird.
27. Verfahren nach Anspruch 25, wobei das ungesättigte
polymerisierbare Material eine ungesättigte Oligomer-
Monomer-Mischung ist.
28. Verfahren nach Anspruch 25, wobei ein Spacer-Molekül
zwischen dem wellenlängenspezifischen Sensibilisator
und dem Photoinitiator, der die reaktive Spezies
erzeugt, angeordnet ist.
29. Vernetzbare Klebemischung, umfassend einen
Photoreaktor, dem ein ungesättigtes polymerisierbares Material
beigemischt ist, wobei die Mischung durch
Strahlungsaussetzung vernetzbar ist, wobei der Photoreaktor
einen wellenlängenspezifischen Sensibilisator umfaßt,
der an einen reaktiven spezieserzeugenden
Photoinitiator kovalent gebunden ist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder
ein phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat
ist.
30. Vernetzbare Klebemischung nach Anspruch 29, wobei ein
Spacer-Molekül zwischen dem wellenlängenspezifischen
Sensibilisator und dem Photoinitiator, der die
reaktive Spezies erzeugt, angeordnet ist.
31. Vernetzbare Klebemischung nach Anspruch 29, wobei der
reaktive spezieserzeugende Photoinitiator, wenn er
bestrahlt wird, eine reaktive Spezies erzeugt, die ein
freies Radikal, Carben, Nitren, ein Anion oder ein
Kation ist.
32. Vernetzbare Klebemischung nach Anspruch 29, wobei der
Photoreaktor ein 2-[p-(2-Methyllactoyl)phenoxy]ethyl-
1,3-dioxo-2-isoindolinacetat mit der folgenden
Struktur ist:
33. Vernetzbare Klebemischung nach Anspruch 29, wobei der
Photoreaktor ein
2-Hydroxy-2-methyl-4'-[2-[p-(3-Oxobutyl)phenoxy]ethoxy]propiophenon mit der folgenden
Struktur ist:
34. Vernetzbare Klebemischung nach Anspruch 29, wobei der
Photoreaktor ein 4-[p-[(4-Benzoylcyclohexyl)oxy]-
phenyl]-2-butanon mit der folgenden Struktur ist:
35. Vernetzbare Klebemischung nach Anspruch 29, wobei der
Photoreaktor ein
1,3-Dioxo-2-isoindolinessigsäurediester mit 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-
2-methylpropiophenon mit der folgenden Struktur ist:
36. Beschichtete Struktur, umfassend mindestens zwei
Schichten, die mittels einer vernetzbaren
Klebemischung gebunden ist und von denen mindestens eine
Schicht ein Zellstoff- oder Polyolefinvlies bzw. -film
ist, wobei die vernetzbare Klebemischung ein
ungesättigtes polymerisierbares Material und einen
Photoreaktor umfaßt, wobei der Photoreaktor einen
wellenlängenspezifischen Sensibilisator umfaßt, der an einen
reaktiven spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent
gebunden ist, wobei der wellenlängenspezifische
Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder ein
phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat ist und wobei
die Mischung durch Strahlungsaussetzung vernetzbar
ist.
37. Beschichtete Struktur nach Anspruch 36, wobei der
Photoinitiator, der die reaktive Spezies erzeugt, wenn
er bestrahlt wird, eine reaktive Spezies erzeugt, die
ein freies Radikal, Carben, Nitren, ein Anion oder ein
Kation ist.
38. Beschichtete Struktur nach Anspruch 36, wobei ein
Spacer-Molekül zwischen dem wellenlängenspezifischen
Sensibilisator und dem Photoinitiator, der die
reaktive Spezies erzeugt, angeordnet ist.
39. Verfahren zur Beschichtung einer Struktur, umfassend:
die Bereitstellung einer Struktur, umfassend
mindestens zwei Schichten, von denen mindestens eine
Schicht ein Zellstoff- oder Polyolefinvlies bzw. -film
ist, wobei sich eine Klebemischung zwischen den
Schichten befindet, sowie die Bestrahlung der
Klebemischung zur Vernetzung der Klebemischung, wobei die
Klebemischung einen Photoreaktor umfaßt, dem ein
ungesättigtes polymerisierbares Material beigemischt ist,
wobei der Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen
Sensibilisator umfaßt, der an einen reaktiven
spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent gebunden ist,
wobei der wellenlängenspezifische Sensibilisator ein
Phthalsäurederivat oder ein phenylsubstituiertes
aliphatisches Ketonderivat ist.
40. Verfahren nach Anspruch 39, wobei die Klebemischung
mit einer Strahlung der Wellenlänge von 4 bis 1000 nm
bestrahlt wird.
41. Verfahren nach Anspruch 39, wobei der Photoinitiator,
der die reaktive Spezies erzeugt, wenn er bestrahlt
wird, eine reaktive Spezies erzeugt, die aus einer
Gruppe, bestehend aus einem freien Radikal, Carben,
Nitren, einem Anion oder einem Kation, ausgewählt
wird.
42. Verfahren nach Anspruch 39, wobei ein Spacer-Molekül
zwischen dem wellenlängenspezifischen Sensibilisator
und dem Photoinitiator, der die reaktive Spezies
erzeugt, angeordnet ist.
43. Verfahren nach einem der Ansprüche 39 bis 42, wobei
die Klebemischung mit inkohärenter, gepulster
Ultraviolettstrahlung bestrahlt wird, wobei die Strahlung
eine Wellenlänge von 100 bis 375 nm und eine
Halbwertsbreite von 5 bis 100 nm aufweist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator so angepaßt
ist, daß er ein Absorptionswellenlängenband
entsprechend des Emissionsmaximums der Strahlung
aufweist.
44. Polymerbeschichtete Faser, umfassend eine Faser, die
mit einer vernetzbaren Klebemischung beschichtet ist,
umfassend eine Mischung aus ungesättigtem
polymerisierbarem Material und einen Photoreaktor, wobei der
Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen
Sensibilisator umfaßt, der an einen reaktiven
spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent gebunden ist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator ein
Phthalsäu
rederivat oder ein phenylsubstituiertes aliphatisches
Ketonderivat ist.
45. Polymerbeschichtete Faser nach Anspruch 44, wobei das
ungesättigte polymerisierbare Material eine
ungesättigte Oligomer-Monomer-Mischung ist.
46. Polymerbeschichtete Faser nach Anspruch 44, wobei ein
Spacer-Molekül zwischen dem wellenlängenspezifischen
Sensibilisator und dem Photoinitiator, der die
reaktive Spezies erzeugt, angeordnet ist.
47. Polymerbeschichtete Faser nach Anspruch 44, wobei der
reaktive spezieserzeugende Photoinitiator, wenn er
bestrahlt wird, eine reaktive Spezies erzeugt, die ein
freies Radikal, Carben, Nitren, ein Anion oder ein
Kation ist.
48. Verfahren zur Beschichtung einer Faser, umfassend;
Bereitstellung einer Faser, die mit einer
Zusammensetzung beschichtet ist, umfassend eine Mischung aus
ungesättigtem polymerisierbarem Material und einem
Photoreaktor, wobei der Photoreaktor einen
wellenlängenspezifischen Sensibilisator umfaßt, der an einen
reaktiven spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent
gebunden ist, wobei der wellenlängenspezifische
Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder ein
phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat ist; und
Bestrahlung der Beschichtung auf der Faser mit einer
Strahlungsmenge, die für die Vernetzung der
Zusammensetzung ausreichend ist.
49. Verfahren nach Anspruch 48, wobei das ungesättigte
polymerisierbare Material eine ungesättigte Oligomer-
Monomer-Mischung ist.
50. Verfahren nach Anspruch 48, wobei ein Spacer-Molekül
zwischen dem wellenlängenspezifischen Sensibilisator
und dem Photoinitiator, der die reaktive Spezies
erzeugt, angeordnet ist.
51. Verfahren nach einem der Ansprüche 48 bis 50, wobei
die Beschichtung auf der Faser mit inkohärenter,
gepulster Ultraviolettstrahlung bestrahlt wird, wobei
die Strahlung eine Wellenlänge von 100 bis 375 nm und
eine Halbwertsbreite von 5 bis 100 nm aufweist, wobei
der wellenlängenspezifische Sensibilisator so angepaßt
ist, daß er ein Absorptionswellenlängenband
entsprechend des Emissionsmaximums der Strahlung aufweist.
52. Polymerbeschichtete Bahn, umfassend eine Bahn, die mit
einer vernetzbaren Klebemischung beschichtet ist,
umfassend eine Mischung aus ungesättigtem
polymerisierbarem Material und einem Photoreaktor, wobei der
Photoreaktor einen wellenlängenspezifischen
Sensibilisator umfaßt, der an einen reaktiven
spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent gebunden ist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator ein
Phthalsäurederivat oder ein phenylsubstituiertes aliphatisches
Ketonderivat ist.
53. Verfahren zur Beschichtung einer Bahn, umfassend:
Bereitstellung einer Bahn, die mit einer
Zusammensetzung beschichtet ist, umfassend eine Mischung aus
ungesättigtem polymerisierbarem Material und einen
Photoreaktor, wobei der Photoreaktor einen
wellenlängenspezifischen Sensibilisator umfaßt, der an einen
reaktiven spezieserzeugenden Photoinitiator kovalent
gebunden ist, wobei der wellenlängenspezifische
Sensibilisator ein Phthalsäurederivat oder ein
phenylsubstituiertes aliphatisches Ketonderivat ist; und
Bestrahlung der Beschichtung auf der Bahn mit einer
Strahlungsmenge, die für die Vernetzung der
Zusammensetzung ausreichend ist.
54. Verfahren nach Anspruch 53, wobei die Beschichtung auf
der Bahn mit inkohärenter, gepulster
Ultraviolettstrahlung bestrahlt wird, wobei die Strahlung eine
Wellenlänge von 100 bis 375 nm und eine
Halbwertsbreite von 5 bis 100 nm aufweist, wobei der
wellenlängenspezifische Sensibilisator so angepaßt
ist, daß er ein Absorptionswellenlängenband
entsprechend des Emissionsmaximums der Strahlung
aufweist.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US26868594A | 1994-06-30 | 1994-06-30 | |
| US32707794A | 1994-10-21 | 1994-10-21 | |
| PCT/US1995/007714 WO1996000740A1 (en) | 1994-06-30 | 1995-06-26 | Method of generating a reactive species and applications therefor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE69518518D1 DE69518518D1 (de) | 2000-09-28 |
| DE69518518T2 true DE69518518T2 (de) | 2001-04-19 |
Family
ID=26953265
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69518518T Expired - Fee Related DE69518518T2 (de) | 1994-06-30 | 1995-06-26 | Verfahren zur erzeugung von reaktiven spezies und seine verwendung |
| DE0767803T Pending DE767803T1 (de) | 1994-06-30 | 1995-06-26 | Verfahren zur erzeugung von reaktiven spezies und seine verwendung |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE0767803T Pending DE767803T1 (de) | 1994-06-30 | 1995-06-26 | Verfahren zur erzeugung von reaktiven spezies und seine verwendung |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US5685754A (de) |
| EP (2) | EP0767803B1 (de) |
| JP (1) | JP3541848B2 (de) |
| AT (1) | ATE195743T1 (de) |
| AU (1) | AU2945395A (de) |
| CA (1) | CA2190755A1 (de) |
| CO (3) | CO4440544A1 (de) |
| DE (2) | DE69518518T2 (de) |
| ES (1) | ES2103246T3 (de) |
| MX (1) | MX9700094A (de) |
| WO (1) | WO1996000740A1 (de) |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
| US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
| US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
| US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
| WO1996039646A1 (en) | 1995-06-05 | 1996-12-12 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel pre-dyes |
| CA2221565A1 (en) | 1995-06-28 | 1997-01-16 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel colorants and colorant modifiers |
| EP0900237B1 (de) * | 1996-05-20 | 2002-10-09 | Albemarle Corporation | Photoaktive verbindungen verwendbar mit enger wellenlänge band ultraviolet (uv) härtende systeme |
| US6479706B1 (en) | 1997-02-04 | 2002-11-12 | Albemarle Corporation | Aminobenzophenones and photopolymerizable compositions including the same |
| US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| DE19743014A1 (de) * | 1997-09-29 | 1999-04-01 | Basf Ag | Verfahren zur Vernetzung von strahlungsvernetzbaren Haftklebstoffschichten |
| US6043294A (en) * | 1998-01-29 | 2000-03-28 | Gate Technologies International, Inc. | Method of and apparatus for optically enhancing chemical reactions |
| EP1062285A2 (de) | 1998-06-03 | 2000-12-27 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplaste hergestellt durch mikroemulsionstechnologie sowie tinten für den tintenstrahldruck |
| PL338379A1 (en) | 1998-06-03 | 2000-10-23 | Kimberly Clark Co | Novel photoinitiators and their application |
| US6224949B1 (en) | 1998-06-11 | 2001-05-01 | 3M Innovative Properties Company | Free radical polymerization method |
| US6040352A (en) * | 1998-06-11 | 2000-03-21 | 3M Innovative Properties Company | Free radical polymerization process using a monochromatic radiation source |
| EP1100852A1 (de) | 1998-07-20 | 2001-05-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Verbesserte tintenstrahldrucktinten-zusammensetzungen |
| ATE323725T1 (de) | 1998-09-28 | 2006-05-15 | Kimberly Clark Co | Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren |
| ES2195869T3 (es) | 1999-01-19 | 2003-12-16 | Kimberly Clark Co | Nuevos colorantes, estabilizantes de colorantes, compuestos de tinta y metodos mejorados para su fabricacion. |
| US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
| US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
| US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
| DE19939760A1 (de) * | 1999-08-21 | 2001-03-08 | Schenectady Int Inc | Verfahren und Vorrichtung zur Isolierung elektrotechnischer Bauteile |
| CN1416437A (zh) * | 2000-03-10 | 2003-05-07 | 诺瓦提斯公司 | 反应性聚合物 |
| KR100772772B1 (ko) | 2000-06-19 | 2007-11-01 | 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. | 신규한 광개시제 및 그의 용도 |
| US6887916B2 (en) | 2000-12-28 | 2005-05-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Materials having controlled shrinkage and patterns and methods of making same |
| JP3627011B2 (ja) | 2001-02-13 | 2005-03-09 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 接合方法 |
| EP2236488A1 (de) | 2001-03-30 | 2010-10-06 | The Arizona Board of Regents on behalf of the University of Arizona | Materialien, Verfahren und Verwendungen zur fotochemischen Erzeugung von Säuren und/oder Radikalenspezies |
| WO2002100912A1 (en) * | 2001-06-08 | 2002-12-19 | Basf Aktiengesellschaft | Water soluble radiation activatable polymer resins |
| CZ20033323A3 (cs) * | 2001-06-08 | 2004-06-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Prášková povlékací kompozice pro povlaky s nízkým leskem, vytvrzovaná volnými radikály |
| EP1264930B1 (de) * | 2001-06-08 | 2008-09-17 | The Procter & Gamble Company | Cellulosfasern enthaltend strahlungsaktivierbare Harzverbindungen |
| US6513924B1 (en) | 2001-09-11 | 2003-02-04 | Innovative Technology Licensing, Llc | Apparatus and method for ink jet printing on textiles |
| US6761826B2 (en) | 2001-11-30 | 2004-07-13 | New Star Lasers, Inc. | Pulsed blackbody radiation flux enhancement |
| US6939492B2 (en) * | 2002-12-26 | 2005-09-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for making fibrous web materials |
| KR100529371B1 (ko) * | 2003-07-29 | 2005-11-21 | 주식회사 엘지화학 | 촉매전구체 수지조성물 및 이를 이용한 투광성 전자파차폐재 제조방법 |
| US20050199484A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-09-15 | Franek Olstowski | Ozone generator with dual dielectric barrier discharge and methods for using same |
| US7365104B2 (en) * | 2005-03-31 | 2008-04-29 | Eastman Kodak Company | Light curable articles containing azinium salts |
| US9199934B2 (en) * | 2007-04-04 | 2015-12-01 | Basf Se | Alpha-hydroxyketones |
| JP5241810B2 (ja) * | 2010-12-03 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクセットおよび画像形成方法 |
| DE102013200120A1 (de) | 2013-01-08 | 2014-07-10 | PolyAn Gesellschaft zur Herstellung von Polymeren für spezielle Anwendungen und Analytik mbH | Verfahren zur Herstellung eines Kunststoffartikels mit hydrophober Pfropfbeschichtungsowie Kunststoffartikel |
| CA2987921A1 (en) | 2015-06-04 | 2016-12-08 | 3M Innovative Properties Company | Methods of bonding hardware to vehicular glass |
| US11607891B2 (en) | 2019-09-27 | 2023-03-21 | Hill-Rom Services, Inc. | Method of roll-to-roll digital printing, cutting, and punching of medical device surfaces |
Family Cites Families (668)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA461082A (en) | 1949-11-15 | Jozsef Biro Laszlo | Writing paste | |
| CA483214A (en) | 1952-05-13 | General Aniline And Film Corporation | Diazo amino printing colors | |
| CA779239A (en) | 1968-02-27 | General Electric Company | Information recording | |
| US1325971A (en) * | 1919-12-23 | Kazue akashi | ||
| CA465495A (en) | 1950-05-30 | Z. Lecher Hans | Stabilization of colouring compositions containing diazonium salts | |
| CA458808A (en) | 1949-08-09 | L. Gardner Frank | Cleat assembly for athletic shoes | |
| US2628959A (en) * | 1953-02-17 | Process for making stabilized | ||
| US2809189A (en) * | 1957-10-08 | Method of producing stabilized | ||
| CA413257A (en) | 1943-06-15 | Albert Genest Homer | Hat bat shrinking and felting machine | |
| US3248337A (en) | 1966-04-26 | Composite reducing agent for use in the textile industry | ||
| CA465499A (en) | 1950-05-30 | American Cyanamid Company | Stabilization of printing pastes containing diazonium salts | |
| US2612495A (en) * | 1952-09-30 | Process of effecting same | ||
| US3123647A (en) * | 1964-03-03 | Certificate of correction | ||
| CA465496A (en) | 1950-05-30 | Z. Lecher Hans | Stabilization of colouring compositions containing diazonium salts | |
| CA460268A (en) | 1949-10-11 | L. Walsh William | Stable diazonium salt preparation and process of preparing same | |
| CA463021A (en) | 1950-02-07 | Streck Clemens | Stable diazo salt preparation and process of preparing them | |
| US28225A (en) * | 1860-05-08 | Improvement in apparatus for defecating cane-juice | ||
| US2381145A (en) * | 1945-08-07 | Stable diazo salt preparation | ||
| CA537687A (en) | 1957-03-05 | J. Leavitt Julian | Stable solutions of mixtures of naphthols and stabilized diazo compounds | |
| CA552565A (en) | 1958-02-04 | Scalera Mario | Stabilization of copperized azo dyestuffs | |
| US28789A (en) * | 1860-06-19 | Boiler foe | ||
| US2185153A (en) * | 1939-12-26 | Stable ice color producing | ||
| US582853A (en) * | 1897-05-18 | Adolf feer | ||
| US2171976A (en) * | 1939-09-05 | Process of manufacturing stabilized | ||
| CA517364A (en) | 1955-10-11 | H. Von Glahn William | Stabilized diazonium salts and process of effecting same | |
| CA463022A (en) | 1950-02-07 | General Aniline And Film Corporation | Stable diazo salt preparation | |
| US2237885A (en) * | 1941-04-08 | Stable diazo compounds | ||
| CA571792A (en) | 1959-03-03 | Ciba Limited | Process for printing textiles and printing preparations therefor | |
| US1876880A (en) * | 1932-09-13 | Othmab dbapal | ||
| US575228A (en) * | 1897-01-12 | Moritz von gallois | ||
| US893636A (en) * | 1904-06-14 | 1908-07-21 | Frederick J Maywald | Coloring material and process of making same. |
| BE398850A (de) * | 1932-09-30 | |||
| US1013544A (en) * | 1910-08-30 | 1912-01-02 | Equilibrator Company | Ink. |
| US1364406A (en) * | 1920-04-24 | 1921-01-04 | Chester Novelty Company Inc | Ink-stick |
| US1436856A (en) * | 1922-01-31 | 1922-11-28 | George W Brenizer | Printing process ink |
| NL21515C (de) | 1924-12-28 | |||
| US1803906A (en) * | 1928-02-16 | 1931-05-05 | Kalle & Co Ag | Diazo-types stabilized with alpha derivative of thiocarbonic acid and alpha processof preparing them |
| US1844199A (en) * | 1928-08-30 | 1932-02-09 | Rca Corp | Pyro-recording paper |
| DE498028C (de) * | 1929-05-15 | 1930-07-14 | I G Farbenindustrie Akt Ges | Fixierbare Schicht fuer das Farbenausbleichverfahren |
| GB355686A (en) | 1929-06-08 | 1931-08-26 | Kodak Ltd | Improvements in or relating to combined kinematographic and sound record films |
| CH147671A (de) | 1929-06-17 | 1931-06-15 | Chem Ind Basel | Verfahren zur Herstellung eines festen, beständigen Diazopräparates. |
| DE503314C (de) * | 1929-07-30 | 1930-07-29 | I G Farbenindustrie Akt Ges | Ausbleichfarbschichten |
| BE369421A (de) * | 1929-09-09 | |||
| US1962111A (en) * | 1930-01-07 | 1934-06-12 | Firm Chemical Works Formerly S | Stable tetrazomonoazo compounds and their preparation |
| US2058489A (en) * | 1930-06-16 | 1936-10-27 | Nat Aniline & Chem Co Inc | Dye powder compositions |
| BE381968A (de) * | 1930-08-14 | |||
| BE390157A (de) * | 1931-08-04 | |||
| US2062304A (en) * | 1931-11-19 | 1936-12-01 | Gaspar Bela | Process for the production of a colored sound film |
| US2005378A (en) * | 1931-12-16 | 1935-06-18 | Waldhof Zellstoff Fab | Manufacture of cellulose material |
| US2005511A (en) * | 1931-12-22 | 1935-06-18 | Chemical Works Formerly Sandoz | Basic derivatives of porphins and metalloporphins and process for their manufacture |
| US2049005A (en) * | 1932-01-04 | 1936-07-28 | Gaspar Bela | Color-photographic bleach out dyestuff layers |
| US1975409A (en) | 1932-05-19 | 1934-10-02 | Gen Aniline Works Inc | Solid stable diazoazo salts and process of preparing them |
| BE397731A (de) * | 1932-07-21 | |||
| US2125015A (en) * | 1932-10-26 | 1938-07-26 | Gaspar Bela | Multicolor photographic material and a process for using the same |
| US2106539A (en) | 1933-07-13 | 1938-01-25 | Gen Aniline Works Inc | Stable diazo salt preparations and process of preparing them |
| US2054390A (en) * | 1934-08-09 | 1936-09-15 | Photographic bleachjng-out layers | |
| DE678456C (de) * | 1935-01-05 | 1939-07-18 | Bela Gaspar Dr | Verfahren zur Herstellung von photographischen oder kinematographischen Bildern mit und ohne Tonaufzeichnungen, bei denen Farbstoffbilder mit einem Silberbilde vereinigtwerden |
| US2090511A (en) * | 1935-04-18 | 1937-08-17 | Calco Chemical Co Inc | Colloidized vat dye |
| BE417861A (de) | 1935-05-04 | |||
| GB458808A (en) * | 1935-06-28 | 1936-12-28 | Kenneth Herbert Saunders | The manufacture of new stabilised diazo compounds and compositions of matter |
| US2220178A (en) * | 1936-01-09 | 1940-11-05 | Gen Aniline & Film Corp | Process of producing a sound track on a light-sensitive color film |
| GB486006A (en) * | 1936-10-27 | 1938-05-27 | Christopher William Crouch Whe | Improvements in colour photography |
| US2159280A (en) * | 1936-12-31 | 1939-05-23 | Eastman Kodak Co | Sound image on multilayer film |
| GB492711A (en) | 1937-03-22 | 1938-09-22 | Bela Gaspar | Process for the production of a combined coloured picture and sound record film |
| US2181800A (en) * | 1937-06-23 | 1939-11-28 | Calco Chemical Co Inc | Colloidized azo coloring matter |
| CH197808A (de) | 1937-06-28 | 1938-05-31 | Fritz Busenhart | Luftbefeuchtungsapparat an Radiatoren. |
| US2230590A (en) * | 1938-01-22 | 1941-02-04 | Gen Aniline & Film Corp | Color photographic process |
| BE433290A (de) * | 1938-03-16 | |||
| US2154996A (en) * | 1938-06-24 | 1939-04-18 | West Virginia Pulp & Paper Com | Manufacture of calcium sulphite filled paper |
| GB518612A (en) | 1938-07-27 | 1940-03-04 | Bela Gaspar | Process for the manufacture of combined picture and sound films |
| BE437152A (de) * | 1938-12-03 | |||
| US2416145A (en) * | 1938-12-27 | 1947-02-18 | Eterpen Sa Financiera | Writing paste |
| US2349090A (en) * | 1939-05-25 | 1944-05-16 | Ici Ltd | Stabilized polydiazo-phthalocyanines |
| GB539912A (en) | 1939-08-07 | 1941-09-29 | Durand & Huguenin Ag | Process for the manufacture of new preparations containing the components for the production of ice colours and their application to textile printing |
| US2243630A (en) * | 1939-10-10 | 1941-05-27 | Rohm & Haas | Reaction of polysaccharides with aminomethyl pyrroles |
| BE439901A (de) * | 1939-11-20 | |||
| US2242431A (en) * | 1940-02-01 | 1941-05-20 | Auto Specialties Mfg Co | Jack |
| US2349900A (en) * | 1940-06-10 | 1944-05-30 | Albert R Bourges | Method of making color reproductions |
| US2364359A (en) * | 1940-11-06 | 1944-12-05 | American Cyanamid Co | Printing compositions and methods of printing therewith |
| GB600451A (en) | 1940-11-06 | 1948-04-09 | American Cyanamid Co | Direct dye planographic printing compositions |
| US2356618A (en) * | 1941-05-23 | 1944-08-22 | Du Pont | Stabilized diazo printing paste |
| US2361301A (en) * | 1941-07-03 | 1944-10-24 | Du Pont | Stabilization of azo dyestuffs |
| US2346090A (en) * | 1942-08-19 | 1944-04-04 | Eastman Kodak Co | Photographic bleach-out layer |
| US2402106A (en) * | 1942-09-09 | 1946-06-11 | Gen Aniline & Film Corp | Stable diazonium salts |
| US2382904A (en) * | 1942-10-10 | 1945-08-14 | Du Pont | Stabilization of organic substances |
| US2386646A (en) * | 1943-07-05 | 1945-10-09 | American Cyanamid Co | Stabilization of coloring compositions containing diazonium salts |
| FR996646A (fr) | 1945-05-11 | 1951-12-24 | Procédé d'obtention de films en couleurs par synthèse trichrome soustractive, et son application à la cinématographie sonore | |
| GB618616A (en) | 1946-09-25 | 1949-02-24 | George Trapp Douglas | Improvements in textile printing processes |
| GB626727A (en) | 1946-11-29 | 1949-07-20 | Geoffrey Bond Harrison | Improvements in or relating to the recording of sound tracks in colour film |
| US2477165A (en) * | 1946-12-27 | 1949-07-26 | Gen Aniline & Film Corp | Nondusting compositions containing stabilized diazo compounds |
| US2527347A (en) * | 1946-12-27 | 1950-10-24 | Gen Aniline & Film Corp | Nondusting compositions for stabilizing diazo salts |
| US2580461A (en) * | 1947-08-27 | 1952-01-01 | Sulphite Products Corp | Ultraviolet-radiation impervious wrapping material |
| US2612494A (en) * | 1948-10-22 | 1952-09-30 | Gen Aniline & Film Corp | Stabilized diazonium salts and process of effecting same |
| US2647080A (en) * | 1950-06-30 | 1953-07-28 | Du Pont | Light-stabilized photopolymerization of acrylic esters |
| US2601669A (en) * | 1950-09-30 | 1952-06-24 | American Cyanamid Co | Stabilized barium and strontium lithol toners |
| US2768171A (en) * | 1951-03-28 | 1956-10-23 | Ici Ltd | Acid stabilized isothiouronium dyestuffs |
| US2680685A (en) * | 1951-04-10 | 1954-06-08 | Us Agriculture | Inhibition of color formation in nu, nu-bis (2-hydroxyethyl) lactamide |
| DE903529C (de) * | 1951-09-01 | 1954-02-08 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliche Schichten |
| US2773056A (en) * | 1952-07-12 | 1956-12-04 | Allied Chem & Dye Corp | Stable finely divided alkyl amine dyes |
| US2834773A (en) * | 1952-09-23 | 1958-05-13 | American Cyanamid Co | Stabilization of copperized azo dyestuffs |
| US2732301A (en) * | 1952-10-15 | 1956-01-24 | Chxcxch | |
| US2798000A (en) * | 1952-12-16 | 1957-07-02 | Int Minerals & Chem Corp | Printing ink with anti-skinning agent |
| US2827358A (en) * | 1953-06-15 | 1958-03-18 | American Cyanamid Co | Preparation of stable compositions of sulfuric acid half esters of leuco vat dyestuffs |
| BE529607A (de) * | 1953-06-18 | |||
| NL189059A (de) | 1953-07-13 | |||
| US2728784A (en) * | 1954-03-17 | 1955-12-27 | Eastman Kodak Co | Stabilization of oxidizable materials and stabilizers therefor |
| US2955067A (en) * | 1954-10-20 | 1960-10-04 | Rohm & Haas | Cellulosic paper containing ion exchange resin and process of making the same |
| US2875045A (en) * | 1955-04-28 | 1959-02-24 | American Cyanamid Co | Alum containing antioxidant and manufacture of sized paper therewith |
| DE1119510B (de) * | 1956-03-14 | 1961-12-14 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung unloeslicher, vernetzter hochmolekularer Polyester |
| DE1047013B (de) | 1956-05-15 | 1958-12-18 | Agfa Ag | Verfahren zur photothermographischen Bilderzeugung |
| DE1039835B (de) | 1956-07-21 | 1958-09-25 | Bayer Ag | Photographisches Verfahren zur Herstellung von Farbstoffbildern |
| US2992198A (en) * | 1956-12-24 | 1961-07-11 | Funahashi Takaji | Process of producing liquid color |
| US2992129A (en) * | 1957-03-25 | 1961-07-11 | Ludlow Corp | Gummed product printed with conditioner |
| US2936241A (en) * | 1957-05-16 | 1960-05-10 | Sperry Rand Corp | Non-printing indicia ink |
| US2892865A (en) * | 1957-09-20 | 1959-06-30 | Erba Carlo Spa | Process for the preparation of tertiary esters of benzoylcarbinol |
| US3076813A (en) * | 1957-11-13 | 1963-02-05 | Monsanto Chemicals | alpha, beta, gamma, sigma-tetra-arylporphins |
| US2940853A (en) * | 1958-08-21 | 1960-06-14 | Eastman Kodak Co | Azide sensitized resin photographic resist |
| US3071815A (en) * | 1958-09-09 | 1963-01-08 | Allied Chem | Process for producing free flowing oil soluble fusible organic dyestuffs |
| US3304297A (en) | 1959-02-12 | 1967-02-14 | Ciba Ltd | Dyestuffs consisting of organic dyestuffs bound to polyhydroxylated organic polymers |
| NL256641A (de) * | 1959-10-09 | |||
| NL262736A (de) * | 1960-03-24 | |||
| US3242215A (en) * | 1960-04-04 | 1966-03-22 | Du Pont | Bis-(2-chloroacryloyl) aryl compounds |
| US3075014A (en) * | 1960-06-14 | 1963-01-22 | Richardson Merrell Inc | Basic substituted alkoxy diphenylalkanols, diphenylalkenes and diphenylalkanes |
| US3104973A (en) * | 1960-08-05 | 1963-09-24 | Horizons Inc | Photographic bleaching out of cyanine dyes |
| NL270002A (de) * | 1960-10-08 | |||
| NL270722A (de) * | 1960-10-27 | |||
| DE1132450B (de) | 1960-11-21 | 1962-06-28 | Max Adolf Mueller Dipl Ing | Hydrostatischer Einzelradantrieb, insbesondere fuer gelaendegaengige Fahrzeuge |
| US3154416A (en) * | 1961-03-30 | 1964-10-27 | Horizons Inc | Photographic process |
| NL280345A (de) * | 1961-06-30 | |||
| US3121632A (en) * | 1961-08-30 | 1964-02-18 | Horizons Inc | Photographic process and composition including leuco triphenylmethane dyes |
| US3155509A (en) * | 1961-09-05 | 1964-11-03 | Horizons Inc | Photographic process |
| US3140948A (en) * | 1961-10-18 | 1964-07-14 | Horizons Inc | Photography |
| US3282886A (en) * | 1962-07-27 | 1966-11-01 | Du Pont | Polycarbonamides of improved photostability and dye lightfastness |
| US3445234A (en) | 1962-10-31 | 1969-05-20 | Du Pont | Leuco dye/hexaarylbiimidazole imageforming composition |
| US3305361A (en) * | 1962-12-28 | 1967-02-21 | Gen Electric | Information recording |
| US3313797A (en) | 1963-01-17 | 1967-04-11 | Du Pont | Stabilized fiber-reactive dyes |
| US3300314A (en) * | 1963-02-01 | 1967-01-24 | Eastman Kodak Co | Nonsilver, light-sensitive photographic elements |
| US3266973A (en) * | 1963-07-25 | 1966-08-16 | Richard P Crowley | Method of preparing adsorbent filter paper containing crystalline zeolite particles, and paper thereof |
| US3284205A (en) * | 1963-09-17 | 1966-11-08 | Horizons Inc | Benzotriazole and heterocyclic ketimide activators for leuco compounds |
| NL125868C (de) | 1964-01-29 | |||
| US3363969A (en) | 1964-02-12 | 1968-01-16 | Du Pont | Dyeing and light stabilizing nylon yarns with sulfonated dyes; sterically hindered phenols, and alkylnaphthalene sulfonates with or without other ultraviolet light absorbers |
| US3359109A (en) | 1964-04-29 | 1967-12-19 | Du Pont | Leuco dye-n, n. o-triacylhydroxylamine light-sensitive dye former compositions |
| US3341492A (en) | 1964-05-11 | 1967-09-12 | Celanese Corp | Polyamides stabilized with iodine and/or bromine substituted phenols |
| GB1070863A (en) * | 1964-06-12 | 1967-06-07 | Gevaert Photo Prod Nv | Light-sensitive photographic materials |
| US3397984A (en) * | 1965-08-19 | 1968-08-20 | Eastman Kodak Co | Silver dye bleach materials improving image density |
| US3361827A (en) | 1965-01-05 | 1968-01-02 | American Plastic & Chemical Co | Preparation of benzalacetophenone |
| US3479185A (en) | 1965-06-03 | 1969-11-18 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers |
| US3418118A (en) * | 1965-06-03 | 1968-12-24 | Du Pont | Photographic processes and products |
| CH475214A (de) | 1965-06-04 | 1969-07-15 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung sulfonsäure- bzw. sulfonatgruppenhaltiger Hydroxybenzophenone |
| US3563931A (en) | 1965-08-06 | 1971-02-16 | Shojiro Horiguchi | Method of making chromogen-bonded-polymer and products thereof |
| US3502476A (en) * | 1965-10-20 | 1970-03-24 | Konishiroku Photo Ind | Light-sensitive photographic materials |
| US3464841A (en) | 1965-10-23 | 1969-09-02 | Customark Corp | Method of preparing security paper containing an ultraviolet inhibitor |
| GB1184054A (en) * | 1966-04-05 | 1970-03-11 | Agfa Gevaert Nv | Thermographic Recording Processes and Materials |
| US3637337A (en) | 1966-08-03 | 1972-01-25 | Brian Pilling | Improving the dye lightfastness of acrylic substrates with triazine compounds |
| US3541142A (en) | 1966-09-02 | 1970-11-17 | Merck & Co Inc | (4-(2-hydroxymethylalkanoyl)phenoxy) acetic acids |
| US3547646A (en) * | 1966-12-16 | 1970-12-15 | Keuffel & Esser Co | Light-sensitive imaging material containing hydrazones |
| US3503744A (en) * | 1967-02-16 | 1970-03-31 | Keuffel & Esser Co | Photographic bleaching out of azomethine and azoaniline dyes |
| US3453258A (en) | 1967-02-20 | 1969-07-01 | Corn Products Co | Reaction products of cyclodextrin and unsaturated compounds |
| US3607863A (en) | 1967-02-28 | 1971-09-21 | Dyckerhoff Zementwerke Ag | Clathrate compounds |
| US3453259A (en) | 1967-03-22 | 1969-07-01 | Corn Products Co | Cyclodextrin polyol ethers and their oxidation products |
| US3565753A (en) | 1967-07-17 | 1971-02-23 | Ncr Co | Capsule-cellulose fiber units and products made therewith |
| SE312870B (de) * | 1967-07-17 | 1969-07-28 | Asea Ab | |
| US3637581A (en) | 1967-08-04 | 1972-01-25 | Shojiro Horiguchi | Method of making chromogen-bonded-polymer and products thereof |
| US3642472A (en) * | 1967-08-30 | 1972-02-15 | Holotron Corp | Bleaching of holograms |
| US3546161A (en) | 1968-01-22 | 1970-12-08 | Allied Chem | Polyolefins with improved light stability |
| US3574624A (en) * | 1968-02-08 | 1971-04-13 | Eastman Kodak Co | Photographic elements containing dithiolium salts |
| US3579533A (en) | 1968-03-18 | 1971-05-18 | Antioch College | Preparation of porphin,substituted porphin and metal chelates thereof |
| US3615562A (en) * | 1968-04-25 | 1971-10-26 | Rca Corp | Cyanine dye photographic film |
| US3549367A (en) | 1968-05-24 | 1970-12-22 | Du Pont | Photopolymerizable compositions containing triarylimidazolyl dimers and p-aminophenyl ketones |
| ES369513A1 (es) | 1968-07-15 | 1971-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Procedimiento de fabricacion de papel de copias sensible a la presion. |
| ES369481A1 (es) | 1968-07-15 | 1971-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Mejoras en el procedimiento de fabricacion de un papel paracopias sensible a las presiones. |
| DE1769854C3 (de) * | 1968-07-26 | 1982-08-19 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation |
| US3595657A (en) * | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dye bleachout system using indigoid dyes and colorless activators |
| US3595658A (en) * | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dye bleachout system using polymethine dyes and colored activators |
| US3595655A (en) * | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dyes bleachout system using polymethine dyes and colorless activators |
| US3595659A (en) * | 1968-10-03 | 1971-07-27 | Little Inc A | Non-silver direct positive dye bleachout system using indigoid dyes and colored activators |
| USRE28225E (en) | 1968-10-09 | 1974-11-05 | Photobleachable dye compositions | |
| US3914166A (en) * | 1968-11-06 | 1975-10-21 | Bayer Ag | Butyric acid derivatives as novel photosensitizers |
| GB1245079A (en) | 1968-12-10 | 1971-09-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Spiro-indoline derivatives and their use in pressure-sensitive copying paper |
| US3553710A (en) | 1969-03-14 | 1971-01-05 | Edward C Lloyd | Erasable trace recorder |
| US3840338A (en) | 1969-04-11 | 1974-10-08 | Oreal | Light stabilized hair dye compositions |
| JPS4912180B1 (de) * | 1969-04-21 | 1974-03-22 | ||
| US3697280A (en) | 1969-05-22 | 1972-10-10 | Du Pont | Hexaarylbiimidazole-selected aromatic hydrocarbon compositions |
| US3647467A (en) | 1969-05-22 | 1972-03-07 | Du Pont | Hexaarylbiimidazole-heterocyclic compound compositions |
| US3617288A (en) * | 1969-09-12 | 1971-11-02 | Minnesota Mining & Mfg | Propenone sensitizers for the photolysis of organic halogen compounds |
| US3668188A (en) | 1969-11-03 | 1972-06-06 | Monsanto Co | Thermally stable polyester fibers having improved dyeability and dye lightfastness |
| US3660542A (en) | 1969-12-11 | 1972-05-02 | Takeda Chemical Industries Ltd | Alkylbenzoylcarbinol phosphate esters |
| CA930103A (en) | 1970-03-16 | 1973-07-17 | Dominion Textile Limited | Printing and dyeing process for blended fibre fabrics |
| US3695879A (en) * | 1970-04-20 | 1972-10-03 | Ibm | Hologram life extension |
| US3669925A (en) | 1970-04-28 | 1972-06-13 | Monsanto Co | Thermally stable dyeable polyesters having improved dyed lightfastness |
| US3689565A (en) | 1970-05-04 | 1972-09-05 | Horst Hoffmann | {60 -methylolbenzoin ethers |
| US3873500A (en) * | 1970-06-16 | 1975-03-25 | Agency Ind Science Techn | Photosensitive polymers |
| US3652275A (en) | 1970-07-09 | 1972-03-28 | Du Pont | HEXAARYLBIIMIDAZOLE BIS (p-DIALKYL-AMINOPHENYL-{60 ,{62 -UNSATURATED) KETONE COMPOSITIONS |
| GB1325220A (en) | 1970-10-07 | 1973-08-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Colour-forming composition |
| NL7113828A (de) | 1970-10-15 | 1972-04-18 | ||
| US3678044A (en) | 1970-10-22 | 1972-07-18 | Chevron Res | Substituted flavanones |
| JPS4926584B1 (de) * | 1970-11-26 | 1974-07-10 | ||
| US3705043A (en) | 1970-12-07 | 1972-12-05 | Dick Co Ab | Infrared absorptive jet printing ink composition |
| US3671251A (en) * | 1970-12-10 | 1972-06-20 | Eastman Kodak Co | Sensitized pyrylium photobleachable dye in gelatin |
| US3707371A (en) * | 1970-12-14 | 1972-12-26 | Xerox Corp | Photosensitive element comprising a polymer matrix including styrene,auramine o,and a proxide and the use thereof in volume recording |
| JPS509178B1 (de) | 1970-12-28 | 1975-04-10 | ||
| US3676690A (en) * | 1971-01-04 | 1972-07-11 | Westinghouse Learning Corp | Reflected light document reading head |
| JPS5121345B1 (de) * | 1971-01-19 | 1976-07-01 | ||
| US3671096A (en) * | 1971-02-03 | 1972-06-20 | Us Navy | Erasable holographic recording |
| US3887450A (en) * | 1971-02-04 | 1975-06-03 | Dynachem Corp | Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents |
| US3694241A (en) | 1971-04-19 | 1972-09-26 | Grace W R & Co | Method for chemically printing |
| US3901779A (en) | 1971-05-13 | 1975-08-26 | Dow Chemical Co | Vinyl ester resin and process for curing same with ionizing radiation in the presence of amines |
| US3737628A (en) * | 1971-06-11 | 1973-06-05 | Automatic Corp | Automatically programmed test grading and scoring method and system |
| BE787339A (nl) * | 1971-09-14 | 1973-02-09 | Agfa Gevaert Nv | Fotografische registratie en reproductie van informatie |
| GB1408265A (en) | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
| US3926641A (en) | 1971-11-18 | 1975-12-16 | Sun Chemical Corp | Photopolymerizable compositions comprising polycarboxysubstituted benzophenone reaction products |
| US4004998A (en) | 1971-11-18 | 1977-01-25 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerizable compounds and compositions comprising the product of the reaction of a hydroxy-containing ester and a monocarboxy-substituted benzophenone |
| US3765896A (en) * | 1971-11-22 | 1973-10-16 | Eastman Kodak Co | Photographic element containing a light sensitive photobleachant and a colored stable 2-amino-aryl-7-oxyl-3-oxide-2-imidazoline free radical |
| US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
| US3801329A (en) | 1971-12-17 | 1974-04-02 | Union Carbide Corp | Radiation curable coating compositions |
| USRE28789E (en) | 1972-01-25 | 1976-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing cyclic cis-α-dicarbonyl compounds and selected sensitizers |
| US3928264A (en) | 1972-02-11 | 1975-12-23 | Monsanto Co | Polymeric ultraviolet light stabilizers prepared from phenol-formaldehyde condensates |
| US3800439A (en) * | 1972-05-04 | 1974-04-02 | Scan Tron Corp | Test scoring apparatus |
| US3844790A (en) | 1972-06-02 | 1974-10-29 | Du Pont | Photopolymerizable compositions with improved resistance to oxygen inhibition |
| GB1440001A (en) | 1972-06-23 | 1976-06-23 | Sandoz Ltd | Organophosphonous acid derivatives and their use as uv absorbers |
| JPS5034966B2 (de) * | 1972-07-24 | 1975-11-12 | ||
| US3914165A (en) | 1972-09-18 | 1975-10-21 | Desoto Inc | Radiation curable non-gelled michael addition reaction products |
| US4012256A (en) * | 1972-09-25 | 1977-03-15 | Keuffel & Esser Company | Photo-imaging utilizing alkali-activated photopolymerizable compositions |
| US4056665A (en) * | 1972-10-26 | 1977-11-01 | Owens-Illinois, Inc. | Composition and process |
| US3933682A (en) | 1973-01-31 | 1976-01-20 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerization co-initiator systems |
| JPS5148516B2 (de) | 1973-02-07 | 1976-12-21 | ||
| US3847771A (en) * | 1973-03-30 | 1974-11-12 | Scm Corp | Uv and laser curing of pigmented polymerizable binders |
| US3876496A (en) | 1973-05-14 | 1975-04-08 | Ernesto B Lozano | Method and means for protecting documents |
| US4251622A (en) * | 1973-05-25 | 1981-02-17 | Nippon Paint Co., Ltd. | Photo-sensitive composition for dry formation of image |
| JPS5041536A (de) | 1973-08-03 | 1975-04-16 | ||
| US4098816A (en) | 1973-08-23 | 1978-07-04 | Beecham Group Limited | Polycyclic oxy-aromatic acid |
| US4039332A (en) | 1973-09-20 | 1977-08-02 | Agfa-Gevaert N.V. | Stabilization of photosensitive recording material |
| GB1469641A (en) | 1973-09-20 | 1977-04-06 | Agfa Gevaert | Stabilization of photosensitive recording material |
| US4022674A (en) | 1973-10-11 | 1977-05-10 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerizable compounds and compositions comprising the product of the reaction of a monomeric ester and a polycarboxy-substituted benzophenone |
| US3960685A (en) | 1973-11-12 | 1976-06-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photosensitive resin composition containing pullulan or esters thereof |
| US3919323A (en) | 1974-08-08 | 1975-11-11 | Sandoz Ag | Acyl substituted dibenzylethers |
| US3978132A (en) | 1973-12-06 | 1976-08-31 | Sandoz, Inc. | Acyl benzyl ethers |
| GB1494191A (en) | 1973-12-17 | 1977-12-07 | Lilly Industries Ltd | Preparation of alpha-acyloxy aldehydes and ketones |
| US3988154A (en) * | 1974-02-19 | 1976-10-26 | Eastman Kodak Company | Photographic supports and elements utilizing photobleachable omicron-nitroarylidene dyes |
| US3984248A (en) * | 1974-02-19 | 1976-10-05 | Eastman Kodak Company | Photographic polymeric film supports containing photobleachable o-nitroarylidene dyes |
| US4058400A (en) * | 1974-05-02 | 1977-11-15 | General Electric Company | Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts |
| US4043819A (en) * | 1974-06-11 | 1977-08-23 | Ciba-Geigy Ag | Photo-polymerizable material for the preparation of stable polymeric images and process for making them by photopolymerization in a matrix |
| US4017652A (en) | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
| GB1489419A (en) * | 1974-11-30 | 1977-10-19 | Ciba Geigy Ag | Polymerisable esters |
| US4179577A (en) * | 1974-11-30 | 1979-12-18 | Ciba-Geigy Corporation | Polymerisable esters derived from a phenolic unsaturated ketone |
| US4181807A (en) * | 1974-11-30 | 1980-01-01 | Ciba-Geigy Corporation | Polymerizable esters derived from a glycidyl ether of a phenolic unsaturated ketone |
| DE2500520A1 (de) * | 1975-01-08 | 1976-07-15 | Schickedanz Willi | Verfahren zur herstellung von farbkopien |
| ES434175A1 (es) | 1975-01-27 | 1976-12-01 | Genaro Salcedo Allende | Procedimiento de obtencion de materiales con bajo contenidoen elementos solubles de multiples aplicaciones. |
| US4024324A (en) | 1975-07-17 | 1977-05-17 | Uop Inc. | Novel polyolefin composition of matter |
| DE2648498A1 (de) * | 1975-10-27 | 1977-04-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur desensibilisierung eines farbentwicklers |
| JPS5265425A (en) * | 1975-11-24 | 1977-05-30 | Minnesota Mining & Mfg | Image forming composition |
| JPS5274406A (en) | 1975-12-05 | 1977-06-22 | Dainippon Toryo Kk | Ink for ink jet recording |
| US4126412A (en) | 1975-12-29 | 1978-11-21 | Monsanto Company | Method for stabilizing brightened modacrylic fibers |
| JPS5299776A (en) * | 1976-02-18 | 1977-08-22 | Hitachi Ltd | Radiation sensitive high polymeric material |
| US4105572A (en) | 1976-03-31 | 1978-08-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ferromagnetic toner containing water-soluble or water-solubilizable resin(s) |
| US4144156A (en) | 1976-04-14 | 1979-03-13 | Basf Aktiengesellschaft | Manufacture of unsymmetric monoacetals of aromatic 1,2-diketones employable as photoiniatiators |
| DE2714978A1 (de) | 1976-04-15 | 1977-10-27 | Sandoz Ag | Faerbeverfahren |
| JPS5928323B2 (ja) | 1976-08-12 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| US4048034A (en) * | 1976-08-27 | 1977-09-13 | Uop Inc. | Photopolymerization using an alpha-aminoacetophenone |
| JPS5994B2 (ja) | 1976-09-14 | 1984-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| US4100047A (en) * | 1976-10-12 | 1978-07-11 | Mobil Oil Corporation | Ultraviolet curable aqueous coatings |
| US4054719A (en) | 1976-11-23 | 1977-10-18 | American Cyanamid Company | Phenacyl ester photosensitizers for radiation-curable coatings |
| US4085062A (en) | 1976-11-24 | 1978-04-18 | Givaudan Corporation | N,N'-bis-aromaticformamidines useful as sunscreening agents |
| JPS5928326B2 (ja) * | 1976-12-02 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPS6026122B2 (ja) | 1977-01-20 | 1985-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| DE2708188C2 (de) | 1977-02-25 | 1979-02-08 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Stabilisierung anionischer Indolfarbstoffe |
| US4141807A (en) | 1977-03-01 | 1979-02-27 | Stauffer Chemical Company | Photopolymerizable composition stabilized with nitrogen-containing aromatic compounds |
| US4190671A (en) | 1977-03-17 | 1980-02-26 | Biorex Laboratories Limited | Chalcone derivatives |
| DE2722264C2 (de) | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
| US4114028A (en) * | 1977-05-26 | 1978-09-12 | Sealectro Corporation | Optical punched card reader |
| US4111699A (en) * | 1977-06-06 | 1978-09-05 | Eastman Kodak Company | O-nitro-o-azaarylidene photobleachable dyes and photographic elements utilizing them |
| US4110112A (en) * | 1977-06-23 | 1978-08-29 | Neste Oy | Photosensitive material containing 2,3-di(2,3-diiodopropoxy)-propyl cellulose and uses thereof |
| US4250096A (en) * | 1977-10-14 | 1981-02-10 | Ciba-Geigy Corporation | 3- and 4-Azidophthalic acid derivatives |
| JPS5462987A (en) | 1977-10-28 | 1979-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
| JPS5469580A (en) | 1977-11-15 | 1979-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
| JPS5472780A (en) | 1977-11-22 | 1979-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
| JPS5474728A (en) * | 1977-11-28 | 1979-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS5928328B2 (ja) | 1977-11-29 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPS5482234A (en) | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photostabilizing method for organic base material |
| JPS5482385A (en) | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
| JPS5482386A (en) | 1977-12-15 | 1979-06-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
| US4391867A (en) | 1977-12-16 | 1983-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Polyvinyl butyral ink formulation |
| US4318791A (en) | 1977-12-22 | 1982-03-09 | Ciba-Geigy Corporation | Use of aromatic-aliphatic ketones as photo sensitizers |
| JPS6054197B2 (ja) * | 1978-01-05 | 1985-11-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 顕色インキ |
| US4245018A (en) | 1978-01-30 | 1981-01-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for stabilizing organic substrate materials including photographic dye images to light and a color diffusion transfer material |
| US4345011A (en) * | 1978-01-30 | 1982-08-17 | Eastman Kodak Company | Color imaging devices and color filter arrays using photo-bleachable dyes |
| EP0003884A3 (de) | 1978-02-23 | 1979-09-19 | Imperial Chemical Industries Plc | Alpha-beta ungesättigte Ketone und ihre Verwendung als Herbizide |
| CH623447B (de) | 1978-03-06 | Sandoz Ag | Verfahren zum faerben von acetalisierten pvc/pva-textilien mit dispersionsfarbstoffen. | |
| FR2420522A1 (fr) | 1978-03-20 | 1979-10-19 | Unicler | Derives de l'acide (m-benzoyl-phenoxy)-2 propionique et leurs applications comme medicaments |
| US4199420A (en) | 1978-04-06 | 1980-04-22 | Stauffer Chemical Company | Alkoxymethylbenzophenones as photoinitiators for photopolymerizable compositions and process based thereon |
| JPS54136581A (en) | 1978-04-14 | 1979-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
| JPS54136582A (en) | 1978-04-17 | 1979-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilizing method for organic basic substance to light |
| US4162162A (en) * | 1978-05-08 | 1979-07-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl-aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions |
| JPS54152091A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
| GB2024209B (en) | 1978-05-31 | 1982-09-08 | Sori Soc Rech Ind | Phenoxalkylcarboxylic acids |
| DE2962442D1 (de) * | 1978-07-13 | 1982-05-19 | Ciba Geigy Ag | Compositions photodurcissables |
| JPS6053300B2 (ja) | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| DE2839129C2 (de) | 1978-09-08 | 1982-06-03 | Chemische Fabrik Stockhausen GmbH, 4150 Krefeld | Verfahren zur Verbesserung der Lichtbeständigkeit von in üblicher Weise gefärbten Ledern |
| DE2842862A1 (de) | 1978-10-02 | 1980-04-10 | Boehringer Mannheim Gmbh | Verfahren zur bestimmung von ionen, polaren und/oder lipophilen substanzen in fluessigkeiten |
| JPS5550001A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photo-polymerizable composition |
| JPS5577742A (en) * | 1978-12-08 | 1980-06-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
| US4300123A (en) | 1979-01-02 | 1981-11-10 | Westinghouse Electric Corp. | Optical reading system |
| US4270130A (en) * | 1979-01-08 | 1981-05-26 | Eastman Kodak Company | Thermal deformation record device with bleachable dye |
| DE2902293A1 (de) | 1979-01-22 | 1980-07-31 | Henkel Kgaa | Beschichtungsmaterial fuer die rueckseiten von zu verklebenden papieren |
| JPS55102538A (en) | 1979-01-30 | 1980-08-05 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | Preparation of p-n-alkyl benzoate |
| CH640361A5 (de) | 1979-02-01 | 1983-12-30 | Landis & Gyr Ag | Einrichtung zum thermischen loeschen maschinenlesbarer optischer markierungen. |
| CA1160880A (en) * | 1979-02-02 | 1984-01-24 | Keith E. Whitmore | Imaging with nonplanar support elements |
| US4197080A (en) | 1979-02-14 | 1980-04-08 | Eastman Kodak Company | Radiation-cleavable nondiffusible compounds and photographic elements and processes employing them |
| US4258367A (en) | 1979-03-29 | 1981-03-24 | Whittaker Corporation | Light sensitive jet inks |
| JPS55133032A (en) | 1979-04-03 | 1980-10-16 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS55152750A (en) | 1979-05-17 | 1980-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Stabilization of organic substrate substance against light |
| US4289844A (en) * | 1979-06-18 | 1981-09-15 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
| US4426153A (en) | 1979-06-21 | 1984-01-17 | Ibm Corporation | Apparatus for the reduction of image intensity variations in a continuously variable reducing copier |
| JPS566236A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material and pattern forming method using it |
| US4288631A (en) | 1979-09-05 | 1981-09-08 | General Electric Company | UV Stabilizers, coating compositions and composite structures obtained therefrom |
| US4256493A (en) * | 1979-10-04 | 1981-03-17 | Dai Nippon Tokyo Co., Ltd. | Jet ink composition |
| US4349617A (en) | 1979-10-23 | 1982-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Function separated type electrophotographic light-sensitive members and process for production thereof |
| US4292154A (en) | 1979-11-07 | 1981-09-29 | Gelman Sciences, Inc. | Buffer composition and method for the electrophoretic separation of proteins |
| JPS5677189A (en) | 1979-11-30 | 1981-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Recording material |
| US4336323A (en) | 1979-12-07 | 1982-06-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Decolorizable imaging system |
| US4373020A (en) | 1979-12-07 | 1983-02-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Decolorizable imaging system |
| US4370401A (en) | 1979-12-07 | 1983-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light sensitive, thermally developable imaging system |
| US4460676A (en) | 1980-02-21 | 1984-07-17 | Fabel Warren M | Non-impact single and multi-ply printing method and apparatus |
| US4373017A (en) | 1980-03-05 | 1983-02-08 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Photosensitive compound and photosensitive material containing it |
| DE3008411A1 (de) | 1980-03-05 | 1981-09-10 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone |
| US4276211A (en) | 1980-03-10 | 1981-06-30 | Troy Chemical Corporation | Stabilization composition for coating composition |
| DE3010148A1 (de) | 1980-03-15 | 1981-09-24 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue gemische auf basis von aromatisch-aliphatischen ketonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische |
| US4268667A (en) * | 1980-04-21 | 1981-05-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones based on 9,10-dihydro-9,10-ethanoanthracene and p-dialkyl-aminoaryl aldehydes as visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
| US4351893A (en) * | 1980-12-31 | 1982-09-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions |
| DE3161363D1 (en) | 1980-05-13 | 1983-12-15 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of derivatives of alkenyl benzene or alkenyl naphthalene |
| EP0040177B1 (de) | 1980-05-13 | 1983-07-20 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkenylbenzol- oder -naphthalincarbonsäurederivaten |
| US4343891A (en) | 1980-05-23 | 1982-08-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fixing of tetra (hydrocarbyl) borate salt imaging systems |
| US4302606A (en) | 1980-05-23 | 1981-11-24 | Gaf Corporation | 2-Hydroxy,alkoxy,methylolbenzophenone intermediate compounds for the manufacture of improved copolymerizable ultraviolet light absorber compounds |
| US4307182A (en) | 1980-05-23 | 1981-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Imaging systems with tetra(aliphatic) borate salts |
| JPS56167139A (en) | 1980-05-27 | 1981-12-22 | Daikin Ind Ltd | Sensitive material |
| JPS575771A (en) | 1980-06-13 | 1982-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Formation of colored image by ink jetting method |
| JPS5720734A (en) * | 1980-07-15 | 1982-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heat developing photosensitive material |
| HU181733B (en) | 1980-08-07 | 1983-11-28 | Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet | Process for preparing sorbents containing cyclodextrin on cellulose base |
| US4416961A (en) | 1980-09-11 | 1983-11-22 | Eastman Kodak Company | Color imaging devices and color filter arrays using photo-bleachable dyes |
| JPS5774372A (en) | 1980-10-27 | 1982-05-10 | Seiko Epson Corp | Fluid ink for printer |
| DE3041153A1 (de) | 1980-10-31 | 1982-06-16 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von polyamidfaerbungen |
| ATE12254T1 (de) | 1980-12-22 | 1985-04-15 | Unilever Nv | Einen photoaktivator enthaltende zusammensetzung mit verbesserter bleichwirkung. |
| US4369283A (en) | 1981-03-06 | 1983-01-18 | E. I. Du Pont De Nemours & Company | High solids can coating composition containing epoxy, acrylic and aminoplast resins |
| US4372582A (en) | 1981-03-30 | 1983-02-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilizer for electron doner-acceptor carbonless copying systems |
| US4401470A (en) | 1981-03-30 | 1983-08-30 | Mobil Oil Corporation | Intaglio printing ink and method of employing the same |
| US4350753A (en) * | 1981-06-15 | 1982-09-21 | Polychrome Corporation | Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising radiation sensitive diazo oxide and haloalkyl-s-triazine with novolak and dyestuff |
| JPS57207065A (en) | 1981-06-17 | 1982-12-18 | Seiko Epson Corp | Ink jet recorder |
| US4508570A (en) | 1981-10-21 | 1985-04-02 | Ricoh Company, Ltd. | Aqueous ink for ink-jet printing |
| JPS5872139A (ja) | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性材料 |
| US4399209A (en) | 1981-11-12 | 1983-08-16 | The Mead Corporation | Transfer imaging system |
| US4822714A (en) | 1981-11-12 | 1989-04-18 | The Mead Corporation | Transfer imaging system |
| US4425424A (en) | 1982-04-08 | 1984-01-10 | Eastman Kodak Company | Dye-forming compositions |
| US4495041A (en) | 1982-04-15 | 1985-01-22 | Mobil Oil Corporation | Photochemical process using shape-selective photoassisted heterogenous catalyst compositions |
| JPS58211426A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Sekisui Plastics Co Ltd | 熱可塑性樹脂発泡体及びその製造方法 |
| JPS5936174A (ja) | 1982-08-23 | 1984-02-28 | Ricoh Co Ltd | インクジエツト記録用水性インク |
| US5135940A (en) | 1982-09-23 | 1992-08-04 | Merck Frosst Canada, Inc. | Leukotriene antagonists |
| DE3380028D1 (en) | 1982-10-01 | 1989-07-13 | Ciba Geigy Ag | Propiophenone derivatives as photoinitiators in the photopolymerization |
| US4450227A (en) | 1982-10-25 | 1984-05-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dispersed imaging systems with tetra (hydrocarbyl) borate salts |
| US4447521A (en) | 1982-10-25 | 1984-05-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fixing of tetra(hydrocarbyl)borate salt imaging systems |
| JPS5980475A (ja) | 1982-10-29 | 1984-05-09 | Ricoh Co Ltd | 水性インキ組成物 |
| US5108874A (en) | 1982-11-01 | 1992-04-28 | Microsi, Inc. | Composite useful in photolithography |
| JPH0718087B2 (ja) | 1982-12-07 | 1995-03-01 | コモンウエルス・サイエンテイフィック・アンド・インダストリアル・リサーチ・オーガニゼーション | ウール，染色されたウール，絹，ナイロンまたはこれらの混紡を光劣化から保護する方法および光劣化から保護されたウール，染色されたウール，絹，ナイロンまたはこれらの混紡 |
| US4523924A (en) | 1982-12-20 | 1985-06-18 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of stable aqueous solutions of water-soluble reactive dyes by membrane separation |
| JPS59133235A (ja) | 1983-01-21 | 1984-07-31 | Kanebo Ltd | 殺菌性ポリマー組成物及びその製造法 |
| GB2136590B (en) | 1983-03-15 | 1986-01-02 | Minnesota Mining & Mfg | Dye-bleach materials and process |
| US4510392A (en) | 1983-04-08 | 1985-04-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Autoradiogram marking process |
| DE3415033C2 (de) | 1983-04-20 | 1986-04-03 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 4'-Azidobenzal-2-methoxyacetophenon, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses enthaltende photoempfindliche Masse |
| US4567171A (en) | 1983-04-21 | 1986-01-28 | Ciba-Geigy Corporation | Stable, concentrated, liquid dispersions of anionic dyestuffs |
| GB8311252D0 (en) | 1983-04-26 | 1983-06-02 | Ciba Geigy Ag | Photocrosslinking process |
| FI81916C (fi) | 1983-05-09 | 1990-12-10 | Vickers Plc | Foer straolning kaenslig skiva. |
| DE3417782A1 (de) | 1983-05-23 | 1984-11-29 | Sandoz-Patent-GmbH, 7850 Lörrach | Faerbereihilfsmittel |
| JPS59219270A (ja) | 1983-05-30 | 1984-12-10 | Wako Pure Chem Ind Ltd | テトラゾリウム塩を含有する溶液の安定化方法 |
| DE3464252D1 (en) | 1983-06-03 | 1987-07-23 | Hoffmann La Roche | Labelled molecules for fluorescence immunoassays and processes and intermediates for their preparation |
| US4475999A (en) | 1983-06-06 | 1984-10-09 | Stauffer Chemical Company | Sensitization of glyoxylate photoinitiators |
| US4595745A (en) | 1983-06-27 | 1986-06-17 | Ube Industries, Ltd. | Organic solvent-soluble photosensitive polyamide resin |
| DE3326640A1 (de) | 1983-07-23 | 1985-01-31 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von faerbungen mit saeure- oder metallkomplexfarbstoffen auf polyamid |
| US4707161A (en) | 1983-07-23 | 1987-11-17 | Basf Aktiengesellschaft | Lightfastness of dyeings obtained with acid dyes or metal complex dyes on polyamides: treatment with copper hydroxamates |
| US4702996A (en) | 1983-09-28 | 1987-10-27 | General Electric Company | Method of enhancing the contrast of images and materials therefor |
| JPS6083029A (ja) | 1983-10-13 | 1985-05-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 光記録媒体 |
| US4707425A (en) | 1983-11-18 | 1987-11-17 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Optical recording method and media therefor |
| GB8333853D0 (en) | 1983-12-20 | 1984-02-01 | Ciba Geigy Ag | Production of images |
| US4571377A (en) | 1984-01-23 | 1986-02-18 | Battelle Memorial Institute | Photopolymerizable composition containing a photosensitive donor and photoinitiating acceptor |
| JPH0697339B2 (ja) | 1984-02-02 | 1994-11-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| GB8402937D0 (en) | 1984-02-03 | 1984-03-07 | Ciba Geigy Ag | Production of images |
| US4701402A (en) | 1984-02-13 | 1987-10-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Oxidative imaging |
| US4620875A (en) | 1984-04-10 | 1986-11-04 | Ricoh Company, Ltd. | Aqueous ink composition |
| US4534838A (en) | 1984-04-16 | 1985-08-13 | Loctite Corporation | Siloxane polyphotoinitiators of the substituted acetophenone type |
| US4745042A (en) | 1984-04-19 | 1988-05-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Water-soluble photopolymer and method of forming pattern by use of the same |
| JPS60264279A (ja) | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 記録材料 |
| JPS612771A (ja) | 1984-06-14 | 1986-01-08 | Taoka Chem Co Ltd | インク組成物 |
| US4763966A (en) | 1984-07-16 | 1988-08-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Infrared absorbent |
| JPH0755582B2 (ja) | 1984-07-27 | 1995-06-14 | 株式会社リコー | 二色感熱記録型ラベル |
| US4632895A (en) | 1984-08-23 | 1986-12-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Diffusion or sublimation transfer imaging system |
| US4663275A (en) | 1984-09-04 | 1987-05-05 | General Electric Company | Photolithographic method and combination including barrier layer |
| US4617380A (en) | 1984-09-11 | 1986-10-14 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of concentrated stable liquid dye solutions of CI Direct Yellow 11 utilizing an extended surface silica filter aid during a desalting procedure |
| US4524122A (en) | 1984-09-26 | 1985-06-18 | Eastman Kodak Company | Substituted 4-nitrophenylazo-1-naphthol cyan dyes having improved light stability |
| US4632891A (en) | 1984-10-04 | 1986-12-30 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of images |
| JPS61101568A (ja) | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Ricoh Co Ltd | 水性インク |
| JPS61101574A (ja) | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Ricoh Co Ltd | 水性インク |
| JPS61101572A (ja) | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Ricoh Co Ltd | 水性インク |
| US4790565A (en) | 1984-10-24 | 1988-12-13 | Steed Signs Pty., Limited | Game |
| JPH068390B2 (ja) | 1984-11-19 | 1994-02-02 | 住友化学工業株式会社 | 反応染料液状組成物およびそれを用いる染色または捺染法 |
| US4565769A (en) | 1984-11-21 | 1986-01-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric sensitizers for photopolymer composition |
| EP0185611B1 (de) | 1984-12-21 | 1988-09-21 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur fotochemischen Stabilisierung von synthetischen Polyamidfasermaterialien |
| IE56890B1 (en) | 1984-12-30 | 1992-01-15 | Scully Richard L | Photosensitive composition for direct positive colour photograph |
| US4672041A (en) | 1985-02-22 | 1987-06-09 | Beckman Instruments, Inc. | Method and stable diazo reagent for detecting bilirubin |
| JPH0613653B2 (ja) | 1985-02-26 | 1994-02-23 | 株式会社リコー | 水性インク組成物 |
| JPH0710620B2 (ja) | 1985-03-28 | 1995-02-08 | 株式会社リコー | ２色感熱記録型ラベル |
| US4732615A (en) | 1985-03-29 | 1988-03-22 | Taoka Chemical Co., Ltd. | Copper phthalocyanine compound and aqueous ink composition comprising the same |
| DE3512179A1 (de) | 1985-04-03 | 1986-12-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen |
| JPS61238874A (ja) | 1985-04-17 | 1986-10-24 | Ricoh Co Ltd | 水性インク組成物 |
| JPH0621930B2 (ja) | 1985-05-01 | 1994-03-23 | 富士写真フイルム株式会社 | 光応答性材料 |
| EP0200843B1 (de) | 1985-05-09 | 1988-06-22 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur fotochemischen Stabilisierung von ungefärbtem und gefärbtem Polyamidfasermaterial und dessen Mischungen |
| US4668533A (en) | 1985-05-10 | 1987-05-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet printing of printed circuit boards |
| US4720450A (en) | 1985-06-03 | 1988-01-19 | Polaroid Corporation | Thermal imaging method |
| CA1270089A (en) | 1985-08-01 | 1990-06-05 | Masami Kawabata | Photopolymerizable composition |
| US4786586A (en) | 1985-08-06 | 1988-11-22 | Morton Thiokol, Inc. | Radiation curable coating for photographic laminate |
| SU1310767A1 (ru) | 1985-08-19 | 1987-05-15 | Всесоюзный Государственный Научно-Исследовательский И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности | Способ регистрации информации |
| US4622286A (en) | 1985-09-16 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer |
| JPS62102241A (ja) | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
| GB2182907B (en) | 1985-11-18 | 1989-10-04 | Hydraroll Ltd | Mechanical handling apparatus |
| EP0223587B1 (de) | 1985-11-20 | 1991-02-13 | The Mead Corporation | Ionische Farbstoffe als Initiatoren enthaltende fotosensitive Materialien |
| US4772541A (en) | 1985-11-20 | 1988-09-20 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same |
| JPS62174741A (ja) | 1986-01-24 | 1987-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 有機基体物質を光に対して安定化する方法 |
| DE3609320A1 (de) | 1986-03-20 | 1987-09-24 | Basf Ag | Fotochromes system, damit hergestellte schichten und deren verwendung |
| EP0239376A3 (de) | 1986-03-27 | 1988-05-11 | Gec-Marconi Limited | Photolithographie mit erhöhtem Kontrast |
| US4755450A (en) | 1986-04-22 | 1988-07-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Spectral sensitizing dyes in photopolymerizable systems |
| US4775386A (en) | 1986-05-05 | 1988-10-04 | Ciba-Geigy Corporation | Process for photochemical stabilization of undyed and dyed polyamide fibre material and blends thereof with other fibres: copper complex and light stabilizer treatment |
| US4895880A (en) | 1986-05-06 | 1990-01-23 | The Mead Corporation | Photocurable compositions containing photobleachable ionic dye complexes |
| CH678897A5 (de) | 1986-05-10 | 1991-11-15 | Ciba Geigy Ag | |
| US4772291A (en) | 1986-05-12 | 1988-09-20 | Japan Liquid Crystal Co., Ltd. | Process for the preparation of densely colored pellet for synthetic resins |
| US4925770A (en) | 1986-05-20 | 1990-05-15 | Director General Of Agency Of Industrial Science And Technology | Contrast-enhancing agent for photolithography |
| IT207808Z2 (it) | 1986-06-03 | 1988-02-15 | Promosint & Contractors Srl | Valvola di scarico rapido provvista di otturatore a pistone con guida interna |
| US4988561A (en) | 1986-06-17 | 1991-01-29 | J. M. Huber Corporation | Paper coated with synthetic alkali metal aluminosilicates |
| US4721531A (en) | 1986-07-08 | 1988-01-26 | Plasticolors, Inc. | Pigment dispersions exhibiting improved compatibility in polyurethane systems |
| US4724021A (en) | 1986-07-23 | 1988-02-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making porous bottom-layer dielectric composite structure |
| US5002993A (en) | 1986-07-25 | 1991-03-26 | Microsi, Inc. | Contrast enhancement layer compositions, alkylnitrones, and use |
| DE3625355A1 (de) | 1986-07-26 | 1988-02-04 | Basf Ag | Benzophenonether-ester und ein verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von polyesterfaerbungen unter verwendung von benzophenonether-estern |
| US5190565A (en) | 1986-07-28 | 1993-03-02 | Allied-Signal Inc. | Sulfonated 2-(2'-hydroxyaryl)-2H-benzotriazoles and/or sulfonated aromatic formaldehyde condensates and their use to improve stain resistance and dye lightfasteness |
| US4874391A (en) | 1986-07-29 | 1989-10-17 | Ciba-Geigy Corporation | Process for photochemical stabilization of polyamide fiber material and mixtures thereof with other fibers: water-soluble copper complex dye and light-stabilizer |
| US4752341A (en) | 1986-08-11 | 1988-06-21 | Pq Corporation | Pigment system for paper |
| JPH0772799B2 (ja) | 1986-08-13 | 1995-08-02 | ソニー株式会社 | レジスト材料 |
| US4933265A (en) | 1986-09-01 | 1990-06-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for forming direct positive color image |
| JPH0610727B2 (ja) | 1986-09-17 | 1994-02-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 光応答性材料 |
| US4727824A (en) | 1986-09-22 | 1988-03-01 | Personal Pet Products Partnership | Absorbent composition, method of making and using same |
| DE3632530A1 (de) | 1986-09-25 | 1988-04-07 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von alpha-beta-ungesaettigten ketonen |
| US4800149A (en) | 1986-10-10 | 1989-01-24 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same |
| DE3637717A1 (de) | 1986-11-05 | 1988-05-11 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von positiven oder negativen reliefkopien unter verwendung dieses materials |
| US4746735A (en) | 1986-11-21 | 1988-05-24 | The Dow Chemical Company | Regiospecific aryl nitration of meso-substituted tetraarylporphyrins |
| GB8628807D0 (en) | 1986-12-02 | 1987-01-07 | Ecc Int Ltd | Clay composition |
| US4952478A (en) | 1986-12-02 | 1990-08-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Transfer recording medium comprising a layer changing its transferability when provided with light and heat |
| US4902725A (en) | 1986-12-22 | 1990-02-20 | General Electric Company | Photocurable acrylic coating composition |
| JPS63190815A (ja) | 1987-02-04 | 1988-08-08 | Hoou Kk | 粉末染毛剤組成物 |
| US4838938A (en) | 1987-02-16 | 1989-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Recording liquid and recording method by use thereof |
| US4926190A (en) | 1987-02-18 | 1990-05-15 | Ciba-Geigy Corporation | Ink jet recording process using certain benzotriazole derivatives as light stabilizers |
| US4831068A (en) | 1987-02-27 | 1989-05-16 | Ciba-Geigy Corporation | Process for improving the photochemical stability of dyeings on polyester fibre materials |
| DE3738567A1 (de) | 1987-03-12 | 1988-09-22 | Merck Patent Gmbh | Coreaktive fotoinitiatoren |
| US5028792A (en) | 1987-03-19 | 1991-07-02 | Xytronyx, Inc. | System for the visualization of exposure to ultraviolet radiation |
| US4775836A (en) | 1987-03-27 | 1988-10-04 | Siemens Medical Systems, Inc. | Flow-through cell for NMR spectroscopy of liquid samples |
| US4766050A (en) | 1987-03-27 | 1988-08-23 | The Mead Corporation | Imaging system with integral cover sheet |
| US4853398A (en) | 1987-04-13 | 1989-08-01 | Eli Lilly And Company | Leukotriene antagonists and use thereas |
| US4892941A (en) | 1987-04-17 | 1990-01-09 | Dolphin David H | Porphyrins |
| US4952680A (en) | 1987-04-23 | 1990-08-28 | Basf Aktiengesellschaft | Preparation of stable solutions of azo dyes of m-phenylenediamine by reaction with formic acid |
| DE3720850A1 (de) | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von ungesaettigten und gesaettigten ketonen |
| JPS649272A (en) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Nippon Kayaku Kk | Non-flying granular dye |
| JPH07120036B2 (ja) | 1987-07-06 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| EP0329791B1 (de) | 1987-07-28 | 1995-01-11 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photoempfindliche harzzusammensetzung und farbfilter |
| US5196295A (en) | 1987-07-31 | 1993-03-23 | Microsi, Inc. | Spin castable mixtures useful for making deep-UV contrast enhancement layers |
| DE3826046A1 (de) | 1987-08-17 | 1989-03-02 | Asea Brown Boveri | Verfahren zur herstellung von metallischen schichten |
| US4803008A (en) | 1987-09-23 | 1989-02-07 | The Drackett Company | Cleaning composition containing a colorant stabilized against fading |
| DE3732980A1 (de) | 1987-09-30 | 1989-04-13 | Basf Ag | Verfahren zur verbesserung der lichtechtheit von polyesterfaerbungen unter verwendung von benzophenonether-estern und neue benzophenonether-ester |
| US5025036A (en) | 1987-10-01 | 1991-06-18 | Hoffmann-La Roche Inc. | Catechol carboxylic acids |
| US4950304A (en) | 1987-10-02 | 1990-08-21 | Ciba-Geigy Corporation | Process for quenching or suppressing the fluorescence of substrates treated with fluorescent whitening agents |
| JP2604177B2 (ja) | 1987-10-05 | 1997-04-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジカラー画像形成方法 |
| JPH01106053A (ja) | 1987-10-20 | 1989-04-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラー画像形成方法 |
| US4853037A (en) | 1987-10-30 | 1989-08-01 | Hewlett-Packard Company | Low glycol inks for plain paper printing |
| US4968596A (en) | 1987-11-02 | 1990-11-06 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Method for forming a direct positive image |
| US4954380A (en) | 1987-11-27 | 1990-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and process for production thereof |
| US5037726A (en) | 1987-12-08 | 1991-08-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a direct positive image from a material comprising a nucleation accelerator |
| US4812517A (en) | 1987-12-28 | 1989-03-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dispersants resistant to color change |
| US4813970A (en) | 1988-02-10 | 1989-03-21 | Crompton & Knowles Corporation | Method for improving the lightfasteness of nylon dyeings using copper sulfonates |
| US5001330A (en) | 1988-03-02 | 1991-03-19 | National Computer Systems, Inc. | Optically scanned document with fail-safe marking |
| JPH01223446A (ja) | 1988-03-03 | 1989-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光像形成材料及びそれを用いた光像形成システム |
| DE3807381A1 (de) | 1988-03-07 | 1989-09-21 | Hoechst Ag | 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindung enthaelt |
| US5106723A (en) | 1988-03-10 | 1992-04-21 | Microsi, Inc. | Contrast enhancement layer compositions, alkylnitrones, and use |
| US5279652A (en) | 1988-03-24 | 1994-01-18 | Rainer Kaufmann | Use of solids as antiblocking additives for marker liquids |
| JPH0735640B2 (ja) | 1988-04-18 | 1995-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 染色された多糖類の製造方法 |
| US4902787A (en) | 1988-04-21 | 1990-02-20 | North Carolina State University | Method for producing lightfast disperse dyestuffs containing a build-in photostabilizer [molecule] compound |
| US4812139A (en) | 1988-05-04 | 1989-03-14 | Burlington Industries, Inc. | Dyed polyester fabrics with improved lightfastness |
| EP0345212A1 (de) | 1988-05-04 | 1989-12-06 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Verhinderung der Vergilbung von mit Fleckenschutzmitteln ausgerüsteten Polyamidfasermaterialien |
| DE3815622A1 (de) | 1988-05-07 | 1989-11-16 | Merck Patent Gmbh | Fotoinitiator-dispersionen |
| US5262276A (en) | 1988-05-11 | 1993-11-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive compositions |
| DE3918105A1 (de) | 1988-06-02 | 1989-12-14 | Toyo Boseki | Photopolymerisierbare zusammensetzung |
| US5003142A (en) | 1988-06-03 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Easy opening microwave pouch |
| DE58907159D1 (de) | 1988-06-14 | 1994-04-14 | Ciba Geigy | Verfahren zum fotochemischen Stabilisieren von ungefärbten und gefärbten Polypropylenfasern. |
| US4917956A (en) | 1988-07-11 | 1990-04-17 | Uop | Method of preparing cyclodextrin-coated surfaces |
| DE3824486A1 (de) | 1988-07-20 | 1990-02-08 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von 4-alkoxy-2-hydroxybenzophenon-5-sulfonsaeuren |
| US4886774A (en) | 1988-08-09 | 1989-12-12 | Alfred Doi | Ultraviolet protective overcoat for application to heat sensitive record materials |
| DE3826947A1 (de) | 1988-08-09 | 1990-02-22 | Merck Patent Gmbh | Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung |
| JPH0820734B2 (ja) | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
| US5334455A (en) | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
| US5153166A (en) | 1988-08-18 | 1992-10-06 | Trustees Of At Biochem | Chromatographic stationary supports |
| US5202213A (en) | 1988-08-31 | 1993-04-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Developer with surface treated silicic acid for developing electrostatic image |
| US5030248A (en) | 1988-08-31 | 1991-07-09 | Sandoz Ltd. | Dyeing method |
| US5187045A (en) | 1988-09-07 | 1993-02-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety |
| US5034526A (en) | 1988-09-07 | 1991-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety |
| DE3830914A1 (de) | 1988-09-10 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von kopien |
| US5098793A (en) | 1988-09-29 | 1992-03-24 | Uop | Cyclodextrin films on solid substrates |
| DE3833438A1 (de) | 1988-10-01 | 1990-04-05 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche gemische und deren verwendung |
| DE3833437A1 (de) | 1988-10-01 | 1990-04-05 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche gemische und deren verwendung |
| JP2547626B2 (ja) | 1988-10-07 | 1996-10-23 | 富士写真フイルム株式会社 | モノマーの製造方法 |
| JPH02100048A (ja) | 1988-10-07 | 1990-04-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| CH676168A5 (de) | 1988-10-10 | 1990-12-14 | Asea Brown Boveri | |
| US5026427A (en) | 1988-10-12 | 1991-06-25 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Process for making pigmented ink jet inks |
| US5202221A (en) | 1988-11-11 | 1993-04-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive composition |
| KR0139296B1 (ko) | 1988-11-21 | 1998-05-15 | 가와무라 시게꾸니 | 칼콘 유도체 및 그 제조 방법 |
| US5045435A (en) | 1988-11-25 | 1991-09-03 | Armstrong World Industries, Inc. | Water-borne, alkali-developable, photoresist coating compositions and their preparation |
| CH677846A5 (de) | 1988-12-01 | 1991-06-28 | Asea Brown Boveri | |
| US5185236A (en) | 1988-12-09 | 1993-02-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Full color recording materials and a method of forming colored images |
| DE58907949D1 (de) | 1988-12-14 | 1994-07-28 | Ciba Geigy Ag | Aufzeichnungsmaterial für Tintenstrahldruck. |
| JP2604453B2 (ja) | 1988-12-14 | 1997-04-30 | 積水化学工業株式会社 | アクリル系粘着テープ |
| US5098477A (en) | 1988-12-14 | 1992-03-24 | Ciba-Geigy Corporation | Inks, particularly for ink printing |
| US5096781A (en) | 1988-12-19 | 1992-03-17 | Ciba-Geigy Corporation | Water-soluble compounds as light stabilizers |
| US4954416A (en) | 1988-12-21 | 1990-09-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tethered sulfonium salt photoinitiators for free radical polymerization |
| US5030243A (en) | 1989-01-05 | 1991-07-09 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photochemical stabilization of undyed and dyeable artificial leather with a sterically hindered amine |
| JPH02289856A (ja) | 1989-01-18 | 1990-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光・感熱性組成物、それを用いた記録材料及び画像形成方法 |
| US4985345A (en) | 1989-02-02 | 1991-01-15 | Ricoh Company, Ltd. | Recording material |
| CH677292A5 (de) | 1989-02-27 | 1991-04-30 | Asea Brown Boveri | |
| US4902299A (en) | 1989-02-28 | 1990-02-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Nylon fabrics with cupric salt and oxanilide for improved dye-lightfastness |
| EP0390439A1 (de) | 1989-03-27 | 1990-10-03 | The Mead Corporation | Als Photoinitiatoren verwendbare Komplexe und diese enthaltende photohärtbare Zusammensetzungen |
| CH677557A5 (de) | 1989-03-29 | 1991-05-31 | Asea Brown Boveri | |
| US4933948A (en) | 1989-05-30 | 1990-06-12 | Eastman Kodak Company | Dye laser solutions |
| JPH0323984A (ja) | 1989-06-20 | 1991-01-31 | Seiji Kawashima | 印刷物 |
| US5023129A (en) | 1989-07-06 | 1991-06-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Element as a receptor for nonimpact printing |
| US5328504A (en) | 1989-08-09 | 1994-07-12 | Seiko Epson Corporation | Image recording ink |
| EP0415880B1 (de) | 1989-08-25 | 1995-04-05 | Ciba-Geigy Ag | Lichtstabilisierte Tinten |
| EP0425429B1 (de) | 1989-08-25 | 1995-02-22 | Ciba-Geigy Ag | Lichtstabilisierte Tinten |
| EP0417040A1 (de) | 1989-09-06 | 1991-03-13 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zum Färben von Wolle |
| DE3930516A1 (de) | 1989-09-13 | 1991-03-21 | Riedel De Haen Ag | Benzophenonether-ester, verfahren zu ihrer herstellung, sowie ihre verwendung zur verbesserung der lichtstabilitaet von polyesterfaerbungen |
| US5098806A (en) | 1989-09-22 | 1992-03-24 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Photosensitive elements based on polymeric matrices of diacetylenes and spiropyrans and the use thereof as coatings to prevent document reproduction |
| US5176984A (en) | 1989-10-25 | 1993-01-05 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a borate salt |
| US5028262A (en) | 1989-11-02 | 1991-07-02 | Eastman Kodak Company | Stabilization of ink compositions |
| JPH03155554A (ja) | 1989-11-14 | 1991-07-03 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 放射線感応性樹脂組成物 |
| JP2830211B2 (ja) | 1989-11-17 | 1998-12-02 | 日本曹達株式会社 | β−ヒドロキシケトン類の製造方法 |
| US5026425A (en) | 1989-12-11 | 1991-06-25 | Hewlett-Packard Company | Waterfastness of DB-168 ink by cation substitution |
| DE3941295A1 (de) | 1989-12-14 | 1991-06-20 | Basf Ag | Verfahren zum faerben von polyamidsubstraten |
| US4968813A (en) | 1989-12-22 | 1990-11-06 | Eastman Kodak Company | Derivatives of 4H-thiopyran-1,1-dioxides |
| US5069681A (en) | 1990-01-03 | 1991-12-03 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photochemical stabilization of dyed polyamide fibres with foamed aqueous composition of copper organic complexes |
| US5202212A (en) | 1990-01-16 | 1993-04-13 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Toner composition for electrophotography |
| DE59105066D1 (de) | 1990-01-19 | 1995-05-11 | Ciba Geigy Ag | Stabilisierung von Färbungen auf Polyamidfasern. |
| NL9000268A (nl) | 1990-02-05 | 1991-09-02 | Oce Nederland Bv | Gedoteerd tinoxidepoeder, een werkwijze voor zijn bereiding, en de toepassing ervan in elektrisch geleidende of antistatische bekledingen. |
| JPH03257463A (ja) | 1990-03-07 | 1991-11-15 | Nippon Paint Co Ltd | トナーおよびその製造法 |
| JP2632066B2 (ja) | 1990-04-06 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ画像の形成方法 |
| US5221334A (en) | 1990-04-11 | 1993-06-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous pigmented inks for ink jet printers |
| US5272201A (en) | 1990-04-11 | 1993-12-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Amine-containing block polymers for pigmented ink jet inks |
| US5085698A (en) | 1990-04-11 | 1992-02-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous pigmented inks for ink jet printers |
| US5053320A (en) | 1990-04-16 | 1991-10-01 | Richard L. Scully | Direct dry negative color printing process and composition |
| US5139687A (en) | 1990-05-09 | 1992-08-18 | The Proctor & Gamble Company | Non-destructive carriers for cyclodextrin complexes |
| US5384186A (en) | 1990-05-09 | 1995-01-24 | The Proctor & Gamble Company | Non-destructive carriers for cyclodextrin complexes |
| US5261953A (en) | 1990-05-10 | 1993-11-16 | Ciba-Geigy Corporation | Inks |
| DE59104652D1 (de) | 1990-05-10 | 1995-03-30 | Ciba Geigy Ag | Tinten. |
| US5108505A (en) | 1990-05-16 | 1992-04-28 | Hewlett-Packard Company | Waterfast inks via cyclodextrin inclusion complex |
| WO1991018022A1 (fr) | 1990-05-21 | 1991-11-28 | Toppan Printing Co., Ltd. | Derive de cyclodextrine |
| CH680099A5 (de) | 1990-05-22 | 1992-06-15 | Asea Brown Boveri | |
| EP0459950B1 (de) | 1990-05-31 | 1997-03-12 | Ciba SC Holding AG | Stabilisierung von Färbungen auf Polyamidfasern |
| US5153104A (en) | 1990-06-18 | 1992-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermally developable light-sensitive layers containing photobleachable sensitizers |
| US5153105A (en) | 1990-06-18 | 1992-10-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermally developable light sensitive imageable layers containing photobleachable dyes |
| US5275646A (en) | 1990-06-27 | 1994-01-04 | Domino Printing Sciences Plc | Ink composition |
| EP0466647B1 (de) | 1990-07-12 | 1995-11-29 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur photochemischen und thermischen Stabilisierung von Polyamid-Fasermaterialien |
| US5187049A (en) | 1990-07-16 | 1993-02-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive thermally developed compositions |
| JP3244288B2 (ja) | 1990-07-23 | 2002-01-07 | 昭和電工株式会社 | 近赤外光消色型記録材料 |
| TW207021B (de) | 1990-07-23 | 1993-06-01 | Showa Denko Kk | |
| US5089374A (en) | 1990-08-20 | 1992-02-18 | Eastman Kodak Company | Novel bis-onium salts and the use thereof as photoinitiators |
| JP3019381B2 (ja) | 1990-08-31 | 2000-03-13 | ソニー株式会社 | 光記録媒体 |
| US5208136A (en) | 1990-09-06 | 1993-05-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Fabricating of integrated optics |
| US5224197A (en) | 1990-09-06 | 1993-06-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Integrated optics using photodarkened polystyrene |
| JP2642776B2 (ja) | 1990-09-10 | 1997-08-20 | 三田工業株式会社 | 情報記録媒体及び情報記録方法 |
| DE59108923D1 (de) | 1990-09-13 | 1998-02-19 | Ciba Geigy Ag | Photochemisches Stabilisieren von Wolle |
| JPH04153079A (ja) | 1990-10-18 | 1992-05-26 | Digital Sutoriimu:Kk | 消去、書き換え可能な用紙、印字用インク、並びにこれらを用いた印字装置及び消去装置 |
| US5296556A (en) | 1990-10-30 | 1994-03-22 | Union Camp Corporation | Three-component curable resin compositions |
| JP2550775B2 (ja) | 1990-11-22 | 1996-11-06 | 富士ゼロックス株式会社 | 磁気ブラシ現像剤用キャリア |
| SE468054B (sv) | 1990-12-03 | 1992-10-26 | Mo Och Domsjoe Ab | Papper samt foerfarande foer framstaellning av papper |
| DE59106479D1 (de) | 1990-12-13 | 1995-10-19 | Ciba Geigy Ag | Wässrige Dispersion schwerlöslicher UV-Absorber. |
| US5254429A (en) | 1990-12-14 | 1993-10-19 | Anocoil | Photopolymerizable coating composition and lithographic printing plate produced therefrom |
| WO1992011322A2 (en) | 1990-12-20 | 1992-07-09 | Exxon Chemical Patents Inc. | Uv/eb curable butyl copolymers for lithographic and corrosion-resistant coating applications |
| US5190710A (en) | 1991-02-22 | 1993-03-02 | The B. F. Goodrich Company | Method for imparting improved discoloration resistance to articles |
| US5144964A (en) | 1991-03-14 | 1992-09-08 | Philip Morris Incorporated | Smoking compositions containing a flavorant-release additive |
| FR2675347B1 (fr) | 1991-04-17 | 1994-09-02 | Tabacs & Allumettes Ind | Cigarette a papier incorporant un agent modificateur de la fumee. |
| EP0511166A1 (de) | 1991-04-26 | 1992-10-28 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur photochemischen und thermischen Stabilisierung von Polyamid-Fasermaterial mit einer faseraffinen Kupferkomplexverbindung und einem Oxalsäurediarylamid |
| US5271764A (en) | 1992-02-12 | 1993-12-21 | Xerox Corporation | Ink compositions |
| US5286286A (en) | 1991-05-16 | 1994-02-15 | Xerox Corporation | Colorless fast-drying ink compositions for printing concealed images detectable by fluorescence |
| US5302195A (en) | 1991-05-22 | 1994-04-12 | Xerox Corporation | Ink compositions containing cyclodextrins |
| US5141797A (en) | 1991-06-06 | 1992-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet paper having crosslinked binder |
| DE4118899C1 (de) | 1991-06-08 | 1992-10-22 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | |
| US5141556A (en) | 1991-06-13 | 1992-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Penetrants for aqueous ink jet inks |
| US5160372A (en) | 1991-06-13 | 1992-11-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing ester diol and amide diol cosolvents |
| US5169438A (en) | 1991-06-13 | 1992-12-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing cycloaliphatic diol pluggage inhibitors |
| US5133803A (en) | 1991-07-29 | 1992-07-28 | Hewlett-Packard Company | High molecular weight colloids which control bleed |
| DE4127733A1 (de) | 1991-08-22 | 1993-02-25 | Basf Ag | Pfropfpolymerisate aus saccharidstrukturen enthaltenden naturstoffen oder deren derivaten und ethylenisch ungesaettigten verbindungen und ihre verwendung |
| US5209814A (en) | 1991-09-30 | 1993-05-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for diffusion patterning |
| US5205861A (en) | 1991-10-09 | 1993-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing alkylene oxide condensates of certain nitrogen heterocyclic compounds as cosolvents |
| US5198330A (en) | 1991-10-11 | 1993-03-30 | Eastman Kodak Company | Photographic element with optical brighteners having reduced migration |
| US5455143A (en) | 1991-10-25 | 1995-10-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for aqueous soluble photopolymer compositions |
| US5202209A (en) | 1991-10-25 | 1993-04-13 | Xerox Corporation | Toner and developer compositions with surface additives |
| US5415976A (en) | 1991-10-25 | 1995-05-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aminoketone sensitizers for photopolymer compositions |
| SE9103140L (sv) | 1991-10-28 | 1993-04-29 | Eka Nobel Ab | Hydrofoberat papper |
| US5180425A (en) | 1991-11-05 | 1993-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous ink jet inks containing polyol/alkylene oxide condensates as cosolvents |
| US5224987A (en) | 1991-11-12 | 1993-07-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Penetrants for aqueous ink jet inks |
| EP0542286B1 (de) | 1991-11-14 | 1996-07-17 | Showa Denko Kabushikikaisha | Entfärbbarer Toner |
| DE4142956C2 (de) | 1991-12-24 | 1996-08-14 | Du Pont Deutschland | Bleichbares Lichthofschutzsystem für photographische Aufzeichnungsmaterialien |
| DE4202038A1 (de) | 1992-01-25 | 1993-07-29 | Basf Ag | Verwendung einer fluessigkeit, enthaltend ir-farbstoffe, als druckfarbe |
| US5445651A (en) | 1992-01-31 | 1995-08-29 | The Procter & Gamble Company | Detergent compositions inhibiting dye transfer in washing |
| US5271765A (en) | 1992-02-03 | 1993-12-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous cationic dye-based ink jet inks |
| US5219703A (en) | 1992-02-10 | 1993-06-15 | Eastman Kodak Company | Laser-induced thermal dye transfer with bleachable near-infrared absorbing sensitizers |
| US5541633A (en) | 1992-02-12 | 1996-07-30 | Xerox Corporation | Ink jet printing of concealed images on carbonless paper |
| US5298030A (en) | 1992-02-21 | 1994-03-29 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photochemical and thermal stabilization of undyed and dyed or printed polyester fiber materials |
| US5224476A (en) | 1992-02-24 | 1993-07-06 | Duke University | Method and apparatus for controlling fibrillation or tachycardia |
| US5193854A (en) | 1992-02-28 | 1993-03-16 | Babn Technologies Inc. | Tamper-resistant article and method of authenticating the same |
| US5226957A (en) | 1992-03-17 | 1993-07-13 | Hewlett-Packard Company | Solubilization of water-insoluble dyes via microemulsions for bleedless, non-threading, high print quality inks for thermal ink-jet printers |
| US5178420A (en) | 1992-03-19 | 1993-01-12 | Shelby Meredith E | Reusable facsimile transmittal sheet and method |
| US5401562A (en) | 1992-03-27 | 1995-03-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Paper material for photosensitive materials and method of producing the same |
| US5344483A (en) | 1992-03-30 | 1994-09-06 | Porelon, Inc. | High-density, low-viscosity ink for use in ink jet printers |
| US5173112A (en) | 1992-04-03 | 1992-12-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Nitrogen-containing organic cosolvents for aqueous ink jet inks |
| US5169436A (en) | 1992-05-13 | 1992-12-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Sulfur-containing penetrants for ink jet inks |
| US5503664A (en) | 1992-05-20 | 1996-04-02 | Seiko Epson Corporation | Ink compositions for ink jet printing |
| DE69307774T2 (de) | 1992-05-20 | 1997-08-07 | Seiko Epson Corp | Tinte für das Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren |
| US5258274A (en) | 1992-05-22 | 1993-11-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal dye bleach construction sensitive to ultraviolet radiation |
| US5300403A (en) | 1992-06-18 | 1994-04-05 | International Business Machines Corporation | Line width control in a radiation sensitive polyimide |
| US5256193A (en) | 1992-06-25 | 1993-10-26 | Xerox Corporation | Porphyrin chromophore and dendrimer ink composition |
| US5372917A (en) | 1992-06-30 | 1994-12-13 | Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. | Recording material |
| US5296275A (en) | 1992-07-01 | 1994-03-22 | Xytronyx, Inc. | Phototranschromic ink |
| KR100295030B1 (ko) | 1992-07-13 | 2001-09-17 | 겜마 아키라 | 피부외용조성물 |
| US5270078A (en) | 1992-08-14 | 1993-12-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing high resolution wash-off images |
| US5310778A (en) | 1992-08-25 | 1994-05-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing ink jet inks having improved properties |
| EP0585679A1 (de) | 1992-09-01 | 1994-03-09 | Konica Corporation | Verfahren zur Erzeugung eines photographischen Farbbildes |
| JP3151547B2 (ja) | 1992-09-07 | 2001-04-03 | パイロットインキ株式会社 | 筆記具用水性インキ組成物 |
| JP2602404B2 (ja) | 1992-09-08 | 1997-04-23 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 水性インク組成物 |
| JP3176444B2 (ja) | 1992-10-01 | 2001-06-18 | 株式会社リコー | 水性インク及びこれを用いた記録方法 |
| US5338822A (en) | 1992-10-02 | 1994-08-16 | Cargill, Incorporated | Melt-stable lactide polymer composition and process for manufacture thereof |
| DE4234222A1 (de) | 1992-10-10 | 1994-04-14 | Cassella Ag | Wasserlösliche Schwefelfarbstoffe, ihre Herstellung und Verwendung |
| DE4236143A1 (de) | 1992-10-26 | 1994-04-28 | Bayer Ag | Gegen unbefugtes Kopieren geschützte Substrate und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US5509957A (en) | 1992-11-09 | 1996-04-23 | Ciba-Geigy Corporation | Ink compositions |
| US5489503A (en) | 1992-12-03 | 1996-02-06 | Ciba-Geigy Corp. | UV absorbers |
| US5427415A (en) | 1992-12-09 | 1995-06-27 | Wallace Computer Services, Inc. | Heat sensitive system and use thereof |
| US5372387A (en) | 1992-12-15 | 1994-12-13 | Wajda; Tadeusz | Security device for document protection |
| US5292556A (en) | 1992-12-22 | 1994-03-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing negative-working wash-off relief images |
| US5268027A (en) | 1992-12-22 | 1993-12-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Alkylpolyol ethers as cosolvents for ink jet inks |
| US5250109A (en) | 1992-12-22 | 1993-10-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of polyoxyalkyleneamines as cosolvents for aqueous ink jet inks |
| US5426164A (en) | 1992-12-24 | 1995-06-20 | The Dow Chemical Company | Photodefinable polymers containing perfluorocyclobutane groups |
| US5302197A (en) | 1992-12-30 | 1994-04-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet inks |
| GB9301451D0 (en) | 1993-01-26 | 1993-03-17 | Allied Colloids Ltd | Production of filled paper |
| JPH06248194A (ja) | 1993-02-25 | 1994-09-06 | Ensuiko Sugar Refining Co Ltd | ケルセチン含有着色料 |
| JPH06248193A (ja) | 1993-02-25 | 1994-09-06 | Ensuiko Sugar Refining Co Ltd | クロセチン含有着色料 |
| US5286288A (en) | 1993-03-11 | 1994-02-15 | Videojet Systems International, Inc. | Hot melt inks for continuous jet printing |
| US5429628A (en) | 1993-03-31 | 1995-07-04 | The Procter & Gamble Company | Articles containing small particle size cyclodextrin for odor control |
| JPH06287493A (ja) | 1993-04-07 | 1994-10-11 | Canon Inc | インク及びこれを用いた記録装置 |
| US5330860A (en) | 1993-04-26 | 1994-07-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Membrane and electrode structure |
| DE4321376A1 (de) | 1993-06-26 | 1995-01-05 | Hoechst Ag | Wäßrige Feindispersion eines organophilen Schichtsilikates |
| US5432274A (en) | 1993-07-28 | 1995-07-11 | National Research Council Of Canada | Redox dye and method of preparation thereof using 2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin and 1,1'-dimethylferrocene |
| EP0639664A1 (de) | 1993-08-16 | 1995-02-22 | Basf Corporation | Nylonfasern mit verbesserter Waschechtheit und Wärmestabilität |
| DE69413375T2 (de) | 1993-12-10 | 1999-05-20 | Bando Chemical Industries Ltd., Kobe, Hyogo | Entfärbbarer Toner und dessen Herstellungsverfahren |
| US5401303A (en) | 1994-04-26 | 1995-03-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous inks having improved halo characteristics |
| US5474691A (en) | 1994-07-26 | 1995-12-12 | The Procter & Gamble Company | Dryer-added fabric treatment article of manufacture containing antioxidant and sunscreen compounds for sun fade protection of fabrics |
| EP0699723A3 (de) | 1994-08-31 | 1997-07-02 | Canon Kk | Tintenstrahl-Tinte |
| US5476540A (en) | 1994-10-05 | 1995-12-19 | Hewlett Packard Corporation | Gel-forming inks for use in the alleviation of bleed |
| US5580369A (en) | 1995-01-30 | 1996-12-03 | Laroche Industries, Inc. | Adsorption air conditioning system |
| US5575891A (en) | 1995-01-31 | 1996-11-19 | The Procter & Gamble Company | Soft tissue paper containing an oil and a polyhydroxy compound |
| US5531821A (en) | 1995-08-24 | 1996-07-02 | Ecc International Inc. | Surface modified calcium carbonate composition and uses therefor |
-
1995
- 1995-05-19 US US08/444,670 patent/US5685754A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-26 JP JP50325696A patent/JP3541848B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-26 DE DE69518518T patent/DE69518518T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-26 EP EP19950925269 patent/EP0767803B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-26 ES ES95925269T patent/ES2103246T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-26 DE DE0767803T patent/DE767803T1/de active Pending
- 1995-06-26 MX MX9700094A patent/MX9700094A/es not_active IP Right Cessation
- 1995-06-26 AT AT95925269T patent/ATE195743T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-06-26 CA CA 2190755 patent/CA2190755A1/en not_active Abandoned
- 1995-06-26 AU AU29453/95A patent/AU2945395A/en not_active Abandoned
- 1995-06-26 WO PCT/US1995/007714 patent/WO1996000740A1/en active IP Right Grant
- 1995-06-26 EP EP19990125566 patent/EP0994125A1/de not_active Withdrawn
- 1995-06-30 CO CO95028903K patent/CO4440544A1/es unknown
- 1995-06-30 CO CO95028903A patent/CO4440075A1/es unknown
- 1995-06-30 CO CO95028903D patent/CO4440532A1/es unknown
-
1996
- 1996-01-22 US US08/589,449 patent/US5686503A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-16 US US08/733,086 patent/US5709955A/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-12-31 US US09/002,300 patent/US6090236A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3541848B2 (ja) | 2004-07-14 |
| CA2190755A1 (en) | 1996-01-11 |
| US5685754A (en) | 1997-11-11 |
| EP0994125A1 (de) | 2000-04-19 |
| US5709955A (en) | 1998-01-20 |
| ATE195743T1 (de) | 2000-09-15 |
| WO1996000740A1 (en) | 1996-01-11 |
| CO4440532A1 (es) | 1997-05-07 |
| MX9700094A (es) | 1997-04-30 |
| US5686503A (en) | 1997-11-11 |
| JPH10508323A (ja) | 1998-08-18 |
| CO4440544A1 (es) | 1997-05-07 |
| US6090236A (en) | 2000-07-18 |
| CO4440075A1 (es) | 1997-05-07 |
| DE69518518D1 (de) | 2000-09-28 |
| AU2945395A (en) | 1996-01-25 |
| EP0767803A1 (de) | 1997-04-16 |
| ES2103246T3 (es) | 2000-11-01 |
| ES2103246T1 (es) | 1997-09-16 |
| EP0767803B1 (de) | 2000-08-23 |
| DE767803T1 (de) | 1997-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69518518T2 (de) | Verfahren zur erzeugung von reaktiven spezies und seine verwendung | |
| DE60121588T2 (de) | Neue photoinitiatoren | |
| DE69412888T2 (de) | Polymerisationsverfahren | |
| DE2261383C3 (de) | Verfahren zum Härten härtbarer Zusammensetzungen durch Bestrahlung mit nicht-ionisierender Strahlung | |
| EP0216884B1 (de) | Fotoinitiatoren für die fotopolymerisation von ungesättigten systemen | |
| DE2518656C3 (de) | Härtbare Zusammensetzungen | |
| DE2207209C3 (de) | Neue photopolymerisierbare Gemische für lichtempfindliche, Reliefbilder liefernde Aufzeichnungsschichten | |
| DE1522362C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch sowie Verfahren zur Herstellung eines photopolymerisierbaien Aufzeichnungsttiaterials | |
| US5798015A (en) | Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition | |
| EP0062611A2 (de) | Photopolymerisationsverfahren | |
| US5849411A (en) | Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition | |
| DE2805633B2 (de) | UV-härtbare Formaldehyd-Kondensationsharz-Zusammensetzung | |
| DE69915038T2 (de) | Substituierte benzoylferrocene als anionische fotoinitiatoren | |
| US5811199A (en) | Adhesive compositions containing a photoreactor composition | |
| DE2821500A1 (de) | Verfahren zum entfernen der oberflaechenklebrigkeit von einer gehaerteten, radikalisch polymerisierten harzmasse | |
| DE1908169A1 (de) | Verfahren zum Entwickeln eines latenten Bildes | |
| DE69930948T2 (de) | Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren | |
| DE2404156A1 (de) | Polymerisations-coinitiatoren, mittels strahlung haertbare massen und verfahren zum polymerisieren aethylenisch ungesaettigter verbindungen | |
| DE2421118A1 (de) | Drahtbeschichtungsverfahren | |
| DE3114647C2 (de) | Strahlungshärtbare Überzugsmittel | |
| DE1770629A1 (de) | Fotoelektrisches Polymerisationsverfahren | |
| DE4338437C2 (de) | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung | |
| US6242057B1 (en) | Photoreactor composition and applications therefor | |
| US6071979A (en) | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor | |
| DE2402179C2 (de) | Photopolymerisierbare Massen enthaltend dimere Nitrosoverbindungen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |