KR970011963A - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 단순화된 공정을 통해 불량을 방지하고 수율을 증가시키기 위한 것이다.
본 발명은 기판과 상기 기판상에 제1도전층으로 형성된 게이트전극과, 게이트패드와 소오스패드와 상기 기판전면에 형성된 게이트절연막과 상기 게이트전극상의 게이트절연막상에 형성된 반도체층과 불순물이 포함된 반도체층과 상기 반도체 층상에 형성된 소오스전극 및 드레인전극과 기판 전면에 형성한 보호층과 상기 보호층과 상기 게이트절연막을 식각하여 상기 소오스패드를 노출시키는 제1콘택홀과 상기 드레인전극의 일부를 노출시키는 제2콘택홀과 상기 게이트패드 부분을 노출시키는 제3콘택홀과 상기 소오스전극을 노출시키는 제4콘택홀과 상기 제2콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 접속된 화소전극과 상기 제1콘택홀과 상기 제4콘택홀을 통해 상기 소오스패드와 상기 소오스전극을 연결하는 투명도전층을 가지는 것을 특징으로 한다.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 액정표시장치 제조방법을 도시한 공정순서도,
제3도는 본 발명의 다른 실시예에 의한 액정표시장치의 제조방법을 도시한 공정순서도,
제4도는 액정표시장치에서 게이트물질과 소오스물질이 연결되는 일예의 회로도.

Claims (7)

  1. 기판과 상기 기판상에 제1도전층으로 형성된 게이트전극과, 게이트패드와 소오스패드와 상기 기판전면에 형성된 게이트절연막과 상기 게이트전극상의 게이트절연막상에 형성된 반도체층과 불순물이 포함된 반도체층과 상기 반도체층상에 형성된 소오스전극 및 드레인 전극과 기판 전면에 형성한 보호층과 상기 보호층과 상기 게이트절연막을 식각하여 상기 소오스패드를 노출시키는 제1콘택홀과 상기 드레인전극의 일부를 노출시키는 제2콘택홀과 상기 게이트패드 부분을 노출시키는 제3콘택홀과 상기 소오스전극을 노출시키는 제4콘택홀과 상기 제2콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 접속된 화소전극과 상기 제1콘택홀과 상기 제4콘택홀을 통해 상기 소오스패드와 상기 소오스전극을 연결하는 투명도전층을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  2. 기판상에 제1도전층을 형성하는 단계, 상기 제1도전층을 패터닝하여 게이트 전극과 게이트패드를 각각 형성하는 단계, 기판 전면에 절연막과 반도체층 및 불순물이 포함된 반도체층을 연속적으로 형성하는 단계, 상기 불순물이 포함된 반도체층 및 반도체층을 게이트전극상의 게이트 절연막상에 패터닝하는 단계, 기판 전면에 제2도전층을 형성하는 단계, 상기 제2도전층을 패터닝하여 소오스 전극 및 이에 연결된 소오스패드와 드레인 전극을 형성하는 단계, 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계, 상기 보호막 및 상기 절연막을 선택적으로 식각하여 상기 소오스패드를 노출시키는 제1콘택홀과 상기 드레인전극의 일부를 노출시키는 제2콘택홀 및 상기 게이트패드를 노출시키는 제3콘택홀을 각각 형성하는 단계, 기판 전면에 투명도전층을 형성하는 단계, 상기 투명도전층을 패터닝하여 상기 제1콘택홀을 통해 상기 소오스패드와 접속되는 투명도전층 패턴과 상기 제2콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접속되는 화소전극과 상기 제3콘택홀을 통해 상기 게이트패드와 접속되는 투명도전층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  3. 기판상에 제1도전층을 형성하는 단계, 상기 제1도전층을 패터닝하여 게이트 전극과 게이트패드 및 소오스패드를 각각 형성하는 단계, 기판 전면에 절연막과 반도체층 및 불순물이 포함된 반도체층을 연속적으로 형성하는 단계, 상기 불순물이 포함된 반도체층 및 반도체층을 활성층패턴으로 패터닝하는 단계, 기판 전면에 제2도전층을 형성하는 단계, 상기 제2도전층을 패터닝하여 소오스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계, 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계, 상기 보호막 및 상기 절연막을 선택적으로 식각하여 상기 소오스패드를 노출시키는 제1콘택홀과 상기 드레인전극의 일부를 노출시키는 제2콘택홀, 상기 게이트패드부분을 노출시키는 제3콘택홀 및 상기 소오스전극의 일부를 노출시키는 제4콘택홀을 각각 형성하는 단계, 기판 전면에 투명도전층을 형성하는 단계, 상기 제2콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 접속되는 화소전극, 상기 제3콘택홀을 통해 상기 게이트패드와 접속되는 투명도전층과 상기 제1콘택홀과 제4콘택홀을 통해 상기 소오스패드와 상기 소오스전극을 연결하는 투명도전층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  4. 기판과, 상기 기판상의 소정영역에 형성된 제1도전층, 상기 제1도전층이 형성된 기판 전면에 형성되며, 상기 제1도전층의 소정부분을 노출시키는 제1콘택홀을 갖는 제1절연층, 상기 제1절연층상의 소정영역에 형성된 제2도전층, 상기 제2도전층이 형성된 기판 전면에 형성되며, 상기 제2도전층의 소정 부분 및 상기 제1콘택홀 영역을 노출시키는 제2콘택홀을 갖는 제2절연층, 상기 제2절연층상에 형성되어 상기 제1 및 제2콘택홀을 통해 상기 제1도전층 및 제2도전층과 전기적으로 연결되는 제3도전층을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1도전층은 게이트이고, 제2도전층은 소오스임을 특징으로 하는 액정표시장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 제1도전층은 화소전극 물질로 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.
  7. 기판상에 제1도전층 패턴을 형성하는 공정과, 기판 전면에 제1절연층을 형성하는 공정, 상기 제1절연층상에 제2도전층패턴을 형성하는 공정, 기판 전면에 제2절연층을 형성하는 공정, 상기 제1절연층 및 제2절연층을 선택적으로 식각하여 상기 제1도전층패턴과 제2도전층패턴을 각각 노출시키는 제1콘택홀 및 제2콘택홀을 형성하는 공정, 및 상기 제2절연층상에 상기 제1 및 제2콘택홀을 통해 상기 제1 및 제2도전층패턴과 전기적으로 연결되는 제3도전층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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