TW202006756A - 電子零件的製造方法及裝置 - Google Patents

電子零件的製造方法及裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW202006756A
TW202006756A TW108122767A TW108122767A TW202006756A TW 202006756 A TW202006756 A TW 202006756A TW 108122767 A TW108122767 A TW 108122767A TW 108122767 A TW108122767 A TW 108122767A TW 202006756 A TW202006756 A TW 202006756A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
platform
electronic component
conductive adhesive
component body
jig
Prior art date
Application number
TW108122767A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI749337B (zh
Inventor
佐藤英児
坂本仁志
Original Assignee
日商新烯科技有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商新烯科技有限公司 filed Critical 日商新烯科技有限公司
Publication of TW202006756A publication Critical patent/TW202006756A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI749337B publication Critical patent/TWI749337B/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30—Stacked capacitors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C13/00—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
    • B05C13/02—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
    • B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
    • B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01C—RESISTORS
    • H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/28—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01C—RESISTORS
    • H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/28—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals
    • H01C17/281—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals by thick film techniques
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01C—RESISTORS
    • H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/008—Thermistors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
    • H01F41/10—Connecting leads to windings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G13/00—Apparatus specially adapted for manufacturing capacitors; Processes specially adapted for manufacturing capacitors not provided for in groups H01G4/00 - H01G11/00
    • H01G13/006—Apparatus or processes for applying terminals
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G2/00—Details of capacitors not covered by a single one of groups H01G4/00-H01G11/00
    • H01G2/02—Mountings
    • H01G2/06—Mountings specially adapted for mounting on a printed-circuit support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002—Details
    • H01G4/005—Electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002—Details
    • H01G4/228—Terminals
    • H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/18—Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182—Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • H05K1/185—Components encapsulated in the insulating substrate of the printed circuit or incorporated in internal layers of a multilayer circuit
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002—Details
    • H01G4/018—Dielectrics
    • H01G4/06—Solid dielectrics
    • H01G4/08—Inorganic dielectrics
    • H01G4/12—Ceramic dielectrics

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Abstract

電子零件的製造方法，係具有使塗布於被治具保持之電子零件本體(1)個別端部的導電性膠(4)，接觸平台(100)的表面(101)的抹除工程。該抹除工程，係同時實施變更電子零件本體(1)個別端面(2A)與平台(100)的表面(101)之間的距離的距離變更工程，與將電子零件本體(1)之端面(2A)投影至平台(100)之表面(101)的二維位置，以二維位置往平行於平台(100)的表面(101)的方向逐次變化(例如圓軌道)之方式進行變更的位置變更工程。

Description

電子零件的製造方法及裝置
本發明係關於電子零件的製造方法及裝置等。
本案發明者係提案例如於層積陶瓷電容器、電感器、熱敏電阻等之電子零件本體的端面，浸漬塗布導電性膠層，將外部電極形成於電子零件本體的裝置及方法(日本特開2002-237403號公報)。浸漬塗布之狀態的導電性膠層的膜厚並未被均勻化。因此，也提案從形成於平台面的導電性膠膜層拉起浸漬塗布了導電性膠的電子零件本體之後，使形成於電子零件本體的端部的導電性膠層的下垂部，接觸去除了導電膠膜層的平台面(日本特開昭63-45813號公報)。該工程係由於藉由平台擦乾淨電子零件本體側之多餘的導電性膠，被稱為抹除(blot)工程。
本發明的目的，係提供依據銳意研究形成於電子零件本體的端部之導電性膠層的形狀變得不均勻之原因的結果，更改良抹除工程之電子零件的製造方法及裝置。 (1)本發明的一樣態，係關於一種電子零件的製造方法， 具有使塗布於包含被治具保持的電子零件本體之端面的端部的導電性膠，接觸平台的表面，讓多餘的導電性膠轉印至前述平台的抹除工程； 前述抹除工程，係同時實施變更前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離的距離變更工程，與將前述電子零件本體之前述端面投影至前述平台之前述表面的二維位置，以在平行於前述平台的前述表面之面內的前述二維位置的移動方向逐次變化之方式進行變更的位置變更工程。 依據本發明的一樣態，藉由位置變更工程的實施，在平行於平台之面內的電子零件本體對於平台相對移動方向會逐次變化。在此，電子零件本體的多餘的導電性膠，係被平台或轉印至平台的導電性膠拉引，但該拉引方向會逐次變化，所以，容易磨耗光。而且，多餘的導電性膠係像相對移動方向不逐次變化的直線移動時停留於移動方向下游，不會發生導電性膠層的膜厚局部性變厚的不妥。又，端面是四角形的電子零件本體的狀況中，多餘的導電性膠容易集中於角部，容易確保角部之導電性膠的膜厚。此外，藉由距離變更工程的實施，可調整抹除工程中接觸於平台的導電性膠的量。因此，因應欲確保於電子零件本體之導電性膠的膜厚，選擇以距離變更工程縮短或延長距離，可進行膜厚調整。該抹除工程係於包含距離變更工程及位置變更工程的抹除工程中磨耗光多餘的導電性膠，抹除工程後導電膠不會發生抽絲。 再者，抹除工程係針對被治具保持的複數電子零件本體同時實施亦可。又，抹除工程係於平台的表面預先塗布導電性膠，使平台的表面成為導電性膠的濕層來實施亦可。如此，在抹除工程中，電子零件本體之多餘的導電性膠會與形成於平台的表面的濕層接觸。此時，電子零件本體的多餘的導電性膠係主要比以金屬形成的平台本身的乾表面，更容易轉印至相同導電性膠層所致之濕層。 (2)在本發明的一樣態(1)中，在前述位置變更工程中，前述二維位置的移動軌跡描繪環形；前述抹除工程，係可使前述電子零件本體對於前述平台的前述表面相對地螺旋狀移動。藉此，可一邊將必要之平台的面積設為最小限度，一邊更有效率地實施位置變更工程。 (3)在本發明的一樣態(1)或(2)中，前述距離變更工程，係可延長前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離。如此，於抹除工程中，電子零件本體會往離開平台的方向相對移動。因此，轉印至平台的導電性膠的量變少，可確保較厚之電子零件本體的導電性膠的膜厚。 (4)在本發明的一樣態(1)或(2)中，前述距離變更工程，係可縮短前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離。如此，於抹除工程中，電子零件本體會往接近平台的方向相對移動。因此，轉印至平台的導電性膠的量變多，可確保較薄之電子零件本體的導電性膠的膜厚。又，前述距離變更工程，係縮短前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離之後，延長前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離亦可。 (5)本發明的其他樣態，係關於一種電子零件的製造方法， 具有使塗布於包含被治具保持的複數電子零件本體個別之端面的端部的導電性膠，接觸平台的表面的抹除工程； 在前述抹除工程中，變更前述複數電子零件本體個別的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離的高度變更工程，與於藉由前述高度變更工程所設定之不同的高度中變更前述複數電子零件本體個別的前述端面投影至前述平台的前述表面的二維位置的位置變更工程，藉由使前述治具與前述平台相對移動來實施。 依據本發明的其他樣態(5)，藉由高度變更工程，複數電子零件本體相對地與平台接近，藉由位置變更工程，複數電子零件本體係相對地往平行於平台的方向移動。在此，被治具保持的複數電子零件本體之端面的位置有偏離的狀況。此時，沒有高度變更工程的話，則將對於平台的表面之治具的高度位置設為一定來實施抹除工程。如此，會在從平台的表面到端面為止的距離較短的電子零件本體，與從平台的表面到端面為止的距離較長的電子零件本體混合存在之狀態下實施抹除工程。此會阻礙塗布於複數電子零件本體的端部之導電性膠層的形狀的均勻性。依據本發明的其他樣態，利用於藉由高度變更工程所設定之不同高度中實施位置變更工程，無關於複數電子零件本體之端面的位置的偏離，形成於複數電子零件本體的端面的導電性膠層會以必要的厚度均勻化。藉此，形成於複數電子零件本體的端部之導電性膠層的形狀會均勻化。 (6)在本發明的其他樣態(5)中，前述抹除工程係可包含同時實施前述高度變更工程與前述位置變更工程的工程。如此，複數電子零件本體相對地與平台接近，並且複數電子零件本體係包含相對地平行於平台的方向成分來移動。藉此，即使被治具保持的複數電子零件本體之端面的位置偏離量有各式各樣，導電性膠層的厚度也可均勻化。 (7)在本發明的其他樣態(6)中，可藉由同時實施的前述高度變更工程與前述位置變更工程，使前述複數電子零件本體一邊對於前述平台的前述表面相對地螺旋狀移動，一邊接近前述平台。藉此，可一邊將必要之平台的面積設為最小限度，一邊更有效率地實施位置變更工程。又，於抹除工程中與平行於平台的面內，平台與電子零件本體的相對移動方向會逐次變化。藉此，平台或被轉印至平台的導電性膠拉引電子零件本體的導電性膠，可將電子零件本體側的多餘的導電性膠轉印至平台側。 (8)本發明的另其他樣態，係關於一種電子零件的製造方法， 更具有使包含被治具保持之複數電子零件本體個別的端面的端部，接觸形成於第1平台的表面之導電性膠的浸漬層，於前述複數電子零件本體個別的前述端部，塗布前述導電性膠的塗布工程； 前述塗布工程，係包含使可往垂直於前述第1平台的前述表面的方向移動地彈性保持前述複數電子零件本體的前述治具，與前述第1平台相對地移動，使前述複數電子零件本體個別的前述端面接觸前述第1平台的前述表面的工程。 依據本發明的另其他樣態(8)，使彈性保持複數電子零件本體的治具與第1平台相對移動，讓複數電子零件本體個別的端面接觸第1平台的前述表面。在此，即使被治具保持之複數電子零件本體的端面的位置有偏離的狀況，先與第1平台的表面接觸的電子零件本體，也可藉由彈性保持該電子零件本體的治具，往垂直於第1平台的前述表面的方向退避移動。藉此，所有電子零件本體的端面會與第1平台的表面接觸。結果，於所有電子零件本體中，對於從端面起立的側面之導電性膠的塗布長度變成相等。藉此，形成於電子零件本體的端部之導電性膠層的形狀會均勻化。 (9)在本發明的另其他樣態(8)中，在使用第1平台的塗布工程之後，可使用第2平台來實施本發明的其他樣態(5)的抹除工程。藉此，形成於電子零件本體的端面之導電性膠層的厚度也會均勻化。 (10)在本發明的另其他樣態(9)中，可將去除了形成於前述表面的前述浸漬層的前述第1平台，兼用於前述第2平台。藉此，可小型化實施該製造方法的裝置。 (11)本發明的另其他樣態，係關於一種電子零件的製造裝置，具有： 治具，係保持電子零件本體； 平台； 移動手段，係往垂直於前述平台的表面的方向，與平行於前述平台的前述表面的方向，使前述治具與前述平台相對地移動；及 控制手段，係控制前述移動手段，執行使塗布於包含被前述治具保持的前述電子零件本體之各端面的端部的導電性膠，接觸前述平台的前述表面，讓多餘的導電性膠轉印至前述平台的抹除動作； 前述控制手段，係藉由前述移動手段，同時實施變更前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離的距離變更移動，與將前述電子零件本體之前述端面投影至前述平台之前述表面的二維位置，以在平行於前述平台的前述表面之面內的前述二維位置的移動方向逐次變化之方式進行變更的位置變更移動。 在本發明的另其他樣態(11)中，可理想地實施本發明的一樣態(1)相關之電子零件的製造方法。 (12)本發明的另其他樣態，係關於一種電子零件的製造裝置，具有： 治具，係保持複數電子零件本體； 平台； 移動手段，係往垂直於前述平台的表面的方向，與平行於前述平台的前述表面的方向，使前述治具與前述平台相對地移動；及 控制手段，係控制前述移動手段，執行使塗布於包含被前述治具保持的前述複數電子零件本體個別之端面的端部的導電性膠，接觸前述平台的前述表面的抹除動作； 前述控制手段，係藉由使前述治具與前述平台相對移動控制，執行縮短前述複數電子零件本體個別的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離的高度變更動作，與變更前述複數電子零件本體個別的前述端面投影至前述平台的前述表面的二維位置的位置變更動作。 在本發明的另其他樣態(12)中，可理想地實施本發明的其他樣態(5)相關之電子零件的製造方法。 (13)本發明的另其他樣態，係關於一種電子零件的製造裝置，具有： 治具，係保持複數電子零件本體； 平台； 移動手段，係往垂直於前述平台的表面的方向，與平行於前述平台的前述表面的方向，使前述治具與前述平台相對地移動；及 控制手段，係控制前述移動手段，執行使包含被前述治具保持之複數電子零件本體個別的端面的端部，接觸形成於前述平台的前述表面之導電性膠的浸漬層，於前述複數電子零件本體個別的前述端部，塗布前述導電性膠的塗布動作； 前述治具，係可往垂直於前述平台的前述表面的方向移動地彈性保持前述複數電子零件本體； 前述控制手段，係使前述治具與前述平台相對移動，使前述複數電子零件本體個別的前述端面接觸前述平台的前述表面。 在本發明的另其他樣態(13)中，可理想地實施本發明的另其他樣態(8)相關之電子零件的製造方法。 (14)在本發明的另其他樣態(13)中，前述控制手段，係可在前述塗布動作之後，藉由使前述治具與前述平台相對移動控制，執行縮短前述複數電子零件本體個別的前述端面，與去除了前述浸漬層之前述平台的前述表面之間的距離的高度變更動作，與變更前述複數電子零件本體個別的前述端面投影至前述平台的前述表面的二維位置的位置變更動作，且執行使塗布於被前述治具保持之前述複數電子零件本體個別的前述端部的前述導電性膠，接觸前述平台的前述表面的抹除動作。 在本發明的另其他樣態(14)中，可理想地實施本發明的另其他樣態(9)及(10)相關之電子零件的製造方法。
於以下的揭示中，提供用以實施所提示之主體的不同特徵的多種不同實施形態及實施例。當然，該等單單為範例，並不是意圖限定者。進而，在本揭示中，於各種範例中有反復參照號碼及/或文字的狀況。如此反復是為了簡潔明瞭，其本身在各種實施形態及/或說明的構造之間並不一定有關係。進而，記述為第1要素「連接」或「連結」於第2要素時，此種記述係包含第1要素與第2要素相互直接連接或連結的實施形態，並且也包含第1要素與第2要素具有存在於其間的1以上其他要素，相互間接連接或連結的實施形態。又，記述為第1要素對於第2要素「移動」時，此種記述係包含第1要素及第2要素的至少一方對於另一方移動之相對移動的實施形態。 1. 電子零件 圖1係揭示藉由本發明的實施形態的製造方法所製造的電子零件1A，圖2係揭示形成於電子零件本體1之導電層4A的剖面。在此，適用本發明之電子零件1A的大小並未特別限制，但是，理想為遵照縮小化而被超小型化的電子零件1A。作為超小型的電子零件1A，將圖1所示之例如矩形(正方形或長方形)剖面之一邊的最大長度設為L1，將與矩形剖面正交之方向的長度設為L2時，L1=500μm以下且L2=1000μm以下。理想為L1=300μm以下且L2=600μm以下，更理想為L1=200μm以下且L2=400μm以下，再更理想為L1=125μm以下且L2=250μm。再者，在此所謂矩形係兩邊相交的角嚴格來說為90°之外，也包含角彎曲或倒角的大略矩形。再者，本發明當然也可適用於矩形剖面以外的電子零件1A。 於圖2中，電子零件1A係於電子零件本體1的端部，形成由導電性膠層所成的電極4A。電子零件本體1的端部2係包含端面2A、側面2B、連結端面2A及側面2B的角部2C。形成於端面2A的電極4A的實質均勻之厚度T1，與形成於側面2B的電極4A的實質均勻之厚度T2，係可實質上設為T1=T2。此外，形成於角部2C之電極4A的厚度T3可設為T3≧T1或T3≧T2。又，自形成於側面2B之電極4A的端面2A起的電極長度設為L3。藉由本發明的實施形態的製造方法所製造之複數電子零件1A，係被要求具有電極4A的尺寸(T1～T3及L3)的均勻性。 2. 電子零件的製造裝置 圖3係揭示本實施形態的實施所用之製造裝置10，圖4係揭示控制系區塊圖。該製造裝置10係具有載板(治具)20、移動機構50、平台100。在圖3中將正交三軸方向設為X、Y、Z。 垂下保持複數電子零件本體1的載板(治具)20係可往垂直於平台100的表面101的方向移動地彈性保持複數電子零件本體1。載板20係例如能以可往Z方向彈性變形的黏著膠帶構成。載板20係可自由裝卸地被治具固定盤30支持。於治具固定盤30的上方固定基盤40，於下方配置平台100。 於平台100，設置具備塗刷器112及刮刀114的塗刷單元110。塗刷單元110移動於平台100上。塗刷單元110係利用移動刮刀114，可於平台100的表面101形成導電性膠120所致之高度H的浸漬層。塗刷單元110係利用移動塗刷器112，可從平台100的表面101刮取導電性膠120的浸漬層。 於基盤40設置移動治具固定盤30的移動機構50。在此，移動機構50可包含X軸驅動部60、Y軸驅動部70及Z軸驅動部80。再者，移動機構50係只要是可使治具固定盤30及平台100往Z、Y、Z軸方向相對移動者即可。亦即，移動機構50作為移動平台100者亦可。或者，設置移動治具固定盤30的移動機構50，與移動平台100的移動機構50亦可。或者，包含於移動機構50的X軸驅動部60、Y軸驅動部70及Z軸驅動部80的一部分使治具固定盤30移動，其他部分使平台100移動亦可。 X軸驅動部60係能以沿著X軸導件62可對於基盤40移動於X軸方向的X工作台構成。Y軸驅動部70係能以沿著Y軸導件72可對於X軸驅動部60移動於Y軸方向的Y工作台構成。Z軸驅動部80係例如固定於Y軸驅動部70，可將Z軸82往Z軸方向移動。治具固定盤30係固定於Z軸82。再者，在圖3中，省略X、Y、Z軸的驅動源即例如馬達及其驅動力傳達機構的圖示。 如此，治具固定盤30、載板20及複數電子零件本體1係可藉由移動機構50，對於平台100相對性移動於Z軸方向，並且沿著平行於平台100的表面的X-Y平面移動。 如圖4所示，製造裝置10係具有控制X軸驅動部60、Y軸驅動部70及Z軸驅動部80的控制部90。控制部90係連接於鍵盤等的操作輸入部92。控制部90係包含記憶部91，於記憶部91記憶透過操作輸入部92所輸入的操作資訊，及預先登記的程式等。控制部90係遵照記憶於記憶部91的資料及程式，來控制X軸驅動部60、Y軸驅動部70及Z軸驅動部80。控制部90可藉由X軸驅動部60及Y軸驅動部70，使治具固定盤30在與平台100平行的面內例如以圓軌道移動。又，控制部90係與X軸驅動部60及Y軸驅動部70所致之圓軌道的移動同時可藉由Z軸驅動部80使治具固定盤30上升或下降。 3. 電子零件的製造方法 在本實施形態的製造裝置10中，實施塗布工程與之後的抹除工程。塗布工程係使被載板20保持之複數電子零件本體1個別的端面2A的端部2，接觸形成於平台100的表面101之導電性膠的浸漬層，於複數電子零件本體1個別的端部2，塗布導電性膠的工程。抹除工程係使塗布於被載板20保持之複數電子零件本體1個別端部2的導電性膠，接觸平台100的表面101，且將多餘的導電性膠轉印至平台100的工程。 3.1. 第1實施形態 於圖5(A)模式揭示第1本實施形態的抹除工程。圖5(A)係揭示平台100與被載板20保持之複數電子零件本體1(在圖5中僅揭示1個)的抹除工程中相對移動之一例。在該抹除工程中，以延長電子零件本體1個別端面2A與平台100的表面101之間的距離之方式進行變更的距離變更工程，與將電子零件本體1之端面2A投影至平台100之表面101的二維位置，以在平行於平台100之表面101的面內之二維位置的移動方向逐次變化之方式進行變更的位置變更工程，可藉由控制部90控制移動機構50，使載板20與平台100相對移動來實施。 在圖5(A)中，揭示距離變更工程及位置變更工程的一例即螺旋運動。亦即，控制部90係同時控制X軸驅動部60、Y軸驅動部70及Z軸驅動部80，使電子零件本體1一邊像圓或橢圓等般以環狀軌道迴旋一邊以離開平台100之方式上升。於圖5(A)揭示電子零件本體1的上升途中的各位置A～D。再者，在圖5(A)中，在後述圖5(B)及圖12也同樣地針對形成於電子零件本體1的端部的導電性膠層，在抹除工程的結束前附加符號4，在抹除工程的結束後則附加符號4A。又，對於轉印至平台100的導電性膠附加符號4B。 圖6(A)～圖6(D)係揭示圖5(A)所示之各位置A～D的抹除動作。於圖6(A)中，形成於電子零件本體1的端部的導電性膠層4中，與平台100接觸之多餘的導電性膠4B，係如圖6(B)及圖6(C)所示，一邊被往電子零件本體1的水平移動方向的下游側拉引，一邊轉印至平台100。此時，藉由位置變更工程的實施，在平行於平台100之面內的電子零件本體1對於平台100相對移動方向會逐次變化。然後，電子零件本體1的導電性膠層4，係被平台100或轉印至平台100的導電性膠4B拉引，但該拉引方向會逐次變化，所以，容易磨耗光。而且，多餘的導電性膠係像相對移動方向不逐次變化的直線移動時停留於移動方向下游，不會發生導電性膠層4A的膜厚局部性變厚的不妥。又，端面2A是四角形的電子零件本體1的狀況中，多餘的導電性膠容易集中於角部2C，容易確保角部2C之導電性膠的膜厚。 在第1實施形態的距離變更工程中，於抹除工程中電子零件本體1會往離開平台100的方向相對移動。因此，轉印至平台100的導電性膠的量變少，可確保較厚之電子零件本體1的導電性膠的膜厚。 3.2. 第2實施形態 於圖5(B)模式揭示第2本實施形態的抹除工程。圖5(B)與圖5(A)的不同之處，僅將距離變更方向設為下降方向之處。亦即，控制部90係同時控制X軸驅動部60、Y軸驅動部70及Z軸驅動部80，使電子零件本體1一邊螺旋狀迴旋一邊以接近平台100之方式下降。於圖5(B)揭示電子零件本體1的下降途中的各位置A～D。 圖7(A)～圖7(D)係揭示圖5(B)所示之各位置A～D的抹除動作。在此第2實施形態中，也與第1實施形態同樣地實施位置變更工程。在第2實施形態的距離變更工程中，於抹除工程中電子零件本體1會往接近平台100的方向相對移動。因此，轉印至平台100的導電性膠的量變多，可確保較薄之電子零件本體1的導電性膠的膜厚。 依據以上所說明之第1、第2實施形態，藉由距離變更工程的實施，可調整抹除工程中接觸於平台100的導電性膠的量。因此，因應欲確保於電子零件本體1之導電性膠的膜厚，選擇以距離變更工程縮短(第1實施形態)或延長(第2實施形態)距離，可進行膜厚調整。該抹除工程係於包含距離及位置變更工程的抹除工程中磨耗光多餘的導電性膠，抹除工程後導電膠不會發生抽絲。因此，不會發抽絲的痕跡，所以，電子零件本體1的導電性膠層4A的表面會成為平面。 再者，第1、第2實施形態之位置變更工程，係只要是於平行於平台100的平面內電子零件本體1與平台100的相對移動方向逐次變化者，除了圓軌道、橢圓軌道等的環狀痕跡之外，於平行於平台100的平面內位置變更工程的起點與終點不一定一致亦可。 又，組合第1、第2實施形態的圖5(A)(B)的抹除工程來實施亦可。首先，實施第2實施形態的圖7(A)、圖7(B)及圖7(C)的各工程。獲得圖7(D)的狀態之前停止距離縮短工程。接著，實施第1實施形態的圖6(B)、圖6(C)及圖6(D)的各工程，完成抹除工程。此時，在圖7(A)、圖7(B)及圖7(C)的工程的迴旋方向，與在圖6(B)、圖6(C)及圖6(D)的工程的迴旋方向，作為相同方向或反方向皆可。組合圖5(A)(B)的抹除工程來實施的話，可讓電子零件本體1的導電性膠層4A的膜厚不同於藉由圖5(A)或圖5(B)的抹除工程所得的膜厚。因此，膜厚調整的自由度提升。 圖8係揭示不實施距離變更工程，將電子零件本體1與平台100之垂直方向的位置設為一定的狀態下，僅實施位置變更工程，將多餘的導電性膠4C轉印至平台100的比較例的抹除工程。在圖8的抹除工程中，無法進行圖6及圖7的動作。但是，圖8的抹除工程係例如塗布於電子零件本體1的導電性膠4發生角上的突起的狀況中，適合抹平該突起，將導電性膠4的表面整形成平面。 圖9係實施第1、第2實施形態的抹除工程所得之電子零件本體1的剖面圖。如圖9所示，形成於電子零件本體1的導電性膠層4A係接續於端面2A之4個側面2B的膜厚被均勻化，於角部2C也確保必要之導電性膠層4A的膜厚。 3.3. 第3實施形態 該第3實施形態係使用第2實施形態的抹除工程，對於複數電子零件本體1同時實施抹除工程者。 3.3.1. 塗布工程 於圖10揭示本實施形態的塗布工程。在塗布工程中，如圖10所示，於平台100的表面101上預先形成導電性膠120(圖3)所致之浸漬層121。之後，控制部90控制移動機構50，使載板20與平台100相對地往Z方向移動，使複數電子零件本體1個別的端面2A接觸平台100的表面101。在此，圖10的右側之電子零件本體1a的長度比左側之電子零件本體1b的長度還多出h。電子零件本體1的長度的偏差h係例如數十μm。即使在該狀況中，也可利用圖10的右側之電子零件本體1a的端面2A接觸平台100的表面101之後也持續Z方向的移動，圖10的右側的電子零件本體1a在維持與平台100的表面101的接觸之狀態下，藉由載板20的彈性變形而往上方退避。然後，圖10的左側之電子零件本體1b的端面2A接觸平台100的表面101為止持續Z方向的相對移動。此時，圖10的左側的電子零件本體1b在維持與平台100的表面101的接觸之狀態下，使載板20與平台100往Z方向相對移動藉由載板20的彈性變形往上方退避的過衝量亦可。如圖10所示，利用使複數電子零件本體1a、1b個別的端面2A接觸平台100的表面101，形成於複數電子零件本體1a、1b個別的端部2的塗布長度，與浸漬層121的高度H一致。藉此，形成於複數電子零件本體1個別的端部2之電極4A的長度L3(圖2)變成相等，電極4A的形狀被均勻化。 圖11係揭示比較例的塗布工程。圖11所示的載板21係與圖10的載板20不同，沒有可往Z方向彈性移動地保持電子零件本體1的功能。此時，利用圖11的右側之電子零件本體1a接觸平台100的表面101，停止Z方向的相對移動。因此，圖11的左側的電子零件本體1b係不與平台100的表面101接觸，形成於端部2之電極4A的塗布長度成為H1(＜H)。因此，在複數電子零件本體1之間形成於端部2之電極4A的塗布程度變成各式各樣。依據本發明的實施形態，可防止圖11所示之電極4A的塗布長度的不均。 3.3.2. 抹除工程 在此第3實施形態中，採用圖5(B)所示之第2實施形態的抹除工程。圖12係揭示長度不同的兩個電子零件本體1a、1b的下降圖中的圖5(B)所示之各位置A～D的狀態。再者，於圖12中，也與圖10相同，右側的電子零件本體1a比左側的電子零件本體1b長。 在圖5(B)的位置A中，如圖12所示，電子零件本體1a、1b的導電性膠層4並未到達平台100的表面101。在實施高度變更工程的圖5(B)的位置B中，如圖12所示，電子零件本體1a的導電性膠層4到達平台100的表面101，之後，隨著電子零件本體1a的螺旋狀的下降，導電性膠層4與平台100的表面101一邊改變位置一邊接觸。藉此，多餘的導電性膠被平台100抹除，殘存於電子零件本體1a的導電性膠層4係在與轉印至平台100的導電性膠之間一邊發生抽絲一邊被整形。在圖5(B)的位置C中，如圖12所示，在電子零件本體1a中形成抽絲結束，完成抹除工程的導電性膠層4A。 另一方面，在實施高度變更工程的圖5(B)的位置C中，如圖12所示，電子零件本體1b的導電性膠層4到達平台100的表面101，之後，隨著電子零件本體1b的螺旋狀的下降，導電性膠層4與平台100的表面101一邊改變位置一邊接觸。藉此，多餘的導電性膠被平台100抹除，殘存於電子零件本體1b的導電性膠層4係在與轉印至平台100的導電性膠之間一邊發生抽絲一邊被整形。在圖5(B)的位置D中，如圖12所示，在電子零件本體1b中也形成抽絲結束，完成抹除工程的導電性膠層4A。 如上所述，藉由本實施形態的抹除工程的實施，無關於複數電子零件本體1a、1b之端面2A的位置偏離，形成於複數電子零件本體1a、1b的端面之導電性膠層4A的厚度被均勻化。藉此，形成於複數電子零件本體1a、1b的端部2之導電性膠層4A的形狀會均勻化。又，在該抹除工程中，同時實施高度變更工程與位置變更工程。如此一來，複數電子零件本體1a、1b相對地與平台100接近，並且複數電子零件本體1a、1b係包含相對地平行於平台100的方向成分來移動。進而，利用使複數電子零件本體1a、1b對於平台100的表面101一邊相對地螺旋狀移動一邊接近，可一邊將作為必須之平台100的面積設為最小限度一邊有效率地實施位置變更工程。 再者，如上所述，已針對本實施形態詳細說明，但是，當業者可容易理解可進行實際上不脫離本發明的範圍及效果之多種變形。所以，此種變形例全部包含於本發明的範圍。 例如，在本發明的第3實施形態中，僅實施圖10所示之塗布工程，與圖5(B)及圖12所示之抹除工程的一方亦可。藉由圖10所示之塗布工程，形成於複數電子零件本體1a、1b個別的端部2的塗布長度L3(圖2)係與浸漬層121的高度H一致。又，藉由圖5(B)及圖12所示之抹除工程的實施，形成於複數電子零件本體1a、1b的端面之導電性膠層4A的厚度T1(圖2)被均勻化。因為藉此，形成於複數電子零件本體1個別的端部2之電極4A的形狀分別獨立被均勻化。 圖13係針對長度不同的電子零件本體1a、1b，揭示實施比較例1、2及本實施形態的抹除工程所得之代表性評估資料。比較例1係使用日本特開昭63-45813號公報所揭示的抹除工程。比較例2係使用使電子零件本體1對於平台100直線移動的抹除工程。在比較例1、2的抹除工程中，起因於電子零件本體1a、1b的長度之導電性膠層4a的TOP膜厚(圖2的膜厚T1)的差為較大的7～8μm。相對於此，在本實施形態中導電性膠層4a的TOP膜厚的差縮小至2μm為止。藉此，可知圖5及圖12所示的抹除工程所致之導電性膠層4A的厚度T1(圖2)均勻化的效果。 又，圖5(B)及圖12所示之抹除工程，係不一定使用圖10的塗布工程中所用之載板20亦可，因為在抹除工程中不需要載板20的彈性變形。進而，在圖10所示的塗布工程，與圖5(B)及圖12所示的抹除工程中，不一定需要使用相同平台100。在圖10所示的塗布工程中使用第1平台，在圖5(B)及圖12所示的抹除工程中使用第2平台亦可。 本發明的第3實施形態的抹除工程，係不一定同時實施高度變更工程與位置變更工程亦可。也就是說，在電子零件本體1的端面2A與平台100的表面之間的距離不同的位置，分別實施位置變更工程即可。亦即，在電子零件本體1的端面2A之高度不同的複數位置中，使電子零件本體1與平台100往X軸及/或Y軸相對移動亦可。同時實施高度變更工程與位置變更工程的狀況中，不限於螺旋運動，只要是使電子零件本體1與平台100一邊往Y軸相對移動，一邊往X軸及/或Y軸相對移動者即可。 又，圖10所示之塗布工程後，對形成於複數電子零件本體1的端部2之導電性膠層4的塗布狀態利用相機進行攝影，形成於電子零件本體1a、1b個別的端部2之塗布長度(從端面2A到端部為止的長度)與既定範圍進行比較，範圍外的電子零件本體1作為錯誤排除亦可。 再者，在上述之第1～第3實施形態的抹除工程之前，於平台100的表面101塗布導電性膠，可將平台100的表面101作為導電性膠的濕層。如此，在抹除工程中，電子零件本體1、1a、1b之多餘的導電性膠會與形成於平台的表面的濕層接觸。此時，電子零件本體1、1a、1b的多餘的導電性膠係主要比以金屬形成的平台100本身的乾表面，更容易轉印至相同導電性膠所致之濕層。或者，導電性膠的黏性較低時，可減少轉印至濕層的導電性膠的量。
1‧‧‧電子零件本體 1A‧‧‧電子零件 1a‧‧‧電子零件本體 1b‧‧‧電子零件本體 2‧‧‧端部 2A‧‧‧端面 2B‧‧‧側面 2C‧‧‧角部 4‧‧‧導電性膠層 4A‧‧‧導電層 4B‧‧‧導電性膠 10‧‧‧製造裝置 20‧‧‧載板 21‧‧‧載板 30‧‧‧治具固定盤 40‧‧‧基盤 50‧‧‧移動機構 60‧‧‧X軸驅動部 62‧‧‧X軸導件 70‧‧‧Y軸驅動部 72‧‧‧Y軸導件 80‧‧‧Z軸驅動部 82‧‧‧Z軸 90‧‧‧控制部 91‧‧‧記憶部 92‧‧‧操作輸入部 100‧‧‧平台 101‧‧‧表面 110‧‧‧塗刷單元 112‧‧‧塗刷器 114‧‧‧刮刀 120‧‧‧導電性膠 121‧‧‧浸漬層
圖1係揭示藉由本發明的一實施形態之電子零件的製造方法及裝置所製造之電子零件的一例的圖。 圖2係圖1的電子零件的剖面圖。 圖3係揭示本發明的一實施形態之電子零件的製造裝置的圖。 圖4係圖3的製造裝置的區塊圖。 圖5(A)(B)係揭示以圖3及圖4所示的製造裝置所實施之抹除工程的圖。 圖6(A)～圖6(D)係說明本發明的第1實施形態即圖5(A)的抹除工程之動作的圖。 圖7(A)～圖7(D)係說明本發明的第1實施形態即圖5(B)的抹除工程之動作的圖。 圖8(A)～圖8(D)係說明不伴隨距離變更工程的比較例的抹除工程之動作的圖。 圖9係實施圖5(A)或圖5(B)的抹除工程所製造之電子零件本體的剖面圖。 圖10係揭示以圖3及圖4所示的製造裝置所實施之本發明的第3實施形態的塗布工程的圖。 圖11係揭示比較例的塗布工程的圖。 圖12係揭示圖5(B)所示之本發明的第3實施形態的抹除工程之各下降位置中導電性膠的狀況的圖。 圖13係揭示評估本實施形態與兩個比較例之各抹除工程的資料的圖。
1‧‧‧電子零件本體
4‧‧‧導電性膠層
20‧‧‧載板
100‧‧‧平台
A~D‧‧‧位置

Claims (11)

  1. 一種電子零件的製造方法，其特徵為： 具有使塗布於包含被治具保持的電子零件本體之端面的端部的導電性膠，接觸平台的表面，讓多餘的導電性膠轉印至前述平台的抹除工程； 前述抹除工程，係同時實施變更前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離的距離變更工程，與將前述電子零件本體之前述端面投影至前述平台之前述表面的二維位置，以在平行於前述平台的前述表面之面內的前述二維位置的移動方向逐次變化之方式進行變更的位置變更工程。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之電子零件的製造方法，其中， 在前述位置變更工程中，前述二維位置的移動軌跡描繪環形； 前述抹除工程，係使前述電子零件本體對於前述平台的前述表面相對地螺旋狀移動。
  3. 如申請專利範圍第1項所記載之電子零件的製造方法，其中， 在前述抹除工程之前，於前述平台的前述表面塗布前述導電性膠，將前述平台的前述表面作為濕層。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項任一項中所記載之電子零件的製造方法，其中， 前述距離變更工程，係延長前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離。
  5. 如申請專利範圍第1項至第3項任一項中所記載之電子零件的製造方法，其中， 前述距離變更工程，係縮短前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離。
  6. 如申請專利範圍第1項至第3項任一項中所記載之電子零件的製造方法，其中， 前述距離變更工程，係縮短前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離之後，延長前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離。
  7. 如申請專利範圍第1項所記載之電子零件的製造方法，其中， 前述抹除工程，係於前述治具保持複數電子零件本體來實施。
  8. 如申請專利範圍第5項所記載之電子零件的製造方法，其中， 更具有使包含被前述治具保持之複數電子零件本體個別的端面的端部，接觸形成於前述平台的表面之導電性膠的浸漬層，於前述複數電子零件本體個別的前述端部，塗布前述導電性膠的塗布工程； 前述塗布工程，係包含使可往垂直於前述平台的前述表面的方向移動地彈性保持前述複數電子零件本體的前述治具，與前述平台相對地移動，使前述複數電子零件本體個別的前述端面接觸前述平台的前述表面的工程。
  9. 一種電子零件的製造裝置，其特徵為具有： 治具，係保持電子零件本體； 平台； 移動手段，係往垂直於前述平台的表面的方向，與平行於前述平台的前述表面的方向，使前述治具與前述平台相對地移動；及 控制手段，係控制前述移動手段，執行使塗布於包含被前述治具保持的前述電子零件本體之各端面的端部的導電性膠，接觸前述平台的前述表面，讓多餘的導電性膠轉印至前述平台的抹除動作； 前述控制手段，係藉由前述移動手段，同時實施變更前述電子零件本體的前述端面與前述平台的前述表面之間的距離的距離變更移動，與將前述電子零件本體之前述端面投影至前述平台之前述表面的二維位置，以在平行於前述平台的前述表面之面內的前述二維位置的移動方向逐次變化之方式進行變更的位置變更移動。
  10. 如申請專利範圍第9項所記載之電子零件的製造裝置，其中， 前述治具，係保持複數電子零件本體。
  11. 如申請專利範圍第10項所記載之電子零件的製造裝置，其中， 前述治具，係可往垂直於前述平台的前述表面的方向移動地彈性保持前述複數電子零件本體。
TW108122767A 2018-07-10 2019-07-09 電子零件的製造方法及裝置 TWI749337B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018130961 2018-07-10
JP2018-130961 2018-07-10
JP2018168952 2018-09-10
JP2018-168952 2018-09-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202006756A true TW202006756A (zh) 2020-02-01
TWI749337B TWI749337B (zh) 2021-12-11

Family

ID=67437534

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108122767A TWI749337B (zh) 2018-07-10 2019-07-09 電子零件的製造方法及裝置
TW108124220A TWI720537B (zh) 2018-07-10 2019-07-10 電子零件的製造方法及裝置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108124220A TWI720537B (zh) 2018-07-10 2019-07-10 電子零件的製造方法及裝置

Country Status (7)

Country Link
US (3) US11052422B2 (zh)
EP (1) EP3598467B1 (zh)
JP (2) JP6787605B2 (zh)
KR (2) KR102587410B1 (zh)
CN (2) CN110706924B (zh)
TW (2) TWI749337B (zh)
WO (1) WO2020013237A1 (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11052422B2 (en) 2018-07-10 2021-07-06 Creative Coatings Co., Ltd. Electronic component manufacturing method and apparatus
WO2021181548A1 (ja) * 2020-03-11 2021-09-16 株式会社クリエイティブコーティングス 電子部品の製造方法及び装置
JP7283821B2 (ja) * 2020-04-02 2023-05-30 株式会社クリエイティブコーティングス 電子部品製造装置
JP7079511B2 (ja) * 2020-04-02 2022-06-02 株式会社クリエイティブコーティングス 電子部品の製造方法
KR20230079274A (ko) 2020-10-05 2023-06-05 가부시키가이샤 크리에이티브 코팅즈 위치 결정 지그 어셈블리 및 위치 결정 지그 그리고 전자부품 본체의 위치 결정 방법 및 반송 지그로의 장착 방법
JP2022098614A (ja) * 2020-12-22 2022-07-04 株式会社村田製作所 電子部品の製造装置および電子部品の製造方法
JP7398122B2 (ja) * 2021-06-03 2023-12-14 株式会社クリエイティブコーティングス 電子部品の製造方法及びペースト塗布装置
WO2024038690A1 (ja) * 2022-08-19 2024-02-22 株式会社クリエイティブコーティングス 電子部品の移載方法及び装置

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5987073A (ja) * 1982-11-10 1984-05-19 Canon Inc 塗布方法
JPS6345813A (ja) 1986-08-13 1988-02-26 株式会社村田製作所 電子部品の電極形成方法
JPH0636899B2 (ja) * 1990-03-17 1994-05-18 太陽誘電株式会社 電子部品端部のペースト塗布方法
JP2934029B2 (ja) * 1991-02-18 1999-08-16 太陽誘電株式会社 外部電極用導電性ペ―ストの付着方法
JP2682250B2 (ja) 1991-03-20 1997-11-26 株式会社村田製作所 電子部品チップ用ホルダおよび電子部品チップの取扱方法
JP2671178B2 (ja) 1991-12-31 1997-10-29 太陽誘電株式会社 小形パーツ端部コーティング方法及びその装置
US5254362A (en) * 1992-10-23 1993-10-19 Motorola, Inc. Method and apparatus for deposition of solder paste on a printed wiring board
JP3641217B2 (ja) * 2000-03-31 2005-04-20 Ｔｄｋ株式会社 チップ状電子部品における端部電極形成方法及び装置
JP2002237403A (ja) 2001-02-07 2002-08-23 Atc Protech Kk 電子部品素体への電極付け方法および装置
US7038142B2 (en) * 2002-01-24 2006-05-02 Fujitsu Limited Circuit board and method for fabricating the same, and electronic device
JP2004273367A (ja) * 2003-03-11 2004-09-30 Seiko Epson Corp 導電性パターンの製造方法、電気光学装置及び電子機器
JP2005203396A (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Toshiba Corp 電子部品の製造装置、電子部品の製造方法および電子部品
WO2007007455A1 (ja) * 2005-07-08 2007-01-18 Murata Manufacturing Co., Ltd. 電子部品の外部電極形成方法および装置
JP4188972B2 (ja) * 2006-01-16 2008-12-03 Ｔｄｋ株式会社 外部電極形成方法
JP2009090479A (ja) * 2007-10-04 2009-04-30 Panasonic Corp パッド印刷装置、コーティング層の形成方法、及び光学部品
JP4561826B2 (ja) * 2007-12-28 2010-10-13 Ｔｄｋ株式会社 積層型電子部品の製造方法
CN101408525B (zh) * 2008-09-09 2010-06-23 深圳市日理江澍实业有限公司 一种氧传感器外铂金电极的制造方法
JP4636196B2 (ja) * 2009-05-27 2011-02-23 株式会社村田製作所 部品整列装置及び電子部品の製造方法
JP2012028465A (ja) * 2010-07-21 2012-02-09 Tdk Corp 電子部品の製造方法
KR20120054843A (ko) * 2010-11-22 2012-05-31 삼성전기주식회사 전극 형성 장치 및 이를 이용한 전극 형성 방법
JP6386266B2 (ja) * 2014-06-27 2018-09-05 テイ・エス テック株式会社 収納容器
JP2016082209A (ja) * 2014-10-22 2016-05-16 株式会社村田製作所 チップの製造装置及びチップの製造方法
JP6633829B2 (ja) 2014-11-21 2020-01-22 株式会社クリエイティブコーティングス 電子部品の製造方法及び装置
JP2016137437A (ja) * 2015-01-27 2016-08-04 株式会社デンソー 塗装装置及び塗装方法
TW201813724A (zh) 2016-10-14 2018-04-16 創力艾生股份有限公司 電子零件的製造方法及裝置以及電子零件
CN108074691A (zh) * 2016-11-11 2018-05-25 株式会社创力艾生 电子部件的制造方法和装置以及电子部件
EP3363562A1 (de) 2017-02-16 2018-08-22 Siemens Aktiengesellschaft Verbesserte additive fertigung
JP2018168952A (ja) 2017-03-30 2018-11-01 Ntn株式会社 グリース補給用軸受間座・軸受組およびスピンドル装置
US11052422B2 (en) 2018-07-10 2021-07-06 Creative Coatings Co., Ltd. Electronic component manufacturing method and apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
US11338317B2 (en) 2022-05-24
KR20210030893A (ko) 2021-03-18
JP2020043330A (ja) 2020-03-19
US20210308717A1 (en) 2021-10-07
WO2020013237A1 (ja) 2020-01-16
TWI749337B (zh) 2021-12-11
CN111512402B (zh) 2023-02-21
EP3598467A1 (en) 2020-01-22
KR20200006505A (ko) 2020-01-20
JP6787605B2 (ja) 2020-11-18
CN110706924B (zh) 2022-04-01
JP6787620B2 (ja) 2020-11-18
US20200016624A1 (en) 2020-01-16
US11602766B2 (en) 2023-03-14
CN111512402A (zh) 2020-08-07
TWI720537B (zh) 2021-03-01
CN110706924A (zh) 2020-01-17
US11052422B2 (en) 2021-07-06
TW202016957A (zh) 2020-05-01
JPWO2020013237A1 (ja) 2020-08-20
US20200147639A1 (en) 2020-05-14
EP3598467B1 (en) 2022-08-31
KR102587410B1 (ko) 2023-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW202006756A (zh) 電子零件的製造方法及裝置
TW201813724A (zh) 電子零件的製造方法及裝置以及電子零件
JP2011143390A (ja) インクジェット塗布装置及び方法
JP2009298108A (ja) インクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド
JP6633829B2 (ja) 電子部品の製造方法及び装置
JP2011110524A (ja) 塗布装置
JP2007075812A (ja) 電子部品の導電性ペースト塗布装置及び方法
CN101213627A (zh) 用于形成电子元件的外部电极的方法和装置
JP6623113B2 (ja) 電子機器製造装置
JP2001062362A (ja) ペースト塗布方法及びペースト塗布装置
JP2011119294A (ja) 塗布装置および塗布方法
TWI690950B (zh) 電子零件的製造方法及裝置
KR20190025568A (ko) 도포 패턴 형성 방법, 도포 패턴 형성 장치, 및 도포 패턴이 형성된 기재
JP6245887B2 (ja) 基板製造方法及び基板製造装置
JP2021057448A (ja) 電子部品の製造装置及び製造方法
KR102187028B1 (ko) 곡면 커버렌즈와 액정디스플레이의 합착방법
JP3868298B2 (ja) 配線形成方法、配線形成装置および配線基板
JP2016198717A (ja) 塗布装置、及び、それを用いた塗布方法
JP6242122B2 (ja) 塗布ユニットと、それを用いた塗布装置および塗布方法
WO2021019675A1 (ja) ３次元積層造形による電子回路製造方法
JP5965206B2 (ja) 細線へのコーティング方法及び該コーティング方法によって製造される被覆細線の製造方法
JP2006231121A (ja) ブレード塗布装置及びブレード塗布方法
JP2006130460A (ja) 微細パターン修正装置
JPH07156364A (ja) スクリーン印刷方法及びその装置