DE102021205425A1 - Optikvorrichtung, Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation und Lithografiesystem - Google Patents

Optikvorrichtung, Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation und Lithografiesystem Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Optikvorrichtung (1) für ein Lithografiesystem (100,200), mit wenigstens einem optischen Element (2) aufweisend eine optische Oberfläche (3) und mit einem oder mehreren Aktuatoren (4) für eine Deformation der optischen Oberfläche (3). Erfindungsgemäß ist eine Dehnungsmesseinrichtung (5) zur Ermittlung der Deformation der optischen Oberfläche (3) vorgesehen.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Optikvorrichtung für ein Lithografiesystem, mit wenigstens einem optischen Element aufweisend eine optische Oberfläche und mit einem oder mehreren Aktuatoren für eine Deformation der optischen Oberfläche.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation einer optischen Oberfläche eines optischen Elements für ein Lithografiesystem, mittels eines oder mehrerer Aktuatoren.
  • Die Erfindung betrifft außerdem ein Lithografiesystem, insbesondere eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie, mit einem Beleuchtungssystem mit einer Strahlungsquelle sowie einer Optik, welche wenigstens ein optisches Element aufweist.
  • Optische Elemente zur Führung und Formung einer Strahlung in Projektionsbelichtungsanlagen sind aus dem Stand der Technik bekannt. Bei den bekannten optischen Elementen führt und formt häufig eine Oberfläche des optischen Elements die auf das optische Element einfallenden Lichtwellen. Eine genaue Kontrolle der Form der Oberfläche ist daher zur Ausbildung einer exakten Wellenfront mit gewünschten Eigenschaften von besonderem Vorteil.
  • Aus dem Stand der Technik sind Lithografiesysteme bekannt, welche ultraviolette Strahlung, insbesondere DUV (deep ultra-violet) und/oder EUV (extreme ultra-violet) Licht verwenden, um mikrolithografische Strukturen mit höchster Präzision herzustellen. Hierbei wird das Licht einer Strahlungsquelle über mehrere Spiegel zu einem zu belichtenden Wafer gelenkt. Eine Anordnung, eine Position sowie eine Form des Spiegels tragen hierbei entscheidend zu der Qualität der Belichtung bei.
  • Um beispielsweise eine Anzahl von Transistoren auf einem Chip weiter zu erhöhen, ist es notwendig, bestehende Lithografiesysteme weiterzuentwickeln. Im allgemeinen Stand der Technik ist es bekannt, Aktuatoren an Spiegeln anzubringen, welche diese mit möglichst vielen Freiheitsgraden formen.
  • Im Stand der Technik werden ferner verschiedene Systeme zur Aktuierung von deformierbaren Spiegeln beschrieben.
  • Aus dem Stand der Technik ist es bekannt, optische Elemente in Optikvorrichtungen zu integrieren, welche Aktuatoren zur Krafterzeugung aufweisen, um die optische Oberfläche, welche mit den Lichtwellen interagiert, gezielt zu formen.
  • Gemäß dem Stand der Technik wird eine Wirkung der Aktuatoren auf die optische Oberfläche, beispielsweise auf Basis einer Modellbildung vorhergesagt. Allerdings können in der Modellbildung nichtberücksichtigte Einflüsse eine Vorhersagekraft des Modells schwächen.
  • Aus dem Stand der Technik bekannte Systeme zur Deformation von optischen Elementen nutzen eine Regelung zur Verformung der optischen Oberfläche und zur Einstellung einer Soll-Deformation. Hierzu wird mittels eines Sensors die Verformung erfasst und innerhalb einer Regelung als elektrisches Signal codiert auf die Aktuatoren gegeben. Im Rahmen von Lithografiesystemen ist es gemäß dem Stand der Technik nicht möglich, einen Sensor mit ausreichend hoher Messleistung mit in das Lithografiesystem bzw. das optische Element zu integrieren. Aus diesem Grund werden derartige Optikvorrichtungen innerhalb einer offenen Steuerkette bzw. in einem Feed-Forward-Modus betrieben.
  • Nachteilig an Optikvorrichtungen gemäß dem Stand der Technik ist, dass es zur Erfüllung der stetig steigenden Anforderungen zur Erhöhung der Präzision entscheidend ist, die Soll-Deformation möglichst exakt einzuhalten, während die hierzu bekannten Maßnahmen zur exakten Einstellung der Soll-Deformation unzureichend sind.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Optikvorrichtung zu schaffen, welche die Nachteile des Standes der Technik vermeidet, insbesondere eine präzise Formung bzw. eine präzise Einstellung einer Soll-Deformation einer optischen Oberfläche ermöglicht.
  • Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe von einer Optikvorrichtung mit den in Anspruch 1 genannten Merkmalen gelöst.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation einer optischen Oberfläche zu schaffen, welches die Nachteile des Standes der Technik vermeidet, insbesondere eine präzise und zuverlässige Formung bzw. eine präzise Einstellung einer Soll-Deformation der optischen Oberfläche ermöglicht.
  • Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den in Anspruch 18 genannten Merkmalen gelöst.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt weiterhin die Aufgabe zugrunde, ein Lithografiesystem zu schaffen, welches die Nachteile des Standes der Technik vermeidet, insbesondere die Ausbildung präzise geformter Wellenfronten einer Strahlung ermöglicht.
  • Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch ein Lithografiesystem mit den in Anspruch 29 genannten Merkmalen gelöst.
  • Die erfindungsgemäße Optikvorrichtung für ein Lithografiesystem, insbesondere eine Projektionsbelichtungsanlage, umfasst wenigstens ein optisches Element, aufweisend eine optische Oberfläche sowie einen oder mehrere Aktuatoren für eine Deformation der optischen Oberfläche. Erfindungsgemäß ist eine Dehnungsmesseinrichtung zur Ermittlung der Deformation der optischen Oberfläche vorgesehen.
  • Im Rahmen der Erfindung kann unter dem Begriff der Dehnung auch eine Kontraktion und/oder eine Stauchung verstanden werden.
  • Ferner dient die mechanische Deformation der optischen Oberfläche einer Formung der optischen Oberfläche und/oder der Einstellung einer Soll-Deformation.
  • Die erfindungsgemäße Optikvorrichtung hat den Vorteil, dass eine unabhängige Kontrolle einer tatsächlichen Deformation der optischen Oberfläche durch die vorgesehene Dehnungsmesseinrichtung ermöglicht wird. Die erfindungsgemäße Optikvorrichtung ermöglicht somit eine präzisere und zuverlässigere Deformation der optischen Oberfläche, als Systeme gemäß dem Stand der Technik, welche eine Kontrolle der tatsächlichen Deformation der optischen Oberfläche nicht zulassen. Dies ist besonders beim Einsatz der Aktuatoren für die Deformation bzw. zur Bewirkung der Deformation von Vorteil, da deren Wirkung auf die genaue Formung der optischen Oberfläche häufig auf einer reinen Modellbildung basiert. Mit der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann die Modellbildung durch empirische Messung der tatsächlichen Deformation ergänzt und/oder ersetzt werden.
  • Es kann vorgesehen sein, dass der wenigstens eine Aktuator als elektrostriktiver Aktuator ausgebildet ist. Eine Ausbildung als elektrostriktiver Aktuator hat hierbei den Vorteil, dass elektrostriktive Aktuatoren ein sehr geringe Driftneigung sowie eine geringe Hystereseneigung aufweisen.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Optikvorrichtung mehrere Aktuatoren für eine Deformation des optischen Oberfläche aufweist, wobei jeder einzelne der mehreren Aktuatoren ansteuerbar ist.
  • Durch eine Ansteuerung jedes einzelnen Aktuators ist es möglich, gezielt Profile der optischen Oberfläche und/oder des optischen Elements, insbesondere eines Spiegels einzustellen und somit die Optikvorrichtung bzw. das Lithografiesystem, in welche die Optikvorrichtung integriert ist, bestmöglich zu korrigieren.
  • Eine Dehnung der Aktuatoren kann in einer ersten Näherung durch die Formel (1) beschrieben werden. Hierbei beschreibt M einen elektrostriktiven Koeffizienten, welcher durch Anlegen eines elektrischen Feldes E zu einer Dehnung S führt. Wie aus der Formel (1) ersichtlich ist, ist der elektrostriktive Koeffizient M abhängig von der Temperatur ϑ des Aktuators. Des Weiteren ist die Dehnung S des Aktuators abhängig von dessen Steifigkeit s sowie einer anliegenden mechanischen Spannung T. Ferner ergibt sich ein thermischer Anteil der Dehnung durch Multiplikation des thermischen Expansionskoeffizienten CTE mit der Differenz der Temperatur ϑ und einer Ausgangstemperatur ϑ0. S = ( E , ϑ ) = M ( ϑ ) ⋅ E 2 + s ⋅ T + C T E ⋅ ( ϑ − ϑ 0 )
    Figure DE102021205425A1_0001
  • Für eine hochpräzise und konstante Regelung einer Position des wenigstens einen Aktuators ist es von Vorteil, wenn sowohl ein Dehnungsverlust des wenigstens einen Aktuators auf Basis des elektrostriktiven Effekts als auch die thermische Dehnung korrigiert werden. Hierfür kann vorgesehen sein, dass der wenigstens eine Aktuator mehr als 80 % seiner Arbeitsdistanz zur Selbstkorrektur von thermischen Dehnungen bzw. thermischen Effekten einsetzt.
  • Es ist demnach von Vorteil, wenn eine hochgenaue Positionierung bzw. Deformation der optischen Oberfläche dadurch ermöglicht wird, dass neben einer Temperaturkalibrierung eine Modellierung und Kalibrierung einer elektrostriktiven und thermischen Hysterese sowie eines Drifts des Aktuators vorgenommen wird.
  • Zur Ermöglichung einer Reflexion von EUV-Licht werden häufig hochkomplexe Beschichtungen zur Ausbildung der optischen Oberfläche eingesetzt. Derartige Beschichtungen profitieren in besonderem Maße von einer Kontrolle der Wirkung des wenigstens einen Aktuators, da eine Übersteuerung bzw. zu starke Dehnung der optischen Oberfläche zu einer Beschädigung und/oder Zerstörung der darauf angeordneten komplexen Beschichtung führen kann.
  • Es kann vorgesehen sein, dass das optische Element eine durchgehende und/oder einstückig ausgebildete optische Oberfläche aufweist und insbesondere kein Feldfacettenspiegel ist. Hierdurch kann die optische Oberfläche wenigstens annähernd eine Freiformfläche ausbilden.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Optikvorrichtung anstatt zur Verwendung in dem Lithografiesystem für eine Verwendung in anderen Anwendungsbereichen optimiert ist. Beispielsweise kann die Optikvorrichtung zur Verwendung als Teil eines Weltraumspiegels vorgesehen sein.
  • Es kann vorgesehen sein, dass mehrere Dehnungsmesseinrichtungen als Teil der Optikvorrichtung vorhanden sind. Bei Vorhandensein mehrerer Dehnungsmesseinrichtungen kann vorgesehen sein, dass sich die mehreren Dehnungsmesseinrichtungen andere Bestandteile der Optikvorrichtung teilen.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Dehnungsmesseinrichtung wenigstens eine optische Faser aufweist.
  • Der Einsatz einer optischen Faser als Teil der Dehnungsmesseinrichtung hat den Vorteil, dass mittels optischer Fasern Licht zu Messzwecken in verschiedene Positionen der Optikvorrichtung geleitet werden kann. Von diesen Positionen aus kann das Licht durch die optische Faser reflektiert und/oder weitergeleitet werden, beispielsweise um Eigenschaften des Lichts zu vermessen. Optische Fasern sind hierbei sehr zuverlässige und präzise Lichtleiter, welche auch mit sehr geringen Durchmessern verfügbar sind. Insbesondere bei Verwendung in Optikvorrichtungen, welche sehr filigrane Bauteile aufweisen, ist die Verwendung von optischen Fasern, welche ebenfalls sehr filigran ausgebildet sein können, von besonderem Vorteil.
  • Aus dem Stand der Technik bekannte Dehnungsmessanordnungen, welche auf Impedanzmessungen beruhen, benötigen häufig eine große Anzahl an elektrischen Leitern, welche eine Funktion einer optischen Komponente einschränken können.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die optische Faser polarisationserhaltend ist.
  • Mittels einer polarisationserhaltenden optischen Faser können diejenigen Einflüsse auf die Deformation der optischen Oberfläche, welche auf eine Änderung einer Temperatur zurückzuführen sind, von denjenigen Einflüssen auf die Deformation der optischen Oberfläche, welche auf eine Dehnung und/oder Verzerrung der Optikvorrichtung zurückzuführen sind, voneinander getrennt bzw. entkoppelt werden. Hierdurch wird eine noch genauere und präzisere Kontrolle der Deformation bzw. der genauen Ausformung der optischen Oberfläche möglich, da die verschiedenen Einflussfaktoren auf die Formung der optischen Oberfläche gesondert adressiert und/oder beseitigt werden können.
  • Eine Separation von temperaturinduzierten Einflüssen ist von besonderem Vorteil, da eine der größten Störgrößen zur Deformation des optischen Elements Temperaturschwankungen an der optischen Oberfläche, insbesondere bei der Verwendung in EUV-Lithografiesystemen, darstellen können. Insbesondere kann die Temperatur der optischen Oberfläche bzw. des optischen Elements während eines Betriebs zwischen 20 °C und 40 °C geändert werden.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die wenigstens eine optische Faser ein oder mehrere Faser-Bragg-Gitter mit jeweiligen Faserinterferenzspektren aufweist.
  • Weist die optische Faser ein Faser-Bragg-Gitter auf, so ergibt sich ein für das Faser-Bragg-Gitter charakteristisches Faserinterferenzspektrum. Das Faserinterferenzspektrum ist hierbei als wellenlängenabhängige Veränderung einer sich durch die Faser fortpflanzenden Strahlung zu verstehen.
  • Insbesondere weist das Faser-Bragg-Gitter eine charakteristische Filterbandbreite auf. Strahlung, deren Wellenlänge innerhalb eines von der Filterbandbreite bestimmten Spektralbereichs liegt, wird von dem Faser-Bragg-Gitter in der optischen Faser reflektiert. Derartig reflektierte Strahlung breitet sich entgegen der Ursprungsrichtung rückwärts in der optischen Faser aus und kann beispielsweise gemessen werden.
  • Alternativ kann auch das Faserinterferenzspektrum in einer Transmissionskonfiguration bestimmt werden, wodurch sich ein transmittiertes Strahlungsspektrum ergibt, bei welchem der reflektierte Bereich und die Filterbandbreite als Einschnitt erkennbar ist.
  • Das Faserinterferenzspektrum und insbesondere die Filterbandbreite sind hierbei abhängig von geometrischen Eigenschaften des Faser-Bragg-Gitters. Eine entscheidende geometrische Eigenschaft des Faser-Bragg-Gitters ist hierbei eine Gitterperiode des Faser-Bragg-Gitters.
  • Der Einsatz eines Faser-Bragg-Gitters eignet sich besonders vorteilhaft zur Verwendung in einer Dehnungsmesseinrichtung, da durch eine Dehnung der optischen Faser und damit des Faser-Bragg-Gitters auch dessen geometrische Eigenschaften verändert werden können. Mit der Veränderung der geometrischen Eigenschaften, insbesondere einer Stauchung oder Streckung der Gitterperiode, ergibt sich auch eine Veränderung des Faserinterferenzspektrum und damit insbesondere einer Mittenwellenlänge der Filterbandbreite.
  • Die Mittelwellenlänge der Filterbandbreite ist hierbei direkt proportional zu der Gitterperiode multipliziert mit einem Zweifachen eines effektiven Brechungsindexes innerhalb des Faser-Bragg-Gitters.
  • Eine spektrale Breite der Filterbandbreite hängt von einer Länge des Faser-Bragg-Gitters und einer Stärke einer Brechungsindexänderung zwischen benachbarten Brechungsindexbereichen ab. Auch diese Parameter können beispielsweise durch eine Streckung oder Stauchung des Faser-Bragg-Gitters verändert werden und eignen sich daher zur Bestimmung mechanischer Dehnungen der optischen Faser und/oder des Faser-Bragg-Gitters.
  • Alternativ oder zusätzlich zu einer optischen Faser und einem Faser-Bragg-Gitter können auch andere optische Sensoren als Teil der Dehnungsmesseinrichtung vorgesehen sein.
  • Insbesondere können andere Lichtwellenleiter und andere optische Interferenzfilter, insbesondere Bragg-Gitter vorgesehen sein. Beispielsweise kann es sich bei einem alternativen oder zusätzlichen optischen Interferenzfilter um ein Strichgitter und/oder einen Resonator und/oder eine einfache Schlitzblende handeln. Bei dem alternativen und/oder zusätzlichen Wellenleiter kann es sich beispielsweise um einen fest ausgebildeten, nicht als optische Faser ausgeführten Lichtkanal handeln. Ferner kann auch ein puristischer Wellenleiter in Form eines Freistrahls vorgesehen sein.
  • Besonders vorteilhaft kann die Verwendung einer optischen Einzelmodenfaser als optische Faser sein, da sich hierdurch eine besonders klare Struktur des Faserinterferenzspektrums ergibt.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass das Faser-Bragg-Gitter als periodische Mikrostruktur ausgebildet ist, welche selektiv Wellenlängen reflektiert.
  • Es kann vorgesehen sein, dass das Faser-Bragg-Gitter derart ausgebildet ist, insbesondere eine derartige Gitterperiode aufweist, dass eine Frequenzverschiebung bei einer Dehnung, welche durch eine bestimmungsgemäße Verwendung des wenigstens einen Aktuators bedingt ist, 1 pm bis 1 nm, vorzugsweise 5 pm bis 500 pm, besonders bevorzugt 20 pm bis 100 pm beträgt.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Dehnungsmesseinrichtung und/oder das Faser-Bragg-Gitter derart ausgebildet sind, dass ein Dehnungsauflösungsvermögen 1 am bis 1 nm, vorzugsweise 5 am bis 1 pm, besonders bevorzugt 0,5 fm bis 50 fm beträgt.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass das optische Element ein Substratelement aufweist, an dem die optische Oberfläche angeordnet ist.
  • Zur Erzielung einer besonders guten Formung und Führung von Wellenfronten ist es von Vorteil, wenn die optische Oberfläche auf einem Substratelement angeordnet bzw. dort ausgebildet ist, wobei der wenigstens eine Aktuator durch seine Krafteinwirkung das Substratelement verformt und hierdurch auch eine Deformation der optischen Oberfläche bewirkt. Eine derartige mittelbare Einwirkung auf die optische Oberfläche hat den Vorteil, dass bei komplex strukturierten optischen Oberflächen diese von einer direkten Krafteinwirkung des Aktuators geschützt sind, da diese durch das Substratelement vermittelt wird.
  • Es kann ferner vorgesehen sein, dass die Dehnungsmesseinrichtung eine optische Erfassungseinrichtung, beispielsweise eine Kamera, aufweist, welche eine Dehnung des Substratelements und/oder der optischen Oberfläche anhand einer Veränderung, beispielsweise eine Außenkontur und/oder optischer Eigenschaften, insbesondere auf einer Rückseite des Substratelements, erfasst. Bei einer derartigen Ausführungsform sind die Dehnungsmess-einrichtung und das Substratelement mechanisch entkoppelt, ein Informationsübertrag über den Dehnungszustand des Substratelements wird jedoch auf andere Weise erzielt.
  • Ferner kann vorgesehen sein, dass das Faser-Bragg-Gitter auch derart ausgebildet ist, dass Dehnungsänderungen und/oder Temperaturänderungen zu Änderungen in dem reflektierten und/oder dem transmittierten Faserinterferenzspektrum führen.
  • Es kann vorgesehen sein, dass das Faser-Bragg-Gitter auch eingerichtet ist, die Temperaturänderungen und/oder eine Temperatur wenigstens eines Messbereichs zu erfassen.
  • Hierdurch kann die Dehnungsmesseinrichtung und/oder das Faser-Bragg-Gitter vorteilhafterweise für eine Erfassung der Temperatur verwendet werden.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass der wenigstens eine Aktuator mit dem Substratelement durch eine, vorzugsweise einen Klebstoff aufweisende, Verbindungsschicht verbunden ist.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die optische Oberfläche an dem Substratelement, beispielsweise durch eine Beschichtung und/oder Strukturierung, ausgebildet ist.
  • Um eine Kraftübertragung zwischen dem wenigstens einen Aktuator und dem Substratelement zu gewährleisten, können diese mit einer Verbindungsschicht verbunden werden. Dies hat den Vorteil, dass der wenigstens eine Aktuator und das Substratelement getrennt hergestellt und erst bei einer Erstellung der Optikvorrichtung zusammengefügt werden können. Die Verbindungsschicht, welche den wenigstens einen Aktuator mit dem Substratelement verbindet, ist vorzugsweise aus einem Klebstoff ausgebildet oder weist einen Klebstoff auf. Die Verwendung eines Klebstoffes ermöglicht hierbei eine große Flexibilität bei der Assemblierung der Optikvorrichtung.
  • Vorzugsweise kann der wenigstens eine Aktuator an einer von der optischen Oberfläche abgewandten Rückseite angeordnet sein.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Dehnungsmesseinrichtung wenigstens teilweise in dem Substratelement, vorzugsweise in einer Nut des Substratelements, angeordnet ist.
  • Besonders vorteilhaft ist hierbei eine Ausführungsform der Optikvorrichtung, bei der die Dehnungsmesseinrichtung vollständig in dem Substratelement, vorzugsweise vollständig in der Nut des Substratelements, angeordnet ist.
  • Weist die Dehnungsmesseinrichtung das Faser-Bragg-Gitter auf, so ist es von besonderem Vorteil, wenn das Faser-Bragg-Gitter in dem Substratelement angeordnet ist.
  • Eine Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung in einer Nut des Substratelements hat den Vorteil, dass durch die Schaffung der Nut, beispielsweise durch ein Schneide- und/oder Fräsverfahren, ein geeigneter Einbauraum für die Dehnungsmesseinrichtung geschaffen wird. Dies gilt insbesondere, wenn die Dehnungsmesseinrichtung die optische Faser und/oder das Faser-Bragg-Gitter aufweist.
  • Von ihrer Bauform her sind optische Fasern für eine Verlegung in einer Nut besonders geeignet.
  • Ferner ermöglicht eine Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung und dabei insbesondere einer optischen Faser und/oder eines Faser-Bragg-Gitters, in der Nut eine besonders starke mechanische Kopplung an Dehnungen und/oder Verzerrungen desjenigen Körpers, an dem die Nut ausgebildet ist. Erfährt in dem vorbeschriebenen Fall also das Substratelement eine Verzerrung und/oder Dehnung, so lässt sich diese Dehnung besonders dann gut auf die Dehnungsmesseinrichtung übertragen, wenn die Dehnungsmesseinrichtung in dem Substratelement versenkt bzw. in einer Nut angeordnet ist. Hierdurch lässt sich eine Dehnung des Substratelements durch die Dehnungsmesseinrichtung messtechnisch besonders vorteilhaft präzise abbilden.
  • Eine Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung an dem Substratelement hat ferner den Vorteil, dass durch die Dehnungsmesseinrichtung Dehnungen des Substratelements erfasst werden können. Dehnungen des Substratelements wiederum ermöglichen eine besonders hohe Vorhersagekraft über Deformationen der optischen Oberfläche, da die optische Oberfläche an dem Substratelement angeordnet ist und insbesondere mit dieser mechanisch unmittelbar gekoppelt ist.
  • Es kann beispielsweise vorgesehen sein, dass die optische Oberfläche durch eine Beschichtung und/oder Strukturierung ausgebildet ist, welche auf dem Substratelement angeordnet ist. Hierbei kann es sich um aufgebrachte Beschichtungen handeln, welche aus einem von dem Substratelement unterschiedlichen Material ausgebildet sind und/oder um Strukturierungen oder Beschichtungen, welche durch das Material des Substratelements selbst ausgebildet werden.
  • In derartigen Fällen besteht eine direkte vollflächige physische Verbindung der optischen Oberfläche mit dem Substratelement. Eine Dehnung des Substratelements, welches insbesondere als monolithischer Körper ausgeführt sein kann, führt daher unmittelbar zu einer Deformation der optischen Oberfläche, welche durch festkörperpyhsikalische Gesetzmäßigkeiten direkt durch die Dehnung und Zerrung des Substratelements determiniert ist.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Dehnungsmesseinrichtung wenigstens teilweise in dem wenigstens einen Aktuator, vorzugsweise in einer Nut des wenigstens einen Aktuators, angeordnet ist.
  • Besonders vorteilhaft ist hierbei eine Ausführungsform der Optikvorrichtung, bei der die Dehnungsmesseinrichtung vollständig in dem wenigstens einen Aktuator, vorzugsweise vollständig in der Nut des wenigstens einen Aktuators, angeordnet ist.
  • Eine Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung in dem wenigstens einen Aktuator hat den Vorteil, dass auf diese Weise Dehnungen und Verzerrungen des wenigstens einen Aktuators durch die Dehnungsmesseinrichtung erfasst werden können.
  • Werden Dehnungen des wenigstens einen Aktuators erfasst, so hat dies den Vorteil, dass damit ein Ausmaß und/oder eine Art der tatsächlich zu der Deformation der optischen Oberfläche führenden Krafteinwirkung durch den wenigstens einen Aktuator erfasst werden kann.
  • Ein weiterer Vorteil einer Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung an dem wenigstens einen Aktuator ist, dass eine derartige Anordnung bei einer Fertigung des wenigstens einen Aktuators vorgenommen werden kann. Somit kann die Dehnungsmesseinrichtung ausgebildet werden, ohne Manipulationen an dem Substratelement vornehmen zu müssen, durch welche beispielsweise mechanische und/oder optische Eigenschaften der optischen Oberfläche beeinträchtigt werden könnten.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die Dehnungsmesseinrichtung wenigstens teilweise in der Verbindungsschicht angeordnet, vorzugsweise eingelegt, ist.
  • Besonders vorteilhaft ist hierbei eine Ausführungsform der Optikvorrichtung, bei der die Dehnungsmesseinrichtung vollständig in der Verbindungsschicht angeordnet, vorzugsweise vollständig eingelegt, ist.
  • Eine wenigstens teilweise Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung an der Verbindungsschicht hat den Vorteil, dass zum einen die Dehnungen und Verzerrungen sowohl des wenigstens einen Aktuators als auch des Substratelements mittels der Dehnungsmesseinrichtung erfasst werden können, zum anderen für die Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung keine Modifikation an dem wenigstens einen Aktuator und/oder dem Substratelement vorgenommen werden müssen.
  • Besonders vorteilhaft ist eine Anordnung der Dehnungsmesseinrichtung in der Verbindungsschicht, wenn die Dehnungsmesseinrichtung in diese, vorzugsweise vollständig, eingelegt werden kann. Dies ist beispielsweise dann der Fall, wenn die Dehnungsmesseinrichtung eine optische Faser mit einem Faser-Bragg-Gitter aufweist, während die Verbindungsschicht aus einem Klebstoff hergestellt ist. In diesem Fall kann die optische Faser mit dem Faser-Bragg-Gitter in die Verbindungsschicht eingelegt und vorzugsweise mit dem Klebstoff umgossen werden, so dass sich die Ausbildung der Verbindungsschicht durch den Klebstoff durch die optische Faser der Dehnungsmesseinrichtung nicht beeinträchtigt wird.
  • Hierbei ist es von besonderem Vorteil, wenn die Dehnungsmesseinrichtung derart in der Verbindungsschicht angeordnet ist, dass eine mechanische Kopplung der Dehnungsmesseinrichtung mit dem wenigstens einen Aktuator und/oder dem Substratelement ermöglicht wird. Beispielsweise kann dies dadurch ermöglicht werden, dass bei einer Ausbildung der Verbindungsschicht durch einen Klebstoff der Klebstoff auch die optische Faser der Dehnungsmesseinrichtung verklebt, wodurch sich eine mechanische Kopplung zwischen der Dehnungsmesseinrichtung, der Verbindungsschicht, dem Substratelement und dem wenigstens einen Aktuator ergibt.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Dehnungsmesseinrichtung in Teilen sowohl in dem Substratelement als auch in dem wenigstens einen Aktuator als auch in der wenigstens einen Verbindungsschicht angeordnet ist.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass das wenigstens eine Faser-Bragg-Gitter wenigstens teilweise in wenigstens einem Wirkungsbereich des wenigstens einen Aktuators angeordnet ist.
  • Im Rahmen der Erfindung ist unter dem Wirkungsbereich des wenigstens einen Aktuators derjenige Bereich der Optikvorrichtung zu verstehen, in welche eine durch den wenigstens einen Aktuator bedingte Dehnung durch die Dehnungsmesseinrichtung mit einer hinreichenden Genauigkeit erfassbar ist.
  • Vorzugsweise kann vorgesehen sein, dass jeder Aktuator jeweils einen einzelnen, vorzugsweise wegzusammenhängenden, Wirkungsbereich aufweist, wobei sich Wirkungsbereiche, insbesondere benachbarter Aktuatoren auch überschneiden können.
  • Eine wenigstens teilweise Anordnung des wenigstens einen Faser-Bragg-Gitters in wenigstens einem Wirkungsbereich des wenigstens einen Aktuators hat den Vorteil, dass Dehnungen, welche durch den wenigstens einen Aktuator ausgelöst werden, bei dem Faser-Bragg-Gitter Veränderungen der Gitterperiode auslösen können und damit eine Veränderung des Faserinterferenzspektrums bewirken können, welche Aufschluss über Art und Ausmaß der Dehnung geben können.
  • Insbesondere ermöglicht eine Anordnung im Wirkungsbereich des wenigstens einen Aktuators, dass eine durch das Faser-Bragg-Gitter bestimmte Dehnung auf eine tatsächliche Wirkung des wenigstens einen Aktuators zurückgeführt werden kann. Hierbei ist es von besonderem Vorteil, wenn die Wirkungsbereiche bei mehreren Aktuatoren voneinander separierbar sind. Hierdurch kann durch eine durch das Faser-Bragg-Gitter ermittelte Dehnung unmittelbar auf eine Wirkung desjenigen Aktuators geschlossen werden, in dessen Wirkungsbereich das wenigstens eine Faser-Bragg-Gitter angeordnet ist.
  • Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, dass sich das Faser-Bragg-Gitter über Wirkungsbereiche mehrerer Aktuatoren erstreckt. Hierdurch setzt sich die gemessene Dehnung aus Einwirkungen der mehreren Aktuatoren zusammen. Beispielsweise können hierdurch Aktuatoren gruppiert werden, was beispielsweise zu einer Kostensenkung führen kann, da lediglich ein Faser-Bragg-Gitter für mehrere Aktuatoren eingesetzt wird.
  • Ferner kann vorgesehen sein, dass sich das wenigstens eine Faser-Bragg-Gitter über die Wirkungsbereiche mehrerer Aktuatoren erstreckt und Dehnungen der jeweiligen Wirkungsbereiche zu einer Veränderung von jeweils verschiedenen Charakteristiken des Faserinterferenzspektrums des Faser-Bragg-Gitters führt.
  • Der Wirkungsbereich des wenigstens einen Aktuators kann beispielsweise auch einen Abschnitt einer Rückenplatte der Optikvorrichtung umfassen. Demnach kann vorgesehen sein, dass das wenigstens eine Faser-Bragg-Gitter in der Rückenplatte der Optikvorrichtung angeordnet ist. Eine Dehnung der Rückenplatte kann aufgrund des Reaktionsprinzips einer Dehnung des auf einer gegenüberliegenden Seite des Aktuators angeordneten Substratelements entgegengerichtet sein. Unter Berücksichtigung dieser Gegenrichtung kann jedoch aus einer Dehnung der Rückenplatte auf eine Dehnung des Substratelements und/oder der optischen Oberfläche geschlossen werden.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die wenigstens eine optische Faser mehrere Faser-Bragg-Gitter aufweist, wobei die Faserinterferenzspektren der einzelnen Faser-Bragg-Gitter unterscheidbar ausgebildet sind.
  • Weist die wenigstens eine optische Faser mehrere Faser-Bragg-Gitter auf, so kann durch eine geeignete Verlegung der optischen Faser mit lediglich einer optischen Faser eine Mehrzahl von Wirkungsbereichen durch die Dehnungsmesseinrichtung erfasst werden. Insbesondere kann eine Mehrzahl von Wirkungsbereichen einer Mehrzahl von Aktuatoren mit lediglich einer optischen Faser erfasst werden. Hierbei ist es von besonderem Vorteil, wenn die Faserinterferenzspektren der einzelnen Faser-Bragg-Gitter innerhalb der wenigstens einen optischen Faser unterscheidbar ausgebildet sind.
  • Ein rückreflektierter Spektralbereich und/oder ein Spektralbereich des Einschnitts in das Strahlungsspektrum eines einzelnen Faser-Bragg-Gitters und damit einer Dehnung eines individuellen Wirkungsbereichs wird damit von den Dehnungen der anderen Wirkungsbereiche der anderen Faser-Bragg-Gitter der einen optischen Faser unterscheidbar. Hierdurch können mehrere Wirkungsbereiche synchron unter Auswertung lediglich eines Reflexions- und/oder Transmissionsspektrums überwacht werden.
  • Es kann ferner vorgesehen sein, dass die Faser-Bragg-Gitter in ihrer Erstreckung in verschiedenen Raumrichtungen an der Optikvorrichtung, insbesondere dem Substratelement und/oder der Verbindungsschicht und/oder dem wenigstens einen Aktuator, angeordnet sind, so dass Dehnungen in unterschiedliche Raumrichtungen voneinander unterscheidbar sind.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die zu unterscheidenden Faserinterferenzspektren um 1 nm bis 100 nm, vorzugsweise 1 nm bis 10 nm, besonders bevorzugt 3 nm bis 5 nm spektral voneinander separiert sind.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass wenigstens eine Spektrometereinrichtung zur Bestimmung und/oder Charakterisierung der Faserinterferenzspektren vorgesehen ist.
  • Mittels einer Spektrometereinrichtung können das eine oder mehrere Faserinterferenzspektrum in Gänze oder in Teilen untersucht werden.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Spektrometereinrichtung dazu eingerichtet ist, reflektierte Strahlung innerhalb der Faserbandbreiten der Faser-Bragg-Gitter und/oder transmittierte Faserspektren mit Einschnitten innerhalb der Faserbandbreite der Faser-Bragg-Gitter zu bestimmen und/oder zu analysieren. Die Spektrometereinrichtung muss demnach nicht eingerichtet sein, das komplette Faserinterferenzspektrum in voller spektraler Breite aufzulösen, sondern die Spektrometereinrichtung kann darauf beschränkt sein, besonders charakteristische Bereiche der Faserinterferenzspektren zu bestimmen und/oder zu charakterisieren.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die wenigstens eine Spektrometereinrichtung eingerichtet ist, um eine direkte Frequenzverschiebung zu erfassen und/oder ein Mach-Zehnder-Interferometer aufweist.
  • Eine direkte Erfassung der Frequenzverschiebung bzw. Wellenlängenverschiebung der reflektierten Strahlung und/oder des Einschnitts in dem transmittierten Strahlungsspektrum hat den Vorteil, dass durch eine Begrenzung auf einen derartigen relevanten Teil des Spektrums eine besonders schnelle und zuverlässige Analyse der Faserinterferenzspektren ermöglicht wird.
  • Weist die wenigstens eine Spektrometereinrichtung einen Mach-Zehnder-Interferometer auf, so können die Faserinterferenzspektrum in einer vollen spektralen Breite erfasst und analysiert werden. Hierdurch können vorteilhafterweise viele Charakteristiken der Faserinterferenzspektren beachtet werden.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die optische Faser mehrere Faser-Bragg-Gitter aufweist, schlaufenförmig verläuft, und Wirkungsbereiche mehrerer Aktuatoren passiert.
  • Durch einen schlaufenförmigen Verlauf der optischen Faser können mehrere Wirkungsbereiche mehrerer Aktuatoren durch eine optische Faser erfasst werden, sofern die optische Faser derart dimensioniert und eingerichtet ist, dass in einer Mehrheit, vorzugsweise jedem, Wirkungsbereich ein Faser-Bragg-Gitter zu liegen kommt. Durch einen schlaufenförmigen Verlauf können die zu vermessenden Wirkungsbereiche ohne eine Überkreuzung der optischen Faser mit sich selbst jeweils einzeln adressiert werden.
  • Ferner kann vorgesehen sein, dass mehrere Faser-Bragg-Gitter in ein und demselben Wirkungsbereich eines Aktuators angeordnet sind. Hierbei können die Faser-Bragg-Gitter beispielsweise unterschiedlich orientiert sein und/oder in verschiedenen Bereichen des Wirkungsbereichs angeordnet sein. Hierdurch lässt sich eine Dehnung des Wirkungsbereichs im dreidimensionalen Raum besonders vorteilhaft präzise erfassen.
  • Es kann alternativ vorgesehen sein, dass die optische Faser lediglich ein Faser-Bragg-Gitter aufweist, schlaufenförmig verläuft, und Wirkungsbereiche mehrerer Aktuatoren passiert.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass
    • - die wenigstens eine optische Faser mäanderförmig durch Zeilen und/oder Reihen mehrerer Wirkungsbereiche geführt ist, und/oder
    • - in einer Mehrzahl der Wirkungsbereiche jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter angeordnet ist.
  • Es kann vorgesehen sein, dass mehrere Aktuatoren und mit ihnen mehrere Wirkungsbereiche in Reihen und Zeilen, d. h. insbesondere schachbrettartig, in der Optikvorrichtung angeordnet sind. Dies lässt zum einen eine vorteilhafte systematische Kraftausübung durch die Mehrzahl an Aktuatoren zu, zum anderen können hierdurch produktionstechnische Erleichterungen und somit Kosteneinsparungen erzielt werden.
  • In einer derartigen Situation ist es von besonderem Vorteil, wenn die wenigstens eine optische Faser mäanderförmig durch die Zeilen und Reihen der mehreren Wirkungsbereiche geführt ist. Durch den mäanderförmigen Verlauf wird die vorbeschriebene schlaufenförmige Führung der optischen Faser auf besonders effiziente Art und Weise ermöglicht. Insbesondere kann hierbei vorzugsweise vorgesehen sein, dass in einer Mehrzahl, vorzugsweise einer Mehrheit, vorzugsweise jedem Wirkungsbereich ein Faser-Bragg-Gitter zu liegen kommt.
  • Hierbei sind in den einzelnen Wirkungsbereichen, welche durch die jeweilig zugeordneten Aktuatoren gedehnt bzw. gezerrt werden, die Faser-Bragg-Gitter angeordnet. Zwischen den Wirkungsbereichen verläuft die optische Faser, ohne dass in diesen Bereichen ein Faser-Bragg-Gitter angeordnet wäre. Dies hat den Vorteil, dass bei einer Dehnung der Wirkungsbereiche die zwischen den Wirkungsbereichen verlaufende optische Faser derartig abgelängt bzw. dimensioniert sein kann, dass eine Verzerrung des Wirkungsbereichs durch eine Konturlänge der Faser ausgeglichen werden kann und ein vorteilhafter Erhalt der Strahlführungsqualitäten der optischen Faser genutzt werden kann. Die einzelnen zu dehnenden Wirkungsbereiche und die in oder an ihnen angeordneten Faser-Bragg-Gitter sind also nicht starr, sondern mit Spiel durch die optische Faser miteinander verbunden.
  • Es kann vorgesehen sein, dass für jede Zeile und/oder Reihe eine einzelne, der jeweiligen Reihe oder Zeile zugeordnete, optische Faser vorhanden ist.
  • Vorzugsweise kann vorgesehen sein, dass in allen Wirkungsbereichen jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter angeordnet ist.
  • Ferner kann vorgesehen sein, dass jeder Aktuator lediglich einen Wirkungsbereich aufweist.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass eine Rückenplatte vorgesehen ist, und der wenigstens eine Aktuator zwischen einer Rückenplatte und dem Substratelement angeordnet ist.
  • Die beschriebene Ausführungsform der Optikvorrichtung mit einer Rückenplatte hat den Vorteil, dass die Aktuatoren axial betrieben werden können und insbesondere ein Widerlager für eine Dehnung der optischen Oberfläche und/oder des Substratelements in Form der Rückenplatte vorhanden ist. Hierdurch kann eine vorteilhaft präzise und vorhersagbare Ansteuerung bzw. Deformation der optischen Oberfläche erzielt werden, da eine Kontur der Gesamtheit der Aktuatoren annähernd unmittelbar die Deformationen der optischen Oberfläche definiert.
  • Ferner ermöglicht das Vorhandensein einer Rückenplatte eine besonders einfache Montage der Optikvorrichtung in einer übergeordneten optischen Anlage, insbesondere einem Lithografiesystem, wie beispielsweise einer Projektionsbelichtungsanlage.
  • Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, dass der wenigstens eine Aktuator ohne Verwendung einer Rückenplatte direkt mit der optischen Oberfläche und/oder dem Substratelement verbunden ist. Hierbei können vorzugsweise transversal wirkende Aktuatoren eingesetzt werden, um eine Verzerrung bzw. Dehnung des Substratelements und/oder der optischen Oberfläche zu bewirken. Ein Vorteil hiervon ist, dass die Optikvorrichtung durch das Fehlen einer Rückenplatte geringere Ausmaße einnimmt und damit platzsparend angebracht werden kann.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung kann vorgesehen sein, dass die optische Oberfläche lichtreflektierend, vorzugsweise EUVreflektierend und/oder DUV-reflektierend ausgebildet ist.
  • Ist die Oberfläche lichtreflektierend, insbesondere EUV-lichtreflektierend ausgebildet, so ermöglicht dies einen Einsatz der Optikvorrichtung als deformierbarer Spiegel.
  • Das optische Element ist vorzugsweise ein Spiegel, insbesondere ein Spiegel einer Projektionsbelichtungsanlage.
  • Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, dass die optische Oberfläche transparent und als Teil einer deformierbaren Linse ausgebildet ist.
  • Das optische Element kann des Weiteren eine Linse, insbesondere eine Linse einer DUV-Projektionsbelichtungsanlage, sein.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation einer optischen Oberfläche gemäß Anspruch 18.
  • Bei dem Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation einer optischen Oberfläche eines optischen Elements für ein Lithografiesystem mittels eines oder mehrerer Aktuatoren ist vorgesehen, dass eine Ist-Deformation der optischen Oberfläche dadurch ermittelt wird, dass wenigstens eine Ist-Dehnung wenigstens eines Messbereichs ermittelt wird.
  • Im Rahmen der Erfindung ist unter dem Messbereich derjenige Bereich der Optikvorrichtung zu verstehen, in dem die Ist-Dehnung, insbesondere eine Änderung der Ist-Dehnung gegenüber einer Ursprungsdehnung, mit einer hinreichenden Genauigkeit messbar ist.
  • Vorzugsweise weist im Rahmen der Erfindung jeder Aktuator einen Wirkungsbereich auf, wobei dem Wirkungsbereich eines Aktuators vorzugsweise ein Messbereich zugeordnet ist.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn der wenigstens eine Messbereich in wenigstens einen Wirkungsbereich des wenigstens einen Aktuators fällt.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, dass die Ist-Deformation der optischen Oberfläche durch ein Messverfahren, namentlich die Ermittlung der Ist-Dehnung des Messbereichs, ermittelt wird. Dies ermöglicht die Vermeidung einer Vorausmodellierung der Ist-Deformation der optischen Oberfläche aus der Wirkung des wenigstens einen Aktuators, die besonders anfällig für Modellfehler ist.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Soll-Deformation durch einen geschlossener Regelkreis eingestellt wird, wobei die Ist-Dehnung als Rückkopplungssignal für die Ansteuerung und/oder Regelung des wenigstens einen Aktuators dient. Hierdurch kann ein Regelkreis besonders genau auf die Kraftwirkung des wenigstens einen Aktuators abgestimmt werden.
  • Von Vorteil kann eine Ausführungsform des Verfahrens sein, bei welcher eine Temperatur des Messbereichs ermittelt wird.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass der wenigstens eine Messbereich derart ausgewählt wird, dass von der Ist-Dehnung auf die Ist-Deformation der optischen Oberfläche geschlossen werden kann.
  • Besonders von Vorteil ist es, wenn der wenigstens eine Messbereich derart gewählt ist, dass die in dem Messbereich ermittelte Ist-Dehnung Aufschluss über die tatsächlich vorliegende Ist-Deformation der optischen Oberfläche gibt.
  • Dies kann insbesondere dadurch ermöglicht werden, dass die optische Oberfläche und der Messbereich gemäß Gesetzen der Festkörperphysik und/oder der Festigkeitslehre mechanisch miteinander derart gekoppelt sind, dass sich eine wenigstens annähernd bijektive Abbildung der Ist-Deformation der optischen Oberfläche auf die Ist-Dehnung des Messbereichs ergibt.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Ist-Dehnung des wenigstens einen Messbereichs lediglich Aufschluss über die Ist-Deformation eines Teilbereichs der optischen Oberfläche gibt. Soll in einem derartigen Fall Kenntnis über die Ist-Deformation der gesamten optischen Oberfläche erlangt werden, können beispielsweise mehrere Messbereiche und die Ermittlung mehrerer Ist-Dehnungen vorgesehen sein, um die gesuchte Ist-Deformation der gesamten optischen Oberfläche zu ermitteln.
  • Neben einer mechanischen Kopplung des wenigstens einen Messbereichs kann beispielsweise auch eine thermische Kopplung vorgesehen sein, wodurch von einer temperaturbedingten Dehnung des Messbereichs auf eine temperaturbedingte Deformation der optischen Oberfläche geschlossen werden kann, sofern ein Wärmeübertrag zwischen der optischen Oberfläche und dem Messbereich für einen derartigen Informationsaustausch genutzt werden kann.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass eine Dehnungsmesseinrichtung, aufweisend wenigstens eine optische Faser mit wenigstens einem Faser-Bragg-Gitter, derart angeordnet wird, dass in wenigstens einem der Faser-Bragg-Gitter der wenigstens einen optischen Faser wenigstens ein Faserinterferenzspektrum durch die Ist-Dehnung des wenigstens einen Messbereichs beeinflusst wird.
  • Weist die Dehnungsmesseinrichtung eine optische Faser mit wenigstens einem Faser-Bragg-Gitter auf, so ist es von Vorteil, wenn die optische Faser und/oder das Faser-Bragg-Gitter derart in oder an dem wenigstens einen Messbereich angeordnet werden, dass durch eine Dehnung des wenigstens einen Messbereichs, insbesondere durch die Ist-Dehnung des wenigstens einen Messbereichs, ein Faserinterferenzspektrum des Faser-Bragg-Gitters beeinflusst wird.
  • Das Faserinterferenzspektrum eines Faser-Bragg-Gitters wird durch die räumlich körperlichen Eigenschaften des Faser-Bragg-Gitters und damit durch dessen Geometrie entscheidend beeinflusst. Durch eine Dehnung und/oder Stauchung des das Faser-Bragg-Gitter ausbildenden Abschnitts der optischen Faser kann das Faserinterferenzspektrum beeinflusst werden. Dies gelingt insbesondere dann, wenn eine mechanische Kopplung zwischen dem wenigstens einen Messbereich und dem das Faser-Bragg-Gitter ausbildenden Abschnitt der optischen Faser erzielt wird.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass zur Messung der Ist-Dehnung wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter derart in dem Messbereich angeordnet wird, dass der Messbereich von dem Faser-Bragg-Gitter mechanisch entkoppelt ist bzw. eine mechanische Dehnung des Messbereichs von dem Faser-Bragg-Gitter nicht erfahren wird. Hierzu kann es von Vorteil sein, wenn keine mechanische Kopplung zwischen dem Faser-Bragg-Gitter und dem Messbereich vorliegt. Hierdurch wird eine erfasste Veränderung des Faserinterferenzspektrums nur von einer temperaturinduzierten Eigendehnung des Faser-Bragg-Gitters beeinflusst. Hierdurch kann auf eine Temperatur in dem Messbereich zurückgeschlossen werden.
  • Hierdurch ist es möglich, mittels weniger Wellenleiter, insbesondere mittels weniger optischer Fasern und weniger Faser-Bragg-Gitter viele hochpräzise Sensoren in der Optikvorrichtung zu integrieren.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass in die optische Faser eine Messstrahlung eingekoppelt wird.
  • Die eingekoppelte Messtrahlung kann breitbandig oder schmalbandig ausgebildet sein
  • Die Verwendung einer breitbandigen Messstrahlung hat den Vorteil, dass reflektierte Faserbandbreiten und/oder Einschnitte in einem breiten Spektralbereich erfasst werden können.
  • Hierdurch wird eine Erfassung einer großen Anzahl von Faserinterferenzspektren und/oder die Erfassung große spektraler Verschiebungen der Faserinterferenzspektren und/oder charakteristischer Bereiche der Faserinterferenzspektren ermöglicht.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Messstrahlung von einer Strahlungsquelle mit gro-ßer Bandbreite ausgebildet und in einen Wellenleiter, insbesondere die optische Faser, eingebracht wird. Ist ferner ein Faser-Bragg-Gitter vorgesehen, so wird an dem Faser-Bragg-Gitter lediglich Messstrahlung einer sehr begrenzten spektralen Breite um die Mittelwellenlänge bzw. Bragg-Wellenlänge reflektiert. Restliche Anteile der Messstrahlung setzen ihren Weg durch den Wellenleiter bzw. die optische Faser wenigstens annähernd ohne Dämpfung bis zu einem nächsten Faser-Bragg-Gitter fort.
  • Es kann vorgesehen sein, dass das Faserinterferenzspektrum mittels eines Rasterverfahrens detektiert wird, indem vorzugsweise
    • - eine schmalbandige Messstrahlung, welche lediglich einen schmalen Wellenlängenbereich aufweist, insbesondere eine Laserstrahlung, auf das Faser-Bragg-Gitter eingestrahlt wird, und
    • - eine spektrale Lage des schmalen Wellenlängenbereichs zeitlich, beispielsweise durch einen durchstimmbaren Laser, variiert wird, wodurch vorzugsweise ein breites Wellenlängenband überstrichen bzw. abgerastert wird, und
    • - synchron zu der Variation des Wellenlängenbereiches eine Intensität der transmittierten und/oder reflektierten Messstrahlung, beispielsweise mittels einer Photodiode, zeitaufgelöst erfasst wird, und
    • - durch einen Vergleich der detektierten Intensität der Messstrahlung mit der Wellenlänge der Messstrahlung zu verschiedenen Zeitpunkten das Faserinterferenzspektrum in dem vorzugsweise breiten Wellenlängenband ermittelt wird.
  • Ein derartiges Rasterverfahren zur Ermittlung des Faserinterferenzspektrums ist besonders zuverlässig und präzise.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass das Faser-Bragg-Gitter symmetrisch ausgebildet ist und die Messstrahlung im Bereich der Mittelwellenlänge bzw. Bragg-Wellenlänge reflektiert, unabhängig von welcher Seite die Messstrahlung auf das Faser-Bragg-Gitter trifft.
  • Die Mittelwellenlänge der Faserbandbreite bzw. der Bragg-Wellenlänge λB ist im Wesentlichen definiert durch eine Periode der Mikrostruktur des Faser-Bragg-Gitters, insbesondere der Gitterperiode Λ sowie einen Brechungsindex nef eines Wellenleiterkerns, insbesondere des Faserkerns. Formel (2) verknüpft eine Lage der Bragg-Wellenlänge λB mit der Gitterperiode Λ und dem Brechungsindex nef. λ B = 2 n e f Λ
    Figure DE102021205425A1_0002
  • Eine Dehnungsabhängigkeit der Bragg-Wellenlänge λB kann durch Differenzieren der Bragg-Wellenlänge λB gemäß Formel (3) bestimmt werden. In Formel (3) beschreibt k eine Sensitivität der Dehnungsmesseinrichtung und Δε eine Dehnung des Aktuators. Δ λ B Δ ε = k λ 0
    Figure DE102021205425A1_0003
  • Es kann demnach ermöglicht werden, ein Sensorsignal bezüglich der Dehnung der optischen Oberfläche bzw. des optischen Elements zu generieren und somit eine tatsächlich vorliegende Ist-Deformation der optischen Oberfläche, insbesondere eines Spiegels, zu bestimmen.
  • Ferner können beispielsweise Fehlerfälle während einer Anwendung der Optikvorrichtung detektiert werden.
  • Die Einkopplung der Messtrahlung in die optische Faser kann beispielsweise mittels einer Faserkopplers und/oder eines Objektivs erreicht werden.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass das Faserinterferenzspektrum des wenigstens einen Faser-Bragg-Gitters der Dehnungsmesseinrichtung ermittelt wird.
  • Ein Auslesen des Faserinterferenzspektrums ermöglicht eine messtechnisch hochgenaue Erfassung der Veränderung der Geometrie des wenigstens einen Faser-Bragg-Gitters. Allgemein lassen sich Spektren mittels Interferenzmethoden besonders zuverlässig ermitteln und erlauben daher eine besonders präzise und genaue Bestimmung der Geometrie des wenigstens einen Faser-Bragg-Gitters und damit insbesondere eine sehr präzise Ermittlung der Ist-Dehnung des wenigstens einen Messbereichs.
  • Zur Ermittlung und/oder Analyse des Faserinterferenzspektrums können beispielsweise direkte Methoden zur Ermittlung einer Frequenzverschiebung und/oder interferometrische Methoden, beispielsweise mittels eines Mach-Zehnder-Interferometers, verwendet werden.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die im Rahmen der Erfindung verwendete Messtrahlung eine Wellenlänge von 100 nm bis 10000 nm, vorzugsweise 300nm bis 3000 nm, besonders bevorzugt 1500 nm bis 1600 nm aufweist.
  • Es kann vorgesehen sein, dass das wenigstens eine Faserinterferenzspektrum Wellenlängen von 100 nm bis 10000 nm, vorzugsweise 300nm bis 3000 nm, besonders bevorzugt 1500 nm bis 1600 nm aufweist.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass die Ist-Deformation der optischen Oberfläche in dem Lithografiesystem und/oder während einer Reflexion einer Strahlung durch die optische Oberfläche bestimmt wird.
  • Besonderen Vorteil bietet das Verfahren, wenn es zur Überwachung der Ist-Deformation der optischen Oberfläche in einem Lithografiesystem eingesetzt wird, da optische Oberflächen, insbesondere bei deformierbaren Spiegeln, in Lithografiesystemen besondere Anforderungen an eine präzise Ausbildung der Oberflächenform erfüllen müssen.
  • Ganz besonders vorteilhaft ist es, wenn die Ist-Deformation der optischen Oberfläche während eines Betriebs eines derartigen durch die optische Oberfläche ausgebildeten Spiegels, insbesondere in dem Lithografiesystem, durch das Verfahren bestimmt wird. Während einer tatsächlich stattfindenden Reflexion einer Strahlung, insbesondere einer EUV-Strahlung, ist die optische Oberfläche einer erhöhten Energiedeposition und damit einem erhöhten Risiko vorhergesehener und unkontrollierter Ausdehnungen ausgesetzt. Um während des Betriebs der optischen Oberfläche bei einer Reflexion die Aufgabe der Führung und Formung des reflektierten Lichts vollumfänglich zu erfüllen, ist daher eine Kontrolle der Ist-Deformation der optischen Oberfläche von besonderem Vorteil.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass die Ist-Dehnung in einem oder mehreren Messbereichen in wenigstens einem Substratelement, an dem die optische Oberfläche angeordnet ist der optischen Oberfläche zugrundeliegenden Substratelement, vorzugsweise in einer Nut des Substratelements, bestimmt wird.
  • Eine Bestimmung der Ist-Dehnung in dem Substratelement, an welchem die optische Oberfläche angeordnet ist, hat den Vorteil, dass zwischen dem Substratelement und der optischen Oberfläche eine besonders starke mechanische Kopplung ausgebildet ist. Dies gilt insbesondere dann, wenn die optische Oberfläche in Form einer Beschichtung und/oder Strukturierung des zugrunde liegenden Substratelements ausgebildet wird.
  • Besonders vorteilhaft ist es hierbei, wenn die Ist-Dehnung in einem oder mehreren Messbereichen ermittelt wird, welche vorzugsweise in einer Nut innerhalb des Substratelements angeordnet sind. Hierdurch ergibt sich eine besonders starke mechanische Kopplung zwischen dem Substratelement und dem Messbereich und damit beispielsweise dem Faser-Bragg-Gitter. Somit wird eine starke mechanische Kopplung zwischen dem Faser-Bragg-Gitter, dem Substratelement und letztendlich mit der optischen Oberfläche erzielt.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass die Ist-Dehnung in einem oder mehreren Messbereichen in dem wenigstens einen Aktuator, vorzugsweise in einer Nut des Aktuators, bestimmt wird.
  • Eine Ermittlung der Ist-Dehnung in dem wenigstens einen Aktuator hat den Vorteil, dass damit eine Dehnung bzw. Zerrung des Materials des Aktuators direkt erfasst werden kann. Da an dem Aktuator selbst Kraft erzeugt wird, welche zu einer Deformation der optischen Oberfläche führen soll, ermöglicht eine derartige Anordnung eine besonders enge und unmittelbare Überwachung der Kraftauswirkung durch den wenigstens einen Aktuator.
  • Auch hierbei gilt, dass eine in dem Aktuator, vorzugsweise in einer in dem Aktuator eingebrachten, insbesondere versenkten Nut, erfolgten Messung ein besonders guter Aufschluss über Dehnungen und Zerrungen in dem Ausgangsmaterial des Aktuators ermöglicht wird.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass die Ist-Dehnung in einem oder mehreren Messbereichen in wenigstens einer den wenigstens einen Aktuator mit dem Substratelement verbindenden Verbindungsschicht bestimmt wird.
  • Die Ermittlung bzw. Bestimmung der Ist-Dehnung in der Verbindungsschicht hat den Vorteil, dass der wenigstens eine Messbereich in der Verbindungsschicht besonders einfach angeordnet werden kann, insbesondere wenn die Verbindungsschicht aus einem Klebematerial ausgebildet ist. Hierdurch kann eine relative Lage des wenigstens einen Aktuators und des Substratelements nahezu unverändert verbleiben, da in der neu eingebrachten Verbindungsschicht der Messbereich einfach ausgebildet werden kann.
  • Ist ferner die Verbindungsschicht als Klebstoff ausgebildet, so kann durch den Klebstoff eine vorteilhaft hohe mechanische Kopplung zwischen dem wenigstens einen Aktuator, dem Messbereich und dem Substratelement bewirkt werden.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass die Ist-Dehnung in mehreren Messbereichen synchron bestimmt wird.
  • Durch eine synchrone Bestimmung mehrerer Ist-Dehnungen an mehreren Messbereichen kann die Ist-Deformation der optischen Oberfläche vorteilhaft vollständig erfolgen. Durch ein enges Raster an Messbereichen ergibt sich eine dichte Abtastung der Ist-Deformation der optischen Oberfläche.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Ist-Dehnung in mehreren Messbereichen in schneller zeitlicher Reihenfolge bestimmt wird. Insbesondere kann ein Auslesen der Messbereiche in einem Multiplexverfahren erfolgen.
  • Von besonderem Vorteil ist es hierbei, wenn die Faserinterferenzspektren der in den mehreren Messbereichen angeordneten Faser-Bragg-Gittern voneinander unterscheidbar sind. Hierdurch wird eine synchrone Bestimmung der Faserinterferenzspektren und damit der Ist-Dehnungen erleichtert. Insbesondere kann hierbei eine einzelne optische Faser mit mehreren Faser-Bragg-Gittern zur Überwachung und Kontrolle mehrerer Messbereiche verwendet werden.
  • Ferner ist es von besonderem Vorteil, wenn hierbei eine Verschiebung der mehreren Faserinterferenzspektren untersucht wird. Eine Veränderung der Ist-Dehnung des Messbereichs führt bei hinreichender mechanischer Kopplung zwischen dem Faser-Bragg-Gitter und dem Messbereich zu einer Verschiebung des Faserinterferenzspektrums, wodurch von der Verschiebung des Faserinterferenzspektrums auf die Ist-Dehnung geschlossen werden kann.
  • Insbesondere kann eine Änderung der Ist-Dehnung zu einer Änderung einer Gitterperiode des Faser-Bragg-Gitters führen, wodurch sich die Mittelwellenlänge der Faserbandbreite des Faser-Bragg-Gitters in einem proportionalen Verhältnis zu der Ist-Dehnung im Spektrum verschiebt. Hierdurch verschiebt sich beispielsweise die Faserbandbreite des reflektierten Lichts und/oder die Faserbandbreite des Einschnitts des transmittierten Messstrahlungsspektrums.
  • Es kann vorgesehen sein, dass die Frequenzverschiebung bei einer Dehnung, welche durch eine bestimmungsgemäße Verwendung des wenigstens einen Aktuators bedingt ist, 1 pm bis 1 nm, vorzugsweise 5 pm bis 500 pm, besonders bevorzugt 20 pm bis 100 pm beträgt.
  • Es kann vorgesehen sein, dass ein Dehnungsauflösungsvermögen in dem Messbreich 1 am bis 1 nm, vorzugsweise 5 am bis 1 pm, besonders bevorzugt 0,5 fm bis 50 fm beträgt.
  • In einer vorteilhaften Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann vorgesehen sein, dass die wenigstens eine optische Faser schlaufenförmig, vorzugsweise mäanderförmig durch Zeilen und/oder Reihen mehrerer Messbereiche geführt wird, und/oder in einer Mehrzahl der Messbereiche jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter angeordnet wird.
  • Wird die wenigstens eine optische Faser mäanderförmig durch Zeilen und Reihen mehrerer Messbereiche geführt, so kann mit dem Einsatz lediglich einer optischen Faser eine große Anzahl von Messbereichen und somit Wirkungsbereichen kontrolliert bzw. überwacht werden. Ferner ermöglicht eine Anordnung der mehreren Messbereiche in Zeilen und Reihen eine Kontrolle der optischen Oberfläche, beispielsweise in Form von Planquadraten, was zu einer besonders vorteilhaft systematischen Kontrolle der Ausbildung der optischen Oberfläche führen kann.
  • Ist in einer Mehrzahl, das heißt in nicht nur einem, der Messbereiche jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter angeordnet, so kann zugleich eine Mehrzahl von Messbereichen kontrolliert bzw. überwacht werden. Insbesondere kann eine derartige Führung der optischen Faser durch die Ausbildung von Faser-Bragg-Gittern in verschiedenen Bereichen der optischen Faser schon bei einer Herstellung der optischen Faser festgelegt werden, in welchen der Messbereiche eine Ist-Dehnung bestimmt werden soll.
  • Ferner ermöglicht ein Führen der optischen Faser durch die verschiedenen Messbereiche, dass Versätze zwischen den einzelnen Messbereichen durch eine lockere Führung der optischen Faser eine Straffung der Faser durch den Versatz der Messbereiche vermieden werden kann.
  • Insbesondere kann vorgesehen sein, dass in den vorbeschriebenen Ausführungsformen des Verfahrens der wenigstens eine Messbereich wenigstens einem Wirkungsbereich des wenigstens einen Aktuators entspricht.
  • Dies ist von Vorteil, da der Wirkungsbereich des Aktuators als derjenige Bereich, an dem eine Kraftausübung des Aktuators wenigstens mittelbar zu einer Änderung der Ist-Deformation der optischen Oberfläche führt, von besonderem Interesse zur Überprüfung der Wirkung der Kraftausübung durch den wenigstens einen Aktuator ist.
  • Soll beispielsweise die Ist-Deformation in einem bestimmten Bereich der optischen Oberfläche ermittelt werden, so ist es besonders vorteilhaft, wenn die Ist-Dehnung in demjenigen Bereich erfasst wird, in dem eine Wirkung des den zu untersuchenden Bereich der optischen Oberfläche deformierenden Aktuators erfassbar ist.
  • Es kann vorgesehen sein, dass auf Grundlage der ermittelten Ist-Dehnung und/oder der ermittelten Ist-Deformation ein Fehlverhalten der Optikvorrichtung ermittelt wird. Gegebenenfalls kann vorgesehen sein, dass bei einem Vorliegen eines Fehlverhaltens bei einer Verwendung der Optikvorrichtung in einem Lithografiesystem ein aktueller Prozess des Lithografiesystems abgebrochen und/oder der Fehler an nachfolgende Prozessschritte weitergegeben wird. Ferner kann vorgesehen sein, dass ein Maschinenverantwortlicher zur Analyse des Problems benachrichtigt wird.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Lithografiesystem mit den in Anspruch 29 genannten Merkmalen.
  • Das erfindungsgemäße Lithografiesystem, insbesondere eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie, weist ein Beleuchtungssystem mit einer Strahlungsquelle sowie einer Optik auf, welche wenigstens ein optisches Element aufweist. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass wenigstens eine erfindungsgemäße Optikvorrichtung vorgesehen ist, wobei wenigstens eines der optischen Elemente ein optisches Element der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung ist und/oder wenigstens eines der optischen Elemente eine optische Oberfläche aufweist, welche mit einem erfindungsgemäßen Verfahren deformierbar ist.
  • Unter einer Deformierbarkeit ist in diesem Zusammenhang die Einstellbarkeit der Ist-Deformation der optischen Oberfläche zu verstehen.
  • Das erfindungsgemäße Lithografiesystem hat den Vorteil, dass die in ihm verwendeten optischen Elemente bzw. optischen Oberflächen eine besonders präzise kontrollierte optische Oberfläche bzw. Form aufweisen. Hierdurch kann mit dem erfindungsgemäßen Lithografiesystem eine besonders zuverlässige Abbildung erzielt werden, was zu besonders guten Produktionsergebnissen führt.
  • Merkmale, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung, namentlich gegeben durch die erfindungsgemäße Optikvorrichtung, das erfindungsgemäße Verfahren oder das erfindungsgemäße Lithografiesystem, beschrieben wurden, sind auch für die anderen Gegenstände der Erfindung vorteilhaft umsetzbar. Ebenso können Vorteile, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung genannt wurden, auch auf die anderen Gegenstände der Erfindung bezogen verstanden werden.
  • Ergänzend sei darauf hingewiesen, dass Begriffe wie „umfassend“, „aufweisend“ oder „mit“ keine anderen Merkmale oder Schritte ausschließen. Ferner schließen Begriffe wie „ein“ oder „das“, die auf eine Einzahl von Schritten oder Merkmalen hinweisen, keine Mehrzahl von Merkmalen oder Schritten aus - und umgekehrt.
  • In einer puristischen Ausführungsform der Erfindung kann allerdings auch vorgesehen sein, dass die in der Erfindung mit den Begriffen „umfassend“, „aufweisend“ oder „mit“ eingeführten Merkmale abschließend aufgezählt sind. Dementsprechend kann eine oder können mehrere Aufzählungen von Merkmalen im Rahmen der Erfindung als abgeschlossen betrachtet werden, beispielsweise jeweils für jeden Anspruch betrachtet. Die Erfindung kann beispielsweise ausschließlich aus den in Anspruch 1 genannten Merkmalen bestehen.
  • Es sei erwähnt, dass Bezeichnungen wie „erstes“ oder „zweites“ etc. vornehmlich aus Gründen der Unterscheidbarkeit von jeweiligen Vorrichtungs- oder Verfahrensmerkmalen verwendet werden und nicht unbedingt andeuten sollen, dass sich Merkmale gegenseitig bedingen oder miteinander in Beziehung stehen.
  • Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher beschrieben.
  • Die Figuren zeigen jeweils bevorzugte Ausführungsbeispiele, in denen einzelne Merkmale der vorliegenden Erfindung in Kombination miteinander dargestellt sind. Merkmale eines Ausführungsbeispiels sind auch losgelöst von den anderen Merkmalen des gleichen Ausführungsbeispiels umsetzbar und können dementsprechend von einem Fachmann ohne Weiteres zu weiteren sinnvollen Kombinationen und Unterkombinationen mit Merkmalen anderer Ausführungsbeispiele verbunden werden.
  • In den Figuren sind funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen.
  • Es zeigen:
    • 1 eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage im Meridionalschnitt;
    • 2 eine DUV-Projektionsbelichtungsanlage;
    • 3 eine schematische Darstellung einer Optikvorrichtung in einem Ruhezustand;
    • 4 eine schematische Darstellung einer Optikvorrichtung nach 3 in einem ausgelenkten Zustand;
    • 5 eine schematische Darstellung einer weiteren möglichen Ausführungsform der Optikvorrichtung in einem Ruhezustand;
    • 6 eine schematische Darstellung einer Ausführungsform nach 5 in einem ausgelenkten Zustand;
    • 7 eine schematische Darstellung möglicher Dehnungsverläufe eines elektrostriktiven Effekts bei verschiedenen Temperaturen;
    • 8 eine schematische Darstellung eines möglichen Verlaufs einer thermischen Dehnung eines elektrostriktiven Aktuators;
    • 9 eine schematische Darstellung einer möglichen Driftkurve eines elektrostriktiven Aktuators;
    • 10 eine schematische Darstellung einer weiteren möglichen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung;
    • 11 eine schematische Darstellung einer weiteren möglichen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung;
    • 12 eine schematische Darstellung einer weiteren möglichen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung;
    • 13 eine schematische Darstellung einer weiteren möglichen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Optikvorrichtung; und
    • 14 eine schematische Darstellung eines Faserinterferenzspektrums.
  • Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf 1 exemplarisch die wesentlichen Bestandteile einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 für die Mikrolithografie als Beispiel für ein Lithografiesystem beschrieben. Die Beschreibung des grundsätzlichen Aufbaus der EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 sowie deren Bestandteile sei hierbei nicht einschränkend verstanden.
  • Ein Beleuchtungssystem 101 der EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 weist neben einer Strahlungsquelle 102 eine Beleuchtungsoptik 103 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 104 in einer Objektebene 105 auf. Belichtet wird hierbei ein im Objektfeld 104 angeordnetes Retikel 106. Das Retikel 106 ist von einem Retikelhalter 107 gehalten. Der Retikelhalter 107 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 108 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.
  • In 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 105.
  • Die EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 umfasst eine Projektionsoptik 109. Die Projektionsoptik 109 dient zur Abbildung des Objektfeldes 104 in ein Bildfeld 110 in einer Bildebene 111. Die Bildebene 111 verläuft parallel zur Objektebene 105. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 105 und der Bildebene 111 möglich.
  • Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 106 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 110 in der Bildebene 111 angeordneten Wafers 112. Der Wafer 112 wird von einem Waferhalter 113 gehalten. Der Waferhalter 113 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 114 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 106 über den Retikelverlagerungsantrieb 108 und andererseits des Wafers 112 über den Waferverlagerungsantrieb 114 kann synchronisiert zueinander erfolgen.
  • Bei der Strahlungsquelle 102 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 102 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 115, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung oder Beleuchtungsstrahlung bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 115 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 102 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle („Laser Produced Plasma“, mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle („Gas Discharged Produced Plasma“, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 102 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser („Free-Electron-Laser“, FEL) handeln.
  • Die Beleuchtungsstrahlung 115, die von der Strahlungsquelle 102 ausgeht, wird von einem Kollektor 116 gebündelt. Bei dem Kollektor 116 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 116 kann im streifenden Einfall („Grazing Incidence“, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall („Normal Incidence“, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 115 beaufschlagt werden. Der Kollektor 116 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung 115 und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
  • Nach dem Kollektor 116 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 115 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 117. Die Zwischenfokusebene 117 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 102 und den Kollektor 116, und der Beleuchtungsoptik 103 darstellen.
  • Die Beleuchtungsoptik 103 umfasst einen Umlenkspiegel 118 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 119. Bei dem Umlenkspiegel 118 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 118 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 115 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 119 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet ist, die zur Objektebene 105 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 119 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 120, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 120 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.
  • Die ersten Facetten 120 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 120 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.
  • Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 120 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 119 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
  • Zwischen dem Kollektor 116 und dem Umlenkspiegel 118 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 115 horizontal, also längs der y-Richtung.
  • Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 103 ist dem ersten Facettenspiegel 119 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 121. Sofern der zweite Facettenspiegel 121 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 121 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 119 und dem zweiten Facettenspiegel 121 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .
  • Der zweite Facettenspiegel 121 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 122. Die zweiten Facetten 122 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.
  • Bei den zweiten Facetten 122 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
  • Die zweiten Facetten 122 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.
  • Die Beleuchtungsoptik 103 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Fliegenaugeintegrator („Fly's Eye Integrator“) bezeichnet.
  • Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 121 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 109 optisch konjugiert ist, anzuordnen.
  • Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 121 werden die einzelnen ersten Facetten 120 in das Objektfeld 104 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 121 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 115 im Strahlengang vor dem Objektfeld 104.
  • Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 103 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 121 und dem Objektfeld 104 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 120 in das Objektfeld 104 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 103 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, „Normal Incidence“-Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, „Gracing Incidence“-Spiegel) umfassen.
  • Die Beleuchtungsoptik 103 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 116 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 118, den Feldfacettenspiegel 119 und den Pupillenfacettenspiegel 121.
  • Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 103 kann der Umlenkspiegel 118 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 103 nach dem Kollektor 116 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 119 und den zweiten Facettenspiegel 121.
  • Die Abbildung der ersten Facetten 120 mittels der zweiten Facetten 122 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 122 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 105 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
  • Die Projektionsoptik 109 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der EUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 durchnummeriert sind.
  • Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 109 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 115. Bei der Projektionsoptik 109 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Die Projektionsoptik 109 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.
  • Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 103, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 115 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.
  • Die Projektionsoptik 109 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 104 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 110. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 105 und der Bildebene 111.
  • Die Projektionsoptik 109 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 109 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.
  • Die Projektionsoptik 109 führt somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.
  • Die Projektionsoptik 109 führt in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.
  • Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.
  • Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 104 und dem Bildfeld 110 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 109, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .
  • Jeweils eine der Pupillenfacetten 122 ist genau einer der Feldfacetten 120 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 104 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 120 in eine Vielzahl an Objektfeldern 104 zerlegt. Die Feldfacetten 120 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 122.
  • Die Feldfacetten 120 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 122 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 104 auf das Retikel 106 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 104 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2% auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
  • Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet.
  • Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 103 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.
  • Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 104 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 beschrieben.
  • Die Projektionsoptik 109 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.
  • Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 lässt sich regelmäßig mit dem Pupillenfacettenspiegel 121 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 109, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 121 telezentrisch auf den Wafer 112 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
  • Es kann sein, dass die Projektionsoptik 109 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 121 und dem Retikel 106 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Bauelements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
  • Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 103 ist der Pupillenfacettenspiegel 121 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 109 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Feldfacettenspiegel 119 ist verkippt zur Objektebene 105 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 119 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 118 definiert ist.
  • Der erste Facettenspiegel 119 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 121 definiert ist.
  • In 2 ist eine beispielhafte DUV-Projektionsbelichtungsanlage 200 dargestellt. Die DUV-Projektionsbelichtungsanlage 200 weist ein Beleuchtungssystem 201, eine Retikelstage 202 genannten Einrichtung zur Aufnahme und exakten Positionierung eines Retikels 203, durch welches die späteren Strukturen auf einem Wafer 204 bestimmt werden, einen Waferhalter 205 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung des Wafers 204 und eine Abbildungseinrichtung, nämlich eine Projektionsoptik 206, mit mehreren optischen Elementen, insbesondere Linsen 207, die über Fassungen 208 in einem Objektivgehäuse 209 der Projektionsoptik 206 gehalten sind, auf.
  • Alternativ oder ergänzend zu den dargestellten Linsen 207 können diverse refraktive, diffraktive und/oder reflexive optische Elemente, unter anderem auch Spiegel, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen, vorgesehen sein.
  • Das grundsätzliche Funktionsprinzip der DUV-Projektionsbelichtungsanlage 200 sieht vor, dass die in das Retikel 203 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 204 abgebildet werden.
  • Das Beleuchtungssystem 201 stellt einen für die Abbildung des Retikels 203 auf den Wafer 204 benötigten Projektionsstrahl 210 in Form elektromagnetischer Strahlung bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser, eine Plasmaquelle oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in dem Beleuchtungssystem 201 über optische Elemente so geformt, dass der Projektionsstrahl 210 beim Auftreffen auf das Retikel 203 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist.
  • Mittels des Projektionsstrahls 210 wird ein Bild des Retikels 203 erzeugt und von der Projektionsoptik 206 entsprechend verkleinert auf den Wafer 204 übertragen. Dabei können das Retikel 203 und der Wafer 204 synchron verfahren werden, so dass praktisch kontinuierlich während eines sogenannten Scanvorganges Bereiche des Retikels 203 auf entsprechende Bereiche des Wafers 204 abgebildet werden.
  • Optional kann ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 207 und dem Wafer 204 durch ein flüssiges Medium ersetzt sein, welches einen Brechungsindex größer 1,0 aufweist. Das flüssige Medium kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf.
  • Die Verwendung der Erfindung ist nicht auf den Einsatz in Projektionsbelichtungsanlagen 100, 200, insbesondere auch nicht mit dem beschriebenen Aufbau, beschränkt. Die Erfindung eignet sich für beliebige Lithografiesysteme, insbesondere jedoch für Projektionsbelichtungsanlagen, mit dem beschriebenen Aufbau. Die Erfindung eignet sich auch für EUV-Projektionsbelichtungsanlagen, welche eine geringere bildseitige numerische Apertur als jene, die im Zusammenhang mit 1 beschrieben ist, sowie keinen obskurierten Spiegel M5 und/oder M6 aufweisen. Insbesondere eignet sich die Erfindung auch für EUV-Projektionsbelichtungsanlagen, welche eine bildseitige numerische Apertur von 0,25 bis 0,5, vorzugsweise 0,3 bis 0,4, besonders bevorzug 0,33, aufweisen. Die Erfindung sowie die nachfolgenden Ausführungsbeispiele sind ferner nicht auf eine spezifische Bauform beschränkt zu verstehen. Die nachfolgenden Figuren stellen die Erfindung lediglich beispielhaft und stark schematisiert dar.
  • 3 zeigt eine schematische Darstellung einer Optikvorrichtung 1.
  • Die in dem Ausführungsbeispiel dargestellte Optikvorrichtung 1 für ein Lithografiesystem, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage 100, 200 umfasst wenigstens ein optisches Element 2, welches eine optische Oberfläche 3 aufweist, sowie mehrere Aktuatoren 4 für eine Deformation der optischen Oberfläche 3. Ferner ist eine Dehnungsmesseinrichtung 5 zur Ermittlung der Deformation der optischen Oberfläche 3 vorgesehen bzw. vorhanden.
  • In einer nicht dargestellten Ausführungsform kann vorgesehen sein, dass lediglich ein Aktuator 4 für eine Deformation der optischen Oberfläche 3 vorhanden ist. Hierbei ist es von Vorteil, wenn der eine Aktuator 4 die optische Oberfläche 3 möglichst in alle Raumrichtungen deformieren kann.
  • In dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel weist die Dehnungsmesseinrichtung 5 wenigstens eine optische Faser 6 auf.
  • Die optische Faser 6 ist hierbei polarisationserhaltend.
  • Ferner weist in dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel die wenigstens eine optische Faser 6 der Optikvorrichtung 1 mehrere Faser-Bragg-Gitter 7 mit jeweiligen Faserinterferenzspektren 8 (siehe 14) auf.
  • Darüber hinaus weist in dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel der Optikvorrichtung 1 das optische Element 2 ein Substratelement 9 auf, an dem die optische Oberfläche 3 angeordnet bzw. ausgebildet ist. Ferner sind die Aktuatoren 4 mit dem Substratelement 9 durch eine Verbindungsschicht 10 verbunden.
  • In dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel weist die Verbindungsschicht 10 einen Klebstoff auf. Die Verbindungsschicht 10 kann in anderen Ausführungsformen auch durch andere Materialien ausgebildet sein.
  • In dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel ist ferner die Dehnungsmesseinrichtung 5 wenigstens teilweise in der Verbindungsschicht 10 angeordnet.
  • Insbesondere ist in dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel die Dehnungsmesseinrichtung 5 in die Verbindungsschicht 10 eingelegt.
  • Ferner zeigt 3 eine Ausführungsform der Optikvorrichtung 1, bei der das wenigstens eine Faser-Bragg-Gitter 7 wenigstens teilweise in wenigstens einem Wirkungsbereich 11 der Aktuatoren 4 angeordnet ist.
  • Vorzugsweise ist einer Mehrzahl, vorzugsweise einer Mehrheit, besonders bevorzugt allen Wirkungsbereichen 11 ein Faser-Bragg-Gitter 7 zugeordnet. Jeder Aktuator 4 bildet dabei vorzugsweise einen eigenen Wirkungsbereich 11 zur Deformation bzw. Formung der optischen Oberfläche 3 des optischen Elements 2 aus.
  • In dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel der Optikvorrichtung 1 ist vorzugsweise eine Rückenplatte 12 vorhanden. Die Aktuatoren 4 sind dabei vorzugsweise zwischen der Rückenplatte 12 und dem Substratelement 9 angeordnet. Die Rückenplatte 12 ermöglicht eine Abstützung der in dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel normal (orthogonal) zur optischen Oberfläche 3 arbeitenden Aktuatoren 4.
  • Die optische Faser 6 weist mehrere Faser-Bragg-Gitter 7 auf, deren Faserinterferenzspektren 8 (siehe 14) vorzugsweise unterscheidbar ausgebildet sind.
  • Insbesondere weisen in dem dargestellten Ausführungsbeispiel die Faser-Bragg-Gitter 7 unterschiedliche Gitterperioden auf.
  • 3 zeigt des Weiteren eine Ausführungsform der Optikvorrichtung 1, bei der wenigstens eine Spektrometereinrichtung 14 zur Bestimmung und Charakterisierung eines oder mehrerer Faserinterferenzspektren 8 vorhanden ist.
  • Ferner ist in dem in 3 dargestellten Ausführungsbeispiel eine Regeleinrichtung 14a vorhanden und dazu eingerichtet, die Soll-Deformation durch einen geschlossenen Regelkreis einzustellen. Hierbei dient die Ist-Dehnung als Rückkopplungssignal für die Ansteuerung und/oder Regelung des wenigstens einen Aktuators 4. Hierdurch kann der Regelkreis besonders genau auf die Kraftwirkung des wenigstens einen Aktuators 4 abgestimmt werden. Wirkverbindungen sind in 3 durch gestrichelte Linien dargestellt.
  • Die Spektrometereinrichtung 14 ist vorzugsweise eingerichtet, um eine direkte Frequenzverschiebung in den Faserinterferenzspektren 8 zu erfassen. Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, dass die Spektrometereinrichtung 14 ein Mach-Zehnder-Interferometer aufweist.
  • Weiterhin ist bei der in 3 dargestellten Optikvorrichtung 1 die optische Oberfläche 3 lichtreflektierend, insbesondere EUV-lichtreflektierend, ausgebildet.
  • In einer alternativen Ausführungsform kann vorgesehen sein, dass die optische Oberfläche 3 DUV-lichtreflektierend ausgebildet ist.
  • 4 zeigt eine schematische Darstellung der Optikvorrichtung 1. Die optische Oberfläche 3 ist in dem dargestellten Ausführungsbeispiel durch die Wirkung der Aktuatoren 4 deformiert. Die Aktuatoren 4 sind gegen die Rückenplatte 12 abgestützt und arbeiten in eine Richtung, welche annähernd parallel zu einer Flächennormalen der optischen Oberfläche 3 verläuft.
  • Durch die Wirkung der Aktuatoren 4 ergeben sich Dehnungen in dem Substratelement 9, welche beispielsweise mittels der Dehnungsmesseinrichtung 5 (in 4 nicht dargestellt) erfassbar sind.
  • 5 zeigt eine vereinfachte schematische Darstellung der Optikvorrichtung 1, wobei auf eine Rückenplatte 12 verzichtet wurde und die Aktuatoren 4 eine Arbeitsrichtung aufweisen, welche wenigstens annähernd parallel zu der optischen Oberfläche 3 verläuft.
  • 6 zeigt die Optikvorrichtung 1 der 5 in einem ausgelenkten Zustand.
  • In den 3 bis 6 sind demnach verschiedene Systeme zur Aktuierung von deformierbaren optischen Oberflächen 3, insbesondere Spiegeloberflächen, dargestellt. Die 3 und 4 zeigen demnach eine Aktuierung normal (orthogonal) zur optischen Oberfläche 3 und die 5 und 6 eine Aktuierung parallel zu der optischen Oberfläche 3.
  • In dem in den 3 und 4 dargestellten Ausführungsbeispiel können mehrere Aktuatoren 4 eine Druckkraft auf das optische Element 2 auswirken und dieses somit präzise verformen bzw. zu deformieren. Bei dem in den 5 und 6 dargestellten Ausführungsbeispiel wird durch eine Dehnung und/oder eine Kontraktion der Aktuatoren 4 ein Biegemoment in das optische Element 2 und/oder die optische Oberfläche 3 eingeleitet, was zu einer Verformung bzw. Deformation derselben führen kann.
  • 7 zeig eine schematische Darstellung verschiedener Dehnungskurven der Aktuatoren 4.
  • Auf einer vertikalen Dehnungsachse 15 ist eine Dehnung des Aktuators 4 und/oder eine Dehnung des Wirkungsbereichs 11 des Aktuators 4 abgetragen.
  • Auf einer horizontalen Achse 16 ist in 7 die Feldstärke eines angelegten elektrischen Feldes abgetragen. In dem Diagramm in 7 sind vier Dehnungskurven dargestellt, welche mit unterschiedlichen Temperaturen des Aktuators 4 korrespondieren. Alle vier Dehnungskurven weisen eine Hysterese auf.
  • Diejenige Dehnungskurve mit dem niedrigsten Verlauf korrespondiert hierbei mit der höchsten Temperatur, während diejenige Dehnungskurve mit dem höchsten Verlauf mit der niedrigsten Temperatur des Aktuators 4 korrespondiert.
  • Die in 7 dargestellten Dehnungskurven des Aktuators 4 geben das Verhalten des Aktuators 4 gemäß der Formel (1) wieder. Eine Hysterese des Aktuators 4 ist hierbei ersichtlich und liegt im dargestellten Beispiel in einem Bereich von < 1 %.
  • 8 zeigt eine schematische Darstellung einer Dehnungskurve des Aktuators 4 unter Temperaturänderung. Auf der Dehnungsachse 15 ist wiederum die Dehnung des Aktuators 4 abgetragen, während auf der horizontalen Achse 16 die Temperatur des Aktuators 4 abgetragen ist. Es ist eine Hysterese der Dehnungskurve beim Durchlaufen eines Temperaturzyklus erkennbar.
  • Die Ausdehnung des Aktuators 4 bei der Änderung der Temperatur gegenüber der am Ursprung des in 8 dargestellten Diagramms angeordneten Normaltemperatur wird insbesondere durch den thermalen Ausdehungskoeffizieten CTE (siehe Formel (1)) bestimmt. Bei der in 8 dargestellten Dehnungskurve ist eine thermale Hysterese der Dehnung ersichtlich. Der Effekte der Hysterese kann hierbei nicht reproduzierbar sein.
  • 9 zeigt eine schematische Darstellung einer Driftkurve des Aktuators 4. Auf der Dehnungsachse 15 ist die Dehnung des Aktuators 4 aufgetragen, während auf der horizontalen Achse 16 ein Zeitverlauf abgetragen ist. Am Ursprung, das heißt zu Beginn der Zeitmessung, befindet sich der Aktuator 4 in einer Ausgangsposition bzw. Ausgangsdehnung und erhält ein Signal, vorzugsweise in Form einer angelegten Spannung, eine Soll-Position, das heißt eine Soll-Dehnung, einzunehmen. Der Aktuator 4 nähert sich im Laufe der Zeit der Soll-Position bzw. der Soll-Dehnung an bzw. driftet dieser entgegen.
  • Ferner kann die in 9 dargestellte Drift abhängig von der jeweiligen Sprunghöhe des Aktuators 4 sein.
  • 10 zeigt eine schematische Darstellung einer möglichen Ausführungsform der Optikvorrichtung 1 in einer Schnittansicht.
  • Die optische Faser 6 weist hierbei mehrere Faser-Bragg-Gitter 7 auf, verläuft schlaufenförmig und passiert die Wirkungsbereiche 11 mehrerer Aktuatoren 4.
  • Ferner ist in dem in 10 dargestellten Ausführungsbeispiel die optische Faser 6 mäanderförmig durch Reihen mehrerer Wirkungsbereiche 11 geführt. In einem alternativen Ausführungsbeispiel kann vorgesehen sein, dass zusätzlich oder alternativ die wenigstens eine optische Faser 6 mäanderförmig durch Zeilen mehrerer Wirkungsbereiche 11 geführt ist.
  • Es können in dem in 10 dargestellten Ausführungsbeispiel auch mehrere optische Fasern 6 mäanderförmig verlaufend vorgesehen sein.
  • Alternativ oder zusätzlich können in dem in 10 dargestellten Ausführungsbeispiel auch mehrere optische Fasern 6 vorgesehen sein, welche jeweils einer Zeile oder Reihe zugeordnet sind.
  • Ferner ist in dem in 10 dargestellten Ausführungsbeispiel in einer Mehrzahl der Wirkungsbereiche 11 jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter 7 angeordnet.
  • 11 zeigt eine schematische Darstellung einer weiteren möglichen Ausführungsform der Optikvorrichtung 1, wobei die Dehnungsmesseinrichtung 5 wenigstens teilweise, vorzugsweise vollständig, in dem Substratelement 9 angeordnet ist. Insbesondere ist in dem dargestellten Ausführungsbeispiel die Dehnungsmesseinrichtung 5 in einer Nut 17b angeordnet.
  • Die Dehnungsmesseinrichtung 5 kann auch sowohl in dem Substratelement 9 als auch in der Verbindungsschicht 10 angeordnet sein.
  • In 11 ist ein Schnitt durch einen Aktuator 4 mit einer Verbindungsschicht 10 sowie dem Substratelement 9 dargestellt. In dem in 11 dargestellten Ausführungsbeispiel liegend die Aktuatoren 4 flächig auf der Verbindungsschicht 10 auf, welche die Aktuatoren 4 und das Substratelement 9 verbinden.
  • In dem in 11 dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Nut 17b in das Substratelement 9 vorzugsweise eingefräst.
  • 12 zeigt eine weitere schematische Darstellung der Ausführungsform der Optikvorrichtung 1, wonach die Dehnungsmesseinrichtung 5 wenigstens teilweise, vorzugsweise vollständig, in der Verbindungsschicht 10 angeordnet, insbesondere eingelegt, ist.
  • 13 zeigt eine schematische Darstellung einer Ausführungsform der Optikvorrichtung 1, wobei die Dehnungsmesseinrichtung 5 wenigstens teilweise in dem wenigstens einen Aktuator 4, insbesondere in der Nut 17a, angeordnet ist.
  • Die Dehnungsmesseinrichtung 5 kann auch sowohl in dem wenigstens einen Aktuator 4 als auch in der Verbindungsschicht 10 angeordnet sein.
  • Die Dehnungsmesseinrichtung 5 kann auch sowohl in dem Substratelement 9 als auch in sowohl in dem wenigstens einen Aktuator 4 angeordnet sein.
  • Die Dehnungsmesseinrichtung 5 kann auch sowohl in dem Substratelement 9 als auch in der Verbindungsschicht 10 als auch in dem wenigstens einen Aktuator 4 angeordnet sein.
  • In dem in 13 dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Nut 17a vorzugsweise in die Aktuatoren 4 eingefräst.
  • Merkmale, die bei einem Ausführungsbeispiel der 3 bis 13 genannt werden, können auch bei den anderen Ausführungsbeispielen umgesetzt werden. Es können insbesondere auch mehrere optische Fasern eingesetzt werden, die derart in dem optischen Element 2 angeordnet werden, wie dies anhand der 11 und/oder 12 und/oder 13 beschrieben wurde.
  • Die in den 3 bis 13 dargestellten Ausführungsbeispiele der Optikvorrichtung 1 eignen sich auch in besonderem Maße zur Durchführung eines Verfahrens zur Einstellung einer Soll-Deformation der optischen Oberfläche 3 des optischen Elements 2 für ein Lithografiesystem 100, 200 mittels des einen oder der mehreren Aktuatoren 4. Bei dem Verfahren ist vorgesehen, dass eine Ist-Deformation der optischen Oberfläche 3 dadurch ermittelt wird, dass wenigstens eine Ist-Dehnung wenigstens eines Messbereichs 18 ermittelt wird. Ferner ist der wenigstens eine Messbereich 18 derart ausgewählt, dass von der Ist-Dehnung auf die Ist-Deformation der optischen Oberfläche 3 geschlossen werden kann.
  • Die Messbereiche 18 sind in den Ausführungsbeispielen vorzugsweise derart gewählt, dass jedem Wirkungsbereich 11, zumindest jedem Wirkungsbereich 11, der erfasst bzw. beobachtet werden soll, ein Messbereich 18 zugeordnet ist, wobei der jeweilige Messbereich 18 vorzugsweise innerhalb des Wirkungsbereichs 11 befindet bzw. dort ausgebildet ist.
  • Weiterhin ist zur Durchführung des Verfahrens die Dehnungsmesseinrichtung 5 vorzugsweise derart angeordnet, dass in den Faser-Bragg-Gittern 7 der optischen Faser 6 das Faserinterferenzspektrum 8 durch die Ist-Dehnung des wenigstens einen Messbereichs 18 beeinflusst wird.
  • Ferner wird zur Durchführung des Verfahrens in die optische Faser 6 eine breitbandige Messstrahlung 19 eingekoppelt. Das heißt, das erfindungsgemäße Verfahren umfasst vorzugsweise die Einkopplung der breitbandigen Messtrahlung 19.
  • Unter Verwendung der Messstrahlung 19 können die Faserinterferenzspektren 8 der Faser-Bragg-Gitter 7 der Dehnungsmesseinrichtung 5 ermittelt werden.
  • Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, dass eine schmalbandige Messstrahlung 19 in die optische Faser 6 eingekoppelt wird und die Faserinterferenzspektren 8 in einem Rasterverfahren bzw. Scanningverfahren durch ein Überstreichen bzw. Abrastern eines ausreichend breiten Wellenlängenbandes ermittelt werden.
  • Ferner ist vorzugsweise vorgesehen, dass die Ist-Deformation der optischen Oberfläche 3 in den Lithografiesystemen 100, 200 gemäß der 1 und 2 und während einer Reflexion einer Arbeitsstrahlung der Projektionsbelichtungsanlage 100, 200 durch die optische Oberfläche 3 bestimmt wird.
  • Die in 11 dargestellte Ausführungsform der Optikvorrichtung 1 eignet sich besonders zur Durchführung einer Ausführungsform des Verfahrens, wonach die Ist-Dehnung in mehreren Messbereichen 18 in dem der optischen Oberfläche 3 zugrunde liegenden Substratelementen 9 in der Nut 17b ermittelt wird.
  • Das in 12 dargestellte Ausführungsbeispiel der Optikvorrichtung 1 eignet sich in besonderem Maße zur Durchführung einer Ausführungsform des Verfahrens, wonach die Ist-Dehnung in mehreren Messbereichen 18 in der die Aktuatoren 4 mit dem Substratelement 9 verbindenden Verbindungsschicht 10 bestimmt wird.
  • Das in 13 dargestellte Ausführungsbeispiel der Optikvorrichtung 1 eignet sich in besonderem Maße zur Durchführung einer Ausführungsform des Verfahrens, wonach die Ist-Dehnung in mehrere Messbereichen 18 in den Aktuatoren 4 in der Nut 17a bestimmt wird.
  • Ferner ist bei dem Verfahren vorzugsweise vorgesehen, dass die Ist-Dehnung in den mehreren Messbereichen 18 synchron und/oder in schneller zeitlicher Abfolge bestimmt wird.
  • Das in 10 dargestellte Ausführungsbeispiel der Optikvorrichtung 1 eignet sich in besonderem Maße zur Durchführung einer Ausführungsform des Verfahrens, wonach die optische Faser 6 mäanderförmig durch Reihen mehrerer Messbereiche 18 geführt wird. Ferner wird vorzugsweise bei dieser Ausführungsform in einer Mehrzahl der Messbereiche 18 jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter 7 angeordnet.
  • Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, dass die wenigstens eine optische Faser 6 mäanderförmig durch Zeilen mehrerer Messbereiche 18 geführt wird.
  • 14 zeigt eine schematische Darstellung des Faserinterferenzsprektrums 8. Auf der horizontalen Achse 16 ist die Wellenlänge abgetragen. Auf einer Intensitätsachse 20 ist in einer durchgezogenen Linie das Messpektrum 8 einer rückreflektierten Messtrahlung 19 aufgetragen. In einer gestrichelten Linie ist ein Eingangsspektrumder eingestrahlten Messtrahlung 19 aufgetragen.
  • Bezugszeichenliste
    • 1
    Optikvorrichtung
    2
    optisches Element
    3
    optische Oberfläche
    4
    Aktuator
    5
    Dehnungsmesseinrichtung
    6
    optische Faser
    7
    Faser-Bragg-Gitter
    8
    Faserinterferenzspektrum
    9
    Substratelement
    10
    Verbindungsschicht
    11
    Wirkungsbereich
    12
    Rückenplatte
    14
    Spektrometereinrichtung
    15
    Dehnungsachse
    16
    horizontale Achse
    17a,b
    Nuten
    18
    Messbereich
    19
    Messstrahlung
    20
    Intensitätsachse
    100
    EUV-Projektionsbelichtungsanlage
    101
    Beleuchtungssystem
    102
    Strahlungsquelle
    103
    Beleuchtungsoptik
    104
    Objektfeld
    105
    Objektebene
    106
    Retikel
    107
    Retikelhalter
    108
    Retikelverlagerungsantrieb
    109
    Projektionsoptik
    110
    Bildfeld
    111
    Bildebene
    112
    Wafer
    113
    Waferhalter
    114
    Waferverlagerungsantrieb
    115
    EUV- / Nutz- / Beleuchtungsstrahlung
    116
    Kollektor
    117
    Zwischenfokusebene
    118
    Umlenkspiegel
    119
    erster Facettenspiegel / Feldfacettenspiegel
    120
    erste Facetten / Feldfacetten
    121
    zweiter Facettenspiegel / Pupillenfacettenspiegel
    122
    zweite Facetten / Pupillenfacetten
    200
    DUV-Projektionsbelichtungsanlage
    201
    Beleuchtungssystem
    202
    Retikelstage
    203
    Retikel
    204
    Wafer
    205
    Waferhalter
    206
    Projektionsoptik
    207
    Linse
    208
    Fassung
    209
    Objektivgehäuse
    210
    Projektionsstrahl
    Mi
    Spiegel
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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    • EP 1614008 B1 [0209]
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    • US 2018/0074303 A1 [0228]

Claims (29)

  1. Optikvorrichtung (1) für ein Lithografiesystem (100,200), mit wenigstens einem optischen Element (2) aufweisend eine optische Oberfläche (3) und mit einem oder mehreren Aktuatoren (4) für eine Deformation der optischen Oberfläche (3), dadurch gekennzeichnet, dass eine Dehnungsmesseinrichtung (5) zur Ermittlung der Deformation der optischen Oberfläche (3) vorgesehen ist.
  2. Optikvorrichtung (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Dehnungsmesseinrichtung (5) wenigstens eine optische Faser (6) aufweist.
  3. Optikvorrichtung (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Faser (6) polarisationserhaltend ist.
  4. Optikvorrichtung (1) nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine optische Faser (6) ein oder mehrere Faser-Bragg-Gitter (7) mit jeweiligen Faserinterferenzspektren (8) aufweist.
  5. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4 dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (2) ein Substratelement (9) aufweist, an dem die optische Oberfläche (3) angeordnet.
  6. Optikvorrichtung (1) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der wenigstens eine Aktuator (4) mit dem Substratelement (9) durch eine, vorzugsweise einen Klebstoff aufweisende, Verbindungsschicht (10) verbunden ist.
  7. Optikvorrichtung (1) nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Dehnungsmesseinrichtung (5) wenigstens teilweise in dem Substratelement (9), vorzugsweise in einer Nut (17b) des Substratelements (9), angeordnet ist.
  8. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Dehnungsmesseinrichtung (5) wenigstens teilweise in dem wenigstens einen Aktuator (4), vorzugsweise in einer Nut (17a) des wenigstens einen Aktuators (4), angeordnet ist.
  9. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Dehnungsmesseinrichtung (5) wenigstens teilweise in der Verbindungsschicht (10) angeordnet, vorzugsweise eingelegt, ist.
  10. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 4 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das wenigstens eine Faser-Bragg-Gitter (7) wenigstens teilweise in wenigstens einem Wirkungsbereich (11) des wenigstens einen Aktuators (4) angeordnet ist.
  11. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine optische Faser (6) mehrere Faser-Bragg-Gitter (7) aufweist, wobei die Faserinterferenzspektren (8) der einzelnen Faser-Bragg-Gitter (7) unterscheidbar ausgebildet sind.
  12. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 4 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Spektrometereinrichtung (14) zur Bestimmung und/oder Charakterisierung der Faserinterferenzspektren (8) vorgesehen ist.
  13. Optikvorrichtung (1) nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Spektrometereinrichtung (14) eingerichtet ist, um eine direkte Frequenzverschiebung zu erfassen und/oder ein Mach-Zehnder-Interferometer aufweist.
  14. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Faser (6) mehrere Faser-Bragg-Gitter (7) aufweist, schlaufenförmig verläuft, und die Wirkungsbereiche (11) mehrerer Aktuatoren (4) passiert.
  15. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass - die wenigstens eine optische Faser (6) mäanderförmig durch Zeilen und/oder Reihen mehrerer Wirkungsbereiche (11) geführt ist, und/oder - in einer Mehrzahl der Wirkungsbereiche (11) jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter (7) angeordnet ist.
  16. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 5 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass eine Rückenplatte (12) vorgesehen ist und der wenigstens eine Aktuator (4) zwischen der Rückenplatte (12) und dem Substratelement (9) angeordnet ist.
  17. Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Oberfläche (3) lichtreflektierend, vorzugsweise EUV-reflektierend und/oder DUV-reflektierend ausgebildet ist.
  18. Verfahren zur Einstellung einer Soll-Deformation einer optischen Oberfläche (3) eines optischen Elements (2) für ein Lithografiesystem (100,200), mittels eines oder mehrerer Aktuatoren (4), dadurch gekennzeichnet, dass eine Ist-Deformation der optischen Oberfläche (3) dadurch ermittelt wird, dass wenigstens eine Ist-Dehnung wenigstens eines Messbereichs (18) ermittelt wird.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der wenigstens eine Messbereich (18) derart ausgewählt wird, dass von der Ist-Dehnung auf die Ist-Deformation der optischen Oberfläche (3) geschlossen werden kann.
  20. Verfahren nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass eine Dehnungsmesseinrichtung (5), aufweisend wenigstens eine optische Faser (6) mit wenigstens einem Faser-Bragg-Gitter (7), derart angeordnet wird, dass in wenigstens einem der Faser-Bragg-Gitter (7) der wenigstens einen optischen Faser (6) wenigstens ein Faserinterferenzspektrum (8) durch die Ist-Dehnung des wenigstens einen Messbereichs (18) beeinflusst wird.
  21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass in die optische Faser (6) eine Messstrahlung (19) eingekoppelt wird.
  22. Verfahren nach Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass das Faserinterferenzspektrum (8) des wenigstens einen Faser-Bragg-Gitters (7) der Dehnungsmesseinrichtung (5) ermittelt wird.
  23. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Ist-Deformation der optischen Oberfläche (3) in dem Lithografiesystem (100,200) und/oder während einer Reflexion einer Strahlung durch die optische Oberfläche (3) bestimmt wird.
  24. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Ist-Dehnung in einem oder mehreren Messbereichen (18) in wenigstens einem Substratelement (9), an dem die optische Oberfläche (3) angeordnet ist, vorzugsweise in einer Nut (17b) des Substratelements (9), bestimmt wird.
  25. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Ist-Dehnung in einem oder mehreren Messbereichen (18) in dem wenigstens einen Aktuator (4), vorzugsweise in einer Nut (17a) des Aktuators (4), bestimmt wird.
  26. Verfahren nach Anspruch 24 oder 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Ist-Dehnung in einem oder mehreren Messbereichen (18) in wenigstens einer den wenigstens einen Aktuator (4) mit dem Substratelement (9) verbindenden Verbindungsschicht (10) bestimmt wird.
  27. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Ist-Dehnung in mehreren Messbereichen (18) synchron bestimmt wird.
  28. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass - die wenigstens eine optische Faser (6) schlaufenförmig, vorzugsweise mäanderförmig, durch Zeilen und/oder Reihen mehrerer Messbereiche (18) geführt wird, und/oder - in einer Mehrzahl der Messbereiche (18) jeweils wenigstens ein Faser-Bragg-Gitter (7) angeordnet wird.
  29. Lithografiesystem, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage (100, 200) für die Halbleiterlithografie, mit einem Beleuchtungssystem (101, 201) mit einer Strahlungsquelle (102) sowie einer Optik (103, 109, 206), welche wenigstens ein optisches Element (116, 118, 119, 120, 121, 122, Mi, 207) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Optikvorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 17 vorgesehen ist, wobei wenigstens eines der optischen Elemente (116, 118, 119, 120, 121, 122, Mi, 207) ein optisches Element (2) der wenigstens einen Optikvorrichtung (1) ist und/oder wenigstens eines der optischen Elemente (116, 118, 119, 120, 121, 122, Mi, 207) eine optische Oberfläche (3) aufweist, welche mit einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 18 bis 28 deformierbar ist.
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