JP3868298B2 - 配線形成方法、配線形成装置および配線基板 - Google Patents

配線形成方法、配線形成装置および配線基板 Download PDF

Info

Publication number
JP3868298B2
JP3868298B2 JP2002002144A JP2002002144A JP3868298B2 JP 3868298 B2 JP3868298 B2 JP 3868298B2 JP 2002002144 A JP2002002144 A JP 2002002144A JP 2002002144 A JP2002002144 A JP 2002002144A JP 3868298 B2 JP3868298 B2 JP 3868298B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
wiring
substrate
unit
curing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002002144A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003204139A (ja
Inventor
学 矢部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2002002144A priority Critical patent/JP3868298B2/ja
Publication of JP2003204139A publication Critical patent/JP2003204139A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3868298B2 publication Critical patent/JP3868298B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0208Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to separate articles
    • B05C5/0212Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to separate articles only at particular parts of the articles
    • B05C5/0216Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to separate articles only at particular parts of the articles by relative movement of article and outlet according to a predetermined path
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/08Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
    • B05C9/14Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation involving heating or cooling

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に配線を形成する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
基板上に微細な導電性の配線を形成する際には、従来より、フォトリソグラフィが利用されている。例えば、平面表示装置に用いられるパネルを製造する際の配線形成では、スパッタ等により基板上に金属膜を形成したり、あるいは、ロールコータ、スクリーン印刷等により基板上に金属ペーストを塗布した後、レジスト塗布、乾燥、露光、現像、エッチング、剥離等の工程を経て配線領域以外の金属の除去が行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、フォトリソグラフィを利用した微細な配線を形成する手法は、非常に多くの工程を必要とするため、配線形成に要するコストが増大してしまうという問題を有する。
【0004】
一方、微小なノズルから配線材料を吐出することにより基板上に配線を形成するという手法も提案されている。しかし、ノズルから吐出された配線材料は時間とともに形状が崩れてしまうため、平面表示装置のパネルに求められる数十μm程度の幅の配線を形成することは容易ではない。半導体関連技術ではさらに幅の小さい配線が必要とされるが、この場合、ノズルからの配線材料の吐出により配線を形成することはさらに困難となる。
【0005】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、吐出口から配線材料を吐出する技術を利用しつつ、基板上に微細な配線を適切に形成することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、基板上に配線を形成する配線形成方法であって、基板の主面に沿う所定の方向へと第1吐出部を前記基板に対して相対的に移動させるとともに前記第1吐出部の複数の吐出口から前記基板に向けて隔壁材料の吐出を開始する吐出開始工程と、前記第1吐出部からの吐出を停止する吐出停止工程と、前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記基板上に吐出された前記隔壁材料により形成された複数の隔壁を順次硬化させる硬化工程と、前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記複数の隔壁の硬化と並行して、前記第1吐出部とともに第2吐出部を移動させつつ、前記第2吐出部から前記基板上の硬化後の前記複数の隔壁の間に向けて配線材料を吐出する配線材料吐出工程とを有する。
【0008】
請求項に記載の発明は、基板上に配線を形成する配線形成方法であって、基板の主面に沿う所定の方向へと第1吐出部を前記基板に対して相対的に移動させるとともに前記第1吐出部の複数の吐出口から前記基板に向けて隔壁材料の吐出を開始する吐出開始工程と、前記第1吐出部からの吐出を停止する吐出停止工程と、前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記第1吐出部とともに第2吐出部を移動させつつ、前記基板上に吐出された前記隔壁材料により形成された複数の隔壁の間に向けて前記第2吐出部から配線材料を吐出する配線材料吐出工程と、記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、硬化部により前記複数の隔壁を順次硬化させるとともに、前記基板上に吐出された前記配線材料を前記硬化部により前記複数の隔壁と同様に順次硬化させる硬化工程とを有する。
【0009】
請求項に記載の発明は、請求項1または2に記載の配線形成方法であって、前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、配線を分岐させるために前記複数の吐出口のいずれかからの吐出を一時的に停止する工程をさらに有する。
【0010】
請求項に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の配線形成方法であって、前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記基板上に吐出された前記隔壁材料を順次整形する整形工程をさらに有する。
【0011】
請求項に記載の発明は、請求項1ないしのいずれかに記載の配線形成方法であって、前記硬化工程において光の照射による硬化が行われ、前記光が硬化の対象となる材料に向けて集光される。
【0014】
請求項に記載の発明は、基板上に配線を形成する配線形成装置であって、基板に向けて複数の吐出口から隔壁材料を吐出する吐出部と、前記基板の主面に沿って前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動させる移動機構と、前記吐出部とともに移動し、前記基板上に吐出された前記隔壁材料により形成された複数の隔壁を順次硬化させる硬化部と、前記吐出部とともに移動し、前記吐出部からの前記隔壁材料の吐出と並行して前記基板上の硬化後の前記複数の隔壁の間に配線材料を吐出するもう1つの吐出部とを備える。
請求項7に記載の発明は、基板上に配線を形成する配線形成装置であって、基板に向けて複数の吐出口から隔壁材料を吐出する吐出部と、前記基板の主面に沿って前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動させる移動機構と、前記吐出部とともに移動し、前記吐出部からの前記隔壁材料の吐出と並行して前記隔壁材料により形成された複数の隔壁の間に配線材料を吐出するもう1つの吐出部と、前記吐出部とともに移動し、前記複数の隔壁を順次硬化させるとともに、前記基板上に吐出された前記配線材料を前記複数の隔壁と同様に順次硬化させる硬化部とを備える。
【0015】
請求項に記載の発明は、請求項6または7に記載の配線形成装置であって、前記吐出部とともに移動し、基板上に吐出された隔壁材料を整形する整形部材をさらに備える。
【0016】
請求項に記載の発明は、請求項6ないし8のいずれかに記載の配線形成装置であって、前記硬化部が、光の照射による硬化を行い、硬化の対象となる材料に向けて前記光を集光する。
【0017】
請求項10に記載の発明は、請求項6ないし9のいずれかに記載の配線形成装置であって、前記移動機構による前記吐出部の基板に対する移動方向および向きが変更可能とされる。
【0019】
請求項11に記載の発明は、配線基板であって、基板と、請求項1ないし5のいずれかに記載の配線形成方法にて形成された配線とを備える
【0020】
【発明の実施の形態】
1は本発明に関連する技術に係る配線形成装置1の概略構成を示す図である。配線形成装置1は、プラズマ表示装置のガラス基板(以下、「基板」という。)9上に導電性を有する配線(例えば、データ電極)を形成する装置であり、配線が形成された基板9は他の工程を介してプラズマ表示装置の組立部品であるパネル(通常、リアパネル)となる。
【0021】
配線形成装置1では、基台11上にステージ移動機構2が設けられ、ステージ移動機構2により基板9を保持するステージ3が図1中に示すX−Y平面内で移動可能とされる。基台11にはステージ3を跨ぐようにしてフレーム12が固定され、フレーム12にはヘッド部5が取り付けられる。
【0022】
ステージ移動機構2は、下段からステージ3をX方向に移動させるX方向移動機構21、Y方向に移動させるY方向移動機構22、および、Z方向を向く軸を中心に回転させるθ回転機構23を有する。X方向移動機構21は、モータ211にボールねじ212が接続され、さらに、Y方向移動機構22に固定されたナット213がボールねじ212に取り付けられた構造となっている。ボールねじ212の上方にはガイドレール214が固定され、モータ211が回転すると、ナット213とともにY方向移動機構22がガイドレール214に沿ってX方向に滑らかに移動する。
【0023】
Y方向移動機構22もモータ221、ボールねじ機構およびガイドレール224を有し、モータ221が回転するとボールねじ機構によりθ回転機構23がガイドレール224に沿ってY方向に移動する。θ回転機構23はモータ231によりステージ3をZ方向を向く軸を中心に回転させる。以上の構成により、ヘッド部5の基板9に対する相対的な移動方向および向きが変更可能とされる。
【0024】
ヘッド部5は、ベース51の下面に基板9上に配線材料を吐出する吐出部52、および、基板9に向けて紫外線を照射する光照射部53を有し、吐出部52には逆止弁521を有する供給管522が取り付けられる。供給管522は分岐しており、一方がポンプ523に接続され、他方が制御弁524を介して配線材料を貯留するタンク525に接続される。光照射部53は光ファイバ531を介して紫外線を発生する光源ユニット532に接続される。
【0025】
ステージ移動機構2の各モータ、ポンプ523、制御弁524および光源ユニット532は制御部6に接続され、これらの構成が制御部6により制御されることにより、配線形成装置1による基板9上への配線パターンの形成が行われる。
【0026】
図2は基板9上に配線材料が吐出される様子を(+Y)側から(−Y)方向を向いて見たときの様子を示す図であり、図3は(−X)側から(+X)方向を向いて見たときの様子を示す図である。以下、図1ないし図3を参照しつつ、配線形成装置1による配線形成の基本動作について説明する。
【0027】
吐出部52からの配線材料の吐出は、図1に示す逆止弁521、ポンプ523および制御弁524により行われる。まず、制御部6の制御により制御弁524が開放された状態でポンプ523が吸引動作を行う。このとき、逆止弁521により配線材料の逆流が阻止されるため、タンク525からポンプ523へと配線材料が引き込まれる。次に、制御部6の制御により制御弁524が閉じられ、ポンプ523が押出動作を行う。これにより、吐出部52から連続的に配線材料が吐出される。
【0028】
配線材料の吐出が行われる際には、制御部6がステージ移動機構2の各モータを駆動制御し、吐出部52の下方にて基板9の表面が(−X)方向に移動するように制御を行う。なお、ステージ移動機構2は基板9をXおよびY方向に移動させることが可能であるとともにZ方向を向く軸を中心に回転させることも可能であることから、基板9上の任意の第1の位置を他の第2の位置に対して(−X)側に位置させることができ、吐出部52を第1の位置から第2の位置へと(+X)方向へ相対的に移動させることができる。すなわち、吐出部52は基板9上の主面に沿って自在に相対的移動が可能であり、任意の配線パターンを形成することができる。
【0029】
一方、図1に示すように吐出部52の(−X)側にはへら状の整形部材72が取り付けられており、整形部材72が吐出部52とともに相対的に移動することにより、図2に示すように吐出部52の吐出口71から吐出された配線材料91の上面は整形部材72の下端により均すように整形される。これにより、吐出部52の速度、吐出圧、吐出口71から基板9までの高さ、材料特性等のばらつきにより基板9上の配線材料91の高さが変化した場合であっても、配線材料91の基板9上での形状を最終的におよそ一定にすることができ、配線箇所ごとの電気的抵抗のばらつきを抑えることが実現される。
【0030】
図1および図2に示すように吐出部52の進行方向(基板9に対する相対的な進行方向)の後方には光照射部53が配置され、光照射部53が吐出部52とともに基板9に対して相対的に移動しつつ光照射部53から紫外線が出射される。図2および図3に示すように光照射部53の先端にはレンズ533が取り付けられており、紫外線はレンズ533により基板9上の配線材料91に集光される。その結果、基板9上の配線材料91に効率よく順次紫外線が照射される。
【0031】
配線材料91は銀フィラーとビヒクル(樹脂、若干の有機溶剤、増粘材等を混合したもの)を有する導電性ペーストであり、樹脂には紫外線により硬化するものが若干含まれる。したがって、光照射部53の通過により配線材料91の硬化が順次行われ、配線材料91の形状が崩れて(ダレて)広がってしまうことが防止される。
【0032】
また、配線材料91の硬化により、配線材料91の基板9に接する部分の長さ(W)に対する高さ(H)の比(H/W)を大きくすることが可能となり、例えば、50μm程度の幅の配線であっても抵抗値を低く抑えつつ(すなわち、断面積を大きく維持して)高密度に形成することが実現される。
【0033】
図4は、配線形成装置1の動作の流れを示す図である。まず、ステージ3が(配線形成の)初期位置へと移動し、基板9上の配線形成の始点が吐出部52の真下へと移動する(ステップS11)。次に、光照射部53から紫外線の出射が開始され(ステップS12)、ステージ移動機構2によるステージ3の移動制御および配線材料の吐出が開始される(ステップS13,S14)。
【0034】
吐出部52による配線材料の吐出が行われている間は、既述のように、配線が形成される方向が基板9上において常に(+X)方向となるように(すなわち、配線が形成される基板9上の領域が(−X)方向へと移動するように)ステージ移動機構2が基板9の位置および向きを制御する。これにより、基板9上に1つの配線が形成される。
【0035】
基板9上の配線形成の終点が吐出部52の真下に達すると、配線材料の吐出が停止される(ステップS15)。その後、終点近傍の配線材料の整形および硬化を行うためにヘッド部5が基板9に対してさらに相対的に移動し、ステージ3の移動制御および紫外線の出射が停止される(ステップS16,S17)。次に形成すべき配線が存在する場合には、再度、ステップS11〜S17が繰り返され、全ての配線が形成された場合には配線形成装置1の動作が終了する(ステップS18)。
【0036】
以上のように、各配線を形成する際には、配線材料の吐出が開始されてから吐出が停止されるまでの間において、配線材料の整形および硬化が順次行われる。これにより、従来のようにフォトリソグラフィを利用する場合に比べて簡単に配線を形成することができ、配線基板であるパネルの製造コストを削減することができる。
【0037】
図5は、配線形成装置1により配線が形成された配線基板90の一部を示す図である。図5に示す配線基板90では、例えば、配線91aが始点911aから終点912aに向けて形成され、その後、配線91bが始点911bから終点912bに向けて形成される。このように、配線形成装置1では基板9に対する吐出部52の相対的移動方向および向きを変更することができ、配線を分岐させたり、曲線や折線の配線を形成することにより任意の配線パターンを形成することができる。なお、配線形成装置1により形成された配線は別途焼成され、有機物が除去される。
【0038】
6は、本発明の一の実施の形態に係る配線形成装置のヘッド部5およびその周辺構成を示す図である。配線形成装置は隔壁を利用して配線を形成する装置となっている。配線形成装置の他の部分の構成は上述の関連技術に係る配線形成装置1と同様であり、以下、同符号を付して説明を行う。
【0039】
実施の形態におけるヘッド部5は関連技術におけるヘッド部5に隔壁材料を吐出するもう1つの吐出部52aが追加されたものとなっており、隔壁材料を吐出する吐出部52aには、配線材料を吐出する吐出部52と同様に、逆止弁521aを有する供給管522aが取り付けられ、供給管522aが分岐して一方がポンプ523aに接続され、他方が制御弁524aを介して隔壁材料を貯留するタンク525aに接続される。吐出部52aからの隔壁材料の吐出は吐出部52と同様に行われ、制御部6によるポンプ523aの吸引および押出動作、並びに、制御弁524aの開閉動作により行われる。
【0040】
なお、吐出部52aの(−X)側には隔壁の形状を整える整形部材72aが取り付けられており、吐出部52には整形部材は設けられない。
【0041】
図7は(+Y)側から(−Y)方向を向いて見たときのヘッド部5からの吐出の様子を示す図であり、図8は(−X)側から(+X)方向を向いて見たときの様子を示す図である。
【0042】
吐出部52aはY方向に並ぶ2つの吐出口71aを有し、Y方向に関して吐出口71aは配線材料91を吐出する吐出部52(の先端のノズル520)の両側に位置する。吐出部52aは、吐出部52に対して基板9に対する移動方向の前方に位置するとともに、吐出部52とともに基板9に対して相対的に移動するため、基板9上の同一箇所に対して隔壁材料92が配線材料91に先立って吐出されることとなる。
【0043】
基板9上に吐出された隔壁材料92の上面は吐出部52aに取り付けられて吐出部52aとともに相対的に移動するへら状の整形部材72aの先端により均すように整形され、これにより、基板9上に2つの隔壁921が形成される。さらに、図7および図8に示すように吐出部52aの後方において光照射部53による紫外線の照射が行われる。紫外線は、図8に示すように光照射部53の先端の2つのレンズ533により2つの隔壁921上に集光される。隔壁材料92はセラミックスに紫外線硬化樹脂を混入したものであり、紫外線が集光されつつ照射されることにより隔壁921の硬化が効率よく順次行われる。
【0044】
そして、光照射部53の後方では吐出部52が紫外線硬化樹脂を含まない配線材料91を隔壁921の間に吐出する。すなわち、図6に示す配線形成装置では、隔壁間に配線が形成される。
【0045】
紫外線の照射により、隔壁921の形状を安定させることができ、隔壁921の基板9に接する部分の長さ(W)に対する高さ(H)の比(H/W)を大きくすることが可能になる。また、整形部材72aにより隔壁921の高さが一定に保たれるため、隔壁921に沿って塗布される配線材料91の断面形状のばらつきを抑えることができる。
【0046】
さらに、隔壁921の間に配線が形成されることから配線材料91の粘度が低い場合であっても配線を形成することができる。その結果、配線材料91に含まれる樹脂成分を減らすことができ、導電性に優れた緻密な配線を行うことができる。なお、配線材料91に紫外線硬化樹脂を若干混入して吐出部52(ノズル520)と光照射部53との配置を入れ替えることにより、配線材料91が隔壁921と同様に硬化されてもよい。これにより、配線の端部にて配線材料91が若干流れ出てしまうことが防止される。
【0047】
図9は配線形成装置の動作の流れを示す図である。配線形成装置の動作は関連技術に係る配線形成装置1の動作に吐出部52aの動作が追加されるという点を除いて同様である。
【0048】
まず、ステージ3が(配線形成の)初期位置へと移動することにより、基板9上の配線形成の始点が吐出部52aの真下へと移動する(ステップS21)。次に、光照射部53から紫外線の出射が開始され(ステップS22)、ステージ移動機構2によるステージ3の移動制御および隔壁材料の吐出制御が開始される(ステップS23,S24)。
【0049】
その後、吐出部52が隔壁の端部に差し掛かると(または、差し掛かった後の一定時間経過後に)、吐出部52から配線材料の吐出が開始される(ステップS25)。
【0050】
ステージ3の移動制御は、関連技術と同様に、配線が形成される方向が基板9上において常に主面に沿いつつ(+X)方向となるようにステージ移動機構2が基板9の位置および向きを制御する。したがって、配線材料を吐出する吐出部52は隔壁材料を吐出する吐出部52aの後を追うように基板9上を相対的に移動することとなる。これにより、隔壁間に配線材料が順次塗布される。
【0051】
基板9上の配線形成の終点が吐出部52aの真下に達すると、隔壁材料の吐出制御が終了し(ステップS26)、光照射部53が隔壁形成の終点を通過すると紫外線の出射が停止される(ステップS27)。さらに、隔壁形成の終点が吐出部52の真下に達すると配線材料の吐出も停止される(ステップS28)。その後、ステージ3の移動制御が停止される(ステップS29)。次に形成すべき配線が存在する場合には、再度、ステップS21〜S29が繰り返され、全ての配線が形成された場合には配線形成装置1の動作が終了する(ステップS30)。
【0052】
以上の動作により、各配線を形成する際には、隔壁材料の吐出が開始されてから吐出が停止されるまでの間において、隔壁材料の整形、隔壁材料の硬化および配線材料の吐出が順次行われる。
【0053】
なお、ステップS24からステップS26までの間に行われる吐出部52aからの隔壁材料の吐出制御は、2つの吐出口71aに対して互いに独立して行うことが可能とされており、2つの吐出口71aの少なくともいずれかからの隔壁材料の吐出が適宜、一時的に停止されつつ隔壁の形成が行われる。すなわち、図9において図示を省略しているが、ステップS24からステップS26までの間において、隔壁材料の吐出を一時的に停止する工程が必要に応じて実行される。
【0054】
図10および図11は、基板9上に配線が形成される様子を説明するための図である。図10は1つの配線91aが始点911aから終点912aに向かって形成された様子を示しており、配線材料91の両側の隔壁921のうち、一方に間隙922が設けられる。すなわち、間隙922において一方の吐出口71aからの隔壁材料の吐出が一時的に停止されて配線91aが形成される。
【0055】
その後、図11に示すように配線91bが間隙922を始点として終点912bに向けて形成される。その結果、配線91aの配線材料91と配線91bの配線材料91とが間隙922において電気的に接続され、配線の分岐が実現される。また、配線形成装置1では基板9に対する吐出部52の相対的移動方向および向きを変更することができることから、配線形成装置1により配線を任意に分岐させたり、曲線や折線の配線を形成することができる。なお、隔壁および配線材料が形成された配線基板90は別途焼成され、隔壁および配線材料から有機物が除去される。
【0056】
以上のように、配線形成装置では、ヘッド部5の1回の移動(基板9に対する相対的移動)により、隔壁の形成および配線材料の塗布を並行して行うことができ、パターニングに要する時間を削減することができる。その結果、配線基板であるパネルの製造コストおよび製造時間を削減することができる。また、隔壁材料の整形および紫外線の照射により隔壁の形状が崩れてしまうことを防止し、断面形状が一定の微細な配線を形成することができる。
【0057】
関連技術および上記実施の形態では、ヘッド部5が基板9に対して相対的に1回走査することにより1つの配線が形成されるが、これらのヘッド部5は一度に複数の配線を形成するものであってもよい。特に、平面表示装置に用いられるパネルのように多数の平行な配線を有する配線基板を製造する場合、ヘッド部5の複数の吐出口から配線材料が吐出されることが好ましい。
【0058】
図12は吐出部52においてY方向に複数形成された吐出口から配線材料91が吐出され、これらの配線材料91が整形部材72により整形されるとともに光照射部53により硬化される様子を示す図であり、関連技術における図3に対応する。図13は図12に示す吐出部52の複数の吐出口71から配線材料91が吐出される様子を示す平面図である。なお、基板9は(−X)方向へと一定の速度で直進している。
【0059】
図12および図13に示すように、整形部材72はY方向に長い形状となっており、複数の吐出口71から吐出された配線材料91が同時に整形される。また、光照射部53もY方向に長くなっており、整形後の複数の配線材料91を同時に硬化させる。光照射部53には図12に示すように配線材料91のピッチに合わせて複数のレンズ533を有しており、光源ユニット532(図1参照)からの紫外線が各配線材料91に集光されて効率よく照射される。また、光源ユニット532の小型化を図りつつ、硬化ムラを抑えることも実現される。
【0060】
以上のように、図12および図13に示すヘッド部5では、複数の配線の形成を短時間で行うことができるとともに整形および硬化も効率よく行うことが実現される。
【0061】
図14は吐出部52aにより隔壁921を形成しつつ複数のノズル520から配線材料91が吐出される様子を示す図であり、上記実施の形態における図8に対応する。図15は図14に示す吐出部52aの複数の吐出口71aから隔壁材料が吐出され、吐出部52の複数のノズル520から配線材料91が吐出される様子を示す平面図である。なお、基板9は(−X)方向へと一定の速度で直進している。また、図15では吐出された配線材料91に平行斜線を付している。
【0062】
図14および図15に示すように、隔壁921を整形する整形部材72aはY方向に長い形状となっており、複数の吐出口71aから吐出された隔壁材料が同時に整形される。また、光照射部53はY方向に隔壁921と同じピッチにて配列されたレンズ533を有し、整形後の複数の隔壁921を同時に、かつ、効率よく硬化させる。これにより、隔壁を利用した複数の配線の形成を短時間で行うことができるとともに隔壁の整形および硬化も効率よく行うことが実現される。
【0063】
なお、多数の配線を一方向のみに形成する場合には、図1に示すステージ移動機構2はX方向移動機構21を有するのみで足りる。
【0064】
上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【0065】
配線形成装置は、プラズマ表示装置に用いられるパネルの製造のみならず、有機EL表示装置のパネルにおいて配線を形成する技術等のように、他の平面表示装置(FPD)に用いられるパネルの製造に利用することができる。さらに、通常の電気的配線や半導体装置における微細な配線にも利用することができる。したがって、基板9もガラス基板には限定されず、樹脂基板、半導体基板等であってもよい。特に、配線形成装置は任意に配線パターンを形成することができることから、少量生産の配線基板の製造に適している。
【0066】
上記実施の形態では、ステージ3が移動することによりヘッド部5が基板9に対して相対的に移動するが、ステージ3が固定され、ヘッド部5が移動してもよく、双方が移動してもよい。
【0067】
上記実施の形態では、紫外線により吐出直後の配線材料や隔壁材料(隔壁)を硬化させているが、これらの材料の硬化は紫外線や他の種類の光によるものに限定されず、例えば、これらの材料に熱、酸素ガス、多湿ガス等を付与することにより硬化が行われてもよい。
【0068】
整形部材72は、吐出後の配線材料や隔壁材料の上面を均すへら状の部材に限定されない。例えば、関連技術において図16に示すように配線材料91の上面および両側面を整形するための矩形の切り欠きが形成された整形部材72が利用されてもよい。さらに、整形部材72により整形される面(基板上に付与された材料の上面や側面)は平面である必要はなく、意図的に凹凸が形成されてもよい。例えば、上記実施の形態において隔壁921と配線材料91との接する面に凹凸を設けることにより、隔壁921が配線材料91を安定して保持することが実現される。
【0069】
また、整形部材72は材料表面をカットするようなブレード状の部材であってもよい。
【0070】
光照射部53による光(紫外線)の集光は、レンズ533以外のものが利用されてもよく、例えば、凹面鏡により集光が行われてもよいし、レンズとミラーとが組み合わされてもよい。また、光照射部53による硬化は完全な硬化ではないため、整形部材の前方に光照射部53が配置されてもよい。
【0072】
請求項1、2、6および7の発明では、隔壁の形成と配線材料の吐出とを並行して行うことができ、隔壁および配線の形成を短時間に行うことができる。また、請求項の発明では配線を分岐させることができ、請求項およびの発明では、隔壁の整形を行うことができる。
【0073】
また、請求項およびの発明では、効率よく硬化を行うことができる。
【0074】
また、請求項10の発明では、基板上に任意の配線パターンを形成することができる。
【0075】
請求項11の発明では、配線基板の製造コストを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に関連する技術に係る配線形成装置の概略構成を示す図である。
【図2】 基板上に配線材料が吐出される様子を示す図である。
【図3】 基板上に配線材料が吐出される様子を示す図である。
【図4】 配線形成装置の動作の流れを示す図である。
【図5】 配線基板の一部を示す図である。
【図6】 の実施の形態に係る配線形成装置のヘッド部およびその周辺構成を示す図である。
【図7】 ヘッド部からの吐出の様子を示す図である。
【図8】 ヘッド部からの吐出の様子を示す図である。
【図9】 配線形成装置の動作の流れを示す図である。
【図10】 配線形成装置により配線が形成される様子を説明するための図である。
【図11】 配線形成装置により配線が形成される様子を説明するための図である。
【図12】 基板上に配線材料が吐出される様子を示す図である。
【図13】 基板上に配線材料が吐出される様子を示す平面図である。
【図14】 基板上に隔壁材料および配線材料が吐出される様子を示す図である。
【図15】 基板上に隔壁材料および配線材料が吐出される様子を示す平面図である。
【図16】 整形部材の他の例を示す図である。
【符号の説明】
1 配線形成装置
2 ステージ移動機構
9 基板
21 X方向移動機構
22 Y方向移動機構
23 θ回転機構
52,52a 吐出部
53 光照射部
71,71a 吐出口
72,72a 整形部材
90 配線基板
91 配線材料
92 隔壁材料
533 レンズ
921 隔壁
S12〜S17,S22〜S29 ステップ

Claims (11)

  1. 基板上に配線を形成する配線形成方法であって、
    基板の主面に沿う所定の方向へと第1吐出部を前記基板に対して相対的に移動させるとともに前記第1吐出部の複数の吐出口から前記基板に向けて隔壁材料の吐出を開始する吐出開始工程と、
    前記第1吐出部からの吐出を停止する吐出停止工程と、
    前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記基板上に吐出された前記隔壁材料により形成された複数の隔壁を順次硬化させる硬化工程と、
    前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記複数の隔壁の硬化と並行して、前記第1吐出部とともに第2吐出部を移動させつつ、前記第2吐出部から前記基板上の硬化後の前記複数の隔壁の間に向けて配線材料を吐出する配線材料吐出工程と、
    を有することを特徴とする配線形成方法。
  2. 基板上に配線を形成する配線形成方法であって、
    基板の主面に沿う所定の方向へと第1吐出部を前記基板に対して相対的に移動させるとともに前記第1吐出部の複数の吐出口から前記基板に向けて隔壁材料の吐出を開始する吐出開始工程と、
    前記第1吐出部からの吐出を停止する吐出停止工程と、
    前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記第1吐出部とともに第2吐出部を移動させつつ、前記基板上に吐出された前記隔壁材料により形成された複数の隔壁の間に向けて前記第2吐出部から配線材料を吐出する配線材料吐出工程と、
    前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、硬化部により前記複数の隔壁を順次硬化させるとともに、前記基板上に吐出された前記配線材料を前記硬化部により前記複数の隔壁と同様に順次硬化させる硬化工程と、
    を有することを特徴とする配線形成方法。
  3. 請求項1または2に記載の配線形成方法であって、
    前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、配線を分岐させるために前記複数の吐出口のいずれかからの吐出を一時的に停止する工程をさらに有することを特徴とする配線形成方法。
  4. 請求項1ないし3のいずれかに記載の配線形成方法であって、
    前記吐出開始工程から前記吐出停止工程までの間において、前記基板上に吐出された前記隔壁材料を順次整形する整形工程をさらに有することを特徴とする配線形成方法。
  5. 請求項1ないし4のいずれかに記載の配線形成方法であって、
    前記硬化工程において光の照射による硬化が行われ、前記光が硬化の対象となる材料に向けて集光されることを特徴とする配線形成方法。
  6. 基板上に配線を形成する配線形成装置であって、
    基板に向けて複数の吐出口から隔壁材料を吐出する吐出部と、
    前記基板の主面に沿って前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動させる移動機構と、
    前記吐出部とともに移動し、前記基板上に吐出された前記隔壁材料により形成された複数の隔壁を順次硬化させる硬化部と、
    前記吐出部とともに移動し、前記吐出部からの前記隔壁材料の吐出と並行して前記基板上の硬化後の前記複数の隔壁の間に配線材料を吐出するもう1つの吐出部と、
    を備えることを特徴とする配線形成装置。
  7. 基板上に配線を形成する配線形成装置であって、
    基板に向けて複数の吐出口から隔壁材料を吐出する吐出部と、
    前記基板の主面に沿って前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動させる移動機構と、
    前記吐出部とともに移動し、前記吐出部からの前記隔壁材料の吐出と並行して前記隔壁材料により形成された複数の隔壁の間に配線材料を吐出するもう1つの吐出部と、
    前記吐出部とともに移動し、前記複数の隔壁を順次硬化させるとともに、前記基板上に吐出された前記配線材料を前記複数の隔壁と同様に順次硬化させる硬化部と、
    を備えることを特徴とする配線形成装置。
  8. 請求項6または7に記載の配線形成装置であって、
    前記吐出部とともに移動し、基板上に吐出された隔壁材料を整形する整形部材をさらに備えることを特徴とする配線形成装置。
  9. 請求項6ないし8のいずれかに記載の配線形成装置であって、
    前記硬化部が、光の照射による硬化を行い、硬化の対象となる材料に向けて前記光を集光することを特徴とする配線形成装置。
  10. 請求項6ないし9のいずれかに記載の配線形成装置であって、
    前記移動機構による前記吐出部の基板に対する移動方向および向きが変更可能とされることを特徴とする配線形成装置。
  11. 配線基板であって、
    基板と、
    請求項1ないし5のいずれかに記載の配線形成方法にて形成された配線と、
    を備えることを特徴とする配線基板。
JP2002002144A 2002-01-09 2002-01-09 配線形成方法、配線形成装置および配線基板 Expired - Fee Related JP3868298B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002002144A JP3868298B2 (ja) 2002-01-09 2002-01-09 配線形成方法、配線形成装置および配線基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002002144A JP3868298B2 (ja) 2002-01-09 2002-01-09 配線形成方法、配線形成装置および配線基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003204139A JP2003204139A (ja) 2003-07-18
JP3868298B2 true JP3868298B2 (ja) 2007-01-17

Family

ID=27642092

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002002144A Expired - Fee Related JP3868298B2 (ja) 2002-01-09 2002-01-09 配線形成方法、配線形成装置および配線基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3868298B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017197927A1 (zh) * 2016-05-16 2017-11-23 京东方科技集团股份有限公司 液态光固化胶涂覆装置和方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101913230B1 (ko) 2017-09-19 2018-10-30 주식회사 팀즈 마이크로 발광다이오드칩이 실장된 디스플레이 모듈 및 이의 제조방법
CN109143412B (zh) * 2018-09-10 2022-09-02 西北农林科技大学 降雨特征采集装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017197927A1 (zh) * 2016-05-16 2017-11-23 京东方科技集团股份有限公司 液态光固化胶涂覆装置和方法
US11198147B2 (en) 2016-05-16 2021-12-14 Boe Technology Group Co., Ltd. Liquid photocurable adhesive coating device and method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003204139A (ja) 2003-07-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20200120766A (ko) 반도체 디바이스 패키지 제작 프로세스들을 위한 평탄화
JP5465962B2 (ja) 電極形成方法および電極形成装置
KR101217302B1 (ko) 패턴 형성 방법 및 패턴 형성 장치
KR20120032397A (ko) 패턴 형성 방법 및 패턴 형성 장치
JP2002184303A (ja) 平面表示装置用の隔壁形成方法及びその装置
JP5395592B2 (ja) 電極形成装置および電極形成方法
JP3868298B2 (ja) 配線形成方法、配線形成装置および配線基板
KR100747016B1 (ko) 패턴형성방법 및 패턴형성장치
JP2002170484A (ja) 平面表示装置用の隔壁形成方法及びその装置
JP2007083234A (ja) パターン形成装置
US20060043892A1 (en) Panel for flat panel display
JP4082499B2 (ja) パターン形成装置およびパターン形成方法
JP3907491B2 (ja) パターン形成装置
TWI469192B (zh) 電極形成方法及電極形成裝置
JP2003272523A (ja) 隔壁間塗布方法、隔壁間塗布装置、パターン形成方法、パターン形成装置およびパネル
JP2004184800A (ja) パターン形成装置およびパターン形成方法
JP2012071245A (ja) パターン形成方法、パターン形成装置
JP2011066037A (ja) パターン形成方法およびパターン形成装置
JP2004079478A (ja) パターン整形装置、パターン形成装置およびパターン形成方法
JP2011060873A (ja) パターン形成方法およびパターン形成装置
JP2009146661A (ja) リブ形成装置
JP2013122980A (ja) パターン形成装置
JP2003208846A (ja) パターン形成装置
JP2008238083A (ja) 塗布方法および塗布装置並びに液晶ディスプレイ用部材の製造方法
JP2004079477A (ja) パターン整形装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060412

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060419

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060612

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060818

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060912

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061006

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061010

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091020

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091020

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101020

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101020

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111020

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111020

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121020

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121020

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131020

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees