-
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems für eine Projektionsbelichtungsanlage, ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System.
-
Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
-
Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden.
-
Derartige Spiegel, aber auch Referenzstrukturen, wie beispielsweise ein Sensorrahmen (Engl.: Sensor Frame), benötigen Anbauteile, die auf Grund der Materialeigenschaften oder der Fertigbarkeit an den jeweiligen Spiegel anzukleben sind. Diese Anbauteile umfassen beispielsweise Sensoren und Kabel, die erst ganz am Ende der Fertigung oder gegebenenfalls sogar erst nach einer Abschlussmessung angebracht werden können.
-
Klebstoffe zeigen bei einem Aushärten und/oder Vernetzen derselben einen ausgeprägten Klebstoffschrumpf, der auch an dem Spiegel, an dem das Anbauteil angeklebt wird, zu einem lokalem Deformationseintrag führen kann. Ohne zusätzliche Deformationsentkopplungen sind diese Deformationen insbesondere bei wie zuvor erwähnten Spiegeln für Projektionssysteme im EUV-Bereich auch auf einer optisch wirksamen Fläche des Spiegels als sogenannte Passe-Deformationen sichtbar. Dies gilt jedoch auch für alle anderen Fügeverfahren. Für die für die Herstellung von Komponenten von Projektionsbelichtungsanlagen beschriebenen Fügeverfahren wird auf die Druckschrift
DE 102019217389A1 verwiesen.
-
Gemäß betriebsinternen Erkenntnissen basieren bekannte Deformationsentkopplungen oder Entkopplungsgeometrien meist auf geometrischen Anpassungen an dem Spiegel im Bereich zwischen der jeweiligen Klebestelle und der optisch wirksamen Fläche. Diese Entkopplungsgeometrien erfordern jedoch spezielle Formgebungswerkzeuge und sind fertigungsbedingt mit einem Restrisiko für Ausbrüche an dem spröden Spiegelsubstrat verbunden. Proportional mit der Anzahl der erforderlichen Entkopplungsgeometrien steigt damit die Gefahr von Beschädigungen an dem Spiegel. Dies gilt es zu verbessern. Ein Entkopplungsabschnitt für die Verbindung eines optischen Elements mit einem Fassungsring in einem optischen System ist in der Druckschrift
DE102017207433A1 offenbart.
-
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems bereitzustellen.
-
Demgemäß wird ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst die Schritte: a) Bereitstellen eines Elements, eines Anbauteils und eines Entkopplungselements des optischen Systems, b) Fügen des Entkopplungselements mit dem Element mit Hilfe einer ersten Verbindung, und c) Fügen des Entkopplungselements mit dem Anbauteil mit Hilfe einer sich von der ersten Verbindung unterscheidenden zweiten Verbindung.
-
Dadurch, dass das Anbauteil mit dem Entkopplungselement und nicht direkt mit dem Element gefügt wird, werden aus einer Schrumpfung, Verformung oder Klemmung der zweiten Verbindung resultierende Kräfte oder Momente nicht direkt auf das Element übertragen. Unerwünschte Deformationen des Elements werden hierdurch vermieden.
-
Das optische System ist vorzugsweise eine Projektionsoptik oder Teil einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage. Das Element kann beispielsweise ein optisches Element, insbesondere ein Spiegel, oder eine Referenzstruktur, wie beispielsweise ein sogenannter Sensorrahmen (Engl.: Sensor Frame), sein. Vorzugsweise ist das Element jedoch ein optisches Element. Das Element kann daher auch als optisches Element bezeichnet werden. Das heißt, dass die Begriffe „Element“ und „optisches Element“ beliebig gegeneinander getauscht werden können.
-
Das Bereitstellen des Elements, des Anbauteils und des Entkopplungselements kann beispielsweise auch ein Herstellen des Elements, des Anbauteils und/oder des Entkopplungselements umfassen. Das Anbauteil kann beispielsweise ein Kabel, ein Sensor oder dergleichen sein. Das Entkopplungselement ist vorzugsweise zylindrisch oder quaderförmig. Das Entkopplungselement kann beispielsweise aus einem metallischen oder keramischen Werkstoff gefertigt sein.
-
Die Schritte a) bis c) werden vorzugsweise aufeinanderfolgend durchgeführt, so dass das Entkopplungselement zwischen der ersten Verbindung und der zweiten Verbindung angeordnet ist. Bevorzugt ist die erste Verbindung eine stoffschlüssige Verbindung und kann daher auch als erste stoffschlüssige Verbindung bezeichnet werden. Bevorzugt ist die zweite Verbindung eine stoffschlüssige Verbindung und kann daher auch als zweite stoffschlüssige Verbindung bezeichnet werden. Bei stoffschlüssigen Verbindungen werden die Verbindungspartner durch atomare oder molekulare Kräfte zusammengehalten. Stoffschlüssige Verbindungen sind nicht lösbare Verbindungen, die sich nur durch Zerstörung der Verbindungsmittel und/oder der Verbindungspartner trennen lassen. Stoffschlüssig kann beispielsweise durch Kleben oder Löten verbunden werden.
-
Bevorzugt ist die erste Verbindung eine Klebeverbindung oder Klebung. Die erste Verbindung kann daher auch als erste Klebeverbindung oder erste Klebung bezeichnet werden. Die erste Verbindung kann jedoch auch eine Lötverbindung sein. Nachfolgend wird jedoch davon ausgegangen, dass die erste Verbindung eine Klebung ist. Auch die zweite Verbindung ist bevorzugt eine Klebeverbindung oder Klebung. Die zweite Verbindung kann daher auch als zweite Klebeverbindung oder zweite Klebung bezeichnet werden. Die zweite Verbindung kann jedoch auch eine Lötverbindung oder eine Klemmverbindung sein. Nachfolgend wird jedoch davon ausgegangen, dass auch die zweite Verbindung eine Klebung ist.
-
Unter dem „Fügen“ des Entkopplungselements mit dem Element ist zu verstehen, dass das Entkopplungselement mit dem Element verbunden, insbesondere verklebt, wird. Dementsprechend ist auch unter dem „Fügen“ des Entkopplungselements mit dem Anbauteil zu verstehen, dass das Entkopplungselement mit dem Anbauteil verbunden, insbesondere verklebt, wird. Das Fügen ist demgemäß insbesondere ein Verkleben und kann daher auch als solches bezeichnet werden. Die Begriffe „Fügen“ und „Verkleben“ können daher beliebig gegeneinander getauscht werden.
-
Darunter, dass sich die erste Verbindung und die zweite Verbindung voneinander „unterscheiden“, ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass die erste Verbindung und die zweite Verbindung nicht identisch sind, sondern zwei voneinander getrennte Verbindungen sind, zwischen denen beispielsweise das Entkopplungselement angeordnet ist.
-
Gemäß einer Ausführungsform wird vor dem Schritt c) eine Oberfläche des Elements derart bearbeitet, dass Deformationen der Oberfläche, die aus einer Schrumpfung der in dem Schritt b) erzeugten ersten Verbindung resultieren, abgetragen werden.
-
Das heißt, dass zunächst das Entkopplungselement und das Element mit Hilfe der ersten Verbindung gefügt werden. Bei dem Fügen, insbesondere bei einem Aushärten und/oder Vernetzen des für die erste Verbindung verwendeten Klebers oder Klebstoffs entstehende Deformationen der Oberfläche werden mit Hilfe eines abtragenden Verfahrens, beispielsweise mit Hilfe eines Schleifens der Oberfläche, abgetragen. Erst danach wird in dem Schritt c) das Entkopplungselement mit Hilfe der zweiten Verbindung mit dem Anbauteil gefügt. Aus einer Schrumpfung der zweiten Verbindung resultierende Kräfte oder Momente können dann nicht direkt auf das Element, sondern nur auf das Entkopplungselement aufgebracht werden, so dass eine Schrumpfung der zweiten Verbindung zu keinen oder zumindest nur zu sehr geringen Deformationen des Elements führt.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird die Oberfläche zu einer optisch wirksamen Fläche, insbesondere einer Spiegelfläche des Elements, bearbeitet.
-
Beispielsweise ist die Oberfläche eben und stellt eine Außenfläche eines Spiegelsubstrats des Elements dar. Durch eine geeignete Bearbeitung, beispielsweise durch ein Schleifen und eine Beschichtung der Oberfläche, wird diese zu der optisch wirksamen Fläche bearbeitet.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird in dem Schritt b) eine der Oberfläche abgewandte Rückseite des Elements mit dem Entkopplungselement gefügt.
-
Insbesondere ist die Rückseite der optisch wirksamen Fläche abgewandt. Die Rückseite weist keine optisch wirksamen Eigenschaften auf. Beispielsweise verbindet die erste Verbindung die Rückseite des Elements mit einer Vorderseite des Entkopplungselements. Dementsprechend verbindet die zweite Verbindung eine Rückseite des Entkopplungselements mit dem Anbauteil.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die erste Verbindung und/oder die zweite Verbindung eine stoffschlüssige Verbindung.
-
Das heißt, dass entweder beide Verbindungen stoffschlüssige Verbindungen sind oder dass eine der beiden Verbindungen eine stoffschlüssige Verbindung ist. Die erste Verbindung kann auch als erste stoffschlüssige Verbindung bezeichnet werden. Die zweite Verbindung kann auch als zweite stoffschlüssige Verbindung bezeichnet werden.
-
Ferner wird ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Das optische System umfasst ein Element, ein Entkopplungselement, eine erste Verbindung, mit deren Hilfe das Entkopplungselement mit dem Element gefügt ist, ein Anbauteil, und eine sich von der ersten Verbindung unterscheidende zweite Verbindung, mit deren Hilfe das Entkopplungselement mit dem Anbauteil gefügt ist.
-
Wie zuvor erwähnt, ist das optische System vorzugsweise eine Projektionsoptik oder Teil einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage. Das Element ist vorzugsweise ein optisches Element. Die erste Verbindung und die zweite Verbindung sind vorzugsweise Klebungen. Beispielsweise können die erste Verbindung und die zweite Verbindung mit Hilfe eines Epoxidharzes verwirklicht werden. Dabei wird für die erste Verbindung und die zweite Verbindung vorzugsweise derselbe Klebstoff verwendet.
-
Gemäß einer Ausführungsform ist das Entkopplungselement zwischen der ersten Verbindung und der zweiten Verbindung angeordnet.
-
Hierdurch entkoppelt das Entkopplungselement die zweite Verbindung von dem Element. Das Entkopplungselement ist, wie zuvor erwähnt, vorzugsweise zylindrisch oder quaderförmig.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist mit Hilfe der ersten Verbindung das Entkopplungselement mit einer Rückseite des Elements gefügt.
-
Wie zuvor erwähnt, ist die Rückseite des Elements der optisch wirksamen Fläche des Elements abgewandt. An der Rückseite können mehrere Entkopplungselemente und Anbauteile vorgesehen sein. Auch Ausführungsformen an anderen Flächen des Elements außerhalb der optisch wirksamen Fläche sind möglich.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Element eine der Rückseite abgewandte optisch wirksame Fläche, insbesondere eine Spiegelfläche, auf.
-
Die optisch wirksame Fläche kann beispielsweise mit Hilfe einer Beschichtung verwirklicht werden. Die optisch wirksame Fläche wird durch eine Bearbeitung der Oberfläche des Elements verwirklicht. Beispielsweise kann die Oberfläche mit Hilfe eines abtragenden Fertigungsverfahrens zu der optisch wirksamen Fläche bearbeitet werden. Zusätzlich wird die zuvor erwähnte Beschichtung aufgebracht.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist ein für die erste Verbindung und/oder für die zweite Verbindung verwendeter Klebstoff einen E-Modul von größer als 1.000 MPa auf.
-
Es können jedoch auch beliebige andere Klebstoffe eingesetzt werden. Vorzugsweise finden sogenannte Strukturklebstoffe oder Konstruktionsklebstoffe Anwendung. Für die erste Verbindung und die zweite Verbindung können identische oder unterschiedliche Klebstoffe verwendet werden.
-
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die erste Verbindung und/oder die zweite Verbindung eine stoffschlüssige Verbindung.
-
Weiterhin wird eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System vorgeschlagen.
-
Das optische System ist bevorzugt eine Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage. Das optische System kann jedoch auch ein Beleuchtungssystem sein. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für „Extreme Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektionsbelichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein. DUV steht für „Deep Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.
-
„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
-
Die für das Verfahren beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene optische System und die Projektionsbelichtungsanlage entsprechend und umgekehrt.
-
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
-
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.
- 1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie;
- 2 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines optischen Systems für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
- 3 zeigt eine weitere schematische Ansicht des optischen Systems gemäß 2;
- 4 zeigt eine weitere schematische Ansicht des optischen Systems gemäß 3; und
- 5 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahren zum Herstellen des optischen Systems gemäß 2.
-
In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
-
1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithographieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht.
-
Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.
-
In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6.
-
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.
-
Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.
-
Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln.
-
Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Engl.: Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
-
Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.
-
Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.
-
Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.
-
Wie beispielsweise aus der
DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die
DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
-
Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.
-
Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der
US 2006/0132747 A1 , der
EP 1 614 008 B1 und der
US 6 573 978 B1 .
-
Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.
-
Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die
DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
-
Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.
-
Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integrator) bezeichnet.
-
Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der
DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.
-
Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.
-
Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen.
-
Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
-
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
-
Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
-
Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.
-
Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.
-
Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.
-
Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.
-
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.
-
Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.
-
Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.
-
Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.
-
Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der
US 2018/0074303 A1 .
-
Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.
-
Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
-
Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.
-
Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.
-
Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.
-
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.
-
Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
-
Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
-
Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.
-
2 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines optischen Systems 100 für die Projektionsbelichtungsanlage 1. Das optische System 100 kann eine wie zuvor erwähnte Projektionsoptik 10 oder Teil einer Projektionsoptik 10 sein.
-
Das optische System 100 weist ein Element 102 auf. Das Element 102 kann eine Referenzstruktur, beispielsweise ein Sensorrahmen (Engl.: Sensor Frame) sein. Das Element 102 kann jedoch auch ein optisches Element sein und daher auch als solches bezeichnet werden. Nachfolgend wird davon ausgegangen, dass das Element 102 ein optisches Element ist.
-
Das Element 102 ist ein Spiegel, insbesondere ein EUV-Spiegel. Das Element kann einer der Spiegel M1 bis M6 sein. Das Element 102 weist ein Spiegelsubstrat 104 mit einer optisch aktiven oder optisch wirksamen Fläche 106 auf. Das Spiegelsubstrat 104 kann beispielsweise ein glaskeramischer Werkstoff oder ein Glas sein.
-
Die optisch wirksame Fläche 106 ist geeignet, Beleuchtungsstrahlung 16, insbesondere EUV-Strahlung, zu reflektieren. Die optisch wirksame Fläche 106 ist eine Spiegelfläche. Die optisch wirksame Fläche 106 kann mit Hilfe einer Beschichtung verwirklicht sein. Die optisch wirksame Fläche 106 kann eben oder, wie in der 2 gezeigt, gekrümmt, insbesondere kugelkalottenförmig oder torusförmig gekrümmt, sein. Der optisch wirksamen Fläche 106 abgewandt ist eine Rückseite 108 des Elements 102 vorgesehen. Die Rückseite 108 ist optisch nicht wirksam und weist somit keine reflektierenden Eigenschaften auf. Auch Ausführungsformen an anderen Flächen des Elements 102 außerhalb der optisch wirksamen Fläche 106 sind möglich.
-
An der Rückseite 108 ist ein Anbauteil 110 vorgesehen. Das Anbauteil 110 kann eine beliebige Geometrie aufweisen. In der 2 ist das Anbauteil 110 als Kreis dargestellt. Es können beliebig viele Anbauteile 110 vorgesehen sein. Das Anbauteil 110 weist eine Oberfläche 112 auf.
-
Aufgrund seiner Materialeigenschaften oder Fertigbarkeit ist das Anbauteil 110 mit dem Element 102 verklebt. Das Anbauteil 110 umfasst beispielsweise Sensoren oder Kabel, die erst am Ende der Fertigung oder gegebenenfalls sogar nach einer Abschlussmessung des Elements 102 an diesem angebracht werden können.
-
Klebstoffe zeigen bei einem Aushärten derselben einen ausgeprägten Klebstoffschrumpf, der auch an dem Element 102 zu einem lokalem Deformationseintrag führen kann. Ohne zusätzliche Deformationsentkopplungen sind diese Deformationen insbesondere bei wie zuvor erwähnten Spiegeln M1 bis M6 für Projektionsoptiken 10 im EUV-Bereich auch auf der optisch wirksamen Fläche 106 als sogenannte Passe-Deformationen sichtbar.
-
Gemäß betriebsinternen Erkenntnissen bekannte Deformationsentkopplungen oder Entkopplungsgeometrien basieren meist auf geometrischen Anpassungen an dem Element 102 im Bereich zwischen der jeweiligen Klebestelle und der optisch wirksamen Fläche 106. Diese Entkopplungsgeometrien erfordern jedoch spezielle Formgebungswerkzeuge und sind fertigungsbedingt mit einem Restrisiko für Ausbrüche an dem sprödem Spiegelsubstrat 104 verbunden. Proportional mit der Anzahl der erforderlichen Entkopplungsgeometrien steigt damit die Gefahr von Beschädigungen an dem Element 102. Dies gilt es zu verbessern.
-
Das Anbauteil 110 ist hierzu mit Hilfe einer Verbindungsanordnung 114 mit der Rückseite 108 verbunden. Die Verbindungsanordnung 114 ist bevorzugt eine Klebeanordnung und kann daher auch als solche bezeichnet werden. Die Verbindungsanordnung 114 umfasst ein Entkopplungselement 116. Das Entkopplungselement 116 kann plattenförmig oder quaderförmig sein. Das Entkopplungselement 116 kann aus einem beliebigen Werkstoff, wie beispielsweise Stahl, insbesondere Edelstahl, oder einer Aluminiumlegierung gefertigt sein. Bevorzugt ist das Entkopplungselement 116 aus dem gleichen Material wie das optische Element 102 gefertigt. Das Entkopplungselement 116 umfasst eine Vorderseite 118, die der Rückseite 108 zugewandt ist, und eine Rückseite 120, die der Vorderseite 118 abgewandt ist.
-
Die Vorderseite 118 ist mit Hilfe einer ersten Verbindung 122 mit der Rückseite 108 verklebt. Die erste Verbindung 122 ist eine stoffschlüssige Verbindung und wird nachfolgend daher auch als erste stoffschlüssige Verbindung bezeichnet. Bei stoffschlüssigen Verbindungen werden die Verbindungspartner durch atomare oder molekulare Kräfte zusammengehalten. Stoffschlüssige Verbindungen sind nicht lösbare Verbindungen, die sich nur durch Zerstörung der Verbindungsmittel und/oder der Verbindungspartner trennen lassen. Stoffschlüssig kann beispielsweise durch Kleben oder Löten verbunden werden.
-
Bevorzugt ist die erste stoffschlüssige Verbindung 122 eine Klebeverbindung oder Klebung. Die erste stoffschlüssige Verbindung 122 kann daher auch als erste Klebeverbindung oder erste Klebung bezeichnet werden. Die erste stoffschlüssige Verbindung 122 kann jedoch auch eine Lötverbindung sein. Nachfolgend wird jedoch davon ausgegangen, dass die erste stoffschlüssige Verbindung 122 eine Klebung ist.
-
Die erste stoffschlüssige Verbindung 122 kann beispielsweise mit Hilfe eines Epoxidharzes verwirklicht werden. Für die erste stoffschlüssige Verbindung 122 kann ein sogenannter Strukturklebstoff oder Konstruktionsklebstoff eingesetzt werden. Der für die erste stoffschlüssige Verbindung 122 verwendete Klebstoff kann insbesondere einen E-Modul von größer als 1.000 MPa aufweisen.
-
Das Anbauteil 110 ist mit Hilfe einer zweiten Verbindung 124 mit der Rückseite 120 des Entkopplungselements 116 verbunden. Die zweite Verbindung 124 ist eine stoffschlüssige Verbindung und wird nachfolgend daher auch als zweite stoffschlüssige Verbindung bezeichnet. Bevorzugt ist die zweite stoffschlüssige Verbindung 124 eine Klebeverbindung oder Klebung. Die zweite stoffschlüssige Verbindung 124 kann daher auch als zweite Klebeverbindung oder zweite Klebung bezeichnet werden. Die zweite stoffschlüssige Verbindung 124 kann jedoch auch eine Lötverbindung sein. Nachfolgend wird jedoch davon ausgegangen, dass auch die zweite stoffschlüssige Verbindung 124 eine Klebung ist.
-
Insbesondere verbindet die zweite stoffschlüssige Verbindung 124 die Oberfläche 112 mit der Rückseite 120 des Entkopplungselements 116. Für die zweite stoffschlüssige Verbindung 124 kann derselbe Klebstoff wie für die erste stoffschlüssige Verbindung 122 verwendet werden.
-
5 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahren zum Herstellen des optischen Systems 100. 3 und 4 zeigen jeweils weitere schematische Ansichten des optischen Systems 100. Das Verfahren wird nachfolgend anhand der 2 bis 5, auf die gleichzeitig Bezug genommen wird, erläutert.
-
Bei dem Verfahren werden in einem Schritt S1 das Element 102, das Anbauteil 110 und das Entkopplungselement 116 des optischen Systems 100 bereitgestellt. Das Bereitstellen kann ein Fertigen des Elements 102, des Anbauteils 110 und/oder des Entkopplungselements 116 umfassen. Zunächst weist das Element 102 noch nicht die optisch wirksame Fläche 106 auf, sondern lediglich eine Oberfläche 126, die erst durch eine Bearbeitung, beispielsweise durch Schleifen, zu der optisch wirksamen Fläche 106 bearbeitet wird.
-
In einem Schritt S2 wird, wie in der 3 gezeigt, das Entkopplungselement 116 mit Hilfe der ersten stoffschlüssigen Verbindung 122 mit dem Element 102 verklebt. Bei der Trocknung und/oder Aushärtung des für die erste stoffschlüssige Verbindung 122 verwendeten Klebstoffs kommt es zu einer Schrumpfung, insbesondere einer Kleberschrumpfung. Diese kann dazu führen, dass an der Oberfläche 126 Deformationen 128, 130 auftreten.
-
In einem Schritt S3 wird, wie in der 2 gezeigt, das Entkopplungselement 116 mit Hilfe der sich von der ersten stoffschlüssigen Verbindung 122 unterscheidenden zweiten stoffschlüssigen Verbindung 124 mit dem Anbauteil 110 verklebt.
-
Vor dem Schritt S3 wird, wie in der 4 gezeigt, die Oberfläche 126 des Elements 102 derart bearbeitet, dass die Deformationen 128, 130 der Oberfläche 126, die aus der Kleberschrumpfung der in dem Schritt S2 erzeugten ersten stoffschlüssigen Verbindung 122 resultieren, abgetragen werden. Beispielsweise kann die Oberfläche 126 abgeschliffen werden. Die Oberfläche 126 wird dabei zu der optisch wirksamen Fläche 106, die insbesondere eine Spiegelfläche ist, des Elements 102 bearbeitet.
-
Das zuvor erläuterte Verfahren bietet eine alternative Lösung zu den zuvor erwähnten monolithisch hergestellten Entkopplungsgeometrien. Hierzu wird bei dem Verfahren das gefügte, vorzugsweise geklebte oder gelötete, Entkopplungselement 116 verwendet. Entscheidend dabei ist, dass der Schritt S2 des Fügens, insbesondere des Anklebens, der Entkopplungselemente 116 oder des Entkopplungselements 116 vor der finalen Bearbeitung des Elements 102 erfolgt. Dadurch können die durch das Fügen entstehenden Deformationen 128, 130 bei der Fein- und Feinstbearbeitung der optisch wirksamen Fläche 106 berücksichtigt und somit vollständig korrigiert werden.
-
Die eigentliche Befestigung des Anbauteils 110 an dem Element 102 kann dann nach der finalen Bearbeitung auf dem bereits gefügten Entkopplungselement 116 erfolgen und erzeugt durch das zwischen den stoffschlüssigen Verbindungen 122, 124 liegende Entkopplungselement 116 kaum Deformationen der optisch wirksamen Fläche 106.
-
Der doppelschrittige Fügeprozess ist nur anhand des Vorhandenseins zweier stoffschlüssiger Verbindungen 122, 124 und/oder dem Entkopplungselement 116 erkennbar. Außer der Deformationsentkopplung weisen die beiden stoffschlüssigen Verbindungen 122, 124 und das Entkopplungselement 116 keine zusätzliche Funktion auf.
-
Der Vorteil gegenüber den monolithischen Entkopplungsgeometrien ist die Minimierung des Fertigungsrisikos durch spanende Formgebung von meist sehr filigranen Geometrien. Risse oder Ausbrüche, die bei diesem Fertigungsschritt an dem spröden Spiegelsubstrat 104 nicht ganz auszuschließen sind und oft zum Verlust eines ganzen Elements 102 führen können, können gänzlich vermieden werden.
-
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.
-
Bezugszeichenliste
-
- 1
- Projektionsbelichtungsanlage
- 2
- Beleuchtungssystem
- 3
- Lichtquelle
- 4
- Beleuchtungsoptik
- 5
- Objektfeld
- 6
- Objektebene
- 7
- Retikel
- 8
- Retikelhalter
- 9
- Retikelverlagerungsantrieb
- 10
- Projektionsoptik
- 11
- Bildfeld
- 12
- Bildebene
- 13
- Wafer
- 14
- Waferhalter
- 15
- Waferverlagerungsantrieb
- 16
- Beleuchtungsstrahlung
- 17
- Kollektor
- 18
- Zwischenfokusebene
- 19
- Umlenkspiegel
- 20
- erster Facettenspiegel
- 21
- erste Facette
- 22
- zweiter Facettenspiegel
- 23
- zweite Facette
- 100
- optisches System
- 102
- Element
- 104
- Spiegelsubstrat
- 106
- optisch wirksame Fläche
- 108
- Rückseite
- 110
- Anbauteil
- 112
- Oberfläche
- 114
- Verbindungsanordnung
- 116
- Entkopplungselement
- 118
- Vorderseite
- 120
- Rückseite
- 122
- Verbindung
- 124
- Verbindung
- 126
- Oberfläche
- 128
- Deformation
- 130
- Deformation
- M1
- Spiegel
- M2
- Spiegel
- M3
- Spiegel
- M4
- Spiegel
- M5
- Spiegel
- M6
- Spiegel
- S1
- Schritt
- S2
- Schritt
- S3
- Schritt
- x
- x-Richtung
- y
- y-Richtung
- z
- z-Richtung
