KR100346064B1 - 트리스-아릴-s-트리아진및그를포함하는조성물 - Google Patents

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Abstract

1 내지 3개의 레조르시놀 유도된 잔기를 함유하고 또 5-위치에서 알킬, 페닐알킬, 할로겐, 티오 또는 술포닐 기에 의해 치환된 상기 잔기의 적어도 한개를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진은 근 자외선 범위로 적색 이동한 자외선 스펙트럼을 나타내며 또 중합체 물질을 화학선의 악영향으로 부터 보호하는 탁월한 안정화 작용을 제공한다.

Description

트리스-아릴-s-트리아진 및 그를 포함하는 조성물
본 발명은 적색 이동된 트리스-아릴-s-트리아진 및 화학선에 의해 분해되기 쉬운 중합체계를 보호하기 위한 그의 용도에 관한 것이다.
한개 이상의 아릴기가 트리아진 고리에 부착된 지점에 대하여 오르토 위치에 히드록시기 기를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진은 자외선 흡수제로서 공지되어 있다. 이 종류의 트리아진은 또한 화학선 노출의 악영향으로 부터 유기 중합체를 보호하는 것으로 공지되어 있다.
이 용도를 위해, s-트리아진 고리상의 2,4-디히드록시페닐기는 레조르시놀 기로 전이될 수 있다. 레조르시놀 기에 사용된 넘버링은 다음과 같다;
미합중국 특허 3,118,887호 및 동 3,268,474호에는 한개 이상의트리스-아릴-s-트리아진류의 화합물을 혼입하는 것에 의해 자외선으로 부터 플라스틱 및 수지 조성물을 보호하는 방법이 기재되어 있다. 상기 특허는 2,4,6-트리스-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 및 2,4,6-트리스-(2-히드록시-4-알콕시페닐)-s-트리아진을 특허청구하고 있다. 트리스-5-알킬레조르시놀-s-트리아진이 제조되긴 하지만 시험되거나 특허청구되지 않았다.
미합중국 특허 3,268, 474호에는 한개 이상의 오르토-히드록시페닐기를 갖고 또 세개의 아릴 고리의 각각에서 알킬, 알콕시, 할로겐 등으로 총 세개 까지 더 치환될 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진 및 중합성 물질의 조성물이 특허청구되어 있다. 바람직한 치환 패턴은 제시되어 있지않다. 트리스-(2-히드록시-4-알콕시페닐)-s-트리아진 및 2,4-비스-(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진을 포함하는 조성물을 청구하는 항도 있다. 트리스-알킬레조르시놀-s-트리아진의 일례가 제시되어 있긴 하지만, 시험되지도 않고 중합체와의 조성물은 특허청구되지도 않고 있다.
미합중국 특허 3,242,175호에는 레조르시놀 고리에서 치환이 전혀 없는 비-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진이 특허청구되어 있다. 미합중국 특허 3,244,708호에는 레조르시놀 고리에서 치환이 전혀 없는 모노-, 비스- 또는 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진이 특허청구되어 있다. 상기 특허의 도입부에 있는 마르쿠시 구조에는 레조르시놀 고리에서 히드록시, 할로겐, 알킬, 알콕시, 페닐 또는 페닐알킬 중의 1개 또는 2개 또는 그의 조합물에 의해 더 치환될 수 있는 모노-레조시놀-트리스-아릴-s-트리아진이 기재되어 있다. 바람직한 치환패턴은 제시되어있지 않고 또 이러한 화합물은 합성되거나 시험되어 있지 않다.
미합중국 특허 4,619,956호 및 동 4,740,542호에는 중합체 막 도료 또는 성형제품을 광, 수분 및 산소의 작용으로 부터 보호하기 위한 상승작용량의 트리스-아릴-s-트리아진 및 입체장애 아민 광 안정화제의 용도가 기재되어 있다. 상기 특허에서 언급한 트리스-아릴-s-트리아진은 미합중국 특허 3,268,474호에도 기재되어 있다. 바람직한 s-트리아진은 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 또는 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진이다. 상기 특허에서 마르쿠시 구조에는 트리아진 고리에 부착된 지점에 대한 오르토에서 한 개 이상의 히드록시기를 갖고 또 세개의 아릴 고리의 각각에서 세개의 치환기 까지 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진이 기재되어 있다. 이들 치환기는 알킬, 알콕시, 할로겐 등을 포함한다. 바람직한 치환 패턴은 제시되어있지 않고 또 레조르시놀 고리상에서 치환된 화합물의 제조나 시험도 제시되어 있지않다.
유럽 특허 출원 444,323호에는 용해도가 높은 트리스-아릴-s-트리아진, 이들의 제법, 및 유기 용매와 그의 조성물이 특허청구되어 있다. 상기 제법에서 유용한 것으로 기술된 특정 트리아진은 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진이다. 상기 출원에서 특허청구된 트리스-아릴-s-트리아진은 미합중국 특허 3,268,474호에 기재된 내용을 기본으로 하고 있다. 바람직한 트리아진은 모노-레조르시놀-트리스-아릴을 기본한 s-트리아진이다. 바람직한 마르쿠시 그룹은 레조르시놀 고리가 5-위치에서 알킬기에 의해 더 치환될 수 있음을 나타낸다. 그러나, 이 위치에서의 치환효과는 언급되어 있지 않고 또 그러한 화합물의 제조나 시험도 제시되어 있지 않다.
유럽 특허 출원 483,488호에는 트리스-아릴-s-트리아진과 입체장애 아민으로 구성된 상승작용적 안정화제 조성물 및 이러한 조성물을 혼입하는 것에 의해 중화제를 안정화시키는 방법이 기재되어 있다. 또한 상기 조성물에서 청구된 트리아진은 미합중국 특허 3,268,474호에 기재된 내용을 기본으로 한다. 바람직한 트리아진은 비스-크실릴-레조르시놀을 기본한 s-트리아진이다. 상기 출원의 내용은 레조르시놀 고리의 5-위치에서 알킬기에 의해 더 치환될 수 있는 모노-레조르시놀-트리스-아릴 기제 s-트리아진의 마르쿠시 구조를 나타낸다. 그러나 레조르시놀 고리상에서 이러한 추가의 치환기를 갖는 트리아진은 제조되거나 시험된 바 없다.
미합중국 특허 4,826,978호 및 동 4,962,142호에는 도료를 비롯한 중합체용 자외선 차단제로 유용한 트리스-아릴-s-트리아진류가 기재되어 있다. 상기 트리아진은 페닐기에서 치환된 전자 제거기를 갖는 비스-레조르시놀-페닐-s-트리아진을 기본으로 한다. 레조르시놀 기에서의 추가의 치환은 언급되어 있지 않다.
미합중국 특허 5,106,891호는 UV 흡수제로서 한개 이상의 2-히드록시페닐벤조트리아졸 및 한개 이상의 2-히드록시페닐트리아진의 혼합물을 함유하는 도료를 특허청구하고 있다. 기재된 트리아진은 모노-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 기본으로 하며 바람직하게는 비스-크실릴-레조르시놀-s-트리아진을 기본으로 한 구조를 갖는다. 마르쿠시 구조에는 아릴기가 세개 이하의 히드록실, 할로게노메틸,알킬, 알콕시 또는 할로겐 또는 이들의 조합물로 치환될 수 있다고 기재되어 있다. 따라서 치환된 레조르시놀 기를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진의 구조는 기재되어 있으나, 바람직한 치환 패턴은 기재되어 있지 않고 또 그러한 화합물의 제조와 시험도 제시되어 있지 않다.
유럽 특허 출원 434,608호는 광, 열 및 산소에 의한 손상으로 부터 안정화되고 또 입체장애 아인 및 o-히드록시페닐-s-트리아진의 조합물 또는 상기 트리아진만을 함유하는 유기물질, 입체장애 아민 및 상기 트리아진의 조합물 또는 트리아진 단독을 혼입하는 것에 의해 유기물질을 안정화시키는 방법, 신규한 o-히드록시페닐-s-트리아진 및 상기 신규한 s-트리아진의 유기물질에 대한 안정화제로서의 용도를 특허청구하고 있다. 특히 언급된 유기물질은 도료 결합제 및 복사선 경화성 도료이다. 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에서 더 이상의 치환이 없는 모노-레조르시놀-트리스-아릴 기제 s-트리아진이다. 마르쿠스 구조에는 1개 또는 2개의 알킬- 또는 할로-치환된 레조르시놀 기를 갖는 트리스아릴-s-트리아진을 포함하는 것으로 기재되어 있다. 바람직한 치환 패턴은 제시되어있지않고 또 치환된 레조르시놀 고리를 갖는 화합물은 제조되거나 시험된 바 없다.
유럽특허 출원 442,847호는 결합제, 고화제, 및 광, 열 및 산소에 의한 분해로 부터 안정화시키는 안정화제인 트리스-아릴-s-트리아진을 함유하는 도료를 특허청구하고 있다. 자동차 도료로서 상기 조성물의 용도가 특히 바람직하다. 상기 조성물에 사용하기 위한 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에서 전혀 치환되지 않은 모노-레조르시놀-트리스-아릴 기제 s-트리아진이다. 마르쿠시 구조에는 알킬 또는 할로겐에 의해 더 치환될 수 있는 1개 또는 2재의 레조르시놀 기를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진을 포함하는 것으로 기재되어 있다. 바람직한 치환 패턴은 기재되어 있지 않고, 또 치환된 레조르시놀 고리를 갖는 화합물의 제조나 시험은 기재되어 있지 않다.
미합중국 특허 5,354,794호는 전착도료 하도제, 전착 도료와 접촉하는 칼러 도료, 칼러 도료와 접촉하는 투명도료 및 칼러 도료 또는 투명 도료중의 하나 또는 양쪽과 접촉하는 트리스-아릴-s-트리아진 자외선 흡수제를 포함하는 중합체 막 조성물을 청구하고 있다. 트리스-아릴-s-트리아진중에서 비스- 및 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 기본한 것이 도료계를 안정화시키는데 특히 효과적이다. 상기 조성물 특허청구 범위중에서 마르쿠시 구조에는 레조르시놀 고리에서 1 내지 6개의 탄소원자를 갖는 알킬기에 의해 치환될 수 있는 비스- 및 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진이 기재되어 있다. 특정 치환 패턴은 제시되어있지 않다. 2,4,6-트리스-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-s-트리아진의 제조예는 제시되어있지만, 그 화합물은 시험된 바 없다.
미합중국 특허 5,298,067호에는 모노-레조르시놀-트리스-아릴 기제 s-트리아진 단독의 단량체 또는 이합체 또는 입체장애 아민 또는 히드록시페닐벤조트리아졸과의 조합물로 안정화된 도료, 및 이들 s-트리아진을 혼입함으로써 도료를 안정화시키는 방법이 특허청구되어 있다. 레조르시놀 기상에서 추가의 치환은 제시되어 있지 않다. 특별히 언급된 도료는 자동차용 래커이다.
유럽 특허 출원 165,608호에는 트리스-아릴-s-트리아진류를 포함한 s-트리아진, 이들의 제조방법, 및 유기물질, 특히 칼러사진 물질에서 자외선 흡수제로서 사용하기 위한 방법이 기재되어 있다. 기재된 트리스-아릴-s-트리아진은 알킬, 알콕시, 히드록시 또는 알킬 또는 페닐카르보닐로 치환될 수 있는 1 내지 3개의 레조르시놀 기를 포함하는 트리아진도 포함한다. 바람직한 치환 패턴은 기재되어 있지 않다. 예로서 3-위치에서 메틸에 의해, 6-위치에서 히드록시, 메톡시, 메틸에 의해 또 5-위치에서 아세틸에 의해 치환된 레조르시놀을 갖는 비스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 들 수 있다.
미합중국 특허 3,843,371호는 자외선으로 부터의 안정화제로서 트리스-아릴-s-트리아진을 함유하는 사진물질을 청구하고 있다. 이 특허청구범위에서 마르쿠시 구조에는 한개의 레조르시놀 고리의 6-위치에서 알킬 치환기를 가질 수 있는 비스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 포함한다. 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에서 추가의 치환기를 갖지 않는 비스-레조르시놀-트리스-아릴 기제 s-트리아진이다. 본 특허청구 범위에서 마르쿠시 구조에는 할로겐, 히드록실, 알킬, 알콕시, 페닐, 페녹시, 시클로알콕시 등으로 치환될 수 있는 1개 또는 2개의 레조르시놀 기를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진이 기재되어 있다. 바람직한 치환 패턴은 제시되어있지 않고 또 치환된 레조르시놀 기를 갖는 화합물 또한 제조되거나 또는 시험된 바 없다.
유럽 특허 출원 468,921호는 한개 이상의 음이온성 또는 비이온성 화합물을 갖는 s-트리아진의 수성 분산액을 특허청구하고 있다. 특허청구범위에서의 마르쿠시 구조에는 알킬 또는 할로겐에 의해 치환된 1개의 레조르시놀 고리를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진을 포함한다. 치환 패턴은 제시되어있지 않다. 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리상에서 추가의 치환기를 갖지 않는 모노-레조르시놀-트리스-아릴 기제 s-트리아진을 포함하며 s-트리아진 만을 예시할 수 있다. 미합중국 특허 4,831,068호는 s-트리아진 자외선 흡수제를 사용하여 폴리에스테르 섬유 물질의 염색을 안정화시키는 방법, 및 이러한 방법에 의해 처리된 폴리에스테르 섬유 물질을 청구하고 있다. 마르쿠스 구조 및 바람직한 트리아진은 유럽특허 출원 468,921호에서와 동일하다. 바람직한 유형의 s-트리아진만을 실시예에 나타낸다.
미합중국 특허 4,950,304호는 백화제로 처리된 천연 또는 합성 폴리아미드 기질의 형광성을 중지 또는 억제하는 방법을 청구하고 있다. 이 방법은 히드록시페닐벤조트리아졸 또는 히드록시페닐트리아진을 함유하는 액체를 상기 물질에 도포한 다음 자외선 흡수제를 고정하는 것을 포함한다. s-트리아진의 마르쿠시 구조에는 치환된 레조르시놀 기를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진이 기재되어 있다. 레조르시놀기는 3- 또는 5-위치에서 할로겐, 알킬, 시클로알킬, 페닐알킬, 술포 등에 의해 치환 될 수 있다. 바람직한 트리아진 구조는 레조르시놀 고리의 5-위치에서 치환된 술포네이트기를 갖는 비스-페닐-레조르시놀-s-트리아진이다. 다른 치환기로 치환된 레조르시놀 기를 갖는 s-트리아진은 제조되거나 시험된 바 없다. 레조르시놀의 3-위치 보다 5-위치에서의 치환이 유리하다는 것도 제시되어 있지 않다.
미합중국 특허 5,096,489호는 s-트리아진과 조합된 염료의 수용액을 사용하여 잉크 제트 프린트를 안정화시키는 방법을 청구하고 있다. 마르쿠시 구조에는 5-위치에서 술포, 할로 또는 알킬기에 의해 치환된 1 또는 그 이상의 레조르시놀 기를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진이 기재되어 있다. 이 방법에서 사용하기에 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에서 치환이 없는 비스- 및 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 기본으로 한다. 치환된 레조르시놀 기를 갖는 s-트리아진은 예시되어 있지 않다. 레조르시놀 고리의 5-위치에서의 치환의 이점도 제시되어 있지 않다.
2,4-디히드록시페닐(레조르시놀) 기를 함유하는 트리스-아릴-s-트리아진은 유기물질을 보호하기 위한 자외선 차단제로서 공지되어 있다. 흔히 사용되는 히드록시페닐-트리스-아릴-s-트리아진의 결점은 다른 시판되는 자외선 흡수제, 예컨대 히드록시페닐벤조트리아졸 보다 근-자외선 스펙트럼을 덜 카버한다는 점이다. 따라서 근-자외선 스펙트럼을 더 카버하는 트리스-아릴-s-트리아진의 제공이 요청되고 있다. 본 발명은 360 내지 400 nm 범위에서 현저한 흡수를 갖는 신규한 트리스-아릴-레조르시놀기제 s-트리아진을 제시한다.
본 발명은 5-위치에서 탄소, 할로겐, 티오, 술피닐 또는 술포닐 잔기에 의해 치환된 한개 이상, 바람직하게는 한개의 2,4-디히드록시페닐(레조르시놀 아릴)기를 함유하는 신규한 트리스-아릴-s-트리아진에 관한 것이다. 이들 화합물은 주로 하기일반식(A) 및 (B)의 화합물을 포함한다;
상기 일반식(A)의 화합물중에서,
A 및 A'는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 일반식의 기이거나 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
R1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 할로겐, -SR3, -SOR3또는 -SO2R3이거나; 또는 1 내지 8개 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2, =NR5, =O, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5,-CN, -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5, -P(O)(OR5)2, 모르폴린일, 피페리딘일, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘일, 피페라진일또는 N-메틸피페라진일 기 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 페닐렌, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -C(R5)=C(R5)- 또는 -CO- 기 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합물에 의해 치환되고 또 그를 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로 알킬이며;
R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1 또는 2개의 알킬에 의해 치환된 아릴이고;
R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나, 또는 페닐 고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일이며;
R5는 R4에서 정의된 바와 같거나, 또는 는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 R5는 일반식의 기이고, 이때 T는 수소, 옥실, 히드록실, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬, 한 개 이상의 히드록실 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬, 벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일이고;
R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 8개 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2, -C(R5)2=C(R5)-COOR5, -CN, -NCO, 또는또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개 에폭시, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOC(R5)=C(R5)-, -(R5)C=C(R5)-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 임) 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기를 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기알킬 또는 시클로알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이며;
R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 페닐, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노 또는 -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 기이고;
R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 o-페닐렌이며;
R8은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄 또는기이고;
k는 1 내지 4이며;
k=1 이면, Z는 상기 R2에서 정의한 바와 같고;
k=2 이면, Z는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -OH 에 의해 치환된 상기 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -CH=CH- 또는 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌; 또는 상술한 기의 조합물에 의해 치환되고 또 그를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 Z는 크실릴렌 또는기이고,
이때 m은 1 내지 3이며; 또는
Z는이고;
R8은 상기 정의한 바와 같으며;
R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌 또는-페닐렌-G-페닐렌 기(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH2)2- 임)를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고;
R10은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 4개의 -O-, -S-, 또는 -CH=CH-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이며;
R11은 4 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 8개 -O-를 포함하는 상기 알킬렌이고;
k=3이면, Z는 -[(CH2)mCOO]3-R12(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일임) 기이며;
k=4 이면, Z는 -[(CH2)mCOO]4-R13(이때, m은 1 내지 3이고 또 R13은 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트릴임) 기이고;
단, Z가 수소이고 또 R1이 n-헥실이면, X 및 Y는 각각 5-n-헥실-2,4-디히드록시페닐이 아니며; 또
상기 일반식(B)의 화합물의 경우,
t는 0 내지 9이고;
X, X', Y 및 Y'는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이며;
L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 또는 그를 중간에 이를 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S, -S-S-, -S-E-S-, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는이고, 이때 E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌을 중간 또는 말단에 갖는 8 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌이며;
R2및 R2'는 동일하거나 상이하며 상기 R2에서 정의한 바와 같고;
단, 한개 이상의 L 연결이 페닐 고리의 5-위치에 부착된다.
전형적인 예로서,
X, Y, X' 및 Y'가 페닐 또는 한개 또는 세개의 저급 알킬 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐이고;
R1이 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알켄일, -Cl, -SR3, -SOR3또는 -SO2R3이거나; 페닐, -OR5, -N(R5)2, =NR5, =O에 의해 치환되거나 및/또는 -O-, -NR5-, -CO- 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이며;
R2및 R2'가 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 또는 1 또는 2개의 -OR5에 의해 치환된 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬이고;
R5H, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬 또는 페닐이며; 또
L이 메틸렌; 벤질리덴;
또는인 화합물을 들 수 있고, 이들 화합물중에서,
A 및 A'가 페닐, 일반식의 기 또는 1 또는 2개의 저급 알킬기에 의해 치환된 페닐이고;
R1이 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 프로펜일, -Cl, 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노알킬, 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬이미노알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일, 벤조일, -SR3, -SOR3또는 -SO2R3이거나; 또는 페닐 및/또는 -OH에 의해 치환된 C1-C7알킬이며;
R2및 R2'가 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 또는 1 또는 2개의 -OR5에 의해 치환된 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬이고;
R3가 페닐이며; 또
R5가 H, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬 또는 페닐인 화합물이 바람직하다.
보다 특히 본 발명은 하기 일반식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 화합물에 관한 것이다;
상기 일반식(I)의 화합물중에서,
X 및 Y는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
R1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 할로겐, -SR3, -SOR3, 또는 -SO2R3이거나; 또는 1 내지 8개 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2, =NR5, =O, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN, -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5, -P(O)(OR5)2, 모르폴린일, 피페리딘일, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘일, 피페라진일 또는 N-메틸피페라진일 기 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 페닐렌, -O-, -NH5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -C(R5)=C(R5)- 또는 -CO- 기 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합물을 중간에 포함하거나 또는 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬이며;
R3은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1 또는 2개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나, 또는 페닐 고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일이며;
R5는 R4에서 정의된 바와 같거나, 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 R5는 일반식의 기이고, 이때 T는 수소, 옥실, 히드록실, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬, 한 개 이상의 히드록실 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬, 벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일이며;
R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 8개 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴 옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2, -C(R5)=CCOORS, -CN, -NCO, 또는또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개 에폭시, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOC(R5)=C(R5)-, -(R5)C=C(R5)-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 임) 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기를 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이고;
R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 페닐, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노 또는 -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 기이며;
R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 o-페닐렌이고;
R8은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄또는기이며;
단, R2가 수소이고 또 R1이 n-헥실이면, X 및 Y는 5-n-헥실-2,4-디히드록시페닐이 아니며;
상기 일반식(II)의 화합물중에서,
X는 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
R1및 R1'는 동일하거나 상이하며 또 상기 R1에서 정의한 바와 같으며;
R2및 R2'는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또
단, R1및 R1가 각각 n-헥실이고, 또 R2및 R2'가 각각 수소이면, X는 5-n-헥실-2,4-디히드록시페닐이 아니고;
상기 일반식(III)의 화합물중에서,
R1, R1' 및 R1"가 동일하거나 상이하며 또 상기 R1에서 정의한 바와 같으며;
R2, R2' 및 R2"는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또
단, R2, R2' 및 R2"가 각각 수소이면, R1, R1' 및 R1"는 각기 n-헥실이 아니며;
상기 일반식(IV)의 화합물중에서,
X, X', Y 및 Y'는 동일하거나 상이하며 또 페닐, 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌을 중간에 포함하거나 또는 그에 의해 치환된 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-E-S-, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는
이며;
이때, E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌을 중간 또는 말단에 포함하는 8 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고;
R2및 R2'는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또 상기 일반식(V)의 화합물중에서,
X, Y 및 R1은 상기 정의된 바와 같고;
n은 2 내지 4 이며;
n=2 이면, Q는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌; 또는 1 내지 8개의 -OH에 의해 치환된 상기 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -CH=CH- 또는 -O- 를중간에 포함하는 상기 알킬렌; 또는 상술한 기의 조합물을 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬렌이거나; 또는 Q 는 크실릴렌 또는
기이고, 이때 m은 1 내지 3이며; 또는
Q는이며;
R8은 상기 정의한 바와 같고;
R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH2)2- 임) 기를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고;
R10은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 4개의 -O-, -S- 또는 -CH=CH-를 중간에 포함하는 알킬렌; 또는 R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이며;
R11은 4 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 8개의 -O-를 중간에 포함하는 알킬렌이며;
n=3이면, Q는 -[(CH2)mCOO]3-R12(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알란트리일임) 기이고;
n=4이면, Q는 -[(CH2)mCOO]4-R13(이때, m은 1 내지 3이고 또 R13은 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트라일임) 기이고;
상기 일반식(VI)의 화합물중에서,
X 및 Y는 상기 정의된 바와 같고;
t는 0 내지 9이며;
L은 상기 정의된 바와 같고, 단 한개 이상의 L 연결이 페닐 고리의 5-위치에 부착되며; 또
R2는 상기 정의된 바와 같다.
저급 알킬은 바람직하게는 C1-C4알킬, 특히 메틸이고; 저급 알콕시는 바람직하게는 C1-C4알콕시, 특히 메톡시이다.
6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴은 주로 페닐 및 나프틸을 포함하고; 바람직하게는 페닐이다.
할로겐은 -F, -Cl, -Br 또는 -I 이고; 바람직하게는 -Cl 또는 -Br 이며; 특히 -Cl 이다.
바람직하게는 본 발명은 일반식(A)의 화합물, 특히 X 및 Y가 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬 또는 할로겐에 의해 치환된 폐닐이고;
R1이 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이며;
R2는 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 또는 1 또는 2개의 OR5(이때, R5는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 또는 페닐임)에 의해 치환된 알킬이고; 특히 1개의 히드록실 및 1개의 -OR5(이때, R5는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬 또는 페닐임)에 의해 치환되는 상기 알킬인 일반식(I)의 화합물; 또는
X, X', Y 및 Y'가 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐이고;
R2및 R2'가 동일하거나 또는 상이하며 또 상기 R2에서 정의된 바와 같고; 또
L이또는인 일반식(IV)의 화합물에 관한 것이다.
보다 바람직하게는 본 발명은 X 및 Y가 페닐, 2,4-디메틸페닐, 4-메틸페닐 또는 4-클로로페닐이고;
R1이 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이며;
R2가 2 내지 6개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 또는 1 내지 2개의 -OR5(이때, R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 축쇄 알킬임)에 의해 치환된 상기 알킬, 특히 1개의 히드록실 및 1개의 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알콕시에 의해 치환된 알킬인 일반식(I)의 화합물에 관한 것이다.
본 발명의 바람직한 화합물의 몇몇 예는 하기에 수록한 바와 같다;
a, 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[4-(3-도데실옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-s-트리아진;
b. 2-[5-헥실-2-히드록시-4-(2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진;
c. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[ 2-히드록시-4-(2-히드록시-3-노닐옥시-프로폭시)-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진;
d. 2-[2-히드록시-4-옥틸옥시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진; 및
e. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2-히드록시-4-헥실옥시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진.
가장 특히, 본 발명은 하기 일반식(V) 또는 (VI)의 화합물에 관한 것이다.
상기 일반식(V)의 화합물중에서,
X 및 Y는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
R1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 할로겐, -SR3, -SOR3, 또는 -SO2R3이거나 또는 1 내지 8개 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2, =NR5, =O, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN, -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5, -P(O)(OR5)2, 모르폴린일, 피페리딘일, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘일, 피페라진일 또는 N-메틸피페라진일 기 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 페닐렌, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -C(R5)=C(R5)- 또는 -CO- 기 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합물에 의해 치환되고 또 그를 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬이며;
R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1 또는 2재의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나, 또는 페닐 고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일이며;
R5는 R4에서 정의된 바와 같거나, 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 R5는 일반식의 기이고, 이때 T는 수소, 옥실, 히드록실, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬, 한개 이상의 히드록실 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬, 벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일되며;
n은 2 내지 4이고;
n=2 이면, Q는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌; 또는 1 내지 8개의 -OH에 의해 치환된 상기 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -CH=CH- 또는 -O- 를 중간에 포함하는 상기 알킬렌; 또는 상술한 기의 조합물을 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬렌이거나; 또는 Q 는 크실릴렌 또는
기이며, 이때 m은 1 내지 3이고; 또는
Q는이며;
R8은 상기 정의한 바와 같고;
R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH2)2- 임) 기를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고;
R10은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 4개의 -O-, -S- 또는 -CH=CH-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이며;
R11은 4 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 8개의 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이며;
n=3이면, Q는 -[(CH2)mCOO]3-R12(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일임) 기이고;
n=4이면, Q는 -[(CH2)mCOO]4-R13(이때, m은 1 내지 3이고 또 R13은 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트라일임) 기이며; 또
상기 일반식(VI)의 화합물중에서,
X 및 Y는 상기 정의한 바와 같고;
t는 0 내지 9이며;
L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 또는 중간에 그를 포함하는 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-E-S-, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는이며, 이때 E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 또는 시클로헥실렌을 중간 또는 말단에 포함하는 8 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌이며; 단, 한개 이상의 L 연결이 5-위치의 페닐고리에 부착되고;
R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 또는 1 내지 8개 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2, -C(R5)=CCOOR5, -CN, -NCO. 또는또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개 에폭시, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOC(R5)=C(R5)-, -(R5)C=C(R5)-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 임) 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합물을 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는시클로알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이고;
R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18게 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 페닐, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노 또는 -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 기이며;
R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 o-페닐렌이고;
R8은 2 내지 10대 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐텔메탄 또는기이며; 이때 R4및 R5는 상기 정의한 바와 같다.
바람직하게는, t는 0 내지 3, 보다 가장 바람직하게는 이합체 구조을 의미하는 0이다. 5-위치의 양쪽 레조르시놀 잔기에서 치환된 일반식(IV)에서 주어진 개별 이합체 이외에, 선정된 조건하에서 레조르시놀 유도된 고리가 5 및 3 위치를 통하여 결합된 고급 올리고머 뿐만 아니라 이합체 혼합물도 합성할 수 있다. 5:5 및 5;3 치환된 이합체는 이들 혼합물의 주요 성분이다. 다량의 5-치환된 레조르시놀 고리가 존재하기 때문에 이들 혼합물은 적색 이동된다. 이성질체는 크로마토그래피법 또는 기타의 유기 화학적 분리수법에 의해 분리될 수 있지만, 그 혼합물 자체는 적색이동되고 또 유효한 자외선 흡수제 안정화제로 사용될 수 있다. 적색 이동되는이외에, 이성질체 혼합물은 통상의 유기 용매에서의 용해도가 아주 높다.
바람직한 일반식(VI)의 화합물은 다음과 같다;
a. 1,3-비스(1-[2,4-디히드록시-5-(3,5-비스(2,4-디메틸페닐-s-트리아진일)페닐]-1-메틸에틸)벤젠;
b. 메틸렌-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진의 혼합물(3:5, 5:5 및 3:3 위치에서 5:4:1 비율로 연결); 및
c. 벤질리덴-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-(2,4-디메틸)-s-트리아진의 혼합물(3:5 및 5:5 위치에서 1:1 비율로 연결).
일반식중에서 표시된 임의의 그룹이 알킬이면, 이러한 알킬기는 예컨대 메틸, 에틸, 이소프로필, n-부틸, 삼차부틸, 삼차아밀, 2-에틸헥실, n-옥틸, n-운데실, 라우릴, n-헵타데실 및 n-옥타데실이다. 알킬렌이면, 이러한 알킬렌 기는 예컨대 에틸렌, 트리메틸렌, 테트라메틸렌, 헥사메틸렌, 옥타메틸렌 및 2,2-디메틸프로판-1,3-디일이고; 시클로알킬렌이면, 이러한 시클로알킬렌기는 예컨대 시클로펜틸렌 또는 시클로헥실렌이며; 알킬 또는 알콕시로 치환된 페닐이면, 이러한 기는 예컨대 톨릴, 크실릴 또는 메톡시페닐이고; 시클로알킬이면, 이러한 기는 예컨대 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로옥틸 또는 시클로도데실이며; 페닐알킬이면, 이러한 기는 예컨대 벤질, α-페닐에틸, 2-페닐에틸 또는 4-삼차부틸벤질이고; 중간에 -O- 또는 -NR5- 를 포함하고 또 OH에 의해 치환될 수 있는 알킬이면, 이러한 기는 예컨대 메톡시에틸, 에톡시에틸, 부톡시에틸, 부톡시프로필, CH3OCH2CH2OCH2CH2-,CH3CH2OCH2CH2OCH2CH2-, C4H9OCH2CH2OCH2CH2, 도데실옥시프로필, 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 6-히드록시헥실, -CH2CH2-NH-C4H9, -CH2CH2CH2NH-C8H17, -CH2CH2CH2-N(CH3)-CH2CH(C2H5)C4H9, 2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시 및 2-히드록시-3-도데실옥시프로폭시이다.
본 발명의 다른 특징은 이들 생성물이 수득될 수 있는 방법이다. 트리스-아릴-s-트리아진 핵의 구조는 공지되어 있고 미합중국 특허 3,268,474호 및 동 3,244,708호에 기재되어 있다. 본 명세서에 특허청구된 것은 트리스-아릴-s-트리아진의 레조르시놀 기가 후-알킬화될 수 있는 공정, 즉 5-위치에서 포화 탄소에 의한 치환에 의해 관능화되는 방법이다.
본 발명의 화합물에 필요한 중간체 및 시약은 시판되고 있거나 또는 종래 기술에 공지된 방법에 의해 수득할 수 있다.
상기 알킬화를 실행하기 위해서는 다양한 방법이 채용될 수 있다. 적합한 촉매, 예컨대 염화 알루미늄, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산 등을 사용하여 알칸, 알킬 할라이드 또는 알코올을 프리델-크라프트 알킬화반응시키는 방법; 프리델-크라프트 아실화 반응 생성물을 환원시키는 방법; 활성화(미쉘) 또는 불활성화된 알켄 전체에 메타-페녹사이드를 부가하는 방법을 들 수 있고 적합한 대이온은 칼륨, 나트륨, 알루미늄, 티탄등이다.
바람직하게 채용되는 방법은 촉매량의 p-톨루엔술폰산 또는 메탄술폰산을 사용하여 알켄을 프리델-크라프트 알킬화반응시키는 방법; 또는 촉매량의 디이소부틸알주미늄 히드리드 또는 알루미늄 이소프로폭사이드를 사용하여 불활성화된 알켄 전체에 알루미늄 페녹사이드를 부가하는 방법이다.
가장 바람직하게 채용되는 방법은 불활성화된 알켄 전체에 촉매량의 알루미늄 이소프로폭사이드를 사용하여 레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진의 알루미늄 페녹사이드를 부가하는 방법이다. 이 방법은 110 내지 250℃의 온도에서 실행된다. 상기 방법은 다음과 같다;
본 발명의 화합물을 제조하는 방법은 일반식(Ia)의 화합물의 양에 비하여 2 내지 10배 과량의 알켄, 시클로알켄 또는 페닐알켄을 사용하여 실행되는 것이 바람직하다;
본 발명의 다른 요지는
(a) 화학선에 노출되면 분해되기 쉬운 유기물질 및
(b) 유효 안정량의 일반식(A) 또는 (B)의 화합물, 특히 일반식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 화합물을 포함하는 화학선의 악영향으로 부터 안정화된 조성물에 존재한다.
유기물질은 바람직하게는 중합체, 특히 고 고형분 열가소성 아크릴/멜라민 수지 또는 아크릴 우레탄 수지이고; 가장 바람직하게는 높은 고형분의 열가소성 아크릴/멜라민 수지이다.
바람직하게는 상기 조성물은,
(a) 금속 기판에 접촉하는 전착도료 하도제,
(b) 전착도료에 접촉하고 필름 형성 결합제 및 유기 안료 또는 무기 안료 또는 그의 혼합물을 포함하는 하도도료 또는 칼러 도료,
(c) 하도도료와 접촉하고 필름 형성 결합제를 포함하는 투명도료, 및
(d) 하도도료 또는 투명도료 또는 하도 도료와 투명 도료 모두에 함유된 유효 안정량의 한개 이상의 트리스-아릴-s-트리아진 자외선 흡수제를 포함하는 중합체 막 조성물이다.
상기 조성물은 성분(d)로서 1 내지 20 중량%의 필름 형성 결합제를 함유한다.
성분(d)는 하도 도료에 혼입될 수 있다.
본 발명은 또한 유효 안정량의 한개 이상의 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸을 추가로 함유하는 조성물; 기타 트리스-아릴-s-트리아진; 또는 입체장애 아민 또는 그의 혼합물에도 관한 것이다.
바람직하게는, 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸은 다음 군에서 부터 선정된다;
2-(2-히드록시-3,5-디삼차아밀페닐)-2H-벤조트리아졸;
2-[2-히드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸;
2-[2-히드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-옥틸페닐]-2H-벤조트리아졸;
2-{2-히드록시-3-삼차부틸-5-[2-(오메가-히드록시-옥타(에틸렌옥시)카르보닐)에틸]-페닐}-2H-벤조트리아졸; 및
2-{2-히드록시-3-삼차부틸-5-[2-(옥틸옥시)카르보닐)에틸]페닐}-2H-벤조트리아졸.
바람직하게는, 기타 트리스-아릴-s-트리아진은 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진; 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-헥실옥시페닐)-s-트리아진; 및 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-도데실/트리데실-2-히드록시프로폭시)페닐]-s-트리아진으로 구성된 군으로 부터 선정된다.
본 발명에 따라 광 및 수분의 작용으로 부터 안정화될 수 있는 알키드 수지 래커는 자동차 도장용으로 사용되는 동상의 스토빙 래커(자동차 마무리칠 래커), 예컨대 알키드/멜라민 수지 및 알키드/아크릴/멜라민 수지를 기본한 래커(참조; H. Wagner 및 H.F.Sarx, "Lackkunstharze"(1977), 99 내지 123 페이지)이다. 기타 가교제는 글리코우릴 수지, 블록된 이소시아네이트 또는 에폭시 수지이다.
본 발명에 따라 안정화된 래커는 금속 마무리 도료 및 고체 색조 마무리칠, 특히 마무리칠을 다시 칠하는 경우 뿐만 아니라 다양한 코일 코팅용도로 적합하다.본 발명에 따라 안정화된 래커는 통상의 방법, 예컨대 단일 도장법 또는 이중 도장법중의 어느 한 방법에 의해 도포될 수 있다. 후자의 방법의 경우, 안료 함유 하도 도료를 먼저 도포한 다음 그 위를 투명 래커의 피복 도장을 실시한다.
본 발명의 화합물은 경우에 따라 실리콘, 이소시아네이트 또는 이소시아누레이트에 의해 개질되어 에폭시, 에폭시-폴리에스테르, 비닐, 알키드, 아크릴 및 폴리에스테르 수지와 같은 비-산 촉매화된 열가소성 수지에 사용될 수 및는 것이 중요하다.
에폭시 및 에폭시-폴리에스테르 수지는 통상의 가교제, 예컨대 산, 산 무수물, 아민 등에 의해 가교될 수 있다. 따라서, 에폭사이드는 골격 구조상에 반응성 기 존재에 의해 개질된 다양한 아크릴 또는 폴리에스테르 수지계에 대한 가교제로서 사용될 수 있다.
2층 마무리제로서 사용되면, 본 발명의 화합물은 투명 도료 또는 투명도료 및 착색된 하도 도료에 혼입될 수 있다.
최대의 광 안정화작용을 달성하기 위하여, 기타 통상의 광 안정화제를 병용하는 것이 유리할 수 있다. 이러한 안정화제의 예는 벤조페논, 벤조트리아졸, s-트리아진, 시아노아크릴레이트 또는 옥사닐리드 유형의 자외선 흡수제, 또는 금속 함유 광 안정화제, 예컨대 유기 니켈 화합물, 또는 입체장애 아민 광 안정화제이다. 2층계에서는 추가의 광 안정화제가 투명 도료 또는 투명도료와 안료착색된 하도도료에 부가될 수 있다.
일반적으로 안정화될 수 있는 중합체는 다음과 같다;
1. 모노올레핀과 디올레핀들의 중합체[예를들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔]와 시클로올레핀의 중합체(예를들어 시클로펜텐 또는 노르보르넨), 폴리에틸렌(경우에 따라 가교결합될 수 있음)[예를들어 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중밀도 폴리에틸렌(MDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌 (LLDPE), 측쇄 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE)].
폴리올레핀, 즉 상기 단락에서 예로든 모노올레핀의 중합체, 바람직하게는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 상이한 방법, 특히 하기 방법에 의해 제조될 수 있다;
a) 통상 고압 및 승온하에서의 라디칼 중합반응.
b) 주기율표의 IVb, Vb, VIb 또는 VIII족의 금속 한개 이상을 함유하는 촉매를 사용한 촉매 중합반응. 이들 금속은 통상 한개 이상의 리간드, 전형적으로 π- 또는 σ-배위결합될 수 있는 산화물, 할라이드, 알코올레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 아릴을 갖는다. 이들 금속 착물은 유리형태 또는 치환기, 전형적으로 활성화 염화 마그네슘, 염화 티탄(III), 알루미나 또는 산화 실리큰상에 고정된 형태일 수 있다. 이들 촉매는 중합반응 매질에 용해성이거나 불용성일 수 있다. 이 촉매는 중합반응에 그대로 사용되거나 또는 다른 활성화제, 전형적으로 금속 알킬, 금속 히드리드, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥산이 부가될 수 있다. 상기 금속은 주기율표의 Ia, IIa 및/또는 IIIa족의원소이다. 활성화제는 보통 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르기에 의해 변형될 수 있다. 이들 촉매계는 필립스, 스탠다드 오일 인디애나, 지글러(-나타), TNZ(듀퐁), 메탈로센 또는 단일 부위 촉매(SSC)로 명명된 것이다.
2. 상기 1)항에서 언급된 중합체들의 혼합물, 예를들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물(예:PP/HDPE 또는 PP/LDPE)과 상이한 형태의 폴리에틸렌의 혼합물(예: LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀과 디올레핀 상호간 또는 다른 비닐 단량체와의 공중합체[예:에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 그와 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥센 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐아세테이트 공중합체 및 이들의 일산화탄소와의 공중합체 또는 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이틀의 염(이오노머)]; 뿐만아니라 에틸렌과 프로필렌 및 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨과 같은 디엔과의 3중합체; 및 이같은 공중합체 상호간 및 상기 1)항에서 언급한 중합체들과의 혼합물[예: 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE/에틸렌-비닐아세테이트 공중합체(EVA), LDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체(EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA 및 랜덤 또는 교대 폴리알킬렌/일산화탄소 공중합체 뿐만아니라 이들과 그밖의 다른 중합체 예컨대 폴리아미드와의 혼합물].
4. 탄화수소 수지(예: C5-C9)와 그 수소화 개질물(예:점착제수지) 및 폴리알킬렌과 녹말의 혼합물.
5. 폴리스티렌, 폴리-(p-메틸스티렌) 및 폴리-(G-메틸스티렌).
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔류 또는 아크릴 유도체의 공중합체 (예:스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 아크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/무수 말레산, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트]; 스티렌 공중합체와 기타 중합체(예: 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중합체)로 부터 형성된 고충격 강도 혼합물;과 스티렌의 블럭 공중합체[예: 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌].
7. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 공중합체 [예: 폴리부타디엔 부착 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체 부착 스티렌; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 무수 말레산; 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 무수말레산 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트; 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중합체 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴; 폴리알킬아크릴레이트 또는 폴리알킬메타크릴레이트 부착 스티렌 및 아크릴로니트닐; 아크릴레이트/부타디엔 공중합체 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴] 및 이들과 상기 6)항에 수록된 공중합체와의 혼합물(예: ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로 공지된 공중합체 혼합물).
8. 할로겐-함유 중합체 [예: 폴리클로로프렌, 염소화고무, 염소화 또는 술포염소화 폴리에틸렌, 에틸렌 및 염소화 에틸렌의 공중합체, 에피클로로히드린 동종-및 공중합체, 특히 할로겐-함유 비닐 화합물로 부터 제조된 중합체 (예를들어, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드 뿐만아니라 이들의 공중합체(예를들어 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트 공중합체)].
9. α,β-불포화산 및 그 유도체들로 부터 유도된 중합체 [예: 폴리아크릴레이트와 폴리메타크릴레이트; 부틸 아크릴레이트에 의해 내충격성으로 개질된 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드와 폴리아크릴로니트릴].
10. 9)항에서 언급된 단량체 상호간 또는 이 단량체와 기타 불포화 단량체의 공중합체 [예: 아크릴로니트릴/부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로니트릴/비닐할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼중합체].
11. 불포화 알코올 및 아민 또는 이들의 아실 유도체 또는 이들의 아세탈로 부터 유도된 중합체 [예: 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴멜라민];와 이들과 상기 1)항에서 언급한 올레핀의 공중합체.
12. 고리상 에테르의 동종 중합체 및 공중합체[예: 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 이들의 비스-글리시딜 에테르와의 공중합체].
13. 폴리아세탈 (예: 폴리옥시메틸렌 및 공단량체로서 에틸렌옥사이드를 함유하는 폴리옥시메틸렌); 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질시킨 폴리아세탈.
14. 폴리페닐린 옥사이드 및 슬피드,및 폴리페닐렌 옥사이드와 스티렌 중합체 또는 폴리아미드의 혼합물.
15. 말단 히드록시기를 갖는 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔과 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트로부터 유도된 폴리우레탄 및 그 전구체.
16. 디아민과 디카르복시산으로 부터 및/또는 아미노카르복시산 또는 상응하는 락탐으로 부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드[예: 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌 디아민과 아디프산의 축합으로 제조한 방향족 폴리아미드]와 헥사메틸렌디아민과 이소프탈산 또는/및 테레프탈산 및 경우에 따라 개질제로서 탄성 중합체를 사용해서 제조된 폴리아미드[예: 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드]; 및 전술한 폴리아미드와 폴리올레핀,올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 또는 그라프트 결합된 탄성 중합체와의 공중합체; 또는 폴리에테르 (예: 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜)와의 공중합체; 뿐만아니라 EPDM 또는 ABS로 개질시킨 폴리아미드 또는 코폴리아미드; 및 처리기간중 축합시킨 폴리아미드 (RIM-폴리아미드 계).
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에스테르이미드, 폴리히단토인 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 디카르복시산과 디올로부터, 및/또는 히드록시카르복시산 또는 상응하는 락톤으로 부터 유도된 폴리에스테르[예: 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸올시클로헥산 테레프탈레이트 및 폴리히드록시벤조에이트]와 히드록시 말단기를 갖고 었는 폴리에테르로 부터 유도된 블럭 코폴리에테르 에스테르, 및 폴리카르바메이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카르보네이트와 폴리에스테르 카르보네이트.
20. 폴리술폰, 폴리에테르술폰과 폴리에테르케톤.
21. 알데히드 및 페놀, 우레아 및 멜라민으로 부터 유도되는 가교 중합체[예: 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지].
22. 건성 및 비건성 알키드 수지.
23. 포화 및 불포화 디카르복시산과 가교결합제인 다가알코올과 비닐 화합물의 코폴리에스테르로 부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지; 와 인화성이 낮은 이들의 할로겐 함유 개질물.
24. 치환된 아크릴레이트로 부터 유도된 가교성 아크릴 수지 (예: 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트).
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지와 가교된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 또는 아크릴레이트 수지.
26. 폴리에폭사이드(예: 비스-글리시딜 에테르 또는 지환족 디에폭사이드)로 부터 유도된 가교된 에폭시 수지.
27. 천연 중합체 (예: 셀룰로오스, 고무, 젤라틴)와 화학적으로 개질시킨 이들의 유도체 (예: 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트와 셀룰로오스 부티레이트 또는 메틸 셀룰로오스등의 셀룰로오스 에테르); 뿐만 아니라 송진과 그 유도체.
28. 전술한 바와 같은 중합체 혼합물(폴리블랜드)[예: PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 폴리아미드/ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PC/ABS 또는 PBT/PET/PE].
29. 순수한 단량체성 화합물 또는 이러한 화합물의 혼합물인 천연산출 및 합성 유기물질, 예컨대 광물유, 동식물 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스테르(예컨대 프탈레이트, 아디페이트, 인산염 또는 트리멜리테이트)를 기본한 오일, 지방 및 왁스 및 또한 합성 에스테르와 광물유의 임의 중량비 혼합물, 전형적으로 방사조성물에 사용된 것 뿐만 아니라 이러한 물질의 수성 유제.
30. 천연 또는 합성 고무의 수성 유제, 예컨대 카르복시화 스티렌/부타디엔 공중합체의 천연 라텍스 또는 라티스.
30. 예컨대 미합중국 특허 4,259,467호에 기재된 연질, 친수성 폴리실옥산; 및 미합중국 특허 4,355,147호에 기재된 경질 폴리오르가노실옥산과 같은 폴리실옥산.
31. 불포화 아크릴 폴리아세토아세테이트수지 또는 불포화 아크릴 수지와 조합된 폴리케티민. 불포화 아크릴 수지는 우레탄 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 부속하는 불포화 기 및 아크릴화 멜라민과의 비닐 또는 아크릴 공중합체를 포함한다. 폴리케티민은 산 촉매 존재하에서 폴리아민 및 케톤으로 부터 제조된다.
32. 에틸렌성 불포화 단량체 또는 올리고머 및 다중불포화된 지방족 올리고머를 함유하는 방사선 경화성 조성물.
33. LSE-4103(몬산토 제품)과 같은 에폭시 관능성 공에테르화된 고 고형분 멜라민 수지에 의해 가교된 광 안정성 에폭시 수지와 같은 에폭시멜라민 수지.
일반적으로 본 발명의 화합물의 사용량은 특정 기질 및 용도에 따라서 상이하긴 하지만, 안정화될 조성물의 약 0.01 내지 약 20 중량%이다. 바람직한 범위는 0.1 내지 10중량%, 예컨대 1 내지 5중량%, 바람직하게는 1.5 내지 2.5 중량%이다.
특정 용도의 기타 조성물은 벤조페논, 벤조트리아졸, 시아노아크릴산 유도체, 히드록시아릴-s-트리아진, 유기 니켈 화합물 및 옥사닐리드로 구성된 군으로 부터 자외선 흡수제를 추가로 함유하는 것을 포함한다.
바람직한 자외선 흡수제는 하기 군으로 부터 선정된 것이다:
2-[2-히드록시-3,4-디-(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-히드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-옥틸페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-(2-히드록시-3,5-디삼차아밀페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-[2-히드록시-3-삼차부틸-5-(ω-히드록시-옥타(에틸렌옥시)카르보닐)에틸페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[2-히드록시-3-삼차부틸-5-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸, 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디삼차부틸옥사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디삼차부틸옥사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, 2,6-비스(2,4-디메틸페닐)-4-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진, 2,6-비스(2,4-디메틸페닐)-4-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진, 2, 4-비스(2, 4-디히드록시페닐)-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진, 2,6-비스(2,4-디메틸페닐)-4-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시프로판옥시)페닐]-s-트리아진 및 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논.
다른 중요한 조성물은 또한 유효 안정량의 페놀성 산화방지제를 추가로 함유하는 조성물; 입체장애 아민 유도체를 추가로 함유하는 조성물; 또는 포스파이트 또는 포스포나이트 안정화제를 추가로 함유하는 조성물을 포함한다.
특히 중요한 조성물은 유기 물질이 공업적 마무리제용으로 사용되는 고 고형분 함량의 에나멜인 조성물을 포함하며 코일코팅, 침투성 나무 마무리제 또는 필름형성 나무 마무리제로서 사용된다.
본 화합물이 반응성 관능기를 함유하면, 상기 화합물은 축합 또는 중합체 기질에 자유 라디칼 부가반응에 의해 화학적으로 결합될 수 있다. 이는 비-이동성,비 승화성 자외선 흡수제 안정화제를 제공한다. 이러한 반응성 관능기는 히드록시, 아미노, 아미도, 카르복실 및 에틸렌성 불포화 잔기를 포함한다.
본 발명에 유용한 다양한 유기 물질 및 본 발명의 화합물과 함께 사용하면 우수한 효과를 나타내는 것으로 알려진 다양한 공첨가제를 이하 보다 자세하게 설명한다.
생성한 본 발명의 안정화된 중합체 조성물은 다양한 통상의 첨가제, 예컨대 하기에 수록한 물질 또는 그의 혼합물을 약 0.01 내지 약 5중량%, 바람직하게는 약 0.025 내지 약 2중량%, 특히 약 0.1 내지 약 1 중량% 함유할 수 있다.
1. 산화방지제
1.1 알킬화 모노페놀,예를들어 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2-t-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리-시클로헥실페놀, 2,6-디-t-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸-운데크-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸-헵타데크-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데크-1'-일)-페놀 및 이들의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀,예를들어 2,4-디옥틸티오메틸-6-t-부틸페놀, 2, 4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논,예컨대 2,6-디-t-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-t-부틸-히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀-히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-t-부틸-히드로퀴논, 2,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)아디페이트.
1.4. 토코페롤,예건대 α-토코페롤, β-토코페롤,-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민 E),
1.5. 히드록시화 티오디페닐 에테르,예를들어 2,2'-티오비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-sec-아밀페놀)', 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드.
1.6. 알킬리덴 비스페놀,예를들어 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-메틸리덴비스(6-t-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-t-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-t-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. O-, N- 및 S-벤질 화합물,예를들어 3,5,3',5'-테트라-t-부틸-4,4'-디히드록시-디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질 머캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 머캅토아세테이트.
1.8. 히드록시벤질화 말로네이트,예를 들어 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실머캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
1.9. 방향족 히드록시벤질 화합물,예를들어 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물,예를들어 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11. 벤질 포스포네이트,예컨대 디메틸-2,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트, 디에틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질 포스포네이트, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질-포스폰산 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
1.12. 아실아미노페놀,예컨대 4-히드록시라우르아닐리드, 4-히드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.13.1가 또는 다가 알코올과β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐-프로피온산의 에스테르, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올,3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.14.1가 또는 다가 알코올과β-(5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)-프로피온산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로-[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.15.1가 또는 다가 알코올과β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)-프로피온산의 에스테르,예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올 1,9 노난디올, 에틸렌 글리콜 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.16.1가 또는 다가 알코올과3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐아세트산의 에스테르,예를들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.17. β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산의 아미드, 예를들어 N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진.
1.18. 아스코르브산(비타민 C)
1.19. 아민성 산화방지제,예컨대 N,N'-디이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-2차-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스-(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디시클로헥실-P-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸-부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔술팜오일)디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-2차-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예컨대 p,p'-디-3차-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노난오일아미노페놀, 4-도데칸오일아미노페놀, 4-옥타데칸오일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-3차-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄,4,4'-디아미노페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸-페닐)아미노]에탄, 1,2-비스-(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, 3차-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노 및 디알킬화 3차-부틸/3차-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노 및 디알킬화 이소프로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 모노 및 디알킬화 3차-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 디알킬화 삼차부틸/삼차옥틸 페노티아진의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 삼차 옥틸 페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일-헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온 및 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올.
2. UV 흡수제 및 광안정화제
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸, 예를들어 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸의 혼합물, 2-(3'-t-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 및 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 폴리에틸렌글리콜 300과 2-[3'-t-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시-페닐]-2H-벤조트리아졸의 에스테르 교환반응 생성물; R이 3'-t-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐인 [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2.
2.2. 2-히드록시벤조페논, 예를들어 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4- 벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 비치환 또는 치환된 벤조산의 에스테르,예를들어 4-t-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-t-부틸-벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-히드록시 벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를들어 에틸 α-시아노-β, β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β, β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시-신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 니켈 화합물,예를들어 적절한 경우 부가적인 리간드(예 : n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민)가 있는 2,2'-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물(예컨대 1:1 또는 1:2 착물), 니켈 디부틸 디티오카르바메이트, 4-히드록시-3,5-디-t-부틸 벤질 포스폰산 모노알킬 에스테르(예 : 메틸 에스테르 또는 에틸 에스테르)의 니켈 염, 케톡심(예 : 2-히드록시-4-메틸페닐운데실 케톡심)의 니켈 착물, 적절한 경우 부가적인 리간드가 있는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시 피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민, 예를들어 비스 (2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) n-부틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-t-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물,트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카르복시레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-t-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4,5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4,5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온.
2.7. 옥사미드, 예를들어 4,4'-디옥틸옥시옥사아닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-t-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-t-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에톡사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-t-부틸-2'-에톡사닐리드 및 그와 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-t-부톡사닐리드와의 혼합물,o- 및 p-메톡시-이중 치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이중 치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진,예를들어 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로폭시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 탈활성화제,예를들어 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실알-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트,예를들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트,트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스 (2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-t-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-t-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트.
5. 히드록실아민,예를 들어 N,N-디벤질히드록실아민, N,N-디에틸히드록실아민, N,N-디옥틸히드록실아민, N,N-디라우릴히드록실아민, N,N-디테트라데실히드록실아민, N,N-디헥사데실히드록실아민, N,N-디옥타데실히드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실히드록실아민, N-헵타데실-N-옥타데실히드록실아민, 수소화된 탤로우 아민으로 부터 유도된 N,N-디알킬히드록실아민.
6. 니트론예를 들어 N-벤질-알파-페닐-니트론, N-에틸-알파-메틸-니트론, N-옥틸-알파-헵틸-니트론, N-라우릴-알파-운데실-니트론, N-테트라데실-알파-트리데실-니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실-니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실-니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실-니트론, N-옥타데실-알파-펜타데실-니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실-니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실-니트론, 수소화된 탤로우아민으로 부터 유도된 N,N-디알킬히드록실아민으로 부터 유도된 니트론.
7. 티오상승제.예를 들어 디라우릴 티오디프로피오네이트 또는 디스테아릴 티오디프로피오네이트.
8. 과산화물-분해제, 예를들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예컨대 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 머캅토벤조이미다졸 또는 2-머캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실머캅토)프로피오네이트.
9. 폴리아미드 안정화제, 예를들어 요오드화물 및/또는 인 화합물과의 구리 염 및 2차 망간 염.
10. 염기성 공안정화제, 예를들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리금속 및 알칼리토금속 염, 예컨대 스테아르산칼슘, 스테아르산아연, 베헨산마그네슘, 스테아르산마그네슘, 리시놀레산나트륨, 팔미트산칼륨, 피로카테콜산안티몬 또는 피로카테콜산주석.
11. 핵 생성제, 예를들어 탈컴과 같은 무기 물질, 이산화 티탄 또는 산화 마그네슘과 같은 금속 산화물, 바람직하게는 알칼리 토금속의 인산염, 탄산염 또는 황산염; 모노- 또는 폴리카르복시산 및 그의 염과 같은 유기 화합물, 예를 들어 4-t-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 숙신산 나트륨 또는 벤조산 나트륨; 이온성 공중합체와 같은 중합성 화합물(이온노머).
12. 충전재 및 강화제,예를들어 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 석면,활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연.
13. 다른 첨가제,예컨대 가소화제, 윤활제, 유화제, 안료, 유동 첨가제, 촉매, 유동조절제, 형광증백제, 난연제, 대전방지제 및 발포제.
14. 벤조푸라논 및 인돌리논,US-A-4 325 863호, US-A-4 338 244호, US-A-5 175 312호, US-A-5 216 052호, US-A-5 252 643호, DE-A-4 316 611호, DE-A-4 316 622호, DE-A-4 316 876호, EP-A-0 589 839호 또는 EP-A-0 591 102호 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-t-부틸-벤조푸란-2-온, 5,7-디-t-부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-t-부틸-3-(4-[2-히드록시에톡시)-페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-t-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-t-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-t-부틸-벤조푸란-2-온.
특히 중요한 페놀성 산화방지제는 n-옥타데실 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트, 네오펜탄테트라일 테트라키스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 디-n-옥타데실 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 비스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트) 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디삼차부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 3,6-디옥사옥타메틸렌 비스(3-메틸-5-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 2,6-디삼차부틸-p-크레졸, 2,2'-에틸리덴-비스(4,6-디삼차부틸페놀), 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-4-삼차부틸-3-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-삼차부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리스[2-(3,5-디삼차부틸-4-히드록시히드로신나모일옥시)에틸]이소시아누레이트, 3,5-디-(3,5-디삼차부틸-4-히드록시벤질)메시톨, 헥사메틸렌 비스(3,5-디삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 1-(3,5-디삼차부틸-4-히드록시아닐리노)-3,5-디(옥틸티오)-s-트리아진, N,N'-헥사메틸렌-비스(3,5-디삼차부틸-4-히드록시히드로신남아미드), 칼슘 비스(에틸 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질포스포네이트), 에틸렌 비스[3,3-디(3-삼차부틸-4-히드록시페닐)부티레이트], 옥틸 3,5-디삼차부틸-4-히드록시벤질머캅토아세테이트, 비스(3,5-디삼차부틸-4-히드록시히드로신남오일)-히드라지드 및 N,N'-비스[2-(3,5-디삼차부틸-4-히드록시히드로신남모일옥시)-에틸]-옥사미드로 구성된 군으로 부터 선정된다.
가장 바람직한 페놀성 산화방지제는 네오펜탄테트라일 테트라키스(3,5-디-삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트), n-옥타데실 3,5-디삼차부틸-4-히드록시히드로신나메이트, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디삼차부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 1,3,5-트리스-3,5-디삼차부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 2,6-디삼차부틸-p-크레졸 또는 2,2'-에틸리덴-비스-(4,6-디삼차부틸페놀)이다.
특히 중요한 입체장애 아민 화합물은 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디 (1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) (3,5-디삼차부틸-4-히드록시벤질)부틸말로네이트. 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자-스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)니트릴로트리아세테이트,1,2-비스(2,2,6,6-테트라메틸-3-옥소피페라진-4-일)에탄, 2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-21-옥소디스피로[5.1.11.2]헨아이코산, 2,4-디클로로-6-삼차옥틸아미노-s-트리아진 및 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)의 중축합반응 생성물, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 및 숙신산의 중축합반응 생성물, 4,4'-헥사메틸렌비스-(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘) 및 1,2-디브로모에탄의 중축합반응 생성물, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) 1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 및 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)의 중축합반응 생성물, N,N',N",N"'-테트라키스[(4,6-비스(부틸-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘-4-일)-아미노-s-트리아진-2-일]-1,10-디아미노-4,7-디아자데칸, 혼합된 [2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]-운데칸)디에틸]1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 혼합된 [1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라욱사스피로(5.5)-운데칸)디에틸]1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 옥타메틸렌비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-카르복실레이트), 4,4'-에틸렌비스(2,2,6,6-테트라메틸피페라진-3-온), N-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일-n-도데실숙신이미드, N-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일-n-도데실숙신이미드, N-1-아세틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일-n-도데실숙신이미드, 1-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 디-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시-피페리딘, 폴리-{[6-삼차옥틸아미노-s-트리아진-2,4-디일][2-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노-헥사메틸렌-[4-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노], 및 2,4,6-트리스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진이다.
가장 바람직한 입체장애 아민 화합물은 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스 (1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) (3,5-디삼차부틸-4-히드록시벤질)부틸말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘의 중축합반응 생성물, 2,4-디클로로-6-삼차옥틸-아미노-s-트리아진과 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)의 중축합 반응 생성물, N,N',N",N"'-테트라키스[(4,6-비스(부틸-(2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘-4-일)아미노)-s-트리아진-2-일]-1,10-디아미노-4,7-디아자데칸, 디-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 디-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시-피페리딘, 폴리-{(6-삼차옥틸아미노-s-트리아진-2,4-디일][2-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노헥사메틸렌-[4-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)n-부틸아미노]-s-트리아진, 또는2,4,6-트리스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6,-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진이다.
하기 실시예는 본 발명을 자세히 설명하기 위한 것으로 본 발명의 범위에 어떠한 제한을 가하지 않는다.
[실시예 1]
2-(2,4,-디하이드록시-5-헥실페닐)-4,6,-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 및 질소 분위기가 구비된 500mL의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 5.10g(16.0 밀리몰)의 2-클로로-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 3.10g(16.0 밀리몰)의 헥실레조르시놀 및 40mL의 테트라클로로에탄올을 장입한다. 상기 혼합물을 서서히 가온시켜 균일하게 만든 다음 2.10g(16.0 밀리몰)의 염화 알루미늄을 소량씩 신속하게 부가한다. 이 혼합물을 148℃로 유지되는 오일 중탕기중에서 5 시간 동안 가열시킨 다음 실온에서 철야로 방치한다. 200 mL의 2N 염산을 부가한 다음 이 혼합물을 2 시간 동안 환류시킨다. 실온으로 냉각시킨 후, 아세트산 에틸의 일부를 부가하고 상들을 분리한다. 수층은 아세트산 에틸을 사용하여 2회 추출하고 모아진 유기층을 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시킨다. 여과한 후 용매를 감압하에서 제거하여 7.35g의 황색 고체를 수득한다. 생성한 조 생성물을 아세트산 에틸/헵탄으로부터 재결정화시켜 융점이 165 내지 167℃인 황색 고체로서 표제 화합물을 4.15g을 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 288; 348 nm (∈38,000; 16,200).
분석 :
C31H35N3O2: 계산치: C, 77.3; H, 7.3; N, 8.7
실측치: C, 77.2; H, 7.3; N, 8.7
[실시예 2]
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[5-헥실-2-히드록시-4-(2-히드록시-3-페녹시프로폭시)-페닐]-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 3.88 g(8.10 밀리몰)의 실시예 1의 생성물, 30 mL의 1,2-에폭시-3-페녹시프로판 및 200 mg의 트리페닐에틸포스포늄 요오다이드를 장입한다. 상기 혼합물을 210℃의 외부 온도에서 6 시간 동만 교반한다. 실온으로 냉각시킨 후, 과량의 에폭사이드를 감압하에서 제거하고 그 잔류물을 소량의 3:1 헵탄: 아세트산 에틸에 용해시킨다. 그 용액을 실리카겔 플러그를 통하여 통과시키고 용매를 제거하여 7.70 g의 오렌지색 고체를 수득한다. 생성한 조 생성물을 3:1 헵탄; 아세트산 에틸을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제한 다음 헵탄으로 부터 재결정시켜 1.17 g의 표제 화합물을 황색고체로서 수득한다. 융점 110 내지 111℃.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 288; 350 nm (∈40, 500; 19,500).
분석 ;
C40H45N3O4: 계산치: C, 76.0; H, 7.2; N, 6.7
실측치: C, 75.7; H, 7.4; N, 6.5
[실시예 3]
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2[4-(3-도데실옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 온도계 및 질소 분위기가 구비된 1 리터의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 15.0 g(31.1 밀리몰)의 실시예 1의 생성물, 12.0 g(46.9 밀리몰)의 글리시딜 도데실*에테르, 및 770 mg의 트리페닐에틸포스포늄 요오다이드를 장입한다. 이 혼합물을 210℃에서 8 시간 동안 교반한다. 실온으로 냉각시킨 후, 과량의 에폭사이드를 감압하에서 제거한다. 상기 조 생성물을 아세트산 에틸에 용해시키고 실리카겔 플러그를 통과시키고 또 3:1 헵탄: 아세트산 에틸을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제하여 16.4 g의 표제 화합물을 오렌지색 유리질 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 290; 350 nm (∈49,500; 23,900).
*도데실은 본 발명에서 글리시딜 도데실 에테르, 글리시딜 테트라데실 에테르, 및 기타 여러개의 장쇄 글리시딜 에테르의 혼합물로서 사용되며 시바-가이기코포레이숀사로 부터 구입할 수 있는 상기 글리시딜 에테르의 혼합물인 "에폭사이드 8"로부터 유도된다.
[실시예 4]
2-(2,4-디히드록시-5-에틸페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 둥근 바닥 플라스크에 5.14 g(15.9 밀리몰)의 2-클로로-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2.20g(15.9 밀리몰)의 4-에틸레조르시놀 및 40 mL의 테트라클로로에탄을 장입한다. 서서히 가온하여 혼합물을 용해시킨 후, 2.13g(15.9 밀리몰)의 염화 알루미늄을 소량씩 신속하게 부가한다. 이 혼합물을 교반하고 145℃의 외부 온도에서 5.5 시간 동안 가열한다. 실온에서 철야로 방치한 후, 200 mL의 2N 염산을 부가하고 그 혼합물을 3 시간 동안 환류시킨다. 실온으로 냉각시킨 후 아세트산 에틸의 일부를 부가하고 충들을 분리한다. 수층은 아세트산 에틸을 사용하여 2회 이상 추출하고 모아진 유기층을 염수로 1회 세척하고 무수 황산 마그네슘상에서 건조시킨다. 여과한 후 용매를 감압하에서 제거하여 7.10g의 황색 고체를 수득한다. 조 고체를 3:1 헵탄: 아세트산 에틸로 부터 재결정화시켜 2.21 g의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다.
융점 193 내지 195℃.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 288; 348 nm (∈40,400; 18,300).
분석 ;
C27H27N3O2; 계산치; C, 76.2; H, 6.4; N, 9.9
실측치: C, 76.2; H, 6.4; N, 10.1
[실시예 5]
2-[2,4-디히드록시-5-(1,1-디메틸에틸)페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기교반기, 응축기, 및 질소 분위기가 구비된 250 mL의 둥근 바닥 플라스크에 440 mg(1.11 밀리몰)의 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2 mL의 디이소부틸렌 및 6 mL의 메탄술폰산을 장입한다. 이 혼합물을 외부 온도 75℃에서 3 시간 동안 교반한다. 이 혼합물을 방치하여 실온으로 냉각시키고 동량의 아세트산 에틸 및 물을 부가한다. 층들을 분리하고 유기 층을 물로 1회 세척하고 포화 중탄산 나트륨 용액으로 2회 세척하며, 염수로 1회 세척하고 또 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시킨다. 여과시킨 후, 용매를 감압하에서 제거하여 1.28 g의 황색 고체를 수득한다. 생성한 조 고체를 3:1 헵탄; 아세트산 에틸을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제하여 59 mg의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl9) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 290; 346 nm (∈29,400; 16,600).
[실시예 6]
2-[2,4-디히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 적하 깔때기, 온도계 및 질소 분위기를 구비한 1 리터의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 15.0 g(37.8 밀리몰)의 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진 및 390 mg의 이소프로폭사이드률 장입한다. 이 혼합물을 175℃로 가열한 다음 4.47 g(37.9 밀리몰)의 α-메틸스티렌을 매 2초동안 1방울의 비율로 적가한다. 상기와 같은 방식으로 4.5 시간에 걸쳐 총 6 당량의 α-메틸스티렌을 부가한다. 실온으로 냉각시킨 후 혼합물을 아세트산 에틸로 희석시키고 물로 2회 또 염수로 1회 세척한 다음 무수 황산 마그네슘상에서 건조시킨다. 여과한 후 용매를 감압하에서 제거하여 황색 고체를 수득한다. 생성한 조 생성물을 12% 아세트산 에틸/헵탄을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제하여 13.2 g의 표제 화합물을 수득한다. 융점 168 내지 170℃.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 290; 347 nm (∈45,700; 23,300).
[실시예 7]
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시)-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진
실시예 3의 일반적 과정을 따서 4.59 g(8.91 밀리몰)의 실시예 6의 생성물,3.10g(16.9 밀리몰)의 글리시딜 노닐*에테르 및 510 mg의 트리페닐에틸모스포늄 요오다이드를 160℃에서 7시간 동안 반응시킨다. 그 생성물을 실시예 3에서와 같이 처리하여 3.82 g의 표제 화합물을 왁스상 투명 갈색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 291; 348 nm (∈36,600; 19,000).
*노닐은 본 발명에서 글리시딜 옥틸 에테르, 글리시딜 데실 에테르 및 그외 수개의 글리시딜 에테르의 혼합물로 사용되며 시바-가이기 코포레이숀으로 부터 구입할 수 있는 상기 글리시딜 에테르의 혼합물인 "에폭사이드 7"로 부터 유도된다.
[실시예 8]
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[4-헥실옥시-2-히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)-페닐]-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 온도계 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 5.50 g(10.7 밀리몰)의 실시예 6의 생성물 및 50 mL의 N,N-디메틸포름아미드를 장입한다. 가온하여 균일 용액을 형성한 후, 0.43 g(17.9 밀리몰)의 수소화나트륨 및 2.26 g(10.7 밀리몰)의 1-요오도헥산을 부가한다. 이 혼합물을 40℃에서 4시간 동안 교반한다. 실온으로 냉각시킨 후, 혼합물을 물이 든 비이커에 붓는다. 진공 여과하여 4.64 g의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다. 융점 111 내지 115℃.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 290; 348 nm (∈41,700; 22,300).
[실시예 9]
2-[2,4-디히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진
자기 교반기, 적하 깔때기, 응축기, 온도계 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 5.00 g(14.7 밀리몰)의 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-페닐-s-트리아진 및 300 mg의 이소프로폭시화 알루미늄을 장입한다. 이 혼합물을 160℃로 가열하고 17.3 g의 α-메틸스티렌을 동시에 부가한다. 상기 온도에서 26 시간 동안 교반한 후 혼합물을 냉각시키고 소량의 헵탄을 부가한다. 진공 여과하여 4.45 g의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다.
[실시예 10]
2-[2-히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-옥틸옥시페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진
응축기 자기 교반기, 온도계 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 4.00 g(8.71 밀리몰)의 실시예 9의 생성물, 50 mL의 N,N-디메틸포름아미드 및 0.40 g(10 밀리몰)의 수소화 나트륨(무기오일중의 60%)를 장입한다. 이 혼합물을 50℃의 외부 온도에서 가열한 후 1.68 g(8.70 밀리몰)의 1-브로모옥탄을 부가한다. 이 혼합물을 상기 온도에서 6 시간 동안 교반한 다음 실온으로 냉각시킨다. 이 혼합물을 물이 든 비이커에 붓고 클로로포름으로 4회 추출한다. 수득한 클로로포름층을 물을 사용하여 4회 세척하고 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시키고 여과한다. 용매를 감압하에서 제거하여 황색 오일을 수득한다. 조 생성물을 10:1 헵탄:아세트산 에틸을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제한 다음 아세톤/물로 부터 재결정하여 1.12 g의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 271; 351 nm (∈44,000; 24,000).
[실시예 11]
2-(5-클로로-2,4-디히드록시페닐)-4,5-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기교반기, 온도계, 응축기 및 질고 분위기를 구비한 1L들이 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 20.0 g(61.9 밀리몰)의 2-클로로-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진 및 50 mL의 테트라클로로에탄올 장입한다. 이 혼합물을 가온하여 고체를 용해시키고 또 8.24 g(62.0 밀리몰)의 염화 알루미늄을 소량으로 동시에 부가한 다음 9.00 g(62.1 밀리몰)의 4-클로로레조르시놀을 부가한다. 이 혼합물을 120℃에서 4 시간 동안 교반한다. 실온으로 냉각시킨 후 50 mL의 물 및 10 mL의 진한 염산을 부가하고 그 혼합물을 2 시간 동안 환류시킨다. 냉각시킨 후, 그 혼합물을 아세트산 에틸을 사용하여 3회 추출하고 모아진 유기 층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과한다. 용매를 감압하에서 제거하여 황색 고체를 수득한다. 아세트산에틸/헵탄으로 부터 재결정시켜 8.65 g의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 248; 345 nm (∈48,000; 19,000).
[실시예 12]
2-(2,4-디히드록시-5-프로피오닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기, 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 삼가지, 둥근 바닥 플라스크에 5.33 g(13.0 밀리몰)의 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진 및 20 mL의 테트라클로로에탄올 장입한다. 그 혼합물을 40℃의 외부 온도로 가온시킨 다음 4.33 g(32.5 밀리몰)의 염화 알루미늄을 소량씩 신속하게 부가한다. 1.20 g(13.0 밀리몰)의 염화 프로피오닐 용액을 20 mL의 테트라클로로에탄에 용해시킨 용액을 I5분간에 걸쳐 적가한디. 이 혼합물을 110℃의 외부 온도에서 4 시간 동안 교반한다. 실온으로 냉각시킨 후, 50 mL의 물 및 5 HL의 진한 염산을 부가하고 그 혼합물을 가온하면서 2 시간 동안 교반한다. 아세트산 에틸의 일부를 가열하면서 부가하여 모든 고체를 용해시킨다. 층들을 분리하고 수층은 아세트산 에틸을 사용하여 1회 이상 추출한다. 모아진 유기층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과한다. 생성물을 결정화시켜 2.14 g의 표제 화합물을 진공 여과에 의해 황색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 270; 338 nm (∈49,500; 17,500).
[실시예 13]
2-[2,4-디히드록시-5-(1-이소부틸이미노)프로필페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
실시예 12의 생성물(410 mg, 0.900 밀리몰)을 가온하면서 이소부틸아민에 용해시킨다. 이 용액을 1 시간 동안 방치한다. 일부의 물을 부가하고 그 혼합물을 진공 여과하며 침전물을 아세트산 에틸을 사용하여 세척한다. 고체를 공기 건조시켜 300 mg의 표제 화합물을 황색 고체로 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 276; 348 nm (∈28,700; 16,100).
[실시예 14]
2-[2,4-디히드록시-5-(1-이소부틸아미노)프로필페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기교반기를 구비한 100 mL들이 둥근 바닥 플라스크에 67 mg(0.13 밀리몰)의 실시예 13의 생성물, 4 mL의 아세트산 및 50 mg의 수소화 붕소 나트륨을 장입한다. 이 혼합물을 1 시간 동안 교반한다. 소량의 아세트산 에틸 및 물을 부가하고 층들을 분리한다. 유기층을 물로 2회 세척하고, 포화 중탄산 나프륨으로 2회 세척하며 염수로 1회 세척하고 또 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시킨다. 여과한 후, 용매를 감압하에서 제거하여 73 mg의 표제 화합물을 투명한 황색 오일로 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 288; 348 nm (∈28,900; 17,500).
[실시예 15 내지 18]
실시예 1, 4 또는 11의 일반적 과정에 따라서, 하기에 수록한 치환된 s-트리아진 화합물을 제조한다.
[실시예 19]
2-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,5-디페닐-s-트리아진
자기교반기, 응축기 및 질소 분위기가 구비된 350 mL의 술폰화 플라스크에 21.4g(80 밀리몰)의 2-클로로-4,6-디페닐-s-트리아진 및 100 mL의 크실렌(이성질체의 혼합물)을 장입한다. 베이지색 현탁액에 11.3 g(85 밀리몰)의 염화 알루미늄을 한꺼번에 부가한다. 이 혼합물을 45분간에 걸쳐 약 80℃로 가열한다. 18.8 g(96 밀리몰)의 4-헥실레조르시놀을 5회에 걸쳐 40분 동안 부가하여 균일한 용액을 수득한다. 이 반응 혼합물을 90℃에서 24 시간 동안 가열한다. 실온으로 냉각시킨 후, 플라스크의 내용물을 100 mL의 12% 수성 염산에 붓는다. 형성된 침전물을 여과에 의해 제거하고 물을 사용하여 pH 7로 세척하며 메탄올로 헹구고 진공하 70℃에서 건조시킨다. 표제 화합물을 조 오렌지 생성물(29.2 g)로 수득하고 이는 209 내지 213℃에서 용융한다. 이것은 더 이상 정제없이 사용될 수 있다.
[실시예 20 내지 24]
실시예 5, 6 또는 9의 일반적 과정에 따라서 하기 수록한 치환된 s-트리아진 화합물을 제조한다.
[실시예 25 내지 33]
실시예 2, 3 또는 7의 일반적 과정에 따라서 하기 수록한 치환된 s-트리아진화합물을 제조한다.
[실시예 34]
4,6-디페닐-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기가 구비된 350 mL의 술폰화 플라스크에 20.0 g(47 밀리몰)의 실시예 19의 생성물, 6.5 g(47 밀리몰)의 탄산 칼륨, 50 mg의 요오드화 칼륨 및 50 mL의 2-에톡시에탄올을 장입한다. 이 현탁액을 110℃로 승온시키고 또 8.5 g(51 밀리몰)의 1-브로모헥산을 30분간 적가한다. 22 시간 후, 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 침전물을 여과에 의해 제거하며 물로세척하여 pH 6으로 만들고 메탄올로 세척하고 또 70℃, 진공하에서 건조시킨다. 조 황색 생성물(19g)을 100 mL의 2-에톡시에탄올로 부티 2회 재결정화시켜 표제 화합물 15.6 mg을 황색 고체로 수득한다. 융점 140 내지 141℃. 순도 98.8 %(DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 273; 355 nm (∈42,000; 20,000).
분석 ;
C33H39N3O2: 계산치: C, 77.8; H, 7.7; N, 8.2
실측치; C, 77.6; H, 7.9; N, 8.2
[실시예 35]
4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기가 구비된 200 mL의 술폰화 플라스크에 14.5 g(30 밀리몰)의 실시예 1의 생성물, 4.6 g(33 밀리몰)의 탄산칼륨, 50mg의 요오드화 칼륨 및 60 mL의 2-에톡시에탄올을 장입한다. 이 현탁액을 110℃로 승온시키고 5.5 g(33 밀리몰)의 1-브로모헥산을 20분간에 걸쳐 적가한다. 16 시간 후, 일부의 1-브로모헥산(5.5 g, 33 밀리몰)을 부가하고 8시간 동안 계속 가열한다.
이 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 침천물을 여과에 의해 제거하고 물로세척하며 pH 6으로 만들고 메탄올로 헹구며 진공하, 70℃에서 건조시킨다. 조 황색 생성물(13.9 g)을 300 mL의 2-에톡시에탄올로 부터 2회 재결정화시켜 표제 화합물 10.7 g을 황색 고체로 수득한다. 융점 78 내지 80℃. 순도 99.1 % (DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 293; 353 nm (∈42,000; 21,000).
분석 ;
C37H47N3O2; 계산치 ; C, 78.5; H, 8.4; N, 7.4
실측치; C, 78.0; H, 8.3; N, 7.4
[실시예 36 내지 45]
실시예 8 또는 10의 일반적 과정에 따라서, 하기 수록한 치환된 s-트리아진을 제조한다.
[실시예 46]
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2,4-디히드록시-5-(1-히드록시프로필)페닐]-S-트리아진
응축기, 자기 교반기, 온도계, 적하 깔때기, 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 25 mL의 테트라히드로푸란 및 0.89 g(24 밀리몰)의 수소화 리튬 알루미늄을 장입한다. 2.00 g(4.42 밀리몰)의 실시예 12의 생성물을 250mL의 테트라히드로푸란에 용해시킨 용액을 30분간에 걸쳐 교반되는 현탁액에 적가한다. 이 혼합물을 실온에서 3.5 시간 동안 교반한 다음 과량의 수소화 리튬 알루미늄을 소량의 아세트산 에틸 이어 물을 사용하여 급냉시킨다. 무수 황산 마그네슘을 부가하고 혼합물을 여과하며 또 용매를 감압하에서 제거한다. 조 생성물을 3:1 헵탄:아세트산 에틸을 사용하여 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제하여 0.27 g의 표제 화합물을 황색 고체로 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 289; 344 nm (∈45,000; 18,700).
[실시예 47]
2-(5-벤조일-2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기, 적하 깔때기, 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 삼가지 둥근 바닥 플라스크에 5.57 g(14.0 밀리몰)의 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진 및 25 mL의 테트라클로로에탄을 장입한다. 이 혼합물을 90℃의 외부 온도로 가온시키고 또 20 mL의 테트라클로로에탄중의 2.88 g(20.5 밀리몰)의 염화 벤조일을 45분간에 걸쳐 적가한다. 이 혼합물을 145℃의 외부 온도에서 6 시간 동안 교반하고 또 실온에서 철야로 교반한다. 50 mL의 물 및 5 mL의 진한 염산을 부가하고 그 혼합물을 3 시간 동안 가온하면서 교반한다. 소량의 아세트산 에틸을 부가하고 그 혼합물을 가온하여 유기 고체를 용해시킨다. 층들을 분리시키고 수층을 아세트산 에틸로 세칙하고 또 모아진 유기층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과한다. 생성물을 용액으로부터 결정화시켜 3.55 g의 표제 화합물(흰색을 띤 침상)을 진공 여과에 의해 수집한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 282; 340 nm (∈61,400; 15,600),
[실시예 48]
4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2,4-디히드록시-5-(α-히드록시벤질)페닐]-s-트리아진
적하 깔때기, 응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기를 구비한 300 mL의 3가지 둥근 바닥 플라스크에 20 mL의 테트라히드로푸란 및 0.26 g(6.8 밀리몰)의 수소화 리튬 알루미늄을 장입한다. 30 mL의 테트라히드로푸란중에 실시예 47의 생성물 0.50 g(1.0 밀리몰)이 용해된 용액을 10분간에 걸쳐 교반되는 현탁액에 부가한다. 이 혼합물을 2 시간 동안 환류시킨 다음 실온으로 냉각시킨다. 과량의 수소화 리튬 알루미늄을 소량의 아세트산 에틸 및 이어 물을 사용하여 급냉시킨다. 무수 황산 마그네슘을 부가하고 그 혼합물을 여과하며 용매를 진공하에서 제거하여 0.35 g의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 288; 343 nm (∈;12,400; 13,500).
[실시예 49]
2-(2,4-디히드록시-5-페닐티오페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 온도계 및 질소 분위기가 구비된 500 mL의 3가지 둥근 바닥 플라스크에 1.30 g(3.0 밀리몰)의 실시예 11의 생성물, 5 mL의 N-메틸피롤리돈 및 0.51 g(9.1 밀리몰)의 수산화 칼륨을 장입한다. 이 혼합물을 교반하고 또 140℃로 가열하며 0.33 g(3.0 밀리몰)의 티오페놀을 한번에 부가한다. 15시간 후 이 혼합물을 실온으로 냉각시킨다. 소량의 10% 수성 염산을 교반하면서 부가한다. 이 혼합물을 여과하고 그 고형분을 물, 이어서 헵탄을 사용하여 세척한다. 조 생성물을 아세트산 에틸로부터 재결정화하여 0.56 g의 표제 화합물을 흰색을 띠는 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 289; 339 nm (∈51,000; 18,000).
[실시예 50]
2-(2,4-디히드록시-5-페닐술피닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
응축기, 자기 교반기, 온도계 및 질소 분위기를 구비한 250 mL의 3가지 둥근 바닥 플라스크에 0.25 g(0.49 밀리몰)의 실시예 49의 생성물, 0.059 g(0.98 밀리몰)의 아세트산, 및 20 mL의 2-프로판올을 장입한다. 이 혼합물을 가열하여 환류시키고 또 0.067 g(1.0밀리몰)의 50% 과산화 수소를 부가한다. 이 혼합물을 1 시간 동안 환류시키고 또 실온으로 냉각시킨다. 소량의 아세트산 에틸을 부가하고 유기층을 10% 수성 메타중아황산 나트륨을 사용하여 2회 세척하고, 포화 중탄산 나트륨으로 2회, 또 염수로 1회 세척하며 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시킨다. 여과한 후 용매를 감압하에서 제거하여 황색 고체를 수득한다. 3:1 헵탄:아세트산 에틸을 사용하여 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 0.11 g의 표제 화합물을 황색 고체로 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 279; 373 nm (∈23,000; 23,000).
[실시예 51]
2-(2,4-디히드록시-5-페닐술포닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 온도계 및 질소 분위기가 구비된 250 mL의 3가지 둥근 바닥 플라스크에 0.27 g(0.54 밀리몰)의 실시예 50의 생성물, 0.80 g(1.3 밀리몰)의 아세트산, 0.10 g(1.0 밀리몰)의 황산 및 20 mL의 2-프로판올을 장입한다. 이 혼합물을 가열하여 환류시키고 또 0.077 g(1.1 밀리몰)의 50% 과산화 수소를 부가한다. 5 시간 후, 혼합물을 실온으로 냉각시키고 또 소량의 아세트산 에틸을 부가한다. 유기층을 10% 수성 메타중아황산 나트륨으로 2회 세척하고, 포화 중탄산 나트륨으로 2회, 염수로 1회 세척하고 또 무수 황산 마그네슘상에서 건조시킨다. 여과한 후, 용매를 감압하에서 제거하여 황색 고체를 수득한다. 1:3 헵탄:아세트산 에틸을 사용하여 플래쉬 크로마포그래피로 정제하여 0.11 g의 표제 화합물을 황색고체로 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 276; 377 nm (∈30,000; 31,000).
[실시예 52 및 53]
실시예 5, 6 및 9의 일반적 과정에 따라서, 하기 수록한 일반식(IV)의 화합물을 제조한다.
[실시예 54]
2-(5-클로로-2,4-디히드록시페닐)-4,5-디페닐-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 26.8 g(100 밀리몰)의 2-클로로-4,6-디페닐-s-트리아진 및 100 mL의 크실렌(이성질체의 혼합물)를 장입한다. 생성한 베이지색 현탁액에 14.9 g(112밀리몰)의 염화 알루미늄을 한꺼번에 부가한다. 이 혼합물을 2 시간 동안 약 80℃로 가온시킨다. 17.4g(120 밀리몰)의 4-클로로레조르시놀을 40분간에 걸쳐 5회 부가하여 균일 용액을 생성한다. 이 반응 혼합물을 90℃에서 42 시간 동안 가열하고 또 24 시간 동안 환류시킨다. 실온으로 냉각시킨 후 플라스크의 내용물을 100 mL의 12% 수성염산에 붓는다. 형성된 침전물을 여과에 의해 제거하고 물을 사용하여 pH 7로 세척하고 메탄올로 헹구며 또 70℃, 진공에서 건조시킨다. 표제 화합물을 조 황토색-적색 생성물(29.5 g)을 수득한다. 융점 255 내지 265℃. 이는 더 정제없이 사용될 수 있다.
[실시예 55]
4,6-디페닐-2-(5-클로로-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 26.3 g(70 밀리몰)의 실시예 54의 생성물, 10.6 g(77 밀리몰)의 탄산 칼륨, 50 mg의 요오드화 칼륨 및 50 mL의 2-에톡시에탄올을 장입한다. 이 현탁액을 110℃로 가온시키고 또 10.8 g(77 밀리몰)의 1-브로모헥산을 30분간에 걸쳐 적가한다. 8시간 후, 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 침전물을 여과에 의해 제거하며 물을 사용하여 pH 6으로 세척하며, 메탄올로 헹구며 또 진공하 70℃에서 건조시킨다. 조베이지색 생성물(26.9 g)을 600 mL의 2-에톡시에탄올로 부터 2회 재결정화시켜 표제화합물 18.6 g을 황색 고체로 수득한다. 융점 147 내지 149℃ 순도 98.7%(DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 281; 351 nm (∈45,000; 18,400),
[실시예 56]
4,6-디페닐-2-(5-헥실-4-메톡시-2-히드록시페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 20.0 g(47 밀리몰)의 실시예 19의 생성물, 7.2 g(52 밀리몰)의 탄산 칼륨 및 100 mL의 2-에톡시에탄올을 장입한다. 이 현탁액을 50℃로 가온시키고 또 13.3g(94 밀리몰)의 요오드화 메틸을 45분간에 걸쳐 적가한다. 14 시간 후, 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 석출물을 여과에 의해 제거하며 물을 사용하여 pH 6으로 세척하며 메탄올로 헹구고 또 진공하, 70℃에서 건조시킨다. 조 황색 생성물(16.1 g)을 2-에톡시에탄올로 부터 2회 재결정화시켜 표제 화합물 9.8 g을 황색 고체로 수득한다. 융점 186 내지 188℃. 순도 94.1 %(DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 275; 354 nm (∈41,900; 18,500),
분석 ;
C28H29N3O2: 계산치 : C, 76.5; H, 6.7; N, 9.6
실측치 : C, 75.3; H, 6.8; N, 9.4
[실시예 57]
2-[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-4,6-디페닐-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 8.5 g(20 밀리몰)의 실시예 19의 생성물, 0.4 g(1 밀리몰)의 트리페닐에틸포스포늄 브로마이드, 3.0 g(22 밀리몰)의 부틸 글리시딜 에테르 및 50 mL의 크실렌(이성질체의 혼합물)을 장입한다. 진한 오렌지색 현탁액을 24 시간 동안 환류시킨다. 이 반응 혼합물을 실온으로 냉각시킨 다음 침전물을 여과에 의해 제거하고 소량의 크실렌으로 세척하며 메탄올로 헹구고 또 진공하 70℃에서 건조시킨다. 황색의 조 생성물(9.0 g)을 20 mL의 2-에톡시에탄올로 부터 2회 재결정화시켜 표제 화합물 6.0 g을 황색 고체로 수득한다. 융점 145 내지 146℃. 순도 98.2 %(DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 275; 354 nm (∈43,000; 19,000).
분석 ;
C34H41N3O4: 계산치 : C, 73.5; H, 7.4; N, 7.6
실측치 : C, 73.6; H, 7.5; N, 7.5
[실시예 58]
2-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기 및 질소 분위기를 구비만 350 mL의 술폰화 플라스크에 29.6 g(100 밀리몰)의 2-클로로-4,6-비스(4-메틸페닐)-s-트리아진 및 100 mL의 크실렌(이성질체의 혼합물)을 장입한다. 생성한 베이지색 현탁액에 11.3 g(85 밀리몰)의 염화 알루미늄을 한꺼번에 부가한다. 이 혼합물을 75분간 약 90℃로 가온시킨다. 21.4 g(110 밀리몰)의 4-헥실레조르시놀을 45분간에 걸쳐 5회 부가하여 균일 용액을 생성한다. 이 반응 혼합물을 90℃에서 18시간 동안 가열한다. 이것을 실온으로 냉각시킨 후 플라스크의 내용물을 120 mL의 6% 수성 염산에 붓는다. 형성된침전물을 여과에 의해 제거하고 물을 사용하여 pH 7의 세척하며 메탄올로 헹구며 또 진공하 70℃에서 건조시킨다. 표제 화합물을 오렌지에 조 생성물(43.1 g)로 수득하며 이것은 228 내지 231℃에서 용융된다. 이것은 더 이상 정제없이 사용될 수 있다.
[실시예 59]
4,6-비스(4-메틸페닐)-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기를 구비한 200 mL의 술폰화 플라스크에 13.6 g(30 밀리몰)의 실시예 58의 생성물, 4.6 g(33 밀리몰)의 탄산칼륨, 50 mg의 요오드화 칼륨 및 70 mL의 2-에톡시에탄올을 장입한다. 이 현탁액을 110℃로 가온시키고 또 5.5 g(33 밀리몰)의 1-브로모헥산을 30분간에 걸쳐 적가한다. 20분후 1-브로모헥산(5.5 g, 33 밀리몰)을 또 부가하고 25시간 더 가열한다. 이 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 침전물을 여과에 의해 제거하며 물을 사용하여 pH 6으로 세척하며 메탄올로 헹구며 또 진공하 70℃에서 건조시킨다. 황색의 조 생성물(13.6 g)을 350 mL의 2-에톡시에탄올로 부터 재결정화시켜 표제 화합물 10.6 g을 황색의 고체로 수득한다. 융점 137 내지 138℃, 순도 96.9 %(DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 293; 354 nm (∈56,000; 21,500).
분석 ;
C35H43N3O2: 계산치 : C, 78.2; H, 8.1; N, 7.8
실측치 : C, 77.5; H, 8.2; N, 7.8
[실시예 60]
2-[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-4,6-비스(4-메틸페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기, 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 13.6 g(30 밀리몰)의 실시예 58의 생성물, 0.6 g(1.5 밀리몰)의 트리페닐에틸포스포늄 브로마이드, 4.5 g(33 밀리몰)의 부틸 글리시딜 에테르 및 40 mL의 크실렌(이성질체의 혼합물)을 장입한다. 진한 오렌지색 현탁액을 21 시간 동안 환류시킨다. 이 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 침전물을 여과에 의해 제거하며 물로 세척하고 메탄올로 헹구고 또 진공하 70℃에서 건조시킨다. 황색의 조 생성물(14 g)을 50 mL의 2-에톡시에탄올로 부터 2회 재결정화시켜 표제 화합물 9.3 g을 황색 고체로 수득한다. 융점 163 내지 164℃, 순도 98.8 %(DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 293; 351 nm (∈59,000; 20,000).
분석 ;
C36H45N3O4: 계산치 : C, 74.1; H, 7.8; N, 7.2
실측치 : C, 73.4; H, 7.8; N, 7.1
[실시예 61]
2-[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시-5-헥실-2-히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 14.4 g(30 밀리몰)의 실시예 1의 생성물, 0.6 g(1.5 밀리몰)의 트리페닐에틸포스포늄 브로마이드, 4.5 g(33 밀리몰)의 부틸 글리시딜 에테르 및 40 mL의 크실렌(이성질체의 혼합물)을 장입한다. 진한 오렌지색 현탁액을 24 시간 동안 환류시킨다. 이 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 침전물을 여과에 의해 제거하고 물로 세척하며 메탄올로 헹구며 또 진공하 70℃에서 건조시킨다. 여액을 회전 증발기상에서 농축시켜 조생성물의 2차 결정을 수득한다. 모아진 고체(14.9 g)를 45 mL의 2-에톡시에탄올로 부터 재결정화시켜 표제 화합물 9.0 g을 황색 고체로 수득한다. 융점 101 내지 102℃, 순도 97.3 %(DSC 분석).
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 292; 350 nm (∈49,000; 21,000).
분석 ;
C38H49N3O4: 계산치 : C, 74.6; H, 8.1; N, 6.9
실측치 : C, 74.5; H, 8.0; N, 6.9
[실시예 62]
2,4-비스(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-6-페닐-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기를 구비한 750 mL의 술폰화 플라스크에 34.0 g(150 밀리몰)의 2,4-디클로로-6-페닐-s-트리아진, 44.0g(330 밀리몰)의 염화 알루미늄 및 100 mL의 리그로인(비점 범위 110 내지 140℃)를 장입한다. 이 현탁액에 60mL의 술폴란을 15분간 교반하면서 적가한다. 이때 온도는 50℃로 증가한다. 62.1 g(320 밀리몰)의 4-헥실레조르시놀이 60 mL의 술폴란에 용해된 용액을 115분간에 걸쳐 적가한다. 온도를 60℃로 승온시키면 염화 수소가 발생한다. 이 반응 혼합물을 4 시간 동안 80℃로 가열한다. 2개상 혼합물의 하부층을 50 mL의 진한 염산이 500 mL의 메탄올과 300 mL의 물에 용해된 용액에 붓는다. 이 혼합물을 실온에서 14 시간 동안 교반한다. 수득한 생성물을 80℃에서 800 mL의 물에 1 시간 동안 현탁시키고 여과에 의해 단리하며 동일한 조건하에서 재현탁시키고 마지막으로 진공하 85℃에서 단리 및 건조시킨다. 표제 화합물을 오렌지색의 조 생성물(77.0 g)로 수득한다. 이는 230 내지 238℃에서 용융된다. 이것은 더 이상의 정제없이 사용될 수 있다.
1H nmr (DMSO-d6) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
분석 ;
C33H39N3O4: 계산치 : C, 73.2; H, 7.3; N, 7.8
실측치 : C, 73.2; H, 7.3; N, 7.6
[실시예 63]
2,4-비스[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-6-페닐-s-트리아진
기계적 교반기, 응축기 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 16.2 g(30 밀리몰)의 실시예 62의 생성물, 1.1 g(3 밀리몰)의 트리페닐에틸포스포늄 브로마이드, 8.6 g(66 밀리몰)의 부틸 글리시딜 에테르 및 120 mL의 메시틸렌을 장입한다. 생성한 진한 오렌지색 현탁액을 130℃에서 18 시간 동안 가열하여 갈색 용액으로 만든다. 용매를 회전 증발기에 의해 제거한다. 조 생성물을 100 mL의 아세트산 에틸에 용해시킨다. 이 용액을 1000 mL의 아세트산 에틸을 용출액으로 사용하여 230 내지 400 메쉬 실리카(100 g, 10 cm 직경) 패드를 통하여 여과한다. 용매를 증발시킨 후 황색 수지(25.9 g)를 50 mL의 아세트산 에틸에 다시 용해시키고 또 150 mL의 헥산으로 석출시켜 20 g의 생성물을 수득한다. 이 물질을 70 mL의 아세트산 에틸로부터 재결정화시키고 또 진공하 75℃에서 건조시켜 15.9 g의 표제 화합물을 수지성 오렌지색 고체로서 수득한다. 융점 108 내지 115℃.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 298; 369 nm (∈37,000; 38,000).
분석 ;
C47H67N3O8: 계산치 : C, 70.4; H, 8.4; N, 5.2
실측치 : C, 70.2; H, 8.4; N, 5.1
[실시예 64]
2,4-비스(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-6-페닐-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기를 구비한 350 mL의 술폰화 플라스크에 16.2 g(30 밀리몰)의 실시예 62의 생성물, 3.7g(66 밀리몰)의 분말상 수산화 칼륨 및 100 mL의 2-에톡시에탄올을 장입한다. 생성한 적색 용액에 10.9 g(66 밀리몰)의 1-브로모헥산을 30분간에 걸쳐 적가한다. 이 혼합물을 20 시간 동안 90℃로 가열하고 또 고온 여과한다. 그 여액을 100℃로 가온시키고 또 1 mL의 아세트산을 부가한다. 생성한 용액을 0℃로 냉각시켜 석출시킨다. 생성한 조 황색 생성물을 70 mL의 2-에톡시 에탄올으로 부터 재결정화시켜 13.1 g의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다. 융점 118 내지 121℃.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 301; 371 nm (∈33,000; 40,000).
분석 ;
C45H63N3O4: 계산치 : C, 76.1; H, 8.9; N, 5.9
실측치; C, 76.2; H, 8.9; N, 5.9
[실시예 65]
2-[2,4-디히드록시-5-(1-프로펜일)페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진
자기 교반기, 응축기, 적하 깔때기 및 질소 분위기를 구비한 100 mL의 둥근 바닥 삼가지 플라스크에 410 mg(10.0 밀리몰)의 수소화 붕소 나트륨 및 30 mL의 무수 에탄올을 장입한다. 500 mg(1.1 밀리몰)의 실시예 12의 생성물이 10 mL의 에탄올에 용해된 용액을 35분간에 걸쳐 적가한다. 이 혼합물을 68℃로 가열하고 또 3시잔 동안 가열한다. 이 혼합물을 실온으로 냉각시킨 다음 10 mL의 2M 염산을 사용하여 급냉시킨다. 소량의 아세트산 에틸을 부가하고 층들을 분리한다. 유기층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과하며 또 감압하에서 용매를 제거한다. 조 생성물을 3:1 헵탄:아세트산 에틸을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제하여 34 mg의 표제 화합물을 황색 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 286; 352 nm (∈44,000; 12,500).
[실시예 66]
1,3-비스(1-[2,4-디히드록시-5-(3,5-비스(2,4-디메틸페닐-s-트리아진일)페닐]-1-메틸에틸)벤젠
자기 교반기, 응축기, 온도계 및 질소 분위기를 구비한 500 mL의 삼가지, 둥근 바닥 플라스크에 5.0 g(12.6 밀리몰)의 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진 및 130 mg의 이소프록시화 알루미늄을 장입한다. 이 혼합물을 185℃로 가열하고 또 1.0 g(6.3 밀리몰)의 1,3-디이소프로펜일벤젠을 한꺼번에 부가한다. 온도를 132℃로 감소시키고 또 그 혼합물을 6 시간 동안 교반한다. 실온으로 냉각시킨 후 혼합물을 아세트산 에틸을 사용하여 희석하고 물을 사용하여 2회 또 염수로 1회 세척한다. 유기층을 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시키고 여과한다. 유기 용매를 감압하에서 제거한다. 조 생성물을 12% 아세트산 에틸/헵탄을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제하여 0.42 g의 표제 화합물을 황색 고체로 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 289; 347 nm (∈73,000; 35,000),
[실시예 67]
메틸렌-비스-2 (2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진의 혼합물(3:5, 5:5 및 3:3 위치에서 5:4:1 비율로 연결)
응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기를 구비한 250 mL의 둥근 바닥 플라스크에 9.37 g(18.4 밀리몰)의 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 12 mL의 디에톡시메탄, 200 mg의 p-톨루엔술폰산 및 50 mL의 디옥산을 장입한다. 이 혼합물울 90℃에서 28 시간 동안 교반한 다음 실온으로 냉각시키고 또 소량의 아세트산 에틸로 희석한다. 이 혼합물을 물로 3회, 포화 중탄산 나트륨으로 3회 그리고 염수로 세척한다. 유기층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과한다. 유기 용매를 감압하에서 제거하여 10.1 g의 오렌지색 유리를 수득한다. 생성한 조 생성물을 19:1 헵탄; 아세트산 에틸을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제하여 5.46 g의 메틸렌 연결된 이합체 혼합물을 황색의 유리질 고체로서 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 290; 344 nm (∈80,900; 34,300).
상기 화합물은 t가 0인 일반식(VI)의 화합물에 상응한다. 상기 혼합된 이성질체 생성물의 스펙트럼 분석에서 보여진 t가 1, 2 및/또는 3인 미량의 고급 올리고머도 존재한다.
[실시예 68]
벤질리덴-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진의 혼합물(3:5 및 5:5 위치에서 1:1 비율로 연결)
응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기를 구비한 250 mL의 둥근 바닥 플라스크에 10.71 g(21.0 밀리몰)의 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2.70 g(25.4 밀리몰)의 벤즈알데히드 및 400 mg의 p-톨루엔술폰산을 장입한다. 이 혼합물을 140℃에서 3 시간 동안 교반한 다음 실온으로 냉각시킨다. 이 혼합물을 아세트산 에틸에 용해시키고 또 포화 중탄산 나트륨으로 2회 세척하며 물로 1회 세척한 다음 염수로 세척한다. 유기층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 또 여과한다. 유기 용매 및 과량의 벤즈알데히드를 감압하에서 제거하여 10.95 g의 적갈색 유리 물질을 수득한다. 이 조 생성물을 19:1 헵탄:아세트산 에틸을 사용하여 중압 크로마토그래피로 정제하여 5.18 g의 벤질리덴 연결된 이합체 혼합물을 황색 고체로 수득한다.
1H nmr (CDCl3) 및 질량 스펙트럼은 소망하는 화합물과 일치한다;
UV λmax(아세트산 에틸) 291; 348 nm (∈75,800; 35,700).
상기 혼합물은 t가 0 이고 또 L이 벤질리덴인 일반식(VI)의 화합물에 상응한다.
[실시예 69]
시중에서 구입할 수 있는 자외선 투명 하도 도료 대신 본 발명의 자외선 흡수제 안정화제를 아크릴 멜라민 수지를 기준하여 2 중량% 함유하는 시판되는 고 고형분의 열가소성 아크릴 멜라민 투명 도료의 1.8 내지 2.0 mil(0.036 내지 0.051 mm) 두께막을 웨트-온-웨트식으로 분무 도포함으로써 시험 페닐을 제조한다. 상도는 어드밴스코팅즈 테크놀로지, 인코포레이티드로 부터 수득한 4" × 12" (10.16 cm × 30.48 cm) UNIPRIME?패널상에 도포한다. 공기 조절되는 방에서 1주간 저장한 후, 패널을 5˚ 남쪽의 플로리다에서 SAE J-1976에 따른 블랙 박스중에서 노출한다. 이 페널을 1년동안 노출한다. 1년 후, 패널을 100˚F(38℃) 및 100% 습도에서 4일간 노출하는 습도 시험을 실시한다. 4일후 테이프 접착 시험을 실행한다.
본 발명의 화합물은 노화시키는 동안 하도 도료에 대한 투명 도료의 접착력을 향상시키는 효과가 있다.
[실시예 70]
전착도료 하도제상에 직접적으로 도포된 자외선 흡수제를 함유하는 아크릴 우레틴 투명 도료의 내박리성
본 발명의 자외선 흡수제 안정화제를 아크릴 멜라민 수지를 기준하여 2 중량% 함유하는 시판되는 아크릴 멜라민 투명 도료의 1.8 내지 2.0 mil(0.036 내지 0.051 mm) 두께 막을 어드밴스 코팅즈 테크놀로지, 인코포레이티드로 부터 수득한 4" × 12"(10.16cm x 30.48cm) UNIPRIME?패널상에 분무 도포하여 시험 패널을 제조한다. 이 피복된 패널을 250˚F(121℃)에서 30분간 고온건조한다. 공기 조절되는 방에서 1주간 저장한 후, 채널을 5˚ 남쪽의 플로리다에서 SAE J-1976에 따른 블랙 박스중에서 노출한다. 이 패널을 매일 박리되는지 평가하고 페널 면적의 10% 이상이 박리되는 경우에 시험을 중지한다.
본 발명의 화합물은 전착도료 하도제로 부터 투명 도료가 박리되는 것을 지연시키는데 효과적이다.
[실시예 71]
하기 실시예는 자외선 흡수제가 공압출된 물품에서 않은 표면 보호층에만 혼입된 적층 폴리카르보네이트 플라크에서 본 발명의 o-히드록시페닐-s-트리아진의 유용성을 설명한다.
5중량%의 자외선 흡수제를 함유하는 1 mil(0.0254 mm)의 폴리카르보네이트 막(LEXAN?141-111N), 제네랄 일렉트릭 컴패니 제품)을 와바시 압축 성형기로 350˚F (177℃)에서 압축 성형을 통하여 1000 psi(70 Kg/㎠)에서 3분, 3000 psi(210 Kg/㎠)에서 3분, 이어 3000 psi(210 Kg/㎠)에서 3분간 냉각하면서 자외선 안정화되지 않은 125 mil(3.18mm)의 폴리카르보네이트 플라크 (LEXAN?141-111N)에 접착시켜 적층 플라크를 제조한다. 상기 플라크를 아틀라스 CI-65 크세논 방전 웨더로미터에서 입사광과 면하는 보호층을 사용하여 ASTM 표시 G26-88 시험법 C를 이용하여 노출시킨다. 중합체 분해는 ACS 분광기상에서 황색도(YI)를 측정하여 평가한다.
본 발명의 o-히드록시페닐-s-트리아진은 분해 및 탈색으로 부터 폴리카르보네이트를 보호하는데 아주 효과적이다.
[실시예 72]
안료, 포스파이트, 페놀성 산화방지제 또는 히드록실아민, 금속 스테아레이트, 자외선 흡수제 또는 입체장애 아민 광 안정화제 또는 자외선 흡수제와 입체장애 아민 광 안정화제의 조합물을 포함하는 섬유 그레이드 폴리프로필렌을 압출함으로써 폴리프로필렌 섬유 샘플을 제조한다.
안료는 순수한 안료 및 폴리프로필렌 수지(PROFAX?6301, 히몬트 제품) 2개 성분을 고전단 혼합기에서 25% 안료 및 75% 수지 비율로 혼합하고, 생성한 수지/안료 혼합물을 와바시 압축 성형기(모델 #30-1515-473)을 통과시켜 얇은 쉬트로 만든 다음 이 쉬트를 감소된 농도에서 신선한 폴리프로필렌 수지에 분산하기 위해 미세 칩으로 절단하는 것에 의해 제조된 안료 농축액으로 부가된다.
최종 배합물에서 모든 첨가제 및 안료 농도는 수지를 기본하여 중량%로 나타낸다.
배합물은 0.05 내지 0.1 %의 포스파이트, 0 내지 1.25%의 페놀성 산화방지제, 0 내지 0.1%의 히드록실아민, 0.05 내지 0.1%의 스테아르산 칼슘, 0 내지 1.25%의 본 발명의 자외선 흡수제 및/또는 0 내지 1.25%의 입체장애 아민 안정화제를 함유한다. 이 물질은 텀블 건조기중에서 건조 혼합된 다음 475˚F(246℃)에서 일반적인 다용도 스크류(24:1 L/D)를 갖는 수피리어/MPM 1"(2.54 cm) 일축 스크류 압출기상에서 압출한 다음 물 중탕기중에서 냉각하고 펠릿화한다. 생성한 펠릿을약 525˚F(274℃)에서 41개의 홀과 델타 구조 방적구조를 갖는 HILLS Research Fiber Extruder(모델 # REM-3P-24)상에서 섬유로 방적한다. 방적 부서러기를 3.2:1의 연신비율로 연신하여 최종 615/41 데니어를 생성한다.
섬유 샘플을 로손-헴필 파이버 어낼리시스 니터(Lawson-Hemphill Fiber Anaylsis Knitter)상에서 양말로 짜고, 적합한 길이로 절단한 다음 아틀라스 Ci65 크세논 아크웨터로미터에서 89℃의 블랙 패널 온도, 340 나노미터에서 0.55 W/㎡ 및 50% 상대습도(소사이어티 어브 오토모티브 엔지니어즈 SAE J 1885 시험과정)에서 노출시킨다.
일정 간격 동안 ASTM D 2244-79에 따른 반사 모드를 어플라이드 칼러 시스템즈 스텍트로포토미터 상에서 칼러 측정을 실시하여 섬유 샘플을 시험한다. 실패한 경우를 예시하기 위해 동일하지만 별도의 샘플을 조사한다.
본 발명의 자외선 흡수제와 입체장애 아민의 조합물은 착색된 폴리프로필렌 섬유에 대하여 아주 우수한 보호작용, 특히 동일한 총 농도로 사용된 경우 입체장애 아민만으로 제공되는 보호수준에 비해 상승 안정화 작용을 나타낸다.
착색된 폴리프로필렌 섬유가 착색된 나일론 또는 폴리에스테르 섬유로 대체되면 동일한 우수한 안정화 작용을 볼 수 있다.

Claims (12)

  1. 하기 일반식(A) 또는 (B)의 화합물:
    상기 일반식 (A)의 화합물중에서,
    A 및 A'는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 일반식의 기이거나 또는 1 내지 3개의 지급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고:
    R1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직계 또는 측쇄 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 할로겐, -SR3-SOR3또는 -SO2R3이거나; 또는 1 내지 8개 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2,=NR5=O, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN, -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5, -P(O)(OR5)2, 모르폴린일, 피페리딘일, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘일, 피페라진일 또는 N-메틸피페라진일 기 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 페닐렌, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -C(R5)=C(R5)- 또는 -CO- 기 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합물에 의해 치환되고 또 그를 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬이며;
    R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1 또는 2개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
    R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나, 또는 페닐 고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일이며;
    R5는 R4에서 정의된 바와 같거나, 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 R5는 일반식
    의 기이고, 이때 T는 수소, 옥실, 히드록실, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬, 한 개 이상의 히드록실 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬, 벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일이고;
    R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 8개 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -R4-OR5-N(R5)2, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2,-C(R 5 )=C(R 5 )-COOR 5 ,-CN, -NCO, 또는그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개 에폭시, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOC(R5)=C(R5)-, -(R5)C=C(R5)-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, C는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 임) 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬;또는 상술한 기를 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이며;
    R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 페닐, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아이노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노 또는 -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 기이고;
    R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 o-페닐렌이며;
    R8은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄 또는기이고;
    k는 1 내지 4이며;
    k=1 이면, Z는 상기 R2에서 정의한 바와 같고;
    k=2 이면, Z는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -OH-에 의해 치환된 상기 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -CH=CH- 또는 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌; 또는 상술한 기의 조합물에 의해 치환되고 또 그를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나 또는 Z는 크실릴렌 또는
    기이며,
    이때 m은 1 내지 3이며; 또는
    Z는이고;
    R8은 상기 정의한 바와 같으며;
    R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌 또는 -페닐렌-G-페닐렌 기(이때, G는 -O-, -S-, -SO2- -CH2- 또는 -C(CH2)2- 임)를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고;
    R10은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 4개의 -O-, -S-, 또는 -CH=CH-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이며;
    R11은 4 내지 20개 탄소원지를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 8개 -O-를 포함하는 상기 알킬렌이고;
    k=3이면, Z는 -[(CH2)mCOO]3-R12(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일임) 기이며;
    k=4 이면, Z는 -[(CH2)mCOO]4-R13(이때, m은 1 내지 3이고 또 R13은 4 내지 12 개 탄소원자를 갖는 알칸테트릴임) 기이고;
    단, Z가 수소이고 또 R1이 n-헥실이면, X 및 Y는 각각 5-n-헥실-2,4-디히드록시페닐이 아니며; 또
    상기 일반식(B)의 화합물의 경우,
    t는 0 내지 9이고,
    X, X', Y 및 Y'는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이며;
    L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 또는 그를 중간에 포함하는 상기 안킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이 거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, S-E-S-, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2- E-SO2- -CH2-NH-E-NH-CH2또는이고, 이때 E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌을 중간 또는 말단에 갖는 8 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌이며;
    R2및 R2'는 동일하거나 상이하며 상기 R2에서 정의한 바와 같고;
    단, 한개 이상의 L 연결이 페닐 고리의 5-위치에 부착된다.
  2. 제1항에 있어서, 하기 일반식(I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 화합물:
    상기 일반식 (I)의 화합물중에서,
    X 및 Y는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
    R1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 할로겐, -SR3-SOR3, 또는 -SO2R3이거나; 또는 1 내지 8개 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2, =NR5, =O, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5, -P(O)(OR5)2, 모르폴린일, 피페리딘일, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘일, 피페라진일 또는 N-메틸피페라진일 기 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 페닐렌 -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -C(R5)=C(R5)- 또는 -CO- 기 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합물을 중간에 포함하거나 또는 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬이며;
    R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴 또는 1 내지 4개 탄소원자를 갖는 1 또는 2개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고;
    R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이기나, 또는 페닐 고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일이며;
    R5는 R4에서 정의된 바와 같거나, 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 R5는 일반식의 기이고, 이때 T는 수소, 옥실, 히드록실, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬, 또는 한개 이상의 히드록실 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬, 벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일이며;
    R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 8개 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -CON(R5)2-COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2,-C(R 5 )=C(R 5 )-COOR 5 , -CN, -NCO 또는또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개 에폭시, -O-, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOC(R5)=C(R5)-, -(R5)C=C(R5)-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 임) 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기를 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이고;
    R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 페닐, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노 또는 -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 기이며;
    R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 o-페닐렌이고;
    R8은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄 또는기이며;
    단, R2가 수소이고 또 R1이 n-헥실이면, X 및 Y는 5-n-헥실-2, 4-디히드록시페닐이 아니며;
    상기 일반식 (II)의 화합물중에서,
    X는 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
    R1및 R1'는 동일하거나 상이하며 또 상기 R1에서 정의한 바와 같으며;
    R2및 R2는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또
    단, R1및 R1가 각각 n-헥실이고, 또 R2및 R2'가 각각 수소이면, X는 5-n-헥실-2,4-디히드록시페닐이 아니고;
    상기 일반식(III)의 화합물중에서,
    R1, R1' 및 R1"가 동일하거나 상이하며 또 상기 R1에서 정의한 바와 같으며;
    R2, R2' 및 R2"는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또
    단, R2, R2' 및 R2"가 각각 수소이면, R1, R1' 및 R1"는 각기 n-헥실이 아니며;
    상기 일반식 (IV)의 화합물중에서,
    X, X', Y 및 Y'는 동일하거나 상이하며 또 페닐, 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고;
    L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌을 중간에 포함하거나 그에 의해 치환된 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-E-S-, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는
    이며,
    이때, E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌을 중간 또는 말단에 포함하는 8 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고;
    R2및 R2'는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또 상기 일반식(V)의 화합물중에서,
    X, Y 및 R1은 상기 정의된 바와 같고;
    n은 2 내지 4 이며;
    n=2 이면, Q는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 또는 1 내지 8개의 -OH에 의해 치환된 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -CH=CH- 또는 -O-를 중간에 포함하는 알킬렌; 또는 상술한 기의 조합물을 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 알킬렌이거나; 또는 Q 는 크실릴렌 또는
    기이고, 이에 m은 1 내지 3이며 ; 또는
    Q는이며;
    R8은 상기 정의한 바와 같고;
    R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌, 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH2)2- 임) 기를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고;
    R10은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 4개의 -O-, -S- 또는 -CH=CH-를 중간에 포함하는 알킬렌; 또는 R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이며;
    R11은 4 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 8개의 -O-를 중간에 포함하는 알킬렌이며;
    n=3이면, Q는 -[(CH2)mCOO]3-R12(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일임) 기이고;
    n=4이면, Q는 -[(CH2)mCOO]4-R13(이때, m은 1 내지 3이고 또 R13은 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트라일임)기이고; 또 상기 일반식 (VI)의 화합물에서,
    X 및 Y는 상기 정의된 바와 같고;
    t는 0 내지 9이며;
    L은 상기 정의된 바와 같고, 단 한개 이상의 L 연결이 페닐 고리의 5-위치에 부착되며; 또
    R2는 상기 정의된 바와 같다.
  3. 제2항에 있어서,
    X, Y, X' 및 Y'가 페닐 또는 한개 또는 세개의 지급 알킬 또는 할로겐에 의해 치환된 패닐이고;
    R1, R1' 및 R1"는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이고;
    R2및 R2'가 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 또는 1 또는 2개의 -OR5에 의해 치환된 상기 알킬이고, 이때 R5가 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 또는 페닐이며; 또
    L이 메틸렌; 벤질리덴
    또는인 화합물.
  4. 제1항에 있어서,
    a. 2-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    b. 4,6-비스-(2,4-디메틸)-2-[5-헥실-2-히드록시-4-(2-히드록시-3-페녹시프로폭시)페닐]-s-트리아진;
    c. 4,5-비스-(2,4-디에틸페닐)-2-[4-(3-도데실옥시-2-히드록시-프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-s-트리아진;
    d. 2-(2,4-디히드록시-5-에틸페닐)-4-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    e. 2-[2,4-디히드록시-5-(1,1-디메틸에틸)페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    f. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    g. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시)-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진;
    h. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[4-헥실옥시-2-히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐)-2-트리아진;
    i. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스-비스-페닐-s-트리아진;
    j. 2-[2-히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4-옥틸옥시페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진;
    k. 2-(5-클로로-2,4-디히드록시페닐)4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    l. 2-(2,4-디히드록시-5-프로피오닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    m. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-이소부틸아미노)프로필페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    n. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-이소부틸아미노)프로필페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    o. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2,4-디히드록시-5-(1-히드록시프로필)페닐)-s-트리아진;
    p. 2-(5-벤조일-2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    q. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2,4-디히드록시-5-(α-히드록시벤질)페닐-s-트리아진;
    r. 2-(2,4-디히드록시-5-페닐티오페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    s. 2-(2,4-디히드록시-5-페닐술피닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    t. 2-(2,4-디히드록시-5-페닐술포닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    u. 2-(5-클로로-2,4-디히드록시페닐)-4,6-디페닐-s-트리아진;
    v. 4,6-디페닐-2-(5-클로로-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진;
    w. 4,6-디페닐-2-(5-헥실-4-메톡시-2-히드록시페닐)-s-트리아진;
    x. 2-[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-4,6-디페닐-s-트리아진;
    y. 2-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-s-트리아진;
    z. 4,6-비스(4-메틸페닐)-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진;
    aa. 2-[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-4,6-비스(4-메틸페닐)-s-트리아진;
    bb. 2-[4-3(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4,-디메틸페닐)-s-트리아진;
    cc. 2,4-비스(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-6-페닐-s-트리아진;
    dd. 2,4-비스[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-6-페닐-s-트리아진;
    ee. 2,4-비스(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-6-페닐-s-트리아진;
    ff. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-프로펜일)페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진;
    gg. 2-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,6-디페닐-s-트리아진;
    hh. 4,6-디페닐-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진;
    ii. 4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진;
    jj. 2-[5-헥실-2-히드록시-4-(2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진;
    kk. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2-히드록시-4-헥실옥시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진;
    ll. 1,3-비스{1-[2,4-디히드록시-5-(3,5-비스(2,4-디메틸페닐-s-트리아진일)페닐]-1-메틸에틸}벤젠;
    mm. 메틸렌-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진의 혼합물(3:5, 5:5 및 3:3 위치에서 5:4:1 비율로 연결됨); 또는
    nn. 벤질레덴-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진의 혼합물(3:5 및 5:5 위치에서 1:1 비율로 연결됨)인 화합물.
  5. 110℃ 내지 250℃의 온도에서 촉매량의 프리델-크라프트 알칼화 촉매 존재하에서 하기 일반식(A)의 화합물을 일반식(A)의 화합물량에 대하여 2 내지 10배 과량의 4 내지 24개 탄소원자를 갖는 알켄, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알켄 또는 8 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알켄과 반응시키는 것을 포함하는 하기 일반식(I)의 화합물의 제조방법:
    식중에서,
    R1은 4 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬 또는 8 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이고,
    R2가 수소이며, 또
    X 및 Y가 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬 또는 1 내지 3개의 염소 기에 의해 치환된 페닐임.
  6. 제5항에 있어서, 상기 촉매가 염화 알루미늄, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산, 디이소부틸알루미늄 히드리드 또는 알루미늄 이소프로폭사이드인 방법.
  7. (a) 화학선에 노출되면 분해되기 쉬운 유기물질 및
    (b) 제1항에 따른 유효 안정량의 일반식(A) 또는 (B)의 화합물을 포함하는화학선의 악영향으로 부터 안정화된 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 상기 성분(a)의 유기물질이 중합체인 조성물.
  9. 제7항에 있어서, 조성물의 0.01 내지 20 중량% 양으로 성분(b)의 안정화제를 함유하는 조성물.
  10. 제7항에 있어서, 상기 중합체가 고 고형분열경화성아크릴/멜라민 수지 또는 아크릴 우레탄 수지인 조성물.
  11. 제7항에있어서, 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸; 트리스-아릴-s-트리아진; 또는 입체장애 아민 광 안정화제 또는 그의 혼합물중 한 개 이상의 유효 안정량으로 추가로 함유하는 조성물.
  12. 제7항에있어서, 상기 필름 형성 결합제가 고 고형분 열가소성 아크릴/멜라민 수지 또는 아크릴 우레탄 수지인 조성물.
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