JP7283821B2 - 電子部品製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、治具に保持された複数の電子部品本体に導電性ペーストを塗布する電子部品製造装置に関する。

本願出願人は、例えば積層セラミックコンデンサー・インダクタ・サーミスタ等の電子部品本体の端面に導電ペースト層を浸漬塗布して、電子部本体品に外部電極を形成して電子部品を製造する装置及び方法を提案している（特許文献１）。特許文献１の図１（Ｂ）には、電子部品本体の端面に導電ペースト層を浸漬塗布する塗布工程の前工程として、プリプレス方法が開示されている。図１９に示すように、プリプレス工程では、主面１に導電ペーストが敷き詰められていない定盤２に対して、電子部品本体３を下降させ、電子部品本体３の端面４を定盤２の主面１に接触させる。その後、電子部品本体３は上昇される。同時にプリプレスされる複数の電子部品本体３を保持する治具（キャリアプレート）５は、例えばゴム製の治具本体６に電子部品本体３が嵌入される貫通孔７を有する。複数の電子部品本体３は、全長がＬ１、Ｌ２と異なり、全長差ΔＬのばらつきを有する。プリプレス工程の実施により、複数の電子部品本体３の各々が貫通孔７より突出する長さＬ、つまり、治具本体６から複数の電子部品本体３の各々の端面４に至る高さＬが均一になる。それにより、全長差ΔＬの存在に拘わらず、複数の電子部品本体３の各々の端面４の位置を揃えることができる。

特許第６６３３８２９号公報

同時にバッチ処理される電子部品本体３の数が多くなると、図１９に示す治具本体６の孔７に電子部品本体３が嵌入させることが困難となる。そこで、複数の電子部品本体３を保持する他の治具として、剛体である基材に形成された接着層に電子部品本体３を接着して保持することが考えられる。しかし、治具に接着保持された電子部品本体３の端面４を定盤２に接触させてプリプレスしても、図１９に示す治具５の孔７の機能がないため、複数の電子部品本体３の各々の端面４の位置を揃えることができない。

本発明の幾つかの態様は、複数の電子部品本体を接着して保持しながら、複数の電子部品本体の各々の端面の位置を揃えるのに好適な治具を含む電子部品製造装置を提供することを目的とする。

（１）本発明の一態様は、
複数の電子部品本体の各々にペーストを塗布する塗布工程と、前記塗布工程の前に実施されるプリプレス工程と、を含む電子部品の製造方法であって、
前記プリプレス工程は、
治具に設けられた平板材料の露出表面にある接着面に複数の電子部品本体の各々の第１端部を接着させる第１工程と、
前記治具を定盤に対して相対的に移動させる第２工程と、
前記平板材料を軟化状態にして、前記複数の電子部品本体の前記各々の前記第１端部とは反対側の各々の第２端部を前記定盤に接触させることにより、前記平板材料を変形させて前記各々の第２端部の端面の位置を揃える第３工程と、
前記各々の第２端部の端面の位置が揃えられた状態で前記平板材料を硬化状態とする第４工程と、
その後、前記治具を前記定盤に対して相対的に移動させて、前記端を有する電子部品の製造方法に関する。

本発明の一態様によれば、治具に設けられた平板材料が軟化状態にあるときに、定盤に接触される複数の電子部品本体の各々の第２端部の端面の位置を揃えられ、その後平板材料が硬化される。それにより、接着により治具に保持される複数の電子部品本体は、各々の第２端部の端面の位置を揃えられて治具に保持される。こうして、複数の電子部品本体を接着して保持しながら、複数の電子部品本体の各々の端面の位置を揃えることができる。このプリプレス工程後に塗布工程を実施すると、複数の電子部品本体の各々の端面に塗布されるペーストの膜厚を均一化することができる。軟化と硬化とに相変化する平板材料として、熱可塑性樹脂（熱可塑性接着剤）、熱硬化性樹脂、熱可塑性エストラマー、熱硬化性エストラマー等を用いることができる。また、これらの樹脂またはエストラマーのうち、特に、形状記憶樹脂や、軟化及び硬化が可能な刺激応答性材料（ゲル、樹脂、エストラマー等）等を用いることができる。

（２）本発明の一態様（１）では、前記塗布工程後に、前記治具に保持された前記複数の電子部品本体の各々の前記第２端部に塗布された前記ペーストから余分なペーストを除去してペースト層を形成するペースト除去工程をさらに有することができる。この工程の追加により、複数の電子部品本体に塗布形成されるペーストの膜厚の均一性を高めることができる。

（３）本発明の一態様（１）または（２）では、前記塗布工程または前記ペースト除去工程後に、前記治具から前記複数の電子部品本体を取り外す取外し工程をさらに有し、前記取外し工程は、前記第３工程で変形されかつ前記第４工程で硬化された前記平板材料を再度軟化させることで前記治具から前記複数の電子部品本体を取り外し可能な状態とすることができる。これにより、治具から複数の電子部品本体を取り外す時の負荷を低減できる。なお、取外し工程により軟化された平板材料を再利用するには、例えば、前回の第１工程で用いられる元の形状（例えば平板）に整形されて硬化させることができる。なお、熱硬化性樹脂のように軟化と硬化との可逆相を有しない場合では、電子部品本体の取外し後の平板材料をリユースせずに材料リサイクルしてもよい。このように平板材料が使い捨てであれば、平板材料を強制変形させて形状破壊しても良い。よって、取外し工程で平板材料を再度軟化させることは必須ではない。

（４）本発明の一態様（１）または（２）では、前記塗布工程または前記ペースト除去工程後に、前記治具から前記複数の電子部品本体を取り外す取外し工程をさらに有し、前記取外し工程は、前記第３工程で変形されかつ前記第４工程で硬化された前記平板材料を、前記治具から前記複数の電子部品本体を取り外し可能な状態であって、前記軟化状態及び前記硬化状態以外の保形状態に変形させることができる。こうすると、取外し工程後の平板材料をそのまま再利用することができる。

（５）本発明の一態様（４）では、前記平板材料は形状記憶樹脂とすることができ、前記第１工程、前記第２工程及び前記取外し工程では、前記形状記憶樹脂は形状記憶された一次賦形である平板形状に設定され、前記第３工程、前記第４工程及び前記第５工程では、前記形状記憶樹脂はそれぞれ前記各々の第２端部の端面の位置を揃える前記軟化状態または前記硬化状態である任意の二次賦形に設定することができる。形状記憶樹脂の形状記憶状態（一次賦形）を、軟化状態及び硬化状態（二次賦形）以外の保形状態として有効に利用することができる。

（６）本発明の一態様（５）では、前記第２工程では、前記形状記憶樹脂の前記軟化状態への移行が開始されてもよい。こうすると、電子部品本体が定盤と接触すると同時に形状記憶樹脂が変形するので、プリプレス工程を短縮できる。もちろん、第２工程の前の第１工程で形状記憶樹脂の軟化状態への移行が開始されてもよい。

（７）本発明の一態様（３）では、前記平板材料は熱可塑性樹脂とすることができ、前記第１工程及び前記第２工程では前記熱可塑性樹脂は硬化状態であり、前記第３工程及び前記取外し工程ではガラス転移点以上の温度に設定されて前記熱可塑性樹脂は軟化状態となり、前記第４工程及び前記第５工程では前記熱可塑性樹脂は硬化状態とすることができる。市場に提供されて入手しやすい熱可塑性樹脂を、治具中の変形可能な部材として有効に利用することができる。

（８）本発明の一態様（５）～（７）では、前記治具は、基材と、前記接着面を形成する接着層とを含み、前記平板材料が前記基材と前記接着層との間に介在配置され、前記第３工程は、前記平板材料の変形に倣って前記接着層を変形させることができる。こうして、接着層が変形することで、接着して保持される複数の電子部品本体の各々の端面の位置を揃えることができる。

（９）本発明の一態様（７）では、前記熱可塑性樹脂は、熱可塑性接着剤とすることができる。平板材料として熱可塑性接着剤を用いれば、平板材料と接着層との二層構造とする必要がない。

（１０）本発明の一態様（７）または（９）では、前記取外し工程は、前記熱可塑性樹脂を型材内で軟化させることができる。こうすると、熱可塑性樹脂を再利用できる形状に確実に回復させることができる。

（１１）本発明の一態様（１）～（１０）では、前記治具、または前記治具を保持する基盤に設けられた温調部により、前記平板材料が前記軟化状態及び前記硬化状態に設定されてもよい。温調部は、加熱部と冷却部との双方を有しても良いし、例えばペルチェ素子のように加熱部と冷却部とに兼用されるものであってもよい。温調部を治具または基盤に設けることで平板材料を効率的に温調することができる。

（１２）本発明の一態様（５）または（６）では、前記治具、または前記治具を保持する基盤に設けられた温調部により、前記形状記憶樹脂が前記一次賦形及び前記二次賦形の各状態に設定されてもよい。温調部を治具または基盤に設けることで、形状記憶樹脂を一次賦形及び二次賦形の双方に切り換えて設定するように温調することができる。

（１３）本発明の一態様（１）～（１０）では、前記治具、または前記治具を保持する基盤に設けられた加熱部により、前記平板材料が前記軟化状態に設定され、前記定盤に設けられた冷却部により、前記平板材料が前記硬化状態に設定されてもよい。加熱部を治具または基盤に設けることで平板材料を効率的に加熱することができ、冷却部を定盤に設けることで複数の電子部品本体を介して平板材料を冷却することができる。しかも、加熱部と冷却部とを離隔して配置することで、一方が他方に及ぼす悪影響を低減できる。

（１４）本発明の一態様（５）または（６）では、前記治具、または前記治具を保持する基盤に設けられた加熱部により、前記形状記憶樹脂が前記軟化状態及び前記一次賦形に設定され、前記定盤に設けられた冷却部により、前記形状記憶樹脂が前記硬化状態に設定されてもよい。加熱部を治具または基盤に設けることで形状記憶樹脂を効率的に加熱して軟化状態または一次賦形に設定することができ、冷却部を定盤に設けることで複数の電子部品本体を介して形状記憶樹脂を冷却して硬化させることができる。

図１（Ａ）及び図１（Ｂ）はプリプレス工程を示す図である。 図２（Ａ）～図２（Ｃ）は塗布工程を示す図である。 図３（Ａ）～図３（Ｃ）は余分なペーストを除去する工程を示す図である。 第１及び第３実施形態の第１工程を示す図である。 第１及び第３実施形態の第２工程を示す図である。 第１及び第３実施形態の第３及び第４工程を示す図である。 第１及び第３実施形態の第５工程を示す図である。 第１実施形態の取外し工程を示す図である。 図９（Ａ）（Ｂ）は、第１実施形態により製造されるペースト層の膜厚を示す図である。 第１及び第３実施形態の第１工程を示す図である。 第２実施形態の第２工程を示す図である。 第２実施形態の第３及び第４工程を示す図である。 第２実施形態の第５工程を示す図である。 第２実施形態の取外し工程を示す図である。 治具の基材に温調部を設けた製造装置を示す図である。 治具を固定する基盤に温調部を設けた製造装置を示す図である。 治具の基材に加熱部を、定盤に冷却部を、それぞれ設けた製造装置を示す図である。 治具を固定する基盤に加熱部を、定盤に冷却部を、それぞれ設けた製造装置を示す図である。 従来のプリプレス方法を示す図である。

以下の開示において、提示された主題の異なる特徴を実施するための多くの異なる実施形態や実施例を提供する。もちろんこれらは単なる例であり、限定的であることを意図するものではない。さらに、本開示では、様々な例において参照番号および／または文字を反復している場合がある。このように反復するのは、簡潔明瞭にするためであり、それ自体が様々な実施形態および／または説明されている構成との間に関係があることを必要とするものではない。さらに、第１の要素が第２の要素に「接続されている」または「連結されている」と記述するとき、そのような記述は、第１の要素と第２の要素とが互いに直接的に接続または連結されている実施形態を含むとともに、第１の要素と第２の要素とが、その間に介在する１以上の他の要素を有して互いに間接的に接続または連結されている実施形態も含む。また、第１の要素が第２の要素に対して「移動する」と記述するとき、そのような記述は、第１の要素及び第２の要素の少なくとも一方が他方に対して移動する相対的な移動の実施形態を含む。

１．電子部品の製造方法
本実施形態に係る電子部品の製造方法は、治具に電子部品本体を保持して実施されるプリプレス工程と塗布工程とを含み、必要により、塗布工程後に実施されるペースト除去工程を含むことができる。塗布工程またはペースト除去工程後に、電子部品本体が治具から取り外される。以下、各工程について概説する。

図１～図３は、電子部品の製造方法として、コンデンサーの外部電極成形方法の主たる工程を模式的に示している。電子部品本体１０のプリプレス工程、塗布工程およびペースト除去工程に兼用することができる定盤３０は、例えばセラミック、御影石、金属等で形成される。定盤３０上にはスキージユニット４０が設けられる。スキージユニット４０は、定盤３０の表面３１に沿って移動可能である。スキージユニット４０は、導電ペーストのディップ層５０を均一高さで敷き詰める例えば金属製のブレード４２と、定盤３０の表面３１から導電ペーストを掻き取る例えばゴム製のブレード４４とを、それぞれ独立して昇降可能に支持している。

定盤３０の上方には、固定盤３４に対して昇降可能な可動盤３２が配置されている。治具２０は可動盤３２に着脱自在に支持されるため、可動盤３２を基盤とも称する。固定盤３４には昇降モーター３６が支持され、昇降モーター３６により回転駆動されるねじ軸３８により可動盤３２が昇降される。

１．１．プリプレス工程
図１（Ａ）に示すように、予め複数の電子部品本体１０が保持された治具２０が、外部電極形成装置へ搬入される。電子部品本体１０は、第１端部１２Ａが治具２０に保持される固定端部となり、第２端部１２Ｂが自由端となる。搬入された治具２０は可動盤３２に固定される。図１（Ｂ）は、電子部品本体１０の端面高さの調整工程（プリプレス工程）を示している。図１（Ｂ）では、導電ペーストが敷き詰められていない定盤３０に対して、可動盤３２により電子部品本体１０を相対的に下降させ、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂの端面１２Ｂ１を定盤３０に接触させる。その後、可動盤３２により電子部品本体１０は相対的に上昇される。それにより、電子部品本体１０の端面１２Ｂ１の高さが均一になる。

１．２．塗布工程
図２（Ａ）～図２（Ｃ）は、導電ペーストの塗布工程を示している。図２（Ａ）では、所定高さに設定されたブレード４２をスキージユニット４０により水平移動させて、定盤３０上に導電ペーストによる一定高さのディップ層５０を形成する。図２（Ｂ）では、可動盤３２により電子部品本体１０を下降させ、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂを定盤３０上のディップ層５０に浸漬させる。この際、電子部品本体１０の端面１２Ｂ１を定盤３０の表面３１に接触させても良く、あるいは接触させなくても良い。その後、可動盤３２により電子部品本体１０は上昇される。それにより、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂに導電ペースト層１４が形成される。

１．３．ペースト除去工程
図３（Ａ）～図３（Ｃ）は、ペースト除去工程（ブロット工程）を示している。図３（Ａ）は、定盤３０の表面３１と接触するように下降されたブレード４４をスキージユニット４０により水平移動させて、定盤３０上の導電ペーストを掻き取る工程を示している。図３（Ｂ）では、可動盤３２により電子部品本体１０を下降させ、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂに形成された導電ペースト層１４を定盤３０に接触させる。その後、可動盤３２により電子部品本体１０は上昇される。それにより、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂの余分なペーストが定盤３０に転写されて、平坦化された導電ペースト層１４Ａが形成される。なお、図３（Ａ）～図３（Ｃ）に示す従来のペースト除去工程に代えて、本願出願人により提案された特許第６６３３８２９号（注：スライドブロット）、特願２０１９―１２５３６９（注：ヘリカルブロット）またはＰＣＴ／ＪＰ２０２０／０１０４４８等に記載されたペースト除去工程を用いると、導電ペースト層１４Ａがさらに改善される。

２．第１実施形態
次に、第１実施形態に係るプリプレス工程及び取り外し工程の詳細について、図４～図８を参照して説明する。図４において、治具２０は、基材２１と、平板材料２２とを含む。基材２１は保形性を有する剛体であり、図１（Ａ）等に示す可動盤３２に着脱自在に支持される。基材２１は、平板材料２２を支持する支持部としても機能する。基材２１及び平板材料２２は、定盤３０の表面３１と平行に配置される。平板材料２２は例えば形状記憶樹脂とすることができる。形状記憶樹脂２２が接着機能を有しない場合には、形状記憶樹脂２２の露出表面に接着層２３が形成される。接着層２３は、電子部品本体１０の第１端部１２Ａを接着する接着面を形成する。

形状記憶樹脂２２は、形状記憶樹脂を型内にて成形した時の成形品の形状を固定する「固定相」と、温度変化に伴い軟化と硬化が可逆的に起こる「可逆相」の２相構造よりなる。以下、本明細書では、固定相を形状記憶状態、可逆相の一方を軟化状態、可逆相の他方を硬化状態と称する。また、固定相での形状を一次賦形と称し、軟化後に硬化したときの形状を二次賦形と称する。形状記憶樹脂２２は、粉末状あるいはペレット状で供給された樹脂を加熱・溶融し、金型等に注入・賦形したのちに冷却工程を経て一次賦形の形に成形される。形状記憶樹脂２２は、一次賦形されたものを、適切な二次賦形温度で任意の形状に変形し、応力を加えたまま、室温まで冷却すると二次賦形の形で固定される。形状記憶樹脂２２は、二次賦形されたものを、再度適当な温度にまで加熱すると、一次賦形された時の形状に回復する。形状記憶樹脂は、例えば、色材，６３［６］３５３－３５９．１９９０に記載されている。

２．１．第１工程
図４は、プリプレス工程中の第１工程を示している。第１工程では、電子部品本体１０の第１端部１２Ａが、治具２０の接着層２３に接着される。なお、複数の電子部品本体１０を一括して治具２０の接着層２３に接着するために、複数の電子部品本体１０を整列して保持する整列治具が用いられる。ここで、本実施形態で用いられた形状記憶樹脂２２は、市販されているJmade 形状記憶プラスチック（面状保持タイプ、平板の厚さは０．４ｍｍ、形状回復温度６０℃）である。形状記憶樹脂２２を常温として実施される第１工程では、形状記憶樹脂２２の形状は、一次賦形された０．４ｍｍ厚の平板（形状記憶状態）である。治具２０に保持される複数の電子部品本体１０は、接着層２３から端面１２Ｂ１に至る長さがＬ１、Ｌ２と異なり、ばらつきΔＬ＝Ｌ２－Ｌ１を有することがある。この場合、２つの電子部品本体１０の端面１２Ｂ１の位置が揃っていない。

２．２．第２工程
図５は、プリプレス工程中の第２工程を示している。第２工程では、治具２０を定盤３０に対して相対的に移動させる。図５では、固定された定盤３０に対して治具２０を下降させている。この第２工程でも、形状記憶樹脂２２の形状は、一次賦形された０．４ｍｍ厚の平板（形状記憶状態）である。

２．３．第３工程及び第４工程
図６は、プリプレス工程中の第３工程及び第４工程を示している。第３工程では、形状記憶樹脂２２をガラス転移点よりも高い例えば７０～１２０℃に加熱して軟化状態として、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂを定盤３０に所定時間に亘って接触させる。軟化温度はガラス転移点以上で融点未満とすることができる。それにより、形状記憶樹脂２２及び接着層２３を加圧変形させる。形状記憶樹脂２２の形状は二次賦形となる。なお、第２工程中に形状記憶樹脂２２の強制加熱を開始しても良い。第４工程では、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂを定盤３０に接触させたまま、形状記憶樹脂２２をガラス転移点未満から常温の範囲に例えば強制冷却して硬化状態とする。形状記憶樹脂２２は二次賦形のままで硬化される。第３工程及び第４工程の実施により、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂの端面１２Ｂ１の位置は、定盤３０の表面と面一に揃えることができる。

２．４．第５工程
図７は、プリプレス工程中の第５工程を示している。第５工程では、治具２０を定盤３０に対して相対的に移動させて、端面１２Ｂ１の位置が揃えられた電子部品本体１０を定盤３０より引き離す。これにより、プリプレス工程は完了する。なお、図７では、固定された定盤３０に対して治具２０を上昇させている。また、この第５工程は、二次賦形された形状記憶樹脂２２を常温として実施することができる。

２．５．取外し工程
プリプレス工程の完了後に、上述された塗布工程と、さらに必要によりペースト除去工程とが実施される。いずれにしろ、治具２０に保持された電子部品本体１０に対する処理が完了したら、電子部品本体１０は治具２０から取り外される。そのために、取外し工程では、治具２０から電子部品本体１０を取り外し可能な状態であって、軟化状態及び硬化状態の形状（二次賦形）以外の保形状態に、形状記憶樹脂２２を変形させる。形状記憶樹脂２２の場合、二次賦形以外の保形状態として一次賦形に回復させることができる。形状記憶樹脂２２は、形状回復温度例えば６０℃以上に再加熱することで二次賦形から一次賦形に回復することで、図８に示す通り平板となる。それにより、接着層２３も平坦化されるので、接着層２３から電子部品本体１０を容易に取り外すことができる。

２．６．評価
第１実施形態の製造方法によって製造された電子部品本体１０の第２端部１２Ｂに形成されたペースト層１４Ａの膜厚を評価した。なお、塗布工程後に実施されるペースト除去工程は、本願出願人により提案された特許第６６３３８２９号に開示されたブロット工程を用いた。

評価にあたり、図４（Ａ）に示す長さＬ１，Ｌ２に対応する規格長さが６０３ｍｍのものを一対で２種類ずつ用意し、一対毎にペースト層１４Ａの膜厚のばらつきを評価した。各２種類の長さの電子部品本体１０について、第１実施形態の製造方法を用いて形成されたペースト層１４Ａの膜厚（実施例）と、第１実施形態の製造方法を用いることなく形成されたペースト層１４Ａの膜厚（比較例）と、を比較した。比較例は、第１実施形態のプリプレス工程で第３及び第４工程で形状記憶樹脂２２の加熱／冷却を停止した。図４（Ａ）に示す長さＬ１の電子部品本体１０を比較例１または実施例１とする。図４（Ａ）に示す長さＬ２の電子部品本体１０を比較例２または実施例２とする。一対の比較対象である比較例１、２では、図４（Ａ）に示す電子部品本体１０の長さＬ１，Ｌ２のばらつきΔＬが、ペースト層１４Ａにも反映している。なお、電子部品本体１０の長さＬ１，Ｌ２のばらつきΔＬが大きいものを一対の評価対象とするために、異なるメーカーの製品を一対の評価対象とした。

ペースト層１４Ａの膜厚のばらつきは、比較例１、２間では３９～８８μｍであったものが、実施例１、２間では２～１８μｍであった。つまり、図４（Ａ）に示す電子部品本体１０の長さＬ１，Ｌ２のばらつきΔＬが３９～８８μｍであっても、第１実施形態の方法によりペースト層１４Ａの膜厚のばらつきが２～１８μｍに抑えられることが分かった。

一例として、図４（Ａ）の長さＬ１に相当する比較例１のペースト層１４Ａの最大膜厚が７９μｍであったものが、実施例１では図９（Ａ）に示す通りペースト層１４Ａの最大膜厚は３７μｍであった。図４（Ａ）の長さＬ２に相当する比較例２のペースト層１４Ａの最大膜厚が２４μｍであったものが、実施例２では図９（Ｂ）に示す通りペースト層１４Ａの最大膜厚は３８μｍであった。一対の比較例１，２間でのペースト層１４Ａのばらつきは５５μｍ（７９－２４）であつたものが、一対の実施例１，２間でのペースト層１４Ａのばらつきはわずか１μｍ（３８－３７）まで抑えられた。

上述された評価は、図４（Ａ）に示す電子部品本体１０の第２端部１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａに関するものである。第２端部１２Ｂにペースト層１４Ａが形成された電子部品本体１０は、上述された取外し工程により治具２０から取り外される。その後、ペースト層１４Ａが形成された第２端部１２Ｂが治具２０に保持されて、電子部品本体１０の第１端部１２Ａに同様にしてペースト層１４Ａが形成される。

そこで、図４（Ａ）に示す電子部品本体１０の第１端部１２Ａに形成されるペースト層１４Ａについても評価した。その際、第１実施形態の方法によって製造された評価対象のうち、図４（Ａ）の長さＬ１に相当する実施例１の電子部品本体１０の第２端部１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａの膜厚が、３２～４０μｍの範囲のものを選択した。この実施例１の電子部品本体１０の第１端部１２Ａに、第１実施形態の方法によって形成されたペースト層１４Ａの膜厚は、３２～４５μｍであった。つまり、第２端部１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａの膜厚のばらつきが８μｍ（４０－３２）であり、第１端部１２Ａに形成されるペースト層１４Ａの膜厚のばらつきが１３μｍ（４５－３２）であり、両端部１２Ａ、１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａの膜厚のばらつきは同程度であった。

次に、図４（Ａ）の長さＬ２に相当する実施例２の電子部品本体１０の第２端部１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａの膜厚が、３１～３８μｍの範囲のものを選択した。この実施例２の電子部品本体１０の第１端部１２Ａに、第１実施形態の方法によって形成されたペースト層１４Ａの膜厚は、３５～４０μｍであった。つまり、第２端部１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａの膜厚のばらつきが７μｍ（３８－３１）であり、第１端部１２Ａに形成されるペースト層１４Ａの膜厚のばらつきが５μｍ（４０－３５）であり、両端部１２Ａ、１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａの膜厚のばらつきは同程度であった。

以上の評価結果により、第１実施形態によれば、図４（Ａ）に示す複数の電子部品本体１０の長さＬ１，Ｌ２のばらつきΔＬが、複数の電子部品本体１０の第１、第２端部１２Ａ、１２Ｂに形成されるペースト層１４Ａの膜厚差に反映される度合いを低減できることが分かる。それにより、複数の電子部品本体１０の各ペースト層１４Ａの膜厚差を大幅に低減することができる。

３．第２実施形態
次に、第２実施形態に係るプリプレス工程及び取り外し工程の詳細について、図１０～図１４を参照して説明する。図１０において、治具２０は、基材２１と、平板材料２４とを含む。平板材料２４は例えば熱可塑性樹脂とすることができる。熱可塑性樹脂２４は、熱可塑性接着剤とすることができる。こうすると、図４に示すが接着層２３は不要となり、熱可塑性接着剤２４の露出表面が電子部品本体１０の第１端部１２Ａを接着する接着面を形成する。

熱可塑性接着剤２４は、温度変化に伴い軟化と硬化が可逆的に起こる「可逆相」を有する。熱可塑性接着剤２４は、ガラス転移点以上の温度で任意の形状に変形し、応力を加えたまま、冷却すると硬化される。熱可塑性接着剤２４は、主成分が熱可塑性樹脂の固形接着剤を溶融塗布するもので、冷えることにより固化し接着強さを発現する、例えば熱可塑性ポリエステル系ホットメルト接着剤等のホットメルト形を好適に用いることができる。

３．１．第１工程
図１０は、プリプレス工程中の第１工程を示している。第１工程では、電子部品本体１０の第１端部１２Ａが、治具２０の熱可塑性接着剤２４に接着される。第１工程で用いられる熱可塑性接着剤２４は、常温であり、平板で固化されている。治具２０に保持される複数の電子部品本体１０は、接着層２３から端面１２Ｂ１に至る長さがＬ１、Ｌ２と異なり、ばらつきΔＬ＝Ｌ２－Ｌ１を有することがある。この場合、２つの電子部品本体１０の端面１２Ｂ１の位置が揃っていない。

３．２．第２工程
図１１は、プリプレス工程中の第２工程を示している。第２工程では、治具２０を定盤３０に対して相対的に移動させる。図５では、固定された定盤３０に対して治具２０を下降させている。この第２工程でも、熱可塑性接着剤２４は、常温であり、平板で固化されている。

３．３．第３工程及び第４工程
図１２は、プリプレス工程中の第３工程及び第４工程を示している。第３工程では、熱可塑性接着剤２４をガラス転移点以上の温度に加熱して軟化状態として、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂを定盤３０に接触させる。それにより、熱可塑性接着剤２４を圧力で変形させる。第４工程では、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂを定盤３０に接触させたまま、熱可塑性接着剤２４をガラス転移点未満の常温に例えば強制冷却して硬化状態とする。熱可塑性接着剤２４は第３工程で付与された形状のままで硬化される。第３工程及び第４工程の実施により、電子部品本体１０の第２端部１２Ｂの端面１２Ｂ１の位置は、定盤３０の表面と面一に揃えることができる。

３．４．第５工程
図１３は、プリプレス工程中の第５工程を示している。第５工程では、治具２０を定盤３０に対して相対的に移動させて、端面１２Ｂ１の位置が揃えられた電子部品本体１０を定盤３０より引き離す。これにより、プリプレス工程は完了する。なお、図７では、固定された定盤３０に対して治具２０を上昇させている。また、この第５工程は、第３工程及び第４工程で変形された熱可塑性接着剤２４の形状を常温下で維持して実施することができる。

３．５．取外し工程
取外し工程では、治具２０から電子部品本体１０を取り外し可能とするために、熱可塑性接着剤２４を軟化させる。このために、熱可塑性接着剤２４をガラス転移点以上の温度に加熱する。その際、熱可塑性接着剤２４の予期しない変形を防止するために、図１４に示すように、型材６０を用いることができる。型材６０は、熱可塑性樹脂２４の露出面、特に図１４に示す熱可塑性接着剤２４の下面を覆うことができる。型材６０は、電子部品本体１０との干渉を防止する孔６１を有する。型材６０内で軟化する熱可塑性接着剤２４は、第３工程及び第４工程で付与された形状から元の平板に回復する。それにより、平坦化された熱可塑性接着剤２４から電子部品本体１０を容易に取り外すことができる。

４．第３実施形態
第３実施形態は、治具２０中の平板材料として、熱可塑性接着剤２４ではない熱可塑性樹脂２５を用いる。図４～図９では、第１実施形態の形状記憶樹脂２２に代えて、基材２１と接着層２３との間に熱可塑性樹脂２５を配置したものを図示している。よつて、第１実施形態中の形状記憶樹脂２２を熱可塑性樹脂２５に変更すれば、第１工程～第５工程において熱可塑性樹脂２５を第２実施形態と同様に相変化させてプリプレス工程を実施することができる。

取外し工程は、図１４に示す型材６０を図９の接着層２３を覆うように配置して実施することができる。あるいは、型材６０を配置しなくてもよく、接着層２３が型材６０の機能を果たしてもよい。

５．第４実施形態
次に、治具２０中の平板材料２２、２４または２５の温度調整部について説明する。なお、図１５～図１８は、第１実施形態について温度調整部を説明したものであるが、第２実視形態及び第３実施形態にも同様に適用可能である。

図１５では、治具２０の基材２１に温調部１００を設けている。温調部１００は、加熱部と冷却部との双方を有しても良いし、例えばペルチェ素子のように加熱部と冷却部とに兼用されるものであってもよい。こうすると、温調部１００は、例えば金属等の導電性の高い材料で形成できる基材２１を介して、形状記憶樹脂２２を効率よく加熱または冷却することができる。図１６では、治具２０を固定する基盤３２に温調部１００を設けている。こうすると、温調部１００は、例えば金属等の導電性の高い材料で形成できる基盤３２及び基材２１を介して形状記憶樹脂２２を効率よく加熱または冷却することができる。こうして、温調部１００を治具２０または基盤３２に設けることで、形状記憶樹脂２２を一次賦形及び二次賦形の双方に切り換えて設定するように温調することができる。

第２及び第３実施形態においては、治具２０または基盤３２に設けられた温調部１００により、熱可塑性樹脂（熱可塑性接着剤）２４，２５を軟化状態及び硬化状態に設定することができる。

図１７では、治具２０の基材２１に加熱部１１０を、定盤３０に冷却部１２０を、それぞれ設けている。図１８では、治具２０を固定する基盤３２に加熱部１１０を、定盤３０に冷却部１２０を、それぞれ設けている。治具２０または基盤３２に設けられた加熱部１１０により、形状記憶樹脂２２が軟化状態及び形状記憶状態に設定される。定盤３０に設けられた冷却部１２０により、形状記憶樹脂２２が複数の電子部品本体１０を介して冷却されて硬化状態に設定される。しかも、加熱部１１０と冷却部１２０とを離隔して配置することで、一方が他方に及ぼす悪影響を低減できる。

第２及び第３実施形態においては、治具２０または基盤３２に設けられた加熱部１１０により、熱可塑性樹脂（熱可塑性接着剤）２４，２５を軟化状態に設定することができる。定盤３０に設けられた冷却部１２０により、形状記憶樹脂２２が複数の電子部品本体１０を介して冷却されて硬化状態に設定される。

なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。

例えば、軟化と硬化とに相変化する平板材料として、形状記憶樹脂または熱可塑性樹脂（熱可塑性接着剤）の他に、熱硬化性樹脂や、軟化及び硬化が可能な刺激応答性材料等を用いることができる。刺激応答性樹脂については、例えば日本機械学会誌 2004.11Vol. 107 No.1032に記載されている。刺激応答性材料は、物理的刺激（温度、光、磁場、電流）によって性質が変化するゲル、樹脂またはエストラマー等であるが、近年、物理的刺激によって可逆的に軟化／硬化するものが、産業技術総合研究所、北海道大学、筑波大学、山形大学、慶応大学等から報告されている。よって、平板材料として可逆的に軟化／硬化する刺激応答性樹脂を用いても良い。この場合、図１５～図１８に示す温調部１００、加熱部１１０及び冷却部１２０はそれぞれ物理的刺激部に変更される。

１０…電子部品本体、１２Ａ…第１端部、１２Ｂ…第２端部、１２Ｂ１…端面、１４，１４Ａ…ペースト層、…２０…治具、２１…基材、２２…平板材料（形状記憶樹脂）、２３…接着層、２４…平板材料（熱可塑性接着剤）、２５…平板材料（熱可塑性樹脂）、３０…定盤、３２…基盤（可動盤）、５０…型材、１００…温調部、１１０…加熱部、１２０…冷却部

Claims (8)

1. 治具に保持された複数の電子部品本体の各々にペーストを塗布する電子部品製造装置であって、
   前記治具は、露出面を接着面とする平板材料を含み、前記複数の電子部品本体の各々の第１端部は前記平板材料の前記接着面に接着され、
   前記平板材料は、軟化状態および硬化状態に設定可能な、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性エラストマー、または熱硬化性エラストマーである電子部品製造装置。
2. 請求項１に記載の電子部品製造装置であって、
   前記治具は、基材と、前記接着面を形成する接着層と、を含み、
   前記平板材料が前記基材と前記接着層との間に介在配置されている電子部品製造装置。
3. 請求項１に記載の電子部品製造装置であって、
   前記熱可塑性樹脂は、熱可塑性接着剤であり、
   前記治具は、基材と、前記熱可塑性接着剤と、を有し、
   前記熱可塑性接着剤の前記露出面が前記接着面を形成する電子部品製造装置。
4. 請求項１～３のいずれか一項に記載の電子部品製造装置であって、
   前記治具、または前記治具を保持する基盤に温調部を備え、
   前記温調部により、前記平板材料が前記軟化状態及び前記硬化状態に設定される電子部品製造装置。
5. 請求項１～３のいずれか一項に記載の電子部品製造装置であって、
   前記治具に保持された前記複数の電子部品本体の各々の第２端部が接触する定盤と、
   前記治具または前記治具を保持する基盤に配置された加熱部と、
   前記定盤に配置された冷却部と、
   をさらに備え、
   前記加熱部により、前記平板材料が前記軟化状態に設定され、
   前記冷却部により、前記平板材料が前記硬化状態に設定される電子部品製造装置。
6. 請求項１に記載の電子部品製造装置であって、
   前記平板材料は形状記憶樹脂であり、
   前記形状記憶樹脂は、形状記憶された一次賦形と任意の二次賦形とに設定可能であり、前記二次賦形は前記軟化状態および前記硬化状態を含む電子部品製造装置。
7. 請求項６に記載の電子部品製造装置であって、
   前記治具、または前記治具を保持する基盤に温調部を備え、
   前記温調部により、前記形状記憶樹脂が前記一次賦形と前記二次賦形の各状態に設定される電子部品製造装置。
8. 請求項６に記載の電子部品製造装置であって、
   前記治具に保持された前記複数の電子部品本体の各々の第２端部が接触する定盤と、
   前記治具または前記治具を保持する基盤に配置された加熱部と、
   前記定盤に配置された冷却部と、
   をさらに有し、
   前記加熱部により、前記形状記憶樹脂が前記軟化状態及び前記一次賦形に設定され、
   前記冷却部により、前記形状記憶樹脂が前記硬化状態に設定される電子部品製造装置。

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