CN107810446A

CN107810446A - 将物场成像至像场中的成像光学单元，以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备

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Publication number: CN107810446A
Application number: CN201680033406.7A
Authority: CN
Inventors: M.施瓦布
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2015-04-14
Filing date: 2016-04-12
Publication date: 2018-03-16
Anticipated expiration: 2036-04-12
Also published as: US10656400B2; KR20240036129A; CN113703286A; JP6799544B2; JP2018512625A; CN107810446B; WO2016166080A1; KR102648040B1; DE102015226531A1; KR20170135968A; US20180074303A1

Abstract

本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x，y)，法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xz_HR)中传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第一平面中间像(18)。在第二成像光平面(yz)中，成像光传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第二平面中间像(19，20)。第一平面中间像(18)的数量和第二平面中间像(19，20)的数量彼此不同。结果是制造成本减少的成像光学单元。

Description

将物场成像至像场中的成像光学单元，以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备

本专利申请要求德国专利申请DE 10 2015 206 635.5和DE 10 2015 226 531.5的优先权，其内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及将物场成像至像场中的成像光学单元或投射光学单元。另外，本发明涉及包括这种投射光学单元的光学系统、包括这种光学系统的投射曝光设备、使用这种投射曝光设备制造微结构化部件或纳米结构化部件的方法以及由该方法制造的微结构或纳米结构化部件。另外，本发明涉及作为这种成像光学单元的组成部分的反射镜。

背景技术

从JP 2002/048977 A、US 5,891,806(其描述“邻近类型”投射曝光设备)以及从WO2008/141 686 A1和WO 2015/014 753 A1已知前文阐述类型的投射光学单元。

发明内容

本发明的目的是开发前面阐述类型的成像光学单元，使得其制造成本降低。

根据本发明，由包括权利要求1中指定的特征的成像光学单元实现该目的。

成像光学单元设计为在投射光刻中使用，特别是在EUV投射光刻中使用。

成像光学单元实施为在两个成像光平面中具有不同数量的中间像的choristikonal类型的光学单元。该数量差可以恰好为1，但是它也可以更大，例如2或者甚至更大。

由对应成像光主要传播方向(z_HR)和第一笛卡尔物场坐标(x)跨越第一成像光平面(xz_HR)。成像光主要传播方向(z_HR)通过在由第二笛卡尔物场坐标(x)和法线坐标(z)跨越的平面中倾斜法线坐标z，直至最初在z方向上延伸的当前传播坐标z_HR在成像光主要传播方向的方向上延伸来导致。因此，第一成像光平面的位置随着成像光主要传播方向的各方向变化而变化。

可以使用在两个成像光平面中不同数量的中间像作为额外的设计自由度，以便例如在掠入射的反射镜的区域中使整个成像光束变窄(出于射束引导原因，这是期望的)，以确保它们的范围不变得太大、和/或在由于安装空间而必须限制的区域内。已经意识到，特别是如果旨在成像具有明显不同于1的纵横比的物场，对于成像光束在其两个横截面维度中的范围的要求在两个成像光平面中在所有方面是不同的，并且因此可以借助于choristikonal类型设计考虑这些要求。两个成像光平面中的一个成像光平面中的中间像的较大数量可以是2、可以是3或可以更多。在两个成像光平面中的中间像数量的较小数量可以是0、可以是1、可以是2或可以甚至是更多。反射镜的数量可以是6、7、8、9或10。反射镜的数量也可以是更少或者更多。

原则上，中间像的位置可以沿着成像光主要传播方向在物场和像场之间的任意位置处。相应的第一平面中间像或第二平面中间像可以位于两个反射镜之间或者在一个反射镜处的反射的位置处。在各种情况下，至少一个反射镜可以位于场平面和中间像中的一个中间像之间。

成像光学单元的所有反射镜可以实施为NI反射镜，即作为成像光以小于45°的入射角照射至其上的反射镜。这导致以紧凑的方式实施成像光学单元的选项。在所有反射镜上的小的入射角还促成成像光学单元的高的总传输，即高的使用光通量。

在平行于成像光学单元的像平面的平面中测量的物像偏移，可以小于1000mm、可以小于800mm、可以小于600mm、可以小于400mm、可以小于300mm、可以小于200mm、可以小于180mm、以及可以特别是177.89mm。

物平面可以相对于像平面以有限角度倾斜。

成像光学单元可以具有在成像光束路径中、在成像光学单元的反射镜中的两个反射镜之间布置的孔径光阑，其中孔径光阑为成像光的束的整个外部横截面定界。这种孔径光阑可以设计为可以从所有侧从外部到达。借助于这种孔径光阑，可以提供成像光学单元的光瞳形状的限定的规定。

孔径光阑可以位于在反射镜中的两个反射镜之间的成像光部分束路径中，其中该孔径光阑在空间上与第二平面中间像之一相邻，该第二平面中间像之一布置在反射镜中的两个反射镜之间的成像光的其他部分束路径中。这种孔径光阑的布置导致甚至在孔径光阑的区域中，以小的折叠角度实施成像光学单元的选项。

成像光学单元的光瞳遮蔽可以至多为15％。限定为遮蔽的光瞳表面的表面部分(即可以不用于成像的光瞳表面)相对于整个光瞳表面的这种光瞳遮蔽对成像具有很小的影响。光瞳遮蔽可以小于15％、可以小于12％、可以小于10％以及可以是如9％。

在成像光学单元的所有反射镜上的成像光的最大入射角可以小于25°。即使使用EUV光作为使用光，这种成像光的最大入射角仍促成具有高反射率的反射镜的配置。最大入射角可以小于22°。

在物场下游的成像光束路径中的成像光学单元的前四个反射镜上的成像光的最大入射角可以小于20°。在前四个反射镜上成像光的这种最大入射角具有相应的优点。最大入射角可以小于19°、可以小于18°、可以小于17.5°以及可以最多是16.6°。

成像光学单元的物平面可以相对于像平面以大于0°的角度倾斜。已经发现这种物平面相对于像平面的倾斜是合适的，特别是对于在所有反射镜上实现小的最大入射角而言。倾斜角可以大于1°、可以大于2°、可以大于4°、可以大于5°、可以大于7°、可以大于8°以及可以是例如10°。

第一平面中间像中的一个第一平面中间像和成像光单元的第二平面中间像中的一个第二平面中间像可以位于成像光学单元的反射镜中的一个反射镜的用于成像光通过的通道开口的区域中。这种中间像布置导致整个成像光束的两个横截面的尺寸的有利缩小。

如权利要求2中主张的具有至少一个掠入射的反射镜(GI反射镜；入射角大于45°)的成像光学单元的配置中，choristikonal类型的实施例的优点变得特别好。

如权利要求3中主张的GI反射镜的纵横比条件导致可控的大的GI反射镜的制造成本可以相应地是合理的。当计算纵横比时，首先测量GI反射镜的反射表面的最大范围，然后相关的尺寸值除以垂直于该最大范围方向的反射表面的范围。GI反射镜的使用反射表面的纵横比可以是至多2.5、可以是至多2、可以是至多1.95、可以是至多1.9、可以是至多1.75、可以是至多1.5、可以是至多1.25、可以是至多1.2、可以是至多1.1以及也可以是至多1.05。

如权利要求4中主张的中间像的数量分布导致在GI反射镜折叠平面中(即在GI反射镜上中心场点的主射线的入射平面中)成像光束能够有利地被缩小。

已经发现如权利要求5和6中主张的中间像的分布特别地有利于GI反射镜的紧凑设计。可以有多个GI反射镜对，中间像在相同成像光学单元内位于该反射镜对之间。

如权利要求7中主张的中间像布置导致在反射镜通道开口的区域中成像光束的有利的缩小。在具有大于1的纵横比的物场的情况下，中间像可以沿着更大的物场尺寸位于具有跨越的坐标的成像光平面中。这种中间像确保沿着由于较大的场尺寸而成像光束倾向于具有较大直径的坐标使整个成像光束更强烈的缩小。然后，只要通道开口和像场之间的距离比通道开口和中间像之间的距离大三倍以上，中间像位于通道开口的区域中。这些距离之间的比可以大于3.5、可以大于4、可以大于5、可以大于7、可以大于10或可以甚至更大。通道开口可以是具有位于其区域中的第一平面中间像中的一个和第二平面中间像中的一个的这两者的一个通道开口。

也已经发现成像光学单元的choristikonal类型的设计是有利的，在如权利要求8中主张的实施例的情况下，该实施例具有至少一个NI反射镜(反射镜具有的入射角接近于垂直入射，入射角小于45°)。这里，在多个成像光平面之中的中间像的相应的分布可以简化例如场光阑或场侧辅助装置的放置。然后，也可以简化孔径光阑的位置规定。具有至少一个GI反射镜和至少一个NI反射镜的成像光学单元的混合实施例是可能的。替代地，成像光学单元可以仅仅具有NI反射镜。

如权利要求9中主张的成像光学单元的情况下，在两个成像光平面中的中间像的恰好为1的数量差可以导致对由于奇数个反射镜引起的图像翻转进行补偿。

成像光学单元的反射镜中的至少一个反射镜可以具有实施为自由形式表面的反射表面。这种自由形式表面的示例将在下文详细描述。

如权利要求10中主张的光学系统利用关于在多种成像光平面中不同数量的中间像的设计自由度的选项。辅助装置可以是场光阑、或者以UNICOM的样式的强度规定装置。

如权利要求11中主张的光学系统的优点对应于参考成像光学单元和具有辅助装置的光学系统已经在上文解释的那些优点。如权利要求11中主张的光学系统也可以具有这种辅助装置。

光源可以是EUV光源。替代地，也可以使用DUV光源，即例如波长为193nm的光源。

如权利要求12中主张的投射曝光设备的优点、如权利要求13中主张的制造方法的优点以及如权利要求14主张的微结构或纳米结构化部件的优点优点对应于参考成像光学单元和光学系统已经在上文中解释的那些优点。特别是，半导体部件(例如存储器芯片)可以使用投射曝光设备来制造。

本发明的其他目的是开发反射镜，该反射镜可以合理的支出制造，作为成像光学单元的部件，用于沿着成像光束路径将成像光从在物平面中的物场引导到在像平面中的像场中。

根据本发明，这个目的由包括在权利要求15中指定的特征的反射镜来实现。

根据本发明，已经认识到整个成像光束的边界轮廓不是必须具有凸的轮廓。根据本发明包括至少两个轮廓凸起的反射镜的反射表面边界轮廓确保整个成像光束的形成有对应凸起的边界轮廓可以被反射。另外，用于这种反射目的的反射镜不具备非必要的大的设计，减小了其制造成本。

特别是，反射镜可以在包括上述指定特征的成像光学单元中使用。反射镜可以实施为EUV反射镜并且载有对应的高反射的涂层。该涂层可以实施为多层的涂层。根据本发明的反射镜可以与关于上位的“成像光学单元”、“光学系统”、“投射曝光设备”成分的特征相结合。

成像光学单元可以具有多个这种具有轮廓凸起的反射镜。具有轮廓凸起的反射镜可以特别是布置在成像光学单元的中间像的区域中。具有轮廓凸起的反射镜可以是NI(法线入射)反射镜或GI(掠入射)反射镜。

反射镜可以包含具有弯曲的基本形状或矩形的基本形状的反射表面。

附图说明

在下文参考附图进行更详细地解释本发明的示例性实施例。在所述的附图中：

图1示意性示出了EUV微光刻的投射曝光设备；

图2在子午截面中示出了成像光学单元的实施例，该成像光学单元可以用作根据图1的投射曝光设备中的投射镜头，其中描绘了两个选择的场点的主射线的成像束路径以及上彗形射线和下彗形射线的成像束路径；

图3示出了如从图2中的观察方向III看到的、根据图2的成像光学单元的视图；

图4示出了根据图2和图3的成像光学单元的反射镜的光学使用区域的边界轮廓的平面视图；

图5以与图2相似的示意图示出了成像光学单元的其他实施例，该成像光学单元可以用作根据图1的投射曝光设备的投射镜头；

图6示出了如从图5中的观察方向VI看到的、根据图5的成像光学单元的视图；

图7示出了根据图5和图6的成像光学单元的反射镜的光学使用区域的边界轮廓的平面视图；

图8至图31以与图5至图7相似的示意图示出了成像光学单元的其他实施例，该成像光学单元可以用作根据图1的投射曝光设备的投射镜头；

图32在子午截面中示出了成像光学单元的实施例，该成像光学单元可以用作根据图1的投射曝光设备中的投射镜头，其中描绘了两个选择的场点的主射线的成像束路径以及上彗形射线和下彗形射线的成像束路径；

图33以与图32相似的示意图示出了成像光学单元的其他实施例，该成像光学单元可以用作根据图1的投射曝光设备的投射镜头；

图34示出了从图32中的观察方向XXXIV的视图；以及

图35示出了从图33中的观察方向XXXV的视图。

具体实施方式

微光刻投射曝光设备1具有照明光或成像光3的光源2。光源2是EUV光源，其产生例如在5nm和30nm之间，特别是5nm和15nm之间的波长范围中的光。光源2可以是基于等离子体的光源(激光产生等离子体(LPP)、气体放电产生等离子体(GDP))或者其他基于同步加速器的光源，例如自由电子激光器(FEL)。特别是，光源2可以是具有13.5nm的波长的光源或者具有6.9nm的波长的光源。也可以是其他EUV波长。通常，在投射曝光设备1中引导的照明光3甚至可以是任意波长，例如可见光波长或者可以在微光刻中使用的其他波长(例如DUV，深紫外)，并且为此合适激光光源和/或LED光源是可用的(例如365nm、248nm、193nm、157nm、129nm、109nm)。在图1中非常示意性示出了照明光3的束路径。

照明光单元6用于将来自光源2的照明光3引导至在物平面5中的物场4。使用投射光学单元或成像光学单元7以预定的缩小比例将物场4成像到在像平面9中的像场8中。

为了便于描述投射曝光设备1以及投射光学单元7的多种实施例，在附图中示出了笛卡尔xyz坐标系，根据该系统，在图中示出的部件的各自位置关系是显而易见的。在图1中，x方向垂直于附图的平面延伸并进入该平面。y方向朝左延伸，并且z方向朝上延伸。

在投射光学单元7中，物场4和像场8具有弯曲的或曲形的实施例，以及特别是，形状像是部分环的实施例。在像侧上，该场曲率的曲率的半径可以是81mm。物场4的或像场8的边界轮廓的基本形状具有相应的弯曲。替代性地，可以用矩形形状实施物场4和像场8。物场4和像场8具有大于1的x/y纵横比。因此，物场4具有在x方向上更长的物场尺寸以及在y方向上更短的物场尺寸。这些物场尺寸沿着场坐标x和y延伸。

因此，物场4由第一笛卡尔物场坐标x和第二笛卡尔物场坐标y跨越。垂直于这两个物场坐标x和y的第三笛卡尔坐标z下文也称为法线坐标。

在图2等中示出的示例性实施例中的一个可以用于投射光学单元7。根据图2的投射光学单元7在弧矢平面xz中缩小至四分之一以及在子午平面yz中缩小至八分之一。投射光学单元7是变形的投射光学单元。在两个成像光平面xz、yz中的其他的缩小比例也是可以的，例如3x、5x、6x、7x或大于8x的缩小比例。替代地，投射光学单元7也可以具有在两个成像光平面xz、yz中各自相同的缩小比例，例如缩小至八分之一。那么，其他的缩小比例也是可以的，例如4x、5x或甚至大于8x的缩小比例。各自的缩小比例可以伴随或者不伴随像翻转，其随后也通过缩小比例的合适的符号规格阐明。

在根据图2的投射光学单元7的实施例中，平行于物平面5布置像平面9。在这种情况下，成像的是与物场4重合的反射掩模10的部分，反射掩模也称为掩模母版。由掩模母版夹持器10a承载掩模母版10。由掩模母版位移驱动器10b位移掩模母版夹持器10a。

通过投射光学单元7在形式为晶片的基板11的表面上实施成像，该基板由基板夹持器12承载。由晶片或基板位移驱动器12a位移基板支持器12。

图1示意性示出了，在掩模母版10和投射光学单元7之间，照明光3的射线束13进入该投射光学单元，以及在投射光学单元7和基板11之间，照明光3的射线束14自投射光学单元7发出。投射光学单元7的像场侧数值孔径(NA)在图1中没有按照比例重现。

投射曝光设备1是扫描器类型的。投射曝光设备1的操作期间，掩模母版10和基板11都在y方向上被扫描。投射曝光设备1的步进器类型也是可能的，其中在基板11的单独曝光之间实现在y方向上掩模母版10的和基板11的逐步位移。通过位移驱动器10b和12a的合适的致动，彼此同步地实现这些位移。

图2和3示出了投射光学单元7的第一实施例的光学设计。图2示出了在子午截面中的投射光学单元7，即在yz平面中成像光3的束路径。子午平面yz也称为第二成像光平面。图3示出了在弧矢平面xz中的投射光学单元7的成像束路径。第一成像光平面xz_HR是通过第一笛卡尔物场坐标x和当前成像光主要传播方向z_HR在成像光3的束路径的各位置处跨越的平面。成像光主要传播方向z_HR是中心场点的主射线16的束方向。作为规则，在反射镜M1至M8处以每个反射镜反射改变该成像光主要传播方向z_HR。这改变可以描述为当前成像光主要传播方向z_HR关于第一笛卡尔物场坐标x倾斜约倾斜角度，该倾斜角度等于在各个考虑的反射镜M1至M8处中心场点的该主射线16的偏转角度。继而，为了简化的目的，第一成像光平面xz_HR也称为第一成像光平面xz。

第二成像光平面yz同样地包含成像光主要传播方向z_HR并且垂直于第一成像光平面xz_HR。

由于投射光学单元7仅在子午平面yz内折叠，第二成像光平面yz重合于子午平面。

图2示出了从三个物场点各发出的三个单独射线15的束路径，在图2中这三个物场点在y方向上彼此间隔开。所示出的是这两个物场点各自的上彗形射线和下彗形射线，以及主射线16，即在投射光学单元7的光瞳平面中穿过光瞳中心的单独射线15。从物场4出发，主射线16包括与物平面5的法线成5.1°的角CRA。

物平面5平行于像平面9。

投射光学单元7具有0.55的像侧数值孔径。

根据图2，投射光学单元7总共具有八个反射镜，从物场4出发以单独射线15的束路径的顺序将所述八个反射镜编号为M1至M8。

图2至4示出了反射镜M1至M8的计算的反射表面的截面。使用这些计算反射表面的一部分。只有该反射镜表面的实际使用区域，加上延伸部分，实际出现在真实的反射镜M1至M8中。通过反射镜体以已知方式承载使用的反射表面。

根据图2的投射光学单元7中，反射镜M1、M4、M7和M8配置为法线入射的反射镜，就是说成像光3以小于45°的入射角照射其上的反射镜。因此，总之，根据图2的投射光学单元7具有用于法线入射的四个反射镜M1、M4、M7和M8。这些法线入射的反射镜也称为NI(法线入射)反射镜。

反射镜M2、M3、M5和M6是照明光3的掠入射反射镜，就是说照明光3以大于45°，特别是大于60°的入射角照射其上的反射镜。成像光3的单独射线15的在掠入射反射镜M2、M3、M5和M6上的典型入射角在80°的范围中。总之，根据图2的投射光学单元7具有恰好四个掠入射反射镜M2、M3、M5和M6。这些掠入射反射镜也称为GI(掠入射)反射镜。

反射镜M2和M3形成在成像光3的束路径中依次直接布置的反射镜对。反射镜M5和M6也形成在成像光3的束路径中依次直接布置的反射镜对。

一方面反射镜对M2、M3和另一方面反射镜对M5、M6以如下方式反射成像光3：单独射线15的反射角在这两个反射镜对的各自反射镜M2、M3和M5、M6处相加。因此，各反射镜对M2、M3和M5、M6的各自的第二反射镜M3和M6增加各自的第一反射镜M2、M5施加于各单独射线15上的偏转效应该偏转效果到。反射镜对M2、M3和M5、M6的反射镜的该布置对应于在DE 102009 045 096 A1中针对照明光学单元所描述的。

掠入射的反射镜M2、M3、M5和M6各具有非常大的绝对值的半径，就是说它们与平坦的表面具有比较小的偏差。这些掠入射的反射镜M2、M3、M5和M6各具有相当弱的屈光能力，即束形成效应低于全凹面或凸面的反射镜。反射镜M2、M3、M5和M6对于指定的成像像差校正以及尤其是局部成像像差校正有贡献。

为了表征投射光学单元7的反射镜的偏转效应的目的，在下文中基于分别示出的子午截面而限定了偏转方向。例如根据图2，如在子午截面中各入射束方向上所见，各反射镜在顺时针方向上(即偏转至右边)的偏转效应标记为缩写“R”。举例而言，投射光学单元7的反射镜M2具有这种偏转效应“R”。如从分别入射到反射镜上的束方向所见，该反射镜在逆时针方向上(即朝向左边)的偏转效应标记为缩写“L”。投射光学单元7的反射镜M1和M5是“L”偏转效应的示例。具有折叠角度f的反射镜的弱偏转效应或者完全不偏转的效应标记为缩写“0”，f适用如下条件：-1°＜f＜1°。投射光学单元7的反射镜M7是“0”偏转效应的示例。总之，反射镜M1至M8的投射光学单元7具有如下偏转效应的顺序：LRRRLLOR。

原则上，投射光学单元的所有描述的示例性实施例可以关于平行于xz平面延伸的平面镜像，而在过程中这不改变基本成像性质。然而，这则自然地改变了偏转效应的顺序，在从投射光学单元7通过适当镜像产生投射光学单元的情况下具有如下顺序：RLLLRROL。

(例如在反射镜M4上)偏转效应的选择，即相应入射束的方向的选择，以及反射镜对M2、M3和M5、M6的偏转方向的选择，分别以如下方式选择：有效地使用可用于投射光学单元7的安装空间。

反射镜M1至M8载有优化反射镜M1至M8对成像光3的反射率的涂层。这里，该涂层可以是钌涂层，各具有由例如钌制成的最上层的多层。在掠入射的反射镜M2、M3、M5和M6中，可以使用具有例如一层钼或钌的涂层。这些高反射层，特别是法线入射的反射镜M1、M4、M7和M8的高反射层，可以配置为多层层，其中连续的层可以用不同材料制造。也可以使用替代的材料层。典型的多层层可以具有五十个双层，所述双层分别由一层钼和一层硅制成。这些还可以包含由例如C(碳)、B₄C(碳化硼)制成的附加分离层，并且可以由朝向真空的保护层或保护层系统终止。

为了计算投射光学单元7的总反射率的目的，如下计算系统传输：根据引导射线(即中心物场点的主射线)的入射角，在每个反射镜表面处确定反射镜反射率，并且通过乘积结合反射镜反射率以形成系统传输。

在WO 2015/014 753 A1中解释了关于计算反射率的细节。

在WO 2012/126 867 A中发现了关于GI反射镜(掠入射反射镜)处反射的其他信息。在DE 101 55 711 A中可以发现关于NI反射镜(法线入射反射镜)的反射率的其他信息。

投射光学单元7的总反射率或系统传输，呈现为投射光学单元7的所有反射镜M1至M8的反射率的乘积，是R＝8.02％。

反射镜M8(即在成像束路径中像场8的上游的最后反射镜)具有通道开口17，用于从倒数第三反射镜M6向倒数第二反射镜M7反射的成像光3通过。围绕通道开口17以反射方式使用反射镜M8。所有其他反射镜M1至M7不具有通道开口，并且在以无间隙方式连接的区域中以反射方式使用。

在第一成像光平面xz中，投射光学单元7在反射镜M6和M7之间的成像光束路径中具有恰好一个第一平面中间像18。该第一平面中间像18位于通道开口17的区域中。通道开口17和像场8之间的距离是通道开口17和第一平面中间像18之间的距离的四倍多。

在垂直于第一成像光平面xz的第二成像光平面yz中(参见图2)，成像光3通过恰好两个第二平面中间像19和20。这两个第二平面中间像中的第一个第二平面中间像19位于在成像光束路径中反射镜M2和M3之间。两个第二平面中间像中的另一个第二平面中间像20位于在反射镜M6处成像光3的反射的区域中。

第一平面中间像的数量(即在投射光学单元7中恰好一个第一平面中间像)和第二平面中间像的数量(即在投射光学单元7中恰好两个第二平面中间像)在投射光学单元7中彼此不同。在投射光学单元7中，该中间像的数量相差恰好一个。

第二成像光平面yz与GI反射镜M2、M3和M5、M6的折叠平面yz重合，该第二成像光平面yz中出现较多数量中间像，即两个第二平面中间像19和20。该折叠平面是在对应的GI反射镜处反射时中心场点的主射线16的入射平面。通常，第二平面中间图像不垂直于限定成像光主要传播方向z_HR的中心场点的主光线16。中间像倾斜角度，即与该垂直布置的偏差，理论上是任意的并且可以在0°和+/-89°之间。

可以在中间像18、19、20的区域中布置辅助装置18a、19a、20a。这些辅助装置18a至20a可以是为了至少在截面中限定成像光束的边界的场光阑。类型为UNICOM的场强度规定装置(特别是具有在x方向上错开的指形光阑)也可以布置在中间像18至20的中间像平面中的一个中。

反射镜M1至M8实施为不可以用旋转对称函数描述的自由形式表面。投射光学单元7的其他实施例也是可能的，其中反射镜M1至M8中的至少一个反射镜实施为旋转对称非球面。从DE 10 2010 029 050 A1已知这种旋转对称非球面的非球面公式。所有反射镜M1至M8实施为这种非球面也是可能的。

自由形式表面可以由如下自由形式表面公式(等式1)描述：

以下适用于该公式(1)的参数：

Z是自由形式表面在点x、y处的矢高，其中x²+y²＝r²。此处，r是与自由形式公式的参考轴线(x＝0；y＝0)的距离。

在自由形式表面公式(1)中，C₁、C₂、C₃…表示按幂x和y的自由形式表面级数展开的系数。

在锥形基础区的情况下，c_x、c_y是对应于相应的非球面的顶点曲率的常数。因此，适用c_x＝1/R_x和c_y＝1/R_y。此处，k_x和k_y分别对应于相应的非球面的锥形常数。因此，公式(1)描述双锥形的自由形式表面。

可以从旋转对称参考表面生成替代的可能自由形式表面。从US 2007-0058269 A1得知微光刻投射曝光设备的投射光学单元的反射镜的反射表面的这种自由形式表面。

替代地，借助于二维样条表面也可以描述自由形式表面。例如这是Bezier曲线或非均匀有理B样条(NURBS)。举例而言，通过在xy平面中点的网格和相关z值或者通过这些点和与其相关的梯度，可以描述二维样条表面。根据样条表面的各类型，使用例如多项式或具有关于其连续性和可微性的特定特性的函数，通过在网格点之间插值获得完整表面。该函数的示例为解析函数。

图4示出了投射光学单元7的反射镜M1至M8各由成像光3照射其上的反射表面的边界轮廓，即反射镜M1至M8的所谓的覆盖区。这些边界轮廓各以x/y曲线图来描绘，其对应于相应的反射镜M1至M8的局部x坐标和y坐标。示图以毫米为单位按照真实比例绘制。而且，在关于反射镜M8的示图中示出了通道开口17的形式。

下表总结了反射镜M1至M8的参数“最大入射角”、“反射表面在x方向上的范围”、“反射表面在y方向上的范围”和“最大反射镜直径”：

由于在GI反射镜M2、M3、M5和M6的区域内的第二平面中间像19和20，这些GI反射镜在y方向上不具有极端范围。这些GI反射镜M2、M3、M6和M7的反射表面的相应的表面尺寸的y/x纵横比仅对于反射镜M2而言大于1且在那近似于1.05。GI反射镜中没有一个反射镜具有大于1.05的y/x纵横比。在投射光学单元7的反射镜M1至M8的反射镜M4处，y/x纵横比最强地偏离于1的值，并且在那它具有约为1∶5.6的值。在其它所有反射镜中，y/x纵横比在3∶1至1∶3之间的范围中。

预先确定像侧数值孔径的反射镜M8具有直径为1004mm的最大反射镜直径。没有任何其他反射镜M1至M7具有大于反射镜M8的最大反射镜直径的80％的最大直径。

在投射光学单元7中的反射镜M1和M2之间的成像光束路径中布置光瞳限定孔径光阑AS。在孔径光阑AS的区域中，全部成像光束在其整个圆周上是可达的。

投射光学单元7的反射镜M6(参见图4)具有可以用于反射的反射表面，其具有边界轮廓RK。该边界轮廓RK具有在图4中关于反射镜M6以虚线示出的基本形状GF。该基本形式GF对应于物场4的弯曲的基本形状。反射镜M6的基本形状GF对应于物场4的基本形状，即它同样是弯曲的。

两个轮廓凸起KA沿着位于图4中顶部处反射镜M6的边界轮廓RK的侧边缘布置。

反射镜M6的边界轮廓RK遵循在反射镜M6处反射的完整成像光束的边界轮廓。该完整成像光束的边界轮廓具有相应的轮廓凸起，这是由于通过第二平面中间像20的中间成像。

在图4中底部处示出的两个其他轮廓凸起KA布置在边界轮廓RK的相对的侧边缘上。

沿着基础形状GF的两个长侧边分别布置边缘凸起KA。

投射光学单元7的反射镜M1至M8的反射表面的光学设计数据可以从如下表格获悉。这些光学设计数据分别从像平面9开始，即在像平面9和物平面5之间成像光的相反传播方向上描述各投射光学单元。

这些表格中的第一个提供了投射光学单元7的设计数据的总览并且总结了数值孔径NA、成像光的计算的设计波长、在两个成像光平面xz和yz中的缩小因子β_x和β_y、在x方向和y方向上的像场的尺寸、像场曲率、以及像差值rms和光阑位置。该曲率限定为场的曲率半径的倒数。像差值以mλ(ml)指定，即其取决于设计波长。这里，像差值是波前像差的rms值。

这些表格中的第二个提供顶点半径(半径x＝R_x、半径y＝R_y)和光学部件的光学表面的屈光能力值(屈光力x、屈光力y)。在所考虑的平面(xz，yz)的对应表面的截面中，半径的负数值意味着朝向入射的照明光3凹的曲线，在具有对应曲率的方向的顶点(x，y)处由表面法线跨越该所考虑的平面。两个半径，半径x、半径y，可以具有明显不同的符号。

在每个光学表面处的顶点限定作为引导射线的入射点，该引导射线沿着对称平面x＝0(即图2的附图平面(子午平面))从物场中心传输至像场8。

在顶点处的屈光能力，屈光力x(P_x)、屈光力y(P_y)限定为：

这里，AOI表示引导射线相对于表面法线的入射角。

第三个表格为反射镜M1至M8(以毫米为单位)指定圆锥常数k_x和k_y、顶点半径R_x(＝半径x)和自由形式表面系数C_n。在表格中未制表的系数C_n均具有值0。

第四个表格还指定了从参考表面出发的各反射镜在y方向上偏心(DCY)以及在z方向上位移(DCZ)和倾斜(TLA、TLC)的量值。这对应于在自由形式表面设计方法的情况下的平行移动和倾斜。这里，在y方向上和在z方向上以mm为单位进行位移，关于x轴和z轴进行倾斜。在这个情况下，旋转角被指定为以度为单位。首先进行偏心，接着倾斜。偏心期间的参考表面分别是指定光学设计数据的第一表面。也为物场4指定在y方向上和在z方向上的偏心。除了分配给单独反射镜的表面，第四个表格还将为作为第一表面的像平面、作为最后表面的物平面和可选的光阑表面(具有标记“光阑”)制表。

第五个表格还指定了反射镜M8至M1的传输数据，即所述反射镜针对中心地入射在对应反射镜上的照明光线的入射角的反射率。总传输指定为在投射光学单元中的所有反射镜处反射后从入射强度剩余的比例因子。

第六个表格将光阑AS的边缘指定为局部坐标xyz中的多边形线。如上文所描述，光阑AS是偏心的且倾斜的。

图2的表1

图2的表2

图2的表3a

图2的表3b

图2的表3c

图2的表4a

图2的表4b

图2的表5

图2的表6

投射光学单元7的总反射率是8.02％。

反射镜的参考轴线通常相对于像平面9的法线倾斜，如通过表中的倾斜值所明确的。

反射镜M1、M4和M8具有负半径值，即原则上它们是凹面反射镜。反射镜M7具有正半径值，即原则上它是凸面反射镜。反射镜M2、M3、M5和M6具有带不同符号的半径值，即它们是复曲面或鞍形反射镜。

像场8具有13mm的两倍的x范围和1mm的y范围。针对13.5nm的照明光3的操作波长优化投射光学单元7。

从在照明光3的所有射线在光阑表面上的交叉点出现光阑的光阑表面的边缘(也参见图2的表6)，在像侧，该照明光3的所有射线在具有完整的像侧远心孔径的光阑表面的方向上在场中心点处传播。当光阑实施为孔径光阑时，边缘是内边缘。

光阑AS可以位于平面中或者具有三维的实施例。光阑AS在扫描方向(y)上的范围可以小于光阑AS在交叉扫描方向(x)上的范围。

投射光学单元7在z方向上的安装长度(即在物平面5和像平面9之间的距离)近似为2080mm。

在投射光学单元7中，光瞳遮蔽是入瞳的完整孔径的15％。因此，由于通道开口17，遮蔽小于15％的数值孔径。以与上文结合光阑18所解释的光阑边缘的构造类似的方式构造遮蔽边缘。在作为遮蔽光阑的实施例的情况下，边缘是光阑的外边缘。在投射光学单元7的系统光瞳中，由于遮蔽而不能被照明的表面小于完整系统光瞳的表面的0.15²。在系统光瞳内非照明表面可以在x方向上具有与y方向上不同的范围。在系统光瞳中的非照明表面可以是圆形、椭圆形、正方形或者矩形。另外，在系统光瞳中不能被照明的该表面可以在x方向上和/或在y方向上关于系统光瞳的中心偏心。

在中心物场点和中心像场点之间的y距离d_OIS近似为1350mm。在反射镜M7和像平面9之间的工作距离为77mm。

投射光学单元7的反射镜可以容纳在xyz边长为1004mm×2021mm×1534mm的长方体中。

投射光学单元7在像侧近似是远心的。

以与上文结合光阑18所解释的光阑边缘的构造类似的方式构造遮蔽边缘。在作为遮蔽光阑的实施例的情况下，边缘是光阑的外边缘。在投射光学单元7的系统光瞳中，由于遮蔽而不能被照明的表面小于完整系统光瞳的表面的0.15²。在系统光瞳内非照明表面可以在x方向上具有与y方向上不同的范围。在系统光瞳中的非照明表面可以是圆形、椭圆形、正方形、矩形或者其他具有多边形线的形式。另外，在系统光瞳中不能被照明的该表面可以在x方向上和/或在y方向上关于系统光瞳的中心偏心。

基于图5至图7在下文中解释投射光学单元21的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。在上文已经在图1至图4的情景下解释的部件和功能，适当地表示为相同的附图标记，并且不再详细地讨论。

反射镜M1至M8再次实施为自由形式表面反射镜，对其适用上文指定的自由形式表面公式(1)。

下面的表格再次示出了投射光学单元21的反射镜M1至M8的反射镜参数。

没有一个GI反射镜M2、M3、M5和M6具有大于1的反射表面的y/x纵横比。NI反射镜M4具有最大极值的y/x纵横比近似为1∶6.4。

这里，反射镜M8也具有最大的最大反射镜直径，测得小于950mm。

来自投射光学单元21的光学设计数据可以从如下表格获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图5的表1

图5的表2

图5的表3a

图5的表3b

图5的表3c

图5的表4a

图5的表4b

图5的表5

图5的表6

投射光学单元21的总反射率是9.11％。

投射光学单元21具有0.50的像侧数值孔径。在第一成像光平面xz中，投射光学单元21具有为4.00的缩小因子β_x。在第二成像光平面yz中，投射光学单元21具有为8.00的缩小因子β_y。物侧的主射线角为6.0°。光瞳遮蔽为17％。物像偏移d_OIS大约为1520mm。投射光学单元21的反射镜可以容纳在xyz边长为930mm×2625mm×1570mm的长方体中。

掩模母版10以及因此物平面5关于x轴以1.4°的角度T倾斜。在图5中示出了该倾斜角T。

最接近晶片的反射镜M7和像平面9之间的工作距离大约为80mm。

再次，图7示出了投射光学单元21的反射镜M1至M8的反射表面的边界轮廓。

基于图8至图10在下文中解释投射光学单元22的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图7的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

投射光学单元22在物场4和像场8之间的成像光3的束路径中具有总共六个反射镜M1至M6。全部六个反射镜M1至M6实施为NI反射镜。再次，上文指定的自由形式公式(1)适用于反射镜M1至M6。

反射镜M1至M6的投射光学单元22具有如下偏转效应的顺序：RLRLOL。

下面的表格再次示出了投射光学单元22的反射镜M1至M6的反射镜参数。

再次，在这种情况下，在成像束路径中的最后反射镜M6具有至少小于900mm的最大反射镜直径。六个反射镜中的四个反射镜具有小于500mm的最大反射镜直径。六个反射镜中的三个反射镜具有小于400mm的最大反射镜直径。

投射光学单元22也具有恰好一个第一平面中间像18和两个第二平面中间像19、20。第一平面中间像18位于在反射镜M4至M5之间的成像光3的束路径中、在反射镜M6中的通道开口17的区域中。

两个第二平面中间像中的第一个第二平面中间像19位于成像光束路径中反射镜M1和M2之间。该第一个第二平面中间像19的区域中，可以从外部达到整个成像光束。

两个第二平面中间像中的第二个第二平面中间像20位于成像光束路径中反射镜M3和M4之间、在反射镜M4处的反射附近。

再次，图10示出了投射光学单元22的反射镜M1至M6的反射表面的边界轮廓。

来自投射光学单元22的光学设计数据可以从如下表格获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图8的表1

图8的表2

图8的表3a

图8的表3b

图8的表4a

图8的表4b

图8的表5

图8的表6

投射光学单元22的总反射率是7.82％。

投射光学单元22具有0.50的数值孔径。在第一成像光平面xz中的缩小因子为4.0(β_x)，并且在第二成像光平面yz中的缩小因子为8.0(β_y)。相对于物场4的法线的主射线角CRA是5.0°。最大光瞳遮蔽为15％。物像偏移d_OIS大约为415mm。投射光学单元22的反射镜可以容纳在xyz边长为889mm×860mm×1602mm的长方体中。

物平面5和像平面9平行于彼此延伸。

最接近晶片的反射镜M5和像平面9之间的工作距离为129mm。平均波前像差rms为30.4mλ。

在投射光学单元22中的反射镜M1和M2之间的成像光束路径中第一个第二平面中间像19的上游布置孔径光阑AS。整个成像光束在孔径光阑AS的位置处是完全可到达的。

基于图11至图13在下文中解释投射光学单元23的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图10的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

投射光学单元23的基本设计，特别是NI反射镜和GI反射镜的顺序，再次与投射光学单元7和投射光学单元21的设计是相似的。

反射镜M1至M8再次实施为自由形式表面，对其适用上文指定的自由形式表面公式(1)。

下面的表格再次示出了投射光学单元23的反射镜M1至M8的反射镜参数。

所有反射镜M1至M8以及特别是GI反射镜M2、M3、M5和M6，具有小于1的y/x纵横比。再次，在成像光束路径中的最后反射镜，反射镜M8，具有最大反射镜直径，测得近似为950mm。八个反射镜中的六个反射镜具有小于570mm的直径。八个反射镜中的五个反射镜具有小于500mm的直径。八个反射镜中的三个反射镜具有小于400mm的直径。

投射光学单元23具有恰好一个第一平面中间像18，再次在成像光束路径中最后的反射镜M8中的通道开口17的区域内。另外，投射光学单元23具有总共三个第二平面中间像19、24和25。投射光学单元23的第一个在成像光束路径中的第二平面中间像24，位于在成像光束路径中的反射镜M1和M2之间，并且是完全可到达的。第二个在成像光束路径中的第二平面中间像19位于在成像光束路径中的反射镜M2和M3之间。第三个在成像光束路径中的第二平面中间像25位于在成像光束路径中的反射镜M3和M4之间。

关于反射镜M2：第二平面中间像中的一个第二平面中间像，即中间像24，位于该GI反射镜M2的上游，并且NI反射镜M1在束路径中直接是在束路径中的所述反射镜M2的上游，并且下一个第二平面中间像19位于反射镜M2的下游和GI反射镜M3的上游，该反射镜M3在束路径中直接是在所述反射镜M2的下游。GI反射镜M3也以这种方式位于两个平面中间像19和25之间。在这种情况下，分别在两个第二平面中间像24和19以及19和25之间的两个GI反射镜M2和M3的布置，导致尽管这两个GI反射镜M2和M3上的入射角大，但这些反射镜M2和M3在y方向上的范围不会变得太大。

在投射光学单元23中，第一平面中间像的数量与第二平面中间像的数量差两个。

再次，图13示出了反射镜M1至M8的反射表面的边界轮廓。

来自投射光学单元23的光学设计数据可以从如下表格获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图11的表1

图11的表2

图11的表3a

图11的表3b

图11的表3c

图11的表4a

图11的表4b

图11的表5

图11的表6

投射光学单元23具有8.32％的总传输。

投射光学单元23具有0.55的像侧数值孔径。

在第一成像光平面xz中，缩小因子β_x为4.50。在第二成像光平面yz中，缩小因子β_y为8.00。物场侧主射线角为5.0°。最大光瞳遮蔽为12％。物像偏移d_OIS大约为1080mm。投射光学单元23的反射镜可以容纳在xyz边长为946mm×1860mm×1675mm的长方体中。

在投射光学单元23中，物平面5和像平面9平行于彼此延伸。最接近晶片的反射镜M7和像平面9之间的工作距离为94mm。平均波前像差rms近似为24mλ。

在反射镜M1和M2之间的成像光束路径中的第一个第二平面中间像24的上游布置孔径光阑AS。整个成像光束在孔径光阑AS的区域中是完全可到达的。

基于图14至图16在下文中解释投射光学单元26的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图13的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

反射镜M1、M6和M7实施为NI反射镜并且反射镜M2至M5实施为GI反射镜。GI反射镜M2至M5具有在相同方向上的偏转效应。总之，以下适用于投射光学单元26的反射镜M1至M7中偏转效应的顺序：RLLLLOR。

反射镜M1至M7再次实施为自由形式表面反射镜，对其适用上文指定的自由形式表面公式(1)。

下面的表格再次示出了投射光学单元26的反射镜M1至M7的反射镜参数。

仅反射镜M5具有大于1的y/x纵横比。该反射镜M5的y/x纵横比小于1.5。

最后反射镜M7具有最大的反射镜直径，测得近似为820mm。其他的反射镜M1至M6中没有一个具有大于525mm的直径。七个反射镜中的五个反射镜具有小于450mm的最大直径。

投射光学单元26再次具有恰好一个第一平面中间像18和两个第二平面中间像19、20。恰好与穿过通道开口17的成像光的通道齐平布置第一平面中间像18。这导致通道开口17的非常小的x范围。布置两个第二平面中间像19、20：第一个在GI反射镜M3和M4之间的成像光束路径中；第二个在GI反射镜M4和M5之间的成像光束路径中。因此，GI反射镜M4再次是在两个第二平面中间像之间的GI反射镜，如同在上文中结合根据图11至图13的实施例已经解释的。

投射光学单元26具有：首先，奇数个反射镜；其次，第一平面中间像和第二平面中间像的数量相差恰好为1。这实现了与物位置相比正确的像位置；即“图像翻转”被补偿。

再次，图16示出了反射镜M1至M7的反射表面的边界轮廓。

来自投射光学单元26的光学设计数据可以从如下表格获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图14的表1

图14的表2

图14的表3a

图14的表3b

图14的表3c

图14的表4a

图14的表4b

图14的表5

图14的表6

投射光学单元26具有在x方向上为13.0mm的两倍和在y方向上为1.2mm的像场尺寸。不同于前述的实施例，在投射光学单元26中的物场4和像场8都是矩形。相应地，场曲率为0。

在投射光学单元26中，像侧数值孔径为0.45。在第一成像光平面xz中的缩小因子为4.00(β_x)，并且在第二成像光平面yz中的缩小因子为8.00(β_y)。物侧的主射线角CRA为4.2°。光瞳遮蔽为至多13％。

投射光学单元26具有9.29％的总传输。

在投射光学单元26中的物像偏移d_OIS近似为2170mm。投射光学单元26的反射镜可以容纳在xyz边长为822mm×2551mm×1449mm的长方体中。

在投射光学单元26中，物平面5相对于像平面9关于x轴以9.1°倾斜。

最接近晶片的反射镜M6和像平面之间的工作距离为80mm。平均波前像差rms近似为35mλ。

基于图17至图19在下文中解释投射光学单元27的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图16的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

投射光学单元27总共具有9个反射镜M1至M9。反射镜M1、M2、M3、M5、M6、M7实施为GI反射镜。其余反射镜M4、M8和M9实施为NI反射镜。如同在上文描述的所有投射光学单元，在成像光束路径中的最后反射镜M9也实施为具有用于投射光学单元27中的成像光3的通道开口17。在投射光学单元27中，成像光束路径具有交叉点。这里，首先在反射镜M2和M3之间的成像光部分束，以及其次在反射镜M6和M7的成像光部分束在交叉区域28中交叉。

同样，在投射光学单元27中，有两个第二平面中间像19、20和在反射镜M9中的通道开口17附近出现第一平面中间像18。在投射光学单元27中，两个第二平面中间像中的第一个第二平面中间像19位于成像光束路径中的反射镜M4和M5之间、在反射镜M5处的反射附近。两个第二平面中间像中的第二个第二平面中间像位于在成像光束路径中的反射镜M7和M8之间、在反射镜M7处的反射附近。

孔径光阑AS位于反射镜M2和M3之间的成像光束路径中和交叉点28的下游。成像光束在孔径光阑AS的区域中是完全可到达的。

下面的表格再次示出了投射光学单元27的反射镜M1至M9的反射镜参数。

在投射光学单元27中，反射镜M1和M2具有大于1的y/x纵横比。反射镜M1至M9中没有一个反射镜具有大于2的y/x纵横比。反射镜M1具有在1.9的区域中的最大的y/x纵横比。

在投射光学单元27中，反射镜M4具有最大的最大直径，测得为753.3mm。该直径略微大于最后反射镜M9的直径，其具有751.8mm的直径。九个反射镜M1至M9中的五个反射镜具有小于450mm的直径。九个反射镜M1至M9中的四个反射镜具有小于400mm的直径。

图19示出了反射镜M1至M9的反射表面的边界轮廓。

来自投射光学单元27的光学设计数据可以从如下表格获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2至图4的投射光学单元7的表格。

图17的表1

图17的表2

图17的表3a

图17的表3b

图17的表3c

图17的表4a

图17的表4b

图17的表5

图17的表6

投射光学单元27具有7.2％的总传输。

投射光学单元27具有0.50的像侧数值孔径。

在第一成像光平面xz中缩小因子为4(β_x)。在第二成像光平面yz中缩小因子为8(β_y)。物侧主射线角CRA为5.5°。最大光瞳遮蔽为15％。

投射光学单元27的物像偏移d_OIS大约为530mm。投射光学单元27的反射镜可以容纳在xyz边长为753mm×1869mm×1860mm的长方体中。

在投射光学单元27中，物平面5相对于像平面9关于平行于x轴的轴线以15.5％倾斜。

最接近晶片的反射镜M8和像平面9之间的工作距离为83mm。平均波前像差rms为10.4mλ。

基于图20至图22在下文中解释投射光学单元29的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图19的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

图20示出了投射光学单元29的子午截面。图21示出了投射光学单元29的弧矢视图。再次，图22示出了投射光学单元29的反射镜M1至M9的反射表面的边界轮廓。

投射光学单元29具有3个NI反射镜，即反射镜M1、M8和M9。投射光学单元29具有6个GI反射镜，即反射镜M2至M7。

反射镜M2至M7均在反射镜偏转效应方面具有相同方向。在这个方面，投射光学单元29与根据图14至图16的投射光学单元26相似。

下面的表格再次示出了投射光学单元29的反射镜M1至M9的反射镜参数。

除了反射镜M7，投射光学单元29的反射镜中没有一个反射镜具有大于1的y/x纵横比。反射镜M7的y/x纵横比大约为1.6。

成像束路径中的最后反射镜M9具有最大的最大直径，测得为930.3mm。所有其他反射镜M1至M8的最大直径小于800mm。九个反射镜M1至M9中的四个反射镜具有小于600mm的最大直径。

再次，投射光学单元29具有两个第二平面中间像19、20和在反射镜M9中的通道开口17的区域中的恰好一个第一平面中间像18。两个第二平面中间像中的第一个第二平面中间像19位于成像光束路径中的GI反射镜M4和M5之间。两个第二平面中间像中的第二个第二平面中间像20位于成像光束路径中的两个GI反射镜M6和M7之间。

来自投射光学单元29的光学设计数据可以从如下表格获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图20的表1

图20的表2

图20的表3a

图20的表3b

图20的表3c

图20的表4a

图20的表4b

图20的表5

图20的表6

投射光学单元29具有9.67％的总传输。

投射光学单元29的像侧数值孔径为0.50。在第一成像光平面xz中的缩小因子β_x为4。在第二成像光平面yz中的缩小因子β_y为8。同样，这里，两个成像光平面中不同数量的中间像，导致校正由于奇数个反射镜的图像翻转。

物侧的主射线角CRA为5.0°。入瞳的最大遮蔽为12％。物像偏移d_OIS大约为2150mm。投射光学单元29的反射镜可以容纳在xyz边长为930mm×2542mm×1713mm的长方体中。

物平面5相对于像平面9关于x轴以0.2°的角度T倾斜。

最接近晶片的反射镜M8和像平面9之间的工作距离为80mm。平均波前像差rms为11.4mλ。

在投射光学单元29中的反射镜M1和M2之间的成像光束路径中布置孔径光阑AS。成像光束在孔径光阑AS的区域中是完全可到达的。

基于图23至图25在下文中解释投射光学单元30的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图22的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

图23示出了投射光学单元30的子午截面。图24示出了投射光学单元30的弧矢视图。再次，图25示出了投射光学单元30的十个反射镜M1至M10的反射表面的边界轮廓。

投射光学单元30具有三个NI反射镜，即反射镜M1、M9和M10。投射光学单元30具有七个GI反射镜，即反射镜M2至M8。

反射镜M2至M8均在反射镜偏转效应方面具有相同方向。在这个方面，投射光学单元30与根据图14至图16的投射光学单元26和根据图20至图22的投射光学单元29是相似的。

反射镜M1至M10再次实施为自由形式表面反射镜，对其适用上文指定的自由形式表面公式(1)。

下面的表格再次示出了投射光学单元30的反射镜M1至M10的反射镜参数。

投射光学单元30的所有反射镜M1至M10具有小于1的y/x纵横比。

在成像束路径中的最后反射镜M10具有最大的最大直径，测得为1008.9mm。所有其他反射镜M1至M9的最大直径小于750mm。十个反射镜中的七个反射镜具有小于700mm的最大直径。十个反射镜中的四个反射镜具有小于600mm的最大直径。

再次，投射光学单元30具有两个第二平面中间像19、20和在反射镜M10中的通道开口17的区域中的恰好一个第一平面中间像18。第一平面中间像18和通道开口17之间的距离小于最后反射镜M10和像场8之间的距离的三分之一。

在投射光学单元30中，两个第二平面中间像中的第一个第二平面中间像19位于成像光3在GI反射镜M4处的反射的区域中。两个第二平面成像中间像中的第二个第二平面中间像20位于在成像光束路径中在GI反射镜M6处反射的区域中。

来自投射光学单元30的光学设计数据可以从如下表格中获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图23的表1

图23的表2

图23的表3a

图23的表3b

图23的表3c

图23的表3d

图23的表4a

图23的表4b

图23的表5

图23的表6

投射光学单元30具有9.88％的总传输。

投射光学单元30的像侧数值孔径为0.55。在第一成像光平面xz中的缩小因子β_x为4。在第二成像光平面yz中的缩小因子β_y为8。

物侧的主射线角CRA为5.0°。入瞳的最大遮蔽为20％。物像偏移d_OIS大约为2080mm。投射光学单元30的反射镜可以容纳在xyz边长为1008mm×3091mm×2029mm的长方体中。

物平面5相对于像平面9关于x轴以17°的角度T倾斜。

最接近晶片的反射镜M10和像平面9之间的工作距离为87mm。平均波前像差rms为10.60mλ。

在投射光学单元30中的反射镜M1和M2之间的成像光束路径中布置孔径光阑AS。成像光束在孔径光阑AS的区域中是完全可到达的。

基于图26至图28在下文中解释投射光学单元31的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图25的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

图26示出了投射光学单元31的子午截面。图27示出了投射光学单元31的弧矢视图。再次，图28示出了投射光学单元31的十个反射镜M1至M10的反射表面的边界轮廓。

投射光学单元31具有三个NI反射镜，即反射镜M1、M9和M10。投射光学单元31具有七个GI反射镜，即反射镜M2至M8。

反射镜M2至M8均在反射镜偏转效应方面具有相同方向。在这个方面，投射光学单元31与根据图23至图25的投射光学单元30相似。

下面的表格再次示出了投射光学单元31的反射镜M1至M10的反射镜参数。

投射光学单元31的所有反射镜M1至M10具有小于1的y/x纵横比。

在成像束路径中的最后反射镜M10具有最大的最大直径，测得为892.0mm。所有其他反射镜M1至M9的最大直径小于550mm。十个反射镜中的八个反射镜具有小于500mm的最大直径。十个反射镜中的六个反射镜具有小于400mm的最大直径。

再次，投射光学单元31具有两个第二平面中间像19、20和在反射镜M10中的通道开口17的区域中的恰好一个第一平面中间像18。两个第二平面成像中间像中的第一个第二平面中间像19在成像束路径中位于在GI反射镜M4处反射的区域中。两个第二平面成像中间像中的第二个第二平面中间像20在成像束路径中位于在GI反射镜M7处反射的区域中。

反射镜M7(参见图28)包含具有基本形状GF的反射表面边界轮廓RK，该基本形状GF再次对应于投射光学单元31的物场4的或像场8的弯曲的基本形状。两个轮廓凸起KA沿着该边界轮廓RK的侧边缘布置，其在图28中的顶部处示出并且是相对于基本形状GF的长侧边缘。这些轮廓凸起KA的功能对应于上文中参考在根据图2至图4的实施例中的投射光学单元7的反射镜M6已经解释的功能。

来自投射光学单元31的光学设计数据可以从如下表格中获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图26的表1

图26的表2

图26的表3a

图26的表3b

图26的表3c

图26的表3d

图26的表4a

图26的表4b

图26的表5

图26的表6

投射光学单元31具有8.72％的总传输。

投射光学单元31的像侧数值孔径为0.55。在第一成像光平面xz中的缩小因子β_x为4。在第二成像光平面yz中的缩小因子β_y为7.5。

物侧主射线角CRA为5.0°。入瞳的最大遮蔽为16％。物像偏移d_OIS大约为3230mm。投射光学单元31的反射镜可以容纳在xyz边长为891mm×2395mm×1615mm的长方体中。

在投射光学单元31中，物平面5平行于像平面9延伸。

最接近晶片的反射镜M10和像平面9之间的工作距离为65mm。平均波前像差rms为7.65mλ。

在投射光学单元31中的反射镜M1和M2之间的成像光束路径中布置孔径光阑AS。成像光束在孔径光阑AS的区域中是完全可到达的。

基于图29至图31在下文中解释投射光学单元32的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图28的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

图29示出了投射光学单元32的子午截面。图30示出了投射光学单元32的弧矢视图。再次，图31示出了投射光学单元32的七个反射镜M1至M7的反射表面的边界轮廓。

投射光学单元32具有三个NI反射镜，即反射镜M1、M6和M7。投射光学单元32具有四个GI反射镜，即反射镜M2至M5。

反射镜M2至M8均在反射镜偏转效应方面具有相同方向。在这个方面，投射光学单元32与根据图14至图16的投射光学单元26相似。

下面的表格再次示出了投射光学单元32的反射镜M1至M7的反射镜参数。

投射光学单元32的反射镜M1至M7中的六个反射镜具有小于1的y/x纵横比。反射镜M5的y/x纵横比小于1.6。

成像束路径中的最后反射镜M7具有最大的最大直径，测得为903.2mm。所有其他反射镜M1至M6的最大直径小于600mm。七个反射镜中的五个反射镜具有小于500mm的最大直径。

再次，投射光学单元32具有两个第二平面中间像19、20和在反射镜M7中的通道开口17的区域中的恰好一个第一平面中间像18。两个第二平面中间像中的第一个第二平面中间像19位于在成像束路径中的反射镜M3和M4之间。两个第二平面中间像中的第二个第二平面中间像20位于成像束路径中的反射镜M4和M5之间。

投射光学单元32的像侧数值孔径为0.45。在第一成像光平面xz中的缩小因子β_x为4。在第二成像光平面yz中的缩小因子β_y为8。

物侧主射线角CRA为5.2°。物像偏移d_OIS近似为2470mm。

最接近晶片的反射镜M7和像平面9之间的工作距离为87mm。平均波前像差rms为30.60mλ。

在投射光学单元32中的反射镜M1和M2之间的成像光束路径中布置孔径光阑AS。成像光束在孔径光阑AS的区域中是完全可到达的。

基于图32和图34在下文中解释投射光学单元33的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。上文中已经在图1至图31的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

根据图32和34的投射光学单元33在弧矢平面xz中缩小至四分之一以及在子午平面yz中缩小至八分之一。

图32示出了在子午截面中的投射光学单元33，即在yz平面中的成像光3的束路径(参见图2中的单独射线15)。图34以视图示出了投射光学单元33，其中单独射线15投射至xz平面上，即在弧矢视图中。子午平面yz也称为第二成像光平面。第一成像光平面xz_HR是通过第一笛卡尔物场坐标x和当前成像光主要传播方向z_HR在成像光3的束路径的各位置处跨越的平面。成像光主要传播方向z_HR是中心场点的主射线16的束方向。通常，在反射镜M1至M6处的每个反射镜反射处，改变成像光主要传播方向z_HR。这改变可以描述为当前成像光主要传播方向z_HR关于第一笛卡尔物场坐标x倾斜约倾斜角度，该倾斜角度等于中心场点的该主射线16在各个考虑的反射镜M1至M6处的偏转角度。对应的第一成像光平面xz_HR在图32中用虚线示出并且均垂直于附图的平面(yz平面)。

继而，为了简化的目的，第一成像光平面xz_HR也称为第一成像光平面xz。

由于投射光学单元33仅在子午平面yz内折叠，第二成像光平面yz重合于子午平面。

图32示出了从三个物场点各发出的三个单独射线15的束路径，这三个物场点在图32中的y方向上彼此间隔开。所示出的是这两个物场点各自的上彗形射线和下彗形射线，以及主射线16，即通过在投射光学单元33的光瞳平面中的光瞳的中心的单独射线15。从物场4出发，主射线16包括与物平面5的法线成5.2°的角CRA。

物平面5平行于像平面9。

投射光学单元33具有0.55的像侧数值孔径。

根据图32，投射光学单元总共具有六个反射镜，从物场4出发以单独射线15的束路径的顺序将所述反射镜编号为M1至M6。

图32示出了反射镜M1至M6的计算的反射表面的截面。使用这些计算反射表面的部分。只有该反射镜表面的实际使用区域，加上延伸部分，实际出现在真实的反射镜M1至M6中。通过反射镜体，以已知方式承载使用的反射表面。

根据图32的投射光学单元33中，所有反射镜M1至M6配置为法线入射的反射镜，即成像光3以小于45°的入射角照射至其上的反射镜。因此，总之，根据图32的投射光学单元7具有法线入射的六个反射镜M1至M6。这些法线入射的反射镜也称为NI(法线入射)反射镜。

投射光学单元7不具有掠入射的反射镜(GI反射镜，掠入射反射镜)。

原则上，投射光学单元的所有描述的示例性实施例可以关于平行于xz平面延伸的平面镜像，而其在过程中不改变基本成像性质。

反射镜M1至M6承载优化反射镜M1至M6对成像光3的反射率的涂层。这些高反射的层可以实施为多层层，可以用不同材料制造连续的层。也可以使用替代的材料层。典型的多层层可以具有五十个双层，其分别由一层钼和一层硅制成。这些可以包含由例如C(碳)、B₄C(碳化硼)制成的附加分离层，并且可以由朝向真空的保护层或保护层系统终止。

可以在DE 101 55 711 A中找到关于NI反射镜(法线入射反射镜)的反射率的其他信息。

投射光学单元33的完全反射率或系统传输，呈现为投射光学单元33的所有反射镜M1至M8的反射率的乘积，近似为R＝7.0％。

反射镜M6(即在成像束路径中像场8的上游的最后反射镜)具有通道开口17，该通道开口用于从倒数第三反射镜M4向倒数第二反射镜M5反射的成像光3的通过。围绕通道开口17以反射方式使用反射镜M6。其他反射镜M1至M5中没有一个反射镜具有通道开口，并且在没有间隙的连续区域中以反射方式使用所述反射镜。

在第一成像光平面xz中，投射光学单元33在反射镜M4和M5之间的成像光束路径中具有恰好一个第一平面中间像18。该第一平面中间像18位于通道开口17的区域中。通道开口17和像场8之间的距离是通道开口17和第一平面中间像18之间的距离的四倍多。

在垂直于第一成像光平面xz的第二成像光平面yz中，成像光3通过恰好两个第二平面中间像19和20。这两个第二平面中间像中的第一个第二平面中间像19位于在成像光束路径中的反射镜M1和M2之间。两个第二平面中间像中的另一个第二平面中间像20位于成像光束路径中的反射镜M4和M5之间、在第一平面中间像18的区域中。因此，第一平面中间像18和第二平面中间像20都位于在反射镜M6中的通道开口17的区域中。成像光3的整个束在通道开口17的位置处具有小的直径。相应地，通道开口17的直径可以选择为小的，而不会削减在反射镜M4和M5之间的部分束路径中的成像光3。

第一平面中间像的数量(即在投射光学单元33中恰好一个第一平面中间像)和第二平面中间像的数量(即在投射光学单元33中恰好两个第二平面中间像)在投射光学单元33中彼此不同。在投射光学单元33中，中间像的该数量相差恰好一个。

第二成像光平面yz与反射镜M1至M6的折叠平面重合，该第二成像光平面yz中出现较多数量中间像，即两个第二平面中间像19和20。该折叠平面是在对应的反射镜M1至M6处反射时中心场点的主射线16的入射平面。通常，第二平面中间像不垂直于限定成像光主要传播方向z_HR的中心场点的主光线16。中间像倾斜角度，即与该垂直布置的偏差，理论上是任意的并且可以在0°和+/-89°之间。

可以在中间像18、19、20的区域中布置辅助装置18a、19a、20a。这些辅助装置18a至20a可以是至少在截面中限定成像光束的边界的场光阑。类型为UNICOM的场强度规定装置(特别是具有在x方向上错开的指形光阑)，也可以布置在中间像18至20的中间像平面中的一个中。

反射镜M1至M6实施为不可能用旋转对称函数描述的自由形式表面。投射光学单元33的其他实施例也是可能的，其中反射镜M1至M6中的至少一个反射镜实施为旋转对称非球面。从DE 10 2010 029 050 A1已知这种旋转对称非球面的非球面公式。所有反射镜M1至M6实施为这种非球面也是可能的。

下表总结了投射光学单元33的反射镜M1至M6的参数“最大入射角”、“反射表面在x方向上的范围”、“反射表面在y方向上的范围”和“最大反射镜直径”：

所有反射镜M1至M6上的成像光的最大入射角小于25°。该最大入射角出现在反射镜M5上且是22.0°。

成像光3在物场4下游的成像光束路径中的前四个反射镜M1至M4上的入射角最大值小于20°。在前四个反射镜M1至M4上的该最大的入射角出现在反射镜M3上并且是17.5°。

在投射光学单元33的反射镜M1至M6的反射镜M4处，y/x纵横比最强地偏离于值1，并且在那它具有约为1∶2.6的值。在所有其它反射镜中，y/x纵横比在1∶1至1∶2.5之间的范围中。反射镜M1至M4的x/y纵横比各大于2∶1。

反射镜M4具有直径为913mm的最大的最大反射镜半径。其他反射镜M1至M3、M5、M6中没有一个具有大于800mm的最大直径。

在投射光学单元33中的反射镜M2和M3之间的成像光束路径中布置光瞳限定孔径光阑AS。在孔径光阑AS的区域中，整个成像光在其整个圆周上是可到达的。孔径光阑AS限制整个成像光束的整个外部的横截面。孔径光阑AS在空间上与第二平面中间像19相邻地布置。该布置使得可以相对于在反射镜M2和M3之间的成像光部分束少量折叠在反射镜M1和M2之间的成像光部分束，并且因此导致在反射镜M2上成像光3的进入射线的最大入射角相应较低。

来自投射光学单元33的反射镜M1至M6的反射表面的光学设计数据可以从如下表格中获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图32的表1

图32的表2

图32的表3a

图32的表3b

图32的表4a

图32的表4b

图32的表5

图32的表6

投射光学单元33的总反射率近似为7.85％。

像场8具有13mm的两倍的x范围和1mm的y范围。优化投射光学单元33用于13.5nm的照明光3的操作波长。

从在照明光3的所有射线在光阑表面上的交叉点出现光阑的光阑表面的边缘(也参见图32的表6)，在像侧，该照明光3的所有射线在具有完整的像侧远心孔径的光阑表面的方向上在场中心点处传播。当光阑实施为孔径光阑时，边缘是内边缘。

光阑AS可以位于平面中或者具有三维的实施例。光阑AS在扫描方向(y)上的范围可以小于在交叉扫描方向(x)上的范围。

投射光学单元33在z方向上的安装长度(即在物平面5和像平面9之间的距离)近似为2500mm。

在投射光学单元33中，光瞳遮蔽是入瞳的完整孔径的15％。因此，由于通道开口17而遮蔽小于15％的数值孔径。以与上文结合光阑18所解释的光阑边缘的构造类似的方式构造遮蔽边缘。在作为遮蔽光阑的实施例的情况下，边缘是光阑的外边缘。在投射光学单元33的系统光瞳中，由于遮蔽而不能被照明的表面小于完整系统光瞳的表面的0.15²。在系统光瞳内的非照明表面可以在x方向上具有与y方向上不同的范围。在系统光瞳中的非照明表面可以是圆形、椭圆形、正方形或者矩形。另外，在系统光瞳中不能被照明的该表面可以在x方向上和/或在y方向上关于系统光瞳的中心偏心。

在中心物场点和中心像场点之间的y距离d_OIS(物像偏移)近似为1100mm。在反射镜M5和像平面9之间的工作距离为90mm。

投射光学单元33的反射镜可以容纳在xyz边长为913mm×1418mm×1984mm的长方体中。

投射光学单元33在像侧近似是远心的。

基于图33和图35在下文中解释投射光学单元34的其他实施例，其可以用在根据图1的投射曝光设备1中来代替投射光学单元7。再次，图33示出了子午截面，图35示出了投射光学单元34的弧矢视图。上文中已经在图1至图32和图34的情景下解释的部件和功能由相同的附图标记适当地表示，并且不再详细地讨论。

反射镜M1至M6再次实施为自由形式表面反射镜，对其适用上文指定的自由形式表面公式(1)。

下面的表格再次示出了投射光学单元34的反射镜M1至M6的反射镜参数。

反射镜M1至M6都不具有大于1的y/x纵横比。反射镜M2具有近似为1∶3.4的最小的y/x纵横比。

这里，反射镜M6具有最大的最大反射镜直径，测得为950.9mm。

来自投射光学单元34的光学设计数据可以从如下表格中获悉，该表格就其设计而言对应于根据图2的投射光学单元7的表格。

图33的表1

图33的表2

图33的表3a

图33的表3b

图33的表4a

图33的表4b

图33的表5

图33的表6

投射光学单元34的总反射率近似为8.02％。

投射光学单元34具有0.55的像侧数值孔径。在第一成像光平面xz中，投射光学单元34具有4.00的缩小因子β_x。在第二成像光平面yz中，投射光学单元21具有-8.00的缩小因子β_y。物侧主射线角为5.2°。投射光学单元34的安装长度近似为3000mm。光瞳遮蔽为9％。物像偏移d_OIS近似为177.89mm并且因此显著小于根据图32的投射光学单元7的物像偏移d_OIS。

投射光学单元34的反射镜可以容纳在xyz边长为951mm×1047mm×2380mm的长方体中。

掩模母版10以及因此物平面5相对于像平面9关于x轴以10°的角T倾斜。在图33中指出该倾斜角T。

最接近晶片的反射镜M5和像平面9之间的工作距离大约为126mm。

在下面的表I和表II中再次总结上文描述的投射光学单元的一些数据。对应的第一列用于将数据分配到对应的示例性实施例。

下面的表I总结了以下光学参数：数值孔径(NA)、在x方向上的像场范围(场尺寸X)、在y方向上的像场范围(场尺寸Y)、像场曲率(场曲率)和总反射率或系统传输(传输)。

下面的表II指定以下参数：“反射镜类型的顺序”(反射镜类型次序)、“反射镜偏转效应的顺序”(反射镜旋转次序)、“在xz平面中屈光能力顺序”(x屈光力次序)和“在yz平面中屈光能力顺序”(y屈光力次序)。这些顺序分别以在束路径中的最后反射镜开始，即跟随相反的束方向。举例而言，顺序“ROLLRRRL”涉及根据图2的实施例中按顺序M8至M1的偏转效应。

表I

表II

在反射镜类型中，规格“N”涉及法线入射(NI)反射镜，规格“G”涉及掠入射(GI)反射镜。在屈光能力顺序中，“+”表示凹面反射镜表面，“-”表示凸面反射镜表面。在比较在x和y中的屈光能力顺序时，可以看到所有示例性实施例具有在x和y中不同的屈光能力顺序，除了例如根据图5的实施例。这些在x和y中的屈光能力具有不同符号的反射镜表示鞍形或复曲面表面。就在示例性实施例中的一个中出现GI反射镜而言，如可以从表II中的反射镜类型顺序中获悉，这些反射镜分别至少成对出现。

为了制造微结构化部件或纳米结构化部件，如下使用投射曝光设备1：首先，提供反射掩模10或掩模母版以及基板或晶片11。随后，借助于投射曝光设备1，将在掩模母版10上的结构投射到晶片11的感光层上。然后，通过使感光层显影来制造在晶片11上的微结构或纳米结构以及因此制造微结构化部件。

Claims

1.投射光刻的成像光学单元(7；21；22；23；26；27；29)

-包括多个反射镜(M1至M8；M1至M6；M1至M7；M1至M9；M1至M10)，所述多个反射镜沿着成像光束路径将成像光(3)从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中；

-其中所述物场(4)由以下跨越

--第一笛卡尔物场坐标(x)，和

--第二笛卡尔物场坐标(y)，以及

-其中第三笛卡尔法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标(x，y)；

-其中所述成像光学单元(7；21；22；23；26；27；29)实施为使得：

--所述成像光(3)在第一成像光平面(xz_HR)中传播，成像光主要传播方向(z_HR)位于所述第一成像光平面中，以及

--所述成像光(3)在所述第二成像光平面(yz)中传播，所述成像光主要传播方向(z_HR)位于所述第二成像光平面中，并且所述第二成像光平面垂直于所述第一成像光平面(xz_HR)；

-其中在所述第一成像光平面(xz_HR)中传播的所述成像光(3)的第一平面中间像(18)的数量和在所述第二成像光平面(yz)中传播的成像光(3)的第二平面中间像(19，20；24，19，25)的数量彼此不同。

2.如权利要求1所述的成像光学单元，其特征在于，所述反射镜中的至少一个反射镜(M2，M3，M5，M6；M2，M3，M4，M5；M1，M2，M3，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7，M8)实施为GI反射镜。

3.如权利要求2所述的成像光学单元，其特征在于，所述GI反射镜(M2，M3，M5，M6；M2，M3，M4，M5；M1，M2，M3，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7，M8)的使用的反射表面具有的所述GI反射镜的表面尺寸的纵横比(y/x)至多为3。

4.如权利要求2或3所述的成像光学单元，其特征在于，所述成像光平面(yz)与所述至少一个GI反射镜(M2，M3，M5，M6；M2，M3，M4，M5；M1，M2，M3，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7，M8)的折叠平面(yz)重合，在所述成像光平面(yz)中出现较大数量的中间像(19，20；24，19，25)。

5.如权利要求2至4中的任一项所述的成像光学单元，其特征在于，所述中间像(19；24)中的一个中间像实施为在与所述折叠平面重合的所述成像光平面(yz)中、在所述GI反射镜(M2；M3；M4)上游的束路径中、在所述GI反射镜与在所述束路径中直接设置于其上游的反射镜之间，以及所述中间像(20；19；25)中的另一个中间像实施为在与所述折叠平面重合的所述成像光平面(yz)中、在所述GI反射镜(M2；M3；M4)下游的束路径中、在所述GI反射镜与在所述束路径中直接设置于其下游的反射镜之间。

6.如权利要求2至5中的任一项所述的成像光学单元，其特征在于，在所述成像光(3)的束路径中一个接一个的至少两个反射镜实施为具有相同折叠平面(yz)的GI反射镜(M2，M3，M5，M6；M2，M3，M4，M5；M1，M2，M3，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7；M2，M3，M4，M5，M6，M7，M8)，其中在与所述折叠平面重合的所述成像光平面(yz)中的中间像(19，20)实施为在这两个GI反射镜(M2，M3；M3，M4；M4，M5；M6，M7)之间的束路径中。

7.如权利要求1至6中的任一项所述的成像光学单元，其特征在于，所述反射镜(M8；M6；M7；M9；M10)中的至少一个反射镜具有用于所述成像光(3)通过的通道开口(17)，所述至少一个反射镜实施为围绕所述通道开口(17)来反射所述成像光(3)，其中至少一个中间像(18)位于所述通道开口(17)的区域中。

8.如权利要求1至7中的任一项所述的成像光学单元，其特征在于，所述反射镜中的至少一个反射镜(M1，M4，M7，M8；M1至M6；M1，M6，M7；M4，M8，M9；M1，M8，M9；M1，M9，M10)实施为NI反射镜。

9.如权利要求1至8中的任一项所述的成像光学单元，其特征在于所述物场(4)和所述像场(8)之间的成像束路径中的奇数个反射镜(M1至M7；M1至M9)。

10.光学系统

-包括如权利要求1至9中的任一项所述的成像光学单元；

-包括辅助装置(19a，20a)，所述辅助装置布置在所述中间像(18；19，20；24，19，25)中的一个中间像的中间像平面中。

11.光学系统

-包括如权利要求1至9中的任一项所述的成像光学单元；

-包括照明光学单元(6)，以来自光源(2)的照明光(3)照明所述物场(4)。

12.投射曝光设备，包括如权利要求10或11所述的光学系统，且包括产生所述照明光(3)的光源(2)。

13.制造结构化部件的方法，包括如下方法步骤：

-提供掩模母版(10)和晶片(11)；

-借助于如权利要求12所述的投射曝光设备，将在所述掩模母版(10)上的结构投射到所述晶片(11)的感光层上；

-在所述晶片(11)上制造微结构或纳米结构。

14.根据如权利要求13所述的方法制造的结构化部件。

15.反射镜(M6，M7)，所述反射镜作为成像光学单元(7；31)的组成部分，所述成像光学单元沿着成像光束路径将成像光(3)从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中；

-包括可用于反射的反射表面，所述反射表面包括具有基本形状(GF)的边界轮廓(RK)，所述基本形状对应于所述物场的基本形状，其中至少两个轮廓凸起(KA)沿着该边界轮廓(RK)的侧边缘布置。

16.如权利要求15所述的反射镜，其特征在于，所述轮廓凸起(KA)中的两个轮廓凸起沿着所述基本形状(GF)的长侧边布置。

17.如权利要求15或16所述的反射镜，其特征在于，至少两个轮廓凸起(KA)沿着所述边界轮廓(RK)的两个侧边缘分别布置。