JP5412214B2 - 保護テープ剥離方法およびその装置 - Google Patents
保護テープ剥離方法およびその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5412214B2 JP5412214B2 JP2009200316A JP2009200316A JP5412214B2 JP 5412214 B2 JP5412214 B2 JP 5412214B2 JP 2009200316 A JP2009200316 A JP 2009200316A JP 2009200316 A JP2009200316 A JP 2009200316A JP 5412214 B2 JP5412214 B2 JP 5412214B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective tape
- peeling
- substrate
- adhesive force
- suction plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67132—Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1142—Changing dimension during delaminating [e.g., crushing, expanding, warping, etc.]
- Y10T156/1147—Using shrinking or swelling agent during delaminating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1153—Temperature change for delamination [e.g., heating during delaminating, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1153—Temperature change for delamination [e.g., heating during delaminating, etc.]
- Y10T156/1158—Electromagnetic radiation applied to work for delamination [e.g., microwave, uv, ir, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/19—Delaminating means
- Y10T156/1911—Heating or cooling delaminating means [e.g., melting means, freezing means, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/19—Delaminating means
- Y10T156/1911—Heating or cooling delaminating means [e.g., melting means, freezing means, etc.]
- Y10T156/1917—Electromagnetic radiation delaminating means [e.g., microwave, uv, ir, etc.]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
すなわち、第1の発明は、基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
前記剥離過程では、前記吸着プレートで保護テープを吸着して剥離除去する
ことを特徴とする。
特に、この方法によれば、チップ部品と同形状に分断された保護テープが規則正しく一軸方向に反り返るので、バラバラの方向に反り返った場合に発生しがちな分散を抑制することができる。また、保護テープの熱収縮に応じて吸着プレートを上昇させてゆくので、チップ部品と吸着プレートの間で反り返る保護テープによって作用するチップ部品への押圧力を抑制することができる。同時に、熱収縮率が高まるにつれて吸着プレートによる保護テープへの吸着力も高められるので、チップ部品からの保護テープの剥離を助長しつつ、確実に剥離除去することもできる。なお、本発明において、接着力は、弱まるものに限らず減滅する場合も含む。
熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて当該保護テープを吸着したまま加熱するとともに、加熱によって発泡膨張して保護テープの厚みが増すに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
前記剥離過程では、加熱発泡により接着力の弱まった保護テープを吸着手段で吸着して剥離除去する
ことを特徴とする。
また、保護テープの発泡に応じて吸着プレートを上昇させてゆくので、チップ部品と吸着プレートの間で厚みの増す保護テープによって作用するチップ部品への押圧力を抑制することができる。同時に、厚みが増すにつれて吸着プレートによる保護テープへの吸着力も高められるので、チップ部品からの保護テープの剥離を助長しつつ、確実に剥離除去することもできる。
紫外線硬化型の前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、紫外線照射ユニットを備えた透過性を有する吸着プレートを保護テープに当接させ、当該保護テープを吸着したまま紫外線を照射する
ことを特徴とする。
所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
をことを特徴とする。
すなわち、チャックテーブルの保持された複数個のチップ部品を吸着プレートで挟み込んだ状態で吸着しながら、その表面の保護テープを加熱することができる。したがって、加熱により接着力の弱まった保護テープを飛散させることなく、直ちに吸着して剥離除去することができる。
熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
ことを特徴とする
紫外線硬化型の粘着テープである前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める接着力低減手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段を備え、
前記接着力低減手段は、さらに前記紫外線照射ユニットを吸着プレートに備えて構成したことを特徴とする。
本発明は上述した実施例のものに限らず、次のように変形実施することもできる。
2 … チャックテーブル
3 … 第1搬送機構
4 … テープ剥離機構
5 … テープ回収機構
25 … 吸着プレート
28 … ヒータ
35 … 制御部
PT … 保護テープ
CP … チップ部品
DT … 粘着テープ
f … フレーム
MF … マウントフレーム
W … 半導体ウエハ
Claims (6)
- 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
前記剥離過程では、前記吸着プレートで保護テープを吸着して剥離除去する
ことを特徴とする保護テープ剥離方法。 - 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて当該保護テープを吸着したまま加熱するとともに、加熱によって発泡膨張して保護テープの厚みが増すに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
前記剥離過程では、加熱発泡により接着力の弱まった保護テープを吸着手段で吸着して剥離除去する
ことを特徴とする保護テープ剥離方法。 - 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
紫外線硬化型の前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、紫外線照射ユニットを備えた透過性を有する吸着プレートを保護テープに当接させ、当該保護テープを吸着したまま紫外線を照射する
ことを特徴とする保護テープ剥離方法。 - 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
をことを特徴とする保護テープ剥離装置。 - 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
ことを特徴とする保護テープ剥離装置。 - 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
紫外線硬化型の粘着テープである前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める接着力低減手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段を備え、
前記接着力低減手段は、さらに前記紫外線照射ユニットを吸着プレートに備えて構成した
ことを特徴とする保護テープ剥離装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009200316A JP5412214B2 (ja) | 2009-08-31 | 2009-08-31 | 保護テープ剥離方法およびその装置 |
US12/847,858 US20110048630A1 (en) | 2009-08-31 | 2010-07-30 | Protective tape separating method and apparatus |
TW099126188A TWI505339B (zh) | 2009-08-31 | 2010-08-06 | 保護帶剝離方法及其裝置 |
KR1020100083994A KR101729334B1 (ko) | 2009-08-31 | 2010-08-30 | 보호 테이프 박리 방법 및 그 장치 |
CN201010272021.0A CN102005365B (zh) | 2009-08-31 | 2010-08-31 | 保护带剥离方法及其装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009200316A JP5412214B2 (ja) | 2009-08-31 | 2009-08-31 | 保護テープ剥離方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011054650A JP2011054650A (ja) | 2011-03-17 |
JP5412214B2 true JP5412214B2 (ja) | 2014-02-12 |
Family
ID=43623085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009200316A Expired - Fee Related JP5412214B2 (ja) | 2009-08-31 | 2009-08-31 | 保護テープ剥離方法およびその装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110048630A1 (ja) |
JP (1) | JP5412214B2 (ja) |
KR (1) | KR101729334B1 (ja) |
CN (1) | CN102005365B (ja) |
TW (1) | TWI505339B (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9827756B2 (en) * | 2011-04-12 | 2017-11-28 | Tokyo Electron Limited | Separation apparatus, separation system, and separation method |
KR101275290B1 (ko) * | 2011-07-19 | 2013-06-17 | 도레이첨단소재 주식회사 | 열박리형 양면 점착시트 |
JP5853713B2 (ja) * | 2012-01-16 | 2016-02-09 | 三菱電機株式会社 | 保護テープ剥離装置、保護テープ剥離方法 |
JP6105951B2 (ja) * | 2013-01-23 | 2017-03-29 | 株式会社ディスコ | テープ剥離方法及びテープ剥離装置 |
JP6260471B2 (ja) * | 2014-06-27 | 2018-01-17 | 株式会社村田製作所 | シート剥離装置及びシート剥離方法 |
US9475272B2 (en) | 2014-10-09 | 2016-10-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | De-bonding and cleaning process and system |
KR101722172B1 (ko) | 2014-12-05 | 2017-03-31 | 삼성중공업 주식회사 | 필름 제거 장치 |
KR101722162B1 (ko) | 2014-12-05 | 2017-03-31 | 삼성중공업 주식회사 | 필름 제거 장치 |
KR20160071613A (ko) | 2014-12-12 | 2016-06-22 | 삼성중공업 주식회사 | 선박용 필름 제거장치 |
CN106710442B (zh) * | 2015-10-21 | 2021-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 背光源分离设备 |
CN108122814B (zh) * | 2017-10-27 | 2021-04-23 | 江西乾照光电有限公司 | 一种led芯片中led芯粒的分选转移方法 |
KR102505213B1 (ko) * | 2017-12-08 | 2023-03-03 | 삼성전자주식회사 | 분리용 전자 장치 및 이의 공정 방법 |
WO2020168174A1 (en) | 2019-02-15 | 2020-08-20 | Uniqarta, Inc | Dynamic release tapes for assembly of discrete components |
CN110091249A (zh) * | 2019-05-06 | 2019-08-06 | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 | 一种研磨垫的安装方法、研磨垫的拆卸方法和加热装置 |
CN215745441U (zh) * | 2021-02-02 | 2022-02-08 | 三赢科技(深圳)有限公司 | 拆解装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62204542A (ja) * | 1986-03-05 | 1987-09-09 | Hitachi Ltd | ウエハ分割方法および装置 |
JP3955659B2 (ja) * | 1997-06-12 | 2007-08-08 | リンテック株式会社 | 電子部品のダイボンディング方法およびそれに使用されるダイボンディング装置 |
US7105226B2 (en) * | 1998-08-26 | 2006-09-12 | Lintec Corporation | Pressure sensitive adhesive double coated sheet and method of use thereof |
JP2000129227A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-09 | Lintec Corp | 半導体ウエハ保護用粘着シートおよびその使用方法 |
JP3504543B2 (ja) * | 1999-03-03 | 2004-03-08 | 株式会社日立製作所 | 半導体素子の分離方法およびその装置並びに半導体素子の搭載方法 |
JP4275254B2 (ja) * | 1999-06-17 | 2009-06-10 | リンテック株式会社 | 両面粘着シートに固定された物品の剥離方法および剥離装置 |
JP2001345368A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Fujitsu Ltd | 半導体チップ剥離・搬送方法及び装置 |
JP2004063645A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Enzan Seisakusho:Kk | 半導体ウェハの保護部材剥離装置 |
SG116533A1 (en) * | 2003-03-26 | 2005-11-28 | Toshiba Kk | Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device. |
JP4592270B2 (ja) * | 2003-10-06 | 2010-12-01 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハの支持材からの剥離方法およびこれを用いた装置 |
JP4716668B2 (ja) * | 2004-04-21 | 2011-07-06 | 日東電工株式会社 | 被着物の加熱剥離方法及び被着物加熱剥離装置 |
JP2006196823A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-27 | Renesas Technology Corp | 半導体素子の製造方法 |
JP2007134390A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP4353975B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2009-10-28 | 日東電工株式会社 | 粘着シートの貼付・剥離方法及び粘着シートの貼付装置並びに粘着シートの剥離装置 |
JP4851415B2 (ja) * | 2007-10-10 | 2012-01-11 | 日東電工株式会社 | 紫外線照射方法およびこれを用いた装置 |
-
2009
- 2009-08-31 JP JP2009200316A patent/JP5412214B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-07-30 US US12/847,858 patent/US20110048630A1/en not_active Abandoned
- 2010-08-06 TW TW099126188A patent/TWI505339B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-08-30 KR KR1020100083994A patent/KR101729334B1/ko active IP Right Grant
- 2010-08-31 CN CN201010272021.0A patent/CN102005365B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102005365A (zh) | 2011-04-06 |
KR20110023821A (ko) | 2011-03-08 |
TW201133580A (en) | 2011-10-01 |
CN102005365B (zh) | 2015-11-25 |
TWI505339B (zh) | 2015-10-21 |
KR101729334B1 (ko) | 2017-04-21 |
US20110048630A1 (en) | 2011-03-03 |
JP2011054650A (ja) | 2011-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5412214B2 (ja) | 保護テープ剥離方法およびその装置 | |
TWI457976B (zh) | 保護帶剝離方法及其裝置 | |
JP4275254B2 (ja) | 両面粘着シートに固定された物品の剥離方法および剥離装置 | |
JP4698517B2 (ja) | 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置 | |
TWI502636B (zh) | 晶圓安裝方法和晶圓安裝裝置 | |
JP5253996B2 (ja) | ワーク分割方法およびテープ拡張装置 | |
JP4851415B2 (ja) | 紫外線照射方法およびこれを用いた装置 | |
JP2006303012A (ja) | 支持板分離装置およびこれを用いた支持板分離方法 | |
JP2002270542A (ja) | ダイのピックアップ方法及びピックアップ装置 | |
KR20050045823A (ko) | 반도체 웨이퍼 뒷면에의 점착테이프 접착방법 및점착테이프 접착장치 | |
JP2007043048A (ja) | 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置 | |
KR20090091661A (ko) | 점착 테이프 부착 장치 | |
JP4570084B2 (ja) | 基板貼合せ方法 | |
JP2010219219A (ja) | 電子部品剥離装置及び電子部品剥離方法 | |
WO2014167948A1 (ja) | 封止シート貼付け方法および封止シート貼付け装置 | |
JP2007088038A (ja) | 貼替装置及び貼替方法 | |
TW501211B (en) | Method and apparatus for processing semiconductor chip | |
JP2005243700A (ja) | 粘着シート貼付け方法およびこれを用いた装置 | |
TW201533784A (zh) | 密封片貼附方法 | |
JP2020068326A (ja) | 被着体処理方法 | |
JP5489662B2 (ja) | 半導体ウェーハの取り扱い方法 | |
CN114999986A (zh) | 工件与片材的一体化方法及其一体化装置和半导体产品的制造方法 | |
TW202109703A (zh) | 薄片材貼附方法及薄片材貼附裝置 | |
WO2015087762A1 (ja) | 封止シート貼付け方法 | |
JP2018160574A (ja) | サポート治具の剥離装置及び剥離方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120308 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130327 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130507 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130703 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131111 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5412214 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |