KR20230124483A - 웨이퍼 전사 방법 및 웨이퍼 전사 장치 - Google Patents

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카즈키 스기우라
타카시 모리
요시노리 카키누마
테츠야 호소노
카오루 아마노
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가부시기가이샤 디스코
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Abstract

(과제) 점착 테이프를 절단하지 않고 교체 부착하여 웨이퍼를 안전하게 전사한다.
(해결 수단) 제1 링 프레임과, 제1 점착 테이프와, 웨이퍼를 포함하는 제1 가공물 유닛의 상기 웨이퍼를, 제2 점착 테이프에 전사하여 제2 가공물 유닛을 형성하는 웨이퍼 전사 방법으로서, 상기 제1 링 프레임 및 제2 링 프레임으로 클로체를 사이에 끼우는 것에 의해 상기 제2 링 프레임을 상기 제1 링 프레임에 접촉시키지 않고 상기 제1 링 프레임에 중첩되는 링 프레임 배치 단계와, 상기 웨이퍼의 상기 제1 점착 테이프에 부착되어 있지 않은 면에 상기 제2 점착 테이프를 부착하고, 상기 웨이퍼를 상기 제2 점착 테이프를 통해 상기 제2 링 프레임으로 유지하는 부착 단계와, 상기 웨이퍼로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리함과 함께 상기 제1 링 프레임으로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리하는 박리 단계를 구비한다.

Description

웨이퍼 전사 방법 및 웨이퍼 전사 장치{METHOD FOR TRANSFERRING WAFER AND APPARATUS FOR TRANSFERRING WAFER}
본 발명은, 제1 점착 테이프에 부착된 웨이퍼를 제2 점착 테이프에 부착하고, 제1 점착 테이프를 웨이퍼로부터 박리하는 웨이퍼 전사 방법, 및 제1 점착 테이프로부터 제2 점착 테이프에 웨이퍼를 전사시키는 웨이퍼 전사 장치에 관한 것이다.
휴대 전화나 퍼스널 컴퓨터 등의 전자 기기에 사용되는 디바이스 칩의 제조 공정에서는, 먼저, 반도체 등의 재료로 이루어지는 웨이퍼의 표면에 서로 교차하는 복수의 분할 예정 라인(스트리트)을 설정한다. 그리고, 분할 예정 라인으로 구획되는 각 영역에 IC(Integrated Circuit), LSI(Large-scale Integration) 등의 디바이스를 형성한다. 그 후, 웨이퍼를 분할 예정 라인을 따라 분할하면, 개개의 디바이스 칩이 형성된다. 웨이퍼의 분할은, 예를 들어, 원환 형상의 절삭 블레이드를 구비하는 절삭 장치로 실시된다.
웨이퍼가 절삭 장치에 반입되기 전에, 웨이퍼보다 직경이 큰 점착 테이프가 웨이퍼의 이면에 부착된다. 이 점착 테이프는, 다이싱 테이프라고 불린다. 점착 테이프의 외주부에는, 웨이퍼를 수용할 수 있는 크기의 개구부를 갖는 링 프레임의 내주부가 부착된다. 즉, 웨이퍼와, 점착 테이프와, 링 프레임이 일체화되어 프레임 유닛이 형성되고, 프레임 유닛의 일부가 되어 표면 측이 위쪽으로 노출된 웨이퍼가 절삭 장치에 반입되어 가공된다.
절삭 장치에서는, 절삭에 의해 피가공물 및 절삭 블레이드로부터 발생하는 열이나 절삭 부스러기를 제거하기 위해서, 피가공물이 절삭되는 동안, 피가공물 및 절삭 블레이드에 절삭수가 공급된다. 그런데, 피가공물의 표면에 절삭 부스러기를 함유하는 절삭수가 접촉하여 절삭수가 건조되었을 때, 피가공물의 표면에 형성된 디바이스에 절삭 부스러기가 고착되어 버린다. 따라서, 표면 측이 오염되지 않도록, 웨이퍼의 이면 대신에 표면 측에 점착 테이프를 부착하여 프레임 유닛을 형성하고, 이면 측을 위쪽으로 노출시키는 경우가 있다(특허문헌 1 참조).
다만, 이 경우, 웨이퍼가 절단되어 형성된 각 칩이 디바이스의 형성면을 점착 테이프 측을 향하게 된다. 그 때문에, 칩을 점착 테이프로부터 픽업하여 소정의 실장 대상에 실장할 때, 디바이스의 회로 패턴을 촬상 유닛으로 촬영할 수 없어, 회로 패턴의 위치를 고려한 칩의 위치 맞춤을 할 수 없다. 따라서, 웨이퍼를 절삭한 후, 노출되어 있는 웨이퍼의 이면 측에 새로운 점착 테이프를 부착하고, 오래된 점착 테이프를 웨이퍼로부터 박리하는 전사 작업(교체 부착 작업)이 실시된다(특허문헌 2 참조).
보다 상세하게는, 먼저, 웨이퍼와, 제1 점착 테이프와, 제1 링 프레임을 포함하는 제1 프레임 유닛의 제1 점착 테이프를 웨이퍼의 외주를 따라 절단한다. 그리고, 제1 링 프레임 대신에 제2 링 프레임을 웨이퍼의 주위에 배치하고, 웨이퍼의 제1 점착 테이프가 부착되어 있지 않은 면과, 제2 링 프레임에 제2 점착 테이프를 부착한다. 마지막으로, 웨이퍼에 남아 있던 제1 점착 테이프를 박리하는 것에 의해, 웨이퍼의 전사(점착 테이프의 교체 부착)가 완료된다.
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2010-82644호 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2017-162870호
그러나, 이 방법으로 웨이퍼의 전사 작업을 실시하는 경우, 제1 점착 테이프를 절단하는 절단 공구가 웨이퍼에 접촉하여 웨이퍼(칩)가 파손될 우려가 있다. 또한, 제1 점착 테이프를 절단하는 것에 의해 절단 부스러기가 발생하고, 이것이 웨이퍼에 부착되어 웨이퍼를 오염시킬 우려가 있다.
전사 작업이 실시되는 이 단계까지, 막대한 비용과 시간을 들여 웨이퍼에 다양한 가공이 실시되고 있다. 그 때문에, 칩의 완성 직전의 이 단계에 있어서의 웨이퍼(칩)의 파손 또는 오손(汚損)은, 막대한 손해가 된다. 따라서, 점착 테이프를 절단하지 않고 웨이퍼의 전사 작업(점착 테이프의 교체 부착)을 실시하고 싶다는 요망이 있다.
본 발명은, 이러한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 점착 테이프를 절단하지 않고 교체 부착하여 웨이퍼를 안전하게 전사할 수 있는 웨이퍼 전사 방법, 및 웨이퍼 전사 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 중앙에 제1 개구부가 설치된 제1 링 프레임과, 상기 제1 개구부를 막도록 상기 제1 링 프레임에 부착한 제1 점착 테이프와, 상기 제1 링 프레임의 상기 제1 개구부 내에서 상기 제1 점착 테이프에 부착된 웨이퍼를 포함하는 제1 워크 유닛의 상기 웨이퍼를, 제2 링 프레임의 중앙에 형성된 제2 개구부를 막도록 상기 제2 링 프레임에 부착하는 제2 점착 테이프에 전사하여 제2 워크 유닛을 형성하는 웨이퍼 전사 방법으로서, 상기 제2 개구부를 상기 제1 개구부에 중첩하면서 상기 제1 워크 유닛의 상기 제1 링 프레임의 상기 제1 점착 테이프에 부착되어 있지 않은 면에 상기 제2 링 프레임을 대면시키고, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임으로 클로체를 사이에 끼우는 것에 의해 상기 제2 링 프레임을 상기 제1 링 프레임에 접촉시키지 않고 상기 제1 링 프레임에 중첩하는 링 프레임 배치 단계와, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임이 접촉하지 않고 중첩되는 상태에서 상기 웨이퍼의 상기 제1 점착 테이프에 부착되지 않은 면에 상기 제2 점착 테이프를 부착하고, 상기 웨이퍼를 상기 제2 점착 테이프를 통해 상기 제2 링 프레임으로 유지하는 부착 단계와, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임이 접촉하지 않고 중첩되는 상태에서 상기 웨이퍼로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리함과 함께 상기 제1 링 프레임으로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리하는 박리 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 방법이 제공된다.
바람직하게는, 상기 부착 단계에서는, 미리 상기 제2 링 프레임에 부착한 상기 제2 점착 테이프를 상기 웨이퍼에 부착한다.
또한, 바람직하게는, 상기 박리 단계 후에, 상기 웨이퍼를 액체로 세정하는 세정 단계를 더 구비한다.
더욱 바람직하게는, 상기 박리 단계에서는, 박리 테이프를 상기 제1 점착 테이프에 부착하고, 상기 박리 테이프를 이동시키는 것에 의해 상기 박리 테이프로 상기 제1 점착 테이프를 상기 제1 링 프레임 및 상기 웨이퍼로부터 박리한다.
또한, 바람직하게는, 상기 부착 단계에서 상기 웨이퍼가 상기 제2 점착 테이프에 부착될 때, 미리 상기 제1 개구부의 관통 방향에 있어서의 상기 웨이퍼 및 상기 제1 링 프레임의 상대 위치가 상기 제1 점착 테이프의 변형을 수반하면서 조정되는 것에 의해 상기 웨이퍼가 상기 제2 점착 테이프에 근접된다.
또한, 본 발명의 다른 일 양태에 따르면, 중앙에 제1 개구부가 형성된 제1 링 프레임과, 상기 제1 개구부를 막도록 상기 제1 링 프레임에 부착한 제1 점착 테이프와, 상기 제1 링 프레임의 상기 제1 개구부 내에서 상기 제1 점착 테이프에 부착된 웨이퍼를 포함하는 제1 워크 유닛의 상기 웨이퍼를, 제2 링 프레임의 중앙에 형성된 제2 개구부를 막도록 상기 제2 링 프레임에 부착하는 제2 점착 테이프에 전사하여 제2 워크 유닛을 형성하는 웨이퍼 전사 장치로서, 상기 웨이퍼를 상기 제1 점착 테이프를 통해 지지하는 웨이퍼 지지부와, 상기 제1 링 프레임을 상기 제1 점착 테이프를 통해 지지하는 링 프레임 지지부를 갖고, 상기 웨이퍼의 상기 제1 점착 테이프에 부착되어 있지 않은 면을 위쪽으로 노출시킨 상태에서 상기 제1 워크 유닛을 지지하는 제1 워크 유닛 지지 유닛과, 상기 제1 워크 유닛 지지 유닛의 상기 링 프레임 지지부로 지지된 상기 제1 링 프레임에 대면하도록 상기 제2 링 프레임을 지지하는 기능과, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임의 사이에 끼워지는 기능을 갖는 제1 클로부를 포함하고, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임 사이의 영역과, 상기 영역의 외측과의 사이에서 상기 제1 클로부를 이동할 수 있는 제2 링 프레임 지지 유닛과, 상기 제2 링 프레임 지지 유닛의 위쪽에 배치되고, 상기 제1 워크 유닛 지지 유닛의 상기 웨이퍼 지지부로 지지된 상기 웨이퍼의 상기 제1 점착 테이프에 부착되어 있지 않은 면에 상기 제2 점착 테이프를 부착하는 테이프 부착 유닛과, 제2 클로부를 가지고, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임의 사이에 상기 제2 클로부를 삽입하여 상기 제2 클로부로 상기 제2 링 프레임을 유지함과 함께 상기 웨이퍼를 상기 제2 점착 테이프를 통해 유지하는 유지 유닛과, 상기 유지 유닛이 상기 웨이퍼를 유지한 상태에서, 상기 웨이퍼로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리함과 함께, 상기 제1 링 프레임으로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리하는 박리 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 장치가 제공된다.
바람직하게는, 상기 제2 링 프레임 지지 유닛으로 상기 제2 링 프레임이 지지되기 전에, 미리 상기 제2 링 프레임에 상기 제2 개구부를 막도록 상기 제2 점착 테이프를 부착하는 테이프 공급 유닛을 더 구비한다.
또한, 바람직하게는 상기 박리 유닛으로 상기 제1 점착 테이프가 박리된 상기 웨이퍼를 액체로 세정하는 세정 유닛을 더 구비한다.
더욱 바람직하게는, 상기 박리 유닛은, 기재와, 당해 기재의 한쪽의 면에 형성된 점착층으로 구성되는 박리 테이프가 롤 형상으로 감긴 상태에서 인출 가능하게 장착되는 박리 테이프 공급부와, 상기 박리 테이프 공급부로부터 인출된 상기 박리 테이프를 유도하여 상기 박리 테이프의 진행 경로를 형성하는 복수의 롤러와, 상기 박리 테이프를 상기 제1 점착 테이프에 압박하여 부착하는 압박부를 가진 이동체와, 상기 이동체를 이동시키는 구동부와, 상기 박리 테이프를 권취하여 회수하는 권취부를 구비하고, 상기 박리 테이프를 상기 압박부로 상기 제1 점착 테이프에 압박하여 부착하고, 상기 구동부로 상기 이동체를 이동시키는 것에 의해 상기 박리 테이프를 이동시켜 상기 박리 테이프로 상기 제1 점착 테이프를 상기 제1 링 프레임 및 상기 웨이퍼로부터 박리하고, 상기 제1 점착 테이프가 부착된 상기 박리 테이프를 상기 권취부로 권취하여 회수할 수 있다.
또한, 바람직하게는, 상기 제1 워크 유닛 지지 유닛은, 상기 웨이퍼 지지부와 상기 링 프레임 지지부를 상대적으로 승강시키는 승강부를 더 구비한다.
본 발명의 일 양태에 따른 웨이퍼 전사 방법 및 웨이퍼 전사 장치에서는, 우선, 제1 워크 유닛의 제1 링 프레임에 제2 링 프레임을 중첩하고, 이 때에 사이에 클로체(클로부)를 끼운다. 그러면, 클로체가 세퍼레이터의 기능을 하고, 제2 링 프레임이 제1 링 프레임에 접촉하지 않고 중첩되는 상태가 된다. 그리고, 웨이퍼에 제2 점착 테이프를 부착하고, 웨이퍼를 제2 점착 테이프를 통해 제2 링 프레임으로 유지한다.
마지막으로, 제1 점착 테이프를 웨이퍼 및 제1 링 프레임으로부터 박리하는 것에 의해, 웨이퍼와, 제2 점착 테이프와, 제2 링 프레임을 포함하는 제2 워크 유닛을 형성한다. 이에 의해, 웨이퍼의 전사가 완료된다. 이와 같이 웨이퍼를 전사하면, 제1 점착 테이프를 절단 공구로 절단하는 공정이 불필요해진다. 그 때문에, 절단 공구가 웨이퍼에 접촉하는 일은 없어, 제1 점착 테이프의 절단에 수반되는 절단 부스러기의 웨이퍼에 대한 부착도 발생하지 않는다.
특히, 제2 링 프레임 및 제1 링 프레임의 사이에 클로체(클로부)가 끼워짐으로써 양자의 사이에 소정의 간격이 형성된다. 그 때문에, 제2 점착 테이프를 웨이퍼에 부착할 때에, 제2 점착 테이프가 아래로 늘어져서 제1 점착 테이프에 부착되는 사태가 방지된다.
따라서, 본 발명의 일 양태에 따르면, 점착 테이프를 절단하지 않고 교체 부착하여 웨이퍼를 안전하게 전사할 수 있는 웨이퍼 전사 방법 및 웨이퍼 전사 장치가 제공된다.
도 1(A)는, 웨이퍼를 모식적으로 도시하는 사시도이고, 도 1(B)는, 제1 워크 유닛을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 2는, 웨이퍼 전사 장치를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 3은, 카세트와, 푸시풀 아암과, 제1 자외선 조사 유닛과, 제1 워크 유닛 반송 유닛과, 워크 유닛 지지 유닛을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 4는, 링 프레임 수용부와, 링 프레임 반송 유닛과, 링 프레임 지지 테이블과, 점착 테이프 공급 유닛을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 5는, 링 프레임 수용부를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 6(A)는, 제1 워크 유닛 지지 유닛과 제2 링 프레임 지지 유닛을 모식적으로 도시하는 사시도이고, 도 6(B)는, 링 프레임 배치 단계를 모식적으로 도시하는 사시도이고, 도 6(C)는, 부착 단계를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 7은, 부착 단계를 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 8은, 유지 유닛과 박리 유닛을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 9(A)는, 유지 유닛에 유지된 결합물의 하나의 단면을 모식적으로 도시하는 단면도이고, 도 9(B)는, 유지 유닛에 유지된 결합물의 다른 단면을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 10(A)는, 박리 단계의 초기 단계를 모식적으로 도시하는 단면도이고, 도 10(B)는, 박리 단계의 종료 단계를 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 11은, 제1 링 프레임을 회수하는 모습을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 12는, 반전 유닛과, 전달 테이블과, 제2 워크 유닛 반송 유닛과, 가이드 레일 테이블과, 제2 자외선 조사 유닛과, 세정 유닛과, 푸시풀 아암을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 13은, 가이드 레일 테이블과, 푸시풀 아암과, 제2 자외선 조사 유닛과, 세정 유닛을 분리하여 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 14는, 웨이퍼 전사 방법의 각 단계의 흐름을 도시하는 흐름도이다.
첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다. 본 실시 형태에 관련되는 웨이퍼 전사 방법 및 웨이퍼 전사 장치에서는, 제1 점착 테이프에 부착된 웨이퍼가, 제2 점착 테이프에 전사된다. 즉, 웨이퍼에 부착되어 있던 제1 점착 테이프가, 제2 점착 테이프로 교체 부착된다. 그리고, 제1 워크 유닛에 포함되어 있던 웨이퍼가, 제2 워크 유닛에 포함된 상태가 된다.
먼저, 제1 점착 테이프로부터 제2 점착 테이프로 전사되는 웨이퍼에 대해 설명한다. 도 1(A)는, 웨이퍼(1)의 표면(1a) 측을 도시하는 사시도이다. 도 1(B)에는, 웨이퍼(1)의 이면(1b) 측을 도시하는 사시도가 포함되어 있다. 웨이퍼(1)는, 예를 들어, Si(실리콘), SiC(실리콘카바이드), GaN(질화갈륨), GaAs(비화갈륨), 또는, 그 밖의 반도체 등의 재료로 이루어진 대략 원판 형상의 기판 등이다. 다만, 웨이퍼(1)는 이것에 한정되지 않는다.
웨이퍼(1)의 표면(1a)은, 서로 교차하는 복수의 분할 예정 라인(3)으로 구획된다. 웨이퍼(1)의 표면(1a)의 분할 예정 라인(3)으로 구획된 각 영역에는, IC나 LSI 등의 디바이스(5)가 형성된다. 웨이퍼(1)를 분할 예정 라인(3)을 따라 분할하면, 각각 디바이스(5)를 가진 개개의 디바이스 칩을 제조할 수 있다. 웨이퍼(1)의 분할은, 절삭 장치나 레이저 가공 장치 등의 가공 장치로 실시된다.
가공 장치에 웨이퍼(1)가 반입될 때, 미리, 웨이퍼(1)와, 다이싱 테이프라고 불리는 점착 테이프와, 금속 등의 재료로 형성된 링 프레임이 일체화되어 워크 유닛이 형성된다. 이 때, 웨이퍼(1)의 이면(1b) 측에 점착 테이프를 부착하면 표면(1a) 측이 노출되기 때문에, 가공으로 생기는 가공 부스러기 등이 디바이스(5)에 부착되어 디바이스(5)가 오염되어 버린다.
그 때문에, 웨이퍼(1)의 표면(1a) 측이 점착 테이프에 부착되어 프레임 유닛이 형성되는 경우가 있다. 도 1(B)는, 제1 링 프레임(9)과, 제1 점착 테이프(7)와, 웨이퍼(1)가 일체화되어 형성된 제1 워크 유닛(11a)을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
제1 링 프레임(9)은, 알루미늄이나 스테인리스강 등의 금속 재료로 형성된다. 제1 링 프레임(9)의 중앙에는, 제1 개구부(9c)가 설치되어 있다. 제1 개구부(9c)는, 제1 링 프레임(9)의 표면(9a)으로부터 이면(9b)까지 관통하고 있고, 웨이퍼(1)의 직경보다 큰 직경을 갖는다.
제1 점착 테이프(7)는, 이 제1 개구부(9c)를 막도록 제1 링 프레임(9)에 부착되어 있다. 제1 점착 테이프(7)는, 제1 링 프레임(9)의 제1 개구부(9c)의 직경보다 큰 직경을 갖는다. 제1 점착 테이프(7)는, 예를 들어, 수지막 등으로 형성된 기재층과, 기재층의 한쪽의 면에 형성된 점착층을 포함한다. 또한, 점착층은, 자외선 경화 수지로 구성되는 것이 바람직하다. 이 경우, 제1 점착 테이프(7)에 자외선을 조사하는 것에 의해, 점착층의 점착력을 저하시킬 수 있다.
제1 점착 테이프(7)가 제1 개구부(9c)를 막도록 제1 링 프레임(9)에 부착되었을 때, 제1 개구부(9c) 중에 제1 점착 테이프(7)의 점착층이 노출된다. 그리고, 웨이퍼(1)는, 제1 개구부(9c) 내에서 표면(1a) 측으로부터 제1 점착 테이프(7)에 부착된다.
웨이퍼(1)는, 도 1(B)에 도시되는 제1 워크 유닛(11a)에 포함된 상태에서 가공 장치에 반송되고, 가공되어 분할된다. 그 후, 제1 워크 유닛(11a)은, 가공 장치로부터 반출된다. 다만, 웨이퍼(1)의 표면(1a) 측에 제1 점착 테이프(7)가 부착되어 있으면, 디바이스(5)를 구성하는 회로 패턴 등을 확인하기 어려워진다.
따라서, 본 실시 형태에 관련되는 웨이퍼 전사 방법 및 웨이퍼 전사 장치에서는, 웨이퍼(1)의 이면(1b) 측에 제2 점착 테이프를 부착하고, 웨이퍼(1)를 제1 점착 테이프(7)로부터 박리하는 것에 의해 웨이퍼(1)를 전사한다. 그리고, 웨이퍼(1)와, 제2 점착 테이프와, 제2 링 프레임으로 구성되는 제2 워크 유닛을 형성한다.
다만, 본 실시 형태에 관련되는 웨이퍼 전사 방법 및 웨이퍼 전사 장치는 이것에 한정되지 않고, 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 제1 점착 테이프(7)가 부착되고, 표면(1a)에 제2 점착 테이프가 부착되어도 좋다. 이하, 웨이퍼(1)의 표면(1a) 측에 제1 점착 테이프(7)가 부착되어 제1 워크 유닛(11a)이 형성되어 있고, 이면(1b)에 제2 점착 테이프를 부착하여 제1 점착 테이프(7)를 표면(1a) 측으로부터 박리하여 제2 워크 유닛을 형성하는 경우를 예로 설명한다. 다만, 하기 설명에서는, 표면(1a) 및 이면(1b)이 바꾸어 읽혀져도 좋다.
웨이퍼(1)의 전사는, 도 2에 도시되는 웨이퍼 전사 장치(2)로 실시된다. 우선, 웨이퍼 전사 장치(2)에 대해서 상술한다. 도 2는, 웨이퍼 전사 장치(2)를 모식적으로 도시하는 사시도이다. 웨이퍼(1)를 포함하는 제1 워크 유닛(11a)은, 복수의 제1 워크 유닛(11a)을 수용 가능한 카세트(8a)에 수용된 상태에서 웨이퍼 전사 장치(2)에 반입된다. 또한, 웨이퍼 전사 장치(2)로 웨이퍼(1)가 전사되어 형성되는 제2 워크 유닛은, 복수의 제2 워크 유닛을 수용 가능한 카세트(8b)에 수용된다.
도 2에 도시되는 바와 같이, 웨이퍼 전사 장치(2)는, 각 구성 요소를 지지하는 베이스(4)를 구비한다. 베이스(4)의 전방 측에는, 제1 워크 유닛(11a)을 수용하는 카세트(8a)가 재치되는 카세트 테이블(6a)과, 제2 워크 유닛이 수용되는 카세트(8b)가 재치되는 카세트 테이블(6b)이 배치되어 있다. 카세트 테이블(6a, 6b)은, 승강 기구(도시하지 않음)에 의해 상하 방향(Z축 방향)으로 승강 가능하다.
카세트(8a, 8b)의 수용 공간의 양측벽에는, 각각, 서로 대응하는 높이 위치에 복수의 수용 레일이 설치되어 있다. 카세트(8a, 8b)에 수용된 워크 유닛의 링 프레임은, 한쪽의 측벽에 설치된 수용 레일에 일단이 재치되고, 다른 쪽의 측벽에 설치된 대응하는 수용 레일에 타단이 재치된다.
웨이퍼 전사 장치(2)에서는, 복수의 제1 워크 유닛(11a)을 수용하는 카세트(8a)가 카세트 테이블(6a)에 재치되고, 카세트(8a)로부터 제1 워크 유닛(11a)이 차례로 반출되며, 각각에 포함되는 웨이퍼(1)가 제2 점착 테이프로 교체 부착된다. 그리고, 형성된 제2 워크 유닛이 차례로 카세트 테이블(6b)에 재치된 카세트(8b)에 수용된다.
카세트 테이블(6a)에 인접하는 베이스(4)의 상면의 후방 측(X축 정방향 측)에는, X축 방향에 평행한 상태를 유지하면서 서로 접근, 이격되는 한 쌍의 가이드 레일(12)로 구성되는 임시 배치 테이블이 설치되어 있다. 또한, 베이스(4)의 상면의 임시 배치 테이블에 인접하는 위치에는, 카세트 테이블(6a)에 재치된 카세트(8a)에 수용된 제1 워크 유닛(11a)을 카세트(8a)로부터 반출하는 푸시풀 아암(반출 유닛)(10)이 설치되어 있다.
도 3은, 카세트 테이블(6a)에 재치된 카세트(8a)와, 한 쌍의 가이드 레일(12)과, 푸시풀 아암(10)을 모식적으로 도시하는 사시도이다. 한 쌍의 가이드 레일(12)은, 각각, 제1 워크 유닛(11a)의 제1 링 프레임(9)을 아래쪽으로부터 지지하는 수평인(XY 평면을 따른) 지지면(12a)과, 지지면(12a)에 대략 수직인(XZ 평면을 따른) 맞닿음면(12b)을 구비한다. 각 가이드 레일(12)의 맞닿음면(12b)은, 서로 대향하고 있다.
푸시풀 아암(10)은, 해당 푸시풀 아암(10)을 X축 방향을 따라서 이동시키는 이동 기구(도시하지 않음)에 접속되어 있고, 해당 이동 기구에 의해 X축 방향을 따라서 이동 가능하다. 푸시풀 아암(10)의 카세트(8a)(카세트 테이블(6a))를 향한 면에는, 제1 워크 유닛(11a)의 제1 링 프레임(9)을 파지하는 파지부가 배치되어 있다. 파지부는 제1 링 프레임(9)을 상하로부터 파지한다.
웨이퍼 전사 장치(2)는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 베이스(4)의 내부의 한 쌍의 가이드 레일(12)의 바로 아래의 영역에 제1 자외선 조사 유닛(14)을 구비한다. 도 3에는, 제1 자외선 조사 유닛(14)이 2점 쇄선에 의해 도시되어 있다. 제1 자외선 조사 유닛(14)은, 한 쌍의 가이드 레일(12)에 인출된 제1 워크 유닛(11a)에 아래쪽으로부터 자외선을 조사하는 기능을 가지고, 자외광원을 구비한다.
카세트(8a)에 수용된 제1 워크 유닛(11a)을 푸시풀 아암(반출 유닛)(10)으로 반출할 때에는, 푸시풀 아암(10)을 카세트(8a)를 향해 이동시켜, 푸시풀 아암(10)에 제1 링 프레임(9)을 파지시킨다. 또한, 이 때, 반출의 대상이 되는 제1 워크 유닛(11a)의 높이와, 푸시풀 아암(10)의 파지부의 높이가 대응하도록 카세트 테이블(6a)을 승강시켜 둔다.
그 후, 푸시풀 아암(10)을 카세트(8a)로부터 멀어지는 방향으로 이동시키면, 카세트(8a)로부터 제1 워크 유닛(11a)이 가이드 레일(12)의 지지면(12a) 상에 인출된다. 이 때, 푸시풀 아암(10)의 위치를 조정하는 것에 의해 제1 워크 유닛(11a)을 X축 방향에 있어서의 소정의 위치에 위치된다. 그 후, 푸시풀 아암(10)에 의한 제1 링 프레임(9)의 파지를 해제한다.
다음으로, 한 쌍의 가이드 레일(12)을 서로 근접하는 방향으로 연동시켜 이동시키고, 상기 한 쌍의 가이드 레일(12)의 각각의 맞닿음면(12b)에서 제1 링 프레임(9)을 끼워 넣으면, 제1 워크 유닛(11a)이 Y축 방향에 있어서의 소정의 위치에 위치된다.
또한, 한 쌍의 가이드 레일(12) 상에 인출된 제1 워크 유닛(11a)에는, 제1 자외선 조사 유닛(14)에 의해 아래쪽으로부터 자외선이 조사된다. 제1 점착 테이프(7)의 점착층이 자외선 경화 수지로 구성되는 경우, 제1 점착 테이프(7)에 자외선이 조사되면, 점착층의 점착력이 저하된다. 그 때문에, 후술하는 바와 같이 웨이퍼(1) 및 제1 링 프레임(9)으로부터 제1 점착 테이프(7)를 박리할 때, 제1 점착 테이프(7)가 용이하고 청정하게 박리된다.
웨이퍼 전사 장치(2)는, 한 쌍의 가이드 레일(12)로 구성되는 임시 배치 유닛에 인접한 위치에 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)을 구비한다. 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)은, 제1 워크 유닛(11a)을 지지하는 기능을 갖는다. 제1 워크 유닛(11a)을 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)에 지지시키면, 웨이퍼(1)의 제1 점착 테이프(7)에 부착된 표면(1a)과는 반대 측의 이면(1b)은, 위쪽으로 노출된다.
제1 워크 유닛 지지 유닛(26)은, 제1 워크 유닛(11a)의 웨이퍼(1)를 제1 점착 테이프(7)를 통해 지지하는 웨이퍼 지지부(28)와, 제1 링 프레임(9)을 제1 점착 테이프(7)를 통해 지지하는 링 프레임 지지부(30)를 포함한다.
웨이퍼 지지부(28)는, 지지면이 되는 상면이 웨이퍼(1)와 같은 정도의 직경의 원형으로 되어 있다. 또한, 링 프레임 지지부(30)는, 지지면이 되는 상면이 원환 형상으로 되고, 그 내주 가장자리가 제1 링 프레임(9)의 제1 개구부(9c)와 동일한 정도의 직경으로 되어 있다.
또한, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)은, 웨이퍼 지지부(28)와, 링 프레임 지지부(30)를 상대적으로 승강시키는 승강부(도시하지 않음)를 구비한다. 승강부에는 특별히 제한은 없지만, 볼 나사식의 승강 기구 또는 에어 실린더를 구비하는 승강 기구 등을 적용할 수 있다. 그리고, 웨이퍼 지지부(28) 및 링 프레임 지지부(30)는, 각각 독립적으로 Z축 방향을 따라 승강 가능하다.
또한, 웨이퍼 지지부(28)는, 전열선 등의 가열 기구(히터)를 내장하고 있어도 좋고, 웨이퍼 지지부(28)에 지지된 웨이퍼(1)를 30℃에서 80℃의 범위 내의 소정의 온도로 가열할 수 있어도 좋다. 웨이퍼 지지부(28)에 지지된 웨이퍼(1)를 가열해 두면, 후술하는 바와 같이 웨이퍼(1)에 제2 점착 테이프가 부착될 때, 제2 점착 테이프가 가열되어 연화된다. 이 경우, 제2 점착 테이프가 웨이퍼(1)의 피부착 이면(이면(1b))의 형상에 추종하여 변형되기 쉬워져, 부착력이 강해진다.
웨이퍼 전사 장치(2)는, 한 쌍의 가이드 레일(12)로 구성되는 임시 배치 유닛으로부터 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)에 제1 워크 유닛(11a)을 반송하는 제1 워크 유닛 반송 유닛(16)을 구비한다. 제1 워크 유닛 반송 유닛(16)은, X축 방향 및 Y축 방향에 있어서 소정의 위치에 위치된 제1 워크 유닛(11a)을 소정의 동작으로 반송하여, 제1 워크 유닛(11a)을 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 소정의 위치에 반송한다.
제1 워크 유닛 반송 유닛(16)은, X축 방향을 따른 레일(18)과, 레일(18)에 슬라이드 가능하게 기단 측이 장착된 아암부(20)와, 수평 방향을 따라 신장된 아암부(20)의 선단 아래쪽에 승강 기구(24)를 통해 설치된 유지부(22)를 구비한다. 유지부(22)는, 예를 들어, 제1 워크 유닛(11a)의 제1 링 프레임(9)을 위쪽으로부터 흡인 유지하는 기능을 갖는다. 또한, 승강 기구(24)는, 에어 실린더 등에 의해 구성되어 있고 유지부(22)를 승강시키는 기능을 갖는다.
도 2로 되돌아가, 웨이퍼 전사 장치(2)에 대해서 설명을 계속한다. 웨이퍼 전사 장치(2)는, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 위쪽에, 제2 링 프레임을 지지하는 제2 링 프레임 지지 유닛(72)을 구비한다. 제2 링 프레임 지지 유닛(72)에 대해서는 후에 상술한다. 그리고, 웨이퍼 전사 장치(2)는, 베이스(4) 상의 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 후방 측(X축 방향 안쪽)에, 제2 링 프레임을 제2 링 프레임 지지 유닛(72)에 공급하는 공급 기구를 갖는다.
제2 링 프레임의 공급 기구에 대해서, 도 4를 사용하여 설명한다. 도 4는, 링 프레임 수용부(32)와, 링 프레임 반송 유닛(38)과, 링 프레임 지지 테이블(48)과 점착 테이프 공급 유닛(50)을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
링 프레임 수용부(32)는, 복수의 제2 링 프레임을 중첩하여 적재하여 수용하는 기능을 갖고, 베이스(4)의 내부에 배치되어 있다. 제2 워크 유닛의 형성에 사용되는 제2 링 프레임은, 링 프레임 수용부(32)로부터 공급된다.
도 5는, 링 프레임 수용부(32)를 모식적으로 도시하는 사시도이다. 도 5에는, 링 프레임 수용부(32)에 수용된 제2 링 프레임(13)이 모식적으로 도시되어 있다. 도 5에서는, 설명의 편의를 위해, 링 프레임 수용부(32)에 수용된 제2 링 프레임(13)을 하나 도시하고 있다. 말할 필요도 없이, 링 프레임 수용부(32)에 수용되는 제2 링 프레임(13)은, 하나에 한정되지 않는다.
여기서, 제2 링 프레임(13)은, 제1 링 프레임(9)과 마찬가지로 구성된다. 즉, 제2 링 프레임(13)은, 알루미늄 등의 금속 재료로 구성되어 있고, 표면(13a) 및 이면(13b)을 관통하는 제2 개구부(13c)가 중앙에 형성되어 있다. 제2 링 프레임(13)은, 예를 들어, 표면(13a)이 아래쪽으로 향해지고 있음과 함께 후술하는 바와 같이 제2 점착 테이프가 부착되는 이면(13b) 측이 위쪽으로 향해진 상태에서 링 프레임 수용부(32)에 수용되어 있다.
링 프레임 수용부(32)는, 중첩하여 적재된 복수의 제2 링 프레임(13)이 재치되는 지지 테이블(34)과, 지지 테이블(34)의 외주부로부터 세워 설치하여 제2 링 프레임(13)을 외주로부터 둘러싸는 복수의 위치 결정 기둥(36)을 갖는다. 제2 링 프레임(13)의 외주 가장자리에는, 여러 가지 목적으로 절결부나 직선부, 원호부가 형성되어 있다. 위치 결정 기둥(36)은, 제2 링 프레임(13)의 외주 가장자리의 형상에 대응한 위치에 배치되어 있다.
위치 결정 기둥(36)은, 링 프레임 수용부(32)에 수용된 제2 링 프레임(13)의 위치 및 방향, 표리를 규정한다. 반대로 말하면, 제2 링 프레임(13)은, 소정의 위치 및 방향이 아니면 지지 테이블(34)에 재치되지 않는다. 또한, 위치 결정 기둥(36)이 방해를 하기 때문에, 표면(13a)을 위로, 이면(13b)을 아래로 한 상태에서, 제2 링 프레임(13)을 지지 테이블(34)에 재치할 수도 없다.
그 때문에, 링 프레임 수용부(32)에 수용된 제2 링 프레임(13)을 소정의 반송 동작으로 반송하면, 제2 링 프레임(13)을 소정의 위치 및 방향으로 소정의 장소에 공급할 수 있다.
계속해서, 링 프레임 수용부(32)에 수용된 제2 링 프레임(13)을 반송하는 링 프레임 반송 유닛(38)에 관해서 설명한다. 도 4에 도시되는 바와 같이, 링 프레임 반송 유닛(38)은, Y축 방향을 따른 레일(42)과, 슬라이드 가능하게 레일(42)에 장착된 이동체(40)와, 이동체(40)로부터 X축 방향으로 신장된 아암부(44)와, 아암부(44)의 선단에 배치된 유지부(46)를 구비한다.
아암부(44)는, 이동체(40)를 따라 승강 가능하다. 즉, 링 프레임 반송 유닛(38)은, 도시하지 않은 승강 기구를 이동체(40)에 구비하고, 아암부(44)를 Z축 방향을 따라 승강시킨다. 또한, 유지부(46)는, 제2 링 프레임(13)을 위쪽으로부터 흡인 유지할 수 있다. 즉, 링 프레임 반송 유닛(38)은, 유지부(46)에 접속된 도시하지 않는 흡인 기구를 구비하여, 제2 링 프레임(13)을 흡인 유지하면서 반송할 수 있다.
레일(42)의 일단은, 링 프레임 수용부(32)의 근방에 도달하고 있고, 레일(42)의 타단은, 다음에 설명하는 링 프레임 지지 테이블(48)의 근방에 도달하고 있다. 링 프레임 반송 유닛(38)은, 제2 링 프레임(13)을 링 프레임 수용부(32)로부터 링 프레임 지지 테이블(48)에 반송한다.
링 프레임 지지 테이블(48)에서는, 제2 링 프레임(13)의 이면(13b) 측에 제2 개구부(13c)를 막도록 제2 점착 테이프가 부착된다. 링 프레임 지지 테이블(48)의 위쪽에는, 제2 링 프레임(13)에 제2 점착 테이프를 공급하는 점착 테이프 공급 유닛(50)이 배치되어 있다. 계속해서, 점착 테이프 공급 유닛(50)에 대하여 설명한다.
점착 테이프 공급 유닛(50)은, 공급 테이프(58)가 장척으로 감긴 송출 롤(52)과, 송출 롤(52)로부터 송출된 공급 테이프(58)의 진행 경로를 형성하는 복수의 롤러(56)와, 공급 테이프(58)를 권취하는 권취 롤(54)을 갖는다. 점착 테이프 공급 유닛(50)은, 도시하지 않은 승강 기구에 지지되어 있고, 링 프레임 지지 테이블(48)의 위쪽에서 승강할 수 있다.
공급 테이프(58)는, 예를 들어, 수지 등으로 형성된 기재층과, 기재층의 한쪽의 면에 형성된 점착층을 갖는다. 공급 테이프(58)를 소정의 형상으로 절단하면, 제2 점착 테이프를 형성할 수 있다. 점착 테이프 공급 유닛(50)은, 공급 테이프(58)를 절단하는 절단부(60)를 구비한다. 절단부(60)는, Z축을 따른 회전축부(62)와, 회전축부(62)의 하단으로부터 수평 방향을 따라 신장된 아암부(64)와, 아암부(64)의 선단 아래쪽에 배치된 커터(절단 공구)(66)를 갖는다.
절단부(60)의 회전축부(62)는, 링 프레임 지지 테이블(48)에 지지된 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c)의 중심의 바로 위에 위치된다. 또한, 아암부(64)는 제2 개구부(13c)의 직경보다 길다. 절단부(60)는, 회전축부(62)를 회전시키는 모터 등의 도시하지 않은 회전 구동원을 갖고, 이 회전 구동원을 작동시키는 것에 의해 아암부(64)를 직경으로 하는 환형 궤도 상에서 커터(66)를 이동시킨다.
점착 테이프 공급 유닛(50)으로부터 제2 링 프레임(13)에 제2 점착 테이프를 공급할 때에는, 우선 링 프레임 지지 테이블(48)에 지지된 제2 링 프레임(13)을 향하여 점착 테이프 공급 유닛(50)을 하강시킨다. 그리고, 제2 링 프레임(13)의 노출된 이면(13b) 측에 공급 테이프(58)를 부착한다. 그 후, 제2 링 프레임(13) 상에서 절단부(60)의 커터(66)를 공급 테이프(58)에 절입시키면서, 커터(66)를 제2 개구부(13c)의 주위에서 회전 이동시켜, 공급 테이프(58)를 원형으로 절단한다.
이에 따라, 제2 링 프레임(13)의 이면(13b)에 제2 점착 테이프(15)(도 6(B) 등 참조)를 공급할 수 있다. 다만, 공급 테이프(58)는, 미리 소정의 형상으로 형성된 복수의 제2 점착 테이프가 나란히 배치된 지지 테이프여도 되고, 지지 테이프인 공급 테이프(58)로부터 제2 링 프레임(13)으로 제2 점착 테이프(15)가 이설되어도 된다. 이 경우, 절단부(60)가 불필요해지기 때문에, 공급 테이프(58)의 절단에 수반하여 절단 부스러기가 발생하는 일이 없다.
또한, 점착 테이프 공급 유닛(50)은, 링 프레임 지지 테이블(48)의 위쪽에 배치되어 있지 않아도 되고, 링 프레임 지지 테이블(48)에서 제2 링 프레임(13)에 제2 점착 테이프(15)가 공급되지 않아도 된다. 예를 들어, 점착 테이프 공급 유닛(50)은, 후술하는 제2 링 프레임 지지 유닛(72) 상에서 제2 링 프레임(13) 및 웨이퍼(1)에 제2 점착 테이프(15)를 공급하여도 좋다.
제2 링 프레임(13)은, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 위쪽에 배치된 제2 링 프레임 지지 유닛(72)에 링 프레임 지지 테이블(48)로부터 반송된다. 웨이퍼 전사 장치(2)는, 제2 링 프레임(13)을 링 프레임 지지 테이블(48)로부터 제2 링 프레임 지지 유닛(72)에 반송하는 링 프레임 반송 유닛(68)을 갖는다.
링 프레임 반송 유닛(68)은, 상술한 링 프레임 반송 유닛(38)과 마찬가지로 구성된다. X축 방향을 따른 레일(70)과, 슬라이드 가능하게 레일(70)에 장착된 이동체(도시하지 않음)와, 이동체로부터 Y축 방향으로 신장된 아암부와, 아암부의 선단에 배치된 유지부를 구비한다. 이 유지부는 승강 가능하고, 제2 링 프레임(13)을 위쪽으로부터 흡인 유지할 수 있다. 즉, 링 프레임 반송 유닛(68)은, 제2 링 프레임(13)을 흡인 유지하면서 반송할 수 있다.
다음에, 제2 링 프레임 지지 유닛(72)에 대해서 설명한다. 도 6(A)에는 제2 링 프레임 지지 유닛(72)이 모식적으로 도시되어 있다. 제2 링 프레임 지지 유닛(72)은, 복수의 박판 형상의 제1 클로부(클로체)(74)를 구비한다. 복수의 제1 클로부(74)는, 중앙의 공간을 환형으로 둘러싸도록 동일한 수평면 상(XY 평면 상)에 배치된다. 서로 인접하는 제1 클로부(74) 사이에는 소정 간격의 간극이 확보되어 있고, 후술하는 바와 같이, 이 간극에는 유지 유닛(90)의 제2 클로부(102)(도 9(A) 등 참조)가 삽입된다.
각 제1 클로부(74)의 내주 가장자리는 원호형으로 되어 있고, 각 제1 클로부(74)의 내주 가장자리로 둘러싸이는 중앙의 공간은, 대략 원형이 된다. 제2 링 프레임 지지 유닛(72)은, 각 제1 클로부(74)를 이 중앙의 원형 공간의 직경 방향 바깥쪽으로 슬라이드할 수 있는 슬라이드 기구(도시하지 않음)를 구비한다. 슬라이드 기구는, 예를 들어, 볼 나사식의 이동 기구나, 에어 실린더식의 신축 기구에 의해 구성된다.
각 제1 클로부(74)가 직경 방향 바깥쪽으로 슬라이드하지 않은 상태에 있어서 각 제1 클로부(74)의 내주 가장자리로 둘러싸이는 원형 공간의 직경은, 제1 링 프레임(9)의 제1 개구부(9c)의 직경 및 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c)의 직경보다 큰 직경이거나 동일한 직경이 된다. 이 경우, 후술하는 바와 같이 제2 점착 테이프(15)를 웨이퍼(1)에 부착할 때에 제1 클로부(74)가 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)에 의해 가리어져, 제1 점착 테이프(7) 또는 제2 점착 테이프(15)가 제1 클로부(74)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
다만, 원형 공간의 직경은, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 원형 공간은, 제1 개구부(9c) 및 제2 개구부(13c)의 직경보다 작고, 또한, 웨이퍼(1)의 직경을 초과하는 직경이 되어도 좋다. 이 경우, 제2 점착 테이프(15)를 웨이퍼(1)에 부착할 때에 제1 점착 테이프(7) 및 제2 점착 테이프(15)의 접촉이 제1 클로부(74)에 의해 방지된다. 이 경우, 제1 클로부(74)에 대한 제1 점착 테이프(7) 또는 제2 점착 테이프(15)의 접촉의 가능성이 있기 때문에, 점착층이 부착되기 어렵도록 제1 클로부(74)의 표면에 마찰력을 저하시키는 처리(불소 수지 코팅) 등이 실시되면 좋다.
다음에, 제2 링 프레임 지지 유닛(72)의 사용 양태에 대해서 설명한다. 우선, 제2 링 프레임(13)이 제1 클로부(74) 상에 반송된다. 도 6(B)에는, 제1 클로부(74)에 지지된 제2 링 프레임(13)이 모식적으로 도시되어 있다. 도 6(B) 등에 도시되는 예에서는, 제2 링 프레임(13)의 위쪽에 노출된 이면(13b) 측에 제2 점착 테이프(15)가 부착되어 있다. 도 6(B) 등에는, 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c)가 파선으로 도시되어 있다.
제2 링 프레임(13)은, 제1 클로부(74)로 둘러싸인 원형 공간 및 제2 개구부(13c)의 서로의 중심이 중첩되도록 제1 클로부(74)의 소정의 위치에 반송된다. 또한, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)에는, 제1 워크 유닛(11a)이 재치되어 있다. 이 때, 제1 클로부(74)는, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 링 프레임 지지부(30)로 지지된 제1 링 프레임(9)에 대면하도록 제2 링 프레임(13)을 지지한다.
그리고, 이 상태에서, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 웨이퍼 지지부(28)와, 링 프레임 지지부(30)를 상승시킨다. 도 6(C)는, 상승한 웨이퍼 지지부(28) 및 링 프레임 지지부(30)를 모식적으로 도시하는 사시도이다. 또한, 도 7에는, 상승한 웨이퍼 지지부(28) 및 링 프레임 지지부(30)를 모식적으로 나타내는 단면도가 포함되어 있다.
양자를 상승시키면, 도 7에 도시되는 바와 같이, 제1 클로부(74)는, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13) 사이에 끼워진다. 이 때의 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)의 거리는, 제1 클로부(74)의 두께에 상당한다. 즉, 제1 클로부(74)는, 양자를 소정의 거리로 이격시키는 스페이서로서 기능한다.
이 때, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 웨이퍼 지지부(28)는, 도 7에 도시하는 바와 같이 링 프레임 지지부(30)보다 높게 상승하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 웨이퍼 전사 장치(2)는, 제1 링 프레임(9)의 표면(9a)보다 웨이퍼(1)의 이면(1b)이 높아지도록 웨이퍼 지지부(28)의 높이를 제어한다. 이 상태로, 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 제2 점착 테이프(15)가 부착된다.
여기서, 웨이퍼 지지부(28)가 가열 기구를 구비하고 있는 경우, 가열 기구를 작동시켜 웨이퍼(1)를 소정의 온도로 가열하는 것이 바람직하다. 고온의 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 제2 점착 테이프(15)가 접촉하면, 제2 점착 테이프(15)가 가열되고, 연화되어 변형되기 쉬워진다. 예를 들어, 웨이퍼(1)의 이면(1b) 측에 요철 형상이 형성되어 있는 경우, 제2 점착 테이프(15)가 연화되어 있으면 제2 점착 테이프(15)가 이 요철 형상에 추종하여 변형되면서 웨이퍼(1)에 부착되기 때문에, 제2 점착 테이프(15)가 보다 강고하게 웨이퍼(1)에 부착된다.
웨이퍼 전사 장치(2)는, 제2 링 프레임 지지 유닛(72)의 위쪽에 배치되고, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 웨이퍼 지지부(28)로 지지된 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 제2 점착 테이프(15)를 부착하는 테이프 부착 유닛(76)을 구비한다. 테이프 부착 유닛(76)은, 제2 점착 테이프(15) 상을 구르면서 제2 점착 테이프(15)를 아래쪽으로 압박하는 것에 의해 제2 점착 테이프(15)를 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 접촉시켜 부착하는 롤러(78)를 구비한다.
롤러(78)는, 수평 방향(XY 평면)을 따라 신장되어 있고, 수평면에 수직인 방향(Z축 방향)을 따라 승강 가능함과 함께, 수평면 상의 롤러(78)가 신장되는 방향에 수직인 방향을 따라 이동 가능하다. 롤러(78)를 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c) 내에서 이동 가능하게 하기 위해서, 롤러(78)의 길이는, 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c)의 직경보다 작고, 웨이퍼(1)의 직경 이상이 된다.
도 7에 도시하는 바와 같이, 테이프 부착 유닛(76)은, 롤러(78)를 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c)에 하강시켜, 제2 점착 테이프(15)를 위쪽으로부터 압박하여, 제2 점착 테이프(15)를 웨이퍼(1)의 이면(1b)의 일단에 부착한다. 그리고, 롤러(78)를 수평면 상에서 이동시켜, 웨이퍼(1)의 이면(1b)의 전체면에 제2 점착 테이프(15)가 부착된다.
이 때, 제1 클로부(74)에 의해 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)이 소정의 간격으로 이격되어 있다. 게다가, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 웨이퍼 지지부(28)가 링 프레임 지지부(30)보다 높게 위치되어 있다. 이 경우, 제2 점착 테이프(15)와, 제1 링 프레임(9)이나 제1 점착 테이프(7)의 거리가 비교적 커지는 한편, 웨이퍼(1)가 제2 점착 테이프(15)에 근접한다.
그 때문에, 제2 점착 테이프(15)가 웨이퍼(1)의 외측에서 아래로 늘어져도, 제2 점착 테이프(15)는 제1 링 프레임(9)이나 제1 점착 테이프(7)에 접촉하기 어려워진다. 가령, 제2 점착 테이프(15)가 이들에 접촉하여 부착되면, 제2 점착 테이프(15)를 박리하는 작업이 필요해진다. 이 때, 웨이퍼(1) 등에 부하가 걸려 파손이 발생하는 경우나, 제2 점착 테이프(15)에 불필요한 신장이 발생하는 경우를 생각할 수 있다.
특히, 제1 점착 테이프(7) 및 제2 점착 테이프(15)의 서로의 점착층끼리가 접촉하면, 매우 큰 힘으로 양자가 부착된다. 이것을 박리할 때에는, 상응하는 크기의 힘이 각 요소에 걸리기 때문에, 구성 요소의 파손이나 변형, 신장 등이 생겨 제2 워크 유닛을 원하는 상태에서 형성할 수 없게 된다. 세퍼레이터로서 제1 클로부(74)를 사용하여 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)의 거리를 확보하는 것이나, 웨이퍼 지지부(28)가 상대적으로 상승하고 있는 것에 의해, 이러한 문제를 방지할 수 있다.
이 효과는, 제1 클로부(74)가 제1 개구부(9c) 및 제2 개구부(13c)와 중첩되도록 배치되어 있지 않고, 제1 클로부(74)가 제1 점착 테이프(7) 및 제2 점착 테이프(15)의 사이에 삽입되어 있지 않은 경우에 특히 현저해진다.
예를 들어, 웨이퍼(1)의 직경이 6 인치, 제1 링 프레임(9)의 제1 개구부(9c)의 내경이 194mm, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)의 두께가 1.2mm인 경우, 제1 클로부(74)의 두께를 2mm로 하면 좋다. 롤러(78)의 길이는, 웨이퍼(1)의 직경을 초과하는 156mm으로 하면 좋다.
다만, 도 7을 포함하는 각 단면도에서는, 설명의 편의를 위해 제1 클로부(74)가 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)보다 얇게 도시되어 있다. 각 구성 요소의 두께는, 도 7 등에 도시되는 경우에 한정되지 않는다. 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)의 두께를 초과하는 제1 클로부(74)를 사용하면, 양자를 충분한 거리로 이격시킬 수 있어, 점착 테이프끼리의 접촉을 방지할 수 있다. 다만, 제1 클로부(74)의 두께는 이것에 한정되지 않는다.
웨이퍼(1)를 제2 점착 테이프(15)에 부착하면, 제1 링 프레임(9)과, 제1 점착 테이프(7)와, 제2 링 프레임(13)과, 제2 점착 테이프(15)와, 웨이퍼(1)가 일체화된 결합체가 형성된다. 웨이퍼 전사 장치(2)에서는, 이 결합체로부터 제1 링 프레임(9) 및 제1 점착 테이프(7)를 분리하는 것에 의해 제2 워크 유닛을 형성한다.
도 2에 도시되는 바와 같이, 웨이퍼 전사 장치(2)는, 웨이퍼(1)로부터 제1 점착 테이프(7)를 박리함과 함께, 제1 링 프레임(9)으로부터 제1 점착 테이프(7)를 박리하는 박리 유닛(108)을 구비한다. 또한, 웨이퍼(1)를 포함하는 결합체를 유지하면서 박리 유닛(108)을 향해 반송하는 결합체 반송 기구(80)를 구비한다.
결합체 반송 기구(80)와 그 동작에 대해서 설명한다. 결합체 반송 기구(80)는, Y축 방향을 따른 지지부(82)에 이동 가능하게 지지되어 있다. 도 8에는, 결합체 반송 기구(80)를 모식적으로 도시하는 사시도가 포함되어 있다. 지지부(82)의 일면에는, Y축 방향을 따른 레일(84)이 배치되어 있다. 레일(84)은, 일단이 제2 링 프레임 지지 유닛(72)의 근방에 도달하고 있고, 타단이 박리 유닛(108)의 근방에 도달하고 있다.
레일(84)에는, X축 방향을 따른 아암부(86)의 기단이 슬라이드 가능하게 장착되어 있고, 아암부(86)의 선단에는, Z축 방향을 따른 신축 가능한 에어 실린더 기구 등으로 구성되는 승강 유닛(88)을 통해 유지 유닛(90)이 고정되어 있다. 즉, 유지 유닛(90)은, 승강 유닛(88)을 작동시키는 것에 의해 높이 위치를 변경할 수 있다.
유지 유닛(90)은, 제1 링 프레임(9)과, 제1 점착 테이프(7)와, 웨이퍼(1)와, 제2 점착 테이프(15)와, 제2 링 프레임(13)을 포함하는 결합체를 유지하는 기능을 갖는다. 결합체를 유지하는 유지 유닛(90)을 레일(84)을 따라 이동시키면, 결합체를 반송할 수 있다. 유지 유닛(90)은, 웨이퍼(1)를 위쪽으로부터 흡인 유지하는 흡인 유지부(92)와, 제2 링 프레임(13)을 유지하는 복수의 제2 클로부(102)와, 제1 링 프레임(9)을 유지하는 제3 클로부(106)를 포함한다.
흡인 유지부(92)는, 평탄한 하면을 가지며, 이 하면에 통한 도시하지 않는 흡인 기구에 접속되어 있고, 제2 점착 테이프(15)를 통해 웨이퍼(1)를 흡인 유지하는 기능을 갖는다. 또한, 흡인 유지부(92)는, 전열선 등의 가열 기구(히터)를 내장하고 있어도 좋고, 흡인 유지부(92)에 유지된 웨이퍼(1)를 30℃ 내지 80℃의 범위 내의 소정의 온도로 가열할 수 있어도 좋다.
도 9(A)는, XZ 평면 또는 YZ 평면으로 절단한 유지 유닛(90)을 모식적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 9(B)는, XZ 평면 또는 YZ 평면이 Z축 둘레로 45°회전한 평면으로 절단한 유지 유닛(90)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 9(A)에 도시되는 바와 같이, 유지 유닛(90)은, XY 평면에 있어서 직경 방향을 따라 각 제2 클로부(102)를 이동시키는 제2 클로부 이동부(94)를 구비한다. 제2 클로부 이동부(94)는, 예를 들면, 에어 실린더 기구 등으로 형성된 신축부(98)와, 신축부(98)의 선단에 접속된 이동체(100)를 포함한다. 이동체(100)에는, 제2 클로부(102)가 접속되어 있고, 신축부(98)를 작동시키면 제2 클로부(102)가 유지 유닛(90)의 직경 방향을 따라 이동한다.
제2 클로부(102)의 선단부는, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)의 사이에 들어갈 수 있는 두께 및 형상으로 형성되어 있다. 제2 클로부 이동부(94)를 작동시키면, 제2 클로부(102)의 갈고리 형상의 선단부를 이 양자의 사이에 진퇴시킬 수 있다. 이 양자의 사이에 제2 클로부(102)가 진입되어 있으면, 제2 클로부(102)가 제2 링 프레임(13)의 아래쪽을 향한 표면(13a)에 접촉하여 제2 링 프레임(13)을 아래쪽으로부터 유지한다.
또한, 유지 유닛(90)의 제2 클로부(102)의 배치 위치는, 도 6(A) 등에 도시되는 제2 링 프레임 지지 유닛(72)의 복수의 서로 인접하는 제1 클로부(74)의 간극의 위치에 대응하고 있다. 그리고, 유지 유닛(90)은, 제1 클로부(74)에 제2 링 프레임(13)이 지지되어 있는 상태로, 서로 인접하는 제1 클로부(74)의 간극에 제2 클로부(102)를 진입시킬 수 있고, 제2 클로부(102)로 제2 링 프레임(13)을 아래쪽으로부터 지지할 수 있다.
또한, 도 9(B)에 도시되는 바와 같이, 유지 유닛(90)은, 제3 클로부(106)의 상단을 회전 가능하게 흡인 유지부(92)의 외주부에 접속하는 축부(104)를 구비한다. 또한, 유지 유닛(90)은, 도시하지 않는 회전 구동원에 의해 제3 클로부(106)를 축부(104)의 둘레로 회전시키는 것에 의해 제3 클로부(106)를 개폐할 수 있는 제3 클로부 개폐부(96)를 구비한다.
제3 클로부 개폐부(96)를 작동시켜 제3 클로부(106)를 폐쇄하면, 제3 클로부(106)의 갈고리 형상의 하단부가 제1 링 프레임(9)의 아래쪽으로 돌아 들어가, 제1 링 프레임(9)이 제3 클로부(106)에 의해 아래쪽으로부터 지지된다. 또한, 제3 클로부 개폐부(96)를 작동시켜 제3 클로부(106)를 개방하면, 제1 링 프레임(9)의 지지가 해제된다.
제1 링 프레임(9) 등을 포함하는 결합체를 유지 유닛(90)에 유지시키면서 반송할 때, 우선, 유지 유닛(90)을 제1 클로부(74)에 지지된 제2 링 프레임(13) 상에 재치한다. 이 때, 제3 클로부(106)가 제1 클로부(74)와 간섭하기 때문에, 제3 클로부 개폐부(96)를 작동시켜 제3 클로부(106)를 개방해 둔다.
그리고, 흡인 유지부(92)를 작동시켜 제2 점착 테이프(15)를 통해 웨이퍼(1)를 흡인 유지시키면서, 제1 클로부(74)가 형성하여 유지하고 있는 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13) 사이의 간극에 제2 클로부(102)를 삽입시킨다. 이 때, 제2 클로부(102)는, 서로 인접하는 제1 클로부(74)의 사이에 진입한다.
여기서, 제2 링 프레임 지지 유닛(72)은, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13) 사이의 영역과, 상기 영역의 외측과의 사이에서 제1 클로부(74)를 이동할 수 있다. 다음으로, 제1 클로부(74)를 직경 방향 외측으로 이동시켜, 제1 클로부(74)에 의한 제2 링 프레임(13)의 지지를 해제한다. 그러면, 제1 링 프레임(9) 등을 포함하는 결합체는, 유지 유닛(90)에 유지된다.
그 후, 레일(84)을 따라 유지 유닛(90)을 이동시키면, 결합체를 반송할 수 있다. 그 반송의 과정에 있어서 제3 클로부 개폐부(96)를 작동시켜 제3 클로부(106)를 폐쇄하여, 제3 클로부(106)에 제1 링 프레임(9)을 아래쪽으로부터 지지시킨다. 이 때, 제1 클로부(74)가 제3 클로부(106)에 간섭하는 일은 없다. 도 9(A) 및 도 9(B)는, 상기 결합체를 유지하는 유지 유닛(90)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
여기서, 제2 링 프레임 지지 유닛(72)의 제1 클로부(74)는, 웨이퍼 전사 장치(2)에서 실시되는 공정을 방해하지 않는 소정의 높이 위치에 배치되어 있다. 이 소정의 높이 위치란, 한 쌍의 가이드 레일(12)로부터 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)에 제1 워크 유닛(11a)을 반송하는 제1 워크 유닛 반송 유닛(16)의 반송 작업에 간섭하지 않는 높이 위치이다.
또한, 이 소정의 높이 위치는, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 링 프레임 지지부(30)가 상승했을 때에 제1 클로부(74) 및 링 프레임 지지부(30)로 제1 링 프레임(9)을 사이에 끼우는 높이 위치이다. 또한, 이 소정의 높이 위치는 제2 링 프레임 지지 유닛(72)으로 지지된 제2 링 프레임(13)을 포함하는 결합체의 유지 유닛(90)에 의한 유지가 가능해지는 높이 위치이다.
웨이퍼(1)를 포함하는 결합체를 유지하는 유지 유닛(90)은, 박리 유닛(108)의 위쪽에 도달한다. 다음에, 박리 유닛(108)에 대해서 설명한다. 박리 유닛(108)은, 유지 유닛(90)이 웨이퍼(1)를 유지한 상태에서, 웨이퍼(1)로부터 제1 점착 테이프(7)를 박리함과 함께, 제1 링 프레임(9)으로부터 제1 점착 테이프(7)를 박리한다. 도 8에는, 박리 유닛(108)을 모식적으로 도시하는 사시도가 포함되어 있다. 또한, 도 10(A), 도 10(B) 및 도 11에는, 박리 유닛(108)을 모식적으로 도시하는 측면도가 포함되어 있다.
박리 유닛(108)은, 기재와, 해당 기재의 한쪽의 면에 형성된 점착층으로 구성되는 박리 테이프(114)가 롤 형상으로 감긴 상태에서 인출 가능하게 장착되는 박리 테이프 공급부(110)와, 박리 테이프(114)를 권취하여 회수하는 권취부(126)를 구비한다. 또한, 박리 유닛(108)은, 박리 테이프 공급부(110)로부터 인출된 박리 테이프(114)를 유도하여 박리 테이프(114)의 진행 경로를 형성하는 복수의 롤러(116)를 갖는다.
박리 테이프 공급부(110)는, 미사용의 박리 테이프(114)의 롤이 장착되는 송출 롤러(112)와, 송출 롤러(112)를 회전시키는 회전 구동원(도시하지 않음)을 구비한다. 또한, 권취부(126)는, 사용 완료된 박리 테이프(114)가 권취되어 롤이 형성되는 권취 롤러(128)와, 권취 롤러(128)를 회전시키는 회전 구동원(도시하지 않음)을 구비한다.
또한, 박리 유닛(108)은, 박리 테이프(114)의 진행 경로를 형성하는 복수의 롤러(116)의 일부가 배치된 이동체(118)와, 이동체(118)를 이동시키는 구동부(124)를 구비한다. 구동부(124)는, X축 방향을 따른 레일(120)을 갖는다. 레일(120)에는 이동체(118)가 X축 방향을 따라 슬라이드 가능하게 장착되어 있고, 구동부(124)는, 이동체(118)를 레일(120)을 따라 이동시키는 구동원(도시하지 않음)을 갖는다.
외부로부터 이동체(118)에 공급된 박리 테이프(114)는, 롤러(116)에 가이드되어 진행 경로 상을 진행하고, 이동체(118)의 외부로 진행한다. 이동체(118)를 이동시킬 때에 박리 테이프(114)의 늘어짐이 발생하지 않도록, 또한 박리 테이프(114)에 과도한 인장력이 인가되지 않도록, 송출 롤러(112) 및 권취 롤러(128)를 적절히 회전시킨다. 이에 의해, 진행 경로를 진행하는 박리 테이프(114)의 길이를 조정한다.
또한, 박리 유닛(108)은, 진행 경로 상을 진행하는 박리 테이프(114)를 밀어 올리는 압박부(122)를 이동체(118)에 갖는다. 압박부(122)는, 이동체(118)와 함께 X축 방향을 따라 이동 가능함과 함께, 이동체(118)에 대하여 Z축 방향을 따라 승강 가능하다. 압박부(122)를 Z축 방향을 따라 상승시키면, 유지 유닛(90)에 유지된 웨이퍼(1)를 포함하는 결합체의 제1 점착 테이프(7)에 박리 테이프(114)가 압박되고, 박리 테이프(114)가 제1 점착 테이프(7)에 부착된다.
다음에, 박리 유닛(108)에 의한 제1 점착 테이프(7)의 박리 과정에 대해서 설명한다. 우선, 웨이퍼(1)를 포함하는 결합체를 유지하는 유지 유닛(90)의 아래쪽으로 이동체(118)를 이동시킨다. 이 때, 압박부(122)가 제1 점착 테이프(7)의 단부(端部)의 아래쪽에 위치하도록 이동체(118)의 위치가 조절된다. 도 10(A)는, 이 상태에 있어서의 상기 결합체를 모식적으로 도시하는 단면도이다. 그리고, 압박부(122)를 상승시켜, 박리 테이프(114)를 제1 점착 테이프(7)의 일단부에 압박하여 부착한다.
그 후, 구동부(124)로 이동체(118)를 이동시키는 것에 의해 박리 테이프(114)를 이동시켜, 제1 점착 테이프(7)를 박리 테이프(114)로 인장한다. 이 때, 송출 롤러(112) 및 권취 롤러(128)를 적절히 회전 또는 정지시킨다. 그러면, 제1 링 프레임(9)의 일단으로부터 제1 점착 테이프(7)가 박리된다.
그리고, 권취 롤러(128)로 박리 테이프(114)를 권취하면서 더욱 이동체(118)를 이동시키면, 제1 점착 테이프(7)의 제1 링 프레임(9)으로부터의 박리가 진행되면서, 웨이퍼(1)로부터도 제1 점착 테이프(7)가 박리되기 시작한다. 또한 이동체(118)의 이동을 계속하면, 최종적으로 웨이퍼(1) 및 제1 링 프레임(9)으로부터 제1 점착 테이프(7)가 완전히 박리된다. 도 10(B)는, 제1 점착 테이프(7)의 박리가 완료되기 직전에 있어서의 웨이퍼(1) 등을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
또한, 권취 롤러(128)를 더욱 회전시키면, 제1 점착 테이프(7)가 부착된 박리 테이프(114)를 권취부(126)에서 권취하여 회수할 수 있다. 도 11에는, 권취부(126)에서 회수된 제1 점착 테이프(7)가 모식적으로 도시되어 있다. 이 상태에서는, 제1 워크 유닛(11a)의 해체가 완료되어 있다.
또한, 유지 유닛(90)이 가열 기구를 구비하고 있는 경우, 제1 점착 테이프(7)를 웨이퍼(1)로부터 박리할 때에 가열 기구를 작동시켜 웨이퍼(1)를 소정의 온도로 가열하여도 좋다. 가열 기구를 작동시키면, 제1 점착 테이프(7)도 웨이퍼(1)에 부착되어 있는 영역에 있어서 가열되어 연화된다. 그 때문에, 제1 점착 테이프(7)가 웨이퍼(1)의 표면(1a)의 요철 형상에 추종하여 변형하여 표면(1a)에 강고하게 밀착되어 있는 경우에 있어서도, 웨이퍼(1)로부터의 제1 점착 테이프(7)의 박리가 용이해진다.
박리 유닛(108)에 의해 제1 워크 유닛(11a)이 해체되어 웨이퍼(1)가 제1 링 프레임(9)으로부터 분리되면, 웨이퍼(1)와, 제2 점착 테이프(15)와, 제2 링 프레임(13)을 포함하는 제2 워크 유닛(11b)이 형성된다. 즉, 제1 점착 테이프(7)로부터 제2 점착 테이프(15)의 웨이퍼(1)의 전사가 실시되게 된다.
이 때, 제2 링 프레임(13)은 제2 클로부(102)에 의해 지지되고, 웨이퍼(1)는 제2 점착 테이프(15)를 통해 흡인 유지부(92)에 계속 흡인 유지된다. 즉, 유지 유닛(90)은, 제2 워크 유닛(11b)을 유지한다. 그리고, 웨이퍼(1) 등으로부터 분리된 제1 링 프레임(9)은, 제3 클로부(106)에 지지된다. 다음에, 제1 링 프레임(9)을 회수한다.
도 11은, 제1 링 프레임(9)을 회수하는 모습을 모식적으로 도시하는 단면도이다. 도 11에는, 유지 유닛(90)의 아래쪽에 설치된 회수 용기(129)가 모식적으로 도시되어 있다. 회수 용기(129)는, 제1 링 프레임(9)을 수용할 수 있는 크기로 형성되고, 위쪽이 개방되어 있고, 분리된 제1 링 프레임(9)을 수용하여 회수한다. 제1 링 프레임(9)이 회수 용기(129)에 회수될 때, 박리 유닛(108)의 이동체(118)가 유지 유닛(90)의 아래쪽의 영역으로부터 후퇴된다.
또한, 도 11에서는, 설명의 편의를 위해, 유지 유닛(90)의 제2 클로부(102)의 측면도 및 제3 클로부(106)의 측면도를 중첩하여 표시하고 있다. 다만, 유지 유닛(90)은, 도 11에 도시하는 바와 같이 제2 클로부(102) 및 제3 클로부(106)와, 이들에 부수되는 요소를 통합한 클로부 기구를 가져도 된다. 그리고, 웨이퍼(1)를 포함하는 결합물의 외측 가장자리의 특정 부분에 있어서 제2 클로부(102) 및 제3 클로부(106)가 함께 작용해도 좋다. 즉, 각각의 지지 대상물을 지지할 수 있는 한에 있어서 XY 평면에 있어서의 제2 클로부(102) 및 제3 클로부(106)의 위치에 제한은 없다.
제1 링 프레임(9)을 회수할 때에는, 유지 유닛(90)에 의한 웨이퍼(1) 및 제2 링 프레임(13)의 유지를 계속하면서, 제3 클로부 개폐부(96)를 작동시켜, 제3 클로부(106)에 의한 제1 링 프레임(9)의 유지만을 해제한다. 그러면, 제1 링 프레임(9)은 지지를 잃고, 회수 용기(129)에 낙하한다.
회수 용기(129)에는, 차례로 제1 링 프레임(9)이 회수된다. 회수된 제1 링 프레임(9)은, 웨이퍼 전사 장치(2)로부터 반출되고, 소정의 세정 공정이 실시된 후에 워크 유닛의 형성을 위해 재이용된다.
웨이퍼(1)로부터 제1 링 프레임(9) 및 제1 점착 테이프(7)가 분리된 후, 웨이퍼 전사 장치(2)로부터 반출되기 전에 제2 워크 유닛(11b)이 세정된다. 다음으로, 제2 워크 유닛(11b)을 세정하는 세정 유닛(166)과, 세정 유닛(166)에 제2 워크 유닛(11b)을 반송하는 반송 기구에 대해서 설명한다.
도 12에는, 유지 유닛(90)으로부터 제2 워크 유닛(11b)을 수취하여 상하 반전시키는 반전 유닛(130)과, 제2 워크 유닛(11b)이 임시 배치되는 전달 테이블(140)이 모식적으로 도시되어 있다. 반전 유닛(130)은, X축 방향을 따른 레일(132)과, 레일(132)에 슬라이드 가능하게 장착된 이동체(134)와, 이동체(134)로부터 Y축 방향을 따라서 신장된 회전 아암부(136)와, 회전 아암부(136)의 선단에 고정된 유지부(138)를 갖는다.
회전 아암부(136)의 기단 측은, 이동체(134)에 승강 가능하고 또한 회전 가능하게 접속되어 있다. 회전 아암부(136)를 회전시키면, 유지부(138)의 방향이 변한다. 유지부(138)는, 도시하지 않는 흡인 기구에 접속되어 있고, 제2 워크 유닛(11b)의 제2 링 프레임(13)의 표면(13a) 측에 접촉하여 제2 링 프레임(13)을 흡인 유지하는 기능을 갖는다.
반전 유닛(130)으로 제2 워크 유닛(11)의 상하를 반전시킬 때에는, 우선, 회전 아암부(136)를 회전시켜, 유지부(138)의 상하를 반전시킨다. 그리고, 유지부(138)를 유지 유닛(90)의 아래쪽으로 이동시키고, 유지부(138)를 상승시켜 제2 링 프레임(13)의 표면(13a) 측에 유지부(138)를 접촉시킨다. 그리고, 유지부(138)에 의한 제2 링 프레임(13)의 흡인 유지를 시작한다.
그 후, 유지 유닛(90)의 흡인 유지부(92)에 의한 웨이퍼(1)의 흡인 유지를 해제함과 함께 제2 클로부 이동부(94)를 작동시켜 제2 클로부(102)를 이동시키고, 제2 링 프레임(13)의 지지를 해제한다. 그러면, 제2 워크 유닛(11b)이 반전 유닛(130)의 유지부(138)에 유지된 상태가 된다.
그 후, 이동체(134)를 X축 방향으로 이동시키면서 회전축부(62)를 180° 회전시켜, 제2 워크 유닛(11b)의 방향을 변경한다. 이 때, 제2 워크 유닛(11b)의 제2 링 프레임(13)의 표면(13a)이 위쪽을 향하고, 이면(13b)이 아래쪽을 향한다. 그리고, 유지부(138)를 전달 테이블(140) 상으로 이동시켜, 유지부(138)에 의한 제2 링 프레임(13)의 흡인 유지를 해제한다. 그러면, 제2 워크 유닛(11b)이 전달 테이블(140) 상에 재치된다.
웨이퍼 전사 장치(2)는, 제2 워크 유닛(11b)이 재치되는 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)과, 전달 테이블(140)로부터 가이드 레일 테이블(156)에 제2 워크 유닛(11b)을 반송하는 제2 워크 유닛 반송 유닛(142)을 구비한다. 제2 워크 유닛 반송 유닛(142)은, X축 방향을 따른 레일(146)과, 레일(146)을 지지하는 지지부(144)와, 레일(146)에 슬라이드 가능하게 장착된 이동체(148)와, 이동체(148)를 레일(146)을 따라서 이동시키는 도시하지 않은 구동원을 구비한다.
이동체(148)에는, Y축 방향을 따라 신장된 아암부(150)의 기단부가 접속되고, 아암부(150)의 선단부에는, Z축 방향을 따라 신축 가능한 축형의 승강부(152)를 통해 유지부(154)가 접속되어 있다. 유지부(154)는 도시하지 않는 흡인 기구에 접속되어 있고, 제2 워크 유닛(11b)의 제2 링 프레임(13)을 흡인 유지하는 기능을 갖는다.
한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)은, 제2 워크 유닛(11b)을 지지할 수 있는 기능을 가지며, Y축 방향을 따라서 서로 접근 또는 이격할 수 있다. 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)의 전체의 중앙부에는, 상하로 관통한 원형의 개구부(158)가 형성되어 있다. 개구부(158)의 직경은, 웨이퍼(1)의 직경보다 크다.
한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)의 아래쪽에는, 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)에 지지된 제2 워크 유닛(11b)에 개구부(158)를 통해 아래쪽으로부터 자외선을 조사할 수 있는 제2 자외선 조사 유닛(160)이 설치되어 있다. 또한, 제2 자외선 조사 유닛(160)의 아래쪽에는, 제2 워크 유닛(11b)을 세정하는 세정 유닛(166)이 배치되어 있다.
도 13은, 설명의 편의를 위해서 서로 수직 방향을 따라서 분리된 상태에서의 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)과, 제2 자외선 조사 유닛(160)과, 세정 유닛(166)을 모식적으로 도시하는 사시도이다. 세정 유닛(166)은, 세정실(168)과, 세정실(168)의 바닥면에 설치된 유지 테이블(170)과, 유지 테이블(170)에 재치되는 제2 워크 유닛(11b)의 상면에 액체를 공급할 수 있는 세정 노즐(172)을 구비한다. 세정 유닛(166)은, 박리 유닛(108)으로 제1 점착 테이프(7)가 박리된 웨이퍼(1)를 액체로 세정한다.
유지 테이블(170)은, 도시하지 않은 흡인 기구를 구비하고, 제2 워크 유닛(11b)을 아래쪽으로부터 흡인 유지하는 기능을 갖는다. 또한, 유지 테이블(170)의 외주 측에는, 제2 링 프레임(13)을 외주 측으로부터 파지하는 클램프 기구(도시하지 않음)가 설치되어도 좋다. 또한, 유지 테이블(170)은, 상면의 중심을 Z축 방향으로 관통하는 회전축의 둘레로 회전 가능하다.
세정 노즐(172)은, 유지 테이블(170)의 외측에서 Z축 방향을 따라 세워 형성되는 축부와, 축부의 선단으로부터 수평 방향(XY 평면 내의 방향)을 따라 신장되는 아암부를 구비하는 파이프 형상의 부재이다. 세정 노즐(172)의 축부의 하단에는 도시하지 않은 액체 공급원 및 회전 구동원이 접속되어 있고, 아암부의 선단이 액체의 분출구로 되어 있다.
세정 노즐(172)로부터 분출되어 세정에 사용되는 액체는, 예를 들어, 순수이다. 또한, 세정에 사용되는 액체에는, 고압 에어가 혼합되어도 좋고, 세정 노즐(172)로부터는 혼합 유체가 분사되어도 좋다. 또한, 세정 노즐(172)은, 제2 워크 유닛(11b)의 유지 테이블(170)로의 반출입 시에 제2 워크 유닛(11b)의 이동을 방해하지 않도록, 축부를 중심으로 회전하여 유지 테이블(170)의 위쪽으로부터 후퇴된다. 반대로, 액체의 분사 시에는, 유지 테이블(170)의 위쪽에 선단의 분출구가 위치된다.
세정 유닛(166)에서는, 제2 워크 유닛(11b)을 유지한 유지 테이블(170)을 회전시키면서 세정 노즐(172)로부터 제2 워크 유닛(11b)에 액체를 분출시킨다. 그러면, 제2 워크 유닛(11b)이 액체에 의해 세정된다. 그 후, 세정 노즐(172)로부터의 액체의 분사를 정지하면서 유지 테이블(170)의 회전을 계속하면, 제2 워크 유닛(11b)을 건조시킬 수 있다.
전달 테이블(140)에 임시 배치된 제2 워크 유닛(11b)을 세정할 때에는, 제2 워크 유닛 반송 유닛(142)의 유지부(154)로 제2 워크 유닛(11b)을 유지하고, 유지부(154)를 가이드 레일 테이블(156)의 위쪽으로 이동시킨다. 이 때, 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)을 서로 이격시켜 두고, 양자의 사이에서 제2 워크 유닛(11b)을 승강할 수 있도록 한다.
그 후, 유지부(154)를 하강시켜 세정 유닛(166)의 유지 테이블(170) 상에 제2 워크 유닛(11b)을 재치하고, 유지부(154)에 의한 제2 워크 유닛(11b)의 유지를 해제한다. 그리고, 유지 테이블(170)로 제2 워크 유닛(11b)을 유지하여 제2 워크 유닛(11b)을 세정하고, 건조시킨다. 그 후, 제2 워크 유닛 반송 유닛(142)의 유지부(154)로 제2 워크 유닛(11b)을 유지하고, 유지 테이블(170)에 의한 제2 워크 유닛(11b)의 유지를 해제한다.
다음에, 유지부(154)를 상승시켜 제2 워크 유닛(11b)을 들어 올리고, 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)을 서로 접근시키도록 이동시킨다. 그 후, 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156) 상에 제2 워크 유닛(11b)을 재치하고, 유지부(154)에 의한 제2 워크 유닛(11b)의 유지를 해제한다.
계속해서, 제2 자외선 조사 유닛(160)으로 아래쪽으로부터 제2 워크 유닛(11b)에 자외선을 조사한다. 도 13에는, 제2 자외선 조사 유닛(160)을 모식적으로 도시하는 사시도가 포함되어 있다. 제2 자외선 조사 유닛(160)은, Y축 방향을 따른 레일(162)과, 슬라이드 가능하게 레일(162)에 접속된 UV 광원부(164)를 구비한다. UV 광원부(164)는, X축 방향을 따른 지지체의 상면에 위쪽을 향해 배치된 복수의 UV 광원을 갖는다. 이 UV 광원은, 예를 들어, 자외선 LED 등이다.
제2 자외선 조사 유닛(160)은, UV 광원부(164)를 레일(162)을 따라 이동시키는 도시하지 않는 구동원을 구비한다. UV 광원부(164)가 갖는 UV 광원을 작동시켜 위쪽으로 자외선을 조사시키면서 UV 광원부(164)를 레일(162)을 따라 이동시키면, 개구부(158)를 통해 제2 워크 유닛(11b)에 아래쪽으로부터 자외선이 조사된다.
제2 워크 유닛(11b)의 제2 점착 테이프(15)에 자외선이 조사되면, 제2 점착 테이프(15)가 경화하여 제2 점착 테이프(15)의 웨이퍼(1)에 대한 점착력이 저하된다. 이 경우, 웨이퍼 전사 장치(2)의 외부에서 제2 점착 테이프(15)로부터의 웨이퍼(1)의 박리가 용이해지고, 예를 들어, 웨이퍼(1)가 분할되어 형성된 개개의 디바이스 칩의 픽업이 용이해진다.
마지막으로, 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)에 재치된 제2 워크 유닛(11b)을 카세트 테이블(6b)에 재치된 카세트(8b)에 수용한다. 웨이퍼 전사 장치(2)는, 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)에 인접한 위치에, 제2 워크 유닛(11b)의 제2 링 프레임(13)을 파지하면서 X축 방향을 따라서 이동할 수 있는 푸시풀 아암(반입 유닛)(174)을 구비한다. 카세트(8b)에의 제2 워크 유닛(11b)의 반입에는, 푸시풀 아암(174)이 사용된다.
푸시풀 아암(174)은, 도 3 등을 사용하여 설명한 푸시풀 아암(10)과 마찬가지로 구성된다. 카세트(8b)에 제2 워크 유닛(11b)을 수용할 때에는, 미리, 제2 링 프레임(13)을 한 쌍의 가이드 레일 테이블(156)의 입설부(立設部)로 Y축 방향을 따라 사이에 두고, Y축 방향에서의 제2 워크 유닛(11b)의 위치를 조정해 둔다.
다음으로, 푸시풀 아암(174)을 X축 방향을 따라 이동시키고, 푸시풀 아암(174)으로 제2 워크 유닛(11b)을 카세트(8b)에 압입한다. 이 때, 카세트 테이블(6b)의 높이를 조정하여, 제2 워크 유닛(11b)의 높이와, 카세트(8b)에 있어서의 수용 영역의 높이를 일치시켜 둔다. 그러면, 제2 워크 유닛(11b)이 소정의 수용 영역으로 이동하여, 제2 워크 유닛(11b)의 카세트(8b)에의 수용이 완료된다.
웨이퍼 전사 장치(2)는, 이상에 설명한 구성에 의해, 제1 점착 테이프(7)에 부착된 웨이퍼(1)를 제2 점착 테이프(15)에 전사하여, 제2 워크 유닛(11b)을 형성한다. 웨이퍼 전사 장치(2)에서는, 웨이퍼(1)의 주위에서 제1 점착 테이프(7)를 절단하지 않고 전사 작업을 실시할 수 있다. 그 때문에, 제1 점착 테이프(7)를 절단하는 절단 공구가 웨이퍼(1)에 접촉할 우려는 없고, 절단에 의해 발생하는 절단 부스러기가 웨이퍼(1)에 부착되어 디바이스(5) 등을 오염시킬 우려도 없다.
다음에, 웨이퍼 전사 장치(2)를 사용한 본 실시 형태에 관련되는 웨이퍼 전사 방법에 대해서 설명하고, 웨이퍼 전사 장치(2)의 사용 방법을 정리한다. 도 14는, 웨이퍼 전사 방법의 각 단계의 흐름을 도시하는 흐름도이다. 이하에 설명하는 웨이퍼 전사 방법은, 제1 링 프레임(9)과, 제1 점착 테이프(7)와, 웨이퍼(1)를 포함하는 제1 워크 유닛(11a)의 웨이퍼(1)를 제2 링 프레임(13)에 부착한 제2 점착 테이프(15)에 전사하는 방법이다. 이에 의해, 제2 워크 유닛(11b)이 형성된다.
우선, 제2 링 프레임(13)을 제1 워크 유닛(11a)의 제1 링 프레임(9)에 접촉시키지 않고 중첩되는 링 프레임 배치 단계(S10)를 실시한다. 링 프레임 배치 단계(S10)에서는, 도 6(B)에 도시되는 바와 같이, 제1 워크 유닛(11a)을 제1 워크 유닛 지지 유닛(26) 상에 반송한다.
그리고, 제2 개구부(13c)를 막도록 제2 링 프레임(13)의 이면(13b) 측에 제2 점착 테이프(15)를 점착 테이프 공급 유닛(50)(도 4 참조)으로 부착한다. 그 후, 제2 링 프레임(13)을 제2 링 프레임 지지 유닛(72)의 제1 클로부(클로체)(74) 상에 재치한다.
이 때, 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c)를 제1 링 프레임(9)의 제1 개구부(9c)에 중첩하면서 제1 워크 유닛(11a)의 제1 링 프레임(9)의 제1 점착 테이프(7)에 부착되어 있지 않은 면에 제2 링 프레임(13)을 대면시킨다. 즉, 제1 링 프레임(9)의 표면(9a)에 제2 링 프레임(13)의 표면(13a)을 대면시킨다.
그리고, 제1 워크 유닛(11a)을 지지하는 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 웨이퍼 지지부(28) 및 링 프레임 지지부(30)를 상승시켜, 제1 링 프레임(9)을 제1 클로부(클로체)(74)의 하면에 접촉시킨다. 그러면, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)으로 제1 클로부(클로체)(74)가 사이에 끼워진 상태가 된다. 이에 의해, 제2 링 프레임(13)이 제1 링 프레임(9)에 접촉하지 않고 상기 제1 링 프레임(9)에 중첩된다.
또한, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)으로 제1 클로부(클로체)(74)를 사이에 끼운다는 것은, 제1 클로부(클로체)(74)가 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)의 양방에 접촉하면서 양자의 사이에 위치하는 상태를 말한다. 제1 클로부(클로체)(74)가 양자의 사이에 소정의 간격을 형성하기 위한 스페이서로서 기능하는 상태를 가리키는 것이며, 양자의 사이에 서로 접근하기 위한 힘이 인가되어 있을 필요는 없다.
즉, 예를 들면, 클립이나 클램프 등의 협지 기능을 갖는 기구에 의해 양자 및 제1 클로부(클로체)(74)가 사이에 끼워져 있을 필요는 없다. 제1 링 프레임(9)을 제1 클로부(클로체)(74)에 접촉시키는 힘과 제2 링 프레임(13)을 제1 클로부(클로체)(74)에 접촉시키는 힘은, 별종의 힘이어도 좋다.
링 프레임 배치 단계(S10)의 다음에, 부착 단계(S20)를 실시한다. 부착 단계(S20)에서는, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)이 접촉하지 않고 중첩되는 상태에서 웨이퍼(1)의 제1 점착 테이프(7)에 부착되지 않은 면(이면(1b))에 제2 점착 테이프(15)를 부착한다. 이에 따라, 제1 점착 테이프(7)를 통해 제1 링 프레임(9)에 유지된 웨이퍼(1)를, 제2 점착 테이프(15)를 통해 제2 링 프레임(13)으로 유지한다.
도 7은, 부착 단계(S20)를 모식적으로 도시하는 단면도이다. 부착 단계(S20)는, 테이프 부착 유닛(76)의 롤러(78)에 의해 실시된다. 미리 제2 링 프레임(13)에 제2 점착 테이프(15)가 부착되어 있는 경우, 웨이퍼(1)와 중첩되는 영역에 있어서 롤러(78)로 제2 점착 테이프(15)를 위쪽으로부터 압박하면서 롤러(78)를 굴려 제2 점착 테이프(15)를 웨이퍼(1)에 부착한다.
또한, 본 실시 형태에 관련되는 웨이퍼 전사 방법에서는, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)의 사이에 제1 클로부(클로체)(74)를 끼우는 것에 의해, 양자의 사이에 소정의 간격을 두고 있다. 그 때문에, 제2 점착 테이프(15)가 아래로 늘어져서 제1 점착 테이프(7)에 접촉하여 부착되는 등의 문제가 발생하기 어려워진다.
양자가 서로 부착된 경우에 이들을 박리하는 것은 용이하지 않고, 양자를 박리하는 과정에 있어서 웨이퍼(1)에 무리한 힘이 가해져 웨이퍼(1)가 파손될 우려도 있다. 제1 클로부(클로체)(74)를 사용하여 양자의 사이에 소정의 간격을 설정하면, 아래로 늘어진 제2 점착 테이프(15)가 제1 점착 테이프(7)에 접촉하기 어려워지기 때문에, 문제가 발생하기 어렵다.
여기서, 부착 단계(S20)에서 웨이퍼(1)가 제2 점착 테이프(15)에 부착될 때, 미리 제1 개구부(9c)의 관통 방향에 있어서의 웨이퍼(1) 및 제1 링 프레임(9)의 상대 위치가 조정되면 좋다. 예를 들어, 제1 워크 유닛 지지 유닛(26)의 웨이퍼 지지부(28)를 링 프레임 지지부(30)에 대하여 상대적으로 상승시켜, 웨이퍼 지지부(28)의 상면을 링 프레임 지지부(30)의 상면보다 높은 높이 위치에 위치시킨다.
이 경우, 도 7에 도시되는 바와 같이, 제1 점착 테이프(7)가 변형되어, 제1 점착 테이프(7)가 부분적으로 제1 링 프레임(9)의 제1 개구부(9c)에 진입한 상태가 된다. 이 때, 웨이퍼 지지부(28) 및 링 프레임 지지부(30)의 상면이 동일한 높이인 경우와 비교하여, 즉, 제1 점착 테이프(7)가 변형되지 않은 경우와 비교하여, 웨이퍼(1)의 이면(1b)이 제2 점착 테이프(15)에 가까워진다.
그 때문에, 롤러(78)를 제2 링 프레임(13)의 제2 개구부(13c)에 깊게 진입시키지 않고, 즉, 제2 점착 테이프(15)를 무리하게 아래로 압박하지 않고 제2 점착 테이프(15)를 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 접촉할 수 있다. 그 때문에, 제2 점착 테이프(15)에 파손이나 불가역적인 신장이 발생하기 어렵다.
부착 단계(S20)를 실시하면, 제1 링 프레임(9)과, 제1 점착 테이프(7)와, 웨이퍼(1)와, 제2 점착 테이프(15)와, 제2 링 프레임(13)이 일체화된 결합체가 형성된다. 본 실시 형태에 관련되는 웨이퍼 전사 방법에서는, 다음에, 웨이퍼(1)로부터 제1 점착 테이프(7)를 박리함과 함께 제1 링 프레임(9)으로부터 제1 점착 테이프(7)를 박리하는 박리 단계(S30)가 실시된다. 박리 단계(S30)는, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)이 접촉하지 않고 중첩되는 상태에서 실시된다.
도 10(A)는, 박리 단계(S30)가 실시될 때의 결합체를 모식적으로 도시하는 단면도이고, 도 10(B)는, 박리 단계(S30)에서 제1 점착 테이프(7)가 박리된 웨이퍼(1) 등을 모식적으로 도시하는 단면도이다. 박리 단계(S30)는, 예를 들어, 웨이퍼 전사 장치(2)의 박리 유닛(108)에 의해 실시된다.
박리 단계(S30)에서는, 웨이퍼(1)를 포함하는 결합체를 유지 유닛(90)으로 유지하고, 유지 유닛(90)의 아래쪽으로 박리 유닛(108)의 이동체(118)를 이동시킨다. 그 후, 박리 유닛(108)의 압박부(122)를 상승시켜 박리 테이프(114)를 밀어 올려, 박리 테이프(114)를 제1 점착 테이프(7)의 일단에 부착한다. 다음에, 이동체(118)를 이동시켜 박리 테이프(114)를 이동시키는 것에 의해 박리 테이프(114)로 제1 점착 테이프(7)를 인장하여, 제1 점착 테이프(7)를 제1 링 프레임(9) 및 웨이퍼(1)로부터 박리한다.
제1 점착 테이프(7)를 제1 링 프레임(9) 및 웨이퍼(1)로부터 박리시키면, 웨이퍼(1)와, 제2 점착 테이프(15)와, 제2 링 프레임(13)으로 구성되는 제2 워크 유닛(11b)(도 11)이 유지 유닛(90)에 잔존한다. 이것에 의해, 제1 점착 테이프(7)로부터 제2 점착 테이프(15)로의 웨이퍼(1)의 전사가 완료된다.
박리 단계(S30)를 실시한 후, 웨이퍼(1)를 액체로 세정하는 세정 단계(S40)를 더 실시해도 좋다. 세정 단계(S40)는, 도 13 등에 나타내는 세정 유닛(166)에 의해 실시된다. 세정 단계(S40)에서는, 웨이퍼(1)를 포함하는 제2 워크 유닛(11b)을 세정 유닛(166)에 반송한다. 그리고, 유지 테이블(170)에 제2 워크 유닛(11b)을 유지시킨다.
다음에, 유지 테이블(170)을 회전시키면서 세정 노즐(172)로부터 웨이퍼(1)에 순수 등의 액체를 분사시킨다. 이에 의해, 웨이퍼(1)의 제1 점착 테이프(7)가 부착되어 있던 표면(1a) 측을 세정할 수 있다. 그 후, 유지 테이블(170)의 회전을 계속한 채로 세정 노즐(172)로부터의 액체의 분사를 종료하면, 웨이퍼(1)를 건조할 수 있다.
이상에 설명하는 바와 같이, 본 실시 형태에 관련되는 웨이퍼 전사 방법에 따르면, 제1 링 프레임(9) 및 제2 링 프레임(13)에 제1 클로부(클로체)(74)를 사이에 끼운 상태에서 제2 점착 테이프(15)를 웨이퍼(1)에 부착한다. 그 후, 제1 점착 테이프(7)를 웨이퍼(1) 등으로부터 박리한다.
그 때문에, 웨이퍼(1)의 주위에서 제1 점착 테이프(7)를 절단하지 않고 제1 점착 테이프(7)를 웨이퍼(1)로부터 제거할 수 있다. 게다가, 제2 점착 테이프(15)가 제1 점착 테이프(7)에 부착하는 등의 문제가 발생하기 어렵다. 따라서, 절단 공구가 웨이퍼(1)에 접촉할 우려는 없고, 제1 점착 테이프(7)의 절단에 의해 발생하는 가공 부스러기가 웨이퍼(1)에 부착되는 일도 없다. 즉, 제1 점착 테이프(7)를 절단하지 않고 교체 부착하여 웨이퍼(1)를 안전하게 전사할 수 있다.
또한, 본 발명은, 상기 실시 형태의 기재에 한정되지 않고, 다양하게 변경하여 실시 가능하다. 예를 들어, 상기 실시 형태에서는, 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 제2 점착 테이프(15)를 부착할 때에, 제1 클로부(클로체)(74)의 위에 제2 링 프레임(13)을, 아래에 제1 링 프레임(9)을 배치하고, 양자에서 제1 클로부(클로체)(74)의 사이에 끼우는 경우에 대해서 설명하였다. 그러나, 본 발명의 일 양태는 이것에 한정되지 않는다.
예를 들어, 제1 클로부(클로체)(74) 상에 제1 링 프레임(9)을, 아래에 제2 링 프레임(13)을 배치하고, 양자로 제1 클로부(클로체)(74)를 사이에 끼우면서 웨이퍼(1)에 제2 점착 테이프(15)가 부착되어도 좋다. 즉, 부착 단계(S20)는, 각 구조물이 상하 반전된 상태에서 실시되어도 좋다.
또한, 웨이퍼(1)에 제2 점착 테이프(15)가 부착될 때, 미리 점착 테이프 공급 유닛(50)에 의해 제2 링 프레임(13)에 제2 점착 테이프(15)를 부착해 두는 경우에 대해서 설명하였지만, 본 발명의 일 양태는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제2 점착 테이프(15)는, 제2 링 프레임(13)의 이면(13b) 및 웨이퍼(1)의 이면(1b)에 동일한 시기에 공급되어도 좋다.
이 경우, 점착 테이프 공급 유닛(50)은, 제2 링 프레임 지지 유닛(72)의 위쪽에 배치되어 있으면 좋다. 그리고, 제1 워크 유닛(11a)의 제1 링 프레임(9)과, 제2 점착 테이프(15)가 부착되어 있지 않은 제2 링 프레임(13)으로 제1 클로부(클로체)(74)를 사이에 끼운다. 그 후, 점착 테이프 공급 유닛(50)으로부터 제2 점착 테이프(15)가 웨이퍼(1) 및 제2 링 프레임(13)에 공급되면 좋다.
이 경우, 테이프 부착 유닛(76)의 롤러(78)는, 제2 점착 테이프(15)의 직경을 초과하는 길이이면 된다. 그리고, 웨이퍼(1)의 이면(1b)은, 제2 링 프레임(13)의 이면(13b)과 동일한 높이 위치에 위치되면 좋다. 그리고, 롤러(78)는, 제2 점착 테이프(15)를 위쪽으로부터 압박하는 것에 의해 웨이퍼(1)에 대한 점착력을 증가시킴과 함께, 제2 링 프레임(13)에 대한 점착력을 증가시키면 좋다.
그 밖에, 상기 실시 형태에 관련된 구조, 방법 등은, 본 발명의 목적의 범위를 일탈하지 않는 한에 있어서 적절히 변경하여 실시할 수 있다.
1 웨이퍼
1a, 9a, 13a 표면
1b, 9b, 13b 이면
3 분할 예정 라인
5 디바이스
7, 15 점착 테이프
9, 13 링 프레임
9c, 13c 개구부
11a, 11b 워크 유닛
2 웨이퍼 전사 장치
4 베이스
6a, 6b 카세트 테이블
8a,8b 카세트
10,174 푸시풀 아암
12 가이드 레일
12a 지지면
12b 맞닿음면
14 제1 자외선 조사 유닛
16 제1 워크 유닛 반송 유닛
18 레일
20 아암부
22 유지부
24 승강 기구
26 제1 워크 유닛 지지 유닛
28 웨이퍼 지지부
30 링 프레임 지지부
32 링 프레임 수용부
34 지지 테이블
36 위치 결정 기둥
38 링 프레임 반송 장치
40 이동체
42 레일
44 아암부
46 유지부
48 링 프레임 지지 테이블
50 점착 테이프 공급 유닛
52 송출 롤
54 권취 롤
56 롤러
58 공급 테이프
60 절단부
62 회전축부
64 아암부
66 커터
68 링 프레임 반송 장치
70 레일
72 제2 링 프레임 지지 유닛
74 제1 클로부(클로체)
76 테이프 부착 유닛
78 롤러
80 결합체 반송 기구
82 지지부
84 레일
86 아암부
88 승강 유닛
90 유지 유닛
92 흡입 유지부
94 제2 클로부 이동부
96 제3 클로부 개폐부
98 신축부
100 이동체
102 제2 클로부
104 축부
106 제3 클로부
108 박리 유닛
110 박리 테이프 공급부
112 송출 롤러
114 박리 테이프
116 롤러
118 이동체
120 레일
122 압박부
124 구동부
126 권취부
128 권취 롤러
129 회수 용기
130 반전 유닛
132 레일
134 이동체
136 회전 아암부
138 유지부
140 전달 테이블
142 제2 워크 유닛 반송 유닛
144 지지부
146 레일
148 이동체
150 아암부
152 승강부
154 유지부
156 가이드 레일 테이블
158 개구부
160 제2 자외선 조사 유닛
162 레일
164 UV 광원부
166 세정 유닛
168 세정실
170 유지 테이블
172 세정 노즐

Claims (10)

  1. 중앙에 제1 개구부가 설치된 제1 링 프레임과, 당해 제1 개구부를 막도록 상기 제1 링 프레임에 부착한 제1 점착 테이프와, 상기 제1 링 프레임의 상기 제1 개구부 내에서 상기 제1 점착 테이프에 부착된 웨이퍼를 포함하는 제1 워크 유닛의 상기 웨이퍼를, 제2 링 프레임의 중앙에 형성된 제2 개구부를 막도록 상기 제2 링 프레임에 부착하는 제2 점착 테이프에 전사하여 제2 워크 유닛을 형성하는 웨이퍼 전사 방법으로서,
    상기 제2 개구부를 상기 제1 개구부에 중첩하면서 상기 제1 워크 유닛의 상기 제1 링 프레임의 상기 제1 점착 테이프에 부착되어 있지 않은 면에 상기 제2 링 프레임을 대면시키고, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임으로 클로체를 사이에 끼우는 것에 의해 상기 제2 링 프레임을 상기 제1 링 프레임에 접촉시키지 않고 상기 제1 링 프레임에 중첩하는 링 프레임 배치 단계와,
    상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임이 접촉하지 않고 중첩되는 상태에서 상기 웨이퍼의 상기 제1 점착 테이프에 부착되지 않은 면에 상기 제2 점착 테이프를 부착하고, 상기 웨이퍼를 상기 제2 점착 테이프를 통해 상기 제2 링 프레임으로 유지하는 부착 단계와,
    상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임이 접촉하지 않고 중첩되는 상태에서 상기 웨이퍼로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리함과 함께 상기 제1 링 프레임으로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리하는 박리 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 부착 단계에서는, 미리 상기 제2 링 프레임에 부착한 상기 제2 점착 테이프를 상기 웨이퍼에 부착하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 박리 단계 후에, 상기 웨이퍼를 액체로 세정하는 세정 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 박리 단계에서는, 박리 테이프를 상기 제1 점착 테이프에 부착하고, 상기 박리 테이프를 이동시키는 것에 의해 상기 박리 테이프로 상기 제1 점착 테이프를 상기 제1 링 프레임 및 상기 웨이퍼로부터 박리하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 부착 단계에서 상기 웨이퍼가 상기 제2 점착 테이프에 부착될 때, 미리 상기 제1 개구부의 관통 방향에 있어서의 상기 웨이퍼 및 상기 제1 링 프레임의 상대 위치가 상기 제1 점착 테이프의 변형을 수반하면서 조정되는 것에 의해 상기 웨이퍼가 상기 제2 점착 테이프에 근접되는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 방법.
  6. 중앙에 제1 개구부가 형성된 제1 링 프레임과, 당해 제1 개구부를 막도록 상기 제1 링 프레임에 부착한 제1 점착 테이프와, 상기 제1 링 프레임의 상기 제1 개구부 내에서 상기 제1 점착 테이프에 부착된 웨이퍼를 포함하는 제1 워크 유닛의 상기 웨이퍼를, 제2 링 프레임의 중앙에 형성된 제2 개구부를 막도록 상기 제2 링 프레임에 부착하는 제2 점착 테이프에 전사하여 제2 워크 유닛을 형성하는 웨이퍼 전사 장치로서,
    상기 웨이퍼를 상기 제1 점착 테이프를 통해 지지하는 웨이퍼 지지부와, 상기 제1 링 프레임을 상기 제1 점착 테이프를 통해 지지하는 링 프레임 지지부를 갖고, 상기 웨이퍼의 상기 제1 점착 테이프에 부착되어 있지 않은 면을 위쪽으로 노출시킨 상태에서 상기 제1 워크 유닛을 지지하는 제1 워크 유닛 지지 유닛과,
    상기 제1 워크 유닛 지지 유닛의 상기 링 프레임 지지부로 지지된 상기 제1 링 프레임에 대면하도록 상기 제2 링 프레임을 지지하는 기능과, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임의 사이에 끼워지는 기능을 갖는 제1 클로부를 포함하고, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임의 사이의 영역과, 당해 영역의 외측과의 사이에서 상기 제1 클로부를 이동할 수 있는 제2 링 프레임 지지 유닛과,
    상기 제2 링 프레임 지지 유닛의 위쪽에 배치되고, 상기 제1 워크 유닛 지지 유닛의 상기 웨이퍼 지지부로 지지된 상기 웨이퍼의 상기 제1 점착 테이프에 부착되어 있지 않은 면에 상기 제2 점착 테이프를 부착하는 테이프 부착 유닛과,
    제2 클로부를 가지고, 상기 제1 링 프레임 및 상기 제2 링 프레임의 사이에 상기 제2 클로부를 삽입하여 상기 제2 클로부로 상기 제2 링 프레임을 유지함과 함께 상기 웨이퍼를 상기 제2 점착 테이프를 통해 유지하는 유지 유닛과,
    상기 유지 유닛이 상기 웨이퍼를 유지한 상태에서, 상기 웨이퍼로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리함과 함께, 상기 제1 링 프레임으로부터 상기 제1 점착 테이프를 박리하는 박리 유닛
    을 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제2 링 프레임 지지 유닛으로 상기 제2 링 프레임이 지지되기 전에, 미리 상기 제2 링 프레임에 상기 제2 개구부를 막도록 상기 제2 점착 테이프를 부착하는 테이프 공급 유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 장치.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서,
    상기 박리 유닛으로 상기 제1 점착 테이프가 박리된 상기 웨이퍼를 액체로 세정하는 세정 유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 장치.
  9. 제6항 또는 제7항에 있어서,
    상기 박리 유닛은,
    기재와, 당해 기재의 한쪽의 면에 형성된 점착층으로 구성되는 박리 테이프가 롤 형상으로 감긴 상태에서 인출 가능하게 장착되는 박리 테이프 공급부와,
    상기 박리 테이프 공급부로부터 인출된 상기 박리 테이프를 유도하여 상기 박리 테이프의 진행 경로를 형성하는 복수의 롤러와,
    상기 박리 테이프를 상기 제1 점착 테이프에 압박하여 부착하는 압박부를 가진 이동체와,
    상기 이동체를 이동시키는 구동부와,
    상기 박리 테이프를 권취하여 회수하는 권취부를 구비하고,
    상기 박리 테이프를 상기 압박부로 상기 제1 점착 테이프에 압박하여 부착하고, 상기 구동부로 상기 이동체를 이동시키는 것에 의해 상기 박리 테이프를 이동시켜 상기 박리 테이프로 상기 제1 점착 테이프를 상기 제1 링 프레임 및 상기 웨이퍼로부터 박리하고, 상기 제1 점착 테이프가 부착된 상기 박리 테이프를 상기 권취부로 권취하여 회수할 수 있는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 장치.
  10. 제6항 또는 제7항에 있어서,
    상기 제1 워크 유닛 지지 유닛은, 상기 웨이퍼 지지부와 상기 링 프레임 지지부를 상대적으로 승강시키는 승강부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 웨이퍼 전사 장치.
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