JPS5987073A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は塗布方法、％には塗布ノ・う金主じない塗布方
法に関する。

従来より塗料中に被塗布基体を浸漬し、液面に対し、垂
直方向に引き上げて塗工する方法ｔま浸漬塗布方法とし
てよく知られている。

このような浸漬塗布方法においては、塗布むらが非常に
大きな問題である。むらがあると、例えば、電子写真感
光体の感光層の場合には、電子写真特性において受容電
位や感度のむらを生じ、画像が乱れる原因となる。

塗布むらには、塗料の濃度が不均一なことから起こる膜
厚のむらがあり、特に塗料の表面は溶剤の蒸発により濃
度が不均一になりやすい−これを防止するには、塗料を
常に攪拌したり循還したりする方法があるが、これはあ
まり強く行うと塗料の液面を波立たせたり、濃度不均一
をかえって増大させることにもなる。また、基体を引き
上げると、その表面に形成された塗膜に含まれる溶剤は
直ちに自然乾燥され始まるが、周囲の空気の流れは一定
しているものではないから、溶剤の蒸気濃度が不均一で
あり、そのために乾燥むらを起こしやすい。また、塗布
装置の動き、作業者の動きなどにより風が発生して基体
に当たると急激に乾燥して表面温度が低下し、水蒸気が
露結する恐れもある。このような原因で生ずるむらは塗
膜の乾燥後に不均一な模様となって現れる。さらシて型
動による段むらやすじむらが出ることもあり、完全にむ
らを無くすることはむずかしかっり、。

而して本発明は、塗布むらを非′帛に少くなくできる塗
布方法？：　１’Ｕ供すること金主たる目的とする。

本発明による塗布方法は、円柱状の基体（ｒ塗料中に浸
漬した後、円柱状の基体を回転させながら引き上げて塗
布すること全特徴とするものでｔ）る。即ち、本発明で
は、基体を塗料中から引き−にげる際に、基体を回転さ
せることにより塗料や乾燥状態の不均一さは、基体の周
方向で平均化され、むらが抑えられる。ｌ持に基体は円
柱状であるから、回転によるむらの防止には有効であり
、特に、すじむら、風によるむら、手前と奥側の膜厚相
違むらについては大きな効果が見られる。基体の回転速
度は、塗液を波立たせない範囲で速い方がむらは少ｌな
い。

実験したところ、回転速度は基体の引き上げ速度にも関
係しており、基体の引き上は速度が毎分１（１ｍの時々
には、毎分１回転以上の回転速度、すなわち、基体の１
回転の間の引き上げ距離は毎分１０ｃｒｎ以下が特に好
適であった。また、基体の塗料中からの引き上けは、塗
料を収容する槽を引き下げることで、相対的に基体を引
き上けてもよい。このような方法による浸漬塗布方法に
、高鞘ＬＷが要求される用途に有効で」）す、例えば、
■、子写真感光体の製造に有効でを）る。■、子方＾感
光体は適用される電子写真プロセスの種類に応じて種々
の構成をとるものであるが、一般には基体の上に、光導
電材料を含む感光層、さらに必要に応じてその上に絶縁
層が形成されてなるものである、また、基体と感）Ｙ；
層の間にｔま、下引き層と呼ばれる樹脂層を備えたもの
もある。このような感光層、絶縁層又ｔま下引き層を本
発明による塗布方法で形成することによって、画像むら
のない高品位の電子写真感光体を製造することができる
。

第１図に本発明による塗布方法の実施例に用いる塗布装
置の一態様を示す。

図中３は中が空洞になっていて、片端が開放で片端が閉
じている円柱状の基体で、これはチャラギング器７で固
定される。４は基体回転用モーターで、これにより、基
体は回転される。

５Ｑま昇降用ねじて、これは駆動モーター６により回転
し、基体を上下させるものである。

塗料１は容器２に収容されている。

実施例 下部が開放し、上部が閉じた６０φＸ　２　（ｉ　０　
ｗｍのアルミニウムシリンダーを基体とした。

これにまず、下引き層としてポリアミド樹脂を塗布する
。ポリアミ１ド樹脂（商品名ニドレジンＥＦ’３０Ｔ、
帝国化学製）１００部（重量部、以下同様ノヲメタノー
ル５００部、およびトルエン３００部に溶解した。この
塗液を第１図に示すような塗布装置の塗布槽に投入した
、基体を下降させて浸漬し、まず、基体全回転させない
で、１０ｃｒｎ／分の速度で引き上げた。

１０００Ｃで乾燥させた後、膜厚を測定した。ま膜厚を
測定すると、０．４４〜０．４６μのむらがあった。同
じく、基体の中央部では０．４６〜０．４８μ、下から
３０の所でＦｌｏ、４７〜０．４９μであった。

次に、別な基体を用い、基体を浸漬させた後、基体を毎
分２回転で回転させながら、１０（Ｍ／分の速度で引き
−にけた。乾燥後、上記と同様に膜Ｊ？を測定すると、
上部では０．４４μで一定、中央部では０．４６μで一
定、下部は０．４６　／１で一定であった。このようｆ
回転しながら塗布する方がむらは少くなった。

次に下記構造式のジスアゾ顔料？ＩＯ部酢酸醋酸セルロ
ース樹脂（商品名：　ＣＡＢ−３８１ｉイーストマン化
学製）６部およびシクロヘキサノン６０部をｌφガラス
ピーズを用いたサンドミル装置で２０時間分散した。こ
の分散液にメチルエチルケトン１００部を加えて塗液と
した。

回転させながら下引き層を塗布した基体を用い、下引き
層の上に分散液を塗布した。基体を毎分２回転で回転さ
せなから８−７分の速度で引き上け、５０°Ｃで乾燥し
た。乾燥後、特願昭５７−３３２９０に記載されている
方法で、塗布ｒまを測定した。上部、中央部、下部、い
ずれでも塗布ＩＩ“”（ｉｔ　８０ｍｇ／ｎ？であり、
一様であった。

これに対１７、基体を回転させないで塗布してみると、
」二部、中央部、下部、いずれでも円周方向で７９〜８
２ｒｒ＋ｇ／ｍ’のむらがあった。このように回転させ
ながら引き」：げる力がむらし１少かった。

次いで、下記＜Ｐｉ　造式のヒドラゾン化合物ｆｆ１ｌ
（］部 スチレン−メタクリル酸メヂルコボリマー（ｎＱ品名：
　ＭＳ２００　；　！Ｉ！！鉄化学製）１５部１丁トル
エン１００部に溶解して、塗液とした。この塗液全上記
分散層の上に、１２ｍ／分の速度で引き一１二げて塗布
した。この、鳴合は特に回転させなくても円１、゛Ｊ力
方向むらは発生せず、１５７１厚に塗布され飢 このよう匠−シて、塗布むらがなｌ／′１電子写真感）
Ｙ；　（ＩＦを峙造することかでｆ！！た。

４、　　Ｉ”２１面の筒中な説、間 第１図Ｃ］本発明に用いる巧′布装置ｉ１の説明図であ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　円柱状基体を塗料中に浸漬した後、該基体を
   回転させながら引き上げて塗布することを％徴とする塗
   布方法。