JPS62194249A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
-
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- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔従来技術〕
感光性組成物は、一般に適当な表面処理を施したアルミ
ニウム、紙、プラスチック、5i02/siウエハーな
どの支持体の表面に、有機溶媒に溶解または分散したも
のを塗布し、乾燥して使用される。この感光性組成物を
塗布し乾燥する際、有機溶媒の選択は感光性組成物の性
能を十分に発揮するためと経済性、安全性などの点から
重要な事柄である。
ニウム、紙、プラスチック、5i02/siウエハーな
どの支持体の表面に、有機溶媒に溶解または分散したも
のを塗布し、乾燥して使用される。この感光性組成物を
塗布し乾燥する際、有機溶媒の選択は感光性組成物の性
能を十分に発揮するためと経済性、安全性などの点から
重要な事柄である。
ところで、特に感光性平版印刷版以下、128版」と称
す。)を工業的に製造する場会には帯状の支持体を搬送
し連続的に塗布・乾燥することが有利であるが、乾燥設
備の長大化と複雑化を避けるため、および経済性から短
時間で乾燥を行なう、必要がある。その定めには、低〜
中沸点溶剤を多量に使用することが必要となるが、低〜
中沸点溶剤でポジ型感光性組成物を塗布・乾燥した場合
、現像許容範囲の低下、現像処理能力の低下、PA強度
低下、インキ受容性の低下などPS版として重要な性能
が損われることが判明し念。
す。)を工業的に製造する場会には帯状の支持体を搬送
し連続的に塗布・乾燥することが有利であるが、乾燥設
備の長大化と複雑化を避けるため、および経済性から短
時間で乾燥を行なう、必要がある。その定めには、低〜
中沸点溶剤を多量に使用することが必要となるが、低〜
中沸点溶剤でポジ型感光性組成物を塗布・乾燥した場合
、現像許容範囲の低下、現像処理能力の低下、PA強度
低下、インキ受容性の低下などPS版として重要な性能
が損われることが判明し念。
従って本発明の目的は、支持体上に塗布した後、乾燥す
ることによって現像許容性、現1象処理能力。
ることによって現像許容性、現1象処理能力。
膜強度、インキ受容性の良いPS版を得ることのできる
感光性組成寄金提供することにある。
感光性組成寄金提供することにある。
本発明の他の目的は、支持体上に塗布した後、短時間で
乾燥することに工って現像許容性、現像処理能力、膜強
度、インキ受容性の良いPS版を得ることのできる感光
性組成物を提供することにある。
乾燥することに工って現像許容性、現像処理能力、膜強
度、インキ受容性の良いPS版を得ることのできる感光
性組成物を提供することにある。
本発明の更に他の目的は支持体上に塗布した後。
簡略な設V歯で乾燥することによって現像許容性、現像
処理能力、膜強度、インキ受容性の良いPS版を得るこ
とのできる感光性組成物を提供することにある。
処理能力、膜強度、インキ受容性の良いPS版を得るこ
とのできる感光性組成物を提供することにある。
本発明者等は上述の問題点を解決すべく鋭意努力した結
果、塗布する感光性組成物を特定の混合有機溶剤中に溶
解または分散したものを塗布し、乾燥することによって
、PS版としての性能を十分に発揮させ得ることを見出
し、本発明?完成するに至つtoすなわち本発明は、 (1)沸点が弘o ’C以上ioo 0C未満の範囲で
ある有機溶剤、 (ii)沸点が10o 0c以上/≠o ’C未満の範
囲である有機溶剤および GiD 沸点が/弘o ’CC以上コミ 0c未満の
範囲である有機溶剤 を各々少なくともl種含有することを特徴とするポジ型
感光性組成物である。
果、塗布する感光性組成物を特定の混合有機溶剤中に溶
解または分散したものを塗布し、乾燥することによって
、PS版としての性能を十分に発揮させ得ることを見出
し、本発明?完成するに至つtoすなわち本発明は、 (1)沸点が弘o ’C以上ioo 0C未満の範囲で
ある有機溶剤、 (ii)沸点が10o 0c以上/≠o ’C未満の範
囲である有機溶剤および GiD 沸点が/弘o ’CC以上コミ 0c未満の
範囲である有機溶剤 を各々少なくともl種含有することを特徴とするポジ型
感光性組成物である。
以下本発明について、詳細に説明する。
PS版等に便用される支持体は、寸度的に安定な板状物
であり、これ迄印刷版の支持体として使用されたものが
含まれ、好適に使用することができる。かかる支持体と
しては、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙
、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜
鉛、鉄、鋼などのような金属の板、例えば二酢酸セルロ
ース、三酢酸セルロース、フロピオン酸セルロース。
であり、これ迄印刷版の支持体として使用されたものが
含まれ、好適に使用することができる。かかる支持体と
しては、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙
、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜
鉛、鉄、鋼などのような金属の板、例えば二酢酸セルロ
ース、三酢酸セルロース、フロピオン酸セルロース。
酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ/、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタールなどの工うなプラスチックスのフィルム、
上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙も
しくはプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にア
ルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミ
ニウム及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウ
ム合金としては種々のものが使用でき1例えばffい素
、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビ
スマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用
いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタ
ンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含む
ものである。
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ/、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタールなどの工うなプラスチックスのフィルム、
上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙も
しくはプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にア
ルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミ
ニウム及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウ
ム合金としては種々のものが使用でき1例えばffい素
、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビ
スマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用
いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタ
ンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含む
ものである。
支持体は、必要に応じて表面処理される。例えば感光性
平版印刷版の場合には、支持体の表面に、親水化処理が
施される。かかる親水化処理には種掴のものがある。例
えばプラスチックの表面を含する支持体の場合には、化
学的処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処
理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理
などの所謂表面処理方法(次とえば米国特許第2,76
≠。
平版印刷版の場合には、支持体の表面に、親水化処理が
施される。かかる親水化処理には種掴のものがある。例
えばプラスチックの表面を含する支持体の場合には、化
学的処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処
理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理
などの所謂表面処理方法(次とえば米国特許第2,76
≠。
!20号、第3.IIり7.≠07号、第3./1I−
j、λ弘コ号、第J 、JUG 、201r号、第3゜
079 、’713号、第3.ll−71,113号、
第3.360.41111号、英国特許第7115’、
、36≠号明細書など)にぶり処理し念ものと、一旦こ
れらの表面処理後、該プラスチックに下塗層を塗設した
ものとがある。
j、λ弘コ号、第J 、JUG 、201r号、第3゜
079 、’713号、第3.ll−71,113号、
第3.360.41111号、英国特許第7115’、
、36≠号明細書など)にぶり処理し念ものと、一旦こ
れらの表面処理後、該プラスチックに下塗層を塗設した
ものとがある。
塗布方法としても色々工夫が行なわれており一層目はプ
ラスチックに工く接着し、かつ接着性のよい疎水性の樹
脂層全塗布し、二層目として親水性の樹脂層を塗布する
重層法と、同一重合体中に疎水基と親水基を含有する樹
脂の層を塗布する単層法とがある。
ラスチックに工く接着し、かつ接着性のよい疎水性の樹
脂層全塗布し、二層目として親水性の樹脂層を塗布する
重層法と、同一重合体中に疎水基と親水基を含有する樹
脂の層を塗布する単層法とがある。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
アルミニウム板?砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
。前者の次めには、トリクレフ等の溶剤、界面活性剤等
が用いられている。
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
。前者の次めには、トリクレフ等の溶剤、界面活性剤等
が用いられている。
又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。
のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学
的な方法のいずれの方法も有効である。
的な方法のいずれの方法も有効である。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、
軽石のような研磨剤の水分散スラリーヲナイロンブラシ
で擦シつけるブラシ研磨法などかあり、化学的方法とし
ては、特開昭5μm31117号公報に記載されている
工うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸ま
たはこれらの組合せの工うな酸性電解液中で交流電解す
る方法が好ましい。この工うな粗面化方法の内、特に特
開昭16−137923号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化?組合せ九粗面化方法
は、W&脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。
軽石のような研磨剤の水分散スラリーヲナイロンブラシ
で擦シつけるブラシ研磨法などかあり、化学的方法とし
ては、特開昭5μm31117号公報に記載されている
工うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸ま
たはこれらの組合せの工うな酸性電解液中で交流電解す
る方法が好ましい。この工うな粗面化方法の内、特に特
開昭16−137923号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化?組合せ九粗面化方法
は、W&脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表
面の中心線表面粗さくHa )が0.J〜i、oμとな
るような範囲で施されることが好ましい。
面の中心線表面粗さくHa )が0.J〜i、oμとな
るような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に
応じて水洗および化学的にエツチングされる。
応じて水洗および化学的にエツチングされる。
エツチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶ti、ニジ選はれる。この場合、エツ
チングされ比表面に、エツチング液成分から誘導される
アルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなけれ
ばならない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基
性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リ
ン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリ
ウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過
硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウ
ムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コ
バルト、ニッケル、鋼等の塩はエツチング表面に不必要
な被膜を形成するから好ましくない。
あるいは酸の水溶ti、ニジ選はれる。この場合、エツ
チングされ比表面に、エツチング液成分から誘導される
アルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなけれ
ばならない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基
性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リ
ン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリ
ウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過
硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウ
ムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コ
バルト、ニッケル、鋼等の塩はエツチング表面に不必要
な被膜を形成するから好ましくない。
これ等のエツチング剤は、使用#度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3グラムから4toグラム/1r
L2VCなる様に行なわれるのが最も好ましいが、これ
を上回るあるいは下回るものであっても差支えない。
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3グラムから4toグラム/1r
L2VCなる様に行なわれるのが最も好ましいが、これ
を上回るあるいは下回るものであっても差支えない。
エツチングは上記エツチング液1(アルミニウム板を浸
漬したり、該アルミニウム板にエツチング液ヲ塗布する
こと等により行われ、エツチング量がO0!〜ioy/
m2の範囲となるように処理されることが好ましい。
漬したり、該アルミニウム板にエツチング液ヲ塗布する
こと等により行われ、エツチング量がO0!〜ioy/
m2の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エツチング剤としては、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶成金便用することが望ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふつ化水素酸等
が用いられる。
という特長から塩基の水溶成金便用することが望ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふつ化水素酸等
が用いられる。
エツチング処理され念アルミニウム板は、必要にニジ水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、9ん酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、
ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組
み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流ま
たは交流の電bIt ’I:流すと、アルミニウム支持
体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、9ん酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、
ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組
み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流ま
たは交流の電bIt ’I:流すと、アルミニウム支持
体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。
陽極酸化の処理条件ri便用される44(解決に工って
種々変化するので一代には決定されイi) 7上いが一
般的には電解液の濃度が/−40重量%、液櫂!〜70
0C1電流密度o電流−+oアンペア/dm2、電圧/
〜10OvST1c解時間30秒〜!O分の範囲が適当
である。
種々変化するので一代には決定されイi) 7上いが一
般的には電解液の濃度が/−40重量%、液櫂!〜70
0C1電流密度o電流−+oアンペア/dm2、電圧/
〜10OvST1c解時間30秒〜!O分の範囲が適当
である。
これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1.
≠/コ、7tr号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法および米国特許第3.よ//
、At1号明細書に記載されている燐酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。
≠/コ、7tr号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法および米国特許第3.よ//
、At1号明細書に記載されている燐酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2゜7/It、066号
及び同8g!、/lr/、4L4/号に開示されている
工うなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム
水溶液または待公昭JA−22063号公報に開示され
ている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第≠
、/jJ、≠J ’/号明細書に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2゜7/It、066号
及び同8g!、/lr/、4L4/号に開示されている
工うなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム
水溶液または待公昭JA−22063号公報に開示され
ている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第≠
、/jJ、≠J ’/号明細書に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
上記のように処理されたアルミニウム板に、必要に応じ
て感光物を含まない層を設けることができる。この:う
な例としてアラビアガム、カルボキシメチルセルロース
、カルボキシエチルセルロール、カルボキシメチルヒド
ロキシエチルセルロース、アルギン酸、ポリアクリル酸
、アクリル酸誘導体、ビニルエチルエーテルと無水マレ
イン酸との共縮合体、酢酸ビニルと無水マレイン酸との
共重合体およびこれらの塩および水溶性金属塩(例えば
酢酸亜鉛)もしくは黄色染料、アミン塩お工びシリカ、
二酸化チタンなどの微粒千金あげることができる。
て感光物を含まない層を設けることができる。この:う
な例としてアラビアガム、カルボキシメチルセルロース
、カルボキシエチルセルロール、カルボキシメチルヒド
ロキシエチルセルロース、アルギン酸、ポリアクリル酸
、アクリル酸誘導体、ビニルエチルエーテルと無水マレ
イン酸との共縮合体、酢酸ビニルと無水マレイン酸との
共重合体およびこれらの塩および水溶性金属塩(例えば
酢酸亜鉛)もしくは黄色染料、アミン塩お工びシリカ、
二酸化チタンなどの微粒千金あげることができる。
このように処理され次アルミニウム支持体の上にポジ型
感光性組成物の層を設ける。本発明に使用されるポジ型
感光性組成物としては、O−キノンジアジド化合物から
なるもの、史に好ましくは0−キノンジアジドとフェノ
ール性樹脂からなるものである。
感光性組成物の層を設ける。本発明に使用されるポジ型
感光性組成物としては、O−キノンジアジド化合物から
なるもの、史に好ましくは0−キノンジアジドとフェノ
ール性樹脂からなるものである。
本発明に用いられるO−キノンジアジド化合物は、少な
くとも7つの0−キノンジアジド基金有する化合物であ
って、活性照射によりアルカリ可溶性を増すものであり
、このような化合物としては極めて凛々の構造の化合物
を挙げることができる。かかる0−キノンジアジド化合
物の例は、J。
くとも7つの0−キノンジアジド基金有する化合物であ
って、活性照射によりアルカリ可溶性を増すものであり
、このような化合物としては極めて凛々の構造の化合物
を挙げることができる。かかる0−キノンジアジド化合
物の例は、J。
コーサー著「ライト−セン7テイブ・システムズ」(J
ohn Wiley & 5ons、 Inc、)第
332〜3j2頁に詳細に記載されている。待に種々の
芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいはアミン類と反応さ
せた0−キノンジアジドのスルホ/FIRエステル又は
スルホンアミドが好適である。このLうな0−キノンジ
アジド化合物のうち、特公昭弘3−21≠03号に記載
されているような、ベンゾキノン(/、2)−ジアジド
スルホン酸クロライドとポリヒドロキシフェニルとのエ
ステルまたはナフトキノン−(i 、2)−ジアジドス
ルホン酸クロライドとビロカロールーアセトン樹脂との
エステルが最も好ましい。その他の好適なO−キノジア
ジド化合物としては、米国特許第J 、 /l’l 。
ohn Wiley & 5ons、 Inc、)第
332〜3j2頁に詳細に記載されている。待に種々の
芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいはアミン類と反応さ
せた0−キノンジアジドのスルホ/FIRエステル又は
スルホンアミドが好適である。このLうな0−キノンジ
アジド化合物のうち、特公昭弘3−21≠03号に記載
されているような、ベンゾキノン(/、2)−ジアジド
スルホン酸クロライドとポリヒドロキシフェニルとのエ
ステルまたはナフトキノン−(i 、2)−ジアジドス
ルホン酸クロライドとビロカロールーアセトン樹脂との
エステルが最も好ましい。その他の好適なO−キノジア
ジド化合物としては、米国特許第J 、 /l’l 。
210号明細書千に記載されているベンゾキノン−(/
、X)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキ
ノン−(/、2)−ジアジドスルホン酸クロライドとフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂のエステルがある。本発
明に使用されるその他の有用な0−キノンジアジド化合
物としては、数多くの特許に報告され、仰られているも
のが挙げられる。たとえば、特開昭≠7−!303号、
同昭II−jr−4Jlr02号、同昭<4J’−1,
3103号、同昭1/−1r−tJrOJ号、同昭lA
l−41.!17j号、同昭41?−3170/号、同
昭141−/33j≠号、同昭グ/−//222号、同
昭1Ij−Ytio号、同昭≠2−/ 7441 /号
公報、米lj¥f許第2,797.コ/3号、同第3.
μよ弘、≠oo号、同第3.jグ弘、323号、同@3
.j73、り77号、同第3.67弘、弘り5号、同I
g3.71!、12!号、英itJ’Li’F第1,2
27゜602号、同第1.2に/ 、j弘!号、同第1
゜26.7,006号、同第1.32F 、ln1号、
四$、/、!30.り3コ号、ドイツ特許第♂!弘。
、X)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキ
ノン−(/、2)−ジアジドスルホン酸クロライドとフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂のエステルがある。本発
明に使用されるその他の有用な0−キノンジアジド化合
物としては、数多くの特許に報告され、仰られているも
のが挙げられる。たとえば、特開昭≠7−!303号、
同昭II−jr−4Jlr02号、同昭<4J’−1,
3103号、同昭1/−1r−tJrOJ号、同昭lA
l−41.!17j号、同昭41?−3170/号、同
昭141−/33j≠号、同昭グ/−//222号、同
昭1Ij−Ytio号、同昭≠2−/ 7441 /号
公報、米lj¥f許第2,797.コ/3号、同第3.
μよ弘、≠oo号、同第3.jグ弘、323号、同@3
.j73、り77号、同第3.67弘、弘り5号、同I
g3.71!、12!号、英itJ’Li’F第1,2
27゜602号、同第1.2に/ 、j弘!号、同第1
゜26.7,006号、同第1.32F 、ln1号、
四$、/、!30.り3コ号、ドイツ特許第♂!弘。
tり0号などの各明細書中に記載されているものを挙げ
ることができる。
ることができる。
本発明において使用されるフェノール樹脂とはノボラッ
ク樹脂およびフェノール性水酸基を有するポリビニル化
合物を指し、ノボラック樹脂とはフェノール類とホルム
アルデヒドat酸性触媒の存在下に縮合させて得られた
もので、その他キシレンやメシチレンで変性されたもの
も含む。このようなノボラック樹脂としては、フェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド
[11旨、p−tert−ブチルフェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂などを代表
例としてあげることができる。
ク樹脂およびフェノール性水酸基を有するポリビニル化
合物を指し、ノボラック樹脂とはフェノール類とホルム
アルデヒドat酸性触媒の存在下に縮合させて得られた
もので、その他キシレンやメシチレンで変性されたもの
も含む。このようなノボラック樹脂としては、フェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド
[11旨、p−tert−ブチルフェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂などを代表
例としてあげることができる。
またフェノール性水酸基を有するポリビニル化合物とし
てはポリヒドロキシスチレン重合体お工びその共重合体
、ハロゲン化ポリヒドロキシスチレン重合体お工び共重
合体?あげることができる。
てはポリヒドロキシスチレン重合体お工びその共重合体
、ハロゲン化ポリヒドロキシスチレン重合体お工び共重
合体?あげることができる。
全感光性組成物中の0−キノンジアジド比合物の量は1
O−jO重t%で、工り好ましくはコO〜≠O重ft俤
である。そしてフェノール性樹脂の配合量は全感光性組
成物中の≠!〜79重鍍係で、好ましくけ!θ〜70重
量%である。
O−jO重t%で、工り好ましくはコO〜≠O重ft俤
である。そしてフェノール性樹脂の配合量は全感光性組
成物中の≠!〜79重鍍係で、好ましくけ!θ〜70重
量%である。
本発明に使用されるポジ型感光性組成物には、画l11
2識別の友めの染料、たとえばクリスタルバイオレット
、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、ツクシン
、バラ7クシン、ビクトリア・ブルーBH(保土谷化学
工業■製〕、ビクトリア・ピュアー・ブルー・BOH(
保土谷化学工業(4朱裏)、オイル、ブルー3603〔
オリエント化学工業■製〕、オイルピンク$379 [
オリエント化学工業■製]、オイルレッド!B〔オリエ
ント化字工菓@裂〕、オイルグリーン@j02〔オリエ
ント化学工業■製〕などを単独または混合して全感光性
組成物に対して0.3〜/j重量%添加するのが好まし
い。
2識別の友めの染料、たとえばクリスタルバイオレット
、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、ツクシン
、バラ7クシン、ビクトリア・ブルーBH(保土谷化学
工業■製〕、ビクトリア・ピュアー・ブルー・BOH(
保土谷化学工業(4朱裏)、オイル、ブルー3603〔
オリエント化学工業■製〕、オイルピンク$379 [
オリエント化学工業■製]、オイルレッド!B〔オリエ
ント化字工菓@裂〕、オイルグリーン@j02〔オリエ
ント化学工業■製〕などを単独または混合して全感光性
組成物に対して0.3〜/j重量%添加するのが好まし
い。
さらにこれらの染料と相互作用をして色調を変えさせる
光分解物を発生させる化8r′$A、たとえば特開昭!
O−3乙コQり号公報に記載の。−ナフトキノンジアジ
ド−≠−スルホン酸ハロゲニト、特開昭13−3t22
3号公報に記載のトリハロメチル−2−ピロンやトリハ
ロメチルトリアジン、特開昭jj−62μ4c弘号公報
に記載の種々の。
光分解物を発生させる化8r′$A、たとえば特開昭!
O−3乙コQり号公報に記載の。−ナフトキノンジアジ
ド−≠−スルホン酸ハロゲニト、特開昭13−3t22
3号公報に記載のトリハロメチル−2−ピロンやトリハ
ロメチルトリアジン、特開昭jj−62μ4c弘号公報
に記載の種々の。
−す7トキノンジアジド化合物、特開昭jj −777
弘2号公報に記載のコートリノ・ロメチルー!−アリー
ル−/ 、j 、弘−オキサジアゾール化合物など?添
加することが出来る。これらの化合物は単独又は混合し
て便用することが出来、添加量は0.3〜lj重1i1
−%が好ましい。
弘2号公報に記載のコートリノ・ロメチルー!−アリー
ル−/ 、j 、弘−オキサジアゾール化合物など?添
加することが出来る。これらの化合物は単独又は混合し
て便用することが出来、添加量は0.3〜lj重1i1
−%が好ましい。
本発明の組成物中には特開昭12−11002コ号公報
記載の酸無水物化合vlJを添加せしめ感度を上げるこ
とができる。
記載の酸無水物化合vlJを添加せしめ感度を上げるこ
とができる。
これ等の感光性組成物に更に塗布性を改善する目的で7
ツ索系界面活性剤を含有させることができる。
ツ索系界面活性剤を含有させることができる。
好ましいフッ素系界面活性剤としては(I)3〜コ0の
炭素原子を有しかつμO重量−以上のフッ素を含有し、
末端部分が少くとも3つの十分にフッ素化された炭素原
子を有するフルオロ脂肪族基(以下Rf基という)を含
有するアクリレートまたはRf基を含有するメタクリレ
ートと、(ii)ポリ(オキシアルキレン)アクリレー
トまたはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートとの
共重合体であって、Rf基含有アクリレートま次はRf
基含有メタクリレートモノマ一単位が、該共重合体の重
量に基づいて10〜70重t%であるフッ素糸界面活性
剤?上げることができる。この工うなフッ素系界面活性
剤を使用することによって低沸点溶剤を多量に使用して
も均一な感光層を設けることができる。
炭素原子を有しかつμO重量−以上のフッ素を含有し、
末端部分が少くとも3つの十分にフッ素化された炭素原
子を有するフルオロ脂肪族基(以下Rf基という)を含
有するアクリレートまたはRf基を含有するメタクリレ
ートと、(ii)ポリ(オキシアルキレン)アクリレー
トまたはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートとの
共重合体であって、Rf基含有アクリレートま次はRf
基含有メタクリレートモノマ一単位が、該共重合体の重
量に基づいて10〜70重t%であるフッ素糸界面活性
剤?上げることができる。この工うなフッ素系界面活性
剤を使用することによって低沸点溶剤を多量に使用して
も均一な感光層を設けることができる。
フルオロ脂肪族基Rfは飽和されかつ一般に7価の脂肪
族基である。これは直鎖、分校及び十分に大きい場合に
は環式又はこれらの組み合せ(例えばアルキルシクロ脂
肪族基)である。フルオロ脂肪族骨格鎖は炭素原子にの
み結合した連鎖の酸素及び/または3価の窒素へテロ原
子を含むことができ、このペテロ原子はフルオロ炭素基
間の間に安定な結合を与えかつRf基の不活性時性を妨
害しない。Rf基は、十分な効果を発揮するためには、
3〜20.好ましくは6〜12の炭素原子含有し、かつ
≠0重量%以上好ましくはよ0重量%以上の、炭素原子
に結合したフッ素を有するものである。Rf基の末端の
少なくとも3つの炭素原子は十分にフッ素化されている
。Rf基の末端は例えば、CF30F20F2−であり
、好適なRf基は、CnF2n+1(nは3以上の整数
)のように実質上完全に、または十分にフッ素化され念
アルキル基である。
族基である。これは直鎖、分校及び十分に大きい場合に
は環式又はこれらの組み合せ(例えばアルキルシクロ脂
肪族基)である。フルオロ脂肪族骨格鎖は炭素原子にの
み結合した連鎖の酸素及び/または3価の窒素へテロ原
子を含むことができ、このペテロ原子はフルオロ炭素基
間の間に安定な結合を与えかつRf基の不活性時性を妨
害しない。Rf基は、十分な効果を発揮するためには、
3〜20.好ましくは6〜12の炭素原子含有し、かつ
≠0重量%以上好ましくはよ0重量%以上の、炭素原子
に結合したフッ素を有するものである。Rf基の末端の
少なくとも3つの炭素原子は十分にフッ素化されている
。Rf基の末端は例えば、CF30F20F2−であり
、好適なRf基は、CnF2n+1(nは3以上の整数
)のように実質上完全に、または十分にフッ素化され念
アルキル基である。
Rf基フッ素含有付が弘O重債チ未満では塗布性改善が
不十分である。フッ素原子はrtf5の末端に局在化し
ている方が効果が大きい。Rf基の炭素原子数がλ以下
でも、フッ素含有率を高くすることはできるが、7ツネ
原子の総量が不十分となり、効果が弱い。炭素原子数が
2以下の十分にフッ素化されたRf基含有モノマーの、
共重合体に対する比率を高くすることによって共重合体
中のフッ素含有率を高くしても、フッ素原子が局在化し
ていない次め、十分な効果が得られない。
不十分である。フッ素原子はrtf5の末端に局在化し
ている方が効果が大きい。Rf基の炭素原子数がλ以下
でも、フッ素含有率を高くすることはできるが、7ツネ
原子の総量が不十分となり、効果が弱い。炭素原子数が
2以下の十分にフッ素化されたRf基含有モノマーの、
共重合体に対する比率を高くすることによって共重合体
中のフッ素含有率を高くしても、フッ素原子が局在化し
ていない次め、十分な効果が得られない。
一方、Rf基の炭素原子数が21以上では、フッ素含有
葉が高いと得られた共重合体の溶剤に対する溶解性が低
くなり、ま念フッ素含有量が低いと、フッ素原子の局在
化が十分でなくなり、十分な効果が得られない。
葉が高いと得られた共重合体の溶剤に対する溶解性が低
くなり、ま念フッ素含有量が低いと、フッ素原子の局在
化が十分でなくなり、十分な効果が得られない。
共重合体中の可容化部分はポリ(オキシアルキレン)基
、(OR’)xであって、R′は2〜μの炭素原子を有
するアルキレン基、例えば−CH2CH2−1−CH2
CH2CH2−1−CH(CH3)CH2−1または−
CH(CHa ) CH(CHa )−であることが好
ましい。
、(OR’)xであって、R′は2〜μの炭素原子を有
するアルキレン基、例えば−CH2CH2−1−CH2
CH2CH2−1−CH(CH3)CH2−1または−
CH(CHa ) CH(CHa )−であることが好
ましい。
前記のポリ(オキシアルキレン)基中のオキシアルキレ
ン単位はポリ(オキシプロビレ/)ニオケるように同一
であってもよく、または互いに異なる2種以上のオキシ
アルキレンが不規則に分布されたものであっても工く、
直鎖または分枝鎖のオキシプロピレンお工びオキシエチ
レン単位であったり、または、直鎖または分枝鎖のオキ
シプロピレン巣位のブロックおよびオキシエチレン単位
のブロックのように存在するものであっても工い。
ン単位はポリ(オキシプロビレ/)ニオケるように同一
であってもよく、または互いに異なる2種以上のオキシ
アルキレンが不規則に分布されたものであっても工く、
直鎖または分枝鎖のオキシプロピレンお工びオキシエチ
レン単位であったり、または、直鎖または分枝鎖のオキ
シプロピレン巣位のブロックおよびオキシエチレン単位
のブロックのように存在するものであっても工い。
このポリ(オキシアルキレン)鎖はl″:)′!たけそ
れ以上の連鎖結合(例えば ま几は含むことができる。連鎖の結合が3つまたはそれ
以上の原子価を有する場会には、これは分枝鎖のオキシ
アルキレン単位を得るための手段を供する。ま友この共
重合体全感光性組成物に添加する場会に、所望の溶解度
を得る几めには、ポリ(オキシアルキレン)基の分子量
はλ!Q〜2jooが適当である。
れ以上の連鎖結合(例えば ま几は含むことができる。連鎖の結合が3つまたはそれ
以上の原子価を有する場会には、これは分枝鎖のオキシ
アルキレン単位を得るための手段を供する。ま友この共
重合体全感光性組成物に添加する場会に、所望の溶解度
を得る几めには、ポリ(オキシアルキレン)基の分子量
はλ!Q〜2jooが適当である。
本発明に使用される上記共重合体は1例えば、フルオロ
脂肪族基含有アクリレートまたはフルオロ脂肪族基含有
メタクリレートと、ポリ(オキシアルキレン)アクリレ
ートまtはポリ(オキシアルキレン)メタクリレート、
例えばモノアクリレートま几はジアクリレートまたはそ
の混合物との遊離基開始共重合によって製造できる。ポ
リアクリレートオリゴマーの分子量は、開始剤の濃度と
活性度、単量体の濃度および市会反応温度金調節するこ
とによって、および連鎖移動剤、例えばチオール、例え
ばn−オクチルメルカプタンを添加することによって調
整できる。−例として、フルオロ脂肪族基含有アクリレ
ート、 Rf−R”−02C−CH=CH2(ここでR“は、例
えばスルホンアミドアルキレン、カルボンアミドアルキ
レン、またはアルキレンである)、例えばC3F175
O2N(C4H9)CH2CH202CCH=CHをポ
リ(オキシアルキレン)モノアクリレートCH2=cH
c(0)(OR’ )XOCH3と共重合させると下記
の繰返し単位を有する共重合体が得られる。
脂肪族基含有アクリレートまたはフルオロ脂肪族基含有
メタクリレートと、ポリ(オキシアルキレン)アクリレ
ートまtはポリ(オキシアルキレン)メタクリレート、
例えばモノアクリレートま几はジアクリレートまたはそ
の混合物との遊離基開始共重合によって製造できる。ポ
リアクリレートオリゴマーの分子量は、開始剤の濃度と
活性度、単量体の濃度および市会反応温度金調節するこ
とによって、および連鎖移動剤、例えばチオール、例え
ばn−オクチルメルカプタンを添加することによって調
整できる。−例として、フルオロ脂肪族基含有アクリレ
ート、 Rf−R”−02C−CH=CH2(ここでR“は、例
えばスルホンアミドアルキレン、カルボンアミドアルキ
レン、またはアルキレンである)、例えばC3F175
O2N(C4H9)CH2CH202CCH=CHをポ
リ(オキシアルキレン)モノアクリレートCH2=cH
c(0)(OR’ )XOCH3と共重合させると下記
の繰返し単位を有する共重合体が得られる。
升CH2−CH□ →CH2−CHC
H=
CH士I脂肪族基含有アクリレートは米国特許ff、s
、toJ、611号、同’M2.t’A2゜弘/乙号、
同第2.tλ1,11≠号、同第3゜10コ、703号
、同第3.212.903’号お工び同第3,30≠、
27r号に記載されている。
、toJ、611号、同’M2.t’A2゜弘/乙号、
同第2.tλ1,11≠号、同第3゜10コ、703号
、同第3.212.903’号お工び同第3,30≠、
27r号に記載されている。
上記共重合体の製造に使用されるポリ(オキシアルキレ
ン)アクリレートお工びこの目的の之めに有用な他のア
クリレートは、市販のヒドロキ7ポリ(オキシアルキレ
ン)材料、例えば商品名”プルo=ツク” [Plur
onic (旭′市化工業■製)〕、アデ力ポリエーテ
ル(旭電化工業■製)、′カルバワックス”(Carb
owax (グリコ・ブロダクス) (Glyco P
roducts)Co、[) 〕、“トリント”(To
riton(ローム・アンドΦハース(ltohm a
nd Hass)Co、 製)〕お工びP。
ン)アクリレートお工びこの目的の之めに有用な他のア
クリレートは、市販のヒドロキ7ポリ(オキシアルキレ
ン)材料、例えば商品名”プルo=ツク” [Plur
onic (旭′市化工業■製)〕、アデ力ポリエーテ
ル(旭電化工業■製)、′カルバワックス”(Carb
owax (グリコ・ブロダクス) (Glyco P
roducts)Co、[) 〕、“トリント”(To
riton(ローム・アンドΦハース(ltohm a
nd Hass)Co、 製)〕お工びP。
E、G、(第一工業製薬■製)として販売されているも
のを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリル
クロリドまたは無水アクリル酸と反応させることに工っ
て製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ(オキ
シアルキレン)ジアクリレート、CH2=CHC02(
R’ 0)XCOCH=CH2、例えば Q(2−CHCO2(C2H40) 10 (CaH6
0) 22 (C2H40) !o C0CH: Q(
2を前記のフルオロ脂肪族基官有アクリレートと共重会
させると、下記の繰返し単位を有するポリアクリレート
共重合体が得られる。
のを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリル
クロリドまたは無水アクリル酸と反応させることに工っ
て製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ(オキ
シアルキレン)ジアクリレート、CH2=CHC02(
R’ 0)XCOCH=CH2、例えば Q(2−CHCO2(C2H40) 10 (CaH6
0) 22 (C2H40) !o C0CH: Q(
2を前記のフルオロ脂肪族基官有アクリレートと共重会
させると、下記の繰返し単位を有するポリアクリレート
共重合体が得られる。
一←C)−I 2− CH−←−−←CH2−CH−←
c=o c=。
c=o c=。
C=ORf
一←CH2−CH−+一
本発明に使用される共重合体を製造するのに適する他の
フルオロ脂肪族基含有末端エチレン系不飽和単量体は、
米国特許第λ、192,01.り号、同第2.??!、
j4C2号、同第3,071,2弘!号、同第J 、0
!r/ 、27’を号、同第3.λP/、r4tJ号お
よび同J、!2j、743号に記載されており、上記フ
ルオロ脂肪族基含有末端エチレン系不飽和単量体を製造
するのに適したエチレン系不飽和材料は米国特許第3.
!7弘、7り1号に記載されている。
フルオロ脂肪族基含有末端エチレン系不飽和単量体は、
米国特許第λ、192,01.り号、同第2.??!、
j4C2号、同第3,071,2弘!号、同第J 、0
!r/ 、27’を号、同第3.λP/、r4tJ号お
よび同J、!2j、743号に記載されており、上記フ
ルオロ脂肪族基含有末端エチレン系不飽和単量体を製造
するのに適したエチレン系不飽和材料は米国特許第3.
!7弘、7り1号に記載されている。
本発明に使用するのに好ましい共重合体はフルオロ脂肪
族基含有アクリレートまたはフルオロ脂肪族基含有メタ
クリレートとポリ(オキシアルキレン)アクリレートま
たはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートとの共重
合体であって、フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位をオ
リゴマーの重量に基づいて10〜70M*%含有してい
る。フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位が1ozt%よ
り少ないと効果が十分でなく、逆に70重量%工り多い
と溶剤に対する溶解度が低過丁ぎて好ましくない。本発
明に便用される共重合体の分子量はλ、200〜100
,000が好ましく、2.!OOXり小さいと効果が十
分でなく、ioo、。
族基含有アクリレートまたはフルオロ脂肪族基含有メタ
クリレートとポリ(オキシアルキレン)アクリレートま
たはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートとの共重
合体であって、フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位をオ
リゴマーの重量に基づいて10〜70M*%含有してい
る。フルオロ脂肪族基含有モノマ一単位が1ozt%よ
り少ないと効果が十分でなく、逆に70重量%工り多い
と溶剤に対する溶解度が低過丁ぎて好ましくない。本発
明に便用される共重合体の分子量はλ、200〜100
,000が好ましく、2.!OOXり小さいと効果が十
分でなく、ioo、。
00工り大きいと溶剤に対する溶解性が低下するので好
ましくない。
ましくない。
これらの共重合体のうち、フルオロ脂肪族基含有モノマ
ーとして、フルオロ脂肪族基含有アクリレートf:フル
オロ脂肪族基含有モノマ一単位に対して50〜100重
量%便用し、かつポリ(オキシアルキレン)アクリレー
トモノマ一単位r共i合体の全重量に対して/j重重−
i%以上使用して得られ念ものが好ましく、フルオロ脂
肪族基含有アクリレートとポリ(オキシアルキレン)ア
クリレートとの共重合体が待に好ましい。フルオロ脂肪
族基含有メタクリレートがフルオロ脂肪族基含有モノマ
一単位に対して!θ重f%以上になると溶剤溶解性が低
下する。また、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート
モノマーが共重合体の全重量に対して/j重fチ未溝の
場合、塗膜にピンホールが発生しやすくなる。
ーとして、フルオロ脂肪族基含有アクリレートf:フル
オロ脂肪族基含有モノマ一単位に対して50〜100重
量%便用し、かつポリ(オキシアルキレン)アクリレー
トモノマ一単位r共i合体の全重量に対して/j重重−
i%以上使用して得られ念ものが好ましく、フルオロ脂
肪族基含有アクリレートとポリ(オキシアルキレン)ア
クリレートとの共重合体が待に好ましい。フルオロ脂肪
族基含有メタクリレートがフルオロ脂肪族基含有モノマ
一単位に対して!θ重f%以上になると溶剤溶解性が低
下する。また、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート
モノマーが共重合体の全重量に対して/j重fチ未溝の
場合、塗膜にピンホールが発生しやすくなる。
フッ素系界面活性剤の好ましい便用範囲は、感光性組成
物(溶媒を除い友塗布成分)に対して0゜0/−J−l
ifチの範囲であり、更に好ましい使用範囲はo、or
〜3重tチの範囲である。フッ素系界面活性剤の使用量
が0.07重量係未満では効果が不十分であり、ま7’
(j重量4工り多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われ
なくなったり、1べ光材料としての注Xピ(たとえば現
1象性)に悪影響をお工ぼす。
物(溶媒を除い友塗布成分)に対して0゜0/−J−l
ifチの範囲であり、更に好ましい使用範囲はo、or
〜3重tチの範囲である。フッ素系界面活性剤の使用量
が0.07重量係未満では効果が不十分であり、ま7’
(j重量4工り多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われ
なくなったり、1べ光材料としての注Xピ(たとえば現
1象性)に悪影響をお工ぼす。
その池水発明の組成物中には光てん剤や塗膜の物性を改
良するために、例えばフタル酸ジブチル、ブチルグリコ
レート、リン酸トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等
の可塑剤などの種々の目的に応じて各種添加剤を加える
ことができる。充てん剤を加えることに工って塗膜の物
理的性質をより一層向上させることができるばかりでな
く、感光層表面のマット化が可能となり、IfI像焼付
は時の真空密着性が工くなり、いわゆる焼ボケを防止す
ることができる。この工うな光てん剤としては、タルク
粉末、ガラス粉末、粘土、デンプン、少麦粉、とうもろ
こし粉、テフロン粉末等がある。
良するために、例えばフタル酸ジブチル、ブチルグリコ
レート、リン酸トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等
の可塑剤などの種々の目的に応じて各種添加剤を加える
ことができる。充てん剤を加えることに工って塗膜の物
理的性質をより一層向上させることができるばかりでな
く、感光層表面のマット化が可能となり、IfI像焼付
は時の真空密着性が工くなり、いわゆる焼ボケを防止す
ることができる。この工うな光てん剤としては、タルク
粉末、ガラス粉末、粘土、デンプン、少麦粉、とうもろ
こし粉、テフロン粉末等がある。
本発明の特徴は、上記6感光性組成物成分を下記の有機
溶剤の混合したものに溶解ま念は分散して上記のごとき
支持体上に塗布され乾燥される。
溶剤の混合したものに溶解ま念は分散して上記のごとき
支持体上に塗布され乾燥される。
本発明に使用される有機溶剤としては、(1)沸点が≠
0°C以上1OO0C未満の範囲である有機溶剤、 (ii)沸点がioo 0C以上/≠o ’C未満の範
囲である有機溶剤、および Qll)沸点が/弘0°C以上2to0c未満の範囲で
ある有機溶剤 を各々少なくとも/M金含有ることヲ詩徴とする混合溶
剤である。
0°C以上1OO0C未満の範囲である有機溶剤、 (ii)沸点がioo 0C以上/≠o ’C未満の範
囲である有機溶剤、および Qll)沸点が/弘0°C以上2to0c未満の範囲で
ある有機溶剤 を各々少なくとも/M金含有ることヲ詩徴とする混合溶
剤である。
(1)沸点が≠00C以上10O0C未満の範囲である
有機溶剤の具体例としては、 メチルアルコール(2弘、t 0C) エチルアルコール(7r# °C) n−プロピルアルコール(り7.コ’c)イソ−プロピ
ルアルコール(♂コ、3 °C)第ニブチルアルコール
(タタ、t’c)アセトン(!4.2 °C) メチルエチルケトン(7り、66C) ベンゼン(、rO,/ ’C) シクロヘキサン(to、y °C) 酢酸メチル(j7.!r’c) 酢酸エチル(77、/’C) 酢酸イソ−プロピル(rタ 0C) ギ酸エチル(j≠、3 °C) ギ酸プロピル(♂/、3 °C) ギ酸インブチル(P、r’c) プロピオン酸メチル(79,7°C) プロピオン酸エチル(9り、/’C) クロロホルム(t/、2 °C) 四塩化炭素(7乙、7°C) メチレンジクロライド(lIO,lA 0c)エチレン
ジクロライド(Jj、j’C)/、/、/−)リクロロ
エタン(7弘 ’c)インプロピルエーテル(tr、s
°C)テトラヒドロフラン(J4 °C) テトラヒドロビラン(J’J”C) エチレングリコールジメチルエーテル (tよ、2°C) など?あげることができる。
有機溶剤の具体例としては、 メチルアルコール(2弘、t 0C) エチルアルコール(7r# °C) n−プロピルアルコール(り7.コ’c)イソ−プロピ
ルアルコール(♂コ、3 °C)第ニブチルアルコール
(タタ、t’c)アセトン(!4.2 °C) メチルエチルケトン(7り、66C) ベンゼン(、rO,/ ’C) シクロヘキサン(to、y °C) 酢酸メチル(j7.!r’c) 酢酸エチル(77、/’C) 酢酸イソ−プロピル(rタ 0C) ギ酸エチル(j≠、3 °C) ギ酸プロピル(♂/、3 °C) ギ酸インブチル(P、r’c) プロピオン酸メチル(79,7°C) プロピオン酸エチル(9り、/’C) クロロホルム(t/、2 °C) 四塩化炭素(7乙、7°C) メチレンジクロライド(lIO,lA 0c)エチレン
ジクロライド(Jj、j’C)/、/、/−)リクロロ
エタン(7弘 ’c)インプロピルエーテル(tr、s
°C)テトラヒドロフラン(J4 °C) テトラヒドロビラン(J’J”C) エチレングリコールジメチルエーテル (tよ、2°C) など?あげることができる。
(r+> m点が10Q0C以上/lAO0C未満の
範囲である有機溶剤の具坏例としては n−ブチルアルコール(//7.7 °C)イソ−ブチ
ルアルコール(107,り’C)メチルn−プロピルケ
トン(103,3°C)メチルn−ブチルケトン(/2
7.j 0C)メチルイソ−ブチルケトン(/it、2
0C)ジエチルケトン(102,2°C) トルエフ(/10.1.’C) m−キシレン(/3り、/’C) p−キシレン(/3t、グ ’c) 酢酸n−プロピル(10/、t °C)酢酸n−ブチル
(/2t、J−0C) 酢酸イソ−ブチル(//♂、3 °C)酢酸第ニブチル
(//2.! 0C) ギ酸n−ブチル(/θt、r 0c) ギ酸アミル(/3o、4t’c) 酪酸メチル(102,J °C) 酪酸エチル(12t、3°C) モノクロルベンゼン(/3/、r 0c)ジオキサン(
lot、、i °C) エチレングリコールモノメチルエーテル(73μ、♂Q
C> エチレングリコールモノエチルエーテル(73≠、r’
c) エチレングリコールジエチルエーテル (/2i、l 0c) プロピレングリコールモノメチルエーテル(/200C
) プロビレングリコールモノエチルエーテル(/3x、、
z °C) などヲアげることができる。
範囲である有機溶剤の具坏例としては n−ブチルアルコール(//7.7 °C)イソ−ブチ
ルアルコール(107,り’C)メチルn−プロピルケ
トン(103,3°C)メチルn−ブチルケトン(/2
7.j 0C)メチルイソ−ブチルケトン(/it、2
0C)ジエチルケトン(102,2°C) トルエフ(/10.1.’C) m−キシレン(/3り、/’C) p−キシレン(/3t、グ ’c) 酢酸n−プロピル(10/、t °C)酢酸n−ブチル
(/2t、J−0C) 酢酸イソ−ブチル(//♂、3 °C)酢酸第ニブチル
(//2.! 0C) ギ酸n−ブチル(/θt、r 0c) ギ酸アミル(/3o、4t’c) 酪酸メチル(102,J °C) 酪酸エチル(12t、3°C) モノクロルベンゼン(/3/、r 0c)ジオキサン(
lot、、i °C) エチレングリコールモノメチルエーテル(73μ、♂Q
C> エチレングリコールモノエチルエーテル(73≠、r’
c) エチレングリコールジエチルエーテル (/2i、l 0c) プロピレングリコールモノメチルエーテル(/200C
) プロビレングリコールモノエチルエーテル(/3x、、
z °C) などヲアげることができる。
Gii′l 沸点が/≠0°C以上コ100C未満の
範囲である有機溶剤の具体例としては、 メチルn−アミルケトン(/zo、λ0C)メチル(1
−ヘキシルケト7(/7)!、9〜/73.1 ’C)
エチルn−ブチルケトン(l≠7.r’C)モロ−プロ
ピルケトン(/≠3.7°C)ジイソ−ブチルケトン(
/+r、l ’c)アセチルアセトン(/μ00C) シクロヘキサノ7(/!!、7 °C)メチルシクロヘ
キサノン(ity〜/70 、 !’C)ジアセトンア
ルコール(/G7.2’c)アセトニルアセトン(/タ
コ〜/y<<’C)0−キシレン(/μ弘、≠0C) 酢酸n−アミル(l弘7.6 °C) 酢酸イン−アミル(/pλ、t’C) 酢酸メチルイソ−アミル(lμ≦、3°C)酢酸メトキ
シブチル(173°C) 酢酸第二ヘキシル(l≠t、J °C)酢酸1−エチル
ブチル(/J2.4t’c)酢酸シクロヘキシル(/7
J、t〜17≠、 t ’c)アセト酢酸メチル(/乙
り、50C) アセト酢酸エチル(/ro、r ’C)プロピオン酸n
−ブチル(llAj、≠0C)酪酸n−ブチル(//i
A、<4’c)酪酸インアミル(/rt、r ’c)
n−ブチルエーテル(l≠2’c) 2−エトキシテトラヒドロピラン(1ti7 °C)エ
チレンクリコールモノメチルエーテルアセテート(/弘
1./ 0C) エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ−ト (
/ :i 乙 、+’C) エチレンクリコールモノイノプロビルエーテル(/3り
〜/≠3 °C) エチレングリコールモノブチルエーテル(ty/、2°
C) エチレングリコールモノイソ−ブチルエーテル(/go
、zoc) エチレングリコールシフチルエーテル (−〇!# 0C) xチレンクリコールモノブチルエーテルアセテー ト
(l タ・ i、s 0C)エチレングリコールイソ
アミルエーテル(/r/’C) エチレングリフールモノヘキシルエーテル(20!、/
’C) エチレングリコールモノアセテート (/12 °C) エチレングリコールジアセテート (tyo、λ’C) メトキシメトキシエタノール(It、7.joC)ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル(75F≠、20
C) ジエチレングリコールモノエチルエーテル(xot、
タ ’c) ジエチレングリコールジメチルエーテル(ii2°C) ジエチレングリコールメチルエチルエーテル(170〜
/10 ’Cl ジエチレンクリコールジエチルエーテル(/rlr、
タ ’c) ジエチレングリコールモノインプロピルエーテル(20
7,3°C) プロピレングリコール(/lr1.2 °C)プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート(/弘よ、
≠00) プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノブチルエーテル(/7/、/
’C) ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(lり0
°C) ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(lり7.
r’C) ジエチレングリコールジメチルエーテル、シフロピレン
クリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールジエチルエーテル、ヘキシレングリコール (/り7./ 0C) 3−メトキシ−3−メトキシプタノール(77弘 ’c
) N、N−ジメチルホルムアミド(/弘り、A’C)ジメ
チルスルホキシド(/rり0C) γ−ブチロラクトン(2o3〜コO弘 00)γ−バレ
ロラクトン(2o夕〜207 °C)などをあげること
ができる。
範囲である有機溶剤の具体例としては、 メチルn−アミルケトン(/zo、λ0C)メチル(1
−ヘキシルケト7(/7)!、9〜/73.1 ’C)
エチルn−ブチルケトン(l≠7.r’C)モロ−プロ
ピルケトン(/≠3.7°C)ジイソ−ブチルケトン(
/+r、l ’c)アセチルアセトン(/μ00C) シクロヘキサノ7(/!!、7 °C)メチルシクロヘ
キサノン(ity〜/70 、 !’C)ジアセトンア
ルコール(/G7.2’c)アセトニルアセトン(/タ
コ〜/y<<’C)0−キシレン(/μ弘、≠0C) 酢酸n−アミル(l弘7.6 °C) 酢酸イン−アミル(/pλ、t’C) 酢酸メチルイソ−アミル(lμ≦、3°C)酢酸メトキ
シブチル(173°C) 酢酸第二ヘキシル(l≠t、J °C)酢酸1−エチル
ブチル(/J2.4t’c)酢酸シクロヘキシル(/7
J、t〜17≠、 t ’c)アセト酢酸メチル(/乙
り、50C) アセト酢酸エチル(/ro、r ’C)プロピオン酸n
−ブチル(llAj、≠0C)酪酸n−ブチル(//i
A、<4’c)酪酸インアミル(/rt、r ’c)
n−ブチルエーテル(l≠2’c) 2−エトキシテトラヒドロピラン(1ti7 °C)エ
チレンクリコールモノメチルエーテルアセテート(/弘
1./ 0C) エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ−ト (
/ :i 乙 、+’C) エチレンクリコールモノイノプロビルエーテル(/3り
〜/≠3 °C) エチレングリコールモノブチルエーテル(ty/、2°
C) エチレングリコールモノイソ−ブチルエーテル(/go
、zoc) エチレングリコールシフチルエーテル (−〇!# 0C) xチレンクリコールモノブチルエーテルアセテー ト
(l タ・ i、s 0C)エチレングリコールイソ
アミルエーテル(/r/’C) エチレングリフールモノヘキシルエーテル(20!、/
’C) エチレングリコールモノアセテート (/12 °C) エチレングリコールジアセテート (tyo、λ’C) メトキシメトキシエタノール(It、7.joC)ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル(75F≠、20
C) ジエチレングリコールモノエチルエーテル(xot、
タ ’c) ジエチレングリコールジメチルエーテル(ii2°C) ジエチレングリコールメチルエチルエーテル(170〜
/10 ’Cl ジエチレンクリコールジエチルエーテル(/rlr、
タ ’c) ジエチレングリコールモノインプロピルエーテル(20
7,3°C) プロピレングリコール(/lr1.2 °C)プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート(/弘よ、
≠00) プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノブチルエーテル(/7/、/
’C) ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(lり0
°C) ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(lり7.
r’C) ジエチレングリコールジメチルエーテル、シフロピレン
クリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールジエチルエーテル、ヘキシレングリコール (/り7./ 0C) 3−メトキシ−3−メトキシプタノール(77弘 ’c
) N、N−ジメチルホルムアミド(/弘り、A’C)ジメ
チルスルホキシド(/rり0C) γ−ブチロラクトン(2o3〜コO弘 00)γ−バレ
ロラクトン(2o夕〜207 °C)などをあげること
ができる。
これらの中で、沸点が≠o ’C以上10o 0C未満
の範囲である有機溶剤(1)は乾燥に際して(ii)お
よび(iiりの有+8i浴剤エリ速く蒸発するため、制
約条件はないが、有機溶剤(!1)お工びG+i)は、
感光性組成物を良好に溶解する浴剤をそれぞれ少なくと
も/椎含有する必要があり、特にそれぞれ24以上官有
する場合、(ii)おLび411)の群の中で最も沸点
の高いものが感光性組成物を良好に溶解するものである
必要がある。
の範囲である有機溶剤(1)は乾燥に際して(ii)お
よび(iiりの有+8i浴剤エリ速く蒸発するため、制
約条件はないが、有機溶剤(!1)お工びG+i)は、
感光性組成物を良好に溶解する浴剤をそれぞれ少なくと
も/椎含有する必要があり、特にそれぞれ24以上官有
する場合、(ii)おLび411)の群の中で最も沸点
の高いものが感光性組成物を良好に溶解するものである
必要がある。
感光性組成物を良好に溶解する溶剤として(10群とし
てはケトン類、エステル類、エチレングリコール(又ハ
プロピレングリコール)モノ(C1〜C2)アルキルエ
ーテル又はジエチルエーテルなどをあげることができ、
ケトン類、エチレングリコール(又はプロピレンクリコ
ール)モノ(C1〜C2)アルキルエーテルが好ましく
、メチルインブチルケトン、プロピレングリコール七ツ
メチル(又はエチル)エーテルが最も好ましい。
てはケトン類、エステル類、エチレングリコール(又ハ
プロピレングリコール)モノ(C1〜C2)アルキルエ
ーテル又はジエチルエーテルなどをあげることができ、
ケトン類、エチレングリコール(又はプロピレンクリコ
ール)モノ(C1〜C2)アルキルエーテルが好ましく
、メチルインブチルケトン、プロピレングリコール七ツ
メチル(又はエチル)エーテルが最も好ましい。
を友(i+1)(i)群としてはケトン類、エチレング
リコール(又ハプロピレングリコール)モノ(Ca−C
a)アルキルエーテル又はモノ(C1−C4)アルキル
エーテルアセテート又はジエチレンクリコール(又ハシ
フロピレンゲリコール)モノ(C1〜C3)アルキルエ
ーテル又はジ(C1〜C2)アルキルエーテル又はメチ
ルエチルエーテル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、γ−ブチロラクトンなどをあげる
ことができ、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジ
アセトンアルコール、エチレンクリコールモノ(CI−
C4)アルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコ
ール(又t−t、ジプロピレングリコール)ジ(C1〜
C2)アルキルエーテル又はメチルエチルエーテル、N
、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
γ−ブチロラクトンが好ましい。
リコール(又ハプロピレングリコール)モノ(Ca−C
a)アルキルエーテル又はモノ(C1−C4)アルキル
エーテルアセテート又はジエチレンクリコール(又ハシ
フロピレンゲリコール)モノ(C1〜C3)アルキルエ
ーテル又はジ(C1〜C2)アルキルエーテル又はメチ
ルエチルエーテル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、γ−ブチロラクトンなどをあげる
ことができ、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジ
アセトンアルコール、エチレンクリコールモノ(CI−
C4)アルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコ
ール(又t−t、ジプロピレングリコール)ジ(C1〜
C2)アルキルエーテル又はメチルエチルエーテル、N
、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
γ−ブチロラクトンが好ましい。
本発明において使用される混合溶剤の割合は、使用され
る全溶剤の重量に基づいて、それぞれの群の合計が (1)20〜70重t% (ii)10〜79重1jk% (lii)O,/〜30嵐瀘チ である。(1)群において、沸点は≠0°C以上lOo
’C未満であるが、tao 0C未満の溶剤では塗布
時冷却が必要となり製造が困難となる。便用量は多い程
乾燥負荷が軽減されるが1.物、速な乾燥に工って均一
な膜厚が得られにくくなる。(1)#が20重量%より
少ないと乾燥負荷が大きすぎ、逆に70重址%より多く
なると均一な膜厚が得られにくくなる。(1)群を多量
に便用する場合は先に説明した工うなフッ素系界面活性
剤を添加することが好ましい。(ii)群において沸点
は1000C以上l≠o 0C未満であるが、便用量は
10〜7り重量%であり、70重量%より少なくなると
(1)群の量が不十分な時乾燥負荷が大きすぎ、逆に(
1)群の量が十分な場合中群から(Iil)群への急激
な溶剤組成変化の之め十分な性能が得られなくなる。ま
た75PM it 1以上の場合1″!i燥負荀が大き
くなってしまう。
る全溶剤の重量に基づいて、それぞれの群の合計が (1)20〜70重t% (ii)10〜79重1jk% (lii)O,/〜30嵐瀘チ である。(1)群において、沸点は≠0°C以上lOo
’C未満であるが、tao 0C未満の溶剤では塗布
時冷却が必要となり製造が困難となる。便用量は多い程
乾燥負荷が軽減されるが1.物、速な乾燥に工って均一
な膜厚が得られにくくなる。(1)#が20重量%より
少ないと乾燥負荷が大きすぎ、逆に70重址%より多く
なると均一な膜厚が得られにくくなる。(1)群を多量
に便用する場合は先に説明した工うなフッ素系界面活性
剤を添加することが好ましい。(ii)群において沸点
は1000C以上l≠o 0C未満であるが、便用量は
10〜7り重量%であり、70重量%より少なくなると
(1)群の量が不十分な時乾燥負荷が大きすぎ、逆に(
1)群の量が十分な場合中群から(Iil)群への急激
な溶剤組成変化の之め十分な性能が得られなくなる。ま
た75PM it 1以上の場合1″!i燥負荀が大き
くなってしまう。
Qll)群において、沸点は/≠0°C以上210<C
未満であるが21066以上の浴剤の場合乾燥負荷が大
きくなつtす、十分に乾燥しても多量に残留して感光膜
強度を低下させることになる。便用1は0.1〜3ON
t′%であるが、0.1重量チェり少ないと効果が十分
でなく、逆に30重17に%ニジ多くなると乾燥負荷が
多くなる。一般に6!1)群の中で低い沸点のもの(/
≠0〜izo 0c)は多t(j〜30重t%)に便用
する必要があり逆に高い沸点のもの(710〜210″
C)は少量(O0/〜!重量%)で効果があり、多電に
入れると乾燥負荷が大きくなったり乾燥後多蕾に残留す
る結果となる。この次め、沸点/jO°以上/lO°C
未満のものが好ましくジエチレングリコールジメチルエ
ーテル(沸点/12 °C)は広範囲の添加量で安定し
念良好な性能結果を得た。
未満であるが21066以上の浴剤の場合乾燥負荷が大
きくなつtす、十分に乾燥しても多量に残留して感光膜
強度を低下させることになる。便用1は0.1〜3ON
t′%であるが、0.1重量チェり少ないと効果が十分
でなく、逆に30重17に%ニジ多くなると乾燥負荷が
多くなる。一般に6!1)群の中で低い沸点のもの(/
≠0〜izo 0c)は多t(j〜30重t%)に便用
する必要があり逆に高い沸点のもの(710〜210″
C)は少量(O0/〜!重量%)で効果があり、多電に
入れると乾燥負荷が大きくなったり乾燥後多蕾に残留す
る結果となる。この次め、沸点/jO°以上/lO°C
未満のものが好ましくジエチレングリコールジメチルエ
ーテル(沸点/12 °C)は広範囲の添加量で安定し
念良好な性能結果を得た。
本発明の溶剤組成で塗布後急速な乾燥を行なうと、乾燥
負荷が小さく、乾燥後十分な性能を得ることができる。
負荷が小さく、乾燥後十分な性能を得ることができる。
これは、適度な溶剤組成比の変化を伴ないながら乾燥さ
れる友め、乾燥後工り均一な感光膜を得ることができる
と考えられる。
れる友め、乾燥後工り均一な感光膜を得ることができる
と考えられる。
上記の混合溶剤に前述の感光性組成vlJをコ〜jO重
tチの固形分濃度で溶解または分散して、支持体上に塗
布・乾燥される。
tチの固形分濃度で溶解または分散して、支持体上に塗
布・乾燥される。
櫃布方法としてはロールコーティング、リバースロール
コーティング、ディップコーティング、エアナイフコー
ティング、グラビアコーティング、グラビアオフセット
コーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーテ
ィング、ロッドコーティング、ワイヤドクターコーティ
ング、スプレーコーティング、カーテ/コーティング、
押出コーティング等の方法が用いられ、特に10at/
m2〜100m1/@2の塗布液量の範囲が好適である
。
コーティング、ディップコーティング、エアナイフコー
ティング、グラビアコーティング、グラビアオフセット
コーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーテ
ィング、ロッドコーティング、ワイヤドクターコーティ
ング、スプレーコーティング、カーテ/コーティング、
押出コーティング等の方法が用いられ、特に10at/
m2〜100m1/@2の塗布液量の範囲が好適である
。
乾燥は加熱され友空気によって行なわれる。加熱は30
0C−コoo 0C特に、ダo ’C〜/≠o ’Cの
範囲が好適である。乾燥の温変は乾燥中一定にIj之れ
る方法だけでなく段階的に上昇させる方法も実施し得る
。
0C−コoo 0C特に、ダo ’C〜/≠o ’Cの
範囲が好適である。乾燥の温変は乾燥中一定にIj之れ
る方法だけでなく段階的に上昇させる方法も実施し得る
。
又、乾燥風は除湿することによって好結果が得られる場
合もある。加熱された空気は塗布面に対しo、/、/抄
〜307FL/秒とくにo、ryl/秒〜、20m/秒
の開会で供給するのが好】Aである。
合もある。加熱された空気は塗布面に対しo、/、/抄
〜307FL/秒とくにo、ryl/秒〜、20m/秒
の開会で供給するのが好】Aである。
本発明にエフ、乾燥負荷を軽減することに工り乾燥設備
の簡略化をはかるとともに、28版としての性能を十分
に発揮させることができ友。
の簡略化をはかるとともに、28版としての性能を十分
に発揮させることができ友。
更に本発明は、帯状の支持体fr:搬送し、有機溶剤に
溶解あるいは分散した感光性組成vlJヲ連続的に塗布
し、乾燥して得られ友感光性平版印刷版において特にそ
の効果が顕著に認められる。
溶解あるいは分散した感光性組成vlJヲ連続的に塗布
し、乾燥して得られ友感光性平版印刷版において特にそ
の効果が顕著に認められる。
以下、本発明を実施例に基づいて、史に詳細に説明する
。ただし、本発明けこれらの実施例によって限定される
ものではない。なお、実施例中のチは、重量係を示すも
のである。
。ただし、本発明けこれらの実施例によって限定される
ものではない。なお、実施例中のチは、重量係を示すも
のである。
実施例/〜6お工び比較例a −c
厚さ0.3露、巾/、000mの帯状アルミニウムを搬
送し、まずro 0cに保つ次第三リン酸ナトリウムの
ios水溶液中を7分間通過させて脱脂を行なった。次
にナイロンブラシと弘OOメツシュのパミスー水W!A
慣液を用いこの表面を砂目立てし、よく水で洗滌し友。
送し、まずro 0cに保つ次第三リン酸ナトリウムの
ios水溶液中を7分間通過させて脱脂を行なった。次
にナイロンブラシと弘OOメツシュのパミスー水W!A
慣液を用いこの表面を砂目立てし、よく水で洗滌し友。
この板を、≠s ’Cの2J′チ水酸化す) IJウム
水溶液にり秒間浸漬してエツチングを行ない、水洗後、
更に20%硝酸に20秒間浸漬して水洗し次。この時の
砂目立て表面のエツチング量は約1t/m2であり几。
水溶液にり秒間浸漬してエツチングを行ない、水洗後、
更に20%硝酸に20秒間浸漬して水洗し次。この時の
砂目立て表面のエツチング量は約1t/m2であり几。
次にこの板27%硝酸を屯解決として電流密度/jA/
dm2で31/m2の直流陽極酸化皮膜を設は次後、水
洗乾燥し塗布工程に尋いた。
dm2で31/m2の直流陽極酸化皮膜を設は次後、水
洗乾燥し塗布工程に尋いた。
塗布工程においては、次の塗布液が準備され念。
感光液
注■ 米国特許第3.1,3j、702号明細書中、実
施例1に記載されているもの 注■ 米国特許第≠、/23,27り号明細書に記載さ
れているもの 注■ N−iチルはルフルオロオクタンスルホンアミド
エチルアクリレート (CaF 175O2N(C4Hg )CH2O(20
COCH(′H2)jO% ポリ(オキシアルキレン)アクリレー ト(にト(30(CzH40)7COCH=C)12
) j Oタレの共重合体(分子!2万) 上記塗布液を砂目室てされt帯状アルミニウム上に連続
的に3017g12の割合で塗布した後、700 °C
の熱風の乾燥ゾーンを≠!秒又は7分間通過させること
によって乾燥し、感光層を形成し次。
施例1に記載されているもの 注■ 米国特許第≠、/23,27り号明細書に記載さ
れているもの 注■ N−iチルはルフルオロオクタンスルホンアミド
エチルアクリレート (CaF 175O2N(C4Hg )CH2O(20
COCH(′H2)jO% ポリ(オキシアルキレン)アクリレー ト(にト(30(CzH40)7COCH=C)12
) j Oタレの共重合体(分子!2万) 上記塗布液を砂目室てされt帯状アルミニウム上に連続
的に3017g12の割合で塗布した後、700 °C
の熱風の乾燥ゾーンを≠!秒又は7分間通過させること
によって乾燥し、感光層を形成し次。
表中残留溶剤量は一定面積のプレート?ガスクロマトグ
ラフィ分析に工す求めtものである。現像許容性はlJ
tM差0./jのグレースケール(富士写真フィルム@
製)を焼付けた後同社製現像液DP−≠(/:、1’)
、2J−’Cにて皿現像に工り30秒と!分間とのベタ
段数の変化を求めたもので数値が低い程許容性が広いこ
とを意味する。
ラフィ分析に工す求めtものである。現像許容性はlJ
tM差0./jのグレースケール(富士写真フィルム@
製)を焼付けた後同社製現像液DP−≠(/:、1’)
、2J−’Cにて皿現像に工り30秒と!分間とのベタ
段数の変化を求めたもので数値が低い程許容性が広いこ
とを意味する。
現像処理能力は同社製自動現像機100μDr−≠(/
:f)コz ’C弘θ秒処理にて7時間当シ0.jm2
処理をし、現像不良になるまでの処理能力を示し友もの
で良好なものはより多くの処理ができたことを意味する
。感光膜強度は未露光部の感光膜にボールはンで厭記後
DP−弘(l:?)λr ’C弘θ秒処理金行ない感光
膜の状態を観察し友もので、艮好なものは、何ら影響を
うけなかつ念のに対し、悪いものは筆記部分が現f象除
去されていた。インキ受容性は、露光・現像後、富士写
真フィルム社製ガム(GP)t−塗布して/週間後印刷
を行ない、インキが完全に付着するまでの状態を調べ比
ものである。
:f)コz ’C弘θ秒処理にて7時間当シ0.jm2
処理をし、現像不良になるまでの処理能力を示し友もの
で良好なものはより多くの処理ができたことを意味する
。感光膜強度は未露光部の感光膜にボールはンで厭記後
DP−弘(l:?)λr ’C弘θ秒処理金行ない感光
膜の状態を観察し友もので、艮好なものは、何ら影響を
うけなかつ念のに対し、悪いものは筆記部分が現f象除
去されていた。インキ受容性は、露光・現像後、富士写
真フィルム社製ガム(GP)t−塗布して/週間後印刷
を行ない、インキが完全に付着するまでの状態を調べ比
ものである。
なお、現像処理能力、感光膜強度お工びインキ受容性は
A(非常に良好)からF(悪い)までの6段階で示した
。
A(非常に良好)からF(悪い)までの6段階で示した
。
比較例Cが従来の技術である。これを短時間乾燥を行な
ったbは現像許容性、感光膜強度、インキ受容性が劣化
していることがわかる。
ったbは現像許容性、感光膜強度、インキ受容性が劣化
していることがわかる。
これに対して溶剤をプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルにした比較例aでは、沸点が下がっているにもか
かわらず、逆に残留溶剤量は増加し、しかも、現像許容
性、処理能力、感光膜強度インキ受容性が大きく劣る結
果となってしまったこれに対して本発明のジエチレング
リコールジメチルエーテルおよびエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテートを適当量添加したものは短
時間乾燥にもかかわらず、比較例a、bに比べ性能が向
上していることがわかる。
ーテルにした比較例aでは、沸点が下がっているにもか
かわらず、逆に残留溶剤量は増加し、しかも、現像許容
性、処理能力、感光膜強度インキ受容性が大きく劣る結
果となってしまったこれに対して本発明のジエチレング
リコールジメチルエーテルおよびエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテートを適当量添加したものは短
時間乾燥にもかかわらず、比較例a、bに比べ性能が向
上していることがわかる。
また、意外VCも高沸点溶剤を添加したにもかかわらず
、比較例a、bと比ベトータルの残留溶剤量としても減
少していることがわかる。高沸点溶剤の添加により性能
が向上するのは、乾燥過程における適度な溶剤組成の変
化によって残留溶剤の減少および均一な感光膜質を得る
ことができるためであると考えられる。
、比較例a、bと比ベトータルの残留溶剤量としても減
少していることがわかる。高沸点溶剤の添加により性能
が向上するのは、乾燥過程における適度な溶剤組成の変
化によって残留溶剤の減少および均一な感光膜質を得る
ことができるためであると考えられる。
実施例7
実施例/−4において、混合溶剤を次の組成で同様に塗
布・乾燥したところ、比較例aと比べ現像許容性向上が
認められた。
布・乾燥したところ、比較例aと比べ現像許容性向上が
認められた。
実施例t、り
実施例/〜乙において混合溶剤を次の組成で同様に塗布
・乾燥したところ比較例aと比べ実施例tでは、現像処
理能力、膜強度、実施例りでは現像処理能力、膜強度、
インキ受容性の向上が認められた。
・乾燥したところ比較例aと比べ実施例tでは、現像処
理能力、膜強度、実施例りでは現像処理能力、膜強度、
インキ受容性の向上が認められた。
実施例10
実施例3においてフッ素系界面活性剤の分子量を5万と
し、混合溶剤を次の組成で塗布・乾燥したところ、実施
例3と同様良好な結果を得た。
し、混合溶剤を次の組成で塗布・乾燥したところ、実施
例3と同様良好な結果を得た。
実施例//〜13
次の混合溶剤を使用したところ良好な結果を得た。
手続補正書
1、事件の表示 昭和67年特願第3t≠17号
2、発明の名称 ポジWg光性組成物3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人性 所 神奈
川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒106東京都港
区西麻布2丁目26番30号4、補正の対象 明細書
の「発明の詳細な説明」の欄 j、補正の内容 (1)第2頁り行の r S t O2/ s 142 rsioz/SiJ に補正する。
2、発明の名称 ポジWg光性組成物3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人性 所 神奈
川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒106東京都港
区西麻布2丁目26番30号4、補正の対象 明細書
の「発明の詳細な説明」の欄 j、補正の内容 (1)第2頁り行の r S t O2/ s 142 rsioz/SiJ に補正する。
(2)同頁/を行の
「以下」の前に
「(」
を挿入する。
(3) 第ぶ頁!行の
「含」を
「有」
「米国特許第」の次に
「3.O弘6.へU号及び同」
「”トリント”(Toriton(0−ムーアンド・ハ
ース(Rohm and Hass)Co。
ース(Rohm and Hass)Co。
!1り〕」 を
「”トリトン”(Triton(ローム・アンド−ハー
ス(Rohm and Haas)Co。
ス(Rohm and Haas)Co。
製)〕」
に補正する。
(6)第30頁/3行の
「/3弘、rJを
「12≠、≠」
に補正する。
(7)第3j頁l!行の
「必要がある。」を
「ことが好ましい。」
に補正する。
(8)第弘/頁/を行の
「−アセテート」を
「−アセトン」
に補正する。
(9)第4cj頁を行の
「♂00μ DPJft
[♂ooU、DPJ
に補正する。
(101第≠を貞3行の
「示した。」の次に
rA−Dは使用可能であるが、E及びFは実用上使用で
きないレベルである。」 を挿入する。
きないレベルである。」 を挿入する。
以上
Claims (4)
- (1)(i)沸点が40℃以上100℃未満の範囲であ
る有機溶剤、 (ii)沸点が100℃以上140℃未満の範囲である
有機溶剤、および (iii)沸点が140℃以上210℃未満の範囲であ
る有機溶剤 を各々少なくとも1種含有することを特徴とするポジ型
感光性組成物。 - (2)各有機溶剤成分が全有機溶剤の総重量に基づいて (i)が20〜70重量%、 (ii)が10〜79重量%、かつ (iii)が0.1〜30重量% の範囲であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の感光性組成物。 - (3)ポジ型感光性組成物がo−キノンジアジド化合物
からなるものであることを特徴とする特許請求範囲第1
項記載の感光性組成物。 - (4)ポジ型感光性組成物がo−キノンジアジド化合物
とフェノール性樹脂からなることを特徴とする特許請求
範囲第1項記載の感光性組成物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3641786A JPS62194249A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | ポジ型感光性組成物 |
US07/013,533 US4845008A (en) | 1986-02-20 | 1987-02-11 | Light-sensitive positive working, o-guinone diazide presensitized plate with mixed solvent |
DE3705342A DE3705342C2 (de) | 1986-02-20 | 1987-02-19 | Positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3641786A JPS62194249A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62194249A true JPS62194249A (ja) | 1987-08-26 |
Family
ID=12469248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3641786A Pending JPS62194249A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62194249A (ja) |
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JPH0196646A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-14 | Hitachi Ltd | フオトレジスト組成物 |
JPH01262536A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジスト材料及びその製造方法 |
JPH02131174A (ja) * | 1988-11-09 | 1990-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真感光性帯状物の乾燥方法 |
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JP2008537597A (ja) * | 2005-02-02 | 2008-09-18 | コーロン インダストリーズ,インコーポレイテッド | 表示装置用アレイ基板の製造方法 |
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JPS60263143A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-26 | ローム アンド ハース コンパニー | 熱安定性重合体像及びその形成方法 |
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JPS617837A (ja) * | 1984-06-11 | 1986-01-14 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | ポジ型の感放射被覆液 |
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1986
- 1986-02-20 JP JP3641786A patent/JPS62194249A/ja active Pending
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