KR100587719B1 - 전자부품들을다이본딩하기위한방법및그를위한다이본딩장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (21)
- 전자 부품들을 다이본딩하기 위한 방법에 있어서:적어도 한 층의 수축성막과 감압 점착제층을 포함하는 다이싱 테이프를 제공하는 단계와;웨이퍼가 상기 감압 점착제층에 의해 점착되도록 상기 웨이퍼를 상기 다이싱 테이프 상에 장착하는 단계와;상기 웨이퍼가 다수의 칩들로 절단 분리되도록 상기 웨이퍼를 다이싱하는 단계와;상기 칩들과 상기 점착제층 사이의 점착 면적과 점착력이 감소되고 또한 상기 칩들이 미리결정된 간격들로 배치되도록, 상기 점착된 다수의 칩들을 갖는 상기 다이싱 테이프를 가열 수단이 설치된 테이블 상에 배치하고, 상기 다이싱 테이프의 일부를 형성하는 상기 수축성막을 상기 가열 수단에 의해 수축시키는 단계와;상기 칩들이 서로 분리되도록, 미리결정된 간격들로 배치된 상기 칩들을 상기 칩들 위에 배치된 흡착 콜릿(suction collet)에 의해 하나씩 흡착하는 단계를 포함하는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 적어도 한 층의 수축성막을 수축시키는 단계에서, 제 1 스테이지로서, 상기 다수의 칩들이 점착되지 않은 상기 다이싱 테이프의 외주 영역만이 가열되어 제 1 수축부를 형성하고, 그 후,제 2 스테이지로서, 상기 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프의 내부 영역이 가열되어 제 2 수축부를 형성하며,상기 제 2 수축부 형성 스테이지는 서로 이웃하는 상기 다수의 칩들이 미리 결정된 간격들로 배치되도록 수행되고,상기 제 2 수축부 형성 스테이지 후에, 상기 칩들이 서로 분리되도록 절단 분리된 상기 다수의 칩들을, 상기 칩들 위에 배치된 상기 흡착 콜릿에 의해 하나씩 흡착하는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면 전체에 배치되는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면에 수평 방향을 따라 이동되도록 배치되며, 상기 가열 수단은 상기 흡착 콜릿과 동기적으로 수평 방향을 따라 이동하여 작은 영역들을 선별적으로 가열하는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 가열 수단은 수직 방향으로 이동가능하도록 배치되는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 4 항에 있어서,상기 가열 수단은 수직 방향으로 이동가능하도록 배치되는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 1 항, 제 2 항, 제 4 항 또는 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 다수의 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프는 링 프레임을 통해 상기 테이블 상에 배치되며, 상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면에 배치되고, 상기 칩들은 상기 가열 수단에 의해 가열되고, 상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 상기 하면으로부터 제거되며, 이어서 상기 칩들이 서로 분리되도록, 절단 분리된 상기 다수의 칩들이 상기 칩들 위에 배치된 상기 흡착 콜릿에 의해 하나씩 흡착 되는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 다수의 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프는 링 프레임을 통해 상기 테이블 상에 배치되며, 상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면에 배치되고, 상기 칩들은 상기 가열 수단에 의해 가열되고, 상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면으로부터 제거되며, 이어서 상기 칩들이 서로 분리되도록, 절단 분리된 상기 다수의 칩들이 상기 칩들 위에 배치된 상기 흡착 콜릿에 의해 하나씩 흡착되는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 다수의 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프는 링 프레임 상에 점착되고, 상기 링 프레임에는 미리결정된 간격으로 적어도 2개의 위치결정 노치들이 제공되며, 상기 노치들에 대응하는 핀들은 미리결정된 간격으로 상기 테이블 상에 돌출적으로 제공되며, 상기 링 프레임의 노치들은, 상기 링 프레임이 상기 테이블 상에 위치하도록 상기 핀들에 합치되는, 전자 부품 다이본딩 방법.
- 다이싱 테이프에 유지되고, 다이싱된 다수의 칩들을 하나식 흡착 분리하기 위한 전자 부품의 다이본딩 장치에 있어서,상기 다이싱 테이프가 적어도 한 층의 수축성막과 점착제층으로 구성되고, 점착제층을 통해 다수의 칩들이 유지됨과 동시에,상기 다수의 칩들을 유지한 다이싱 테이프가 링 프레임에 점착되며,상기 링 프레임을 그 상면에 배치하기 위한 테이블과,상기 테이블에 구비된 가열 수단과,상기 링 프레임의 상측부에, 링 프레임에 대향하여 배치된 상하 이동가능한 흡착 콜릿을 구비하고,상기 가열 수단으로 상기 다이싱 테이프를 가열한 후, 상기 흡착 콜릿에 의해 미리결정된 간격으로 배치된 다수의 칩들을 하나씩 흡착 분리하도록 구성되는 것을 특징으로 하는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 링 프레임에는 미리결정된 간격으로 적어도 2개의 노치들이 제공되며, 적어도 2개의 위치결정 핀들은 가열 수단이 설치된 상기 테이블 상에 미리결정된 간격으로 돌출적으로 배치되며, 상기 핀들 및 상기 링 프레임의 상기 노치들은 합치되도록 구성되어, 상기 링 프레임이 상기 테이블 상의 적정한 위치에 배치된 형태를 갖는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 가열 수단은,상기 적어도 한 층의 수축성막을 수축시키는 단계에서, 제 1 스테이지로서, 상기 다수의 칩들이 점착되지 않은 상기 다이싱 테이프의 외주 영역만을 가열할 수 있는 제 1 가열 수단과;상기 단계의 제 2 스테이지로서, 상기 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프의 내부 영역을 가열할 수 있는 제 2 가열 수단을 포함하는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면 전체에 배치되는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면 전체에 배치되는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 가열 수단은 상기 다이싱 테이프의 하면에 수평 방향을 따라 이동하도록 배치되며, 상기 가열 수단은 상기 흡착 콜릿과 동기적으로 수평 방향을 따라 이동하여 작은 영역들을 선택적으로 가열하는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 11 항, 제 14 항 또는 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가열 수단은 수직 방향으로 이동가능하도록 배치되는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 가열 수단은 수직 방향으로 이동가능하도록 배치되는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 가열 수단은 수직 방향으로 이동가능하도록 배치되는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 10항, 제 11 항, 제 14 항 또는 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 다수의 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프를 더 포함하며, 상기 다이싱 테이프는 상기 링 프레임을 통해 상기 테이블 상에 배치되고, 상기 테이블은 상기 다이싱 테이프 아래에 배치된 가열 수단을 구비하여, 상기 칩들을 상기 가열 수단에 의해 가열하고, 상기 가열 수단을 상기 다이싱 테이프의 하면으로부터 제거하고, 이어서 상기 칩들이 서로 분리되도록, 절단 분리된 상기 다수의 칩들을 상기 칩들 위에 배치된 상기 흡착 콜릿에 이해 하나씩 흡착하는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 다수의 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프를 더 포함하며, 상기 다이싱 테이프는 상기 링 프레임을 통해 상기 테이블 상에 배치되고, 상기 테이블은 상기 다이싱 테이프 아래에 배치된 가열 수단을 구비하여, 상기 칩들을 상기 가열 수단에 의해 가열하고, 상기 가열 수단을 상기 다이싱 테이프의 하면으로부터 제거하고, 이어서 상기 칩들이 서로 분리되도록, 절단 분리된 상기 다수의 칩들을 상기 칩들 위에 배치된 상기 흡착 콜릿에 의해 하나씩 흡착하는, 전자 부품 다이본딩 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 다수의 칩들이 점착된 상기 다이싱 테이프를 더 포함하며, 상기 다이싱 테이프는 상기 링 프레임을 통해 상기 테이블 상에 배치되고, 상기 테이블은 상기 다이싱 테이프 아래에 배치된 가열 수단을 구비하여, 상기 칩들을 상기 가열 수단에 의해 가열하고, 상기 가열 수단을 상기 다이싱 테이프의 하면으로부터 제거하고, 이어서 상기 칩들이 서로 분리되도록, 절단 분리된 상기 다수의 칩들을 상기 칩들 위에 배치된 상기 흡착 콜릿에 의해 하나씩 흡착하는, 전자 부품 다이본딩 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15511797A JP3955659B2 (ja) | 1997-06-12 | 1997-06-12 | 電子部品のダイボンディング方法およびそれに使用されるダイボンディング装置 |
JP97-155117 | 1997-06-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990006863A KR19990006863A (ko) | 1999-01-25 |
KR100587719B1 true KR100587719B1 (ko) | 2006-10-31 |
Family
ID=15598958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019980021621A KR100587719B1 (ko) | 1997-06-12 | 1998-06-11 | 전자부품들을다이본딩하기위한방법및그를위한다이본딩장치 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6176966B1 (ko) |
EP (1) | EP0884766B1 (ko) |
JP (1) | JP3955659B2 (ko) |
KR (1) | KR100587719B1 (ko) |
CN (1) | CN1146032C (ko) |
DE (1) | DE69836398T2 (ko) |
MY (1) | MY120043A (ko) |
SG (1) | SG71802A1 (ko) |
TW (1) | TW521313B (ko) |
Families Citing this family (88)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Legal Events
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---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170522 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180518 Year of fee payment: 13 |
|
EXPY | Expiration of term |