JP2000038556A - 半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシート及びその貼り付け方法 - Google Patents
半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシート及びその貼り付け方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウエハ表面の凹凸の差が大きくても、その凹
凸に追従できる半導体ウエハ保持保護用シートを得る。 【解決手段】 半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシ
ートは、半導体ウエハ加工時において、半導体ウエハ表
面に加熱して貼り付けて半導体ウエハを保持保護するた
めのシートであって、融点105℃以下のホットメルト
層Aを少なくとも有している。ホットメルト層Aの片面
に粘着剤層Bが形成されていてもよく、また、ホットメ
ルト層Aの片面、又はホットメルト層Aの片面に粘着剤
層Bが形成されているときはその反対面に、ホットメル
ト層Aよりも20℃以上高い融点を有する補強層Cが形
成されていてもよい。
凸に追従できる半導体ウエハ保持保護用シートを得る。 【解決手段】 半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシ
ートは、半導体ウエハ加工時において、半導体ウエハ表
面に加熱して貼り付けて半導体ウエハを保持保護するた
めのシートであって、融点105℃以下のホットメルト
層Aを少なくとも有している。ホットメルト層Aの片面
に粘着剤層Bが形成されていてもよく、また、ホットメ
ルト層Aの片面、又はホットメルト層Aの片面に粘着剤
層Bが形成されているときはその反対面に、ホットメル
ト層Aよりも20℃以上高い融点を有する補強層Cが形
成されていてもよい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばシリコンや
ガリウム−ヒ素などの半導体ウエハの加工時に使用され
る半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシート及びその
貼り付け方法に関する。より詳細には、半導体ウエハの
回路パターン形成面(以下、単に「パターン面」と称す
る場合がある)の裏面を研磨研削する際に、パターン面
に熱融着により貼り付けてパターン面を保護し、同時に
研磨研削により薄肉化した半導体ウエハを保持するため
のホットメルトシートとその貼り付け方法に関する。
ガリウム−ヒ素などの半導体ウエハの加工時に使用され
る半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシート及びその
貼り付け方法に関する。より詳細には、半導体ウエハの
回路パターン形成面(以下、単に「パターン面」と称す
る場合がある)の裏面を研磨研削する際に、パターン面
に熱融着により貼り付けてパターン面を保護し、同時に
研磨研削により薄肉化した半導体ウエハを保持するため
のホットメルトシートとその貼り付け方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハの回路パターン形成面の反
対側の面に研磨研削加工を施す際、パターン面が損傷し
たり研削くずや研削水などにより汚染されるのを防止す
るため、パターン面を保護しておく必要がある。また、
半導体ウエハ自体が肉薄で脆いのに加え、半導体ウエハ
のパターン表面が凹凸状であるため、わずかな外力によ
っても破損しやすいという問題がある。
対側の面に研磨研削加工を施す際、パターン面が損傷し
たり研削くずや研削水などにより汚染されるのを防止す
るため、パターン面を保護しておく必要がある。また、
半導体ウエハ自体が肉薄で脆いのに加え、半導体ウエハ
のパターン表面が凹凸状であるため、わずかな外力によ
っても破損しやすいという問題がある。
【0003】このような半導体ウエハの加工時における
パターン面の保護と半導体ウエハの破損防止を図るた
め、半導体ウエハのパターン面に粘着シートを貼着する
方法が知られている。例えば、特開昭61−10242
号公報には、ショアーD型硬度が40以下である基材シ
ートの表面に粘着層を設けたシリコンウエハ加工用フィ
ルムが開示されている。また、特開昭61−26062
9号公報には、ショアーD型硬度が40以下である基材
フィルムの片側表面上にショアーD型硬度が40よりも
大きい補助フィルムが積層され、基材フィルムの他方の
表面上に粘着層が配設されたウエハ加工用フィルムが開
示されている。
パターン面の保護と半導体ウエハの破損防止を図るた
め、半導体ウエハのパターン面に粘着シートを貼着する
方法が知られている。例えば、特開昭61−10242
号公報には、ショアーD型硬度が40以下である基材シ
ートの表面に粘着層を設けたシリコンウエハ加工用フィ
ルムが開示されている。また、特開昭61−26062
9号公報には、ショアーD型硬度が40以下である基材
フィルムの片側表面上にショアーD型硬度が40よりも
大きい補助フィルムが積層され、基材フィルムの他方の
表面上に粘着層が配設されたウエハ加工用フィルムが開
示されている。
【0004】しかし、近年、半導体ウエハのパターン表
面の凹凸の差が大きくなってきている。例えば、ポリイ
ミド膜付きのウエハでは、前記凹凸の差が1〜20μm
程度である。また、不良半導体チップを認識するための
不良マーク(バッドマーク)は高低差10〜70μm程
度の凹凸を有している。さらに、パターン状の電極に形
成されるバンプの高さは20〜200μm程度である。
そのため、従来公知の粘着シートを用いる方法では、こ
れらの凹凸に対してシートが追従できず、粘着剤とウエ
ハ表面との間の接着が不十分となる。その結果、ウエハ
加工時において、シートの剥離、パターン面への研削水
や異物の浸入、加工ミス、ディンプルの発生などが起き
たり、さらにはウエハが破損する場合もある。
面の凹凸の差が大きくなってきている。例えば、ポリイ
ミド膜付きのウエハでは、前記凹凸の差が1〜20μm
程度である。また、不良半導体チップを認識するための
不良マーク(バッドマーク)は高低差10〜70μm程
度の凹凸を有している。さらに、パターン状の電極に形
成されるバンプの高さは20〜200μm程度である。
そのため、従来公知の粘着シートを用いる方法では、こ
れらの凹凸に対してシートが追従できず、粘着剤とウエ
ハ表面との間の接着が不十分となる。その結果、ウエハ
加工時において、シートの剥離、パターン面への研削水
や異物の浸入、加工ミス、ディンプルの発生などが起き
たり、さらにはウエハが破損する場合もある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、ウエハ表面の凹凸の差が大きくても、その凹凸
に追従できる半導体ウエハ保持保護用シート、及びその
貼り付け方法を提供することにある。本発明の他の目的
は、ウエハ表面からの剥離性に優れ、ウエハ表面に対す
る汚染性の小さい半導体ウエハ保持保護用シート、及び
その貼り付け方法を提供することにある。本発明のさら
に他の目的は、貼り付け作業性に優れ、しかもウエハに
対する保持性及び補強性の高い半導体ウエハ保持保護用
シート、及びその貼り付け方法を提供することにある。
目的は、ウエハ表面の凹凸の差が大きくても、その凹凸
に追従できる半導体ウエハ保持保護用シート、及びその
貼り付け方法を提供することにある。本発明の他の目的
は、ウエハ表面からの剥離性に優れ、ウエハ表面に対す
る汚染性の小さい半導体ウエハ保持保護用シート、及び
その貼り付け方法を提供することにある。本発明のさら
に他の目的は、貼り付け作業性に優れ、しかもウエハに
対する保持性及び補強性の高い半導体ウエハ保持保護用
シート、及びその貼り付け方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため鋭意検討した結果、特定の融点を有する
ホットメルト層を備えたシートを用いると、半導体ウエ
ハ表面の高低差の大きい凹凸にもよく追従し、しかも研
削加工後にウエハ表面を汚染することなく容易に剥離で
きることを見出し、本発明を完成した。
を達成するため鋭意検討した結果、特定の融点を有する
ホットメルト層を備えたシートを用いると、半導体ウエ
ハ表面の高低差の大きい凹凸にもよく追従し、しかも研
削加工後にウエハ表面を汚染することなく容易に剥離で
きることを見出し、本発明を完成した。
【0007】すなわち、本発明は、半導体ウエハ加工時
において、半導体ウエハ表面に加熱して貼り付けて半導
体ウエハを保持保護するためのシートであって、融点1
05℃以下のホットメルト層Aを少なくとも有する半導
体ウエハ保持保護用ホットメルトシートを提供する。
において、半導体ウエハ表面に加熱して貼り付けて半導
体ウエハを保持保護するためのシートであって、融点1
05℃以下のホットメルト層Aを少なくとも有する半導
体ウエハ保持保護用ホットメルトシートを提供する。
【0008】また、本発明は、半導体ウエハの表面に、
上記の半導体保持保護用ホットメルトシートを、ホット
メルト層Aの面、又はホットメルト層Aの片面に粘着剤
層Bが形成されているときは該粘着剤層Bの面を前記ウ
エハ側にして重ね合わせ、加熱して貼り付ける半導体ウ
エハ保持保護用ホットメルトシートの貼り付け方法を提
供する。
上記の半導体保持保護用ホットメルトシートを、ホット
メルト層Aの面、又はホットメルト層Aの片面に粘着剤
層Bが形成されているときは該粘着剤層Bの面を前記ウ
エハ側にして重ね合わせ、加熱して貼り付ける半導体ウ
エハ保持保護用ホットメルトシートの貼り付け方法を提
供する。
【0009】なお、本明細書では、「融点」とは、AS
TM D 2117に準じて測定した値を意味する。ま
た、「シート」とは、二次元的な拡がりを有するものを
広く包含し、フィルムをも含む意味に用いる。
TM D 2117に準じて測定した値を意味する。ま
た、「シート」とは、二次元的な拡がりを有するものを
広く包含し、フィルムをも含む意味に用いる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、必
要に応じて図面を参照にしつつ詳細に説明する。図1〜
図5は、それぞれ、本発明の半導体ウエハ保持保護用ホ
ットメルトシートの一例を示す概略断面図である。な
お、同一の部材又は部分には同一の符号を付している。
要に応じて図面を参照にしつつ詳細に説明する。図1〜
図5は、それぞれ、本発明の半導体ウエハ保持保護用ホ
ットメルトシートの一例を示す概略断面図である。な
お、同一の部材又は部分には同一の符号を付している。
【0011】図1の例では、半導体ウエハ保持保護用ホ
ットメルトシートは、ホットメルト層1単独で構成され
ている。
ットメルトシートは、ホットメルト層1単独で構成され
ている。
【0012】ホットメルト層1の融点は、105℃以下
(例えば30〜105℃)、好ましくは100℃以下
(例えば30〜100℃)、さらに好ましくは40〜8
0℃程度である。ホットメルト層1の融点が105℃を
越える場合には、ホットメルトシートを半導体ウエハの
パターン表面に加熱により貼り付ける際に、ホットメル
ト層1を十分に溶融させるのに120℃程度以上という
高温を必要とするため、操作性や設備面で不利である。
また、高温で貼り付け処理を行っても、ホットメルト層
1を構成する成分をウエハのパターン面の凹凸部に隈無
く充填させることが困難である。しかも、冷却時にウエ
ハとシートの線膨張係数の差により界面に応力が発生し
やすい。そのため、ウエハ裏面の研削加工時にウエハが
破損しやすい。また、ホットメルト層1がウエハに強固
に接着して、剥離が困難になる場合が多い。なお、ホッ
トメルト層1の融点が30℃未満の場合には、ウエハ裏
面の研削加工時のわずかな温度上昇によりシートが軟化
し、ウエハ保持性が低下して、ウエハ割れが発生しやす
くなる。
(例えば30〜105℃)、好ましくは100℃以下
(例えば30〜100℃)、さらに好ましくは40〜8
0℃程度である。ホットメルト層1の融点が105℃を
越える場合には、ホットメルトシートを半導体ウエハの
パターン表面に加熱により貼り付ける際に、ホットメル
ト層1を十分に溶融させるのに120℃程度以上という
高温を必要とするため、操作性や設備面で不利である。
また、高温で貼り付け処理を行っても、ホットメルト層
1を構成する成分をウエハのパターン面の凹凸部に隈無
く充填させることが困難である。しかも、冷却時にウエ
ハとシートの線膨張係数の差により界面に応力が発生し
やすい。そのため、ウエハ裏面の研削加工時にウエハが
破損しやすい。また、ホットメルト層1がウエハに強固
に接着して、剥離が困難になる場合が多い。なお、ホッ
トメルト層1の融点が30℃未満の場合には、ウエハ裏
面の研削加工時のわずかな温度上昇によりシートが軟化
し、ウエハ保持性が低下して、ウエハ割れが発生しやす
くなる。
【0013】ホットメルト層1の厚さは、ウエハの保持
性や保護性を損なわない範囲で適宜選択できるが、一般
には20〜1000μm、好ましくは50〜500μm
程度である。ホットメルト層1の厚さが20μm未満で
は、ウエハのパターン面の凹凸への追従性が発揮されに
くくなり、ウエハの研削加工時に割れやディンプルの発
生が生じやすくなる。また、ホットメルト層1の厚さが
1000μmを越えると、シートの貼り付けに時間がか
かり、作業効率が低下しやすい。また、シートをウエハ
から剥離する際、シートの曲げ応力により、研削加工後
の薄肉のウエハが破損するおそれが生じる。
性や保護性を損なわない範囲で適宜選択できるが、一般
には20〜1000μm、好ましくは50〜500μm
程度である。ホットメルト層1の厚さが20μm未満で
は、ウエハのパターン面の凹凸への追従性が発揮されに
くくなり、ウエハの研削加工時に割れやディンプルの発
生が生じやすくなる。また、ホットメルト層1の厚さが
1000μmを越えると、シートの貼り付けに時間がか
かり、作業効率が低下しやすい。また、シートをウエハ
から剥離する際、シートの曲げ応力により、研削加工後
の薄肉のウエハが破損するおそれが生じる。
【0014】ホットメルト層1は熱により溶融及び/又
は軟化するホットメルト材で構成される。ホットメルト
材としては、ホットメルト層1の融点を上記範囲にする
ことのできる成分であればよく、例えば、熱可塑性樹
脂、ワックス等が挙げられる。ホットメルト材の融点
は、好ましくは105℃以下(例えば30〜105
℃)、さらに好ましくは30〜100℃、特に好ましく
は40〜80℃程度である。ホットメルト材は、1種で
あってもよく、また2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。ホットメルト層1は、ウエハ保持性、ウエハからの
剥離性、ウエハ表面の汚染防止性などの点から、少なく
とも熱可塑性樹脂を含んでいるのが好ましい。
は軟化するホットメルト材で構成される。ホットメルト
材としては、ホットメルト層1の融点を上記範囲にする
ことのできる成分であればよく、例えば、熱可塑性樹
脂、ワックス等が挙げられる。ホットメルト材の融点
は、好ましくは105℃以下(例えば30〜105
℃)、さらに好ましくは30〜100℃、特に好ましく
は40〜80℃程度である。ホットメルト材は、1種で
あってもよく、また2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。ホットメルト層1は、ウエハ保持性、ウエハからの
剥離性、ウエハ表面の汚染防止性などの点から、少なく
とも熱可塑性樹脂を含んでいるのが好ましい。
【0015】前記熱可塑性樹脂の代表的な例としては、
ポリエチレン(PE);ポリブテン;エチレン−アクリ
ル酸エチル共重合体(EEA)、エチレン−アクリル酸
エステル−無水マレイン酸共重合体(EEAMAH)、
エチレン−メタクリル酸グリシジル共重合体(EGM
A)、エチレン−メタクリル酸共重合体(EMAA)、
エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、アイオノマ
ー樹脂(IONO)などのエチレン共重合体やポリオレ
フィン系変性ポリマーなどのポリオレフィン系共重合
体;ブタジエン系エラストマー(TPE−B)、エステ
ル系エラストマー(TPE−E)、スチレン−イソプレ
ン系エラストマー(TPE−SIS)などの熱可塑性エ
ラストマー;熱可塑性ポリエステル;ポリアミド12系
共重合体などのポリアミド系樹脂;ポリウレタン;ポリ
スチレン系樹脂;セロハン;ポリアクリロニトリル;メ
タクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂;塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体などのポリ塩化ビニル系樹脂などが
挙げられる。
ポリエチレン(PE);ポリブテン;エチレン−アクリ
ル酸エチル共重合体(EEA)、エチレン−アクリル酸
エステル−無水マレイン酸共重合体(EEAMAH)、
エチレン−メタクリル酸グリシジル共重合体(EGM
A)、エチレン−メタクリル酸共重合体(EMAA)、
エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、アイオノマ
ー樹脂(IONO)などのエチレン共重合体やポリオレ
フィン系変性ポリマーなどのポリオレフィン系共重合
体;ブタジエン系エラストマー(TPE−B)、エステ
ル系エラストマー(TPE−E)、スチレン−イソプレ
ン系エラストマー(TPE−SIS)などの熱可塑性エ
ラストマー;熱可塑性ポリエステル;ポリアミド12系
共重合体などのポリアミド系樹脂;ポリウレタン;ポリ
スチレン系樹脂;セロハン;ポリアクリロニトリル;メ
タクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂;塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体などのポリ塩化ビニル系樹脂などが
挙げられる。
【0016】これらの中でも、低密度ポリエチレン(L
DPE)(例えば、密度0.90〜0.96g/c
m3、好ましくは密度0.91〜0.94g/cm3ポリ
エチレン);エチレン−アクリル酸エチル共重合体(E
EA)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)(例
えば、エチレン含量60〜90重量%、酢酸ビニル含量
40〜10重量%のEVA、好ましくは、エチレン含量
50〜95重量%、酢酸ビニル含量50〜5重量%のE
VA)、アイオノマー樹脂(IONO)などのエチレン
共重合体等のポリオレフィン系共重合体;熱可塑性高分
子量ポリエステル(例えば、商品名:バイロンGV10
0、バイロンGV700など);熱可塑性エラストマー
などを用いる場合が多い。上記の熱可塑性樹脂は、単独
で又は2種以上を組み合わせて使用できる。
DPE)(例えば、密度0.90〜0.96g/c
m3、好ましくは密度0.91〜0.94g/cm3ポリ
エチレン);エチレン−アクリル酸エチル共重合体(E
EA)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)(例
えば、エチレン含量60〜90重量%、酢酸ビニル含量
40〜10重量%のEVA、好ましくは、エチレン含量
50〜95重量%、酢酸ビニル含量50〜5重量%のE
VA)、アイオノマー樹脂(IONO)などのエチレン
共重合体等のポリオレフィン系共重合体;熱可塑性高分
子量ポリエステル(例えば、商品名:バイロンGV10
0、バイロンGV700など);熱可塑性エラストマー
などを用いる場合が多い。上記の熱可塑性樹脂は、単独
で又は2種以上を組み合わせて使用できる。
【0017】ホットメルト層1は、ホットメルト材のみ
で構成されていてもよいが、溶融性、剥離性などの特性
を損なわない範囲で他の成分(添加剤)を含んでいても
よい。このような成分としては、例えば、粘着付与剤、
可塑剤、柔軟剤、充填剤、酸化防止剤などが挙げられ
る。ホットメルト層1は1層で構成されていてもよい
が、同種又は異種の複数の層からなる多層構造を有して
いてもよい。
で構成されていてもよいが、溶融性、剥離性などの特性
を損なわない範囲で他の成分(添加剤)を含んでいても
よい。このような成分としては、例えば、粘着付与剤、
可塑剤、柔軟剤、充填剤、酸化防止剤などが挙げられ
る。ホットメルト層1は1層で構成されていてもよい
が、同種又は異種の複数の層からなる多層構造を有して
いてもよい。
【0018】図1に示されるホットメルトシートは、例
えば、ホットメルト材を含む組成物を押出成形などの慣
用の成形法に付してシート化することにより製造でき
る。
えば、ホットメルト材を含む組成物を押出成形などの慣
用の成形法に付してシート化することにより製造でき
る。
【0019】本発明の半導体保持保護用ホットメルトシ
ートは、加熱により溶融及び/又は軟化するホットメル
ト層1を少なくとも有しているので、加熱手段によって
ホットメルト層1を流動させることに伴って半導体ウエ
ハのパターン面に貼り付けることができる。その際、流
動したホットメルト材がパターン面の凹凸部の隈隈にま
で追従して行き渡るので、凹凸が大きくてもその段差を
よく吸収し表面形状に追従できる。そのため、半導体ウ
エハとホットメルトシートとの間に隙間が生じたり、ウ
エハの研削加工時に剥がれることがなく、研削水や異物
の浸入、加工ミス、ディンプルの発生、及びウエハ割れ
などを防止できる。また、ホットメルト層1の融点が1
05℃以下と低いので、簡易な加熱装置及び操作により
ホットメルトシートの貼り付けを行うことができるとと
もに、パターン面の凹凸部の僅かな隙間にも短時間で確
実に樹脂を充填できる。また、ホットメルト層1とウエ
ハとの接着強度が通常適度であり、しかもホットメルト
層1は軽く加熱するだけで柔軟化するため、ウエハ研削
加工後には、ホットメルトシートを容易にしかも確実に
剥離でき、ウエハ表面を汚染しない。
ートは、加熱により溶融及び/又は軟化するホットメル
ト層1を少なくとも有しているので、加熱手段によって
ホットメルト層1を流動させることに伴って半導体ウエ
ハのパターン面に貼り付けることができる。その際、流
動したホットメルト材がパターン面の凹凸部の隈隈にま
で追従して行き渡るので、凹凸が大きくてもその段差を
よく吸収し表面形状に追従できる。そのため、半導体ウ
エハとホットメルトシートとの間に隙間が生じたり、ウ
エハの研削加工時に剥がれることがなく、研削水や異物
の浸入、加工ミス、ディンプルの発生、及びウエハ割れ
などを防止できる。また、ホットメルト層1の融点が1
05℃以下と低いので、簡易な加熱装置及び操作により
ホットメルトシートの貼り付けを行うことができるとと
もに、パターン面の凹凸部の僅かな隙間にも短時間で確
実に樹脂を充填できる。また、ホットメルト層1とウエ
ハとの接着強度が通常適度であり、しかもホットメルト
層1は軽く加熱するだけで柔軟化するため、ウエハ研削
加工後には、ホットメルトシートを容易にしかも確実に
剥離でき、ウエハ表面を汚染しない。
【0020】図2の例では、半導体ウエハ保持保護用ホ
ットメルトシートは、ホットメルト層1と、ホットメル
ト層1の一方の面に形成された粘着剤層2とで構成され
ている。
ットメルトシートは、ホットメルト層1と、ホットメル
ト層1の一方の面に形成された粘着剤層2とで構成され
ている。
【0021】粘着剤層2を構成する粘着剤としては、慣
用の粘着剤、例えば、アクリル系モノマーの共重合体
(アクリル系粘着剤)、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘
着剤などが挙げられる。好ましい粘着剤には、アクリル
系粘着剤が含まれる。粘着剤は1種又は2種以上混合し
て使用できる。
用の粘着剤、例えば、アクリル系モノマーの共重合体
(アクリル系粘着剤)、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘
着剤などが挙げられる。好ましい粘着剤には、アクリル
系粘着剤が含まれる。粘着剤は1種又は2種以上混合し
て使用できる。
【0022】粘着剤を構成するポリマーは架橋構造を有
していてもよい。このようなポリマーは、カルボキシル
基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基などの官能
基を有するモノマー(例えばアクリル系モノマー)を含
むモノマー混合物を架橋剤の存在下で重合させることに
より得られる。架橋構造を有するポリマーを含む粘着剤
層2を備えたホットメルトシートでは、自己保持性が向
上するので、シートの変形を防止でき、シートの平板状
態を維持できる。そのため、半導体ウエハに正確に且つ
自動貼り付け装置などを用いて簡易に貼り付けることが
できる。
していてもよい。このようなポリマーは、カルボキシル
基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基などの官能
基を有するモノマー(例えばアクリル系モノマー)を含
むモノマー混合物を架橋剤の存在下で重合させることに
より得られる。架橋構造を有するポリマーを含む粘着剤
層2を備えたホットメルトシートでは、自己保持性が向
上するので、シートの変形を防止でき、シートの平板状
態を維持できる。そのため、半導体ウエハに正確に且つ
自動貼り付け装置などを用いて簡易に貼り付けることが
できる。
【0023】また、粘着剤として紫外線硬化型の粘着剤
を用いることもできる。この粘着剤は、例えば、粘着性
物質に、紫外線照射により硬化して低接着性物質を形成
するオリゴマー成分を配合することにより得られる。粘
着剤層2を紫外線硬化型粘着剤で構成すると、ホットメ
ルトシートの貼り付け時には、前記オリゴマー成分によ
り粘着剤に塑性流動性が付与されるため、貼り付けが容
易になるとともに、シート剥離時には、紫外線の照射に
より低接着性物質が生成するため、ウエハから容易に剥
離できる。
を用いることもできる。この粘着剤は、例えば、粘着性
物質に、紫外線照射により硬化して低接着性物質を形成
するオリゴマー成分を配合することにより得られる。粘
着剤層2を紫外線硬化型粘着剤で構成すると、ホットメ
ルトシートの貼り付け時には、前記オリゴマー成分によ
り粘着剤に塑性流動性が付与されるため、貼り付けが容
易になるとともに、シート剥離時には、紫外線の照射に
より低接着性物質が生成するため、ウエハから容易に剥
離できる。
【0024】さらに、粘着剤層2には、加熱により発泡
又は膨張する成分を含有させてもよい。熱発泡性又は膨
張性成分としては、例えば、イソブタン、プロパン等の
加熱により容易にガス化する物質を弾性を有する殻内に
内包させた熱膨張性微小球[例えば、商品名:マイクロ
スフィア、松本油脂製薬(株)製など]などが例示でき
る。粘着剤層2にこのような熱発泡性又は膨張性成分を
含有させると、ウエハ研削加工後、加熱処理により粘着
剤層2が膨張して、粘着剤層2とウエハとの接着面積が
著しく減少するため、ウエハから容易にホットメルトシ
ートを剥離できる。
又は膨張する成分を含有させてもよい。熱発泡性又は膨
張性成分としては、例えば、イソブタン、プロパン等の
加熱により容易にガス化する物質を弾性を有する殻内に
内包させた熱膨張性微小球[例えば、商品名:マイクロ
スフィア、松本油脂製薬(株)製など]などが例示でき
る。粘着剤層2にこのような熱発泡性又は膨張性成分を
含有させると、ウエハ研削加工後、加熱処理により粘着
剤層2が膨張して、粘着剤層2とウエハとの接着面積が
著しく減少するため、ウエハから容易にホットメルトシ
ートを剥離できる。
【0025】粘着剤層2の厚さは、ウエハの保持性や保
護性を損なわない範囲で適宜設定できるが、通常1〜1
00μm、好ましくは2〜60μm程度である。粘着剤
層2の厚さが100μmを越えると、ホットメルトシー
トをウエハに加熱貼付する際、ウエハ表面の凹凸に追従
しにくくなる。粘着剤層2の厚さt2とホットメルト層
1の厚さt1との比は、例えばt2/t1=0.01〜
0.5、好ましくは0.02〜0.3程度である。
護性を損なわない範囲で適宜設定できるが、通常1〜1
00μm、好ましくは2〜60μm程度である。粘着剤
層2の厚さが100μmを越えると、ホットメルトシー
トをウエハに加熱貼付する際、ウエハ表面の凹凸に追従
しにくくなる。粘着剤層2の厚さt2とホットメルト層
1の厚さt1との比は、例えばt2/t1=0.01〜
0.5、好ましくは0.02〜0.3程度である。
【0026】図2のホットメルトシートは、例えば、前
記ホットメルト材を含む組成物を押出成形などの慣用の
成形法に付して得られるシート(ホットメルト層1に対
応)の片面に、粘着剤を塗布し、乾燥して粘着剤層3を
形成することにより製造できる。
記ホットメルト材を含む組成物を押出成形などの慣用の
成形法に付して得られるシート(ホットメルト層1に対
応)の片面に、粘着剤を塗布し、乾燥して粘着剤層3を
形成することにより製造できる。
【0027】粘着剤層3を備えたホットメルトシートで
は、粘着剤層3がウエハとホットメルト層1との間に介
在しているため、ウエハの研削加工後、ホットメルトシ
ートを容易に、しかもホットメルト材の破片等を残すこ
となく確実に剥離できる。
は、粘着剤層3がウエハとホットメルト層1との間に介
在しているため、ウエハの研削加工後、ホットメルトシ
ートを容易に、しかもホットメルト材の破片等を残すこ
となく確実に剥離できる。
【0028】図3の半導体ウエハ保持保護用ホットメル
トシートは、ホットメルト層1と、ホットメルト層1の
一方の面に形成された補強層3とで構成されている。
トシートは、ホットメルト層1と、ホットメルト層1の
一方の面に形成された補強層3とで構成されている。
【0029】補強層3は、ホットメルト層1よりも20
℃以上、好ましくは30℃以上の融点を有している。補
強層3を構成する材料としては、融点が上記の条件を満
たすものであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)などのポリエステル;ポリ
エチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)などのポリ
オレフィン系樹脂;ポリイミド(PI);ポリエーテル
エーテルケトン(PEEK);ポリ塩化ビニル(PV
C)などのポリ塩化ビニル系樹脂;ポリ塩化ビニリデン
系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリウレタン;ポリスチレ
ン系樹脂;アクリル系樹脂;フッ素樹脂;セルロース系
樹脂;ポリカーボネート系樹脂などの熱可塑性樹脂のほ
か、熱硬化性樹脂、金属箔、紙などが例示できる。な
お、補強層3を構成する材料として、上記の融点の条件
を充足する限り、前記ホットメルト層1を構成する熱可
塑性樹脂として例示した樹脂を用いることもできる。こ
れらの材料は、単独で又は2種以上組み合わせて使用で
きる。補強層3は、同種の又は異種の材料からなる複数
の層により多層構造としてもよい。
℃以上、好ましくは30℃以上の融点を有している。補
強層3を構成する材料としては、融点が上記の条件を満
たすものであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)などのポリエステル;ポリ
エチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)などのポリ
オレフィン系樹脂;ポリイミド(PI);ポリエーテル
エーテルケトン(PEEK);ポリ塩化ビニル(PV
C)などのポリ塩化ビニル系樹脂;ポリ塩化ビニリデン
系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリウレタン;ポリスチレ
ン系樹脂;アクリル系樹脂;フッ素樹脂;セルロース系
樹脂;ポリカーボネート系樹脂などの熱可塑性樹脂のほ
か、熱硬化性樹脂、金属箔、紙などが例示できる。な
お、補強層3を構成する材料として、上記の融点の条件
を充足する限り、前記ホットメルト層1を構成する熱可
塑性樹脂として例示した樹脂を用いることもできる。こ
れらの材料は、単独で又は2種以上組み合わせて使用で
きる。補強層3は、同種の又は異種の材料からなる複数
の層により多層構造としてもよい。
【0030】図3に示されるホットメルトシートは、例
えば、ホットメルト層1を構成するホットメルト材から
なるシート又は該ホットメルト材を含む組成物と、前記
補強層3を構成する材料からなるシート又は該材料を含
む樹脂組成物とから、例えば、押出ラミネート法、ドラ
イラミネート法などのラミネート法やコーティング法な
どの慣用の方法を利用することにより製造できる。
えば、ホットメルト層1を構成するホットメルト材から
なるシート又は該ホットメルト材を含む組成物と、前記
補強層3を構成する材料からなるシート又は該材料を含
む樹脂組成物とから、例えば、押出ラミネート法、ドラ
イラミネート法などのラミネート法やコーティング法な
どの慣用の方法を利用することにより製造できる。
【0031】補強層3を有するホットメルトシートで
は、加熱貼り付け時において、補強層3は溶融しないの
で、補強層3の上から圧力をかけてホットメルトシート
を貼り付けることができる。そのため、貼り付け時の作
業性が良好であるだけでなく、ウエハ表面の凹凸に対す
る追従性が大幅に向上する。また、押圧によりホットメ
ルトシートをウエハに貼り付ける際、ホットメルト層1
は溶融又は軟化してウエハ表面の形状に追従するもの
の、ホットメルトシートの表面は溶融しない補強層3に
より平板性を維持できるため、ウエハ加工時におけるデ
ィンプルの発生を低減できる。さらに、ウエハ加工後に
おいても、補強層3によりウエハに対する補強保持性を
向上できる。
は、加熱貼り付け時において、補強層3は溶融しないの
で、補強層3の上から圧力をかけてホットメルトシート
を貼り付けることができる。そのため、貼り付け時の作
業性が良好であるだけでなく、ウエハ表面の凹凸に対す
る追従性が大幅に向上する。また、押圧によりホットメ
ルトシートをウエハに貼り付ける際、ホットメルト層1
は溶融又は軟化してウエハ表面の形状に追従するもの
の、ホットメルトシートの表面は溶融しない補強層3に
より平板性を維持できるため、ウエハ加工時におけるデ
ィンプルの発生を低減できる。さらに、ウエハ加工後に
おいても、補強層3によりウエハに対する補強保持性を
向上できる。
【0032】図4の例では、半導体ウエハ保持保護用ホ
ットメルトシートは、ホットメルト層1と、ホットメル
ト層1の一方の面に形成された粘着剤層2と、ホットメ
ルト層1の他方の面に形成された補強層3とで構成され
ている。このホットメルトシートは、図1〜図3のホッ
トメルトシートと同様の方法により、又はそれらの方法
を適宜組み合わせることにより製造できる。このような
ホットメルトシートは、粘着剤層2と補強層3とを有し
ているので、前記図2及び図3のホットメルトシートの
利点を共に有する。
ットメルトシートは、ホットメルト層1と、ホットメル
ト層1の一方の面に形成された粘着剤層2と、ホットメ
ルト層1の他方の面に形成された補強層3とで構成され
ている。このホットメルトシートは、図1〜図3のホッ
トメルトシートと同様の方法により、又はそれらの方法
を適宜組み合わせることにより製造できる。このような
ホットメルトシートは、粘着剤層2と補強層3とを有し
ているので、前記図2及び図3のホットメルトシートの
利点を共に有する。
【0033】図5の半導体ウエハ保持保護用ホットメル
トシートは、粘着剤層2の表面に剥離フィルム層4が形
成されている点でのみ、図4のホットメルトシートと相
違する。剥離フィルム層4を構成する剥離フィルムとし
ては、例えば、シリコーン処理又はフッ素処理されたプ
ラスチックフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポ
リプロピレンなど)又は紙;ポリエチレン、ポリプロピ
レンなどの非極性材料(特に非極性ポリマー)などが挙
げられる。剥離フィルム層3は、例えば、前記慣用のラ
ミネート法又はコーティング法により形成できる。
トシートは、粘着剤層2の表面に剥離フィルム層4が形
成されている点でのみ、図4のホットメルトシートと相
違する。剥離フィルム層4を構成する剥離フィルムとし
ては、例えば、シリコーン処理又はフッ素処理されたプ
ラスチックフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポ
リプロピレンなど)又は紙;ポリエチレン、ポリプロピ
レンなどの非極性材料(特に非極性ポリマー)などが挙
げられる。剥離フィルム層3は、例えば、前記慣用のラ
ミネート法又はコーティング法により形成できる。
【0034】なお、剥離フィルム層4は、図1〜図4の
ホットメルトシートの粘着剤層2又はホットメルト層1
の何れの表面に設けることもできる。剥離フィルム層4
を設けることにより、使用するまでの間、粘着剤層2や
ホットメルト層1を保護できる。
ホットメルトシートの粘着剤層2又はホットメルト層1
の何れの表面に設けることもできる。剥離フィルム層4
を設けることにより、使用するまでの間、粘着剤層2や
ホットメルト層1を保護できる。
【0035】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホットメ
ルトシートは、巻回してテープ状としてもよい。
ルトシートは、巻回してテープ状としてもよい。
【0036】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホットメ
ルトシートは、半導体ウエハの表面(回路パターン形成
面)に、ホットメルト層1の面、又はホットメルト層1
の片面に粘着剤層2が形成されているときは該粘着剤層
2の面が前記ウエハ側となるように重ね合わせ、加熱し
て前記ホットメルト層1を流動させ、次いで冷却するこ
とにより、半導体ウエハに貼り付けることができる。
ルトシートは、半導体ウエハの表面(回路パターン形成
面)に、ホットメルト層1の面、又はホットメルト層1
の片面に粘着剤層2が形成されているときは該粘着剤層
2の面が前記ウエハ側となるように重ね合わせ、加熱し
て前記ホットメルト層1を流動させ、次いで冷却するこ
とにより、半導体ウエハに貼り付けることができる。
【0037】より具体的には、例えば、(i)加熱手段
を備えた加熱板(加熱テーブル)上にウエハを載置し、
その上にホットメルトシートを、ホットメルト層1(粘
着剤層2を有するシートでは粘着剤層2)がウエハ側と
なるように重ね、前記加熱板をホットメルト層1が溶融
又は軟化して流動するのに十分な温度(例えば、ホット
メルト層1の融点よりも10℃以上、好ましくは15℃
以上高い温度)にまで加熱し、次いで放冷などにより冷
却することにより、ホットメルトシートをウエハに貼り
付けることができる。なお、必要に応じて、圧着ロール
などの押圧手段により押圧しながら貼り付けることもで
きる。加熱板は、予め適当な温度、例えば貼り付け温度
にまで加熱しておいてもよい。
を備えた加熱板(加熱テーブル)上にウエハを載置し、
その上にホットメルトシートを、ホットメルト層1(粘
着剤層2を有するシートでは粘着剤層2)がウエハ側と
なるように重ね、前記加熱板をホットメルト層1が溶融
又は軟化して流動するのに十分な温度(例えば、ホット
メルト層1の融点よりも10℃以上、好ましくは15℃
以上高い温度)にまで加熱し、次いで放冷などにより冷
却することにより、ホットメルトシートをウエハに貼り
付けることができる。なお、必要に応じて、圧着ロール
などの押圧手段により押圧しながら貼り付けることもで
きる。加熱板は、予め適当な温度、例えば貼り付け温度
にまで加熱しておいてもよい。
【0038】また、(ii)温度調節可能な容器(例えば
オートクレーブなど)中で、ウエハとホットメルトシー
トとを上記のように重ね、容器内を上記の温度にまで加
熱し、次いで冷却することにより、ホットメルトシート
をウエハに貼り付けることができる。この際、押圧手段
により押圧しながら貼り付けてもよい。また、粘着剤層
2を有するホットメルトシートでは、ウエハとホットメ
ルトシートとを粘着剤層2により仮貼り付けして前記容
器内に載置し、加熱により本貼り付けを行うこともでき
る。
オートクレーブなど)中で、ウエハとホットメルトシー
トとを上記のように重ね、容器内を上記の温度にまで加
熱し、次いで冷却することにより、ホットメルトシート
をウエハに貼り付けることができる。この際、押圧手段
により押圧しながら貼り付けてもよい。また、粘着剤層
2を有するホットメルトシートでは、ウエハとホットメ
ルトシートとを粘着剤層2により仮貼り付けして前記容
器内に載置し、加熱により本貼り付けを行うこともでき
る。
【0039】さらに、(iii)真空チャンバー内で、上
記(i)と同様にして、ホットメルトシートをウエハに
貼り付けることもできる。
記(i)と同様にして、ホットメルトシートをウエハに
貼り付けることもできる。
【0040】貼り付けられたホットメルトシートは、半
導体ウエハの研削加工後、人力又は機械により容易に剥
離することができる。ホットメルトシートの剥離に際
し、ウエハとホットメルトシートとの一体物を加熱する
と、ホットメルト層が柔軟化して剥離が一層容易とな
る。加熱は、温水や温風を用いることもできる。また、
ホットメルト層1を溶融又は軟化させたり、適当な溶剤
に溶解させることにより、ホットメルトシートをウエハ
から除去することもできる。
導体ウエハの研削加工後、人力又は機械により容易に剥
離することができる。ホットメルトシートの剥離に際
し、ウエハとホットメルトシートとの一体物を加熱する
と、ホットメルト層が柔軟化して剥離が一層容易とな
る。加熱は、温水や温風を用いることもできる。また、
ホットメルト層1を溶融又は軟化させたり、適当な溶剤
に溶解させることにより、ホットメルトシートをウエハ
から除去することもできる。
【0041】
【発明の効果】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホット
メルトシート及びその貼り付け方法によれば、保持保護
用シートが特定融点のホットメルト層を少なくとも有し
ており、該ホットメルト層の加熱により半導体ウエハと
保持保護用シートとを貼り付けるので、ウエハ表面の凹
凸差が大きくても、その凹凸によく追従できる。そのた
め、ウエハと保護保持用シートとが隙間なく接着され、
ウエハ裏面の研削加工時における、ウエハパターン面へ
の研削水や異物の浸入、加工ミス、ディンプルの発生、
ウエハ割れなどを防止できる。
メルトシート及びその貼り付け方法によれば、保持保護
用シートが特定融点のホットメルト層を少なくとも有し
ており、該ホットメルト層の加熱により半導体ウエハと
保持保護用シートとを貼り付けるので、ウエハ表面の凹
凸差が大きくても、その凹凸によく追従できる。そのた
め、ウエハと保護保持用シートとが隙間なく接着され、
ウエハ裏面の研削加工時における、ウエハパターン面へ
の研削水や異物の浸入、加工ミス、ディンプルの発生、
ウエハ割れなどを防止できる。
【0042】また、ウエハと保護保持用シートとが適度
な接着強度で接着し、しかも保護保持用シートは例えば
軽く加熱するだけで柔軟化するので、ウエハ表面から容
易に、しかもウエハ表面を汚染することなく剥離でき
る。さらに、貼り付け作業性に優れるとともに、ウエハ
に対して高い補強性、保持性を有する。
な接着強度で接着し、しかも保護保持用シートは例えば
軽く加熱するだけで柔軟化するので、ウエハ表面から容
易に、しかもウエハ表面を汚染することなく剥離でき
る。さらに、貼り付け作業性に優れるとともに、ウエハ
に対して高い補強性、保持性を有する。
【0043】粘着剤層を有するホットメルトシートで
は、ウエハからの剥離性を向上できるとともに、ウエハ
表面の汚染を顕著に抑制できる。補強層を有するホット
メルトシートでは、加熱貼り付け時の作業性、ウエハ研
削加工時の加工性、ウエハに対する補強保持性がさらに
向上する。
は、ウエハからの剥離性を向上できるとともに、ウエハ
表面の汚染を顕著に抑制できる。補強層を有するホット
メルトシートでは、加熱貼り付け時の作業性、ウエハ研
削加工時の加工性、ウエハに対する補強保持性がさらに
向上する。
【0044】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてより詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。なお、各実施例において、半導体ウエハ
として、ウエハサイズ5インチ、厚さ625μm(バン
プを含まず)のウエハであって、片面に高さ100〜1
50μm、ピッチ250μmのバンプが形成されたもの
を用いた。
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。なお、各実施例において、半導体ウエハ
として、ウエハサイズ5インチ、厚さ625μm(バン
プを含まず)のウエハであって、片面に高さ100〜1
50μm、ピッチ250μmのバンプが形成されたもの
を用いた。
【0045】粘着剤として以下のものを用いた。 A1(溶液型感圧接着剤):アクリル酸ブチル95重量
部、アクリル酸5重量部及びアゾビスイソブチロニトリ
ル0.2重量部を酢酸エチル中で一括重合して得られた
ポリマー100重量部に対して、イソシアネート系架橋
剤5重量部及びエポキシ系架橋剤0.1重量部を添加し
て得られた粘着剤 A2(エマルジョン型感圧接着剤):アクリル酸ブチル7
0重量部、メタクリル酸ブチル28重量部、アクリル酸
2重量部及び2,2−アゾビス(2−アミジノプロパ
ン)ジヒドロクロライド(開始剤)0.1重量部を、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル(乳化剤)
0.5重量部添加した水100重量部に加えて乳化重合
して得られたエマルジョンに、その固形分100重量部
に対してメラミン架橋剤4重量部を添加して得られた粘
着剤 A3(UV硬化型粘着剤):前記A1と同様にして得られた
ポリマー100重量部に対して、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート100重量部及び光重合開始剤5
重量部を添加して得られた粘着剤 ホットメルトシートのウエハ表面(バンプ形成面)への
「加熱しての」貼り付けは次の方法によった。 M1(加熱しつつ貼り付け):ホットメルトシートのホッ
トメルト層が溶融軟化して流動する温度まで加熱した加
熱テーブル上にウエハを載置し、その上にホットメルト
シートを、ホットメルト層(粘着剤層を有する場合は該
粘着剤層)がウエハ側となるようにして重ね、圧着ロー
ルによりホットメルトシートを押圧して貼り付けた。 M2(貼り付け後加熱):ウエハ上にホットメルトシート
を粘着剤層がウエハ側となるようにして重ね、仮貼付し
た後、ホットメルトシートのホットメルト層が溶融軟化
して流動する温度にまで加熱したオートクレーブ内に入
れて、融着させた。 M3(加熱しつつ貼り付け):真空チャンバー内で、ホッ
トメルトシートのホットメルト層が溶融軟化して流動す
る温度まで加熱した加熱テーブル上にウエハを載置し、
その上にホットメルトシートを、ホットメルト層(粘着
剤層を有する場合は該粘着剤層)がウエハ側となるよう
にして重ね、融着させた。
部、アクリル酸5重量部及びアゾビスイソブチロニトリ
ル0.2重量部を酢酸エチル中で一括重合して得られた
ポリマー100重量部に対して、イソシアネート系架橋
剤5重量部及びエポキシ系架橋剤0.1重量部を添加し
て得られた粘着剤 A2(エマルジョン型感圧接着剤):アクリル酸ブチル7
0重量部、メタクリル酸ブチル28重量部、アクリル酸
2重量部及び2,2−アゾビス(2−アミジノプロパ
ン)ジヒドロクロライド(開始剤)0.1重量部を、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル(乳化剤)
0.5重量部添加した水100重量部に加えて乳化重合
して得られたエマルジョンに、その固形分100重量部
に対してメラミン架橋剤4重量部を添加して得られた粘
着剤 A3(UV硬化型粘着剤):前記A1と同様にして得られた
ポリマー100重量部に対して、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート100重量部及び光重合開始剤5
重量部を添加して得られた粘着剤 ホットメルトシートのウエハ表面(バンプ形成面)への
「加熱しての」貼り付けは次の方法によった。 M1(加熱しつつ貼り付け):ホットメルトシートのホッ
トメルト層が溶融軟化して流動する温度まで加熱した加
熱テーブル上にウエハを載置し、その上にホットメルト
シートを、ホットメルト層(粘着剤層を有する場合は該
粘着剤層)がウエハ側となるようにして重ね、圧着ロー
ルによりホットメルトシートを押圧して貼り付けた。 M2(貼り付け後加熱):ウエハ上にホットメルトシート
を粘着剤層がウエハ側となるようにして重ね、仮貼付し
た後、ホットメルトシートのホットメルト層が溶融軟化
して流動する温度にまで加熱したオートクレーブ内に入
れて、融着させた。 M3(加熱しつつ貼り付け):真空チャンバー内で、ホッ
トメルトシートのホットメルト層が溶融軟化して流動す
る温度まで加熱した加熱テーブル上にウエハを載置し、
その上にホットメルトシートを、ホットメルト層(粘着
剤層を有する場合は該粘着剤層)がウエハ側となるよう
にして重ね、融着させた。
【0046】実施例1 ホットメルトシートとして、融点98℃、厚さ150μ
m、密度0.917のポリエチレンフィルム(PE−
1)を、貼りつけ方法M3により140℃の温度でウエハ
に貼り付けた。次いで、ウエハの裏面を厚さが280μ
mとなるまで研削した後、ホットメルトシート背面に剥
離用テープを貼り付けて、該テープとともにホットメル
トシートを剥離した。
m、密度0.917のポリエチレンフィルム(PE−
1)を、貼りつけ方法M3により140℃の温度でウエハ
に貼り付けた。次いで、ウエハの裏面を厚さが280μ
mとなるまで研削した後、ホットメルトシート背面に剥
離用テープを貼り付けて、該テープとともにホットメル
トシートを剥離した。
【0047】実施例2 融点65℃、厚さ100μmのエチレン−アクリル酸エ
チル共重合体フィルム(EEA)に、粘着剤A2を乾燥厚
みが5μmとなるように塗布してホットメルトシートを
作製した。このホットメルトシートを貼り付け方法M2に
より90℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実施
例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメルト
シートを剥離した。
チル共重合体フィルム(EEA)に、粘着剤A2を乾燥厚
みが5μmとなるように塗布してホットメルトシートを
作製した。このホットメルトシートを貼り付け方法M2に
より90℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実施
例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメルト
シートを剥離した。
【0048】実施例3 融点60℃、厚さ140μmのエチレン−酢酸ビニル共
重合体(エチレン含量:67重量%)フィルム(EVA
−1)の一方の面に、粘着剤A1を乾燥厚みが15μmと
なるように塗布し、他方の面に、補強層として、融点2
50℃、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(PET)を貼着してホットメルトシートを作製
した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M1により
80℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実施例1
と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメルトシー
トを剥離した。
重合体(エチレン含量:67重量%)フィルム(EVA
−1)の一方の面に、粘着剤A1を乾燥厚みが15μmと
なるように塗布し、他方の面に、補強層として、融点2
50℃、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(PET)を貼着してホットメルトシートを作製
した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M1により
80℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実施例1
と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメルトシー
トを剥離した。
【0049】実施例4 融点60℃、厚さ200μmのエチレン−酢酸ビニル共
重合体(エチレン含量:67重量%)フィルム(EVA
−2)の一方の面に、粘着剤A1を乾燥厚みが40μmと
なるように塗布し、他方の面に、補強層として、厚さ4
0μmのアルミニウム箔を貼着してホットメルトシート
を作製した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M1
により80℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実
施例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメル
トシートを剥離した。
重合体(エチレン含量:67重量%)フィルム(EVA
−2)の一方の面に、粘着剤A1を乾燥厚みが40μmと
なるように塗布し、他方の面に、補強層として、厚さ4
0μmのアルミニウム箔を貼着してホットメルトシート
を作製した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M1
により80℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実
施例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメル
トシートを剥離した。
【0050】実施例5 融点90℃、厚さ180μmのエチレン−酢酸ビニル共
重合体(エチレン含量:86重量%)フィルム(EVA
−3)の一方の面に、補強層として、融点170℃、厚
さ40μmのポリプロピレンフィルム(PP−1)を貼
着してホットメルトシートを作製した。このホットメル
トシートを貼りつけ方法M3により130℃の温度でウエ
ハに貼り付けた。次いで、実施例1と同様にして、ウエ
ハを研削した後、ホットメルトシートを剥離した。
重合体(エチレン含量:86重量%)フィルム(EVA
−3)の一方の面に、補強層として、融点170℃、厚
さ40μmのポリプロピレンフィルム(PP−1)を貼
着してホットメルトシートを作製した。このホットメル
トシートを貼りつけ方法M3により130℃の温度でウエ
ハに貼り付けた。次いで、実施例1と同様にして、ウエ
ハを研削した後、ホットメルトシートを剥離した。
【0051】実施例6 融点90℃、厚さ300μmのアイオノマーフィルム
(IONO)の一方の面に、粘着剤A3を乾燥厚みが40
μmとなるように塗布し、他方の面に、補強層として、
融点250℃、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(PET)を貼着してホットメルトシート
を作製した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M1
により100℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、
実施例1と同様にしてウエハを研削した後、ホットメル
トシートにUVを照射して粘着剤層を硬化させ、ホット
メルトシートを剥離した。
(IONO)の一方の面に、粘着剤A3を乾燥厚みが40
μmとなるように塗布し、他方の面に、補強層として、
融点250℃、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(PET)を貼着してホットメルトシート
を作製した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M1
により100℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、
実施例1と同様にしてウエハを研削した後、ホットメル
トシートにUVを照射して粘着剤層を硬化させ、ホット
メルトシートを剥離した。
【0052】比較例1 融点118℃、厚さ100μm、密度0.932のポリ
エチレンフィルム(PE−2)を、貼りつけ方法M1によ
り160℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実施
例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメルト
シートを剥離した。
エチレンフィルム(PE−2)を、貼りつけ方法M1によ
り160℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、実施
例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメルト
シートを剥離した。
【0053】比較例2 融点170℃、厚さ100μmのポリプロピレンフィル
ム(PP−2)の一方の面に、粘着剤A2を乾燥厚みが5
μmとなるように塗布し、他方の面に、補強層として、
融点250℃、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(PET)を貼着してホットメルトシート
を作製した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M3
により200℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、
実施例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメ
ルトシートを剥離した。
ム(PP−2)の一方の面に、粘着剤A2を乾燥厚みが5
μmとなるように塗布し、他方の面に、補強層として、
融点250℃、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(PET)を貼着してホットメルトシート
を作製した。このホットメルトシートを貼りつけ方法M3
により200℃の温度でウエハに貼り付けた。次いで、
実施例1と同様にして、ウエハを研削した後、ホットメ
ルトシートを剥離した。
【0054】評価 上記実施例及び比較例において、ウエハの研削加工中に
研削水がホットメルトシートとウエハとの間に浸入した
か否か、ウエハの研削加工中にウエハ割れが発生したか
否か、及びホットメルトシートの剥離時に、剥離用テー
プとともに容易に剥離したか否かについて観察し、その
結果を表1に示した。
研削水がホットメルトシートとウエハとの間に浸入した
か否か、ウエハの研削加工中にウエハ割れが発生したか
否か、及びホットメルトシートの剥離時に、剥離用テー
プとともに容易に剥離したか否かについて観察し、その
結果を表1に示した。
【0055】
【表1】
【図1】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホットメルト
シートの一例を示す概略断面図である。
シートの一例を示す概略断面図である。
【図2】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホットメルト
シートの他の例を示す概略断面図である。
シートの他の例を示す概略断面図である。
【図3】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホットメルト
シートのさらに他の例を示す概略断面図である。
シートのさらに他の例を示す概略断面図である。
【図4】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホットメルト
シートの別の例を示す概略断面図である。
シートの別の例を示す概略断面図である。
【図5】本発明の半導体ウエハ保持保護用ホットメルト
シートのさらに別の例を示す概略断面図である。
シートのさらに別の例を示す概略断面図である。
1 ホットメルト層 2 粘着剤層 3 補強層 4 剥離フィルム層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J004 AA04 AA05 AA06 AA07 AA09 AA10 AA11 AA14 AA15 AA16 AB01 AB03 CA02 CA03 CA04 CA05 CA06 CA08 CB02 CC02 CE01 DA01 DA02 DA03 DA04 DB02 FA04 FA05 FA08 4J040 CA001 DA021 DA051 DA061 DA071 DA171 DF021 DF031 ED021 JA09 JA11 JB01 JB09 LA06 LA08 MA01 MA02 MB05 MB08 NA20 PA20 PA23 PA29 PA30 PA31 PA35 PA42 PB05 PB07 PB08 PB11
Claims (4)
- 【請求項1】 半導体ウエハ加工時において、半導体ウ
エハ表面に加熱して貼り付けて半導体ウエハを保持保護
するためのシートであって、融点105℃以下のホット
メルト層Aを少なくとも有する半導体ウエハ保持保護用
ホットメルトシート。 - 【請求項2】 ホットメルト層Aの片面に粘着剤層Bが
形成されている請求項1記載の半導体ウエハ保持保護用
ホットメルトシート。 - 【請求項3】 ホットメルト層Aの片面、又はホットメ
ルト層Aの片面に粘着剤層Bが形成されているときはそ
の反対面に、ホットメルト層Aよりも20℃以上高い融
点を有する補強層Cが形成されている請求項1又は2記
載の半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシート。 - 【請求項4】 半導体ウエハの表面に、請求項1〜3の
何れかの項に記載の半導体保持保護用ホットメルトシー
トを、ホットメルト層Aの面、又はホットメルト層Aの
片面に粘着剤層Bが形成されているときは該粘着剤層B
の面を前記ウエハ側にして重ね合わせ、加熱して貼り付
ける半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシートの貼り
付け方法。
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