JP4647830B2 - 被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置 - Google Patents

被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、環状の支持フレームに装着された粘着テープに貼着された半導体ウエーハ等の被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば、半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し、該回路が形成された各領域を所定の切断ラインに沿ってダイシング装置等の分割装置によって分割することにより個々の半導体チップを製造している。半導体ウエーハを有効に用いるためには、分割の際の切削幅を如何に小さくするかが重要である。半導体ウエーハを分割する分割装置としては一般にダイシング装置が用いられており、このダイシング装置は厚さが15μm程度の切削ブレードによって半導体ウエーハを切削する。また、レーザー光線によって半導体ウエーハに形成された切断ラインにショックを与え、切断ラインを割断して個々の半導体チップに形成する方法も用いられている。このように、半導体ウエーハをダイシング装置等の分割装置によって分割する場合、分割された半導体チップがバラバラにならないように予め半導体ウエーハは粘着テープを介して支持フレームに支持されている。支持フレームは、半導体ウエーハを収容する開口部とテープが貼着されるテープ貼着部とを備えた環状に形成されており、開口部に位置するテープに半導体ウエーハを貼着して支持する。このようにして粘着テープを介して支持フレームに支持された半導体ウエーハが分割された複数個の半導体チップは、粘着テープを介して支持フレームに支持された状態で次工程に搬送される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
而して、半導体チップは脆性材料によって形成されているために、粘着テープに貼着されている各半導体チップ間に十分な隙間が存在しない場合には、搬送時に粘着テープの撓みに起因して隣接する半導体チップ同士が接触して欠損または破損の原因となるという問題がある。
【0004】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、支持フレームに装着された粘着テープに貼着された半導体ウエーハ等の被加工物を所定の切断ラインに沿って分割された複数個のチップが、その搬送時に互いに接触しないようにした被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置を提供することにある。
【0006】
課題を解決するための手段
上記主たる技術課題を解決するために、本発明によれば、環状に形成され支持フレームの内側開口部を覆うように装着された粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する分割処理方法であって、該支持フレームに所定温度以上の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープを装着する粘着テープ装着工程と、該熱収縮性粘着テープの上面に被加工物を貼着する被加工物貼着工程と、該熱収縮性粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する被加工物分割工程と、該熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を拡張し、各チップ間に間隔を形成するチップ間隔形成工程と、該熱収縮性粘着テープにおける相互に間隔が形成された複数個のチップが貼着されている領域と該支持フレームとの間の領域を加熱し、該熱収縮性粘着テープを緊張する粘着テープ緊張工程と、を含む、ことを特徴とする被加工物の分割処理方法が提供される。
【0007】
更に、本発明によれば、環状に形成され支持フレームの内側開口部を覆うように装着された粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する分割処理方法であって、
該支持フレームに所定以上の温度の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープを装着する粘着テープ装着工程と、
該熱収縮性粘着テープの上面に被加工物を貼着する被加工物貼着工程と、
該熱収縮性粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する被加工物分割工程と、
該熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を加熱する予備加熱工程と、
該予備加熱工程によって加熱された該熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を拡張し、各チップ間に間隔を形成するチップ間隔形成工程と、
該熱収縮性粘着テープにおける相互に間隔が形成された複数個のチップが貼着されている領域と該支持フレームとの間の領域を加熱し、該熱収縮性粘着テープを緊張する粘着テープ緊張工程と、を含む、
ことを特徴とする被加工物の分割処理方法が提供される。
【0008】
上記熱収縮性粘着テープは、塩化ビニールテープからなっていることが望ましい。
【0009】
該チップ間隔形成工程は、熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を基準位置から該基準位置の上方の拡張位置まで移動せしめる工程からなり、該粘着テープ緊張工程は、熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を拡張位置から基準位置まで移動せしめる工程を含む、ことが望ましい。
【0010】
環状の支持フレームの内側開口部を覆うように装着した熱収縮性粘着テープに貼着された、被加工物が複数個に分割されたチップの間隔を拡張するチップ間隔拡張装置であって、該環状の支持フレームを上面に保持する筒状のベースと、該筒状のベース内に同心的に配設され該筒状のベースを軸方向に基準位置から拡張位置の間を移動可能に構成された筒状の拡張部材と、該筒状の拡張部材内に配設され温風供給手段に接続された粘着テープ予熱用温風ノズルと、該筒状の拡張部材該筒状のベースとの間に形成され温風供給手段に接続された粘着テープ緊張用温風ノズルと、該粘着テープ予熱用温風ノズル内に配設された第1のヒータと、該粘着テープ緊張用温風ノズル内に配設された第2のヒータとを具備する、ことを特徴とするチップ間隔拡張装置が提供される。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0012】
図1には、本発明による被加工物の分割処理方法を実施するための切削装置の斜視図が示されている。
図示の実施形態における切削装置1は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2内には、被加工物を保持するチャックテーブル3が切削送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設されている。チャックテーブル3は、吸着チャック支持台31と、該吸着チャック支持台31上に装着された吸着チャック32を具備しており、該吸着チャック32の表面である載置面上に被加工物である例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。また、チャックテーブル3は、図示しない回転機構によって回動可能に構成されている。
【0013】
図示の実施形態における切削装置1は、切削手段としてのスピンドルユニット4を具備している。スピンドルユニット4は、図示しない移動基台に装着され割り出し方向である矢印Yで示す方向および切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整されるスピンドルハウジング41と、該スピンドルハウジング41に回転自在に支持され図示しない回転駆動機構によって回転駆動される回転スピンドル42と、該回転スピンドル42に装着された切削ブレード43とを具備している。
【0014】
図示の実施形態における切削装置1は、上記チャックテーブル3を構成する吸着チャック32の表面に保持された被加工物の表面を撮像し、上記切削ブレード43によって切削すべき領域を検出したり、切削溝の状態を確認したりするための撮像機構5を具備している。この撮像機構5は顕微鏡やCCDカメラ等の光学手段からなっている。また、ダイシング装置は、撮像機構20によって撮像された画像を表示する表示手段6を具備している。
【0015】
図示の実施形態における切削装置1は、被加工物としての半導体ウエーハ8をストックするカセット7を具備している。半導体ウエーハ8は、支持フレーム9に粘着テープ10によって支持されており、支持フレーム9に支持された状態で上記カセット7に収容される。なお、支持フレーム9については、後で詳細に説明する。また、カセット7は、図示しない昇降手段によって上下に移動可能に配設されたカセットテーブル71上に載置される。なお、カセット7についても、後で詳細に説明する。
【0016】
図示の実施形態における切削装置1は、カセット7に収容された被加工物としての半導体ウエーハ8(支持フレーム9に粘着テープ10によって支持された状態)を被加工物載置領域11に搬出する被加工物搬出手段12と、該被加工物搬出手段12によって搬出された半導体ウエーハ8を上記チャックテーブル3上に搬送する被加工物搬送手段13と、チャックテーブル3で切削加工された半導体ウエーハ8を洗浄する洗浄手段14と、チャックテーブル3で切削加工された半導体ウエーハ8を洗浄手段14へ搬送する洗浄搬送手段15を具備している。
【0017】
ここで、被加工物としての半導体ウエーハ8と支持フレーム9および粘着テープ10の関係について説明する。
支持フレーム9は、ステンレス鋼等の金属材によって環状に形成されており、半導体ウエーハを収容する開口部91と粘着テープが貼着されるテープ貼着部92(図1の状態における裏面に形成されている)を備えている。粘着テープ10は、上記開口部91を覆うようにテープ貼着部92に装着される。なお、粘着テープ10は、所定以上の温度の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープを用いることが重要である。所定温度以上の熱によって収縮するテープとしては、例えば塩化ビニールテープを用いることができる。支持フレーム9のテープ貼着部92に熱収縮性粘着テープ10を装着したら(粘着テープ装着工程)、熱収縮性粘着テープ10の上面に被加工物である半導体ウエーハ8が貼着される(被加工物貼着工程)。
【0018】
図示の実施形態における切削装置1には、上記被加工物搬出手段12の後方(カセット7と反対側)に本発明に従って構成されたチップ間隔拡張装置20が配設されている。チップ間隔拡張装置20は、図2に示すように上面に上記熱収縮性粘着テープ10を介して後述するように分割された半導体チップ80を支持した支持フレーム9を載置する載置面211が形成された円筒状のベース21と、該ベース21内に同心的に配設された保護筒22と、該ベース21と保護筒22と間に形成された粘着テープ緊張用温風ノズル23と、該粘着テープ緊張用温風ノズル23内に配設されたヒータ24を備えている。円筒状のベース21の上部外周面には、載置面211上に載置された支持フレーム9を固定するための複数個のクランプ25(図示の実施形態においては4個)が取り付けられている。上記保護筒22は、その外径が熱収縮性粘着テープ10に貼着された半導体ウエーハ8(半導体ウエーハ8が分割された複数個の半導体チップ)の外径と略対応する寸法に形成されている。なお、保護筒22と円筒状のベース21との間に形成される粘着テープ緊張用温風ノズル23は、その下部が図示しない温風供給手段に接続されており、該温風供給手段によって適宜温風が供給されるようになっている。
【0019】
図示の実施形態における切削装置1は、上記チップ間隔拡張装置20と上記被加工物載置領域11との間で分割されたチップを搬送するチップ搬送機構50を具備している。このチップ搬送機構50は、装置ハウジング2におけるチップ間隔拡張装置20と被加工物載置領域11に対応する位置に立設された一対の支持柱51、51と、該一対の支持柱51、51の上部を連結する案内レール52と、該案内レール52に沿って移動可能に配設された搬送手段53とから構成されている。なお搬送手段53は、熱収縮性粘着テープ10を介して分割された半導体チップ80を支持した支持フレーム9を吸着して搬送する周知の搬送装置でよい。
【0020】
次に、上述した切削装置1の作動について説明する。
図2に示すカセット7の所定の棚70に収容された支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持された半導体ウエーハ8は、図示しない昇降手段によってカセットテーブル71(図1参照)が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、被加工物搬出手段12がカセット7に向けて前進し、所定の棚70に収容された支持フレーム9を把持して後退することにより、半導体ウエーハ5を熱収縮性粘着テープ10を介して支持した支持フレーム9を被加工物載置領域11に搬出する。
【0021】
図1に基づいて説明を続けると、上記のようにして被加工物載置領域11に搬出された支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持された半導体ウエーハ8は、被加工物搬送手段13の旋回動作によって上記チャックテーブル3を構成する吸着チャック32の載置面に搬送され、該吸着チャック32に吸引保持される。このようにして半導体ウエーハ8を吸引保持したチャックテーブル3は、撮像機構5の直下まで移動せしめられる。チャックテーブル3が撮像機構5の直下に位置付けられると、撮像機構5によって半導体ウエーハ8に形成されている切断ライン(ストリート)が検出され、スピンドルユニット4の割り出し方向である矢印Y方向に移動調節して精密位置合わせ作業が行われる。
【0022】
その後、半導体ウエーハ8を吸引保持したチャックテーブル3を切削送り方向である矢印Xで示す方向(切削ブレード43の回転軸と直交する方向)に移動することにより、チャックテーブル3に保持された半導体ウエーハ8は切削ブレード43により所定の切断ライン(ストリート)に沿って切断される。即ち、切削ブレード43は割り出し方向である矢印Yで示す方向および切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整されて位置決めされたスピンドルユニット4に装着され、回転駆動されているので、チャックテーブル3を切削ブレード43の下側に沿って切削送り方向に移動することにより、チャックテーブル3に保持された半導体ウエーハ8は切削ブレード43により所定の切断ライン(ストリート)に沿って切削される。この切削には、所定深さのV溝等の切削溝を形成する場合と、切断ライン(ストリート)に沿って切断する場合がある。切断ライン(ストリート)に沿って切断すると、半導体ウエーハ8は半導体チップに分割される(被加工物分割工程)。分割された半導体チップは、熱収縮性粘着テープ10の作用によってバラバラにはならず、フレーム9に支持された半導体ウエーハ8の状態が維持されている。このようにして半導体ウエーハ8の切断が終了した後、分割された半導体チップを熱収縮性粘着テープ10を介して支持しているフレーム9を保持したチャックテーブル3は、最初に半導体ウエーハ8を吸引保持した位置に戻され、ここで分割された半導体チップの吸引保持を解除する。次に、支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持されている分割された半導体チップは、洗浄搬送手段15によって洗浄手段14に搬送され、ここで洗浄される。このようにして洗浄された分割された半導体チップを熱収縮性粘着テープ10を介して支持した支持フレーム9は、被加工物搬送手段13によって被加工物載置領域11に搬出される。
【0023】
上述したように、被加工物載置領域11に搬送された支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持されている分割された半導体チップは、搬送手段53によってチップ間隔拡張装置20に搬送される。チップ間隔拡張装置20における作用について、図3を参照して説明する。
被加工物載置領域11から搬送手段53によってチップ間隔拡張装置20に搬送された支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持されている複数個の半導体チップ80は、図3(a)に示すように支持フレーム9が円筒状のベース21の載置面211上に載置され、クランプ25によってベース21に固定される。このようにして、複数個の半導体チップ80を熱収縮性粘着テープ10を介して支持した支持フレーム9がチップ間隔拡張装置20のベース21に固定されたら、図3(b)に示すようにヒータ23をONするとともに図示しない温風供給手段によって保護筒22とベース21との間に形成された粘着テープ緊張用温風ノズル23に温風を供給する。この結果、支持フレーム9に装着された熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が貼着された領域101と支持フレーム9の内周との間の環状領域102が上記温風によって加熱される。なお、環状領域102に作用する時点での温風の温度(ヒータ23によって加熱された後の温度)は、50〜60°Cが適当である。そして、この加熱時間は20〜180秒でよい。このように、支持フレーム9に装着されたテープ10の上記環状領域102が加熱されると、熱収縮性粘着テープ10は所定以上の温度の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープからなっているので、上記環状領域102が収縮して緊張する(粘着テープ緊張工程)。この結果、熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が貼着された領域101が拡張されるので、図3(b)に示すように各半導体チップ80間に隙間が形成される。このように、支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持された複数個の半導体チップ80は相互間に隙間が形成されるとともに、熱収縮性粘着テープ10が緊張されるので、搬送時に熱収縮性粘着テープ10の撓みが減少することと相まって隣接する半導体チップ80同士の接触が防止される。また、図示の実施形態においては、切削装置の所定個所にチップ間隔拡張装置20が配設されているので、別の被加工物を切削して各チップに分割している間に、粘着テープ緊張工程を実施するとができるため、生産性を向上することができる。
【0024】
上記のようにして、支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持された分割された半導体チップ80に相互間に隙間を形成する作業が終了したら、上記クランプ25によるベース21への固定を解除し、搬送手段53を作動して支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持された複数個の半導体チップ80を被加工物載置領域11に搬送する。そして、支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持された複数個の半導体チップ80は、被加工物搬出手段12によってカセット7の所定の棚70に収納される。
【0025】
次に、チップ間隔拡張装置の他の実施形態について、図4を参照して説明する。図4に示すチップ間隔拡張装置20aにおいては、上述したチップ間隔拡張装置20と同一部材には同一符号を付してその説明を省略する。
図4に示すチップ間隔拡張装置20aは、円筒状のベース21内に配設され支持フレーム9に粘着テープ10を介して支持された複数個の半導体チップ80の相互間を積極的に広げるための拡張手段26を具備している。拡張手段26は、上記熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が存在する領域101を支持する筒状の拡張部材261と、該拡張部材261の底壁262を貫通して配設され上記熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が存在する領域101に温風を送る粘着テープ予熱用温風ノズル263を備えており、図示しない昇降手段によって図4に示す基準位置と該基準位置から上方の拡張位置の間を上下方向(円筒状のベース21の軸方向)に移動可能に構成されている。なお、図示の実施形態においては粘着テープ予熱用温風ノズル263内にはヒータ264が配設されている。図示の実施形態におけるチップ間隔拡張装置20aは以上のように構成されており、上記円筒状のベース21と拡張部材261との間に形成される粘着テープ緊張用温風ノズル23および粘着テープ予熱用温風ノズル263は、それぞれ図示しない温風供給手段に接続されており、該温風供給手段によって適宜温風が供給されるようになっている。
【0026】
次に、上記チップ間隔拡張装置20aの作用について、図5を参照して説明する。なお、チップ間隔拡張装置20aを用いて支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持されている複数個の半導体チップ80の相互間を拡張する場合には、粘着テープ10の材料として図6に示す特性を有することが望ましい。図6は熱収縮性粘着テープ10として用いる塩化ビニールを所定温度(例えば50°C)で加熱したときの加熱時間に対する収縮量および硬さの変化を示すものである。図6から判るように、加熱開始から時間t1までは収縮量は少ないが時間t1から時間t2の間で収縮量が増大する。一方、加熱開始から時間t1までは収縮しつつも硬度が低下し軟らかくなり、その後急激に硬度が増加する。また、加熱時間をt3より長くすると、脆くなる。
【0027】
被加工物載置領域11から搬送手段53によってチップ間隔拡張装置20aに搬送された支持フレーム9に熱収縮性粘着テープ10を介して支持されている複数個の半導体チップ80は、図5(a)に示すように支持フレーム9が円筒状のベース21の載置面211上に載置され、クランプ25によってベース21に固定される。そして、拡張手段26を構成するヒータ264をONするとともに図示しない温風供給手段によって粘着テープ予熱用温風ノズル263に温風を供給する(予備加熱工程)。この結果、上記熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が存在する領域101が加熱される。なお、この加熱においては、複数個の半導体チップ80が存在する領域101に作用する時点での温風の温度(ヒータ254によって加熱された後の温度)が40〜50°Cで、加熱時間が1〜10秒でよい。即ち、熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が存在する領域101の加熱は、上記図6において時間t1までの粘着テープの硬度が低下する範囲がよい。
【0028】
次に、図5(b)に示すように上記熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が存在する領域101を支持した拡張手段26を図示しない昇降手段によって図5(a)の基準位置から上方の拡張位置(図5(b)に示す位置)まで移動する。この結果、上記のようにして加熱された熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が存在する領域101が拡張されるので、図5(b)に示すように各半導体チップ80間に隙間が形成される(チップ間隔形成工程)。
【0029】
図5(b)に示すように熱収縮性粘着テープ10を拡張し、各半導体チップ80間に間隔を形成する工程を実施したならば、図5(c)に示すようにヒータ24をONするとともに図示しない温風供給手段によってベース21と拡張部材261との間に形成された粘着テープ緊張用温風ノズル23に温風を供給する。この結果、支持フレーム9に装着された熱収縮性粘着テープ10における複数個の半導体チップ80が貼着された領域101と支持フレーム9の内周との間の環状領域102が上記温風によって加熱される。なお、環状領域101に作用する時点での温風の温度(ヒータ23によって加熱された後の温度)は、50〜60°Cが適当である。そして、この加熱時間は20〜180秒でよい。このように、支持フレーム9に装着された熱収縮性粘着テープ10の上記環状部102が加熱されると、熱収縮性粘着テープ10は所定以上の温度の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープからなっているので、上記環状部102が収縮して緊張する。このとき、熱収縮性粘着テープ10の上記環状部102を加熱を開始すると略同時に図5(d)に示すように拡張手段26を図示しない昇降手段によって基準位置(図5(a)に示す位置)まで移動する(粘着テープ緊張工程)。この結果、各半導体チップ80間に隙間が形成された状態が維持され、隣接する半導体チップ80同士の接触が防止される。
【0030】
以上、本発明を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるものではない。例えば、実施形態においては、チップ間隔拡張装置を切削装置に配設した例を示したが、チップ間隔拡張装置は切削装置に組み込むことなく独立して設け、切削装置によって熱収縮性粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割した後、該分割された複数個のチップを貼着した熱収縮性粘着テープを装着した環状の支持フレームをチップ間隔拡張装置に搬送して各チップの間隔を拡張するようにしてもよい。
【0031】
【発明の効果】
本発明による被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置は以上のように構成されているので、次の作用効果を奏する。
【0032】
即ち、本発明によれば、被加工物を貼着して支持フレームに装着する粘着テープとして所定温度以上の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープを用い、該熱収縮性粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割した後、該熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域と支持フレームの間の領域を加熱し、該熱収縮性粘着テープを緊張して各チップ間に間隔を形成するようにしたので、チップ相互間に隙間が形成されるとともに、熱収縮性粘着テープが緊張されるため、搬送時に熱収縮性粘着テープの撓みが減少することと相まって隣接するチップ同士の接触が防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従って構成された一実施形態のチップ間隔拡張装置を装備した切削装置の斜視図。
【図2】図1に示す切削装置の要部を拡大して示す斜視図。
【図3】本発明にる被加工物の分割処理方法の一実施形態における粘着テープ緊張工程の説明図。
【図4】本発明に従って構成されたチップ間隔拡張装置の他の実施形態を示す断面図。
【図5】本発明にる被加工物の分割処理方法の他実施形態における予備加熱工程、チップ間隔形成工程および粘着テープ緊張工程の説明図。
【図6】本発明に用いる熱収縮性粘着テープの特性線図。
【符号の説明】
1:切削装置
2:装置ハウジング
3:ャックテーブル
31:吸着ャック支持台
32:吸着ャック
4:スピンドルユニット
41:スピンドルハウジング
42:回転スピンドル
43:切削ブレード
5:撮像機構
6:表示手段
7:カセット
70:カセットの棚
71:カセットテーブル
8:半導体ウエーハ
80:半導体ップ
9:支持フレーム
10:熱収縮性粘着テープ
12:被加工物載置領域
13:被加工物搬送手段
14:洗浄手段
15:洗浄搬送手段
20、20a:チップ間隔拡張装置
21:ベース
22:保護筒
23:粘着テープ緊張用温風ノズル
24:ヒータ
26:拡張手段
261:拡張部材
262:底壁
263:粘着テープ予熱用温風ノズル
264:ヒータ

Claims (5)

  1. 環状に形成され支持フレームの内側開口部を覆うように装着された粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する分割処理方法であって、該支持フレームに所定温度以上の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープを装着する粘着テープ装着工程と、該熱収縮性粘着テープの上面に被加工物を貼着する被加工物貼着工程と、該熱収縮性粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する被加工物分割工程と、該熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を拡張し、各チップ間に間隔を形成するチップ間隔形成工程と、該熱収縮性粘着テープにおける相互に間隔が形成された複数個のチップが貼着されている領域と該支持フレームとの間の領域を加熱し、該熱収縮性粘着テープを緊張する粘着テープ緊張工程と、を含む、ことを特徴とする被加工物の分割処理方法。
  2. 環状に形成され支持フレームの内側開口部を覆うように装着された粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する分割処理方法であって、該支持フレームに所定温度以上の熱によって収縮する熱収縮性粘着テープを装着する粘着テープ装着工程と、該熱収縮性粘着テープの上面に被加工物を貼着する被加工物貼着工程と、該熱収縮性粘着テープの上面に貼着された被加工物を所定の切断ラインに沿って複数個のチップに分割する被加工物分割工程と、該熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を加熱する予備加熱工程と、該予備加熱工程によって加熱された該熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を拡張し、各チップ間に間隔を形成するチップ間隔形成工程と、該熱収縮性粘着テープにおける相互に間隔が形成された複数個のチップが貼着されている領域と該支持フレームとの間の領域を加熱し、該熱収縮性粘着テープを緊張する粘着テープ緊張工程と、を含む、ことを特徴とする被加工物の分割処理方法。
  3. 該チップ間隔形成工程は、熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を基準位置から該基準位置の上方の拡張位置まで移動せしめる工程からなり、該粘着テープ緊張工程は、熱収縮性粘着テープにおける複数個に分割されたチップが貼着されている領域を拡張位置から基準位置まで移動せしめる工程を含む、請求項記載の被加工物の分割処理方法。
  4. 該熱収縮性粘着テープは、塩化ビニールテープからなっている、請求項1からにいずれかに記載の被加工物の分割処理方法。
  5. 環状の支持フレームの内側開口部を覆うように装着した熱収縮性粘着テープに貼着された、被加工物が複数個に分割されたチップの間隔を拡張するチップ間隔拡張装置であって、該環状の支持フレームを上面に保持する筒状のベースと、該筒状のベース内に同心的に配設され該筒状のベースを軸方向に基準位置から拡張位置の間を移動可能に構成された筒状の拡張部材と、
    該筒状の拡張部材内に配設され温風供給手段に接続された粘着テープ予熱用温風ノズルと、
    該筒状の拡張部材該筒状のベースとの間に形成され温風供給手段に接続された粘着テープ緊張用温風ノズルと、
    該粘着テープ予熱用温風ノズル内に配設された第1のヒータと、
    該粘着テープ緊張用温風ノズル内に配設された第2のヒータとを具備する、ことを特徴とするチップ間隔拡張装置。
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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004273895A (ja) * 2003-03-11 2004-09-30 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウエーハの分割方法
DE112004000768B4 (de) * 2003-05-12 2015-07-23 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Verfahren zum Trennen eines plattenartigen Elements
JP4256214B2 (ja) * 2003-06-27 2009-04-22 株式会社ディスコ 板状物の分割装置
JP4514490B2 (ja) 2004-03-29 2010-07-28 日東電工株式会社 半導体ウエハの小片化方法
JP4684569B2 (ja) * 2004-03-31 2011-05-18 株式会社ディスコ テープ拡張装置
JP2006114691A (ja) * 2004-10-14 2006-04-27 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法
JP4511903B2 (ja) * 2004-10-20 2010-07-28 株式会社ディスコ ウエーハの分割装置
JP4731224B2 (ja) * 2005-07-06 2011-07-20 株式会社ディスコ ウエーハの分割装置
JP4744957B2 (ja) * 2005-07-13 2011-08-10 株式会社ディスコ ウエーハに装着された接着フィルムの破断装置
JP4632313B2 (ja) * 2006-05-18 2011-02-16 リンテック株式会社 貼替装置および貼替方法
JP4643514B2 (ja) * 2006-07-20 2011-03-02 リンテック株式会社 貼替装置および貼替方法
WO2013005470A1 (ja) 2011-07-01 2013-01-10 古河電気工業株式会社 接着フィルム、並びにダイシングダイボンディングフィルム及びそれを用いた半導体加工方法
KR101365049B1 (ko) * 2012-08-02 2014-02-20 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) 취성 재료 기판의 롤링 브레이크 장치
JP6180742B2 (ja) * 2013-01-17 2017-08-16 株式会社ディスコ テープ貼着方法及びテープ貼着装置
JP2014232782A (ja) * 2013-05-28 2014-12-11 株式会社ディスコ チップ間隔維持装置
JP6870974B2 (ja) 2016-12-08 2021-05-12 株式会社ディスコ 被加工物の分割方法
JP6938212B2 (ja) 2017-05-11 2021-09-22 株式会社ディスコ 加工方法
JP6934327B2 (ja) 2017-06-07 2021-09-15 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法及び分割装置
JP7110541B2 (ja) * 2018-01-11 2022-08-02 株式会社東京精密 ワーク分割装置及びワーク分割方法
JP7126829B2 (ja) 2018-01-17 2022-08-29 株式会社ディスコ テープ特性の評価方法及び拡張装置
JP7115862B2 (ja) 2018-02-13 2022-08-09 株式会社ディスコ 分割装置及び分割方法
CN109216243B (zh) * 2018-09-07 2024-07-16 先进光电器材(深圳)有限公司 自动扩膜装置
JP7221649B2 (ja) 2018-10-30 2023-02-14 株式会社ディスコ ウエーハの拡張方法およびウエーハの拡張装置
JP2020072139A (ja) 2018-10-30 2020-05-07 株式会社ディスコ ウエーハの拡張方法およびウエーハの拡張装置
JP7355618B2 (ja) * 2018-12-04 2023-10-03 株式会社ディスコ ウエーハ分割装置
JP7362202B2 (ja) * 2019-04-15 2023-10-17 株式会社ディスコ エキスパンド装置、エキスパンド方法
JP2023023391A (ja) 2021-08-05 2023-02-16 株式会社ディスコ 基板の分割方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5079256A (ja) * 1973-11-12 1975-06-27
JPS5846859B2 (ja) * 1976-05-10 1983-10-19 株式会社東芝 半導体ペレツトの整列方法
JPH07122583A (ja) * 1993-10-26 1995-05-12 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置
JPH07321070A (ja) * 1994-05-26 1995-12-08 Rohm Co Ltd ウェハのエキスパンド方法
JPH08316177A (ja) * 1995-05-17 1996-11-29 Nitto Denko Corp 半導体チップの製造方法
JPH09286884A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Asahi Chem Ind Co Ltd 樹脂組成物及び樹脂フィルム
JPH10284446A (ja) * 1997-02-10 1998-10-23 Lintec Corp チップ体の製造方法およびチップ体製造用粘着シート
JPH113875A (ja) * 1997-06-12 1999-01-06 Lintec Corp 電子部品のダイボンディング方法およびそれに使用されるダイボンディング装置
JP2000068235A (ja) * 1998-08-18 2000-03-03 Disco Abrasive Syst Ltd 被加工物の割断方法
JP2000349138A (ja) * 1999-06-09 2000-12-15 Sony Corp ウェハーシートの延伸装置およびその方法
JP2001110757A (ja) * 1999-10-06 2001-04-20 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5079256A (ja) * 1973-11-12 1975-06-27
JPS5846859B2 (ja) * 1976-05-10 1983-10-19 株式会社東芝 半導体ペレツトの整列方法
JPH07122583A (ja) * 1993-10-26 1995-05-12 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置
JPH07321070A (ja) * 1994-05-26 1995-12-08 Rohm Co Ltd ウェハのエキスパンド方法
JPH08316177A (ja) * 1995-05-17 1996-11-29 Nitto Denko Corp 半導体チップの製造方法
JPH09286884A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Asahi Chem Ind Co Ltd 樹脂組成物及び樹脂フィルム
JPH10284446A (ja) * 1997-02-10 1998-10-23 Lintec Corp チップ体の製造方法およびチップ体製造用粘着シート
JPH113875A (ja) * 1997-06-12 1999-01-06 Lintec Corp 電子部品のダイボンディング方法およびそれに使用されるダイボンディング装置
JP2000068235A (ja) * 1998-08-18 2000-03-03 Disco Abrasive Syst Ltd 被加工物の割断方法
JP2000349138A (ja) * 1999-06-09 2000-12-15 Sony Corp ウェハーシートの延伸装置およびその方法
JP2001110757A (ja) * 1999-10-06 2001-04-20 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法

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