JP2014138041A - 処理装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ステージに設置されたチャックによって吸着されている基板に処理を行う処理装置は、基板を前記チャックに搬送する搬送部と、前記チャックによって吸着されている基板の反りを低減するように該基板を押圧する押圧部材と、前記押圧部材を前記ステージに搬送するロボットと、を備える。
【選択図】図1
Description
図1は、露光装置の概略構成を示す。図1に示すように、露光装置は、照明系1と、レチクル2を保持するレチクルステージ3と、レチクル位置計測器4と、投影光学系(投影露光レンズ)5と、ウエハ(基板)9を保持するウエハステージ(ステージ)6とを備える。露光装置は、さらに、レーザ干渉計7と、ウエハを真空吸着するウエハチャック(チャック)8と、ウエハチャック8の下部にあるウエハZ駆動機構(不図示)と、ウエハ9のピント位置を計測するオートフォーカスユニット10とを備える。照明系1は、光源及びシャッタを含む。レチクル2には、回路パターンが描かれている。レチクル位置計測器4は、レチクルステージ3上のレチクル2の位置を計測する。ウエハステージ6は、露光対象のウエハ9を載せてXY平面内でX及びYの2方向に移動する。レーザ干渉計7は、ウエハステージ6の位置を計測する。ウエハZ駆動機構は、ウエハチャック8の下部に設けられ、ウエハ9を載せて、露光時のピントの調節(フォーカシング)のためにウエハ9を垂直方向(Z方向)に移動させる。
図2は、ウエハ9の搬送、ウエハチャック8によるウエハ9の吸着の不良を回復させる部材の搬送に関わる部分に注目した装置の上面から見た模式図である。露光装置は、扉31を有するチャンバ30と、ウエハチャック8と、3ピン11と、ウエハステージ6と、ウエハ搬入ステーション16と、ウエハ搬出ステーション17と、制御部15と、プリアライメント部13と、を備えている。露光装置は、また、ウエハ搬送ロボットハンド14と、ウエハ送り込みハンド12と、ロボットハンド23を備えている。チャンバ30は、露光環境を一定温度湿度に維持する。ウエハチャック8は、投影露光レンズ5の下部でウエハ9を真空吸着する。3ピン11は、ウエハチャック8にウエハ9を受け渡すために上下駆動する。ウエハステージ6は、ウエハ9とウエハチャック8と3ピン11とを一体でXY平面内のX及びYの2方向に移動する。ウエハ搬入ステーション16には、露光処理がされていないウエハ9がチャンバ30の外部から搬入され配置される。ウエハ搬出ステーション17には、露光処理がなされたウエハ9が配置されてチャンバ30の外部に搬出される。制御部15は、露光装置を制御するコンピューターであって、ユーザーインターフェース32と電気的に接続されている。プリアライメント部13は、露光処理に先立ってウエハ9のプリアライメント(前処理)を行う。
実施例2を説明する。図1、図3の構成は、実施例1と同様に実施例2においても適用することができる。図8は、ウエハ9の搬送、吸着不良を回復する部材の搬送に関わる部分に注目した装置上面から見た模式図である。実施例2は、図2に示される実施例1に対して、リジェクトキャリア21、ストッカー22を設けた点で異なる。リジェクトキャリア21は、露光処理中に異常が発生したウエハ9を、正常に露光処理されたウエハ9と区別して保管する。また、リジェクトキャリア21は、装置のメンテナンスのための特殊なウエハを保管するために用いられる。ストッカー22は、吸着不良を回復する部材にそれぞれ該当する、押圧プレート24、異物除去部材25、交換用のウエハチャック26を保管する。押圧プレート24、異物除去部材25、交換用のウエハチャック26は、事前に扉31を介してロボットハンド23によりストッカー22に搬入され保管されている。
実施例3を説明する。図13、図14以外の構成は、実施例2と全て同等なのでそれらの説明を省略する。また、図13のフローチャートのうち、S400のウエハチャック交換のサブプロセス処理以外は、図12と同等なのでS400以外の説明を省略する。図13は、吸着不良の回復処理にウエハチャック8の交換処理を含む場合のフローチャートである。S204で、制御部15は、押圧プレート24による吸着不良の回復処理を実行するモードであるか否かの情報を確認する。S204で、押圧プレート24による吸着不良の回復処理を実行するモードで無いと判定された場合、また、S301で、既にチャッククリーニングが実施済と判定された場合に、制御部15は、S400において、ウエハチャック交換のサブプロセスを実行する。
実施例4を説明する。図15、図16以外は実施例2と全て同等なので説明を省略する。また、図15は、S500のサブプロセスがある以外は図13と同等なので、S500以外の説明も省略する。図15は、ロット内のウエハが連続してエラー発生した場合の連続ウエハ異常処理サブプロセスの詳細処理を説明するフローチャートである。同一ロットでウエハチャック8から異物を除去するチャッククリーニングを実施していない場合に、S500のサブプロセスを実行する。
次に、デバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
Claims (14)
- ステージに設置されたチャックによって吸着されている基板に処理を行う処理装置であって、
基板を前記チャックに搬送する搬送部と、
前記チャックによって吸着されている基板の反りを低減するように該基板を押圧する押圧部材と、
前記押圧部材を前記ステージに搬送するロボットと、
を備えることを特徴とする処理装置。 - 前記基板は、前記処理に先立って前処理が行われ、
前記チャックによる前記基板の吸着が不良であった場合には、前記ロボットは、前記押圧部材を前記ステージに搬送し、前記ステージに搬送された前記押圧部材は、前記チャックによって吸着されている前記基板を押圧し、かつ、前記搬送部は、前記基板の次に前記処理を行う基板を前記前処理が行われる位置まで搬送する、ことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。 - 前記チャックのチャック面をクリーニングするクリーニング部材をさらに備え、
前記ロボットは、前記クリーニング部材を前記ステージまで搬送する、ことを特徴とする請求項2に記載の処理装置。 - 前記チャックによって吸着されている前記基板の反りが許容範囲内であることが判明していて、前記チャックによる前記基板の吸着が不良であった場合には、前記基板は前記押圧部材により押圧されることなく前記搬送部により前記チャックから取り外され、前記ロボットは、前記クリーニング部材を前記ステージに搬送し、前記ステージに搬送された前記クリーニング部材は、前記チャック面をクリーニングする、ことを特徴とする請求項3に記載の処理装置。
- 前記押圧部材により所定回数の押圧が行われた後も前記基板の吸着が不良であった場合には、前記搬送部は、前記基板を前記チャックから取り外し、前記ロボットは、前記クリーニング部材を前記ステージに搬送し、前記ステージに搬送された前記クリーニング部材は、前記チャック面をクリーニングする、ことを特徴とする請求項3に記載の処理装置。
- 前記押圧部材により押圧が行われた後も前記チャックによる吸着の不良が所定枚数の基板に対して連続して発生した場合には、前記ロボットは、前記クリーニング部材を前記ステージに搬送し、前記ステージに搬送された前記クリーニング部材により前記チャック面をクリーニングする、ことを特徴とする請求項3に記載の処理装置。
- 交換用の第2チャックをさらに備え、
前記ロボットは、前記第2チャックを前記ステージに搬送する、ことを特徴とする請求項3ないし6のいずれか1項に記載の処理装置。 - 前記クリーニング部材が前記チャック面をクリーニングした後も前記チャックによる吸着が不良であった場合には、前記ロボットは、前記チャックを前記ステージから取り外し、前記第2チャックを前記ステージに搬送して設置する、ことを特徴とする請求項7に記載の処理装置。
- 前記押圧部材、前記クリーニング部材および前記第2チャックを保管する第1保管部をさらに備え、前記ロボットは、前記押圧部材、前記クリーニング部材または前記第2チャックを前記第1保管部から前記ステージまで搬送する、ことを特徴とする請求項7または8に記載の処理装置。
- 前記チャックから取り外された前記基板を保管する第2保管部をさらに備え、前記クリーニング部材により前記チャック面がクリーニングされた後、前記搬送部は、前記第2保管部に保管された前記基板を前記クリーニングされた前記チャックまで搬送することを特徴とする請求項4または5に記載の処理装置。
- 前記チャックから取り外された前記基板を保管する第2保管部をさらに備え、前記ロボットにより前記第2チャックが前記ステージに設置された後、前記搬送部は、前記第2保管部に保管された前記基板を前記第2チャックまで搬送することを特徴とする請求項8に記載の処理装置。
- 前記前処理として前記基板をプリアライメントするプリアライメント部をさらに備える、請求項2ないし11のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記処理は、前記基板を露光する露光処理を含む、ことを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1項に記載の処理装置。
- 請求項13に記載の処理装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含む、ことを特徴とするデバイス製造方法。
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