JPS616648A - ポジ作用を有する放射線感受性塗布溶液 - Google Patents
ポジ作用を有する放射線感受性塗布溶液Info
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- JPS616648A JPS616648A JP12163585A JP12163585A JPS616648A JP S616648 A JPS616648 A JP S616648A JP 12163585 A JP12163585 A JP 12163585A JP 12163585 A JP12163585 A JP 12163585A JP S616648 A JPS616648 A JP S616648A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、特にフォトレジスト層の製造に適当なポジ作
用を有する放射線感受性(radiation−sen
sitive)塗布溶液に関する。
用を有する放射線感受性(radiation−sen
sitive)塗布溶液に関する。
従来の技術
化学線に暴露した際に強酸を形成する化合物と組合せた
、ナフトキノンジアジド又は酸によって分解可能の化合
物を基剤とするポジ作用を有するフォトレジスト溶液は
公知である。このような溶液は、プリント回路、ミクロ
゛成子部品の製造において、また蝕刻用等で広範囲に使
用される。
、ナフトキノンジアジド又は酸によって分解可能の化合
物を基剤とするポジ作用を有するフォトレジスト溶液は
公知である。このような溶液は、プリント回路、ミクロ
゛成子部品の製造において、また蝕刻用等で広範囲に使
用される。
これらの応用分野で感光性(photosensiti
ve)塗布溶液は通常メーカーによって供給され、次に
ニーデーが適当なノー支持体、例えば珪累つエーファ又
は絶縁材料の銅張シ積l繭板上に該溶液全塗布し、層を
乾燥させる。もちろん、このような単一塗布法は、プレ
センシクイズ印刷版又は乾燥抵抗膜の製造において慣用
の、連続法による無端支持体の工業的塗布よりも実施困
難で6Cかつ障害を受は中すい。個々の支持体がニーデ
ーによって塗布される場合、正確に再現可能な標準的塗
布条件を維持することはむしろ常に困j維であろう。塗
布のIIK生じる諸雌点は、固体層成分の種類°及び蓋
によって惹起されるばかpでなく、普通有機溶剤の種類
属よっても相当程度惹起される。少数の支持体を堕布す
るのみの多数のニーデーは、溶剤蒸気の回収又は環境的
に安全な処理のための設備を有しないので、健康に有害
でない溶剤のみが許されている。実験室で許容される有
機溶剤の基準が近年可成り高くなったので、選択が厳し
く制限されるようになった。他方、溶液は、d度及び乾
燥条件がともかく同じでない場合にも、できるだけ均一
でろって、たてすしを含まない層を与えるように乾燥す
ることが期待される。この目的を達成するための試みは
、これまで普通は、ノー成分に関して異なる溶解力を有
する故成分から成る溶剤混合物を提供することにあった
。
ve)塗布溶液は通常メーカーによって供給され、次に
ニーデーが適当なノー支持体、例えば珪累つエーファ又
は絶縁材料の銅張シ積l繭板上に該溶液全塗布し、層を
乾燥させる。もちろん、このような単一塗布法は、プレ
センシクイズ印刷版又は乾燥抵抗膜の製造において慣用
の、連続法による無端支持体の工業的塗布よりも実施困
難で6Cかつ障害を受は中すい。個々の支持体がニーデ
ーによって塗布される場合、正確に再現可能な標準的塗
布条件を維持することはむしろ常に困j維であろう。塗
布のIIK生じる諸雌点は、固体層成分の種類°及び蓋
によって惹起されるばかpでなく、普通有機溶剤の種類
属よっても相当程度惹起される。少数の支持体を堕布す
るのみの多数のニーデーは、溶剤蒸気の回収又は環境的
に安全な処理のための設備を有しないので、健康に有害
でない溶剤のみが許されている。実験室で許容される有
機溶剤の基準が近年可成り高くなったので、選択が厳し
く制限されるようになった。他方、溶液は、d度及び乾
燥条件がともかく同じでない場合にも、できるだけ均一
でろって、たてすしを含まない層を与えるように乾燥す
ることが期待される。この目的を達成するための試みは
、これまで普通は、ノー成分に関して異なる溶解力を有
する故成分から成る溶剤混合物を提供することにあった
。
層の漸次的凝固が乾燥過程で起こるような蒸発回数によ
り、個々のノー成分の早期分離による不均一が回着され
る。このような理由で実地で使用される商業的に入手可
能な、フォトレジスト溶液は溶剤混合物を含有する。
り、個々のノー成分の早期分離による不均一が回着され
る。このような理由で実地で使用される商業的に入手可
能な、フォトレジスト溶液は溶剤混合物を含有する。
米国特許第5,654,082号には、1.2−キノン
ジアジrを基剤とするポジ作用を有するフォトレゾスト
溶液用の適当な溶剤として、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル
、脂肪族エステル、例えば酢酸エチル、脂肪族ケトン、
例えばメチル−イソブチルケトン及びアセトン、ジオキ
サン、キシレン、ハロゲン化芳香族化合物、例えば塩素
化キシレン、ベンゼン及びトルエンを記載している。
ジアジrを基剤とするポジ作用を有するフォトレゾスト
溶液用の適当な溶剤として、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル
、脂肪族エステル、例えば酢酸エチル、脂肪族ケトン、
例えばメチル−イソブチルケトン及びアセトン、ジオキ
サン、キシレン、ハロゲン化芳香族化合物、例えば塩素
化キシレン、ベンゼン及びトルエンを記載している。
基本的には、米国特許第4,101,525号及びヨー
ロッパ特許出願公開第42,562号に記と 載されている溶剤1同じ溶剤が、酸によって分解されう
る化合物を基剤とするポジ作用を有するフォトレジスト
混合物用に使用される。
ロッパ特許出願公開第42,562号に記と 載されている溶剤1同じ溶剤が、酸によって分解されう
る化合物を基剤とするポジ作用を有するフォトレジスト
混合物用に使用される。
一般に、工業的銘柄の7オトレジスト溶液の主要成分は
、エチレングリコール誘導体すなわちモノメチル及びモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールの相応のエー
テル又はエチレングリコールエテルエーテルアセテート
である。
、エチレングリコール誘導体すなわちモノメチル及びモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールの相応のエー
テル又はエチレングリコールエテルエーテルアセテート
である。
これらの溶剤は、すべての慣用層成分に関する良好な/
I!解力、好ましい沸点及び蒸発数、及び妥当な値段忙
よって優れている。しかし、これらの組成物を用いて得
られた層はすべての場合に欠点がないわけではない。さ
らに最近、実験室の周囲空気中での前記組成物の濃度に
関する許容可能な値も減少している。
I!解力、好ましい沸点及び蒸発数、及び妥当な値段忙
よって優れている。しかし、これらの組成物を用いて得
られた層はすべての場合に欠点がないわけではない。さ
らに最近、実験室の周囲空気中での前記組成物の濃度に
関する許容可能な値も減少している。
発明の解決しようとする問題点
従って本発明の目的は、沸点、蒸気圧、溶解力及び値段
に関しては従来の好ましい溶剤に相当する溶剤を使用す
るが、さらに改善されたノ−特性が結果として得られか
つ健康にとってよシ一層有害でないフォトレジストを提
供することであった。
に関しては従来の好ましい溶剤に相当する溶剤を使用す
るが、さらに改善されたノ−特性が結果として得られか
つ健康にとってよシ一層有害でないフォトレジストを提
供することであった。
受注塗布溶液が提供される。
本発明による塗布溶液は、グリコールエーテル7511
,2−プロパンジオールのモノ−01〜C4アルキルエ
ーテルであることを特徴としている。好ましくはグリコ
ールエーテルはモノ−cl又はC2アルキルエーテル、
特にモノメチルエーテルでるる。
,2−プロパンジオールのモノ−01〜C4アルキルエ
ーテルであることを特徴としている。好ましくはグリコ
ールエーテルはモノ−cl又はC2アルキルエーテル、
特にモノメチルエーテルでるる。
アルキルエーテル基は、プロパンジオールの1位又は2
位に存在することができ、モノメチルエーテルの場合に
は、より容易に入手できる1−メトキシ−プロパン−2
−オールが一般に好ましい。また2種のメチル異性体の
混合物及ヒ/又はプロパンジオールのモノ−C1〜C4
−アルキルエーテルの混合物も使用することができる。
位に存在することができ、モノメチルエーテルの場合に
は、より容易に入手できる1−メトキシ−プロパン−2
−オールが一般に好ましい。また2種のメチル異性体の
混合物及ヒ/又はプロパンジオールのモノ−C1〜C4
−アルキルエーテルの混合物も使用することができる。
上記溶剤は商業的に入手することができる。
プラントの実験室における周囲大気中で同溶剤に許され
る最大濃度は、従来用いられたエチレングリコールエー
テルの最大濃度よりも高い。
る最大濃度は、従来用いられたエチレングリコールエー
テルの最大濃度よりも高い。
また、多くの場合、特にこれらの溶剤が塗布において使
用される唯一の溶剤である場合には、エチレングリコー
ルの相応のエーテルよりも均一な均展性を有する塗布溶
液及びよシ均質な層を生じることも極めて有利である。
用される唯一の溶剤である場合には、エチレングリコー
ルの相応のエーテルよりも均一な均展性を有する塗布溶
液及びよシ均質な層を生じることも極めて有利である。
塗布溶液の有オリな性質は、プロパンジ゛オールモノー
アルキルエーテルの1部分が他の慣用な補助溶剤、すな
わちエステル例えば酢岐ゾチル、炭化水素例えばΦシレ
ン、ケトン例えばアセトン又はブタノン、アルコール又
は或種のアルコキシアルキルエステル例えば3−メトキ
シ−ジチルアセテートによって取カ換えられる場合にも
保存される。所望の場合には、該溶液の湿潤性、流動性
及び蒸発性がこのようにして各場合に改質されうる。こ
れらの添加溶剤の添加量はともがく50重′1にチ未満
でなければならない。好ましくは前記添加量は、溶剤混
合物の重量に関して0〜65重i11′チ、特に0〜2
0重量%である。従って本発明による溶剤又は溶剤混合
物は、1゜2−プロパンジオールモノ−C1〜C4−ア
ルキルエーテル、好ましくは1,2−プロパンジオール
モノメチル及び/又はモノエチルエーテル65〜100
重:m:チを官有する。また、例えば層の柔軟性を高沸
点アルコール又はエーテル(その少量、例えば1〜2チ
は乾燥後に層中に残存する)を加えることによって増大
させることもできる。所望の場合には、蒸発速度を低沸
点溶剤、例えば6−ブタノールを加えることによって加
速することができる。
アルキルエーテルの1部分が他の慣用な補助溶剤、すな
わちエステル例えば酢岐ゾチル、炭化水素例えばΦシレ
ン、ケトン例えばアセトン又はブタノン、アルコール又
は或種のアルコキシアルキルエステル例えば3−メトキ
シ−ジチルアセテートによって取カ換えられる場合にも
保存される。所望の場合には、該溶液の湿潤性、流動性
及び蒸発性がこのようにして各場合に改質されうる。こ
れらの添加溶剤の添加量はともがく50重′1にチ未満
でなければならない。好ましくは前記添加量は、溶剤混
合物の重量に関して0〜65重i11′チ、特に0〜2
0重量%である。従って本発明による溶剤又は溶剤混合
物は、1゜2−プロパンジオールモノ−C1〜C4−ア
ルキルエーテル、好ましくは1,2−プロパンジオール
モノメチル及び/又はモノエチルエーテル65〜100
重:m:チを官有する。また、例えば層の柔軟性を高沸
点アルコール又はエーテル(その少量、例えば1〜2チ
は乾燥後に層中に残存する)を加えることによって増大
させることもできる。所望の場合には、蒸発速度を低沸
点溶剤、例えば6−ブタノールを加えることによって加
速することができる。
フォトレジスト溶液は、公知法で、例えば浸漬、スロッ
トダイ塗布、回転塗布、吹付塗布、ローラー塗布又はフ
ローコーチングによって塗布すべき支持体に適用される
。
トダイ塗布、回転塗布、吹付塗布、ローラー塗布又はフ
ローコーチングによって塗布すべき支持体に適用される
。
大抵の場合、アルコキシゾロパノールを除く他の溶剤を
使用しないのが有利である。
使用しないのが有利である。
本発明による溶液の全固体分は一般に10〜500〜5
0重量%くは15〜65重量%の間で各場合に使用され
る感光性化合物の種類及びバインダーならびに意図せる
用途に依存して変化する。
0重量%くは15〜65重量%の間で各場合に使用され
る感光性化合物の種類及びバインダーならびに意図せる
用途に依存して変化する。
さらに本発明による塗布溶液は、放射線感受性(rad
iation 5ensitive)−又は感光性(p
ho to −5ensitive)化合物又は化合物
の放射線感受性−又は感光性組合せ物を含有する。本発
明の目的にとってはポジ作用を有する化合物、即ち露光
によって可溶化される化合物が適当である。
iation 5ensitive)−又は感光性(p
ho to −5ensitive)化合物又は化合物
の放射線感受性−又は感光性組合せ物を含有する。本発
明の目的にとってはポジ作用を有する化合物、即ち露光
によって可溶化される化合物が適当である。
これらの化合物には、1.2−キノンニジアジド及び光
分解性酸供与体及び酸によって分解されうる化合物、す
なわちオルト−カルボン酸化合物及びアセタール化合物
の組合せ物が包含される。
分解性酸供与体及び酸によって分解されうる化合物、す
なわちオルト−カルボン酸化合物及びアセタール化合物
の組合せ物が包含される。
1.2−キノン−ジアジドは公知であり、例えば西独−
特許第938,233号及び同第1.543,271号
及び西独国特許出願公開第2,331,377号、同第
2,547,905号及び同第2,828,037号に
記載されている。好ましい1,2−キノン−ジアジrは
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−又
は−5−スルホン酸エステル又はアミドである。これら
の中でエステル、特にスルホン酸のエステルが特に好ま
しい。一般に、1.2−キノン−ジアジド化合物の量は
、混合物の非揮発性成分に対して3〜50重量%、7〜
65重量%である。
特許第938,233号及び同第1.543,271号
及び西独国特許出願公開第2,331,377号、同第
2,547,905号及び同第2,828,037号に
記載されている。好ましい1,2−キノン−ジアジrは
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−又
は−5−スルホン酸エステル又はアミドである。これら
の中でエステル、特にスルホン酸のエステルが特に好ま
しい。一般に、1.2−キノン−ジアジド化合物の量は
、混合物の非揮発性成分に対して3〜50重量%、7〜
65重量%である。
また、酸によって分解されうる化合物を基剤とする塗布
溶液も公知であって、例えば米国特許第5.779,7
78号及び同第4,101,323号、西独国特許第2
,718.254号及び西独国特許出願公開第2,82
9,512号及び第2.829,511号に記載されて
いる。塗布溶液は、酸によって分解されうる化合物とし
て、オルト−カルボン酸誘導体、モノマー又はポリマー
アセタール、エノールエーテル又はアシルイミノカルボ
ネートを含有する。該溶液は、放射線感受性でありかつ
酸を脱離する化合物として、主として有機ハロゲン化合
物、特にノ10デンメチル基によって置換される8−ト
リアジン又は2−トリクロロメチル−1,5,4−オキ
サジアゾールを含有する。米国特許第4,101,32
3号に記載されたオルトカルボン酸誘導体の中では、脂
肪族ジオールのビス−1,3−ジオキサン−2−イルエ
ーテルが特に好ましい。西独国特許第2,718,25
4号に記載されたポリアセタールの中では、脂肪族アル
デヒr及びジオール単位を含むポリアセタールが好まし
い。
溶液も公知であって、例えば米国特許第5.779,7
78号及び同第4,101,323号、西独国特許第2
,718.254号及び西独国特許出願公開第2,82
9,512号及び第2.829,511号に記載されて
いる。塗布溶液は、酸によって分解されうる化合物とし
て、オルト−カルボン酸誘導体、モノマー又はポリマー
アセタール、エノールエーテル又はアシルイミノカルボ
ネートを含有する。該溶液は、放射線感受性でありかつ
酸を脱離する化合物として、主として有機ハロゲン化合
物、特にノ10デンメチル基によって置換される8−ト
リアジン又は2−トリクロロメチル−1,5,4−オキ
サジアゾールを含有する。米国特許第4,101,32
3号に記載されたオルトカルボン酸誘導体の中では、脂
肪族ジオールのビス−1,3−ジオキサン−2−イルエ
ーテルが特に好ましい。西独国特許第2,718,25
4号に記載されたポリアセタールの中では、脂肪族アル
デヒr及びジオール単位を含むポリアセタールが好まし
い。
さらに1極めて適当な混合物が西独国特許出願公開第2
,928.636号に記載されている。
,928.636号に記載されている。
これには、酸によって分解されうる化合物として、主鎖
に反復オルトエステル基を有するポリマーオルトエステ
ルが記載されている。これらの基は5又は6個の環員を
有する1、3−ジオキサジルコアルカンの2−アルキル
エーテルである。特に、アルキルエーテル基がエーテル
酸素原子によって中断されていてもよくかつ好ましくは
隣接環の5位に結合されている反復1゜3−ジオキサ−
シクロヘキシ−2−イルアルキルエーテル単位を有する
ポリマーが好ましい。
に反復オルトエステル基を有するポリマーオルトエステ
ルが記載されている。これらの基は5又は6個の環員を
有する1、3−ジオキサジルコアルカンの2−アルキル
エーテルである。特に、アルキルエーテル基がエーテル
酸素原子によって中断されていてもよくかつ好ましくは
隣接環の5位に結合されている反復1゜3−ジオキサ−
シクロヘキシ−2−イルアルキルエーテル単位を有する
ポリマーが好ましい。
感光性混合物中で酸によって分解されうる化合物の割合
は、一般に、該混合物の非揮発性成分に関して8〜65
重量%、好ましくは14〜44重量%である。酸を脱離
する化合物の量は、0.1〜10重iチ、好ましくは肌
2〜5重量%である。
は、一般に、該混合物の非揮発性成分に関して8〜65
重量%、好ましくは14〜44重量%である。酸を脱離
する化合物の量は、0.1〜10重iチ、好ましくは肌
2〜5重量%である。
上記感光性成分の他に、本発明による塗布組成物は、ポ
リマーバインダーを含有していてもよい。水に不溶であ
るが、アルカリ性水溶液中で可溶の又は膨潤性のポリマ
ーが有利である。
リマーバインダーを含有していてもよい。水に不溶であ
るが、アルカリ性水溶液中で可溶の又は膨潤性のポリマ
ーが有利である。
アルカリ性媒体中で可溶の又は膨潤性の適当なバインダ
ーは、天然樹脂、すなわちセラック及びロジン及び合成
樹脂、すなわちスチレンと無水マレイン酸とのコポリマ
ー又はアクリル酸又はメタクリル酸と、特にアクリル酸
及びメタクリル酸エステルとのコポリマー、及び特にノ
ボラックを含有する。ノボラック縮合樹脂については、
縮合パートナ−としての置換フェノールとホルムアルデ
ヒドとのより高度な縮合樹脂が特に有用であることが判
った。アルカリ可溶性樹脂の種類及び量は、意図せる用
途に極めて依存しうる。好ましくは全固体中の樹脂の割
合は60〜90重量%、特に55〜85重蓋チである。
ーは、天然樹脂、すなわちセラック及びロジン及び合成
樹脂、すなわちスチレンと無水マレイン酸とのコポリマ
ー又はアクリル酸又はメタクリル酸と、特にアクリル酸
及びメタクリル酸エステルとのコポリマー、及び特にノ
ボラックを含有する。ノボラック縮合樹脂については、
縮合パートナ−としての置換フェノールとホルムアルデ
ヒドとのより高度な縮合樹脂が特に有用であることが判
った。アルカリ可溶性樹脂の種類及び量は、意図せる用
途に極めて依存しうる。好ましくは全固体中の樹脂の割
合は60〜90重量%、特に55〜85重蓋チである。
またノボラックとの混合物の代シK又は同混合物中で、
ポリ(4−ビニル−7エノール)型の7エノール樹脂も
有利に使用することができる。さらに数多の他の樹脂も
併用されうる。
ポリ(4−ビニル−7エノール)型の7エノール樹脂も
有利に使用することができる。さらに数多の他の樹脂も
併用されうる。
これらの樹脂は好ましくはビニルポリマー、すなわちポ
リビニルアセテート、ポリアクリレート、ポリビニルエ
ーテル及びポリビニルピロリーンであり、これらはコポ
リマーによって再改質されうる。これらの樹脂の極めて
有利な割合は、技術的要求及び所望の現像条件に対する
影譬に依存する。一般にこの割合はアルカリ可溶性樹脂
の約20重量%未満である。柔軟性、付着性、光沢等の
特定の要求を満たすためには、感光性混合物はさらに少
量のポリグリコールのような物質、エチルセルロースの
ようなセルロース誘導体、表面活性剤、染料及び微細顔
料、及び所望ならば紫外線吸収剤を含有していてもよい
。
リビニルアセテート、ポリアクリレート、ポリビニルエ
ーテル及びポリビニルピロリーンであり、これらはコポ
リマーによって再改質されうる。これらの樹脂の極めて
有利な割合は、技術的要求及び所望の現像条件に対する
影譬に依存する。一般にこの割合はアルカリ可溶性樹脂
の約20重量%未満である。柔軟性、付着性、光沢等の
特定の要求を満たすためには、感光性混合物はさらに少
量のポリグリコールのような物質、エチルセルロースの
ようなセルロース誘導体、表面活性剤、染料及び微細顔
料、及び所望ならば紫外線吸収剤を含有していてもよい
。
本発明による溶液は、フォトレジスト技術において慣用
のすべての支持体材料、すなわち絶縁材料の銅張シ積層
板、グラビア印刷用の銅シリンダー、スクリーン印刷用
ニッケルシリンダー、アルミニウム板、ガラス板、及び
ミクロ電子工学で使用される珪素、窒化珪素及び二ば化
珪素面上に塗布することができる。また、本発明による
塗布溶液を例えば亜鉛、黄銅/クロム、アルミニウム/
銅/クロム、アルミニウム又は鋼の板に適用することに
よって凸版及びオフセット印刷版を得ることもできる。
のすべての支持体材料、すなわち絶縁材料の銅張シ積層
板、グラビア印刷用の銅シリンダー、スクリーン印刷用
ニッケルシリンダー、アルミニウム板、ガラス板、及び
ミクロ電子工学で使用される珪素、窒化珪素及び二ば化
珪素面上に塗布することができる。また、本発明による
塗布溶液を例えば亜鉛、黄銅/クロム、アルミニウム/
銅/クロム、アルミニウム又は鋼の板に適用することに
よって凸版及びオフセット印刷版を得ることもできる。
塗布された感光性材料は、長波のUV範囲又は短波の可
視範囲で最大放射を有する常用の光源によって露光され
る。また画像化は成子、X線又はレーデビームを用いて
実施することもできる。
視範囲で最大放射を有する常用の光源によって露光され
る。また画像化は成子、X線又はレーデビームを用いて
実施することもできる。
現像のために使用されかつ漸次的アルカリ性度を有し、
つまシ好ましくは10〜14の−を有しかつまた少量の
有機溶剤又は表面活性剤も含有するアルカリ性水溶液は
、複写層の光の照射された部分を除去し、これによって
原図のポジチゾ像を形成する。
つまシ好ましくは10〜14の−を有しかつまた少量の
有機溶剤又は表面活性剤も含有するアルカリ性水溶液は
、複写層の光の照射された部分を除去し、これによって
原図のポジチゾ像を形成する。
次に実施例によp本発明の好ましい実施態様を説明する
。他に指摘がなければ割合及びパーセンテージは重量単
位を表わす。重量部(p、b。
。他に指摘がなければ割合及びパーセンテージは重量単
位を表わす。重量部(p、b。
w、)及び容量部(p、b、v、)はI及びぼ3と同じ
関係を有する。
関係を有する。
実施例
例 1
本例は、織物の印刷に適した回転スクリーン印刷ニッケ
ルステンシルの電気メッキによる製造を示す。
ルステンシルの電気メッキによる製造を示す。
溶液は、
ブタノン 15 p、b、w。
木画在DOW Chem、Co、 J
クリスタルバイオレット塩基 0.0 1 Nか
ら製造する。
ら製造する。
良好な表面特性を有する厚さ60〜75μmの層を、可
剥性導電層を有する稍々収縮性で光沢のあるニッケルシ
リンダ上に塗布する。この際前記塗布は、圧縮空気を用
いる吹付は塗布によって中間乾燥段階を経て2段階で行
う。乾燥の終るまでの溶液の均展時間及び層厚は、溶液
のブタノン含量を減少させることによって変えらること
かできる。シタノンが溶液中に含有されていない場合に
も、良好な表面特性を有する層が得られる。また、ブタ
ノン40 p、b、v、、β−エトキシ−エチルアセテ
ート15 p、b、W及び2−(β−エトキシ−エトキ
シ)エタノール5 p、b、wから成る混合物を、上記
塗布組成物の溶剤として使用する場合にも、層特性は優
秀である。しかし実際条件下でこれらの溶剤のうち1種
しか使用されなければ、一様に良好な特性を有する層を
得ることは困難である。
剥性導電層を有する稍々収縮性で光沢のあるニッケルシ
リンダ上に塗布する。この際前記塗布は、圧縮空気を用
いる吹付は塗布によって中間乾燥段階を経て2段階で行
う。乾燥の終るまでの溶液の均展時間及び層厚は、溶液
のブタノン含量を減少させることによって変えらること
かできる。シタノンが溶液中に含有されていない場合に
も、良好な表面特性を有する層が得られる。また、ブタ
ノン40 p、b、v、、β−エトキシ−エチルアセテ
ート15 p、b、W及び2−(β−エトキシ−エトキ
シ)エタノール5 p、b、wから成る混合物を、上記
塗布組成物の溶剤として使用する場合にも、層特性は優
秀である。しかし実際条件下でこれらの溶剤のうち1種
しか使用されなければ、一様に良好な特性を有する層を
得ることは困難である。
塗布したニッケルシリンダーを次に、印刷すべきパター
ンのポジチプ原型(その階調値が異なる目視密度(vi
sual density)を有する画像部分に変えら
れている)下に1cm当932線を有スるスクリーイに
よって適当に露光する。1゜2−ナフトキノンジアジド
を基剤としかつ前記層の半分の厚さを有するポジ作用を
有する層は4倍の露光時間を要求する。現像は、 脱イオン死水97.7チ中の NaOHO,5% メタ珪酸ナトリウムx 9 H2O0,8%及びエチレ
ングリコールモノ−n−ジチルエーテル 1.0% の溶液を用いて行う。
ンのポジチプ原型(その階調値が異なる目視密度(vi
sual density)を有する画像部分に変えら
れている)下に1cm当932線を有スるスクリーイに
よって適当に露光する。1゜2−ナフトキノンジアジド
を基剤としかつ前記層の半分の厚さを有するポジ作用を
有する層は4倍の露光時間を要求する。現像は、 脱イオン死水97.7チ中の NaOHO,5% メタ珪酸ナトリウムx 9 H2O0,8%及びエチレ
ングリコールモノ−n−ジチルエーテル 1.0% の溶液を用いて行う。
この目的のために、露光された回転シリンダーを、現像
液の半分入っている適当な寸法の容器中に浸漬する。層
の過現像抵抗性は極めて良好であって、急峻なレジスト
エツジの形成を可能にする。該シリンダーを現像液中で
6分間回転させ、次いで現像液容器を除き、該シリンダ
ーを水で洗浄しかつ空気乾燥する。
液の半分入っている適当な寸法の容器中に浸漬する。層
の過現像抵抗性は極めて良好であって、急峻なレジスト
エツジの形成を可能にする。該シリンダーを現像液中で
6分間回転させ、次いで現像液容器を除き、該シリンダ
ーを水で洗浄しかつ空気乾燥する。
シリンダーコアーの露出部分にニラ、ケルを0.1朋の
厚さまで電着する。次にシリンダーコアーを収縮させ、
レジストステ/シルをアセトンを用いて剥離しかつコア
ーから引離して弾性回転印刷ステンシルが得られる。イ
ンキは回転ステンシルの孔を通して印刷すべき織物に画
像に従って適用される。
厚さまで電着する。次にシリンダーコアーを収縮させ、
レジストステ/シルをアセトンを用いて剥離しかつコア
ーから引離して弾性回転印刷ステンシルが得られる。イ
ンキは回転ステンシルの孔を通して印刷すべき織物に画
像に従って適用される。
分解されうる化合物としてn−ヘゾタナールのポリアセ
タール及びテトラエチレングリコールを使用する場合に
も同様な結果が得られる。
タール及びテトラエチレングリコールを使用する場合に
も同様な結果が得られる。
例 2
本例によp高解像プリント回路板の製造における本発明
はよる塗布溶液のローラーコーターによる適用を説明す
る。
はよる塗布溶液のローラーコーターによる適用を説明す
る。
例1のノアドラック 64 p、b、w。
クリスタルバイオレット塩基 0.1
p、b、w。
p、b、w。
を1−メトキシプロパン−2−オールに溶シテ30%の
固体分を有する溶液を製造する。約90 ;n2/aの
粘度を有する塗布溶液が得られる。
固体分を有する溶液を製造する。約90 ;n2/aの
粘度を有する塗布溶液が得られる。
固体分40g6の相応の溶液は約200 w”/sの粘
度を有する。1−メトキシ−ゾロパノール−2の代りに
1−エトキシ−プロパノ−ルー2〔エトキシプロパノー
ルEP1 ドイツチェ(Deutsche) B Pヒ
エミー(Chemie) GmbH夷)を使用すると、
40チ塗布溶液は約320 l1lII27sの粘度を
有する。
度を有する。1−メトキシ−ゾロパノール−2の代りに
1−エトキシ−プロパノ−ルー2〔エトキシプロパノー
ルEP1 ドイツチェ(Deutsche) B Pヒ
エミー(Chemie) GmbH夷)を使用すると、
40チ塗布溶液は約320 l1lII27sの粘度を
有する。
前記組成物の溶液を、例えばAKL 400型ローラー
コーター〔西独国フロイデンシュタット在メスルス、プ
エルクレ(Messrs’、 Buerkle)社から
商業的に入手可能で、両面塗布に適しかつ2.5α当り
48〜64It!Aの溝(線状)含有する溝付ローラー
を備えている〕を用いてローラ塗布によって絶縁材料の
スルーホールメッキを施した@張9積層板に適用する場
合には、約6〜141tfnの乾燥層厚が、それぞれの
場合に使用されるレジスト溶液、溝付ローラー及び機械
調整に依存して1段塗布で得られる。また均展及び乾燥
時間は、1−メトキー又は1−エトキシ−プロパノ−ル
ー2又はこれらの混合物の適当な選択によっても影響さ
れ、プロセスサイクルの所望時間に依任する。
コーター〔西独国フロイデンシュタット在メスルス、プ
エルクレ(Messrs’、 Buerkle)社から
商業的に入手可能で、両面塗布に適しかつ2.5α当り
48〜64It!Aの溝(線状)含有する溝付ローラー
を備えている〕を用いてローラ塗布によって絶縁材料の
スルーホールメッキを施した@張9積層板に適用する場
合には、約6〜141tfnの乾燥層厚が、それぞれの
場合に使用されるレジスト溶液、溝付ローラー及び機械
調整に依存して1段塗布で得られる。また均展及び乾燥
時間は、1−メトキー又は1−エトキシ−プロパノ−ル
ー2又はこれらの混合物の適当な選択によっても影響さ
れ、プロセスサイクルの所望時間に依任する。
前記塗布溶液を用いて得られた均展性及び乾燥性は優れ
ておルかつ固体の同一混合物(しかシ、場合によりO+
1)−クロロトルエン混合物を含有していてもよい、β
−エトキシ−エチルアセテート、キシレン及び酢酸エチ
ルの慣用混合物に溶しである)を用いて得られたこれら
の特性と比較しうる。
ておルかつ固体の同一混合物(しかシ、場合によりO+
1)−クロロトルエン混合物を含有していてもよい、β
−エトキシ−エチルアセテート、キシレン及び酢酸エチ
ルの慣用混合物に溶しである)を用いて得られたこれら
の特性と比較しうる。
乾燥後、前記積層板をホール部分に相応するネガ原図下
に露光し、次にこれらの部分を例1の現像液で洗浄し、
載板を温度80℃で10分間乾燥し、次にこれに銅を遮
気メツキして補強しかつ錫を′1気メッキする。次にフ
ォトレジスト層をポジテゾ導電路原図下に露光し、前記
のようにして現像する。露出鋼をアルカリ性エツチング
剤でエッチする(選択メッキ法)。
に露光し、次にこれらの部分を例1の現像液で洗浄し、
載板を温度80℃で10分間乾燥し、次にこれに銅を遮
気メツキして補強しかつ錫を′1気メッキする。次にフ
ォトレジスト層をポジテゾ導電路原図下に露光し、前記
のようにして現像する。露出鋼をアルカリ性エツチング
剤でエッチする(選択メッキ法)。
若干の場合にフォトレジスト層の歌い稠度及び高い柔軟
性の所望される場合には、前記の単一溶剤の代シに1−
メトキシ−プロパン−2−オール851%及び2−エチ
ル−シタノール15チの混合物を使用する。この際には
乾燥後に少量(2%まで)の高沸点溶剤が層中に残存し
て可塑剤として作用する。3−メトキシ−シタノール1
0%又は3−メトキシゾチルアセテート20%を加える
ことによって同様な結果が得られる。また1−インシト
キシ−プロパノ−ルー2(iBP、?イツfx−BP−
1=エミー社製〕は混合物としても使用することができ
る。
性の所望される場合には、前記の単一溶剤の代シに1−
メトキシ−プロパン−2−オール851%及び2−エチ
ル−シタノール15チの混合物を使用する。この際には
乾燥後に少量(2%まで)の高沸点溶剤が層中に残存し
て可塑剤として作用する。3−メトキシ−シタノール1
0%又は3−メトキシゾチルアセテート20%を加える
ことによって同様な結果が得られる。また1−インシト
キシ−プロパノ−ルー2(iBP、?イツfx−BP−
1=エミー社製〕は混合物としても使用することができ
る。
例 6
インジウム−錫酸化物層を有するLCD素子調造用ガラ
ス板に、静電吹付装置で、 例1のノボラック 12 p、b、w。
ス板に、静電吹付装置で、 例1のノボラック 12 p、b、w。
から成る溶液を下記の方法で塗布する:前記溶液の限定
量を、直径60nmを有する高速回転ベル(40,00
0rpm及びi o o kvの直流電圧)及びポンプ
によって吹付けて施す。
量を、直径60nmを有する高速回転ベル(40,00
0rpm及びi o o kvの直流電圧)及びポンプ
によって吹付けて施す。
前記ベルは、接地された該ガラス板がその上で案内され
る塗布テーブルから30cIIL離れた位置に配置され
ている。前記条件下で電流は1mA未満である。0.8
〜2 Vminの前進速度及びポンプのrpmを変える
ことによって約4μm〜10μmの層厚を得ることがで
きる。約5μmの層厚を所望する場合には、適当ならば
高沸点溶剤を加えることによって、溶液の濃度を15俤
に調節するのが有利である。
る塗布テーブルから30cIIL離れた位置に配置され
ている。前記条件下で電流は1mA未満である。0.8
〜2 Vminの前進速度及びポンプのrpmを変える
ことによって約4μm〜10μmの層厚を得ることがで
きる。約5μmの層厚を所望する場合には、適当ならば
高沸点溶剤を加えることによって、溶液の濃度を15俤
に調節するのが有利である。
乾燥後、積算回伝計の表示場の供給線を表示するポジチ
プ原図下に露光を行い、次に例1の溶液を用いて現像t
−実施し、最後に露出部分からインジウム−錫酸化物を
5チ濃度の塩酸でエッチすることによって除去する。
プ原図下に露光を行い、次に例1の溶液を用いて現像t
−実施し、最後に露出部分からインジウム−錫酸化物を
5チ濃度の塩酸でエッチすることによって除去する。
例 4
同1で記載したようにして、珪累つエーファに高解像回
路パターンを施すために次のポジ作用をするフォトレジ
スト溶g、を使用する:1−メトキシープロパンー2−
オール 761)、b、!。
路パターンを施すために次のポジ作用をするフォトレジ
スト溶g、を使用する:1−メトキシープロパンー2−
オール 761)、b、!。
例1のノボ−yyり 15.6 p、b、w。
例2のトリアジン 1.1 p、b、w、及び前記溶液
を、6,000 rpmで回転塗布することによって適
用しかつ循環空気キャビネットで乾燥する、その結果貯
蔵可能なポジ作用をするプレセンシタイズウエーファが
得られるが、このものの感光度は、同じ厚さを有するが
、o−ナフトキノンジアジドを基剤とする慣用のポジ作
用を有するフォトレゾスト層よりも数倍増大している。
を、6,000 rpmで回転塗布することによって適
用しかつ循環空気キャビネットで乾燥する、その結果貯
蔵可能なポジ作用をするプレセンシタイズウエーファが
得られるが、このものの感光度は、同じ厚さを有するが
、o−ナフトキノンジアジドを基剤とする慣用のポジ作
用を有するフォトレゾスト層よりも数倍増大している。
0−キノンジアジドを基剤とする商業的に入手できるフ
ォトレジストAZ 1350.T(ミクロ1毬子工学
の分野で、露光時間を延長するフィルターを挿入する以
外は例1で記載したのと同一の条件下で広く使用される
)との比較試験の結果、露光時間は無ジアゾ層に関して
は6秒でおり、ジアゾ;mに関しては20秒である。
ォトレジストAZ 1350.T(ミクロ1毬子工学
の分野で、露光時間を延長するフィルターを挿入する以
外は例1で記載したのと同一の条件下で広く使用される
)との比較試験の結果、露光時間は無ジアゾ層に関して
は6秒でおり、ジアゾ;mに関しては20秒である。
両露元時間は、例1の現像溶液中で1分の現像時間によ
5、ITEKテスト原図の約%部分まで良好な解像を達
成するためには、前記雨露光時間が最適に適合される。
5、ITEKテスト原図の約%部分まで良好な解像を達
成するためには、前記雨露光時間が最適に適合される。
形成される可能性のある回転塗布段階による縦じわ構造
は、AZ 1350Jフオトレジストの場合と全く同様
にしてヨーロッパ特許出願公開第42,104号及び第
42,105号によるポリシロキサン又は弗素表面活性
剤を加えることによって回避することができる。
は、AZ 1350Jフオトレジストの場合と全く同様
にしてヨーロッパ特許出願公開第42,104号及び第
42,105号によるポリシロキサン又は弗素表面活性
剤を加えることによって回避することができる。
同様な塗布性は、1−メトキシノロパノール−2の代り
に1−エトキシ−プロパノ−ルー2を使用する場合尤も
得られる。
に1−エトキシ−プロパノ−ルー2を使用する場合尤も
得られる。
例 5
オートタイプの銅製グラ−アシリンダを製造するための
ポジ作用全盲するフォトレジスト溶液の製置の場合には
、 列10ノボラック 12 p、b、w。
ポジ作用全盲するフォトレジスト溶液の製置の場合には
、 列10ノボラック 12 p、b、w。
クリスタルバイオレット塩基 0.i p、b、w。
を、1−メトキシ−プロパン−2−オール 85 p、
b、w。
b、w。
中に攪拌しながら溶かす。
比較溶液を、
トリクロロエタン 49 p、b、w。
イソノロパノール 14 p、b、w。
酢葭ゾテル 7 p、b、w、及び
2−エトキシ−エタノール 100 p、b、w、中の
上記ノボラック 24 p、b、w。
上記ノボラック 24 p、b、w。
上記コポリマー 2p、b、w。
上記エステル混合物 4 p、b、w、及びクリスタル
バイオレット塩fi 0.2p、b、w。
バイオレット塩fi 0.2p、b、w。
から屡造しかつ両溶液を、約4μmの層厚の得られるま
で、新しく銅メッキした回転する銅シリンダの1半にス
プレーガンを用いてそれぞれ塗布し、次に両層を熱風又
は赤外線によって乾燥する。塗布された両層を検べると
、本発明による溶液を用いて製造した層は、他の!−よ
シもはるかに平滑で、よシ均質であシかつより優れた均
展性を有することが判る。次に露光を、印刷スべきパタ
ーンのハーフトーンネガチゾ下で行い、徐々に回転する
シリンダ上に0.8チ濃度の水酸化ナトリウムを注ぐこ
とによって銅面を画像に従って露出させる。このプロセ
ス段階は前記層については2〜4分を要する。その後シ
リンダを水で洗浄しかつさらに回転する間熱風によって
乾燥する。
で、新しく銅メッキした回転する銅シリンダの1半にス
プレーガンを用いてそれぞれ塗布し、次に両層を熱風又
は赤外線によって乾燥する。塗布された両層を検べると
、本発明による溶液を用いて製造した層は、他の!−よ
シもはるかに平滑で、よシ均質であシかつより優れた均
展性を有することが判る。次に露光を、印刷スべきパタ
ーンのハーフトーンネガチゾ下で行い、徐々に回転する
シリンダ上に0.8チ濃度の水酸化ナトリウムを注ぐこ
とによって銅面を画像に従って露出させる。このプロセ
ス段階は前記層については2〜4分を要する。その後シ
リンダを水で洗浄しかつさらに回転する間熱風によって
乾燥する。
塩化第二鉄溶液を用いる慣用のグラビアエツチングの前
に、相互に比較すべき2つの層部分を、彫刻刀によって
機械的に修正しかつ記号及び追加線金施すことによって
修整する。両/iについて比較可能で良好な結果が得ら
れる、それというのも乾燥後にも両層は、比較層の場合
には主として毒性の2−エトキシ−エタノールから成る
残余溶剤約1%をなお含有しているからである。
に、相互に比較すべき2つの層部分を、彫刻刀によって
機械的に修正しかつ記号及び追加線金施すことによって
修整する。両/iについて比較可能で良好な結果が得ら
れる、それというのも乾燥後にも両層は、比較層の場合
には主として毒性の2−エトキシ−エタノールから成る
残余溶剤約1%をなお含有しているからである。
列 6
本例は、オフセット印刷版製造のために本発明による塗
布溶液を使用することを説明する。
布溶液を使用することを説明する。
ワ゛イヤゾラシによって片面の粗面化されたアルミニウ
ム支持体上に、 1=メトキシ−プロパン−2−オール 90.8 p、
b、v。
ム支持体上に、 1=メトキシ−プロパン−2−オール 90.8 p、
b、v。
中の、
例1のノボラック 7 p、b、w。
から成る塗布溶液を、ローラ塗布によって適用する。ア
ルミニウム面は容易にかつ一様に該溶液で湿潤され、か
つ塗布層は、完全に乾燥するまでその均質性を保つ。乾
燥の促進のために、溶剤の15%までを8−シタノール
によって代えることができる。乾燥を遅くする場合には
、1−メトキシ−プロパノ−ルー2の全部又は一部分を
1−エトキシ−プロパノ−ルー2と取シ換えることがで
きる。
ルミニウム面は容易にかつ一様に該溶液で湿潤され、か
つ塗布層は、完全に乾燥するまでその均質性を保つ。乾
燥の促進のために、溶剤の15%までを8−シタノール
によって代えることができる。乾燥を遅くする場合には
、1−メトキシ−プロパノ−ルー2の全部又は一部分を
1−エトキシ−プロパノ−ルー2と取シ換えることがで
きる。
j−は211 /m”の重さに相当する厚さを有する。
乾燥後に、塗布板をポジチゾ原図下に露光し、水酸化ナ
トリウムを加えてpH12,6に調整した燐酸三ナトリ
ウムの3.5チ濃度水溶液で現像し、大で洗浄し、最後
に1%濃度燐酸を塗布して印刷する準備をする。載板を
現像に要する時間よりも12倍長く現像液中に放置する
場合にも、画像部分には実際に欠陥は認められない。次
に載板を印刷のために使用することができる。載板は極
めて容易にインキを受理する。
トリウムを加えてpH12,6に調整した燐酸三ナトリ
ウムの3.5チ濃度水溶液で現像し、大で洗浄し、最後
に1%濃度燐酸を塗布して印刷する準備をする。載板を
現像に要する時間よりも12倍長く現像液中に放置する
場合にも、画像部分には実際に欠陥は認められない。次
に載板を印刷のために使用することができる。載板は極
めて容易にインキを受理する。
例 7
例1で記載したのと同じ固体成分を用い、1−ニトキシ
ープロパノール−2に溶かして40ts#度溶液を与え
、例6記載の条件と同様の条件下で静電吹付塗布するた
めに適当な系を製造する(ベル間隔20cIrL1高電
圧80 kv )。該溶液を、先づ6−メドキシーゾタ
ノールー1を用いて希釈するととKよって固体fj−2
6fbに調節する。乾燥後層は約511/m2の重量を
有している。例えばアルミニウム又は銅の支持体上で層
は優れた均展性を示す。
ープロパノール−2に溶かして40ts#度溶液を与え
、例6記載の条件と同様の条件下で静電吹付塗布するた
めに適当な系を製造する(ベル間隔20cIrL1高電
圧80 kv )。該溶液を、先づ6−メドキシーゾタ
ノールー1を用いて希釈するととKよって固体fj−2
6fbに調節する。乾燥後層は約511/m2の重量を
有している。例えばアルミニウム又は銅の支持体上で層
は優れた均展性を示す。
レジスト溶液は、著しく高い固体分を含む場合にさえ吹
付塗布用に使用することができる。
付塗布用に使用することができる。
約5チまでのインシトキシ−プロパノールの併用も、吹
付条件を変えることなく可能である。
付条件を変えることなく可能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主要成分として放射線感受性化合物又は化合物の放
射線感受性組合せ物及び有機溶剤又は少なくとも大部分
はグリコールエーテルから成る溶剤混合物を含有するポ
ジ作用を有する放射線感受性塗布溶液において、グリコ
ールエーテルが1,2−プロパンジオールのモノ−C_
1〜C_4−アルキルエーテルであることを特徴とする
前記塗布溶液。 2、グリコールエーテルが1,2−プロパンジオールの
モノ−C_1又はC_2−アルキルエーテルである特許
請求の範囲第1項記載の溶液。 3、グリコールエーテルが1,2−プロパンジオールモ
ノメチルエーテルである特許請求の範囲第1項又は第2
項記載の溶液。 4、水に不溶であるが、水性アルカリ性溶液には可溶の
ポリマーバインダーがさらに含有されている特許請求の
範囲第1項から第3項までのいづれか1項に記載の溶液
。 5、感光性化合物として1,2−ナフトキノン−2−ジ
アジドが含有されている特許請求の範囲第1項から第3
項までのいづれか1項に記載の溶液。 6、化合物の感光性組合せ物として、 a)酸によって分解されうる少なくとも1個のC−O−
C結合を有する化合物及び b)放射時に強酸を形成する化合物 が含有されている特許請求の範囲第1項から第3項まで
のいづれか1項に記載の溶液。 7、ポリマーバインダーがノボラックである特許請求の
範囲第4項記載の溶液。 8、溶剤又は溶剤混合物それぞれの65〜100%が1
,2−プロパンジオールモノ−C_1〜C_4−アルキ
ルエーテルによって構成されている特許請求の範囲第1
項から第6項までのいづれか1項に記載の溶液。 9、溶剤又は溶剤混合物それぞれの65〜100%が、
1,2−プロパンジオールモノメチルエーテル及び/又
は1,2−プロパンジオールモノエチルエーテルによっ
て構成されている特許請求の範囲第8項記載の溶液。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843421160 DE3421160A1 (de) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung |
DE3421160.8 | 1984-06-07 | ||
DE3510220.9 | 1985-03-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS616648A true JPS616648A (ja) | 1986-01-13 |
JPH036494B2 JPH036494B2 (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=6237797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12163585A Granted JPS616648A (ja) | 1984-06-07 | 1985-06-06 | ポジ作用を有する放射線感受性塗布溶液 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS616648A (ja) |
DE (1) | DE3421160A1 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61260239A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
JPS6214652A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JPS62105137A (ja) * | 1985-10-28 | 1987-05-15 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | 放射感光性ポジティブ型フォトレジスト組成物及びその製法 |
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