DE102023207047A1

DE102023207047A1 - Kühlleitungsvorrichtung für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren zum steuern eines drucks einer kühlflüssigkeit in einer kühlleitung einer lithographieanlage

Info

Publication number: DE102023207047A1
Application number: DE102023207047.2A
Authority: DE
Inventors: Boaz Pnini
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2022-10-27
Filing date: 2023-07-25
Publication date: 2024-05-02

Abstract

Kühlleitungsvorrichtung (100, 200) für eine Lithographieanlage (1), aufweisend:eine Kühlleitung (104, 204) zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit (102, 202), undeine mit der Kühlleitung (104, 204) fluidverbundene Expansionskammer (106, 206) zur Aufnahme der Kühlflüssigkeit (102, 202),wobei die Expansionskammer (106, 206) Mittel (108) zum Verändern eines Volumens (V) der Expansionskammer (106, 206) umfasst, und die Kühlleitungsvorrichtung dazu eingerichtet ist, einen Druck (P) der Kühlflüssigkeit (102, 202) durch Verändern des Volumens (V) der Expansionskammer (106, 206) zu verändern.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Kühlleitungsvorrichtung für eine Lithographieanlage, eine Lithographieanlage mit einer derartigen Kühlleitungsvorrichtung und ein Verfahren zum Steuern eines Drucks einer Kühlflüssigkeit in einer Kühlleitung einer Lithographieanlage.
Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Da die meisten Materialien Licht dieser Wellenlänge absorbieren, müssen bei solchen EUV-Lithographieanlagen reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden.
Die Anforderungen an die Genauigkeit und Präzision der Abbildungseigenschaften von Lithographieanlagen steigen ständig an. Aus dynamischer Sicht gilt es im Zuge dessen den Einfluss von Störeinträgen auf die Bewegung verschiedener Bauteile der Lithographieanlage zu minimieren. Beispielsweise ist eine sehr genaue Positionierung von optischen Komponenten, insbesondere Spiegeln, der Lithographieanlage erforderlich. Dynamische Störanregungen von optischen Komponenten können zum Beispiel durch die Bewegung anderer Bauteile der Lithographieanlage oder durch akustische Störungen erzeugt werden. Akustische Störungen werden beispielsweise als Longitudinalwellen durch Kühlflüssigkeiten in Kühlleitungen einer Kühlvorrichtung der optischen Komponente übertragen.
Mit weiterer Zunahme der Komplexität von Lithographieanlagen sind weitere dynamische Störanregungen innerhalb und außerhalb des Systems zu erwarten, sodass zusätzliche Mechanismen für deren Unterdrückung bzw. Kompensierung wünschenswert und erforderlich sind.
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte Kühlleitungsvorrichtung für eine Lithographieanlage bereitzustellen.
Gemäß einem ersten Aspekt wird Kühlleitungsvorrichtung für eine Lithographieanlage vorgeschlagen. Die Kühlleitungsvorrichtung weist auf:

eine Kühlleitung zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit, und
eine mit der Kühlleitung fluidverbundene Expansionskammer zur Aufnahme der Kühlflüssigkeit,
wobei die Expansionskammer Mittel zum Verändern eines Volumens der Expansionskammer umfasst, und die Kühlleitungsvorrichtung dazu eingerichtet ist, einen Druck der Kühlflüssigkeit durch Verändern des Volumens der Expansionskammer zu verändern.

Die vorgeschlagene Kühlleitungsvorrichtung ermöglicht es, eine Druckschwankung der Kühlflüssigkeit auszugleichen, bevor sie an eine zu kühlende Komponente weitergegeben wird. Damit kann eine durch Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit verursachte Positionsänderung der zu kühlenden Komponente reduziert oder vermieden werden. Durch die Kühlleitungsvorrichtung können insbesondere Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit aktiv unterdrückt werden.
Die Kühlleitungsvorrichtung ist insbesondere dazu eingerichtet, einen Druck der Kühlflüssigkeit durch Verändern eines Volumens der Kühlflüssigkeit zu verändern, wobei das Volumens der Kühlflüssigkeit durch Verändern des Volumens der Expansionskammer verändert wird.
Die Kühlleitungsvorrichtung ist beispielsweise Teil eines Kühlsystems, das zur Kühlung einer optischen oder mechanischen Komponente der Lithographieanlage eingerichtet ist. Die optische Komponente kann beispielsweise ein Spiegel der Lithographieanlage sein. Die mechanische Komponente kann beispielsweise ein Sensorrahmen der Lithographieanlage sein.
Die Lithographieanlage ist zum Beispiel eine EUV- oder eine DUV-Lithographieanlage. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm. Weiterhin steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.
Die EUV- oder DUV-Lithographieanlage umfasst ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem. Insbesondere wird mit der EUV- oder DUV-Lithographieanlage das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
Das Kühlsystems dient insbesondere zur Vermeidung hoher Temperaturen und Temperaturschwankungen der zu kühlenden optischen oder mechanischen Komponente(n). Insbesondere Spiegel einer EUV-Lithographieanlage (als Beispiel einer optischen Komponente) erwärmen sich infolge einer Absorption der energiereichen EUV-Strahlung. Dadurch hervorgerufene hohe Temperaturen und Temperaturschwankungen im Spiegel und damit einhergehende thermische Verformungen des Spiegels können zu Wellenfrontaberrationen führen und damit die Abbildungseigenschaften der Spiegel beeinträchtigen. Zur Vermeidung von thermisch induzierten Deformationen werden optische Komponenten der Lithographieanlage aktiv gekühlt.
Zur Kühlung wird eine bestimmte Kühlmittelflussrate benötigt, welche über ein Pumpensystem realisiert wird. Dadurch kommt es zu einer dynamischen Störanregung, denn jede Pumpe erzeugt lokale Druckschwankungen. Diese werden über einen Kühlmittelschall (Wasserschall, longitudinale Wasserschallwelle) durch den gesamten Kühlkreislauft übertragen. Weiterhin kann jede Querschnittsänderung und jede Umlenkung der Flüssigkeitsleitung sowie jedes eingebaute Ventil des Kühlkreislaufs eine Störquelle darstellen, die lokale Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit verursacht. Diese Art von dynamischen Störanregungen wird auch flussinduzierte Vibrationen (Engl. „Flow Induced Vibrations“, FIV) genannt. Durch Wasserschall wird die Störanregung an die gekühlte Komponente weitergeleitet. Dies verursacht, dass die Position der gekühlten Komponente von einer Sollposition abweicht.
Bei der Kühlflüssigkeit handelt es sich beispielsweise um Wasser oder um eine andere Kühlflüssigkeit.
Das die Kühlleitungsvorrichtung umfassende Kühlsystem weist beispielsweise eine Kühleinheit zum Kühlen der Kühlflüssigkeit auf. Das Kühlsystem kann auch zusätzlich zur Kühlleitung der Kühlleitungsvorrichtung weitere Leitungen zum Transportieren der Kühlflüssigkeit aufweisen. Das Kühlsystem umfasst zudem ein oder mehrere Pumpen zum Erzeugen einer erforderlichen Kühlmittelflussrate der Kühlflüssigkeit und ein oder mehrere Ventile zum Steuern des Kühlflusses. Das Kühlsystem kann auch zum Kühlen mehrerer Komponenten der Lithographieanlage dienen.
Das Volumen der Expansionskammer ist insbesondere ein Volumen zur Aufnahme der Kühlflüssigkeit. Das Volumen der Expansionskammer ist insbesondere ein variables Volumen. Das Volumen der Expansionskammer ist insbesondere ein - abgesehen von einer Fluidverbindung mit der Kühlleitung - abgeschlossenes Volumen.
Die Kühlleitung und die mit der Kühlleitung fluidverbundene Expansionskammer sind im Betrieb der Kühlleitungsvorrichtung beispielsweise vollständig von der Kühlflüssigkeit ausgefüllt. Wird das Volumen der Expansionskammer geändert, so wird dadurch auch das Volumen der Kühlflüssigkeit verändert. Eine Volumenänderung der Kühlflüssigkeit bewirkt wiederum eine Druckänderung der Kühlflüssigkeit.
Gemäß einer Ausführungsform des ersten Aspekts ist die Expansionskammer zum Durchleiten der Kühlflüssigkeit, insbesondere in einer Längsrichtung der Kühlleitung, eingerichtet.
Die Längsrichtung der Kühlleitung ist beispielsweise eine Strömungsrichtung der Kühlflüssigkeit, eine Längsrichtung der Expansionskammer und/oder eine Längsrichtung eines Faltenbalgs der Expansionskammer.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts umfassen die Mittel zum Verändern des Volumens der Expansionskammer einen Faltenbalg.
Ein Faltenbalg stellt eine einfache Realisierung der Expansionskammer dar.
Durch Auseinanderziehen und Zusammenziehen von Falten des Faltenbalgs kann ein von dem Faltenbalg umschlossenes Volumen verändert werden. Der Faltenbalg stellt somit ein umschlossenes veränderliches Volumen zur Aufnahme der Kühlflüssigkeit und zur Anpassung des Drucks der Kühlflüssigkeit bereit. Das von dem Faltenbalg umschlossene Volumen entspricht insbesondere dem Volumen der Expansionskammer.
Der Faltenbalg ist beispielsweise ein Metallbalg aus zum Beispiel Edelstahl, Nickel und/oder einem anderen Metall.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts umfasst der Faltenbalg einen ersten Abschnitt mit ersten Falten und einen zweiten Abschnitt mit zweiten Falten, wobei die ersten und zweiten Falten jeweils dazu eingerichtet sind, sich in der Längsrichtung der Kühlleitung auseinanderzuziehen und zusammenzuziehen. Weiterhin sind der erste und zweite Abschnitt derart eingerichtet, dass bei gleicher Längenänderung des jeweiligen Abschnitts aufgrund Auseinanderziehens oder Zusammenziehens der entsprechenden Falten eine Volumenänderung des ersten Abschnitts verschieden von einer Volumenänderung des zweiten Abschnitts ist. Der Faltenbalg ist dazu eingerichtet, ein von dem Faltenbalg umschlossenes Volumen durch Auseinanderziehen der ersten Falten und Zusammenziehen der zweiten Falten oder durch Zusammenziehen der ersten Falten und Auseinanderziehen der zweiten Falten zu verändern.
Durch das Auseinanderziehen der ersten Falten des ersten Abschnitts des Faltenbalgs werden die zweiten Falten des zweiten Abschnitts zusammengezogen bzw. zusammengedrückt. Insbesondere werden die Falten des ersten Abschnitts um die gleiche Länge in Längsrichtung der Kühlleitung auseinandergezogen, um welche die Falten des zweiten Abschnitts zusammengezogen bzw. zusammengedrückt werden. Somit verändert sich eine Gesamtlänge des Faltenbalgs in Längsrichtung der Kühlleitung nicht. Dasselbe gilt entsprechend für das Zusammenziehen bzw. Zusammendrücken der Falten des ersten Abschnitts, wodurch die Falten des zweiten Abschnitts um dieselbe Länge auseinandergezogen werden.
Der Faltenbalg ist also vorteilhafterweise dazu eingerichtet, dass sich das Volumen des ersten Abschnitts bei gleichem Ausmaß des Auseinanderziehens bzw. Zusammenziehens wie beim zweiten Abschnitt um einen anderen (z. B. größeren) Betrag verändert als das Volumen des ersten Abschnitts.
Der Faltenbalg ist insbesondere zum Durchleiten der Kühlflüssigkeit durch den Faltenbalg (d. h. durch das innere Volumen des Faltenbalgs) eingerichtet.
Die ersten und zweiten Falten sind insbesondere quer zur Längsrichtung der Kühlleitung (d. h. quer zur Strömungsrichtung der Kühlflüssigkeit) angerordnet.
Die Längenänderung des jeweiligen Abschnitts aufgrund Auseinanderziehens oder Zusammenziehens der entsprechenden Falten ist insbesondere eine Längenänderung in der Längsrichtung der Kühlleitung.
Der erste Abschnitt hat insbesondere ein erstes (variables) Volumen und der zweite Abschnitt hat insbesondere ein zweites (variables) Volumen. Das erste und zweite Volumen sind insbesondere miteinander fluidverbunden. Das erste und zweite Volumen bilden insbesondere zusammen ein (variables) Gesamtvolumen des Faltenbalgs.
Der Faltenbalg ist dazu eingerichtet, ein von dem Faltenbalg umschlossenes Volumen durch Auseinanderziehen der ersten Falten und Zusammenziehen der zweiten Falten zu verändern. Des Weiteren ist der Faltenbalg auch dazu eingerichtet, ein von dem Faltenbalg umschlossenes Volumen durch Zusammenziehen der ersten Falten und Auseinanderziehen der zweiten Falten zu verändern.
Beispielsweise ist der erste und zweite Abschnitt des Faltenbalgs jeweils als zylinderförmiger Faltenbalg ausgestaltet. Beispielsweise ist eine Zylinderachse des zylinderförmigen ersten und zweiten Faltenbalgs parallel zur Längsrichtung der Kühlleitung (z. B. Längsrichtung des Faltenbalgs) angeordnet.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts ist ein von den ersten Falten begrenzter Innenquerschnitt des ersten Abschnitts verschieden von einem von den zweiten Falten begrenzten Innenquerschnitt des zweiten Abschnitts.
Insbesondere ist dies der Fall im (z. B. vollständig) zusammengezogenen Zustand beider Abschnitte, im (z. B. vollständig) auseinandergezogenen Zustand beider Abschnitte und/oder im neutralen Zustand beider Abschnitte.
Beispielsweise weisen die Falten jeweils innere Faltkanten und äußere Faltkanten auf. Beispielsweise ist ein von inneren Faltkanten der ersten Falten begrenzter Innenquerschnitt des ersten Abschnitts verschieden von einem von inneren Faltkanten der zweiten Falten begrenzten Innenquerschnitt des zweiten Abschnitts.
Beispielsweise ist der erste und zweite Abschnitt des Faltenbalgs jeweils als zylinderförmiger Faltenbalg ausgestaltet, und ist ein Innendurchmesser des ersten Abschnitts verschieden von einem Innendurchmesser des zweiten Abschnitts.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts weist die Kühlleitungsvorrichtung einen Halterahmen zum Halten des Faltenbalgs auf, wobei der Halterahmen fest mit der Kühlleitung und mit einer der Falten des Faltenbalgs verbunden ist, und wobei die anderen Falten des Faltenbalgs relativ zu dem Halterahmen beweglich angeordnet sind.
Durch den Halterahmen kann der Faltenbalg besser an der Kühlleitung befestigt werden. Insbesondere wird ein Eintrag von Kräften (z. B. mechanischen Kräften, Vibrationen etc.) von dem Faltenbalg in die Kühlleitung durch den Halterahmen reduziert oder vermieden.
Der Halterahmen ist mit einer der Falten, d. h. mit einer der ersten und zweiten Falten, des Faltenbalgs fest verbunden. Die anderen der Falten des Faltenbalgs, d. h. die anderen der ersten und zweiten Falten des Faltenbalgs, sind beweglich relativ zu dem Halterahmen angeordnet.
Der Halterahmen ist mit einer der Falten, insbesondere mit einer einzigen und/oder mit ausschließlich einer der Falten, des Faltenbalgs fest verbunden.
Beispielsweise sind der erste und zweite Abschnitt derart eingerichtet, dass bei gleicher Längenänderung des jeweiligen Abschnitts aufgrund Auseinanderziehens oder Zusammenziehens der entsprechenden Falten eine Volumenänderung des ersten Abschnitts größer als eine Volumenänderung des zweiten Abschnitts ist. Weiterhin ist der Halterahmen in diesem Fall zum Beispiel mit einer der ersten Falten des ersten Abschnitts des Faltenbalgs fest verbunden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts weist der Faltenbalg in Bezug auf die Längsrichtung der Kühlleitung einen Anfangsabschnitt, einen Endabschnitt und eine mittlere Falte auf. Zudem ist der Halterahmen benachbart zu dem Anfangsabschnitt und benachbart zu dem Endabschnitt des Faltenbalgs fest mit der Kühlleitung verbunden. Weiterhin ist der Halterahmen mit der mittleren Falte des Faltenbalgs fest verbunden.
Durch die symmetrische Anordnung und Befestigung des Halterahmens an der Kühlleitung und dem Faltenbalg werden beim Auseinanderziehen und Zusammenziehen des Faltenbalgs keine oder weniger Kräfte (z. B. mechanischen Kräften, Vibrationen etc.) in die Kühlleitung eingebracht.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts umfassen die Mittel zum Verändern des Volumens der Expansionskammer eine Aktoreinrichtung und/oder eine Aktoreinrichtung mit einem oder mehreren piezoelektrischen Elementen.
Beispielsweise umfasst die Aktoreinrichtung zwei oder mehr und/oder drei oder mehr piezoelektrische Elemente. Durch zwei oder mehr und/oder drei oder mehr piezoelektrische Elemente kann die Bewegung des Faltenbalgs symmetrisch in Bezug auf eine Mittelachse der Kühlleitung erfolgen. Durch drei oder mehr piezoelektrische Elemente kann das Bewegen der entsprechenden Falten an drei oder mehr Punkten (die z. B. eine Ebene aufspannen) erfolgen, sodass ein seitliches Verkippen der Falten/des Faltenbalgs verhindert werden.
Piezoelektrische Elemente ermöglichen eine sehr schnelle Reaktion auf eine (z. B. mit einer Sensoreinrichtung) erfasste Druckschwankung der Kühlflüssigkeit.
Damit kann das Volumen der Expansionskammer verändert werden, bevor die Druckwelle bei der Expansionskammer angekommen ist. Eine Druckwelle breitet sich insbesondere mit Schallgeschwindigkeit aus, wobei die Schallgeschwindigkeit in einer Flüssigkeit, wie beispielsweise Wasser, mehr als 1000 m/s (z. B. zwischen 1400 und 1500 m/s) beträgt. Daher sind piezoelektrische Elemente als schnelle Aktoren besonders vorteilhaft.
Piezoelektrische Elemente erlauben außerdem ein sehr präzises Verändern des Volumens der Expansionskammer.
Die piezoelektrischen Elemente sind beispielsweise dazu eingerichtet, einen Abstand zwischen Falten eines Faltenbalgs der Expansionskammer zu verändern (z. B. zu vergrößern oder zu verkleinern), um ein Volumen des Faltenbalgs als Expansionskammer anzupassen.
Die piezoelektrischen Elemente (piezoelektrischen Aktoren) sind z. B. in Form von dünnen Platten, Folien oder Schichten ausgestaltet. Durch Zuleiten von Spannungsimpulsen zu dem einen oder den mehreren piezoelektrischen Elementen der Aktoreinrichtung (Beaufschlagung mit Spannung) kommt es in den piezoelektrischen Elementen zu Längenänderungen. Dadurch wird der erste Abschnitt oder der zweite Abschnitt des Faltenbalgs auseinandergezogen bzw. auseinandergedrückt, wodurch der jeweils andere von dem ersten und zweiten Abschnitt zusammengezogen bzw. zusammengedrückt wird.
Die Kühlleitungsvorrichtung kann zum Beispiel eine Ansteuereinrichtung zum Ansteuern der Aktoreinrichtung aufweisen. Das Ansteuern der Aktoreinrichtung erfolgt insbesondere durch das Übertragen eines oder mehrerer Steuersignals an die Aktoreinrichtung. Die Aktoreinrichtung kann in Ausführungsformen eine Aktorik eines Regelkreises der Kühlleitungsvorrichtung darstellen. Die Aktoreinrichtung kann beispielsweise auch zum Realisieren einer Vorsteuerung eingesetzt werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts ist/sind das eine oder die mehreren piezoelektrischen Elemente an dem Halterahmen benachbart zu der an dem Halterahmen befestigten Falte und an mindestens einer der relativ zum Halterahmen beweglich angeordneten Falten befestigt. Außerdem ist/sind das eine oder die mehreren piezoelektrischen Elemente dazu eingerichtet, einen Abstand zwischen der an dem Halterahmen befestigten Falte und der mindestens einen relativ zum Halterahmen beweglich angeordneten Falte zu verändern.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts ist die Expansionskammer rotationssymmetrisch in Bezug auf eine Mittelachse der Kühlleitung eingerichtet und angeordnet.
Zum Beispiel ist der Faltenbalg und/oder der Halterahmen rotationssymmetrisch in Bezug auf die Mittelachse der Kühlleitung ausgestaltet und angeordnet. Zum Beispiel sind die mehreren piezoelektrischen Elemente rotationssymmetrisch in Bezug auf die Mittelachse der Kühlleitung angeordnet.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts weist die Kühlleitungsvorrichtung eine Sensoreinrichtung zum Erfassen eines Drucks der Kühlflüssigkeit in der Kühlleitung auf.
Die Sensoreinrichtung umfasst beispielsweise einen oder mehrere Drucksensoren. Die Drucksensoren dienen zum Messen eines Drucks der Kühlflüssigkeit. Die Drucksensoren sind insbesondere in Fluidverbindung mit der Kühlleitung. Bei den Drucksensoren handelt es sich zum Beispiel um piezoelektrische Drucksensoren, Flüssigkeitsmanometer, Kolbenmanometer, Federmanometer oder auch andere Druckmessgeräte zum Messen eines Drucks einer Flüssigkeit in der Kühlleitung.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des ersten Aspekts weist die Kühlleitungsvorrichtung eine Steuervorrichtung und/oder eine Regelungsvorrichtung zum Steuern bzw. Regeln eines Drucks der Kühlflüssigkeit in der Kühlleitung auf. Die Steuervorrichtung und/oder Regelungsvorrichtung umfasst:

eine Ermittlungseinrichtung zum Ermitteln einer Stellgröße basierend auf einer Abweichung eines Istwerts von einem Sollwert des Drucks der Kühlflüssigkeit in der Kühlleitung, und
eine Ansteuereinrichtung zum Ansteuern einer Aktoreinrichtung der Kühlleitungsvorrichtung basierend auf der Stellgröße.

Bei dem Sollwert handelt es sich insbesondere um einen konstanten Druckwert.
Der Sollwert kann beispielsweise aus einem Mittelwert von Druckmessungen einer Sensoreinrichtung der Kühlleitungsvorrichtung ermittelt werden. Beispielsweise können der Istwert und der Sollwert aus den gleichen zeitabhängigen Daten bestimmt werden, wobei der Istwert einen Druckwert zu einem bestimmten Zeitpunkt und der Sollwert einen gemittelten Druckwert über einen von den Daten abgedeckten Zeitraum aufweist.
Die Steuervorrichtung und/oder Regelungsvorrichtung dient insbesondere dazu, Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit auszugleichen und abzuflachen.
Gemäß einem zweiten Aspekt wird eine Lithographieanlage mit einer wie vorstehend beschriebenen Kühlleitungsvorrichtung vorgeschlagen.
Die Lithographieanlage umfasst zum Beispiel eine zu kühlende Komponente.
Die zu kühlende Komponente ist beispielsweise eine optische Komponente, z. B. ein Spiegel.
Die zu kühlende Komponente kann beispielsweise auch ein Sensorrahmen sein. Ein Sensorrahmen umfasst z. B. eine Sensoreinrichtung zum Messen einer aktuellen Position einer optischen Komponente der Lithographieanlage relativ zu dem Sensorrahmen. Der Sensorrahmen ist beispielsweise bezüglich eines Tragrahmens der optischen Komponente schwingungsentkoppelt gelagert. Die Sensoreinrichtung umfasst z. B. einen oder mehrere Sensoren, wie zum Beispiel Interferometer und/oder andere Messvorrichtungen zum Erfassen einer Position der optischen Komponente. Die optische Komponente kann beispielsweise Reflektorelemente aufweisen zum Reflektieren eines von den Sensoren ausgesendeten Lichts (z. B. Laserlichts).
Gemäß einem dritten Aspekt wird ein Verfahren zum Steuern und/oder Regeln eines Drucks einer Kühlflüssigkeit in einer Kühlleitung einer Lithographieanlage vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst die Schritte:

a) Ermitteln einer Stellgröße basierend auf einer Abweichung eines Istwerts von einem Sollwert des Drucks der Kühlflüssigkeit in der Kühlleitung, und
b) Ansteuern, basierend auf der ermittelten Stellgröße, einer Aktoreinrichtung zum Verändern eines Volumens einer mit der Kühlleitung fluidverbundenen Expansionskammer zum Verändern des Drucks der Kühlflüssigkeit in der Kühlleitung.

Gemäß einer Ausführungsform des dritten Aspekts ist das Verfahren zur Vorsteuerung des Drucks der Kühlflüssigkeit in der Kühlleitung und/oder zur Rückkopplungsregelung des Drucks der Kühlflüssigkeit in der Kühlleitung eingerichtet.
„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
Die für die Kühlleitungsvorrichtung beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend und umgekehrt.
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie gemäß einer Ausführungsform;
2 zeigt eine Kühlleitungsvorrichtung für die Projektionsbelichtungsanlage aus 1 gemäß einer Ausführungsform;
3 zeigt eine Kühlleitungsvorrichtung für die Projektionsbelichtungsanlage aus 1 gemäß einer weiteren Ausführungsform;
4 zeigt eine perspektivische Ansicht der Kühlleitungsvorrichtung aus 3;
5 veranschaulicht eine Steuerung und eine Regelung eines Drucks einer Kühlflüssigkeit mithilfe der Kühlleitungsvorrichtung aus 2 oder 3 gemäß einer Ausführungsform; und
6 zeigt ein Flussablaufdiagramm eines Verfahrens zum Steuern und/oder Regeln eines Drucks einer Kühlflüssigkeit in einer Kühlleitung der Projektionsbelichtungsanlage aus 1 gemäß einer Ausführungsform.

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithographieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht.
Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.
In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.
Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.
Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln.
Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Engl.: Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.
Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.
Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.
Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.
Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .
Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.
Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.
Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integrator) bezeichnet.
Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.
Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.
Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen.
Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.
Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.
Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.
Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab B bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab 8 bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.
Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.
Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.
Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.
Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x^- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .
Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.
Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.
Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.
Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.
2 zeigt eine Kühlleitungsvorrichtung 100 für die Projektionsbelichtungsanlage 1 aus 1 gemäß einer Ausführungsform.
Die Kühlleitungsvorrichtung 100 ist beispielsweise Teil eines Kühlsystems (nicht gezeigt), das zur Kühlung einer optischen oder mechanischen Komponente der Projektionsbelichtungsanlage 1 eingerichtet ist. Die optische Komponente ist beispielsweise ein Spiegel der Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithographieanlage), insbesondere der Projektionsoptik 10, aus 1. Die optische Komponente ist beispielsweise einer der Spiegel M1 - M6. Die mechanische Komponente kann beispielsweise auch ein Sensorrahmen (nicht gezeigt) der Projektionsbelichtungsanlage 1 sein.
Die Kühlleitungsvorrichtung 100 umfasst eine Kühlleitungen 104 zum Transportieren der Kühlflüssigkeit 102.
Das die Kühlleitungsvorrichtung 100 umfassende Kühlsystem (nicht gezeigt) umfasst beispielsweise eine Kühleinheit zum Kühlen der Kühlflüssigkeit 102 (2) und Kühlleitungen, wie beispielsweise die in 2 gezeigte Kühlleitung 104 und weitere Kühlleitungen, zum Transportieren der Kühlflüssigkeit 102 zu der zu kühlenden Komponente. Das Kühlsystem umfasst zudem ein oder mehrere Pumpen zum Erzeugen einer erforderlichen Kühlmittelflussrate der Kühlflüssigkeit 102. Das Kühlsystem kann auch ein oder mehrere Ventile zum Steuern des Kühlflusses umfassen.
Pumpen des Kühlsystems verursachen lokale Druckschwankungen in der Flüssigkeit 102, wodurch eine dynamische Störanregung erzeugt wird. Diese Druckschwankungen werden über longitudinale Wasserschallwelle durch den gesamten Kühlkreislauft bis zur zu kühlenden Komponente übertragen. Weiterhin können auch Querschnittsänderungen der Flüssigkeitsleitung, Umlenkungen der Flüssigkeitsleitung und Ventile des Kühlsystems eine Störquelle darstellen, die lokale Druckschwankungen der Flüssigkeit 102 verursacht. Durch Wasserschall wird eine solche akustische Störanregung an die zu kühlende Komponente weitergeleitet. Dadurch kann es zu einer unerwünschten Positionsänderung der zu kühlenden Komponente kommen, welche die Abbildungseigenschaften der Projektionsbelichtungsanlage 1 verschlechtert.
Zur Unterdrückung von Druckschwankungen der Kühlflüssigkeit 102 umfasst die Kühlleitungsvorrichtung 100 (2) eine mit der Kühlleitung 104 fluidverbundene Expansionskammer 106 zur Aufnahme der Kühlflüssigkeit 102. In dem in 2 gezeigten Beispiel dient die Expansionskammer 106 zum Durchleiten der Kühlflüssigkeit 102. Die Kühlflüssigkeit 102 wird insbesondere in Richtung einer Längsrichtung R der Kühlleitung 104 durch die Expansionskammer 106 durchgeleitet.
Die Expansionskammer 106 umfasst Mittel 108 zum Verändern eines Volumens V der Expansionskammer 106. Weiterhin ist die Kühlleitungsvorrichtung 100 dazu eingerichtet, einen Druck P der Kühlflüssigkeit 102 durch Verändern des Volumens V der Expansionskammer 106 zu verändern.
In dem in 2 gezeigten Beispiel weist die Expansionskammer 106 als Mittel zum Verändern ihres Volumens V einen Faltenbalg 110 auf. Der Faltenbalg 110 ist beispielsweise ein Metallbalg.
Der Faltenbalg 110 umfasst einen ersten Abschnitt 112 mit ersten Falten 114. Außerdem umfasst der Faltenbalg 110 einen zweiten Abschnitt 116 mit zweiten Falten 118. Die ersten und zweiten Falten 114, 118 sind jeweils dazu eingerichtet, sich in der Längsrichtung R der Kühlleitung 104 auseinanderzuziehen und zusammenzuziehen.
In dem gezeigten Beispiel umfasst der zweite Abschnitt 116 zwei Teilabschnitte und ist der erste Abschnitt 112 mittig zwischen den beiden Teilabschnitten des zweiten Abschnitts 116 angeordnet. In anderen Beispielen können der erste und zweite Abschnitt auch anders ausgestaltet sein und/oder anders angeordnet.
In dem gezeigten Beispiel umfasst der erste Abschnitt 112 fünf erste Falten 114 und umfasst der zweite Abschnitt 116 insgesamt vier Falten 118. In anderen Beispielen können der erste und zweite Abschnitt auch jeweils eine andere Anzahl von Falten 114, 118 aufweisen.
2 zeigt einen neutralen Zustand (entspannten Zustand) der ersten und zweiten Falten 114, 118 und des ersten und zweiten Abschnitts 112, 116 des Faltenbalgs 110, in dem die Falten 114, 118 weder auseinandergezogen noch zusammengedrückt sind. In diesem Zustand hat der erste Abschnitt eine Länge L1 und der zweite Teilabschnitt 116 eine Länge L2+L3 in Bezug auf die Längsrichtung R der Kühlleitung 104.
Wird der erste Abschnitt 112 auseinandergezogen oder zusammengedrückt, so ändert sich seine Länge L 1. Entsprechendes gilt für den zweiten Abschnitt 116.
Der erste und zweite Abschnitt 112, 116 sind nun derart eingerichtet, dass wenn man die Länge L1 und die Länge L2+L3 um den gleichen Betrag ändert (also den ersten und zweiten Abschnitt in gleichem Maße auseinanderzieht oder zusammendrückt), dann ändert sich das Volumen V1 des ersten Abschnitts um einen anderen Betrag als sich das Volumen V2+V3 des zweiten Abschnitts ändert. Insbesondere ist in dem Beispiel von 2 ein Innendurchmesser D1 des ersten Abschnitts 112 größer als ein Innendurchmesser D2 des zweiten Abschnitts 116.
Der Faltenbalg 110 ist dazu eingerichtet, das von dem Faltenbalg 110 umschlossenes Gesamtvolumen V zu ändern, um einen Druck P der Kühlflüssigkeit 102 zu ändern und so eine Druckschwankung der Kühlflüssigkeit 102 auszugleichen. Insbesondere kann der Faltenbalg 110 das Volumen V durch Auseinanderziehen der ersten Falten 114 des ersten Abschnitts 112 und Zusammenziehen der zweiten Falten 116 des zweiten Abschnitts 116 ändern (in dem gezeigten Beispiel von 2 vergrößern). Weiterhin kann der Faltenbalg 110 das Volumen V durch Zusammenziehen der ersten Falten 114 des ersten Abschnitts 112 und Auseinanderziehen der zweiten Falten 116 des zweiten Abschnitts 116 ändern (in dem gezeigten Beispiel von 2 verkleinern).
Die als Faltenbalg 110 ausgebildete Expansionskammer 106 ist beispielsweise rotationssymmetrisch in Bezug auf eine Mittelachse M (2) der Kühlleitung 104 eingerichtet und angeordnet.
3 zeigt eine Kühlleitungsvorrichtung 200 für die Projektionsbelichtungsanlage aus 1 gemäß einer weiteren Ausführungsform. 4 zeigt eine perspektivische Ansicht der Kühlleitungsvorrichtung 200 aus 3.
Die in 3 gezeigte Ausführungsform der Kühlleitungsvorrichtung 200 weist alle Merkmale der in 2 gezeigte Ausführungsform der Kühlleitungsvorrichtung 100. Für diese Merkmale werden dieselben Bezugszeichen wie für die Ausführungsform von 2 addiert plus 100 verwendet. Beispielsweise hat eine Kühlleitung der Kühlleitungsvorrichtung 100 das Bezugszeichen 104 und hat eine Kühlleitung der Kühlleitungsvorrichtung 200 das Bezugszeichen 204 (104+100). Auf eine Beschreibung dieser identischen/ähnlichen Merkmale wird hier verzichtet.
Zusätzlich zu den Merkmalen der Kühlleitungsvorrichtung 100 (2) umfasst die Kühlleitungsvorrichtung 200 in 3 einen Halterahmen 220 zum Halten des Faltenbalgs 210. Der Halterahmen 220 ist insbesondere fest mit der Kühlleitung 204 verbunden. Der Halterahmen 220 ist zum Beispiel im Wesentlichen mit einer Zylinderform ausgebildet, wie in 3 und 4 zu sehen. Der Halterahmen 220 ist zum Beispiel an Stirnseiten 222 seiner Zylinderform fest mit der Kühlleitung 204 verbunden.
Des Weiteren ist der Halterahmen 220 auch fest mit einer der Falten 214, 224 des Faltenbalgs 210 verbunden. Die anderen Falten 214, 226 des Faltenbalgs 210 sind hingegen beweglich relativ zu dem Halterahmen 220 angeordnet. Insbesondere sind die anderen Falten 214, 226 des Faltenbalgs 210 nicht mit dem Halterahmen 220 (direkt) verbunden.
Der Faltenbalg 210 weist insbesondere in Bezug auf die Längsrichtung R der Kühlleitung 204 einen Anfangsabschnitt 228 und einen Endabschnitt 230 auf. Der Halterahmen 220 ist beispielsweise benachbart zu dem Anfangsabschnitt 228 und benachbart zu dem Endabschnitt 230 des Faltenbalgs 210 fest mit der Kühlleitung verbunden.
Die Falte 214, 224 des Faltenbalgs, mit welcher der Halterahmen 220 fest verbunden ist, ist beispielsweise eine mittlere Falte 214, 226, welche mittig zwischen dem Anfangsabschnitt 228 und dem Endabschnitt 230 des Faltenbalgs 210 angeordnet ist.
Die Kühlleitungsvorrichtung 100, 200 (2, 3) weist außerdem eine Aktoreinrichtung 232 zum Verändern des Volumens V des Faltenbalgs 110, 210 auf. Die Aktoreinrichtung 232 ist nur in 3 gezeigt und wird im Folgenden in Bezug zu 3 beschrieben, wobei auch die Kühlleitungsvorrichtung 100 (2) eine ähnliche oder anders ausgestaltete Aktoreinrichtung aufweisen kann.
Die Aktoreinrichtung 232 (3) umfasst zum Beispiel ein oder mehrere piezoelektrische Elementen 234. Durch Spannungsbeaufschlagung der piezoelektrische Elementen 234 wird eine Länge der piezoelektrische Elementen 234 verändert und kann somit der erste Abschnitt 212 des Faltenbalgs 210 auseinandergezogen oder zusammengezogen werden. Mit anderen Worten kann durch Veränderung der Länge der piezoelektrischen Elemente 234 die Länge L1 (2) des ersten Abschnitts 212 des Faltenbalgs 210 verändert (z. B. vergrößert oder verkleinert) werden. Wird die Länge L1 des ersten Abschnitts 212 mithilfe der Aktoreinrichtung 232 vergrößert (Auseinanderziehen der ersten Falten 214), so wird infolgedessen die Länge L2+L3 (2) des zweiten Abschnitts 216 entsprechend verkleinert (Zusammendrücken der zweiten Falten 218).
Das eine oder die mehreren piezoelektrischen Elemente 234 sind insbesondere, wie in 3 gezeigt, an dem Halterahmen 220 benachbart zu der an dem Halterahmen befestigten Falte 214, 224 und an mindestens einer der relativ zum Halterahmen 220 beweglich angeordneten Falten 214, 226 befestigt. Das eine oder die mehreren piezoelektrischen Elemente 234 sind außerdem beispielsweise dazu eingerichtet, einen Abstand A zwischen der an dem Halterahmen befestigten Falte 214, 224 und der mindestens einen relativ zum Halterahmen 220 beweglich angeordneten Falte 214, 226 zu verändern.
Die Kühlleitungsvorrichtung 200 weist außerdem eine Sensoreinrichtung 236 (5) zum Erfassen des Drucks P der Kühlflüssigkeit 202 in der Kühlleitung 204 auf. Die Sensoreinrichtung 236 umfasst einen oder mehrere Drucksensoren 238, 240 in Fluidverbindung mit der Kühlleitung 204.
Die 5 und 6 veranschaulichen ein Verfahren zum Steuern (optional auch Regeln) eines Drucks P (2) einer Kühlflüssigkeit 202 mithilfe der Kühlleitungsvorrichtung 200 aus 3.
In einem ersten Schritt S1 des Verfahrens wird eine Druckschwankung (Druckwelle) 242 der Kühlflüssigkeit 202 in der Kühlleitung 204 wird mithilfe der Sensoreinrichtung 236, insbesondere mithilfe des Drucksensors 238 erfasst. Der Drucksensor 238 ist insbesondere in Bezug auf eine Strömungsrichtung S der Kühlflüssigkeit 204 der Expansionskammer 206 (Faltenbalg 210) vorgeschaltet angeordnet. Mit anderen Worten kann mithilfe des Drucksensors 238 eine Druckschwankung (Druckwelle) 242 der Kühlflüssigkeit 202 erfasst werden, bevor sie die Expansionskammer 206 (Faltenbalg 210) erreicht hat.
In einem zweiten Schritt S2 des Verfahrens wird eine Stellgröße u(t) basierend auf einer Abweichung e(t) eines Istwerts y(t) von einem Sollwert r des Drucks P der Kühlflüssigkeit 202 in der Kühlleitung 204 ermittelt.
Die Kühlleitungseinrichtung 200 umfasst weiterhin eine Steuervorrichtung 244 mit einer Ermittlungseinrichtung 246 und einer Ansteuereinrichtung 248. Mithilfe der Ermittlungseinrichtung 246 der Steuervorrichtung 244 kann basierend auf einem von dem Drucksensor 238 gemessenen Istwert y(t) des Drucks P eine Stellgröße u(t) zum Ansteuern der Aktoreinrichtung 232 der Expansionskammer 206 (Faltenbalg 210) ermittelt werden. Insbesondere ermittelt die Ermittlungseinrichtung 246 eine Abweichung e(t) des Istwerts y(t) des Drucks P von einem Sollwert r des Drucks P. Der Sollwert r entspricht einem konstanten Druck P (r = const.). Beispielsweise wird der Sollwert r=const. aus einem Mittelwert von Druckmessungen y(t) der Sensoreinrichtung 236 ermittelt. Beispielsweise können der Istwert y(t) und der Sollwert r=const. aus den gleichen zeitabhängigen Daten y(t) bestimmt werden, wobei der Istwert y(t) einen Druckwert zu einem bestimmten Zeitpunkt t und der Sollwert r=const. einen gemittelten Druckwert über einen von den Daten y(t) abgedeckten Zeitraum aufweist. Die Ermittlungseinrichtung 246 berücksichtigt auch eine Schallgeschwindigkeit der Druckausbreitung in der Kühlflüssigkeit 202, um einen Eintreffzeitpunkt der Druckschwankung 242 am Ort der Expansionskammer 206 zu berechnen. Die Stellgröße u(t) wird dann basierend auf der Abweichung e(t) und dem vorausgesagten Eintreffzeitpunkt ermittelt.
In einem dritten Schritt S3 des Verfahrens wird mithilfe der Ansteuereinrichtung 248 die Aktoreinrichtung 232 basierend auf der ermittelten Stellgröße u(t) angesteuert. Das Ansteuern der Aktoreinrichtung 232 basierend auf der ermittelten Stellgröße u(t) erfolgt insbesondere derart, dass das Volumen V (3) der mit der Kühlleitung 204 fluidverbundenen Expansionskammer 206 (des Faltenbalgs 210) geändert wird, um den Druck P der Kühlflüssigkeit 202 in der Kühlleitung 204 entsprechend zu ändern.
Auf diese Weise kann eine Druckschwankung 242 des Drucks P der Kühlflüssigkeit 202 basierend auf einer Vorsteuerung (Feed Forward) ausgeglichen werden. Insbesondere wird die Druckschwankung 242 ausgeglichen bevor sie die zu kühlende Komponente (nicht gezeigt in 5, z. B. einer der Spiegel M1-M6 der Lithographieanlage in 1) erreicht hat. Damit wird eine unerwünschte Positionsverschiebung der zu kühlende Komponente durch Druckschwankungen 242 der Kühlflüssigkeit 202 bereits im Vorfeld verhindert oder reduziert.
Wie in 5 mit gestrichelten Linien eingezeichnet, kann die Kühlvorrichtung 200 und das Verfahren in Ausführungsformen auch zum Regeln des Drucks P basierend auf einer Rückkopplungsregelung eingerichtet bzw. vorgesehen sein. In diesem Fall umfasst die Kühlleitungseinrichtung 200, z. B. zusätzlich zur Steuervorrichtung 244, eine Regelungsvorrichtung 250 mit einer weiteren Ermittlungseinrichtung 252 und einer weiteren Ansteuereinrichtung 254. Des Weiteren wird ein Istwert y'(t) des Drucks P in Bezug auf die Strömungsrichtung S der Kühlflüssigkeit 202 der Expansionskammer 206 nachgeschaltet mit dem Drucksensor 240 erfasst. Sodann wird eine Stellgröße u'(t) von der Ermittlungseinrichtung 252 basierend auf einer Abweichung des Istwert y'(t) von einem Sollwert r ermittelt. Darauffolgend steuert die Ansteuereinrichtung 254 die Aktoreinrichtung 232 basierend auf der ermittelten Stellgröße u'(t) an. Das Ansteuern der Aktoreinrichtung 232 basierend auf der ermittelten Stellgröße u'(t) erfolgt insbesondere derart, dass das Volumen V (3) der mit der Kühlleitung 204 fluidverbundenen Expansionskammer 206 (des Faltenbalgs 210) so geändert wird, dass der Druck P der Kühlflüssigkeit 202 in der Kühlleitung 204 möglichst konstant gehalten wird.
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.
BEZUGSZEICHENLISTE

1: Projektionsbelichtungsanlage
2: Beleuchtungssystem
3: Lichtquelle
4: Beleuchtungsoptik
5: Objektfeld
6: Objektebene
7: Retikel
8: Retikelhalter
9: Retikelverlagerungsantrieb
10: Projektionsoptik
11: Bildfeld
12: Bildebene
13: Wafer
14: Waferhalter
15: Waferverlagerungsantrieb
16: Beleuchtungsstrahlung
17: Kollektor
18: Zwischenfokusebene
19: Umlenkspiegel
20: erster Facettenspiegel
21: erste Facette
22: zweiter Facettenspiegel
23: zweite Facette
100: Kühlleitungsvorrichtung
102: Kühlflüssigkeit
104: Kühlleitung
106: Expansionskammer
108: Mittel
110: Faltenbalg
112: Abschnitt
114: Falte
116: Abschnitt
118: Falte
200: Kühlleitungsvorrichtung
202: Kühlflüssigkeit
204: Kühlleitung
206: Expansionskammer
210: Faltenbalg
212: Abschnitt
214: Falte
216: Abschnitt
218: Falte
220: Halterahmen
222: Stirnseite
224: Falte
226: Falte
228: Anfangsabschnitt
230: Endabschnitt
232: Aktoreinrichtung
234: piezoelektrisches Element
236: Sensoreinrichtung
238: Drucksensor
240: Drucksensor
242: Druckschwankung
244: Steuervorrichtung
246: Ermittlungseinrichtung
248: Ansteuereinrichtung
250: Regelungsvorrichtung
252: Ermittlungseinrichtung
254: Ansteuereinrichtung
A: Abstand
D1, D2: Durchmesser
e(t): Abweichung
L1-L3: Länge
M1-M6: Spiegel
M: Achse
P: Druck
r(t): Sollwert
R: Richtung
S: Richtung
S 1-S3: Verfahrensschritte
u(t), u'(t): Stellgröße
V1-V3: Volumina
V: Volumen
y(t), y'(t): Istwert

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

DE 102008009600 A1 [0083, 0087]
US 20060132747 A1 [0085]
EP 1614008 B1 [0085]
US 6573978 [0085]
DE 102017220586 A1 [0090]
US 20180074303 A1 [0104]

Claims

Kühlleitungsvorrichtung (100, 200) für eine Lithographieanlage (1), aufweisend: eine Kühlleitung (104, 204) zum Transportieren einer Kühlflüssigkeit (102, 202), und eine mit der Kühlleitung (104, 204) fluidverbundene Expansionskammer (106, 206) zur Aufnahme der Kühlflüssigkeit (102, 202), wobei die Expansionskammer (106, 206) Mittel (108) zum Verändern eines Volumens (V) der Expansionskammer (106, 206) umfasst, und die Kühlleitungsvorrichtung dazu eingerichtet ist, einen Druck (P) der Kühlflüssigkeit (102, 202) durch Verändern des Volumens (V) der Expansionskammer (106, 206) zu verändern.
Kühlleitungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Expansionskammer (106, 206) zum Durchleiten der Kühlflüssigkeit (102, 202), insbesondere in einer Längsrichtung (R) der Kühlleitung (104, 204), eingerichtet ist.
Kühlleitungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Mittel (108) zum Verändern des Volumens (V) der Expansionskammer (106, 206) einen Faltenbalg (110, 210) umfassen.
Kühlleitungsvorrichtung nach Anspruch 2 und 3, wobei der Faltenbalg (110, 210) einen ersten Abschnitt (112, 212) mit ersten Falten (114, 214) und einen zweiten Abschnitt (116, 216) mit zweiten Falten (118, 218) umfasst, wobei die ersten und zweiten Falten (114, 214, 118, 218) jeweils dazu eingerichtet sind, sich in der Längsrichtung (R) der Kühlleitung (104, 204) auseinanderzuziehen und zusammenzuziehen, der erste und zweite Abschnitt (112, 212, 116, 216) derart eingerichtet sind, dass bei gleicher Längenänderung (L1, L2, L3) des jeweiligen Abschnitts (112, 212, 116, 216) aufgrund Auseinanderziehens oder Zusammenziehens der entsprechenden Falten (114, 214, 118, 218) eine Volumenänderung (V1) des ersten Abschnitts (112, 212) verschieden von einer Volumenänderung (V2, V3) des zweiten Abschnitts (116, 216) ist, und der Faltenbalg (210) dazu eingerichtet ist, ein von dem Faltenbalg (210) umschlossenes Volumen (V) durch Auseinanderziehen der ersten Falten (114, 214) und Zusammenziehen der zweiten Falten (118, 218) oder durch Zusammenziehen der ersten Falten (114, 214) und Auseinanderziehen der zweiten Falten (118, 218) zu verändern.
Kühlleitungsvorrichtung nach Anspruch 4, wobei ein von den ersten Falten (114, 214) begrenzter Innenquerschnitt des ersten Abschnitts (112, 212) verschieden von einem von den zweiten Falten (118, 218) begrenzten Innenquerschnitt des zweiten Abschnitts (116, 216) ist.
Kühlleitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, aufweisend einen Halterahmen (220) zum Halten des Faltenbalgs (210), wobei der Halterahmen (220) fest mit der Kühlleitung (204) und mit einer der Falten (224) des Faltenbalgs (210) verbunden ist, und wobei die anderen Falten (226) des Faltenbalgs (210) relativ zu dem Halterahmen (220) beweglich angeordnet sind.
Kühlleitungsvorrichtung nach Anspruch 6, wobei der Faltenbalg (210) in Bezug auf die Längsrichtung (R) der Kühlleitung (204) einen Anfangsabschnitt (228), einen Endabschnitt (230) und eine mittlere Falte (224) aufweist, der Halterahmen (220) benachbart zu dem Anfangsabschnitt (228) und benachbart zu dem Endabschnitt (230) des Faltenbalgs (210) fest mit der Kühlleitung (204) verbunden ist, und der Halterahmen (220) mit der mittleren Falte (224) des Faltenbalgs (210) fest verbunden ist.
Kühlleitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die Mittel (108) zum Verändern des Volumens (V) der Expansionskammer (206) eine Aktoreinrichtung (232) und/oder eine Aktoreinrichtung (232) mit einem oder mehreren piezoelektrischen Elementen (234) umfassen.
Kühlleitungsvorrichtung nach Anspruch 8, wobei das eine oder die mehreren piezoelektrischen Elemente (234): an dem Halterahmen (220) benachbart zu der an dem Halterahmen (220) befestigten Falte (224) und an mindestens einer der relativ zum Halterahmen (220) beweglich angeordneten Falten (226) befestigt ist/sind, und dazu eingerichtet ist/sind, einen Abstand (A) zwischen der an dem Halterahmen (220) befestigten Falte (224) und der mindestens einen relativ zum Halterahmen (220) beweglich angeordneten Falte (226) zu verändern.
Kühlleitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Expansionskammer (206) rotationssymmetrisch in Bezug auf eine Mittelachse (M) der Kühlleitung (204) eingerichtet und angeordnet ist.
Kühlleitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, aufweisend eine Sensoreinrichtung (236) zum Erfassen eines Drucks (D) der Kühlflüssigkeit (202) in der Kühlleitung (204).
Kühlleitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, aufweisend eine Steuervorrichtung (244) und/oder Regelungsvorrichtung (250) zum Steuern bzw. Regeln eines Drucks (P) der Kühlflüssigkeit (202) in der Kühlleitung (204), wobei die Steuervorrichtung (244) und/oder Regelungsvorrichtung (250) aufweist: eine Ermittlungseinrichtung (246, 252) zum Ermitteln einer Stellgröße (u, u') basierend auf einer Abweichung (e) eines Istwerts (y, y') von einem Sollwert (r) des Drucks (P) der Kühlflüssigkeit (202) in der Kühlleitung (204), und eine Ansteuereinrichtung (248, 254) zum Ansteuern einer Aktoreinrichtung (232) der Kühlleitungsvorrichtung basierend auf der Stellgröße (u, u').
Lithographieanlage (1) mit einer Kühlleitungsvorrichtung (100, 200) nach einem der Ansprüche 1 bis 12.
Verfahren zum Steuern und/oder Regeln eines Drucks (P) einer Kühlflüssigkeit (202) in einer Kühlleitung (204) einer Lithographieanlage (1), mit den Schritten: a) Ermitteln (S2) einer Stellgröße (u, u') basierend auf einer Abweichung (e) eines Istwerts (y, y') von einem Sollwert (r) des Drucks (P) der Kühlflüssigkeit (202) in der Kühlleitung (204), und b) Ansteuern (S3), basierend auf der ermittelten Stellgröße (u, u'), einer Aktoreinrichtung (232) zum Verändern eines Volumens (V) einer mit der Kühlleitung (204) fluidverbundenen Expansionskammer (206) zum Verändern des Drucks (P) der Kühlflüssigkeit (202) in der Kühlleitung (204).
Verfahren nach Anspruch 14, wobei das Verfahren zur Vorsteuerung des Drucks (P) der Kühlflüssigkeit (202) in der Kühlleitung (204) und/oder zur Rückkopplungsregelung des Drucks (P) der Kühlflüssigkeit (202) in der Kühlleitung (204) eingerichtet ist.