JP2005033119A - 半導体ウエハ搬送方法および搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ウエハ保持手段に付着した塵埃に起因する生産の歩留まり低下を回避できる半導体ウエハの搬送方法および搬送装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハWのアライメントステージ5への搬入に先立ち、アライメントステージクリーニング機構29の第1のブラシをアライメントステージ5のウエハ吸着ステージに押し当て、その状態でウエハ吸着ステージを回転させ、ウエハ吸着ステージに付着した塵埃を除去する。また、ウエハチャックテーブル7の下向き面に対してウエハチャックテーブルクリーニング機構39の第2のブラシを移動させ、ウエハチャックテーブル7の下向き面に付着した塵埃を除去する。
【選択図】 図1
【解決手段】 半導体ウエハWのアライメントステージ5への搬入に先立ち、アライメントステージクリーニング機構29の第1のブラシをアライメントステージ5のウエハ吸着ステージに押し当て、その状態でウエハ吸着ステージを回転させ、ウエハ吸着ステージに付着した塵埃を除去する。また、ウエハチャックテーブル7の下向き面に対してウエハチャックテーブルクリーニング機構39の第2のブラシを移動させ、ウエハチャックテーブル7の下向き面に付着した塵埃を除去する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体ウエハ(以下、ウエハと略称することもある)の搬送方法および搬送装置に関する。
例えば、パターン形成処理が済んだウエハの裏面を研磨(バックグラインド)する際には、予めウエハ表面に保護テープを貼り付けるとともに、ウエハ外周からはみ出る保護テープをウエハ外周縁に沿って切り抜き、表面全体が保護テープで保護されたウエハを、その表面側から吸盤で吸着保持して研磨処理を行い、その後、ウエハ裏面の一部を吸着保持して保持することにより移載や各処理テーブルへの受け渡しを行うのが一般的である。
近年では、ウエハ裏面の研磨後のウエハ厚さが一層薄くなる傾向にあり、その結果、薄く研磨されたウエハにおいては、ウエハ自体の剛性が低下することによって、ウエハ面内の僅かなストレスでも反りが発生する。
このような反りを生じたウエハでは、ウエハの表面や裏面の一部を吸着保持して移載する場合、真空吸着に不備を生じたり、移載中にウエハが動いてしまうなど、安定して精度の高い移載を行えないといった不都合を生じる。そのため、アライメントステージやウエハチャックテーブルなどのウエハ保持手段に保持させる場合に、ウエハの表面あるいは裏面に対し、ウエハ全面に近い大きい面積で真空吸着保持するようにしている。
しかしながら、近年、ウエハの表面および裏面ともウエハの全面に近い状態でアライメントステージやウエハチャックテーブルなどのウエハ保持手段に接触するため、発生した塵埃(異物)のウエハ保持手段への蓄積が顕著になり、ウエハの処理枚数が増えるにつれてウエハに付着する塵埃が増加し、製品不良を生じて生産の歩留まりが低下する欠点があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、請求項1〜3に係る発明は、ウエハ保持手段に付着した塵埃に起因する生産の歩留まり低下を回避できる半導体ウエハ搬送方法を提供することを目的とし、請求項4〜6に係る発明は、請求項1に係る発明の半導体ウエハ搬送方法を好適に実施できる搬送装置を提供することを目的とする。
請求項1に係る発明は、上述のような目的を達成するために、
半導体ウエハを各種処理工程に搬送する半導体ウエハ搬送方法において、
前記半導体ウエハの保持により前記半導体ウエハと接触する部位に対して、前記半導体ウエハとの接触に先立って接触部位に付着する塵埃を除去することを特徴としている。
半導体ウエハを各種処理工程に搬送する半導体ウエハ搬送方法において、
前記半導体ウエハの保持により前記半導体ウエハと接触する部位に対して、前記半導体ウエハとの接触に先立って接触部位に付着する塵埃を除去することを特徴としている。
(作用・効果)請求項1に係る発明の半導体ウエハ搬送方法の構成によれば、半導体ウエハと接触する前に、半導体ウエハと接触する部位に付着する塵埃を除去することができる。
したがって、ウエハ保持手段に付着した塵埃が半導体ウエハの保持に伴って半導体ウエハ側に転移し、半導体ウエハを汚染することを防止でき、ウエハ保持手段に付着した塵埃に起因して生産の歩留まりが低下することを回避できる。
また、請求項2に係る発明は、前述のような目的を達成するために、
請求項1に記載の半導体ウエハ搬送方法において、
接触部位が、半導体ウエハの裏面側が接触するものである。
請求項1に記載の半導体ウエハ搬送方法において、
接触部位が、半導体ウエハの裏面側が接触するものである。
(作用・効果)請求項2に係る発明の半導体ウエハ搬送方法の構成によれば、半導体ウエハと接触する前に、半導体ウエハの裏面側と接触する部位に付着する塵埃を除去することができる。
したがって、ウエハ保持手段に付着した塵埃が半導体ウエハの保持に伴って半導体ウエハの裏面に転移し、半導体ウエハを汚染することを防止でき、ウエハ保持手段に付着した塵埃に起因して生産の歩留まりが低下することを回避できる。
また、請求項3に係る発明は、前述のような目的を達成するために、
請求項1に記載の半導体ウエハ搬送方法において、
接触部位が、半導体ウエハの表面側が接触するものである。
請求項1に記載の半導体ウエハ搬送方法において、
接触部位が、半導体ウエハの表面側が接触するものである。
(作用・効果)請求項2に係る発明の半導体ウエハ搬送方法の構成によれば、半導体ウエハと接触する前に、半導体ウエハの表面側と接触する部位に付着する塵埃を除去することができる。
したがって、ウエハ保持手段に付着した塵埃が半導体ウエハの保持に伴って半導体ウエハの表面に転移し、半導体ウエハを汚染することを防止でき、ウエハ保持手段に付着した塵埃に起因して生産の歩留まりが低下することを回避できる。
更に、半導体ウエハの表面に、表面保護用の粘着テープを貼り付けてある場合には、その粘着テープにテープ研削時に発生した異物が付着していて、ウエハ保持手段との接触によりウエハ保持手段側に転移しても、それらの異物を除去でき、ウエハ保持手段に付着した異物に起因して生産の歩留まりが低下することを回避できる。
また、請求項4に係る発明は、前述のような目的を達成するために、
半導体ウエハの搬送過程に、前記半導体ウエハを載置保持または/および吸着保持するウエハ保持手段を備えた半導体ウエハ搬送装置において、
前記ウエハ保持手段に、前記半導体ウエハと接触する部分に付着した塵埃を除去する除塵手段を付設したことを特徴としている。
半導体ウエハの搬送過程に、前記半導体ウエハを載置保持または/および吸着保持するウエハ保持手段を備えた半導体ウエハ搬送装置において、
前記ウエハ保持手段に、前記半導体ウエハと接触する部分に付着した塵埃を除去する除塵手段を付設したことを特徴としている。
(作用・効果)請求項4に係る発明の半導体ウエハ搬送装置の構成によれば、半導体ウエハをウエハ保持手段に保持させて接触する前に、半導体ウエハと接触する部位に付着する塵埃を除塵手段によって除去することができる。
したがって、半導体ウエハの搬送過程において、ウエハ保持手段に付着した塵埃が半導体ウエハの保持に伴って半導体ウエハ側に転移することを防止でき、ウエハ保持手段に付着した塵埃に起因して生産の歩留まりが低下することを回避でき、半導体ウエハの搬送と、ウエハ保持手段の半導体ウエハと接触する部分の除塵とを能率的に行うことができ、請求項1に係る発明の半導体ウエハ搬送方法を好適に実施できる搬送装置を提供できる。
また、請求項5に係る発明は、前述のような目的を達成するために、
請求項4に記載の半導体ウエハ搬送装置において、
ウエハ保持手段が、半導体ウエハを載置するとともに吸着保持して位置決めを行うアライメントステージであり、除塵手段が前記アライメントステージのウエハ載置面に付着した塵埃を除去するものである。
請求項4に記載の半導体ウエハ搬送装置において、
ウエハ保持手段が、半導体ウエハを載置するとともに吸着保持して位置決めを行うアライメントステージであり、除塵手段が前記アライメントステージのウエハ載置面に付着した塵埃を除去するものである。
(作用・効果)請求項5に係る発明の半導体ウエハ搬送装置の構成によれば、半導体ウエハをアライメントステージに保持させて位置決めする前に、半導体ウエハと接触するアライメントステージのウエハ載置面に付着した塵埃を除塵手段によって除去することができる。
したがって、アライメントステージのウエハ載置面の半導体ウエハとの接触により、アライメントステージのウエハ載置面に付着した塵埃が半導体ウエハの保持に伴って半導体ウエハ側に転移することを防止でき、アライメントステージのウエハ載置面に付着した塵埃に起因して生産の歩留まりが低下することを回避でき、半導体ウエハの搬送と、半導体ウエハと接触するアライメントステージのウエハ載置面の除塵とを能率的に行うことができ、請求項1に係る発明の半導体ウエハ搬送方法をアライメントステージを備える搬送装置に適用する場合に好適に実施できる。
また、請求項6に係る発明は、前述のような目的を達成するために、
請求項4に記載の半導体ウエハ搬送装置において、
ウエハ保持手段が、半導体ウエハを吸着保持するウエハチャックテーブルであり、除塵手段が前記ウエハチャックテーブルのウエハ吸着面に付着した塵埃を除去するものである。
請求項4に記載の半導体ウエハ搬送装置において、
ウエハ保持手段が、半導体ウエハを吸着保持するウエハチャックテーブルであり、除塵手段が前記ウエハチャックテーブルのウエハ吸着面に付着した塵埃を除去するものである。
(作用・効果)請求項6に係る発明の半導体ウエハ搬送装置の構成によれば、半導体ウエハをウエハチャックテーブルに吸着保持させる前に、半導体ウエハと接触するウエハチャックテーブルのウエハ吸着面に付着した塵埃を除塵手段によって除去することができる。
したがって、ウエハチャックテーブルのウエハ吸着面と半導体ウエハとの接触により、ウエハチャックテーブルのウエハ吸着面に付着した塵埃が半導体ウエハの吸着保持に伴って半導体ウエハ側に転移することを防止でき、ウエハチャックテーブルのウエハ吸着面に付着した塵埃に起因して生産の歩留まりが低下することを回避でき、半導体ウエハの搬送と、半導体ウエハと接触するウエハチャックテーブルのウエハ吸着面の除塵とを能率的に行うことができ、請求項1に係る発明の半導体ウエハ搬送方法をウエハチャックテーブルを備える搬送装置に適用する場合に好適に実施できる。
以上の説明から明らかなように、請求項1に係る発明の半導体ウエハ搬送方法によれば、半導体ウエハと接触する前に、半導体ウエハと接触する部位に付着する塵埃を除去することができるから、ウエハ保持手段に付着した塵埃が半導体ウエハの保持に伴って半導体ウエハ側に転移し、半導体ウエハを汚染することを防止でき、ウエハ保持手段に付着した塵埃に起因して生産の歩留まりが低下することを回避できる。
次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、本発明に係る半導体ウエハ搬送装置を装備した半導体ウエハマウント装置の実施例の一部破断全体斜視図である。なお、この実施例では、紫外線硬化型の粘着テープが表面保護テープとして半導体ウエハW(以下、単に「ウエハW」という)のパターン面(表面)に予め貼り付けられているものとする。
半導体ウエハマウント装置には、裏面の研磨(バックグラインド)処理が完了したウエハWを多段に積層収納したカセットCが装填されるウエハ供給部1と、屈曲回動するロボットアーム2を装備したウエハ搬送機構3と、反ったウエハWを平面に矯正するウエハ押圧機構4と、ウエハWを載置保持して位置合わせをするウエハ保持手段としてのアライメントステージ5と、アライメントステージ5に載置されたウエハWに向けて紫外線を照射する紫外線照射ユニット6と、ウエハWを吸着保持するウエハ保持手段としてのウエハチャックテーブル7とが備えられている。
また、半導体ウエハマウント装置には、リング状のリングフレームfを多段に装填したリングフレーム供給部8と、リングフレームfをダイシング用テープDT上に移載するリングフレーム搬送機構9と、ダイシング用テープDTを供給するダイシング用テープ供給部10と、ダイシング用テープDTをリングフレームfの裏面から貼り付けるダイシング用テープ貼付ユニット11と、ダイシング用テープDTをカットするダイシング用テープカット部12と、カット後のダイシング用テープDTを回収するダイシング用テープ回収部13と、ダイシング用テープDTが貼り付けられたリングフレームfを昇降するリングフレーム昇降機構14と、ダイシング用テープDTが貼り付けられたリングフレームfにウエハWを貼り合わせるウエハマウント機構15と、ウエハWを貼り合わせて一体化したウエハマウントフレームMFを移載するウエハマウントフレーム搬送機構16とが備えられている。
更に、半導体ウエハマウント装置には、ウエハマウントフレームMFを吸着保持して、ウエハWの表面に貼り付けられた表面保護テープPTを剥離する剥離テーブル17と、剥離テープSTを供給する剥離テープ供給部18と、剥離テーブル17上のウエハWに剥離テープSTを貼り付けて表面保護テープPTを剥離するテープ剥離ユニット19と、剥離された表面保護テープPTを剥離テープSTに貼り付けて回収するテープ回収部20と、処理済みのウエハマウントフレームMFを収納するウエハマウントフレーム収納機構21と、処理済みのウエハマウントフレームMFを多段に積層して収納するためのカセットC1が装填されるウエハマウントフレーム回収部22と、処理済みのウエハマウントフレームMFをウエハマウントフレーム収納機構21からウエハマウントフレーム回収部22に搬送するウエハマウントフレーム搬送機構23とが備えられている。
ウエハ供給部1は、カセット台24にカセットCを載置して構成され、そのカセットC内に、表面保護テープPTが貼り付けられた表面を上向きにした水平姿勢のウエハWが、上下に適当な間隔を持った状態で差込んで収納されている。ウエハマウントフレーム回収部22も、カセット台24にカセットC1を載置して構成され、そのカセットC1内に、表面保護テープPTを剥離処理したウエハWをマウントしたウエハマウントフレームMFが、上下に適当な間隔を持った状態で差込んで収納されている。
ウエハ搬送機構3のロボットアーム2は、図示しない駆動機構によって水平方向に出退および鉛直方向の軸心周りで旋回可能に設けられ、ウエハ供給部1のカセットC内からウエハWを取り出してアライメントステージ5に供給できるように構成されている。
ウエハ押圧機構4には、ウエハWを上面側から押圧する押圧プレート25が備えられ、アライメントステージ5に供給されたウエハWが反りによって真空吸着保持できない場合に、押圧プレート25により押圧することにより平面に矯正できるように構成されている。
アライメントステージ5は、ウエハWのオリエンテーションフラットやノッチ等の検出に基づいてウエハWの位置合わせを行なうように構成されている。
また、アライメントステージ5は、ウエハWを載置して位置合わせを行なう初期位置と、ウエハチャックテーブル7とリングフレーム昇降機構14との間の待機位置とにわたってウエハWを吸着保持した状態で搬送移動できるように構成されている。
紫外線照射ユニット6では、ウエハWの表面に貼り付けられた表面保護テープPTが紫外線硬化型粘着テープである場合に、紫外線照射により表面保護テープPTのウエハWの表面への接着力を低下するように構成されている。
ウエハチャックテーブル7は、ウエハWの表面を覆って真空吸着できるようにウエハWと略同一形状の円形をしており、図示しない駆動機構によって、アライメントステージ5上のウエハWを吸着保持する待機位置からウエハWをリングフレームfに貼り合わせる位置にわたって昇降移動できるように構成されている。
また、ウエハチャックテーブル7は、ダイシング用テープDTが裏面から貼り付けられたリングフレームfを吸着保持するリングフレーム昇降機構14の開口部に収まってウエハWがリングフレームfの中央のダイシング用テープDTに近接する位置まで下降するように構成されている。
リングフレーム供給部8は、底部にキャスター車輪26が設けられたワゴンに、一定方向に位置決めされたリングフレームfを積層収納して構成されている。
リングフレーム搬送機構9は、リングフレーム供給部8に収納されているリングフレームfを上側から1枚ずつ順番に真空吸着保持し、ダイシング用テープDTを貼り付ける位置に搬送するよう構成されている。
ダイシング用テープ供給部10は、原反ロール28から導出したダイシング用テープDTをリングフレームfの下方を通って、ダイシング用テープ貼付ユニット11およびダイシング用テープ回収部12にまで導くように構成されている。
ダイシング用テープDTは、リングフレームfの径よりも幅広のものが用いられる。
ダイシング用テープDTは、リングフレームfの径よりも幅広のものが用いられる。
ダイシング用テープ貼付ユニット11は、リングフレームfにダイシング用テープDTを貼り付け、次いで、ダイシング用テープカット部12によりダイシング用テープDTをリングフレームf上でカットするようになっている。ダイシング用テープ回収部13では、カット後のダイシング用テープDTを回収するようになっている。
リングフレーム昇降機構14は、ダイシング用テープDTが貼り付けられたリングフレームfを昇降するようになっている。
ウエハマウント機構15は、ダイシング用テープDTが貼り付けられたリングフレームfにウエハWを貼り合せるようになっている。
ウエハマウントフレーム搬送機構16は、処理済みのウエハマウントフレームMFを真空吸着保持してウエハマウントフレーム収納機構21からウエハマウントフレーム回収部22に搬送するようになっている。
剥離テーブル17は、ウエハマウントフレームMFを真空吸着保持できるように構成されている。
テープ剥離ユニット19は、ウエハW上の表面保護テープPTに剥離テープSTを貼り付け、その剥離テープSTと表面保護テープPTとを一体で剥離するようになっている。剥離テープSTは、ウエハWの径よりも幅狭のものが用いられる。
テープ回収部20は、剥離された処理済みの剥離テープSTを回収するようになっている。
ウエハマウントフレーム収納機構21は、ウエハマウントフレームMFを真空吸着保持して移載し、ウエハマウントフレーム搬送機構16に受け渡すようになっている。
図2の要部の側面図、および、図3の要部の平面図に示すように、アライメントステージ5に近接して、除塵手段としてのアライメントステージクリーニング機構29が設けられている。
アライメントステージクリーニング機構29は、第1のブラシ30を植設した第1のブラシアーム31を、正逆転可能な電動モータ32によって鉛直方向の軸心周りで回転可能な回転支柱33に取り付けて構成されている。
第1のブラシアーム31は、平面視において、アライメントステージ5の回転中心を越した作用位置と、アライメントステージ5に重複しない位置とにわたって変位できるように構成されている。
また、第1のブラシアーム31内に第1の通気路34が形成されるとともに、その第1の通気路34が第1のブラシアーム31の下面側に開放され、第1のブラシアーム31の回転中心側で、第1の通気路34に、第1のフィルター35を介装した第1の吸気管36を介して第1の真空ポンプ37が連通接続されている。
上記構成により、ウエハWをアライメントステージ5上に搬送するのに先立って、アライメントステージ5上の接触部位としてのウエハ吸着ステージ38に作用する位置に第1のブラシ30を変位させ、その状態でウエハ吸着ステージ38を回転させ、ウエハ吸着ステージ38に付着している塵埃を除去して吸引できるようになっている。
図4の要部の側面図、および、図5の要部の底面図に示すように、ウエハチャックテーブル7に近接して、除塵手段としてのウエハチャックテーブルクリーニング機構39が設けられている。
ウエハチャックテーブルクリーニング機構39は、上向きに第2のブラシ40を植設した第2のブラシアーム41を、エアシリンダ42によって水平方向に出退可能なシリンダロッド43に取り付けて構成されている。
第2のブラシアーム41は、平面視において、ウエハチャックテーブル7を越える位置まで出退変位できるように構成されている。
また、第2のブラシアーム41内に第2の通気路44が形成されるとともに、その第2の通気路44が第2のブラシアーム41の上面側に開放され、第2のブラシアーム41の長手方向の中央側で、第2の通気路44に、第2のフィルター45を介装した第2の吸気管46を介して第2の真空ポンプ47が連通接続されている。
上記構成により、ウエハWをウエハチャックテーブル7に搬送して吸着保持させるのに先立って、ウエハチャックテーブル7の接触部位としての下向き面に作用させて第2のブラシ40を変位させ、ウエハチャックテーブル7の接触部位としての下向き面に付着している塵埃を除去して吸引できるようになっている。
次に、上述の半導体ウエハ搬送装置による搬送動作につき、図6のフローチャートを参照しながら説明する。
先ず、ロボットアーム2を旋回するとともに伸縮および昇降させ、ウエハ供給部1のカセットCからウエハWを1枚吸着保持して取り出す(S1)。アライメントステージ5への搬入に先立ち、第1のブラシ30をアライメントステージ5のウエハ吸着ステージ38に押し当て、その状態で第1の真空ポンプ37を駆動しながらウエハ吸着ステージ38を回転させ、ウエハ吸着ステージ38に付着した塵埃を除去する(S2)。
除塵後に、ロボットアーム2を旋回するとともに伸縮および昇降させ、ウエハWをアライメントステージ5上に搬送して移載し(S3)、ウエハ押圧機構4により押圧プレート25を伸縮および昇降させ、ウエハWに押圧してウエハWを平面に矯正した状態で吸着保持する(S4)。
その状態で、ウエハ吸着ステージ38を回転させ、ウエハWのオリエンテーションフラットやノッチ等の検出に基づいて、ウエハWの位置合わせ(アライメント)を行う(S5)。
その後、ウエハWに貼り付けられている表面保護テープPTが紫外線硬化型の場合には、紫外線照射ユニット6によってアライメントステージ5上で紫外線照射処理を行う(S6)。
次いで、第2の真空ポンプ47を駆動しながら、ウエハチャックテーブル7の下向き面に対して第2のブラシ40を移動させ、ウエハチャックテーブル7の下向き面に付着した塵埃を除去する(S7)。
その後、アライメントステージ5をウエハチャックテーブル7の下方まで移動し、平面の状態を保持したまま、ウエハチャックテーブル7を昇降し、位置合わせが行われたウエハWを、ウエハチャックテーブル7に受け渡す(S8)。ここで、ウエハWを受け渡したアライメントステージ5は、初期位置に戻る。
一方、リングフレーム搬送機構9によりワゴン27の上方からリングフレームfを1枚ずつ真空吸着して取り出し、図示しないアライメントステージで位置合わせを行なった後に、ダイシング用テープDT貼り付け位置に搬送する(S9)。
そこで、ダイシング用テープ貼付ユニット11により、リングフレームfにダイシング用テープDTを貼り付け(S10)、その後に、リングフレームf上でダイシング用テープDTをカットする(S11)。
カット後の不用となったダイシング用テープDTをリングフレームfから剥離してダイシング用テープ回収部13に巻取り(S12)、ダイシング用テープDTを貼り付けたリングフレームfを作製し、そのリングフレームfをリングフレーム昇降機構14により上昇搬送し、ウエハチャックテーブル7に吸着保持されているウエハWに接近させる(S13)。
次いで、リングフレームfの下方の端よりマウントローラ(図示せず)を昇降および移動させ、リングフレームfに貼り付けられているダイシング用テープDTをウエハWに貼り付け、ウエハマウントフレームMFを作製する(S14)。
その後、作製したウエハマウントフレームMFを、ウエハマウントフレーム搬送機構16により剥離テーブル17上に搬送して吸着保持させる(S15)。
マウントフレームMFが載置された剥離テーブル17を、テープ剥離ユニット19の下方に向かって移動し、剥離テープ供給部18から供給される剥離テープSTをウエハWの表面の表面保護テープPTに押圧しながら貼り付け、貼り付けた剥離テープSTを剥離しながら表面保護テープPTを一緒にウエハWの表面から剥離する(S16)。
その後、表面保護テープPTを剥離したウエハマウントフレームMFを、テープ剥離ユニット19から払出し、ウエハマウントフレーム収納機構21により、オリエンテーションフラットやノッチ等によって位置合わせして収納方向を調節し、そのウエハマウントフレームMFをウエハマウントフレーム搬送機構23によりウエハマウントフレーム回収部22のカセットC1に一枚づつ収納する(S17)。
上記実施例では、アライメントステージクリーニング機構29を、ウエハ吸着ステージ38上に第1のブラシ30を接触させ、ウエハ吸着ステージ38を回転させることによって除塵するように構成しているが、第1のブラシアーム31をウエハ吸着ステージ38の直径よりも長く構成し、第1のブラシアーム31をエアシリンダ等により往復移動させるか、第1のブラシアーム31の長手方向の一端側をウエハ吸着ステージ38の近傍で鉛直方向の軸心周りで回転可能に設け、ウエハ吸着ステージ38の全面に第1のブラシ30を作用させて除塵するように構成しても良い。
また、ウエハチャックテーブルクリーニング機構39を、ウエハチャックテーブル7の下向き面に第2のブラシ40を接触させて水平方向に往復移動して除塵するように構成しているが、第2のブラシアーム41の一端側を、ウエハチャックテーブル7の近傍で鉛直方向の軸心周りで回転可能に設け、ウエハチャックテーブル7の下向き面全面に第2のブラシ40を作用させて除塵するように構成しても良い。
また、上記実施例では、第1および第2の真空ポンプ37,47により、除去した塵埃を吸引するように構成しているが、これらの構成を備えずに、クリーニング時に、アライメントステージ5のウエハ吸着ステージ38およびウエハチャックテーブル7それぞれに備えられている真空吸着構成を利用し、第1および第2のブラシ30,40で除去した塵埃を吸引させるようにしても良い。
上記実施例では、第1および第2のブラシ30,40で除塵するように除塵手段を構成しているが、本発明における除塵手段としては、例えば、吸引、気体の吹き付け、粘着シート類による除塵、および、それらの組み合わせなど、除塵およびクリーニングが可能な方法であれば、各種の構成や手法が適用できる。
また、除塵およびクリーニングとして提案されている、表面および裏面に集塵用粘着テープを貼り付けたウエハWを供給して流し、塵埃を粘着テープに接着させて除塵するように構成しても良い。
上記実施例では、ウエハマウントフレームMFを作製する場合を例示したが、本発明としては、半導体ウエハと接触する部位が存在して半導体ウエハを処理する場合であれば、すべてに適用できる。
W…半導体ウエハ
5…アライメントステージ(ウエハ保持手段)
7…ウエハチャックテーブル(ウエハ保持手段)
29…アライメントステージクリーニング機構(除塵手段)
38…ウエハ吸着ステージ(接触部位)
39…ウエハチャックテーブルクリーニング機構(除塵手段)
5…アライメントステージ(ウエハ保持手段)
7…ウエハチャックテーブル(ウエハ保持手段)
29…アライメントステージクリーニング機構(除塵手段)
38…ウエハ吸着ステージ(接触部位)
39…ウエハチャックテーブルクリーニング機構(除塵手段)
Claims (6)
- 半導体ウエハを各種処理工程に搬送する半導体ウエハ搬送方法であって、
前記半導体ウエハの保持により前記半導体ウエハと接触する部位に対して、前記半導体ウエハとの接触に先立って接触部位に付着する塵埃を除去することを特徴とする半導体ウエハ搬送方法。 - 請求項1に記載の半導体ウエハ搬送方法において、
接触部位が、半導体ウエハの裏面側が接触するものである半導体ウエハ搬送方法。 - 請求項1に記載の半導体ウエハ搬送方法において、
接触部位が、半導体ウエハの表面側が接触するものである半導体ウエハ搬送方法。 - 半導体ウエハの搬送過程に、前記半導体ウエハを載置保持または/および吸着保持するウエハ保持手段を備えた半導体ウエハ搬送装置において、
前記ウエハ保持手段に、前記半導体ウエハと接触する部分に付着した塵埃を除去する除塵手段を付設したことを特徴とする半導体ウエハ搬送装置。 - 請求項4に記載の半導体ウエハ搬送装置において、
ウエハ保持手段が、半導体ウエハを載置するとともに吸着保持して位置決めを行うアライメントステージであり、除塵手段が前記アライメントステージのウエハ載置面に付着した塵埃を除去するものである半導体ウエハ搬送装置。 - 請求項4に記載の半導体ウエハ搬送装置において、
ウエハ保持手段が、半導体ウエハを吸着保持するウエハチャックテーブルであり、除塵手段が前記ウエハチャックテーブルのウエハ吸着面に付着した塵埃を除去するものである半導体ウエハ搬送装置。
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