KR20000005216A - 안정화제로서의 아미노- 및 하이드록시 치환된 트리페닐-s-트리아진 - Google Patents

안정화제로서의 아미노- 및 하이드록시 치환된 트리페닐-s-트리아진 Download PDF

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Abstract

본 발명은 화학식 1 또는 1A의 화합물을 제공한다.
화학식 1
화학식 1A
위의 화학식 1과 1A에서,
R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
R1과 R2는 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C7-C13아르알킬, -C(=O)-R4(여기서, R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, 헤테로 치환된 C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, C6-C12아릴, C6-C12아릴옥시 또는 C7-C13아르알킬이다) 또는 -C(=O)-NH-R1(여기서, R1은 앞에서 정의한 바와 같다)이며,
R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 앞에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
신규한 트리페닐트리아진 화합물은 공지된 트리페닐트리아진 화합물에 비하여 향상된 흡수 스펙트럼 특징과 UV광에 대한 우수한 내노출성을 갖는다.

Description

안정화제로서의 아미노- 및 하이드록시 치환된 트리페닐-ｓ-트리아진
본 발명은 신규한 화합물, 특히 흡수 스펙트럼 특징이 탁월하고 UV광에 대한 노출성에 대하여 내성이 우수한 신규한 아미노- 또는 아미도 치환된 트리아진 화합물 및 신규한 화합물의 UV 흡수제로서의 용도에 관한 것이다.
유기 물질, 특히 피복물의 광 안정성을 증가시키는 것이 요구되는 경우, 일반적으로 광 안정화제를 첨가한다. 매우 빈번하게 사용되는 광 안정화제의 부류는 발색단을 통해 유해한 방사선을 흡수함으로써 물질을 보호하는 UV 흡수제가 포함된다. UV 흡수제의 주요 그룹은 트리페닐트리아진이며, 이는, 예를 들면, EP-A 제434 608호, EP-A 제520 938호, US-A 제4 619 956호, EP-A 제483 488호, EP-A 제500 496호, EP-A 제502 816호 및 EP-A 제506 615호에 기술되어 있다.
트리페닐트리아진 화합물의 신규한 그룹은 공지된 트리페닐트리아진 화합물에 비하여 흡수 스펙트럼 특징이 향상되고 UV광에 대한 내노출성이 보다 우수함을 발견하였다.
본 발명에 따라, 화학식 1 또는 1A의 화합물을 제공한다.
위의 화학식 1과 1A에서,
R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬, 바람직하게는 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬 또는 C1-C20-알콕시이고,
R1과 R2는 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C7-C13아르알킬, -C(=O)-R4(여기서, R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, 헤테로 치환된 C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, C6-C12아릴, C6-C12아릴옥시 또는 C7-C13아르알킬이다) 또는 -C(=O)-NH-R1(여기서, R1은 앞에서 정의한 바와 같다), 바람직하게는 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C7-C13아르알킬, -C(=O)-R4(여기서, R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, C2-C20알케닐, C6-C12아릴 또는 C6-C12아릴옥시이다) 또는 -C(=O)-NH-R1(여기서, R1은 앞에서 정의한 바와 같다)이며,
R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 앞에서 정의한 바와 같거나 R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다), 바람직하게는 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, 페닐, -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 앞에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
R 및/또는 R3이 할로겐인 경우, 이러한 할로겐 치환체는 불소, 브롬, 요오드 또는 특히 염소 치환체이다.
C1-C20알킬 그룹 R1, R2, R3및/또는 R4는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 3급-부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, 1-메틸운데실, n-도데실, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실 및 n-아이코실과 같은 측쇄 또는 비측쇄일 수 있다.
C1-C20알콕시 그룹 R, R3및 R4는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 2급-부톡시, 이소부톡시, 3급-부톡시, 2-에틸부톡시, n-펜톡시, 이소펜톡시, 1-메틸펜톡시, 1,3-디메틸부톡시, n-헥속시, 1-메틸헥속시, n-헵톡시, 이소헵톡시, 1,1,3,3-테트라메틸부톡시, 1-메틸헵톡시, 3-메틸헵톡시, n-옥톡시, 2-에틸헥속시, 1,1,3-트리메틸헥속시, 1,1,3,3-테트라메틸펜톡시, n-노녹시, n-데콕시, n-운데콕시, 1-메틸운데콕시, n-도데콕시, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥속시, n-트리데콕시, n-테트라데콕시, n-펜타데콕시, n-헥사데콕시, n-헵타데콕시, n-옥타데콕시 및 n-아이콕시, 바람직하게는 메톡시, 에톡시 또는 프로폭시 그룹, 특히 메톡시 그룹과 같은 측쇄 또는 비측쇄일 수 있다.
R4가 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬인 경우, 이러한 그룹은 3-옥사부틸, 3-옥사펜틸, 3-옥사헥실, 3-옥사옥틸, 3-옥사데실, 3-옥사도데실, 3-옥사테트라데실, 3-옥사헥사데실, 3-옥사옥타데실, 3,6-디옥사헵틸, 3,6-디옥사옥틸, 3,6-디옥사데실, 3,6-디옥사도데실, 3,6-디옥사테트라데실, 3,6-디옥사헵타데실, 3,6,9-트리옥사데실, 3,6,9-트리옥사운데실, 3,6,9-트리옥사도데실, 3,6,9-트리옥사테트라데실, 3,6,9-트리옥사헥사데실 또는 3,6,9-트리옥사데카헵틸과 같은 측쇄 또는 비측쇄일 수 있다.
R4가 헤테로사이클릭 잔기로 치환된 C1-C20알킬인 경우, 모르폴리닐, 피페리딜, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딜, 피페라지닐 또는 N-메틸피페라지닐 잔기로 치환된, C1-C20알킬 그룹 R1, R2, R3및/또는 R4에 대하여 위에서 나열한 임의의 C1-C20알킬 그룹일 수 있고, 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 프로필 그룹, 특히 메틸 그룹일 수 있다.
R4가 C2-C20알케닐 그룹인 경우, 예를 들면, 알릴, 이소프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 이소부테닐, n-펜타-2,4-디에닐, 3-메틸-부트-2-에닐, n-옥트-2-에닐, n-도데스-2-에닐, 이소도데세닐, n-도데스-2-에닐 또는 n-옥타데스-4-에닐일 수 있다.
R4가 C6-C10아릴 그룹인 경우, 나프틸 또는 바람직하게는 페닐 그룹이다.
C7-C20아르알킬 그룹 R2및/또는 R4는 나프틸알킬 그룹, 바람직하게는 페닐알킬 그룹일 수 있다. C7-C20페닐알킬 그룹 R2및/또는 R4의 예는 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질, 페닐에틸, 페닐프로필, 페닐부틸, 페닐펜틸, 페닐헥실, 페닐헵틸, 페닐옥틸, 페닐노닐, 페닐데실, 페닐도데실 및 페닐테트라데실이다.
C6-C10아릴 그룹 R4및 C7-C20아르알킬 그룹 R2및/또는 R4는 치환되지 않거나 하나 이상의 치환체로 치환될 수 있다. 이러한 치환체 그룹의 예는 하이드록실, -NH2-, -NHR1, -NR1R2(여기서, R1과 R2는 앞에서 정의한 바와 같다), 할로겐, C1-C20알킬, C1-C20알콕시, C2-C20알케닐, C3-C20알키닐, C6-C12아릴, 설포닐, 카복실, (메트)아크릴옥시 또는 (메트)아크릴아미노이다.
본 발명에 따르는 바람직한 화합물은 화학식 2의 화합물이다.
위의 화학식 2에서,
R은 수소 또는 C1-C4알콕시, 바람직하게는 메톡시이고,
R1과 R2는 각각 수소이거나, R1은 수소이고 R2는 -C(=O)-R4[여기서, R4는 C1-C20알킬, C2-C20알케닐, C1-C20알콕시, C1-C4알콕시로 임의로 치환된 페닐 또는 CH2-(OCH2CH2)n-OCH3(여기서, n은 1 내지 5의 정수이다)이다]이며,
R3은 수소, C1-C20알킬, C1-C4알콕시 또는 하이드록시이다.
바람직하게는 R은 수소 또는 메톡시이고, 또한 R1과 R2는 각각 수소이거나, R1은 수소이고 R2는 -CO-CH2-(OCH2CH2)n-OCH3(여기서, n은 1 내지 5의 정수이다)이고, R3은 수소, C1-C20알킬, C2-C20알케닐, 하이드록시, 메톡시, 페닐 또는 메톡시 치환된 페닐이다.
본 발명에 따르는 특히 바람직한 화합물은 화학식 3의 화합물이다.
위의 화학식 3에서,
R1과 R2는 각각 수소이거나, R1은 수소이고 R2는 -C(=O)-R4[여기서, R4는 C1-C20알킬, C2-C20알케닐, C1-C20알콕시, C1-C4알콕시로 임의로 치환된 페닐 또는 CH2-(OCH2CH2)n-OCH3(여기서, n은 1 내지 5의 정수이다)이다]이고,
R3은 수소, 하이드록시, C1-C20알킬, 메톡시 또는 페닐이다.
바람직하게는 또한 R1과 R2는 각각 수소이거나, R1은 수소이고 R2는 -CO-CH3이고, R3은 수소, 메톡시 또는 페닐이다.
화학식 1 또는 1A의 신규한 화합물은 몇 가지 합성 경로로 제조할 수 있다.
예를 들면, 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 5의 벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 6의 화합물을 생성시킨 다음 화학식 6의 화합물을 화학식 7의 벤즈아미딘과 반응시켜 화학식 1A의 화합물을 제조할 수 있다.
위의 화학식 4, 5, 6 및 7에서,
R, R1, R2및 R3은 앞에서 정의한 바와 같다.
두 번째 합성 경로에 있어서, 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 8의 p-니트로-벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 9의 화합물을 생성시킨 다음 화학식 9의 화합물을 화학식 10의 벤즈아미딘과 반응시켜 화학식 11의 화합물을 생성시키고 최종적으로 화학식 11의 화합물을 수소화반응시킴으로써 화학식 1A의 화합물을 제조한다.
위의 화학식 8, 9, 10 및 11에서,
R과 R3은 앞에서 정의한 바와 같다.
세 번째 합성 방법에 있어서, 화학식 1 또는 1A의 특정 화합물을 제조하기 위해서, 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 12의 p-아실아미노벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 13의 화합물을 생성시키고 최종적으로 화학식 13의 화합물을 화학식 10의 화합물과 반응시켜 화학식 14의 화합물을 제조한다.
위의 화학식 12, 13 및 14에서,
R, R3및 R4는 앞에서 정의한 바와 같다.
신규한 트리아진 화합물은 매우 우수한 UV 흡수제이며, 따라서 빛에 의한 손상에 대하여 유기 중합체, 특히 피복 물질에 대한 안정화제로서 유용하고, 텍스타일 섬유재료용 광 안정화제로서 유용하다.
신규한 화합물의 특별한 장점은 300 내지 400nm 영역의 전자기 스펙트럼을 놀라울 정도로 높게 흡수한다는 점이다. 본 발명에 따르는 화합물로 안정화된 물질은 기후 및 빛의 영향에 현저한 저항성이 있고 혼입된 안정화제의 현저한 광 안정성을 특징으로 한다.
안정화되는 물질은, 예를 들면, 오일, 지방, 왁스, 화장품 또는 살생물제일 수 있다. 특히 관심을 끄는 용도는 플라스틱, 고무, 도료 및 기타 피복 물질, 사진 재료 또는 접착제에 존재하는 중합체성 물질이다. 이러한 방법으로 안정화시킬 수 있는 중합체와 기타 지지체의 예는 다음과 같다:
1. 모노올레핀과 디올레핀의 중합체, 예를 들면, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔 뿐만 아니라 사이클로올레핀의 중합체, 예를 들면, 사이클로펜텐 또는 노르보르넨; 또한 폴리에틸렌(임의로 가교될 수 있는), 예를 들면, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 고밀도 및 고분자량의 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초 고분자량의 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중밀도 폴리에틸렌(MDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 분지된 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE).
폴리올레핀, 즉 앞 단락에서 예시한 모노올레핀의 중합체, 특히 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 상이한 방법, 특히 다음 방법으로 제조할 수 있다:
a) 라디칼 중합(일반적으로 고압하에 승온에서); 또는
b) 일반적으로 주기율표 제IVb족, 제Vb족, 제VIb족 또는 제VIII족의 금속을 하나 이상 함유하는 촉매를 사용하는 촉매적 중합. 이러한 금속은 통상적으로 π- 또는 σ-배위될 수 있는 산화물, 할라이드, 알콜레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 아릴과 같은 하나 이상의 리간드를 갖는다. 이러한 금속 착물은 유리형 또는 지지체, 예를 들면, 활성화된 염화마그네슘, 염화티탄(III), 일루미나 또는 산화규소에 고정될 수 있다. 이러한 촉매는 중합 매질에 가용성이거나 불용성일 수 있다. 촉매는 중합 중에 자체적으로 활성화되거나, 또한 예를 들면, 금속 알킬, 금속 하이드라이드, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥산(여기서, 금속은 주기율표 제Ia족, 제IIa족 및/또는 제IIIa족 원소이다)과 같은 활성화에 의해 활성화될 수 있다. 활성화제는 추가로, 예를 들면, 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르 그룹으로 개질시킬 수 있다. 이러한 촉매 시스템은 일반적으로 필립스(Phillips), 스탠다드 오일 인디아나(Standard Oil Indiana), 찌글러(Ziegler, -Natta), TNZ(DuPont), 메탈로센 또는 단면 촉매(single site catalyst, SSC)로 칭해진다.
2. 1)항에서 언급한 중합체의 혼합물, 예를 들면, 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌과의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌과의 혼합물(예: PP/HDPE, PP/LDPE) 및 상이한 유형의 폴리에틸렌의 혼합물(예: LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀 및 디올레핀과 서로와의 공중합체 또는 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 예를 들면, 에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 이의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥센 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체 및 일산화탄소 또는 에틸렌/아크릴산 공중합와의 이의 공중합체 및 이의 염(아이오노머) 뿐만 아니라 에틸렌과 프로필렌 및 헥사디엔, 디사이클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨과 같은 디엔과의 삼원공중합체; 이러한 공중합체와 서로와의 혼합물 및 1)항에서 언급한 중합체와의 혼합물, 예를 들면, 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE/에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체, LLDPE/에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LLDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체 및 교호 또는 랜덤 폴리알킬렌/일산화탄소 공중합체 및 다른 중합체와의 이의 혼합물(예: 폴리아미드).
4. 탄화수소 수지(예: C5-C9)의 수소화된 개질물(예: 점착부여제) 및 폴리알킬렌과 전분과의 혼합물을 포함하는 탄화수소 수지(예: C5-C9).
5. 폴리스티렌 폴리-(p-메틸스티렌), 폴리-(α-메틸스티렌).
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴산 유도체와의 공중합체, 예를 들면, 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 아크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트; 높은 충격 강도의 스티렌 공중합체와 또 다른 중합체와의 혼합물, 예를 들면, 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼원공중합체, 및 스티렌/부타디에/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌과 같은 블록 공중합체.
7. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그래프트 공중합체, 예를 들면, 폴리부타디엔 상의 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체 상의 스티렌, 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔 상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트; 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 말레산 무수물; 폴리부타디엔 상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 말레이미드, 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 알킬 메타크릴레이트, 에틸렌/프로필렌/디엔 삼원공중합체 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 폴리알킬 아크릴레이트 또는 폴리알킬 메타크릴레이트 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 아크릴레이트/부타디엔 공중합체 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴 뿐만 아니라 6)항에서 언급한 공중합체와의 이의 혼합물, 예를 들면, ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로 공지된 공중합체 혼합물.
8. 폴리클로로프렌, 염소화 고무, 이소부틸렌-이소프렌의 염소화 및 브롬화 공중합체(할로부틸 고무), 염소화 또는 설포클로르화 폴리에틸렌, 에틸렌과 염소화 에틸렌과의 공중합체, 에피클로로하이드린 단독중합체 및 공중합체, 특히 할로겐 함유 비닐 화합물의 중합체, 예를 들면, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드; 폴리비닐리덴 플루오라이드; 뿐만 아니라 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트와 같은 이의 공중합체.
9. α,β-불포화산으로부터 유도된 중합체 및 부틸 아크릴레이트로 내충격성 개질시킨 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드 및 폴리아크릴로니트릴과 같은 이의 유도체.
10. 9)항에서 언급한 단량체 서로 또는 다른 불포화 단량체와의 공중합체, 예를 들면, 아크릴로니트릴/부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴/비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼원공중합체.
11. 아실 유도체의 불포화 알콜 및 아민 또는 이의 아세탈로부터 유도된 중합체, 예를 들면, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민; 뿐만 아니라 1)항에서 언급한 올레핀과의 이들의 공중합체.
12. 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 비스글리시딜 에테르와의 이의 공중합체와 같은 사이클릭 에테르의 단독중합체 및 공중합체.
13. 폴리옥시메틸렌과 같은 폴리아세탈 및 공단량체(예: 에틸렌 옥사이드)를 함유하는 폴리옥시메틸렌; 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질시킨 폴리아세탈.
14. 폴리페닐렌 옥사이드 및 설파이드, 및 스티렌 중합체 또는 폴리아미드와의 이의 혼합물.
15. 하이드록실 말단화 폴리에테르로부터 유도된 폴리우레탄, 한쪽은 폴리에스테르 및 폴리부타디엔이고 다른쪽은 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트 및 이의 전구체.
16. 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌으로부터 출발하는 방향족 폴리아미드, 디아민 및 아디프산과 같은, 디아민 및 디카복실산으로부터 유도되고/되거나 아미노카복실산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드; 헥사메틸렌디아민 및 이소프탈산 및/또는 테레프탈산 및 개질제로서의 엘라스토머와 함께 또는 없이 제조된 폴리아미드, 예를 들면, 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드. 앞에서 언급한 폴리아미드와 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 아이오노머 또는 화학 결합되거나 그래프팅된 엘라스토머; 또는 폴리에테르(예: 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜)와의 블록 공중합체. 또한 PEDM 또는 ABS로 개질된 폴리아미드 또는 공폴리아미드; 및 공정 동안 축합된 폴리아미드(RIM 폴리아미드 시스템).
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에스테르이미드, 폴리히단토인 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸로사이클로헥산 테레프탈레이트 및 폴리하이드록시벤조에이트와 같은, 디카복실산 및 디올로부터 유도되고/되거나 하이드록시카복실산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르 뿐만 아니라 하이드록실 말단화 폴리에테르로부터 유도된 블록 폴리에테르 에스테르; 또한 폴리카보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르; 및 산 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카보네이트 및 폴리에스테르 카보네이트.
20. 폴리설폰, 폴리에테르 설폰 및 폴리에테르 케톤.
21. 페놀/포름알데하이드 수지, 우레아/포름알데하이드 수지 및 멜라민/포름알데하이드 수지와 같은 한쪽은 알데하이드로부터 유도되고 다른쪽은 페놀, 우레아 또는 멜라민으로부터 유도된 가교 중합체.
22. 건조 및 비건조 알키드 수지.
23. 포화 및 불포화 디카복실산과 가교제로서의 다가 알콜 및 비닐 화합물과의 코폴리에스테르로부터 유도된 폴리에스테르 수지, 또한 낮은 가연도의 이의 할로겐 함유 개질물.
24. 치환된 아크릴레이트, 예를 들면, 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트로부터 유도된 가교성 아크릴산 수지.
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지로 가교된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴레이트 수지.
26. 지방족, 지환족, 헤테로사이클릭 또는 방향족 글리시딜 화합물로부터 유도된 가교된 에폭시 수지, 예를 들면, 촉진제와 함께 또는 없이 통상적인 경화제(예: 무수물 또는 아민)로 가교시킨 비스페놀 A 디글리시딜 에테르, 비스페놀 F 디글리시딜 에테르의 생성물.
27. 셀룰로즈, 고무, 젤라틴 및 화학적으로 개질된 균질한 이의 유도체와 같은 천연 중합체, 예를 들면, 셀룰로즈 아세테이트, 셀룰로즈 프로피오네이트 및 셀룰로즈 부티레이트 또는 메틸 셀룰로즈와 같은 셀룰로즈 에테르; 또한 로진 및 유도체.
28. 앞에서 언급한 중합체의 블렌드(폴리블렌드), 예를 들면, PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PC/ABS 또는 PBT/PET/PC.
따라서, 본 발명은 또한 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 민감한 유기 물질(A) 및 안정화제로서 화학식 1 또는 1A의 화합물(B)을 포함하는 조성물에 관한 것이다.
또한 본 발명은 안정화제로서 화학식 1 또는 1A의 화합물을 이에 첨가함을 포함하는 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 대한 유기 물질을 안정화하는 방법과 유기 물질을 안정화하는 화학식 1 또는 1A의 화합물의 용도에 관한 것이다.
사용되는 안정화제의 양은 안정화시키는 유기 물질과 안정화시킨 물질의 사용하고자 하는 용도에 좌우된다. 일반적으로, 신규한 조성물은 성분 A의 100중량부당 안정화제(성분 B)를 0.01 내지 15중량부, 특히 0.05 내지 10중량부, 보다 특히 0.1 내지 5중량부 포함한다.
또한 안정화제(성분 B)는 2개 이상의 화학식 1 또는 1A의 화합물의 혼합물일 수 있다. 신규한 화합물 이외에, 신규한 조성물은 또한 다른 안정화제 또는 다른 첨가제, 예를 들면, 항산화제, 추가의 광 안정화제, 금속 불활성화제, 포스파이트 또는 포스포나이트를 포함할 수 있다. 이러한 안정화제의 예는 다음과 같다:
1. 항산화제
1.1 알킬화된 모노페놀, 예를 들면, 2,6-디-3급-부틸-4-메틸페놀, 2-3급-부틸-4,6-디-메틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리사이클로헥실페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시메틸페놀, 측쇄가 직쇄 또는 분지된 노닐페놀[예: 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데스-1'-일)페놀, 2,4-디-메틸-6-(1'-메틸헵타데스-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데스-1'-일)페놀 및 이의 혼합물.
1.2 알킬티오메틸페놀, 예를 들면, 2,4-디옥틸티오메틸-6-3급-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 하이드로퀴논 및 알킬화된 하이드로퀴논, 예를 들면, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시-페놀, 2,5-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-아밀하이드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트, 비스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)아디페이트.
1.4. 토코페롤, 예를 들면, α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이의 혼합물(비타민 E).
1.5. 하이드록실화 티오디페닐 에테르, 예를 들면, 2,2'-티오비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스-(3,6-디-2급-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐)디설파이드.
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예를 들면, 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-3급-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-3급-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸-페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸-페닐)디사이클로펜타디엔, 비스[2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-3급-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스-(3,5-디메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를 들면, 3,5,3',5'-테트라-3급-부틸-4,4'-디하이드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-하이드록시-3,5-디메틸벤질머캅토아세테이트, 트리데실-4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질머캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-벤질)설파이드, 이소옥틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질머캅토아세테이트.
1.8. 하이드록시벤질화 말로네이트, 예를 들면, 디옥타데실-2,2-비스-(3,5-디-3급-부틸-2-하이드록시벤질)-말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실머캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트.
1.9 방향족 하이드록시벤질 화합물, 예를 들면, 1,3,5-트리스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물, 예를 들면, 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)-헥사하이드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11. 벤질포스포네이트, 예를 들면, 디메틸-2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘염.
1.12. 아실아미노페놀, 예를 들면, 4-하이드록시라우르아닐리드, 4-하이드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-3급-부틸--4-하이드록시페닐)카바메이트.
1.13. β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알콜과의 에스테르, 1가 또는 다가 알콜의 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드로시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸로프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄이다.
1.14. β-(5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알콜과의 에스테르, 1가 또는 다가 알콜의 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드로시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸로프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄이다.
1.15. β-(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알콜과의 에스테르, 1가 또는 다가 알콜의 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드로시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸로프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄이다.
1.16. 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 아세트산과 1가 또는 다가 알콜과의 에스테르, 1가 또는 다가 알콜의 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드로시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸로프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄이다.
1.17. β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들면, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라지드, N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐]프로피오닐옥시)에틸]옥사미드(NaugardRXL-1, 공급원: Uniroyal).
1.18. 아스코르브산(비타민 C)
1.19. 아민성 항산화제, 예를 들면, N,N'-디-이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-2급-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디사이클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-사이클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔설파모일)디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-2급-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-3급-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예를 들면, p,p'-디-3급-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-3급-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, 3급-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노- 및 디알킬화 3급-부틸/3급-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 이소프로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 3급-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디하이드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 디알킬화 3급-부틸/3급-옥틸페노티아진의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 3급-옥틸-페노티아진의 혼합물, N-알킬페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-피페리드-4-일-헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)-세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올.
2. UV 흡수제 및 광 안정화제
2.1. 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들면, 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-2급-부틸-5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3'-3급-부틸-5'-(2-메톡시카보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300,(여기서, R은 3'-3급-부틸-4'-하이드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐이다)과의 에스테르 교환반응 생성물, 2-[2'-하이드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-5'-(α,α-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸.
2.2. 2-하이드록시벤조페논, 예를 들면, 4-하이드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리하이드록시 및 2'-하이드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 치환되고 치환되지 않은 벤조산의 에스테르, 예를 들면, 4-3급-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-3급-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일 레노르시놀, 2,4-디-3급-부틸페닐 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-3급 부틸페닐 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를 들면, 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸-α-카보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예를 들면, n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-사이클로헥실디에탄올아민과 같은 추가의 리간드와의 또는 추가의 리간드가 없는 2,2'-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물(1:1 또는 1:2 착물), 니켈 디부틸디티오카바메이트, 모노알킬 에스테르(예: 메틸 또는 에틸 에스테르)의 니켈염, 4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질포스폰산의 니켈염, 케톡심(예: 2-하이드록시-4-메틸페닐 운데실케톡심)의 니켈 착물, 추가의 리간드와의 또는 추가의 리간드가 없는 1-페닐-4-라우로일-5-하이드록시피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민, 예를 들면, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)석시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) n-부틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 석신산과의 축합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-3급-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진과의 직쇄 또는 사이클릭 축합물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카복실세이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)석시네이트, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아미과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진과의 직쇄 또는 사이클릭 축합물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과의 축합물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄과의 축합물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진과의 축합 생성물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진과의 축합 생성물 뿐만 아니라 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘(CAS 등록번호 [136504-96-6]); N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실석신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실석신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4.5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-사이클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸과 에피클로로하이드린과의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카보닐)-2-(4-메톡시페닐)에탄, N,N'-비스-포르밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시-메틸렌-말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-하이드록시피페리딘과의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말레산 무수물 α-올레핀 공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘과의 반응 생성물.
2.7. 옥사미드, 예를 들면, 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-3급-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-3급-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에톡사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-3급-부틸-2'-에톡사닐리드 및 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-3급-부톡사닐리드와 이의 혼합물, o- 및 p-메톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시 이치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들면, 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스-(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)-2-하이드록시-페닐]-4,6-비스(2,4-디-(메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-도데실옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-부톡시-2-하이드록시-프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-{2-하이드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-하이드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 및/또는 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)-2-하이드록시-페닐]-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트리아진과 같은 2,4-비스(4-페닐페닐)-6-아릴트리아진(문헌 참조: 제WO 96/28431호).
3. 금속 불활성화제, 예를 들면, N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실알-N'-살릴실로일 하이드라진, N,N'-비스(살리실로일)하이드라진, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디하이드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디하이드라지드, 세바코일 비스페닐하이드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디하이드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디하이드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디하이드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들면, 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-3급-부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-3급-부틸-4-메틸페닐)-펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-3급-부틸페닐) 4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-3급-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-3급-부틸-12-메틸디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐) 메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐) 에틸 포스파이트, 2,2',2"-니트릴로[트리에틸트리스(3,3',5,5'-테트라-3급-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트], 2-에틸헥실(3,3',5,5'-테트라-3급-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트.
특히 바람직한 포스파이트는 트리스(2,4-디-3급-부틸페닐) 포스파이트(상표명: IrgafosR168, 제조원: Ciba-Geigy), 트리스(노닐페닐)포스파이트와 화학식 A, B, C, D, E, F 및 G의 포스파이트이다.
5. 하이드록실아민, 예를 들면, N,N-디벤질하이드록실아민, N,N-디에틸하이드록실아민, N,N-디옥틸하이드록실아민, N,N-디라우릴하이드록실아민, N,N-디테트라데실하이드록실아민, N,N-디헥사데실하이드록실아민, N,N-디옥타데실하이드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실하이드록실아민, N-헵타데실-N-옥타데실하이드록실아민, 수소화시킨 우지 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬하이드록실아민.
6. 니트론, 예를 들면, N-벤질-알파-니트론, N-에틸-알파-메틸-니트론, N-옥틸-알파-헵틸-니트론, N-라우릴-알파-운데실-니트론, N-테트라데실-알파-트리드실-니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실-니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실-니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실-니트론, N-옥타데실-알파-펜타데실-니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실-니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실-니트론, 수소화시킨 우지 아민으로부터 유도된 N,N-알킬하이드록실아민으로부터 유도된 니트론.
7. 황 상승제, 예를 들면, 디라우릴 티오디프로피오네이트 또는 디스테아릴 티오디프로피오네이트.
8. 과산화물 스캐빈저, 예를 들면, β-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들면, 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 머캅토벤즈이미다졸 또는 2-머캅토벤즈이미다졸의 아연염, 아연 디부틸디티오카바메이트, 디옥타데실 디설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실머캅토)프로피오네이트.
9. 폴리아미드 안정화제, 예를 들면, 요오드화물과 조합된 구리염 및/또는 아인산 화합물 및 2가 망간염.
10. 염기성 공안정화제(co-stabilizer), 예를 들면, 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 하이드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고지방산의 알칼리 금속염 및 알칼리 토금속염(예: 칼슘 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 마그네슘 베헤네이트, 마그네슘 스테아레이트, 나트륨 리시놀레에이트 및 칼륨 팔미테이트), 안티몬 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트.
11. 핵형성제, 예를 들면, 탈쿰과 같은 무기 물질, 이산화티탄 또는 산화마그네슘과 같은 금속 산화물 또는, 바람직하게는 알칼리 토금속의 포스페이트, 카보네이트 또는 설페이트; 모노- 또는 폴리카복실산 및 이의 염과 같은 유기 화합물(예: 4-3급-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 나트륨 석시네이트 또는 나트륨 벤조에이트); 이온성 공중합체(아이오노머)와 같은 중합체성 화합물.
12. 충전제 및 강화제, 예를 들면, 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 유리 벌브, 석면, 탈크, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연, 목분 및 기타 천연물의 분말 또는 섬유, 합성 섬유.
13. 기타 첨가제, 예를 들면, 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 유체학적 첨가제, 촉매, 유동 조절제, 광 증백제, 방염제, 정전기 방지제 및 발포제.
14. 벤조푸라논 및 인돌리논, 예를 들면, US 제4,325,863호, US 제4,338,244호, US 제5,175,312호, US 제5,216,052호, US 제5,252,643호, DE-A 제4316611호, DE-A 제4316622호, DE-A 제4316876호, EP-A 제0589839호 또는 EP-A 제0591102호에 기재되어 있는 것 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 5,7-디-3급-부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-3급-부틸-3-(4-[2-하이드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-3급-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,4-디메틸페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(2,3-디-메틸페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온.
첨가되는 추가의 안정화제의 유형과 양은 안정화시키는 기질의 유형과 사용하고자 하는 용도에 따라 결정하고, 종종, 안정화시키는 중합체의 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 5중량%를 사용한다.
신규한 안정화제는 특히 유리하게는 성분 A가 합성 유기 중합체, 특히 열가소성 중합체, 피복용 결합제(예: 도료) 또는 사진 재료인 조성물에 사용할 수 있다. 적합한 열가소성 중합체의 예는 주쇄에 헤테로 원자를 포함하는 폴리올레핀과 중합체이다. 또한 바람직하게는 성분 A가 주쇄에 질소, 산소 및/또는 황, 특히, 질소 또는 산소를 포함하는 열가소성 중합체인 조성물에 제공한다.
또한 흥미롭게는 성분 A가 폴리올레핀(예: 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌)인 조성물이다.
유기 중합체, 예를 들면, 합성 유기물, 특히 열가소성 중합체에의 혼입은 신규한 트리페닐 치환된 트리아진 화합물 및 임의의 추가의 첨가제를 당해 기술분야에서의 통상적인 방법으로 첨가함으로써 수행할 수 있다. 혼입은 편리하게는 성형 전에 또는 동안에, 예를 들면, 분말 성분을 혼합하거나 중합체 용융물 또는 용액에 안정화제를 첨가함으로써, 또는 용해시키거나 분산시킨 화합물을 중합체에 도포함으로써, 용매를 후속적으로 증발시키거나 증발시키지 않고서 수행할 수 있다. 또한 엘라스토머를 라텍스로서 안정화시킬 수 있다. 신규한 혼합물을 중합체에 혼입하는 또 다른 방법은 이들을 상응하는 단량체의 중합 전에 또는 동안에 또는 가교 전에 첨가함을 포함한다.
또한 신규한 화합물은, 예를 들면, 2.5 내지 25중량%의 농도로 당해 화합물을 포함하는 마스터 배치의 형태로 안정화되는 플라스틱에 가할 수 있다.
신규한 화합물을 유리하게는 다음 방법에 의해 혼입시킬 수 있다:
-유제 또는 분산액으로서(예: 라텍스 또는 유제 중합체)
-추가의 성분 또는 중합체 혼합물을 혼합하는 동안 무수 혼합물로서
-공정 장치에 직접 가함으로써(예: 압출기, 내부 혼합기 등)
-용액 또는 용융물로서.
이러한 방법으로 수득되는 안정화된 중합체 조성물은 열간 압축, 스피닝, 압출 또는 사출성형과 같은 통상적인 방법에 의해 섬유, 필름, 테이프, 시트, 샌드위치 보드, 컨테이너, 파이프 및 기타 프로필과 같은 성형품으로 전환시킬 수 있다.
따라서, 본 발명은 추가로 성형품을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 중합체 조성물의 용도에 관한 것이다.
다층 시스템에서의 용도가 또한 관심을 끈다. 이러한 경우에 있어서, 신규한 안정화제를 비교적 고함량(예: 5 내지 15중량%) 함유하는 신규한 중합체 조성물을 화학식 1 또는 1A의 안정화제를 거의 함유하지 않거나 전혀 함유하지 않는 중합체로부터 제조된 성형품에 박막(10 내지 100㎛)으로 도포한다. 기재 구조물을 성형함과 동시에, 예를 들면, 공압출시킴으로써 도포할 수 있다. 그러나, 또한 미리 성형시킨 기재 구조물에, 예를 들면, 필름으로 적층시키거나 용액으로 피복시킴으로써 도포할 수 있다. 성형품의 외부층 또는 외부층들은 성형품의 내부를 UV 광으로부터 보호하는 UV 필터 작용을 한다. 바람직하게는 외부층은 하나 이상의 화학식 1 또는 1A의 화합물을 5 내지 15중량%, 특히 5 내지 10중량% 함유한다.
이러한 방법으로 안정화시킨 중합체의 높은 내후성, 특히 높은 UV 저항성은 주목할 만하다. 이로 인하여 외부에서 사용하는 경우 오랫동안 이들의 기계적 특성과 이들의 색상 및 광택을 유지할 수 있게 한다.
특별한 관심사는 화학식 1 또는 1A의 신규한 화합물의 피복물용, 예를 들면, 도료용 안정화제로서의 용도이다. 따라서, 또한 본 발명은 성분 A가 피복용 필름 형성 결합제인 조성물에 관한 것이다.
신규한 피복 조성물은 바람직하게는 고체 결합제(성분 A)의 100중량부당 성분 B를 0.01 내지 10중량부, 특히 0.05 내지 10중량부, 특히 0.1 내지 5중량부 포함한다.
또한 다층 시스템은, 외부층에서 신규한 안정화제(성분 B)의 농도가 비교적 높을 수 있고, 예를 들면, 고체 결합제(성분 A)의 100중량부당 성분 B가 1 내지 15중량부, 특히 3 내지 10중량부일 수 있다.
피복물에서 신규한 안정화제의 용도는 안정화제가 박리를 방지하는, 즉 기판으로부터 피복물이 플레이킹되는 것을 방지하는 추가의 장점에 의해 수행된다. 이러한 장점은 특히, 금속 기판 상의 다층 시스템을 포함하는 금속 기판인 경우에 중요하다.
결합제(성분 A)는, 예를 들면, 문헌(참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th Edition, Vol. A18, pp. 368-426, VCH, Weinheim 1991)에 기술된 바와 같이 주로 산업분야에서 통상적인 임의의 결합제일 수 있다. 일반적으로, 이는 열가소성 또는 열경화성 수지계, 우세하게는 열경화성 수지계 필름 형성 결합제이다. 이의 예는 알키드, 아크릴, 폴리에스테르, 페놀, 멜라민, 에폭시 및 폴리우레탄 수지 및 이들의 혼합물이다.
성분 A는 냉간 경화성이거나 열간 경화성 결합제일 수 있고, 경화 촉매를 첨가하는 것이 유리할 수 있다. 결합제의 경화를 촉진하는 데 적합한 촉매는, 예를 들면, 문헌(참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A18, pp. 469, VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1991)에 기술되어 있다.
바람직하게는 성분 A가 작용성 아크릴레이트 수지와 가교제를 포함하는 결합제인 피복 조성물을 제공한다.
특정 결합제를 함유하는 피복 조성물의 예는 다음과 같다:
1. 냉간 또는 열간 가교성 알키드, 아크릴레이트, 폴리에스테르, 에폭시 또는 멜라민 수지 또는, 경우에 따라, 경화 촉매를 첨가하고서, 이러한 수지 혼합물계 도료,
2. 하이드록실 함유 아크릴레이트, 폴리에스테르 또는 폴리에테르 수지 및 지방족 또는 방향족 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트계 2개 성분 폴리우레탄 도료,
3. 베이킹 동안 탈블로킹되는 블로킹된 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트계 1개 성분 폴리우레탄 도료,
4. 지방족 또는 방향족 우레탄 또는 폴리우레탄 및 하이드록실 그룹 함유 아크릴레이트, 폴리에스테르 또는 폴리에테르 수지계 1개 성분 폴리우레탄 도료,
5. 경우에 따라, 경화 촉매와의 우레탄 구조 내에 유리 아미노 그룹을 갖는 지방족 또는 방향족 우레탄아크릴레이트 또는 폴리우레탄아크릴레이트 및 멜라민 수지 또는 폴리에테르 수지계 1개 성분 폴리우레탄 도료,
6. (폴리)케티민 및 지방족 또는 방향족 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트계 2개 성분 도료,
7. (폴리)케티민 및 불포화 아크릴레이트 수지 또는 폴리아세토아세테이트 수지 또는 메타크릴아미도글리콜레이트 메틸 에스테르계 2개 성분 도료,
8. 카복실- 또는 아미노 함유 폴리아크릴레이트 및 폴리에폭사이드계 2개 성분 도료,
9. 아크릴레이트 수지 함유 무수물 그룹 및 폴리하이드록시 또는 폴리아미노 성분계 2개 성분 도료,
10. 아크릴레이트 함유 무수물 및 폴리에폭사이드계 2개 성분 도료,
11. (폴리)옥사졸린 및 아크릴레이트 수지 함유 무수물 그룹, 또는 불포화 아크릴레이트 수지, 또는 지방족 또는 방향족 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트계 2개 성분 도료,
12. 불포화 폴리아크릴레이트 및 폴리말로네이트계 2개 성분 도료,
13. 열가소성 아크릴레이트 수지 또는 에테르화 멜라민 수지와 배합된 외부 가교 아크릴레이트 수지계 열가소성 폴리아크릴레이트 도료,
14. 실록산 개질되거나 불소 개질된 아크릴레이트 수지계 도료 시스템.
성분 A 및 B 이외에, 본 발명에 따르는 피복 조성물은 바람직하게는 성분 C로서 위의 목록 2.1, 2.6 및 2.8에서 언급한 바와 같은 입체 장애 아민형, 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 및/또는 2-하이드록시페닐-2H-벤조트리아졸형의 광 안정화제를 포함한다. 유리하게는 첨가되는 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진형 광 안정화제에 대한 예는 US-A 제4619956호, EP-A 제434608호, US-A 제5198498호, US-A 제5322868호, US-A 제5369140호, US-A 제5298067호, 제WO-94/18278호, EP-A 제704437호, GB-A 제2297091호, 제WO-96/28431호에 기재되어 있다. 특별한 기술적 중요성은 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 및/또는 2-하이드록시페닐-2H-벤조트리아졸, 특히 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진을 첨가하는 것이다.
최대 광 안정성을 성취하기 위해서, 위에서 언급한 목록 2.6에서 기술한 바와 같은 입체 장애 아민을 가하는 것이 특히 중요하다. 따라서, 본 발명은 또한 성분 A 및 B 이외에 성분 C로서 입체 장애 아민형의 광 안정화제를 포함하는 피복 조성물에 관한 것이다.
이러한 안정화제는 바람직하게는 화학식(여기서, G는 수소 또는 메틸, 특히 수소이다)의 그룹을 하나 이상 함유하는 2,2,6,6-테트라알킬피페리딘 유도체이다.
성분 C는 바람직하게는 고체 결합제 100중량부당 0.05 내지 5중량부의 양으로 사용한다.
성분 C로서 사용할 수 있는 테트라알킬피페리딘 유도체의 예는 EP-A 제356 677호 페이지 3 내지 17 섹션 a) 내지 f)에 기재되어 있다. EP-A의 이러한 섹션은 본 기술의 일부로서 간주된다. 다음 테트라알킬피페리딘 유도체를 사용하는 것이 특히 유리하다:
비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일) 석시네이트,
비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일) 세바케이트,
비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리드-4-일) 세바케이트,
디(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리드-4-일) 부틸-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트,
비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일) 세바케이트,
테트라(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일) 부탄-1,2,3,4-테트라카복실레이트,
테트라(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리드-4-일) 부탄-1,2,3,4-테트라카복실세이트,
2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-21-옥소-디스피로[5.1.11.2]헨아이코산,
8-아세틸-3-도데실-1,3,8-트리아자-7,7,9,9-테트라메틸스피로[4.5]데칸-2,4-디온,
1,1-비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일-옥시카보닐)-2-(4-메톡시페닐)-에텐, 또는
화학식(여기서, R은이다),
(여기서, R은이다),
8
(여기서, m은 5 내지 50이다)의 화합물이다.
성분 A, B 및, 경우에 따라, 성분 C 이외에, 피복 조성물은 또한 추가의 성분, 예를 들면, 용매, 안료, 염료, 가소제, 안정화제, 틱소트로프제, 건조 촉매 및/또는 균전재를 포함할 수 있다. 가능한 성분의 예는 문헌에 기술되어 있다(참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th Edition, Vol. A18, pp. 429-471, VCH, Weinheim 1991).
가능한 건조 촉매 또는 경화 촉매는, 예를 들면, 유기 금속 화합물, 아민, 아미노 함유 수지 및/또는 포스핀이다. 유기 금속 화합물의 예는 금속 카복실레이트, 특히 금속 Pb, Mn, Co, Zn, Zr 또는 Cu의 카복실레이트, 또는 금속 킬레이트, 특히 금속 Al, Ti 또는 Zr의 카복실레이트, 또는, 예를 들면, 유기 주석 화합물과 같은 유기 금속 화합물이다.
금속 카복실레이트의 예는 Pb, Mn 또는 Zn의 스테아레이트, Co, Zn 또는 Cu의 옥토에이트, Mn 및 Co의 나프테네이트, 상응하는 리놀레에이트, 레지네이트 또는 탈레이트이다.
금속 킬레이트의 예는 아세틸아세톤, 에틸 아세틸아세테이트, 살리실알데하이드, 살리실알독심, o-하이드록시아세토페논 또는 에틸 트리플루오로아세틸아세테이트의 알루미늄, 티탄 또는 지르코늄 킬레이트, 및 이러한 금속의 알콕사이드이다.
유기 주석의 예는 디부틸틴 옥사이드, 디부틸틴 디라우레이트 또는 디부틸틴 디옥토에이트이다.
아민의 예는 특히 3급 아민, 예를 들면, 트리부틸아민, 트리에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, N-디메틸에탄올아민, N-에틸모르폴린, N-메틸모르폴린 또는 디아자비사이클로옥탄 (트리에틸렌디아민) 및 이의 염이다. 추가의 예는 4급 암모늄염, 예를 들면, 트리메틸벤질암모늄 클로라이드이다.
아미노 함유 수지는 동시에 결합제와 경화 촉매이다. 이의 예는 아미노 함유 아크릴레이트 공중합체이다.
사용되는 경화 촉매는 또한 포스핀, 예를 들면, 트리페닐포스핀일 수 있다.
또한 신규한 피복 조성물은 방사선 경화성 피복 조성물일 수 있다. 이러한 경우에 있어서, 결합제는 필수적으로 도포 후 화학 방사선에 의해 경화되는, 즉 가교된 고분자량 형태로 전환되는 에틸렌성 불포화 결합을 함유하는 단량체성 또는 올리고머성 화합물을 포함한다. 시스템이 UV 경화되는 경우, 일반적으로 광개시제도 포함한다. 상응하는 시스템은 위에서 언급한 물헌에 기술되어 있다(참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th Edition, Vol. A18, pp. 451-453). 방사선 경화성 피복 조성물에서, 신규한 안정화제는 입체 장애 아민을 가하지 않고서 사용할 수도 있다.
본 발명에 따르는 피복 조성물을 임의의 목적하는 기판(예: 금속, 나무, 플라스틱 또는 세라믹 재료)에 도포할 수 있다. 상도(上塗)가 하층은 안료처리하고 상층은 안료처리하지 않은 2개의 층을 포함하는 경우, 신규한 피복 조성물은 상층 또는 하층 또는 2개의 층 둘 다, 바람직하게는 상층에 사용할 수 있다.
신규한 조성물은 통상적인 방법, 예를 들면, 브러싱, 분무, 침지 또는 전기영동에 의해 기판에 도포할 수 있다(문헌 참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th Edition, Vol. A18, pp. 491-500).
결합제 시스템에 따라, 피복물은 실온에서 경화되거나 가열함으로써 경화될 수 있다. 피복물은 바람직하게는 50 내지 150℃에서 경화되고, 분말 피복물인 경우, 보다 고온에서 경화된다.
본 발명에 따라 수득된 피복물은 광, 산소 및 열의 손상 효과에 대하여 탁월한 저항성을 갖는다. 따라서, 수득된 피복물(예: 도료)은 광 안정성 및 내후성이 우수하다.
따라서, 본 발명은 본 발명에 따르는 화학식 1 또는 1A의 화합물을 함유시킴으로써 광, 산소 및 열의 손상 효과에 대하여 안정화된 피복물, 특히 도료에 관한 것이다. 도료는 바람직하게는 자동차용 상도이다. 또한 본 발명은, 피복 조성물을 화학식 1 또는 1A의 화합물을 포함하는 혼합물과 혼합함을 포함하여, 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 대하여 유기 중합체계 피복물을 안정화하는 방법, 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 대한 안정화제로서 피복 조성물 중에 화학식 1 또는 1A의 화합물을 포함하는 혼합물의 용도에 관한 것이다.
피복 조성물은 결합제가 가용성인 유기 용매 또는 용매 혼합물을 포함할 수 있다. 또한 피복 조성물은 수용액 또는 분산액일 수 있다. 또한 비히클은 유기 용매와 물의 혼합물일 수 있다. 피복 조성물은 높은 고형분 도료이거나 용매가 없을 수 있다(예: 분말 피복 물질). 분말 피복물은, 예를 들면, 문헌에 기술되어 있는 것이다(참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5th Edition, Vol. A18, pp. 438-444). 분말 피복 물질은 또한 분말 슬러리(바람직하게는 수중 분말의 분산액) 형태일 수 있다.
안료는 무기, 유기 또는 금속 안료일 수 있다. 바람직하게는 신규한 피복 조성물은 안료를 전혀 함유하지 않고 투명 상도(clearcoat)로서 사용할 수 있다.
이와 같이 바람직하게는 피복 조성물은 자동차 산업에서 도포용 상도로서, 특히 도료 가공품의 안료처리하거나 안료처리하지 않은 상도로서 사용한다. 그러나, 하도용으로는 불가능하다.
바람직하게는 화학식 1 또는 1A의 신규한 화합물은 사진 재료에 광, 특히 UV 광에 의한 손상에 대한 안정화제로서 사용된다. 따라서, 또한 본 발명은 화학식 1 또는 1A의 화합물을 포함하는 사진 재료에 관한 것이다.
본 발명에 따르는 화합물은 모든 종류의 감광성 재료에 사용할 수 있다. 예를 들면, 이들은 색지, 칼라 반전 제지, 직접 포지티브 칼라 재료, 칼라 네거티브 필름, 칼라 포지티브 필름, 칼라 반전 필름 및 기타 재료로 사용할 수 있다. 이들은 바람직하게는, 특히 반전 기판을 포함하거나 포지티브를 형성하는 감광성 색상 재료로 사용된다.
또한, 신규한 화합물은 다른 UV 흡수제, 특히 수성 젤라틴에 분산성인 UV 흡수제, 예를 들면, 하이드록시페닐벤조트리아졸(참조: US-A 제4,853,471호, US-A 제4,973,702호, US-A 제4,921,966호 및 US-A 제4,973,701호), 벤조페논, 옥사닐리드, 시아노아크릴레이트, 살리실레이트, 아크릴로니트릴 또는 티아졸린과 배합할 수 있다. 본 명세서에서, 추가로 신규한 UV 흡수제를 포함하는 층 이외의 층에 사진 재료 중에 오일 용해시킨 UV 흡수제를 사용하는 것이 유리하다.
특히 US-A 제4,518,686호에 기술되어 있는 것과 유사한 사진 재료를 성공적으로 안정화시킬 수 있다.
따라서, 본 발명은 추가로 최상단의 은 할라이드 유제층 위에 배열된 UV 흡수제(여기서, UV 흡수제는 화학식 1 또는 1A의 화합물이다)를 포함하는 층을 갖는 지지체 상에 청색 민감성, 녹색 민감성 및/또는 적색 민감성 은 할라이드 유제층 및, 경우에 따라, 보호층을 포함하는 사진 재료에 관한 것이다.
바람직하게는 최상단의 은 할라이드 유제층 위 및/또는 녹색 및 적색 민감성 은 할라이드 유제층 사이에 화학식 1 또는 1A의 화합물을 포함하는 층을 갖는 사진 재료를 추가로 제공한다.
또한, UV 흡수제 혼합물 및/또는 수성 젤라틴에 분산성인 추가의 UV 흡수제를 갖는 UV 흡수제를 포함할 수 있는 당해 층 모두 또는 몇 개 층에 유리할 수 있다(단 화학식 1 또는 1A의 화합물은 하나 이상의 층에는 존재해야 한다).
신규한 물질은 바람직하게는 은 할라이드 유제층 사이에 젤라틴 중간층을 갖는다.
바람직하게는 청색 민간성, 녹색 민감성 및/또는 적색 민감성 층 중의 은 할라이드는 염화은을 90mol% 이상 포함하는 은 클로라이드 브로마이드인 사진 재료를 제공한다.
본 발명에 따라 사용되는 화학식 1 또는 1A의 화합물은 단독으로 또는 색 커플링제 및, 경우에 따라, 추가의 첨가제와 함께 미리 화합물을 저비점 유기 용매에 용해시킴으로써 색상 사진 재료에 혼입할 수 있다. 160℃ 이상에서 비등하는 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 용매의 통상적인 예는 프탈산, 인산, 시트르산, 벤조산 또는 지방산의 에스테르, 및 또한 알킬아미드 및 페놀이다.
바람직하게는 본 발명의 조성물에 사용하기 위한 칼라 커플링제, 이러한 화합물, 추가로 칼라 캐스트 억제제와 같은 첨가제, DIR 커플링제 및 추가의 광 안정화제(예: UV 흡수제, 페놀, 인(III) 화합물, 유기 금속 착물, 하이드로퀴논 및 하이드로퀴논 에테르)의 예와 여러 사진 재료의 구조에 대한 보다 정확한 기술은, 예를 들면, 공보 제EP-A 제531 258호 및 EP-A 제520 938호 및 본원에서 인용한 문헌에 기재되어 있다.
화학식 1 또는 1A의 신규한 트리아진 화합물은 또한, 예를 들면, 실크, 가죽, 모, 폴리아미드, 폴리에스테르 또는 폴리우레탄을 포함하는 염색되지 않은, 염색된 또는 날염된 섬유재료, 특히 모든 종류의 셀룰로즈 함유 섬유재료를 광화학적으로 안정화시키는 방법에 사용하기에 적합하다. 이러하 방법은 본 발명의 추가의 양태를 형성한다. 이러한 섬유재료의 예는 천연 셀룰로즈 섬유(예: 면, 린넨, 황마 및 대마) 및 또한 비스코스 스테이플 섬유와 재생 셀룰로즈이다. 바람직한 텍스타일 섬유재료는 면 또는 폴리에스테르 재료이다. 신규한 트리페닐 치환된 트리아진 화합물은 블렌드 직물(예: 면과 폴리에스테르 섬유 또는 폴리아미드 섬유와의 블렌드) 중의 하이드록실 함유 섬유를 광화학적으로 안정화시키는 데 적합하다. 추가의 바람직한 적용 영역은 신규한 화합물로 가공된 텍스타일 재료를 사람 피부에 제공하여 위에서 언급한 텍스타일 재료를 통과하는 UV 방사선을 차단하거나 감소시키고(UV 차단) 일광 차단을 강화시키는 것에 관한 것이다.
처리된 텍스타일 섬유재료와 같이, 폴리에스테르 또는 셀룰로즈 아세테이트 함유 섬유재료가 특히 중요하다. 폴리에스테르 섬유의 예는 셀룰로즈-21/2-아세테이트 섬유 및 -트리아세테이트 섬유와 같은 셀룰로즈 에스테르 섬유, 특히 직쇄 폴리에스테르 섬유, 임의로 산으로 개질시킨 직쇄 폴리에스테르 섬유이다. 이러한 폴리에스테르 섬유는 테레프탈산을 1,4-비스(하이드록시메틸)사이클로헥산과 축합시킴으로써 수득할 수 있다. 또한 테레프탈산, 이소프탈산 및 에틸렌 글리콜로부터의 섬유가 중요하다. 텍스타일 산업에서 통상적인 폴리에스테르 섬유는 특히 테레프탈산과 에틸렌 글리콜을 포함하는 것이다.
또한 처리시킨 텍스타일 재료는 폴리에스테르 섬유 및 기타 섬유, 예를 들면, 폴리아크릴로니트릴/폴리에스테르-, 폴리아미드/폴리에스테르-, 폴리에스테르/면-, 폴리에스테르/비스코스- 또는 폴리에스테르/모 혼방 섬유를 혼합할 수 있고, 이를 통상적인 방법으로 불연속적으로 또는 연속적으로 염색하거나 날염할 수 있다.
텍스타일 재료는 예를 들면, 피스 제품(예: 편성 제품 또는 직물) 또는, 예를 들면, 치즈 또는 경사 빔 상의 얀으로서 사용할 수 있다.
또한 본 발명의 방법에서 사용하는 데 매우 적합한 것은 외투 가먼트 부분에 사용되고 적어도 부분적으로 광에 대하여 투과성인 텍스타일 직물이다. 본 발명의 방법에 따라 처리된 이러한 텍스타일을 사용함으로써 UV 방사선의 손상 효과에 대하여 보호할 수 있다. 이러한 보호 효과는 UV 차단으로서 공지되어 있고, 화학식 1 또는 1A의 화합물로 처리된 텍스타일 섬유재료는 처리하지 않은 텍스타일 섬유재료에 비하여 자외선 보호 지수(UPF)가 상당히 증가함이 명백하다.
UPF는 보호되지 않은 피부를 손상시키는 UV 방사선량에 대한 보호된 피부를 손상시키는 UV 방사선량의 몫으로서 정의된다. 따라서, UPF는 또한 처리하지 않은 섬유재료와 신규한 화학식 1 또는 1A의 화합물로 처리한 섬유재료가 UV 방사선을 투과하는 정도를 측정하는 것이다. 텍스타일 섬유재료의 자외선 보호 지수 측정은, 예를 들면, 제WO 94/04515호 또는 문헌[참조: J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133(1989)]에 설명되어 있고, 이와 동일하게 실시할 수 있다.
화학식 1 또는 1A의 화합물은, 섬유재료의 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 5중량%, 바람직하게는 0.1 내지 3중량%, 특히 0.25 내지 2중량%의 양으로 가한다.
화학식 1 또는 1A의 화합물은 물에 겨우 용해될 정도이기 때문에 분산된 형태로 도포한다. 분산액은 보조제(예: 석영구 및 고속 교반기)와 함께 적절한 분산제를 사용하여 도포 조건에 요구되는 입자 크기가 얻어질 때까지 화학식 1 또는 1A의 화합물을 수중에서 분쇄함으로써 형성시킨다.
화학식 1 또는 1A의 화합물을 위한 분산제의 예는 다음과 같다:
- 알킬렌 옥사이드 부가물의 산 에스테르 또는 이의 염, 예를 들면, 페놀 1mol 상의 에틸렌 옥사이드 4 내지 40mol 중부가물의 산 에스테르 또는 이의 염, 또는 4-노닐페놀 1mol 상, 디노닐페놀 1mol 상, 또는 특히 페놀 1mol 상의 임의로 치환된 스티렌 1 내지 3mol을 첨가함으로써 제조된 화합물 1mol 상의 에틸렌 옥사이드 6 내지 30mol 부가물의 인산 에스테르,
-폴리스티렌 설포네이트,
-지방산 타우라이드,
-알킬화 디페닐 옥사이드-모노- 또는 -디-설포네이트,
-폴리카복실산 에스테르의 설포네이트,
-산 에스테르를 C8-C22-지방산 아민, 지방산 아미드, 지방산 또는 지방산 알콜 상, 또는 하이드록시 그룹수 3 내지 6의 C3-C6-알콜 상의 에틸렌 옥사이드 및/또는 프로필렌 옥사이드 1 내지 60mol, 바람직하게는 2 내지 30mol의 유기 디카복실산 또는 무기 다가 염기성 산으로 전환시킨 부가 생성물,
-리그닌 설포네이트, 및 특히 바람직하게는,
-포름알데하이드 축합 생성물(예: 리그닌 설포네이트 및/또는 페놀 및 포름알데하이드와의 축합 생성물), 포름알데하이드와 방향족 설폰산과의 축합 생성물(예: 디톨릴에테르 설포네이트와 포름알데하이드와의 축합 생성물), 나프탈렌 설폰산 및/또는 나프톨- 또는 나프틸아민 설폰산과 포름알데하이드와의 축합 생성물, 페놀 설폰산 및/또는 설폰화 디하이드록시디페닐설폰 및 페놀 또는 크레졸과 포름알데하이드 및/또는 우레아와의 축합 생성물 및 디페닐옥사이드-디설폰산 유도체와 포름알데하이드와의 축합 생성물.
안정화시킨 텍스타일 재료는 바람직하게는 염색된 텍스타일 재료이고, 특히 물에 단지 약간 가용성인 분산 염료로 날염된 텍스타일 재료이다. 따라서, 이러한 염료는 염료 액체 중에 우세하게는 미소 분산액으로 존재한다. 이들은 아크리돈-, 아조-, 안트라퀴논-, 쿠마린-, 메틴-, 페리논-, 나프토퀴논이민-, 퀴노프탈론-, 스티릴- 또는 니트로-염료 부류와 같은 다양한 염료 부류일 수 있다. 또한 분산 염료의 혼합물을 본 발명에 따라 사용할 수 있다.
염색은 연속 방법 또는 불연속 방법을 사용하여 수욕으로부터 수행한다. 불연속 방법(배출 방법)을 위하여, 액체 비율은, 예를 들면, 1:1 내지 1:100, 바람직하게는 1:6 내지 1:50의 넓은 범위로부터 선택할 수 있다. 염색 온도는 50℃ 이상이고 일반적으로 140℃ 이하이다. 바람직하게는 염색 온도는 80 내지 135℃의 범위이다.
연속 방법을 위하여, 염료 뿐만 아니라 추가의 보조제를 함유할 수 있는 염료욕을, 예를 들면, 풀라딩(foularding), 분무 또는 슬로프 패딩(slop padding)에 의해 피스 제품에 도포하고, 열고정(thermofixing) 또는 고온 증기 방법에 의해 전개시킨다.
직쇄 폴리에스테르 섬유 및 셀룰로즈 섬유는 바람직하게는 이른바 고온 방법에 의해 밀폐된 내압성 장치에서 100℃ 이상, 바람직하게는 110 내지 135℃의 온도에서 임의로 가압하에 염색한다. 적합한 밀폐 용기는, 예를 들면, 치즈 또는 빔 염색 기계, 윈츠 배트(winch vat), 제트 또는 드럼 염색 기계, 머프 염색 장치, 패들 또는 지거와 같은 순환 장치이다.
셀룰로즈-21/2-아세테이트 섬유는 바람직하게는 80 내지 85℃의 온도에서 염색한다.
화학식 1 또는 1A의 화합물을 염색 적용 동안 첨가하는 경우, 섬유재료를 먼저 이들로 처리한 다음 염색을 수행하거나, 바람직하게는 섬유재료를 염색욕 속에서 화학식 1 또는 1A의 화합물 및 염료와 동시에 처리할 수 있다. 그러나, 화학식 1 또는 1A의 화합물을, 예를 들면, 190 내지 230℃에서 30초 내지 5분에 걸쳐 열고정에 의해 가공된 염색물에 후속적으로 도포할 수도 있다. 텍스타일 재료를 동시에 표면 고정시키는 경우, 화학식 1 또는 1A의 화합물로 미리 처리할 수도 있다.
또한 염료액은 염색 보조제, 분산제, 캐리어, 모 보호제, 습윤제 및 소포제와 같은 추가의 첨가제를 함유할 수 있다.
더욱이, 염료욕은 황산 또는 인산과 같은 광산, 또는 유리하게는 지방족 카복실산(예: 포름산, 아세트산, 옥살산 또는 시트르산 및/또는 암모늄 아세테이트, 암모늄 설페이트 또는 나트륨 아세테이트와 같은 염)과 같은 유기 산을 함유할 수있다. 산은 특히 사용되는 염료욕의 pH 값을 조절하는 데 사용하고, pH 값은 바람직하게는 4 내지 5이다.
바람직하게는 섬유재료는 염료, 화학식 1 또는 1A의 안정화제 화합물과 임의로 추가의 첨가제를 함유하고 pH 값이 4.5 내지 5.5로 조정된 욕에서 처음 5분 동안 40 내지 80℃로 하고, 온도를 10 내지 20분에 걸쳐 125 내지 130℃로 증가시키고 이 온도에서 15 내지 90분, 바람직하게는 30분 동안 추가로 처리한다.
염색물은 염료액은 50 내지 80℃로 냉각시키고 염색물을 물로 세정하고 임의로 환원 조건하에 알칼리성 매질 속에서 통상적인 방법으로 세척함으로써 가공한다. 이어서 염색물을 다시 세정하고 건조시킨다. 배트 염료를 셀룰로즈 성분에 대하여 사용하는 경우, 제품은 먼저 통상적인 방법으로 pH 값 6 내지 12.5에서 하이드로설파이트로 처리한 다음 산화제로 처리하고 최종적으로 세척한다.
날염물을 제조하기 위해서, 수성 분산액 형태의 화학식 1 또는 1A의 안정화제 화합물을 날염 페이스트와 혼합한다. 날염 페이스트는, 날염 페이스트의 중량을 기준으로 하여, 화학식 1 또는 1A의 상응하는 안정화제 화합물을 0.1 내지 10%, 바람직하게는 0.1 내지 5% 함유한다.
날염 페이스트에 첨가되는 염료량은 목적하는 색조에 따라 좌우된다. 일반적으로 사용되는 텍스타일 재료의 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 15중량%, 바람직하게는 0.02 내지 10중량%의 양이 충분하다.
염료 및 화학식 1 또는 1A의 안정화제 화합물의 분산액 이외에, 날염 페이스트는 또한, 단독으로 또는 개질된 셀룰로즈와 혼합된, 특히 바람직하게는 카복시메틸셀룰로즈 20 내지 25중량%와 혼합된, 특히 통상적으로 산 안정성 증점제, 바람직하게는 캐러브 빈(carob bean) 분말 유도체, 특히 나트륨 알기네이트와 같은 천연 증점제를 함유한다. 또한 날염 페이스트는 부티로락톤 또는 나트륨 하이드로겐 포스페이트, 안정화제, 금속이온 봉쇄제, 유화제, 수 불용성 용매, 산화제 또는 탈포제와 같은 산 공여체를 함유한다.
바람직한 안정화제는 포름알데하이드 유리제(예: 파라포름알데하이드 또는 트리옥산), 특히 포름알데하이드를 30 내지 40중량% 함유하는 수용액이고, 금속이온 봉쇄제는, 예를 들면, 나트륨 니트릴로트리아세테이트, 나트륨 에틸렌디아미노테트라아세테이트, 특히 나트륨 폴리메타포스페이트, 특별히 나트륨 헥사메타포스페이트이며, 유화제는 바람직하게는 알킬렌 옥사이드와 지방산 알콜과의 부가물, 특히 올레일 알콜과 에틸렌 옥사이드와의 부가물이고, 수 불용성 용매는 바람직하게는 고비점의 포화 탄화수소, 특히 비점이 160 내지 210℃인 파라핀(이른바 화이트 스프리트)이며, 산화제는, 예를 들면, 방향족 니트로 화합물, 바람직하게는, 임의로 알킬렌 옥사이드 부가물, 특히 니트로벤젠 설폰산으로서 사용되는 방향족 모노- 또는 디-니트로카복실산 또는 -설폰산이고, 탈포제는, 예를 들면, 고비점 용매, 바람직하게는 투르펜틴 오일, 고급 알콜, 바람직하게는 C8-C10-알콜, 테르펜 알콜 또는 미네랄- 및/또는 실리콘 오일계 탈포제, 특히 미네랄- 및 실리콘 오일 혼합물 약 15 내지 25중량%와 C8-C10-알콜(예: 2-에틸-n-헥산올) 약 75 내지 85중량%와의 시판되는 배합물이다.
섬유재료의 날염을 위하여, 날염 페이스트를 통상적으로 통상적인 구성의 날염 기계[예: 통상적으로 잉크젯 날염-, 비그룩스(Vigoureux) 날염-, 그라뱌 날염-, 회전식 스크린 날염 및 표면 스크린 날염 기계]를 사용하여 표면 전체 또는 일부에 직접 도포할 수 있다.
날염 후, 섬유재료를 150℃ 이하, 바람직하게는 80 내지 120℃에서 건조시킬 수 있다.
일반적으로 섬유재료의 후속적인 고정은 바람직하게는 100 내지 220℃의 온도에서 열처리에 의해 수행할 수 있다. 일반적으로 열처리는 가압하에 초 가열 증기를 사용하여 수행한다. 온도에 따라, 고정하는 데 20초 내지 10분, 바람직하게는 4 내지 8분이 필요할 수 있다.
날염물은 물로 세정한 다음 임의로 환원 조건하에 알칼리성 매질(예: 아이티온산나트륨) 속에서 추가로 세척함으로써 완성한다. 후자의 경우에, 날염 염색물을 다시 세정하고 탈수시켜 건조시킨다.
화학식 1 또는 1A의 안정화제 화합물로 처리된 텍스타일 섬유는 광, 산소 및 열의 손상 효과에 대하여 우수한 저항성이 있다. 특히, 본 발명에 따르는 안정화 방법은 높은 내광성과 높은 내승화성을 나타내는 폴리에스테르 염색물과 날염물을 제공할 수 있다. 본 발명에 따르는 안정화 방법은 섬유재료를 특별한 예비처리하거나 후처리하는 것을 필요로 하지 않는다.
더욱이, 본 발명에 따르는 UV 안정화제는 화장품 제조에서 광 보호제로서 적합하다.
따라서, 본 발명은 추가로 하나 이상의 화학식 1 또는 1A의 화합물 및 화장용으로 허용되는 담체 또는 보조제를 포함하는 화장품 제조에 관한 것이다.
신규한 화장품 조성물은 화학식 1 또는 1A의 UV 흡수제 및 화장용으로 허용되는 보조제를, 조성물 전체 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 15중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10중량% 함유한다.
화장품 조성물은 신규한 UV 흡수제를 통상적인 방법에 의해, 예를 들면, 2개의 물질을 단순히 함께 교반함으로써 보조제와 물리적으로 혼합함으로써 제조할 수 있다. 그러나, 바람직하게는 거의 약간 수용성이거나 수 불용성인 화학식 1 또는 1A의 UV 흡수제를, 예를 들면, 적합한 분쇄 보조제를 사용하여 수중에서 습윤 분쇄하고 계면활성제 또는 중합체 또는 이의 혼합물과 같은 통상저인 보조제를 첨가하여 평균 입자 크기가 100 내지 400nm 이하로 되게 분쇄한다. 이렇게 수득된 미소 안료를 통상적인 태양 보호 조성물에 혼입시킨다. 하나 이상의 화학식 1 또는 1A의 오일 가용성 또는 수용성 UV 흡수제의 존재하에서의 하나 이상의 안료를 함유하는 수중유 또는 유중수 유제의 제조는 공지된 태양 보호 유제의 제조방법을 사용하여 수행한다.
본 발명에 따르는 화장품 제제는 유중수 또는 수중유 유제, 유중유 알콜 로션, 이온성 또는 비이온성 친양쪽성 지질의 소포 분산액, 겔, 고체 스틱 또는 에어로졸 제형으로서 배합할 수 있다.
유중수 또는 수중유 유제에 있어서, 화장품용으로 허용되는 보조제는 바람직하게는 오일상 5 내지 50%, 유화제 5 내지 20% 및 물 30 내지 90%를 함유한다. 언급한 오일상은 화장품 조성물용으로 적합한 임의의 오일, 예를 들면, 하나 이상의 탄화수소 오일, 천연 오일, 실리콘 오일, 지방산 에스테르 또는 지방산 알콜을 포함할 수 있다. 바람직한 모노- 또는 폴리올은 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 글리세롤 및 소르비톨이다.
본 발명에 따르는 화장품 조성물을 위하여, 통상적으로 사용되는 임의의 유화제, 예를 들면, 천연 유도체의 하나 이상 에톡실화된 에스테르(예: 수소화 피마자유의 폴리에톡실화 에스테르), 또는 실리콘 폴리올과 같은 실리콘 오일 유화제, 개질되지 않거나 에톡실화된 지방산 비누, 에톡실화된 지방산 알콜, 개질되지 않거나 에톡실화된 소르비탄 에스테르, 에톡실화된 지방산, 또는 에톡실화된 글리세라이드를 사용할 수 있다.
또한 화장품 조성물은 추가의 성분, 예를 들면, 에몰리언트, 유제 안정화제, 피부 습윤제, 태닝 촉진제, 크산탄과 같은 증점제, 글리세롤과 같은 보습제, 보존제 또는 향료 및 착색제를 포함할 수 있다.
신규한 화장품 조성물이 피부를 확실하게 타게할 정도의 시간 동안 태양광의 손상 효과에 대하여 사람의 피부 및/또는 머리카락을 우수하게 보호하는 것은 주목할 만하다.
다음 실시예는 추가로 본 발명을 설명한다.
실시예 1
4-메톡시벤조일 클로라이드 30g을 살리실아미드 12g과 함께 170℃에서 30분 동안 교반한다. 균질한 오일이 제조되고 냉각시 결정화된다. 생성된 결정성 물질을 메탄올 500㎖ 중의 p-아미노벤즈아미딘·2HCl 18.7g의 현탁액과 30% 나트륨 메틸레이트 수용액 40g으로 처리한다. 수득된 혼합물을 1시간 동안 환류하에 비등시킨다. 생성된 혼합물을 냉각시키고 여과한 후, 융점이 281 내지 283℃인 미황색 생성물 25.8g(이론치의 79.5%)을 수득한다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 335/44195이다.
실험식 C22H18N4O2인 화학식 101의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 71.37; H 4.9; N 15.13; O 8.64
실측치% C 71.27; H 4.99; N 15.7; O 8.97
실시예 2
4-메톡시벤조일 클로라이드를 당량의 벤조일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 102의 화합물을 이론치의 81%의 수율로 수득하고 융점은 293 내지 294℃이다.25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 275/33035 및 348/34825이다.
실험식 C21H16N4O인 화학식 102의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 74.1; H 4.74; N 16.46; O 4.7
실측치% C 74.0; H 4.8; N 16.4; O 4.8
실시예 3
4-메톡시벤조일 클로라이드를 당량의 비페닐-4-카복실산 클로라이드로 대체하고 살리실아미드를 당량의 4-메톡시 살리실아미드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 103의 화합물을 이론치의 66%의 수율로 수득하고 융점은 244 내지 247℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 334/58810이다.
실험식 C28H22N4O2인 화학식 103의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 75.32; H 4.97; N 12.55; O 7.17
실측치% C 74.97; H 5.05; N 12.39; O 7.62
실시예 4
4-메톡시벤조일 클로라이드를 당량의 살리실산 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 104의 화합물을 이론치의 91%의 수율로 수득하고 융점은 327 내지 328℃이다.
실험식 C21H16N4O2인 화학식 104의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 70.78; H 4.53; N 15.72; O 8.98
실측치% C 70.67; H 4.58; N 15.72; O 9.0
실시예 5
살리실아미드를 당량의 4-메톡시살리실아미드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 105의 화합물을 이론치의 69%의 수율로 수득하고 융점은 223 내지 227℃이다.
실험식 C23H20N4O3인 화학식 105의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 68.99; H 5.03; N 13.99; O 11.99
실측치% C 69.06; H 5.08; N 14.02; O 11.84
실시예 6
4-메톡시벤조일 클로라이드를 당량의 4-옥틸벤조일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 106의 화합물을 이론치의 69.5%의 수율로 수득하고 융점은 184 내지 185℃이다.
실험식 C29H32N4O인 화학식 106의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 76.96; H 7.13; N 12.38; O 3.54
실측치% C 76.97; H 7.11; N 12.39; O 3.53
실시예 7
사염화탄소 15㎖ 중의 화학식 101의 화합물 1g을 피리딘 0.4g 및 2-에틸헥사노일 클로라이드 0.81g과 30분 동안 환류하에 비등시킨다. 반응 혼합물을 여과한 후, 화학식 107의 화합물을 이론치의 73%의 수율로 수득하고 융점은 221 내지 223℃이다.
실험식 C30H32N4O3인 화학식 107의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 72.27; H 6.51; N 11.24; O 9.98. 0.4% H2O
실측치% C 72.49; H 6.31; N 11.63; O 9.57. 0.4% H2O
실시예 8
화학식 101의 화합물을 당량의 화학식 107의 화합물로 대체하고 2-에틸헤사노일 클로라이드를 당량의 스테아로일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 7에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 108의 화합물을 이론치의 98%의 수율로 수득하고 융점은 222 내지 224℃이다.
실험식 C39H50N4O3인 화학식 107의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 75.21; H 8.09; N 9.00; O 7.71
실측치% C 75.14; H 8.07; N 9.02; O 7.86
실시예 9
2-에틸헥사노일 클로라이드를 당량의 4-메톡시벤조일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 7에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 109의 화합물을 이론치의 25%의 수율로 수득하고 융점은 285 내지 286℃이다.
실험식 C30H24N4O4인 화학식 109의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 71.42; H 4.79; N 11.10; O 12.68
실측치% C 71.25; H 4.80; N 11.20; O 12.75
실시예 10
2-에틸헥사노일 클로라이드를 당량의 도데카노일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 7에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 110의 화합물을 이론치의 92%의 수율로 수득하고 융점은 182 내지 183℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 320/55035이다.
실험식 C34H40N4O3인 화학식 110의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 73.88; H 7.29; N 10.14; O 8.68
실측치% C 73.75; H 7.23; N 10.09; O 8.92
실시예 11
화학식 101의 화합물을 당량의 화학식 102의 화합물로 대체하고 2-에틸헥사노일 클로라이드를 당량의 올레산 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 7에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 111의 화합물을 이론치의 30%의 수율로 수득하고 융점은 172 내지 173℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 279/38515 및 320/35055이다.
실험식 C39H48N4O2인 화학식 111의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 77.45; H 8.00; N 9.26; O 5.29
실측치% C 77.14; H 7.75; N 9.42; O 5.69
실시예 12
올레산 클로라이드를 당량의 도데카노일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 11에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 112의 화합물을 이론치의 63%의 수율로 수득하고 융점은 222 내지 223℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 279/37865 및 320/34635이다.
실험식 C33H38N4O2인 화학식 112의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 75.83; H 7.33; N 10.72; O 6.12
실측치% C 75.7; H 7.3; N 10.7; O 6.3
실시예 13
올레산 클로라이드를 당량의 아세틸 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 11에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 113의 화합물을 이론치의 93%의 수율로 수득하고 융점은 317 내지 318℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 279/37442 및 318/33136이다.
실험식 C23H18N4O2인 화학식 113의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 72.24; H 4.74; N 14.65; O 8.37
실측치% C 72.0; H 4.9; N 14.7; O 8.4
실시예 14
2-에틸헥사노일 클로라이드를 당량의 아세틸 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 1에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 114의 화합물을 이론치의 99%의 수율로 수득하고 융점은 300℃ 이상이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 321/54075이다.
실험식 C24H20N4O3인 화학식 114의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 69.89; H 4.89; N 13.58; O 11.64
실측치% C 69.54; H 4.86; N 13.52; O 12.08
실시예 15
2-에틸헥사노일 클로라이드를 당량의 스테아릴 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 7에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 115의 화합물을 이론치의 97%의 수율로 수득하고 융점은 172 내지 173℃이다.
실험식 C40H52N4O3인 화학식 115의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 75.44; H 8.23; N 8.80; O 7.54
실측치% C 75.29; H 8.04; N 8.90; O 7.77
실시예 16
2-에틸헥사노일 클로라이드를 당량의 3,6,9-트리옥사데카노일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 7에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 116의 화합물을 이론치의 65%의 수율로 수득하고 융점은 125 내지 126℃이다.
실험식 C29H30N4O6인 화학식 116의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 65.65; H 5.70; N 10.56; O 18.09
실측치% C 65.40; H 5.76; N 10.39; O 18.45
실시예 17
A) 크실렌(이성체 혼합물) 25㎖ 중의 살리실아미드 4.4g을 100℃에서 HCl의 발생이 크게 진정될 때까지 6시간 동안 2-니트로벤조일 클로라이드 12.2g과 교반한다. 냉각 후, 침전물이 형성된다. 침전물을 흡인여과하고 크실렌으로 세척하여 건조시켜 무색 결정 10.3g을 수득한다. 이어서 무색 결정을 70℃에서 메탄올 속에서 벤즈아미딘과 반응시켜 화학식 117A의 화합물을 융점 181 내지 183℃이고 수율 80%인 미황색 결정으로서 수득한다.
실험식 C21H14N4O3인 화학식 117A의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 67.1; H 3.81; N 15.12
실측치% C 67.41; H 3.81; N 15.10
B) A)에서 기술한 바와 같이 수득한 화학식 117A의 화합물 6.4g을 라니 니켈 촉매를 사용하여 디메틸아세트아미드 속에서 수소화시킨다. 수소화 반응은 25℃에서 정상 압력하에 10시간에 걸쳐 수행한다. 촉매를 여과한 후, 유기 용액이 잔류한다. 화학식 117의 화합물은 물을 가함으로써 용액으로부터 침전시킨다. 화학식 117의 화합물은 융점이 218 내지 220℃인 황색 결정으로서 5.87g(이론치의 99%)의 양으로 수득한다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 278/45004 및 351/10164이다.
실험식 C21H16N4O인 화학식 117의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 74.1; H 4.74; N 16.46
실측치% C 74.11; H 4.76; N 16.45
실시예 18
디메틸아세트아미드 중의 실시예 17에서 기술한 바와 같이 수득한 화학식 117의 화합물 2.28g의 용액을 25℃에서 아세틸 클로라이드 0.6g과 반응시킨 다음 100℃에서 1시간 동안 교반하면 두껍게 뭉쳐진 생성물이 침전된다. 흡인여과하고 디메틸아세트아미드, 메탄올 및 페트롤로 세척한 후, 화학식 118의 화합물 2.25g(88%)을 수득하고 융점은 201 내지 203℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 283/48316 및 354/15277이다.
실험식 C23H18N4O2인 화학식 118의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 72.24; H 4.74; N 14.65
실측치% C 72.60; H 4.75; N 14.70
실시예 19
실시예 18에서 기술한 과정과 동일하게, 디메틸아세트아미드 중의 실시예 17에서 기술한 바와 같이 수득한 화학식 117의 화합물 2.28g의 용액을 에틸 클로로포르메이트 1.59g과 반응시킨다. 흡인여과하고 건조시켜 화학식 119의 화합물 1.95g(69.9%)을 수득하고 융점은 193 내지 195℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 283/50208 및 355/15368이다.
실험식 C24H20N4O3인 화학식 119의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 69.89; H 4.88; N 13.58
실측치% C 70.12; H 4.91; N 13.73
실시예 20
실시예 13에서 기술한 과정과 동일하게, 실시예 2에서 기술한 바와 같이 수득한 화학식 102의 화합물 12.9g을 에틸 클로로포르메이트와 반응시킨다. 흡인여과한 후, 사염화탄소 및 알콜로 세척한 다음 건조시켜 화학식 120의 화합물 14.49g(93%)을 수득하고 융점은 247 내지 249℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 279/37530 및 319/33765이다.
실험식 C24H20N4O3인 화학식 120의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 69.89; H 4.88; N 13.58
실측치% C 69.55; H 4.88; N 13.55
실시예 21
실시예 20에서 기술한 바와 같이 수득한 화학식 120의 화합물 8.25g을 3-(2-메톡시에톡시)프로필아민 10g 속에서 150℃에서 2시간 동안 가열한다. 반응 혼합물은 처음에는 투명하고 20분 후 혼탁해지고 1시간 후 고체로 된다. 냉각 후, 과량의 아민은 매회 아세톤 150㎖씩 사용하여 아세톤으로 반응 혼합물을 2회 비등시킴으로써 제거한다. 거의 무색 결정인 화학식 121의 화합물 7.75g(78%)을 수득하고 융점은 232 내지 234℃이다. 25℃에서 CHCl3속에서 측정한 UV 스펙트라 판독값 [λmax(nm)/ε(L/mol·cm)]는 276/34409 및 342/38834이다.
실험식 C28H29N5O4인 화학식 121의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 67.32; H 5.85; N 14.02
실측치% C 67.42; H 5.87; N 14.04
실시예 22
실시예 2에서 기술한 바와 같이 수득한 화학식 102의 화합물 8g을 디메틸아세트아미드 80㎖에 현탁시키고 2-에틸헥실 클로로포르메이트 5.5g으로 처리하고 혼합물을 35℃에서 1시간 동안 교반한다. 투명한 용액이 생성된다. 화학식 122의 화합물을 에틸 알콜 200㎖로 침전시킴으로써 분리한다. 흡인여과하고 에틸 알콜과 페트롤 에테르로 세척한 후, 미황색 결정의 화학식 122의 화합물 10.6g(90.8%)을 수득하고 융점은 172 내지 174℃이다.
실험식 C30H32N4O4인 화학식 122의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 72.56; H 6.49; N 11.28
실측치% C 72.55; H 6.44; N 11.61
실시예 23
2-에틸헥사노일 클로라이드를 당량의 헥사데카노일 클로라이드로 대체하는 것을 제외하고 실시예 7에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 123의 화합물을 이론치의 94.5%의 수율로 수득하고 융점은 165 내지 167℃이다.
실험식 C38H48N4O3인 화학식 123의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 75.00; H 7.95; N 9.2; O 7.88
실측치% C 75.00; H 7.92; N 9.1; O 7.89
실시예 24
출발 물질이 화학식 101의 화합물 대신에 화학식 102의 화합물인 것을 제외하고 실시예 16에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 124의 화합물을 수득하고 융점은 90 내지 91℃이다.
실험식 C28H28N4O5인 화학식 124의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 67.19; H 5.56; N 11.19
실측치% C 66.80; H 5.64; N 11.14
실시예 25
출발 물질이 화학식 101의 화합물 대신에 화학식 102의 화합물이고 이를 메톡시아세틸 클로라이드와 반응시키는 것을 제외하고 실시예 16에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 125의 화합물을 이론치의 89%의 수율로 수득하고 융점은 213 내지 215℃이다.
실험식 C24H20N4O3인 화학식 125의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 69.89; H 4.89; N 13.58
실측치% C 69.96; H 4.83; N 13.30
실시예 26
출발 물질이 화학식 102의 화합물 대신에 화학식 101의 화합물이고 이를 메톡시아세틸 클로라이드와 반응시키는 것을 제외하고 실시예 24에서 기술한 과정을 반복한다. 후처리 후, 화학식 126의 화합물을 이론치의 89%의 수율로 수득하고 융점은 195 내지 196℃이다.
실험식 C25H22N4O4인 화학식 126의 화합물의 원소분석치:
계산치% C 67.86; H 5.01; N 12.66
실측치% C 67.33; H 4.96; N 12.58
실시예 27 내지 32
UV광에 대한 안정성 측정
각 시험 화합물 100mg을 클로로포름 100㎖에 용해시켜 1000ppm의 스톡 용액을 수득한다. 10ppm의 시험 용액은 스톡 용액을 클로로포름으로 1/10의 비율로 2회 희석함으로써 제조한다. 조사시키기 전에 아르곤으로 30분 동안 세정함으로써 분자 산소를 시험 용액으로부터 제거한다.
이렇게 제조된 시험 용액 200㎖를 여과기 시스템이 장착된 UV 조사 장치(DEMA 13/2 Fa. Hans Mangels)에 놓고 UV 램프(HPK 125, Phillips)로 조사시킨다.
시험 샘플(3㎖씩)을 정교한 PET 튜브를 통해 5㎖ 원-웨이(one-way) 시린지에 회수하고 직접적으로 UV 분광분석한다. 기록 범위가 220 내지 420nm인 시마츠(Shimadzu) UV-2100 분광계를 사용한다.
광 안정성 측정은 원래 화합물의 UV 흡수 스펙트럼과 UV 조사선에 24시간 노출 후 측정된 스펙트럼과의 차로부터 확인한다. 측정은 최대 흡수 파장에서 수행하고, 파장 범위가 300 내지 400nm인 경우, UV 안정화의 적절한 범위에 드는 것이다. 이 범위에서 최대가 아닌 경우, 300nm에서 흡수차를 측정한다.
결과는 다음 표 1에 기술한다.
실시예 화합물 λ ε(전) ε(후) Λ 손실%
27 101 337 1.20 0.55 0.65 54
28 102 345 1.14 0.33 0.81 71
29 103 334 1.35 0.88 0.47 35
30 110 322 1.02 0.88 0.14 14
31 112 320 0.67 0.58 0.09 13
32 113 318 0.88 0.65 0.23 26
광 안정성이 불량한 화합물은 이러한 시험 조건하에 불과 몇 분 동안 노출시킨 후 완전히 흡수 부식된다. 따라서, 표 1에서의 결과는 UV 방사선에 24시간 동안 노출시키는 경우 본 발명의 화합물의 탁월한 안정성을 입증한다.
실시예 33
염색시킨 폴리에스테르의 고온 내광성 측정
A) 화학식 113의 화합물 5g을 물 15㎖에 용해시킨 분산제(나프탈렌 설폰산과 포름알데하이드와의 축합 생성물) 2.5g으로 분쇄한다. 1600rpm으로 회전하는 교반기를 사용하여 석영구(직경 1mm) 25g의 존재하에 분쇄시킨다. 입자 크기가 2micron 미만으로 될 때까지 계속 분쇄시킨다. 분산체를 미세 메쉬 망을 사용하여 석영구로부터 분리하고 분산액에 물을 가함으로써 활성 물질 5.5%를 함유하게 조정한다.
B) 폴리에스테르 트리콧 샘플 10g을 1:10의 액체 비율을 사용하여 고온 염색 장치로 염색한다. 사용되는 수성 염료액은 황산암모늄 2g/ℓ, 염색 보조제(UnivadinR3-flex) 0.5g/ℓ, 폴리에스테르 트리콧의 중량을 기준으로 하여, 위의 단계 A)의 조성물 0.5중량% 및 폴리에스테르 트리콧의 중량을 기준으로 하여, C.I. Disperse Yellow 42 33.7중량%, C.I. Disperse Red 86 15.7중량%, C.I. Disperse Blue 60 19.3중량% 및 C.I. Disperse Violet 57 31.3중량%를 함유하는 염료 혼합물 0.83중량%를 함유한다.
염료액은 아세트산으로 pH 5로 조정하고, 균질화시키고 트리콧과 함께 가압 봄에 놓는다. 염색은 70℃에서 출발하여 30분에 걸쳐 130℃로 승온시킨다. 당해 온도에서 60분 동안 염색시킨 후, 75℃로 냉각시키고 염색된 제품을 열간 및 냉간 세정하고 이들을 70℃에서 30% 수성 수산화나트륨 3㎖/ℓ와 아이티오산나트륨 2g/ℓ를 함유하는 액체로 환원적으로 세척한다. 세정하고 건조시킨 후, 매우 우수한 고온 내광성을 갖는 회색으로 염색된 폴리에스테르 트리콧을 수득한다.
위의 단계 A)에 따르는 조성물을 함유하지 않는 염료액을 사용하여 염색하는 경우, 고온 내광성이 상당히 감소된 염색물이 수득된다.
실시예 34 내지 38
2개 층 금속 래커의 안정화
여러 시험 광 안정화제를 방향족 탄화수소 혼합물(비점 범위: 182 내지 203℃) 20 내지 30g에 용해시키고 다음 조성을 갖는 투명한 래커로 시험한다:
아크릴레이트 수지[크실렌/부탄올(26:9) 중의 65% 용액] 27.51
아크릴레이트 수지[방향족 탄화수소 혼합물(비점 161 내지 178℃)
중의 75% 용액] 23.34
멜라민 수지(이소부탄올 중의 55% 용액) 27.29
부틸 아세테이트/부탄올(37:8) 4.33
이소부탄올 4.87
방향족 탄화수소 혼합물(비점 182 내지 203℃) 2.72
지방족 탄화수소 혼합물(비점 145 내지 200℃) 8.74
유동 보조제[방향족 탄화수소 혼합물 중의 1%
(비점 182 내지 203℃)] 1.20
100.00g
시험 안정화제 1.5중량%씩을 가하여 투명한 액체 샘플을 분리시킨다.
본 발명의 시험 안정화제 이외에 화학식
의 공지된 광 안정화제 1중량%를 함유하는 추가의 시험 액체 세트를 제조한다.
비교 시험은 어떠한 광 안정화제 화합물도 함유하지 않는 투명한 액체를 사용하여 수행한다.
여러 투명한 액체 샘플을 방향족 탄화수소 혼합물(비점 161 내지 178℃)로 희석하여 분무하는 데 적합한 일정성을 수득한다. 이어서 희석시킨 샘플을 제조된 알루미늄 시트(Uniprime Epoxy, 은 금속 기재 액체)에 분무시키고 130℃에서 30분 동안 스토빙시킨다. 각 투명 용액으로부터 무수 필름 두께 40 내지 50㎛를 수득한다.
각 시험 샘플을 70℃에서 8시간 조사시키고 50℃에서 4시간 축합시키는 것으로 이루어진 사이클로 UVCONR내후도 장치(UVB-313 램프)를 사용하여 내후도 시험한다. 풍화시킨 각 샘플의 표면 광택을 처음에 측정하고(20°광택, DIN 67530), 400, 800, 1200 및 1600시간 후에 각각 측정한다.
본 발명의 시험 광 안정화제를 단독으로 사용하여 수득된 결과는 다음 표 2에 기술한다:
실시예 시험 화합물 20°광택/노출 시간
0 400 800 1200 1600
- 없음 92 90 34 15 -
34 화학식 123의 화합물 90 84 86 85 74
35 화학식 116의 화합물 92 95 94 94 94
36 화학식 115의 화합물 89 83 82 81 81
37 화학식 110의 화합물 85 67 70 74 66
38 화학식 104의 화합물 92 94 93 92 92
공지된 광 안정화제와 함께 본 발명의 시험 광 안정화제를 사용하여 수득된 결과는 다음 표 3에 기술한다:
실시예 시험 화합물 20°광택/노출 시간
0 400 800 1200 1600
- 없음 92 86 49 14 -
34 화학식 123의 화합물 91 88 87 87 87
35 화학식 116의 화합물 93 94 95 96 96
36 화학식 115의 화합물 90 87 85 82 85
37 화학식 110의 화합물 85 80 74 72 72
38 화학식 104의 화합물 93 94 92 94 94
이러한 결과는 안정화되지 않은 조성물에 비하여 본 발명의 안정화된 조성물의 내후성이 향상됨(보다 우수한 광택 유지에 의해 나타나는 바와 같이)을 명백하게 입증한다.
실시예 39
태양 보호 크림의 제조
화학식 113의 화합물을 석영 샌드와 보조제로서 인지질[포스포리폰(Phospholipone) 80] 8%를 함유하는 수중에서 분쇄하여 평균 입자 크기가 250nm가 되게 한다. 이어서 이렇게 수득된 미소 안료 현탁액을 다음 조성물에 혼입시킨다.
상 A
디메티콘이소프로필 미리스테이트스테아릴 알콜스테아르산옥틸 메톡시신나메이트 2%9%10%4%3.5%
상 B
트리에탄올아민카보머(Carbomer) 934(1%)50% 현탁액으로서의 화학식 113의 화합물물 1.2%5.0%9.6%(4.85% 활성)55.7%
상 A를 개별적으로 매우 조심스럽게 균질화시킨 다음 상 B와 개별적으로 75 내지 80℃로 가열한다. 이어서 상 B를 격렬하게 교반하면서 상 A에 가한다. 교반하는 동안 혼합물을 냉각시킨다.
SPF 분석기(SPF 290 ex Optometrix)를 사용하여 수득된 태양 보호 크림의 태양 보호 지수는 22인 것으로 나타난다. 360nm의 UVA 성분에 대한 수득된 태양 보호 크림의 투과도는 0이다.
실시예 40
태양 보호 유제의 제조
화학식 102의 화합물을 "지르코늄 샌드"와 플란타렌(Plantaren) 2000을 함유하는 수중에서 분쇄하여 평균 입자 크기가 180nm가 되게 한다. 이렇게 수득된 미소 안료 현탁액을 다음 조성물에 혼입시킨다.
상 A
세테아레트(Cetearth)-6 및 스테아릴 알콜세테아레트-25세테아릴 알콜카프릴릭/카르릭 트리글리세라이드세테아릴 옥타노에이트바셀린 2%2%5%5%10%5%
상 B
프로필렌 글리콜카보폴(Carbopol) 934(1%)50% 현탁액으로서의 화학식 113의 화합물물 3%0.2%10%(5% 활성)57.53%
상 C
트리에탄올아민 0.27%
상 A와 상 B를 개별적으로 75 내지 80℃로 가열한다. 이어서 격렬하게 교반하면서 상 B를 상 A에 가한 다음 상 C를 가하고 전체를 강렬하게 재균질화시킨다.
SPF 분석기(SPF 290 ex Optometrix)를 사용하여 수득된 태양 보호 크림의 광 보호 팩터는 11인 것으로 나타난다. 360nm의 UVA 성분에 대한 수득된 태양 보호 크림의 투과도는 0이다.
실시예 41 및 42
폴리카보네이트 분말(Lexan 115) 10g을 25℃에서 교반하면서 메틸렌 클로라이드 50g에 용해시킨다. 이어서 시험 UV 흡수제 0.2g을 가한다(폴리카보네이트 상의 2%). 생성된 용액으로부터 두께가 20micron인 필름을 캐스팅한다.
개개의 필름을 온도 63℃ 및 상대 습도 60%의 흑색 테이블에서 아틀라스 내후도 시험기(Atlas Weatherometer) CI 65에 노출시킨다. 규칙적인 간격으로 샘플의 변색은 황색도 지수(YI, DIN 6167법)를 측정함으로써 관찰한다.
다음 표 4에서, 시험 필름이 황색도 지수 5 또는 7에 도달하는 데 요구되는 개개의 노출 시간(시간 단위)을 나타내었다.
실시예 UV 흡수제 YI=5에 도달하는노출 시간(hours) YI=7에 도달하는노출 시간(hours)
- 없음 900 1000
41 화학식 125의 화합물 2150 3350
42 화학식 126의 화합물 1780 3100
폴리카보네이트는 특히 광에 민감하고 신속하게 황변하는 경향이 있다. 따라서, 표 4에서의 결과는 실시예 41 및 42에서 사용되는 시험 화합물이 폴리카보네이트용 UV 흡수제로서 매우 유용함을 입증한다.
실시예 43 및 44
폴리옥시메틸렌 공중합체(안정화되지 않음) 100부에 칼슘 스테아레이트 0.1부, 멜라민 0.1부 및 항산화제(Irganox 245) 0.3부를 가한다. 이어서 당해 혼합물에 장애 아민 안정화제(Tinuvin 622) 0.3부와 시험 UV 흡수제 0.3부를 가한다. 분말 혼합물을 "헨켈(Henkel)" 혼합기를 사용하여 25℃에서 잘 혼합한다. 이어서 분말 혼합물을 45/180/190℃의 온도 프로필을 사용하여 150rpm으로 작동하는 이축 압출기로 과립으로 압출시킨다. 이어서 과립을 사출성형 장치에서 판상물(2mm)로 전환시킨다.
개개의 판상물을 102분 건조와 18분 습윤의 사이클을 사용하는 온도 55℃의 흑색 테이블에서 아틀라스 내후도 시험기 CI 65에 노출시킨다. 규칙적인 간격으로 개개 판상물의 광택을 광 측정에 대하여 60°로 조절한 광택 측정 장치(Micro Gloss, Byk Gardner)를 사용하여 결정한다. 수득된 결과는 아래 표 5에 나타내었다.
실시예 UV 흡수제 0, 250, 500, 750, 1000 또는 1250시간 후의 광택
0 250 500 750 1000 1250
- 없음 78 76 73 73* 72* 72*
43 화학식 116의 화합물 79 77 77 78 78 78
44 화학식 124의 화합물 76 75 75 75 75 76
*750, 1000 및 1250시간 후 대조 샘플은 균열이 발생한다.
결과는 실시예 43 및 44의 시험 화합물이 폴리옥시메틸렌 공중합체에 사용하기 위한 유용한 UV 흡수제임을 입증한다.

Claims (27)

  1. 화학식 1 또는 1A의 화합물.
    화학식 1
    화학식 1A
    위의 화학식 1과 1A에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R1과 R2는 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C7-C13아르알킬, -C(=O)-R4(여기서, R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, 헤테로 치환된 C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, C6-C12아릴, C6-C12아릴옥시 또는 C7-C13아르알킬이다) 또는 -C(=O)-NH-R1(여기서, R1은 앞에서 정의한 바와 같다)이며,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 앞에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
  2. 제1항에 있어서, R이 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬 또는 C1-C20-알콕시이고, R1과 R2가 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C7-C13아르알킬, -C(=O)-R4(여기서, R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, C2-C20알케닐, C6-C12아릴 또는 C6-C12아릴옥시이다) 또는 -C(=O)-NH-R1(여기서, R1은 앞에서 정의한 바와 같다)이며, R3이 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, 페닐, -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 앞에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, 화학식 2의 화합물.
    화학식 2
    위의 화학식 2에서,
    R은 수소 또는 C1-C4알콕시이고,
    R1과 R2는 각각 수소이거나, R1이 수소이고 R2가 -C(=O)-R4[여기서, R4는 C1-C20알킬, C2-C20알케닐, C1-C20알콕시, C1-C4알콕시로 임의로 치환된 페닐 또는 CH2-(OCH2CH2)n-OCH3(여기서, n은 1 내지 5의 정수이다)이다]이며,
    R3은 수소, C1-C20알킬, 하이드록시, C1-C4알콕시 또는 페닐이다.
  4. 제3항에 있어서, R이 수소 또는 메톡시이고, R1과 R2가 각각 수소이거나, R1이 수소이고 R2가 -CO-CH2-(OCH2CH2)n-OCH3(여기서, n은 1 내지 5의 정수이다)이며, R3이 수소, C1-C20알킬, 하이드록시, 메톡시 또는 페닐인 화합물.
  5. 제1항에 있어서, 화학식 3의 화합물.
    화학식 3
    위의 화학식 3에서,
    R1과 R2는 각각 수소이거나, R1이 수소이고 R2가 -C(=O)-R4[여기서, R4는 C1-C20알킬, C2-C20알케닐, C1-C20알콕시, C1-C4알콕시로 임의로 치환된 페닐 또는 CH2-(OCH2CH2)n-OCH3(여기서, n은 1 내지 5의 정수이다)이다]이고,
    R3은 수소, 하이드록시, C1-C20알킬, 메톡시 또는 페닐이다.
  6. 제5항에 있어서, R1과 R2가 각각 수소이거나, R1이 수소이고 R2가 -CO-CH3이며, R3이 수소, 메톡시 또는 페닐인 화합물.
  7. 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 민감한 유기 물질(A)과 안정화제로서 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 따르는 화합물(B)을 포함하는 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 성분 A 100중량부당 성분 B를 0.01 내지 15중량부 포함하는 조성물.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 성분 A와 성분 B 이외에, 하나 이상의 추가의 안정화제 또는 추가의 첨가제를 포함하는 조성물.
  10. 제7항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, 성분 A로서 합성 유기 중합체를 포함하는 조성물.
  11. 제7항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, 성분 A로서 열가소성 중합체, 피복물용 결합제 또는 사진 재료를 포함하는 조성물.
  12. 제9항에 있어서, 성분 A로서 피복물용 결합제를 포함하고 추가의 성분 C로서 입체 장애 아민의 광 안정화제 및/또는 2-하이드록시페닐-2H-벤조트리아졸형 광 안정화제로부터 선택된 하나 이상의 안정화제를 포함하는 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 성분 C가 결합제 100중량부당 0.05 내지 5중량부의 양으로 존재하는 조성물.
  14. 제7항에 있어서, 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 민감한 유기 물질이 염색되지 않거나 염색되거나 날염된 섬유재료인 조성물.
  15. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따르는 화합물을 수성 또는 수성 유기 용액 속에서 섬유재료에 도포한 다음, 당해 화합물을 고정시킴을 포함하여, 텍스타일 섬유재료의 태양 보호 지수를 증가시키는 방법.
  16. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따르는 하나 이상의 화합물과 화장품용으로 허용되는 보조제를 포함하는 화장품 제제.
  17. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따르는 하나 이상의 화합물을 포함하는 안정화제를 유기 물질에 가함을 포함하여, 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 대하여 유기 물질을 안정화시키는 방법.
  18. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따르는 화합물의 사람 피부용 일광 차단제로서의 용도.
  19. 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 5의 벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 6의 화합물을 생성시킨 다음, 화학식 6의 화합물을 화학식 7의 벤즈아미딘과 반응시킴을 포함하는, 화학식 1A의 화합물의 제조방법.
    화학식 4
    화학식 5
    화학식 6
    화학식 7
    위의 화학식 4, 5, 6 및 7에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R1과 R2는 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C7-C13아르알킬, -C(=O)-R4(여기서, R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, 헤테로 치환된 C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, C6-C12아릴, C6-C12아릴옥시 또는 C7-C13아르알킬이다) 또는 -C(=O)-NH-R1(여기서, R1은 앞에서 정의한 바와 같다)이며,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 앞에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
  20. 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 8의 p-니트로-벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 9의 화합물을 생성시킨 다음, 화학식 9의 화합물을 화학식 10의 벤즈아미딘과 반응시켜 화학식 11의 화합물을 생성시키고, 최종적으로 화학식 11의 화합물을 수소화시킴을 포함하는, 화학식 1A의 화합물의 제조방법.
    화학식 8
    화학식 9
    화학식 10
    화학식 11
    위의 화학식 8, 9, 10 및 11에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19항에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
  21. 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 12의 p-아실아미노벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 13의 화합물을 생성시키고, 최종적으로 화학식 13의 화합물을 화학식 10의 화합물과 반응시켜 화학식 14의 화합물을 제조함을 포함하는, 화학식 1 또는 1A의 화합물의 제조방법.
    화학식 12
    화학식 13
    화학식 14
    위의 화학식 12, 13 및 14에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19항에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이고,
    R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, 헤테로 치환된 C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, C6-C12아릴, C6-C12아릴옥시 또는 C7-C13아르알킬이다.
  22. 화학식 6의 화합물.
    화학식 6
    위의 화학식 6에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19항에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
  23. 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 5의 벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 6의 화합물을 제조함을 포함하는, 제22항에 따르는 화학식 6의 화합물의 제조방법.
    화학식 4
    화학식 5
    위의 화학식 4와 5에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
  24. 화학식 9의 화합물.
    화학식 9
    위의 화학식 9에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19항에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
  25. 제19항에서 정의한 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 8의 p-니트로벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 9의 화합물을 제조함을 포함하는, 제24항에 따르는 화학식 9의 화합물의 제조방법.
    화학식 8
    위의 화학식 8에서,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19항에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이다.
  26. 화학식 13의 화합물.
    화학식 13
    위의 화학식 13에서,
    R은 수소, 하이드록시, 할로겐, C1-C20-알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시 또는 C7-C13아르알킬이고,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19항에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이며,
    R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, 헤테로 치환된 C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, C6-C12아릴, C6-C12아릴옥시 또는 C7-C13아르알킬이다.
  27. 제19항에서 정의한 화학식 4의 o-하이드록시벤즈아미드를 화학식 12의 p-아실아미노벤조일 클로라이드와 반응시켜 화학식 13의 화합물을 제조함을 포함하는, 화학식 13의 화합물의 제조방법.
    화학식 12
    위의 화학식 12에서,
    R3은 수소, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, 페닐, C7-C13아르알킬 또는 -N(R1)(R2)(여기서, R1과 R2는 제19항에서 정의한 바와 같거나, R1과 R2는 함께 C4-C12원 환을 형성한다)이고,
    R4는 C1-C20알킬, 1 내지 6개의 산소원자로 차단된 C2-C20알킬, 헤테로 치환된 C1-C20알킬, C4-C12사이클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C1-C20-알콕시, C4-C12사이클로알콕시, C2-C20알켄옥시, C2-C20알킨옥시, C6-C12아릴, C6-C12아릴옥시 또는 C7-C13아르알킬이다.
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