JP5412214B2 - 保護テープ剥離方法およびその装置 - Google Patents

保護テープ剥離方法およびその装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5412214B2
JP5412214B2 JP2009200316A JP2009200316A JP5412214B2 JP 5412214 B2 JP5412214 B2 JP 5412214B2 JP 2009200316 A JP2009200316 A JP 2009200316A JP 2009200316 A JP2009200316 A JP 2009200316A JP 5412214 B2 JP5412214 B2 JP 5412214B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective tape
peeling
substrate
adhesive force
suction plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009200316A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011054650A (ja
Inventor
幸敏 長谷
雅之 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2009200316A priority Critical patent/JP5412214B2/ja
Priority to US12/847,858 priority patent/US20110048630A1/en
Priority to TW099126188A priority patent/TWI505339B/zh
Priority to KR1020100083994A priority patent/KR101729334B1/ko
Priority to CN201010272021.0A priority patent/CN102005365B/zh
Publication of JP2011054650A publication Critical patent/JP2011054650A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5412214B2 publication Critical patent/JP5412214B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/11Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
    • Y10T156/1142Changing dimension during delaminating [e.g., crushing, expanding, warping, etc.]
    • Y10T156/1147Using shrinking or swelling agent during delaminating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/11Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
    • Y10T156/1153Temperature change for delamination [e.g., heating during delaminating, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/11Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
    • Y10T156/1153Temperature change for delamination [e.g., heating during delaminating, etc.]
    • Y10T156/1158Electromagnetic radiation applied to work for delamination [e.g., microwave, uv, ir, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1911Heating or cooling delaminating means [e.g., melting means, freezing means, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1911Heating or cooling delaminating means [e.g., melting means, freezing means, etc.]
    • Y10T156/1917Electromagnetic radiation delaminating means [e.g., microwave, uv, ir, etc.]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

本発明は、半導体ウエハ、回路基板、および電子デバイス(例えば、LED(Light-emitting diode)やCCD(charge coupled device))などの基板の回路面を保護する保護テープを剥離する保護テープ剥離方法およびその装置に関し、特に、基板を所定形状に分断した後のチップ部品から保護テープを剥離する技術に関する。
半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という)は、その表面上に多数の素子を形成した後、バックグラインド工程でウエハ裏面を削り、その後、ダイシング工程で各素子に切り分けられている。近年では高密度実装の要求に伴いウエハ厚さを100μmから50μm、さらにはそれ以下にまで薄くする傾向にある。
そこで、バックグラインド工程でウエハを薄化加工するとき、回路パターンが形成されたウエハ表面の保護、バックグラインド工程における研削ストレスからウエハを保護するため、およびバックグラインドにより薄型化されたウエハを補強するために、その表面に保護テープが貼付けられる。
また、バックグラインド工程後に、ダイシングテープを介してリングフレームにウエハを接着保持してなるマウントフレームにおいて、そのウエハ上の保護テープに剥離用の粘着テープを貼付けて剥離することにより、剥離テープと一体にして保護テープをウエハ表面から剥離している。(特許文献1を参照)。
特開2006−165385号公報
しかしながら、上記従来方法では次のような問題がある。
すなわち、従来の保護テープ剥離方法では、剥離テープを剥離するときに剥離部位に作用する引張力によって保護テープのみならず薄型化されたウエハをも引っ張り上げて反り返らせる場合がある。このような場合、ウエハを破損させてしまうといった問題がある。
また、ダイシングテープに接着保持されていても、薄型化されたウエハに対するダイシングテープのみでの補強では、剛性の低下したウエハを十分に補強しきれなくなってきている。したがって、マウントフレームを次行程のダイシング工程に搬送する過程でウエハが破損し易いといった新たな問題が発生している。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、基板を破損させることなく保護テープを剥離することのできる保護テープ剥離方法およびその装置を提供することを主たる目的とする。
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、第1の発明は、基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
前記剥離過程では、前記吸着プレートで保護テープを吸着して剥離除去する
ことを特徴とする。
(作用・効果) この方法によれば、チップ部品に分断されるまで基板表面に保護テープが貼付けられているので、基板が補強されている。したがって、バックグラインド処理後からダイシング処理までの過程で発生しがちな基板の破損を抑制することができる。
また、接着力が弱まった状態の保護テープがチップ部品から剥離されるので、薄型化された大形の基板から保護テープを剥離するときに発生しがちな破損を回避することもできる。つまり、チップ部品に貼付いている保護テープの接着面積は、基板全域にまたがって接着している保護テープの面積に比べて極めて小さいので、剥離時にチップ部品に作用する剥離応力が著しく小さくなる。したがって、剥離応力によってチップ部品が破損するのを防止することができる。
特に、この方法によれば、チップ部品と同形状に分断された保護テープが規則正しく一軸方向に反り返るので、バラバラの方向に反り返った場合に発生しがちな分散を抑制することができる。また、保護テープの熱収縮に応じて吸着プレートを上昇させてゆくので、チップ部品と吸着プレートの間で反り返る保護テープによって作用するチップ部品への押圧力を抑制することができる。同時に、熱収縮率が高まるにつれて吸着プレートによる保護テープへの吸着力も高められるので、チップ部品からの保護テープの剥離を助長しつつ、確実に剥離除去することもできる。なお、本発明において、接着力は、弱まるものに限らず減滅する場合も含む。
第2の発明は、基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて当該保護テープを吸着したまま加熱するとともに、加熱によって発泡膨張して保護テープの厚みが増すに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
前記剥離過程では、加熱発泡により接着力の弱まった保護テープを吸着手段で吸着して剥離除去する
ことを特徴とする。
(作用・効果) この方法によれば、熱発泡性の粘着層が加熱されることにより接着力が弱められた後に、吸着手段によって吸着保持されることによりチップ部品から保護テープが剥離除去される。したがって、チップ部品に保護テープを残渣させることなく精度よく除去することができる。
また、保護テープの発泡に応じて吸着プレートを上昇させてゆくので、チップ部品と吸着プレートの間で厚みの増す保護テープによって作用するチップ部品への押圧力を抑制することができる。同時に、厚みが増すにつれて吸着プレートによる保護テープへの吸着力も高められるので、チップ部品からの保護テープの剥離を助長しつつ、確実に剥離除去することもできる。
第3の発明は、基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
紫外線硬化型の前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
前記接着力低減過程では、紫外線照射ユニットを備えた透過性を有する吸着プレートを保護テープに当接させ、当該保護テープを吸着したまま紫外線を照射する
ことを特徴とする。
(作用・効果) この方法によれば、紫外線照射により保護テープの粘着層が硬化させられ、接着力が弱められる。特に、吸着プレートとチップ部品とで保護テープを挟み込んで吸着しながら紫外線が保護テープに照射される。したがって、接着力の弱まった保護テープを飛散させることなくチップ部品から確実に剥離することができる。
第4の発明は、基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
をことを特徴とする。
(作用・効果) この構成によれば、分断される前の基板全域におよぶチップ部品がチャックテーブルに吸着保持された状態で、その表面の保護テープの接着力が接着力低減手段により弱められる。その後にチップ部品から保護テープが剥離除去される。
すなわち、チャックテーブルの保持された複数個のチップ部品を吸着プレートで挟み込んだ状態で吸着しながら、その表面の保護テープを加熱することができる。したがって、加熱により接着力の弱まった保護テープを飛散させることなく、直ちに吸着して剥離除去することができる。
第5の発明は、基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
ことを特徴とする
第6の発明は、基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
紫外線硬化型の粘着テープである前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
前記保護テープの接着力を弱める接着力低減手段と
接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段を備え、
前記接着力低減手段は、さらに前記紫外線照射ユニットを吸着プレートに備えて構成したことを特徴とする。
本発明の保護テープ剥離方法およびその装置によれば、基板を破損させることなく精度よく保護テープを剥離することが可能となる。
マウントフレームの斜視図である。 保護テープ剥離装置の平面図である。 保護テープ剥離装置の正面図である。 カセット載置部の正面図である。 第1搬送機構の平面図である。 第1搬送機構の正面図である。 チャックテーブルの正面図である。 テープ剥離機構の側面図である。 実施例の保持テーブルの動作説明図である。 実施例の保持テーブルの動作説明図である。 実施例の保持テーブルの動作説明図である。 実施例の保持テーブルの動作説明図である。 変形例の保護テープの構成を示す断面図である。 変形例の保護テープの剥離動作を示す説明図である。 紫外線硬化型の保護テープを利用した変形装置の正面図である。
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
この実施例では、基板として半導体ウエハを例にとって説明する。半導体ウエハW(以下、単に「ウエハW」という)は、図1に示すように、回路パターンを保護する保護テープPTの貼付けた状態でバックグラインド処理およびダイシング処理が施されてチップ部品CPに分断されている。この分断された基板サイズの複数個のチップ部品CPが、粘着テープDT(ダイシングテープ)を介してリングフレームfに接着保持され、マウントフレームMFとして取り扱われる。
ここで、保護テープPTは、テープ基材に加熱することで発泡膨張して接着力を失う熱発泡性の粘着層を備えたものである。
図2および図3に、本発明方法を実行する保護テープ剥離装置の概略構成および保護テープ剥離工程が示されている。
この保護テープ剥離装置は、マウントフレームMFを所定ピッチをおいて多段に収納したカセットCを載置するカセット載置部1、カセットCからマウントフレームMFを搬出してチャックテーブル2に載置するとともに、保護テープPTの剥離処理されマウントフレームMFをするカセットCに収納する第1搬送機構3、ウエハWから所定のサイズに分断されたチップ部品CPから保護テープPTを剥離するテープ剥離機構4、およびチップ部品CPから剥離された保護テープPTを回収するテープ回収機構5とから構成されている。以下、各構成について具体的に説明する。
カセット載置部1は、図4に示すように、装置フレームに連結固定された縦レール6と、この縦レール6に沿ってモータなどの駆動機構7によりでネジ送り昇降される昇降台8が備えられている。したがって、カセット載置部1は、マウントフレームMFを昇降台8に載置してピッチ送り昇降するよう構成されている。
第1搬送機構3は、図5および図6に示すように、案内レール9に沿って左右水平に移動する可動台10に、固定受け片11とシリンダ12で開閉されるチャック片13を備えている。これら固定受け片11とチャック片13とでマウントフレームMFの一端部を上下から挟持するよう構成されている。また、モータ14で回動されるベルト15に可動台10の下部が連結されており、モータ14の正逆作動によって可動台10を左右に往復移動させるようになっている。
チャックテーブル2は、図7に示すように、マウントフレームMFを裏面側から真空吸着するよう構成されており、前後水平に配備された左右一対のレール16に沿って前後にスライド移動可能に支持された可動台17に支持されている。そして、可動台17は、パルスモータ18で正逆駆動されるネジ軸19によってネジ送り駆動されるようになっている。つまり、チャックテーブル2は、マウントフレームMFの受け取り位置と保護テープPTの剥離位置とにわたって往復移動するように構成されている。
テープ剥離機構4は、図8に示すように、縦壁20の背部に縦向きに配置されたレール21に沿って昇降可能な可動台22、この可動台22に高さ調節可能に支持された可動枠23、この可動枠23から前方に向けて延出されたアーム24の先端部に装着された吸着プレート25などを備えている。可動台22は、ネジ軸26をモータ27によって正逆転することでねじ送り昇降されるようになっている。また、吸着プレート25の下面は真空吸着面に構成されるとともに、プレート内部にはヒータ28が埋設されている。なお、テープ剥離機構4は本発明の剥離手段に相当し、ヒータ28は本発明の加熱手段に相当する。
テープ回収機構5は、図2および図3に示すように、案内レール29に沿って左右水平に移動する可動台30に延出されたアーム31の先端部に回収ボックス32を備えている。また、モータ33で回動されるベルト34に可動台30が連結されており、モータ33の正逆作動によって可動台30を左右に往復移動させるようになっている。
次に、上記実施例装置を用いて保護テープPTをウエハWの表面に貼付けるための一連の基本動作を図9〜図12に基づいて説明する。
図2中の中央寄りの待機位置にある第1搬送機構3が、マウントフレームMFの搬出位置(図2中の左側)に移動する。この第1搬送機構3は、ウエハWの表面を上向きにしてカセットCに多段収納されているマウントフレームMFを把持して後退(図2中の右側)しながら搬出する。この時点でチャックテーブル2が、テープ剥離機構4の真下の剥離位置からマウントフレームMFの受け取り位置(図2中の左側)に移動して待機している。
第1搬送機構3は待機位置で停止した後に下降し、チャック片13を開放することによりマウントフレームMFをチャックテーブル2に移載する。
マウントフレームMFの移載されたチャックテーブル2は、マウントフレームMFの裏面全体を吸着保持しながら剥離位置へと移動する。
図9に示すように、チャックテーブル2が剥離位置に到達すると、図10に示すように、テープ剥離機構4を作動させて吸着プレート25を下降させ、保護テープPTに当接させて吸着する。この状態でヒータにより吸着プレート25を加熱する。吸着プレート25の加熱に伴って保護テープPTの粘着層が発泡膨張して接着力が失われてゆく。
この加熱過程において、図7に示す制御部35は、保護テープPTに使用する粘着層の種類、加熱温度、加熱時間によって予め決る保護テープPTの厚みの変化に応じて、テープ剥離機構4を間欠的あるいは連続的に上昇制御する。つまり、粘着層が発泡膨張して保護テープPTの厚みが増すことにより、吸着プレート25とチャックテーブル2との間に挟まれている薄型化されたチップ部品CPに過度の押圧力が作用し、破損しないように吸着プレート25が上昇制御されている。なお、制御部35は、本発明の制御手段に相当する。
所定時間の加熱により粘着層の加熱発泡処理が完了すると、吸着プレート25は、図11に示すように、保護テープPTを吸着し続けたまま所定高さまで上昇する。このとき、チャックテーブル2は、吸着プレート25により全部のチップ部品CPから保護テープPTの剥離されたマウントフレームMFを吸着保持したまま、マウントフレームMFの受け渡し位置まで移動する。さらに、このとき、テープ回収機構5が作動し、回収ボックス32を待機位置(図2中の右側)から剥離位置に移動させる。
一方のチャックテーブル2がマウントフレームMFの受け渡し位置に到達すると、処理済みのマウントフレームMFを第1搬送機構3のチャック片13が把持してチャックテーブル2から搬出し、カセットCの元の位置へと収納する。収納が完了すると、昇降台8が所定ピッチだけ上昇し、第1搬送機構3は、新たなマウントフレームMFを搬出する。
他方の回収ボックス32が剥離位置に到達すると、図12に示すように、吸着プレート25の吸着が解除され、チップ部品CPの数に相当する分断された全ての保護テープPTが落下されて回収ボックス32に回収される。
以上で一連の動作が完了し、カセットCに収納されている全てのマウントフレームMFに対して同じ処理が繰り返し実行される。
上記構成によれば、バックグランド処理後にマウントフレームMFに接着保持されたウエハWが、保護テープ付きのままダイシング処理が施された状態で剥離工程に搬送されてくるので、従来の保護テープ剥離後のマウントフレームMFを取り扱うのに比べて、剛性が補強された状態での取り扱いが可能となる。その結果、ダイシング工程までの搬送過程において発生しがちなウエハWの破損を解消することができる。
また、接着力が失われた状態の保護テープPTがチップ部品CPから剥離されるので、薄型化された大形のウエハWの全面から保護テープPTを剥離するときに発生しがちな破損を回避することもできる。つまり、チップ部品CPに貼付いている保護テープPTの接着面積は、ウエハ全域にまたがって接着している保護テープPTの面積に比べて極めて小さいので、剥離時にチップ部品CPに作用する剥離応力が著しく小さくなる。したがって、剥離応力によってチップ部品CPが破損したり、飛散したりするのを防止することができる。

本発明は上述した実施例のものに限らず、次のように変形実施することもできる。
(1)上記実施例では、加熱により発泡膨張する加熱剥離性を有する粘着層を備えた保護テープPTを例に採って説明したが、加熱により所定の一軸方向に反り返る熱収縮性の粘着層を備えた保護テープPTを利用してもよい。
つまり、保護テープPTは、図13に示すように、1軸収縮性を有する収縮性フィルム層40と、この収縮性フィルム層40の収縮を拘束する拘束層41と、粘着層42の積層体からなる自発巻回性粘着シートである。
拘束層41は、さらに収縮性フィルム層40側の弾性層43と収縮性フィルム層40とは反対側の剛性フィルム層44とから構成されている。
収縮性フィルム層40としては、少なくとも1軸方向に収縮性を有するフィルム層であればよく、熱収縮性フィルム、光により収縮性を示すフィルム、電気的刺激により収縮するフィルムなどのいずれで構成されていてもよい。なお、収縮性フィルム層40は単層であってもよく、2以上の層からなる複層であってもよい。
拘束層41は収縮性フィルム層40の収縮を拘束し、反作用力を生み出すことにより、積層体全体として偶力を生み出し、巻回を引き起こす駆動力となる。また、この拘束層41により、収縮性フィルム層40の主収縮方向とは異なる方向の副次的収縮が抑制され、1軸収縮性とは言っても必ずしも一様とは言えない収縮性フィルム層40の収縮方向が一方向に収斂する働きもする。このため、積層シートに収縮性フィルム層40の収縮を促す熱などの刺激を与えると、拘束層41における収縮性フィルム層40の収縮力に対する反発力が駆動力となって、積層シートの外縁部(1端部または対向する2端部)が浮き上がり、収縮性フィルム層40側を内にして、端部から1方向または中心方向(通常、熱収縮性フィルムの主収縮軸方向)へ自発的に巻回して筒状巻回体が形成される。また、この拘束層41により、収縮性フィルム層40の収縮変形により生じる剪断力が粘着層42やチップ部品CPに伝達されるのを防ぐことができるので、チップ部品CPの破損や汚染などを防止することができる。
弾性層43は、収縮性フィルム層40の収縮時の温度下で変形しやすい材料からなる。例えば、ゴム状態であることが好ましい。
剛性フィルム層44は拘束層41に剛性あるいは靱性を付与することで、収縮性フィルム層40の収縮力に対して反作用の力を生み出し、ひいては巻回に必要な偶力を発生する機能を有する。剛性フィルム層44を設けることにより、収縮性フィルム層40に熱などの収縮原因となる刺激が付与された際、積層シートが、途中で停止したり方向がずれたりすることなく円滑に自発巻回し、形の整った筒状巻回体を形成することができる。
この場合、所定のチップ部品CPのサイズに分断された複数枚の保護テープPTは、吸着プレート25によって加熱されると、図14に示すように、左右同じ方向から上向きに反り返って剥離される。したがって、上記実施例と同様に、加熱過程において、制御部35が、保護テープPTに使用する粘着層の種類、加熱温度、加熱時間によって予め決る保護テープPTの反り量に応じて、テープ剥離機構4を間欠的あるいは連続的に上昇制御するように構成される。同時に吸着プレート25の吸着力も同時に増すように制御される。
つまり、保護テープPTの反り返って高さ方向の距離が増すことにより、吸着プレート25とチャックテーブル2との間に挟まれている薄型化されたチップ部品CPに過度の押圧力が作用し、破損しないように吸着プレート25が上昇制御されている。同時に、反り返って吸着プレート25との接触面積が低下しないように、反り量に応じて吸着プレート25の吸着力が増すように制御される。
この構成によれば、保護テープPTが反り返って高さ方向への厚みが増してもチップ部品CPを破損させることもなければ、吸着不良による保護テープPTの飛散を防止することもできる。
(2)上記実施例において、紫外線硬化型の粘着テープを保護テープPTとして利用することもできる。この場合、図15に示すように、吸着プレート25は透過性を有し、各チップ部品CPと対応する位置に吸着孔を有する強化ガラスまたはアクリルプレートで構成するともに、保護テープPTに当接する反対側に紫外線照射用の蛍光管36を配備した構成として実現できる。なお、紫外線照射用の蛍光管36は、本発明の紫外線照射ユニットに相当する。また、紫外線照射ユニットの構成は、蛍光管に限定されず、紫外線照射用のランプ、LEDであってもよい。LEDの場合、チップ部品CPと同じ数のLEDを二次元配列することが好ましい。この構成によれば、各チップ部品CP上の保護テープPTに対して、紫外線を均一に照射することができる。
この構成の場合、吸着プレート25を保護テープPTに当接して吸着したまま紫外線が保護テープPTに照射される。所定時間の紫外線照射により接着力が弱められると、保護テープPTを吸着したまま吸着プレート25を上昇させることにより、全てのチップ部品CPから保護テープPTを一括して剥離除去することができる。
(3)上記各実施例では、チャックテーブル2と吸着プレート25を反転させ、下向きになった保護テープPTを下側から吸着プレート25で吸着して除去する構成であってもよい。
この場合、吸着プレート25とは個別の吸着プレートを配備し、チップ部品CPから剥離して吸着プレート25上にある保護テープPTを上側から他の吸着プレートで吸着搬送して除去する構成にすることで実現できる。また、吸着プレート25を反転可能に構成してもよい。
1 … カセット載置部
2 … チャックテーブル
3 … 第1搬送機構
4 … テープ剥離機構
5 … テープ回収機構
25 … 吸着プレート
28 … ヒータ
35 … 制御部
PT … 保護テープ
CP … チップ部品
DT … 粘着テープ
f … フレーム
MF … マウントフレーム
W … 半導体ウエハ

Claims (6)

  1. 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
    所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
    分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
    前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
    前記剥離過程では、前記吸着プレートで保護テープを吸着して剥離除去する
    ことを特徴とする保護テープ剥離方法。
  2. 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
    熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
    分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
    前記接着力低減過程では、加熱手段を備えた吸着プレートを保護テープに当接させて当該保護テープを吸着したまま加熱するとともに、加熱によって発泡膨張して保護テープの厚みが増すに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力も高めてゆき、
    前記剥離過程では、加熱発泡により接着力の弱まった保護テープを吸着手段で吸着して剥離除去する
    ことを特徴とする保護テープ剥離方法。
  3. 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離方法であって、
    紫外線硬化型の前記保護テープを貼付けた状態の基板を所定形状に分断したチップ部品に貼付いている当該保護テープの接着力を弱める接着力低減過程と、
    分断前の基板全域を吸着し、接着力の弱まった前記保護テープを基板表面から剥離する剥離過程を含み、
    前記接着力低減過程では、紫外線照射ユニットを備えた透過性を有する吸着プレートを保護テープに当接させ、当該保護テープを吸着したまま紫外線を照射する
    ことを特徴とする保護テープ剥離方法。
  4. 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
    所定の一軸方向に反り返るように構成された前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
    前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
    接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
    前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
    前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
    をことを特徴とする保護テープ剥離装置。
  5. 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
    熱発泡性の粘着層を有する前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
    前記保護テープの接着力を弱める加熱手段と、
    接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段と、
    前記加熱手段を吸着プレートに埋設して構成し、
    前記吸着プレートを保護テープに当接させて保護テープを熱収縮させるとともに、当該熱収縮率が高まるに連れて吸着プレートを上昇させつつ吸着力を高める制御手段を備えた
    ことを特徴とする保護テープ剥離装置。
  6. 基板の表面に貼付けられた保護テープを剥離する保護テープ剥離装置であって、
    紫外線硬化型の粘着テープである前記保護テープを貼付けた状態で所定形状のチップ部品に分断されてなる前記基板を吸着保持するチャックテーブルと、
    前記保護テープの接着力を弱める接着力低減手段と
    接着力の弱まった前記保護テープをチップ部品から剥離する剥離手段を備え、
    前記接着力低減手段は、さらに前記紫外線照射ユニットを吸着プレートに備えて構成した
    ことを特徴とする保護テープ剥離装置。
JP2009200316A 2009-08-31 2009-08-31 保護テープ剥離方法およびその装置 Expired - Fee Related JP5412214B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009200316A JP5412214B2 (ja) 2009-08-31 2009-08-31 保護テープ剥離方法およびその装置
US12/847,858 US20110048630A1 (en) 2009-08-31 2010-07-30 Protective tape separating method and apparatus
TW099126188A TWI505339B (zh) 2009-08-31 2010-08-06 保護帶剝離方法及其裝置
KR1020100083994A KR101729334B1 (ko) 2009-08-31 2010-08-30 보호 테이프 박리 방법 및 그 장치
CN201010272021.0A CN102005365B (zh) 2009-08-31 2010-08-31 保护带剥离方法及其装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009200316A JP5412214B2 (ja) 2009-08-31 2009-08-31 保護テープ剥離方法およびその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011054650A JP2011054650A (ja) 2011-03-17
JP5412214B2 true JP5412214B2 (ja) 2014-02-12

Family

ID=43623085

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009200316A Expired - Fee Related JP5412214B2 (ja) 2009-08-31 2009-08-31 保護テープ剥離方法およびその装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20110048630A1 (ja)
JP (1) JP5412214B2 (ja)
KR (1) KR101729334B1 (ja)
CN (1) CN102005365B (ja)
TW (1) TWI505339B (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9827756B2 (en) * 2011-04-12 2017-11-28 Tokyo Electron Limited Separation apparatus, separation system, and separation method
KR101275290B1 (ko) * 2011-07-19 2013-06-17 도레이첨단소재 주식회사 열박리형 양면 점착시트
JP5853713B2 (ja) * 2012-01-16 2016-02-09 三菱電機株式会社 保護テープ剥離装置、保護テープ剥離方法
JP6105951B2 (ja) * 2013-01-23 2017-03-29 株式会社ディスコ テープ剥離方法及びテープ剥離装置
JP6260471B2 (ja) * 2014-06-27 2018-01-17 株式会社村田製作所 シート剥離装置及びシート剥離方法
US9475272B2 (en) 2014-10-09 2016-10-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. De-bonding and cleaning process and system
KR101722172B1 (ko) 2014-12-05 2017-03-31 삼성중공업 주식회사 필름 제거 장치
KR101722162B1 (ko) 2014-12-05 2017-03-31 삼성중공업 주식회사 필름 제거 장치
KR20160071613A (ko) 2014-12-12 2016-06-22 삼성중공업 주식회사 선박용 필름 제거장치
CN106710442B (zh) * 2015-10-21 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 背光源分离设备
CN108122814B (zh) * 2017-10-27 2021-04-23 江西乾照光电有限公司 一种led芯片中led芯粒的分选转移方法
KR102505213B1 (ko) * 2017-12-08 2023-03-03 삼성전자주식회사 분리용 전자 장치 및 이의 공정 방법
WO2020168174A1 (en) 2019-02-15 2020-08-20 Uniqarta, Inc Dynamic release tapes for assembly of discrete components
CN110091249A (zh) * 2019-05-06 2019-08-06 西安奕斯伟硅片技术有限公司 一种研磨垫的安装方法、研磨垫的拆卸方法和加热装置
CN215745441U (zh) * 2021-02-02 2022-02-08 三赢科技(深圳)有限公司 拆解装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62204542A (ja) * 1986-03-05 1987-09-09 Hitachi Ltd ウエハ分割方法および装置
JP3955659B2 (ja) * 1997-06-12 2007-08-08 リンテック株式会社 電子部品のダイボンディング方法およびそれに使用されるダイボンディング装置
US7105226B2 (en) * 1998-08-26 2006-09-12 Lintec Corporation Pressure sensitive adhesive double coated sheet and method of use thereof
JP2000129227A (ja) * 1998-10-29 2000-05-09 Lintec Corp 半導体ウエハ保護用粘着シートおよびその使用方法
JP3504543B2 (ja) * 1999-03-03 2004-03-08 株式会社日立製作所 半導体素子の分離方法およびその装置並びに半導体素子の搭載方法
JP4275254B2 (ja) * 1999-06-17 2009-06-10 リンテック株式会社 両面粘着シートに固定された物品の剥離方法および剥離装置
JP2001345368A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Fujitsu Ltd 半導体チップ剥離・搬送方法及び装置
JP2004063645A (ja) * 2002-07-26 2004-02-26 Enzan Seisakusho:Kk 半導体ウェハの保護部材剥離装置
SG116533A1 (en) * 2003-03-26 2005-11-28 Toshiba Kk Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device.
JP4592270B2 (ja) * 2003-10-06 2010-12-01 日東電工株式会社 半導体ウエハの支持材からの剥離方法およびこれを用いた装置
JP4716668B2 (ja) * 2004-04-21 2011-07-06 日東電工株式会社 被着物の加熱剥離方法及び被着物加熱剥離装置
JP2006196823A (ja) * 2005-01-17 2006-07-27 Renesas Technology Corp 半導体素子の製造方法
JP2007134390A (ja) * 2005-11-08 2007-05-31 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法
JP4353975B2 (ja) * 2006-11-29 2009-10-28 日東電工株式会社 粘着シートの貼付・剥離方法及び粘着シートの貼付装置並びに粘着シートの剥離装置
JP4851415B2 (ja) * 2007-10-10 2012-01-11 日東電工株式会社 紫外線照射方法およびこれを用いた装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN102005365A (zh) 2011-04-06
KR20110023821A (ko) 2011-03-08
TW201133580A (en) 2011-10-01
CN102005365B (zh) 2015-11-25
TWI505339B (zh) 2015-10-21
KR101729334B1 (ko) 2017-04-21
US20110048630A1 (en) 2011-03-03
JP2011054650A (ja) 2011-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5412214B2 (ja) 保護テープ剥離方法およびその装置
TWI457976B (zh) 保護帶剝離方法及其裝置
JP4275254B2 (ja) 両面粘着シートに固定された物品の剥離方法および剥離装置
JP4698517B2 (ja) 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置
TWI502636B (zh) 晶圓安裝方法和晶圓安裝裝置
JP5253996B2 (ja) ワーク分割方法およびテープ拡張装置
JP4851415B2 (ja) 紫外線照射方法およびこれを用いた装置
JP2006303012A (ja) 支持板分離装置およびこれを用いた支持板分離方法
JP2002270542A (ja) ダイのピックアップ方法及びピックアップ装置
KR20050045823A (ko) 반도체 웨이퍼 뒷면에의 점착테이프 접착방법 및점착테이프 접착장치
JP2007043048A (ja) 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置
KR20090091661A (ko) 점착 테이프 부착 장치
JP4570084B2 (ja) 基板貼合せ方法
JP2010219219A (ja) 電子部品剥離装置及び電子部品剥離方法
WO2014167948A1 (ja) 封止シート貼付け方法および封止シート貼付け装置
JP2007088038A (ja) 貼替装置及び貼替方法
TW501211B (en) Method and apparatus for processing semiconductor chip
JP2005243700A (ja) 粘着シート貼付け方法およびこれを用いた装置
TW201533784A (zh) 密封片貼附方法
JP2020068326A (ja) 被着体処理方法
JP5489662B2 (ja) 半導体ウェーハの取り扱い方法
CN114999986A (zh) 工件与片材的一体化方法及其一体化装置和半导体产品的制造方法
TW202109703A (zh) 薄片材貼附方法及薄片材貼附裝置
WO2015087762A1 (ja) 封止シート貼付け方法
JP2018160574A (ja) サポート治具の剥離装置及び剥離方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120308

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130327

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130507

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130703

TRDD Decision of grant or rejection written
A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131111

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5412214

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees