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形成电子器件的方法
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC |
コラート光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト
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新規のポリマーおよびフォトレジスト組成物
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糖成分を含む組成物およびフォトリソグラフィ方法
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南韓商羅門哈斯電子材料韓國公司 |
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Heraeus Precious Metals North America Daychem LLC |
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Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. |
Coating compositions for use with an overcoated photoresist
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Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. |
Underlying coating compositions for use with photoresists
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헤레우스 에퓨리오 엘엘씨 |
레지스트 응용에서 광산 발생제로서의 시클릭 술포네이트 화합물
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KR20240037193A
(ko)
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2021-06-23 |
2024-03-21 |
헤레우스 에퓨리오 엘엘씨 |
레지스트 응용에서 광산 발생제로서 옥사티아늄 이온 함유 술폰산 유도체 화합물
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