KR960004328A - 트리스- 아릴-s-트리아진 및 그를 포함하는 조성물 - Google Patents

트리스- 아릴-s-트리아진 및 그를 포함하는 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR960004328A
KR960004328A KR1019950021471A KR19950021471A KR960004328A KR 960004328 A KR960004328 A KR 960004328A KR 1019950021471 A KR1019950021471 A KR 1019950021471A KR 19950021471 A KR19950021471 A KR 19950021471A KR 960004328 A KR960004328 A KR 960004328A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carbon atoms
alkyl
phenyl
triazine
bis
Prior art date
Application number
KR1019950021471A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100346064B1 (ko
Inventor
아써 스티븐슨 타일러
라비챈드란 라마나탄
스테픈 홀트 마크
고크 판 투이
버바움 제안-루크
반 토안 비엔
Original Assignee
베르너 발데크
시바-가이기 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 베르너 발데크, 시바-가이기 아게 filed Critical 베르너 발데크
Publication of KR960004328A publication Critical patent/KR960004328A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100346064B1 publication Critical patent/KR100346064B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477Six-membered rings
    • C08K5/3492Triazines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)

Abstract

1 내지 3개의 레조르시놀 유도된 잔기를 함유하고 또 5-위치에서 알킬, 페닐알킬, 할로겐, 티오 또는 술포닐기에 의해 치환된 상기 잔기의 적어도 한개를 갖는 트리스-아릴-s-트라아진은 근 자외선 범위로 적색 이동한 자외선 스펙트럼을 나타내며 또 중합체 물질을 화학선의 악영향으로부터 보호하는 탁월한 안정화작용을 제공한다.

Description

트리스-아릴-s-트라아진 및 그를 포함하는 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (21)

  1. 하기 일반식(A) 또는 (B)의 화합물 :
    상기 일반식(A)의 화합물중에서, A 및 A´는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 일반식의 기이거나 1 내지 3개의 저급 알킬,할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고; R1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 할로겐, -SR3,-SOR3또는 -SO2R3이거나; 또는 1 내지 8개의 할로겐, -R2,-OR5, -N(R5)2, =NR5, =O, -CON(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN, -NO2, -SR5, -SOR5또는 -SO2R5, -P(O)(OR5)2, 모르폴린일, 피페리딘일, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘일, 피페라진일 또는 N-메틸피페라진일 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 페닐렌, -O-, -NR5-, -CONR2-, -COO-, -OCO-, -C(R5)=C(R5)- 또는 -CO- 기 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조하물에 의해 치환되고 또 그들 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬이며; R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬, 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴 또는 1 내지 4개의 탄소원자를 갖는 1 또는 2개의 알킬에 의해 치환된 상기 아릴이고; R4는 6 내지 10개 탄소원자를 갖는 아릴 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나, 또는 페닐 고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 가는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일이며; R5는 R4에서 정의된 바와 같거나, 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 R5는 일반식
    의 기이고, 이때 T는 수소,옥실,히드록실, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬,한개 이상의 히드록실 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬,벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일이고; R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 8개 할로겐,에폭시,글리시딜옥시,푸릴옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2, -C(R5)2=C(R5)-COOR5, -CN, -NCO, 또는또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 에폭시, -O, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOCC(R5)=C(R5)-, -(R5)C=C(R5)-, 페닐렌 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 임) 또는 그의 조합물 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기를 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로 알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이며; R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 페닐 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노 또는 -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 기이고; R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 o-페닐렌이며; R8은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄 또는기이고; k는 1 내지 4이며; k=1이면, Z는 상기 R2에서 정의한 바와 같고; k=2이면, Z는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -CH=CH- 또는 -O-를 중간에 포함하는 상기 알킬렌; 또는 상술한 기의 조합물에 의해 치환되고 또 그를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나 또는 Z는 크실릴렌 또는 -CONH-R8-NHCO-, -CH2CH(OH)CH2O-R9-OCH2CH(OH)CH2-, -CO-R10-CO-, 또는 -CHNH-R8-NHCO- 기이며, -(CH2)m-COO-R11-OOC-(CH2)m, 이때 m은 1 내지 3이며; 또는 Z는이고; R8은 상기 정의한 바와 같으며; R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌 또는 -페닐렌-G-페닐렌 기(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH2)2- 임)를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고; R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이며; R11은 4 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 8개 -O-를 포함하는 상기 알킬렌이고; k=3이면, Z는 -[(CH2)mCOO]3-R12(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일임)기이며; k=4이면, Z는 -[(CH2)mCOO]4-R3(이때, m은 1 내지 3이고 또 R13는 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트릴임)기이고; 단, Z가 수소이고 또 R1이 n-헥실이면, X 및 Y는 각각 5-n-헥실-2,4-디히드록실페닐이 아니며; 또 상기 일반식(B)의 화합물의 경우, t는 0 내지 9이고; X, X´, Y, 및 Y´는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬,할로겐, 히드록시 또는 알콜시에 의해 치환된 페닐이며; L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 또는 그를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-E-S, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는이고, 이때 E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌 중간 또는 말단에 갖는 8 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌이며; R2및 R2´는 동일하거나 상이하며 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 단, 한개 이상의 L연결이 페닐 고리의 5-위치에서 부착된다.
  2. 제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅰ),(Ⅱ),(Ⅲ),(Ⅳ),(Ⅴ) 또는 (Ⅵ)의 화합물:
    상기 일반식(Ⅰ)의 화합물주에서, X 및 Y는 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고; R1은 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 할로겐, -SR3, -SOR3, 또는 -SO2R2이거나; 또는 1 내지 8개 할로겐, -R4, -OR5, -N(R5)2, =NR5, =O, -CON((R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -CN, -NO2, -SR5, -SOR5, -SO2R5, -P(O)(OR5)2, 모르폴린일, 피페리딘일, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘일, 피네라진일 또는 N-메틸피페라진일 기 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 페닐렌, -O-, NR5, -CONR5, -COO-, -C((R5)=C((R5)- 또는 -CO- 기 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합물을 중간에 포함하거나 또는 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬이며; R3은 1 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬, 3 내지 18개 탄소원자를 갖는 알켄일, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬이거나; 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이거나, 또는 페닐 고리에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알킬, 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콜기 또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 페닐알킬; 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일이며; R5는 R4에서 정의된 바와 같거나, 또는 R5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 R5는 일반식
    의 기이고, 이때 T는 수소,옥실,히드록실, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬,한개 이상의 히드록실 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬,벤질 또는 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일이고; R2는 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 1 내지 8개 할로겐,에폭시,글리시딜옥시,푸릴옥시, -R4, -OR5, -N(R5)2, -COR5, -COOR5, -OCOR5, -OCOC(R5)=C(R5)2, -C(R5)2=C(R5)-COOR5, -CN, -NCO, 또는또는 그의 조합물에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 1 내지 6개의 에폭시, -O, -NR5-, -CONR5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(R5)=C(R5)COO-, -OCOCC(R5)=C(R5)-, -(R5)C=C(R5)-, 페닐렌 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2- 임) 또는 그의 조합물 중간에 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기를 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로 알킬이거나; 또는 R2는 -SO2R3또는 -COR6이며; R6은 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알켄일, 페닐 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노, 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴아미노 또는 -R7COOH 또는 -NH-R8-NCO 기이고; R7은 2 내지 14개 탄소원자를 갖는 알킬렌 또는 o-페닐렌이며; R8은 2 내지 10개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄 또는기이며; 단, R2가 수소이고 또 R1이 n-헥실이면, X 및 Y는 5-n-헥실-2,4-디히드록시페닐이 아니며; 상기 일반식(Ⅰ)의 화합물중에서, X는 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고; R1및 R1´는 동일하거나 상이하며 또 상기 R1에서 정의한 바와 같으며; R2및 R2´는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또 단, R1및 R1´가 각각 n-헥실이고, 또 R2및 R2´가 각각 수소이면, X는 5-n-헥실-2,4-디히드록시페닐이 아니고; 상기 일반식(Ⅲ)의 화합물중에서, R1,R1´및 R1˝´가 동일하거나 상이하며 또 상기 R1에서 정의한 바와 같으며; R2,R2´및 R2˝´가 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또 단, R2,R2´및 R2˝´가 수소이면, R1,R1´및 R1˝´는 각기 n-헥실이 아니며; 상기 일반식(Ⅳ)의 화합물중에서, X, X´, Y 및 Y´는 동일하거나 상이하며 또 페닐 1 내지 3개의 저급 알킬, 할로겐, 히드록시 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이고; L은 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌을 중간에 포함하거나 그에 의해 치환된 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴이거나; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-E-S, -SO-, -SO2-, -SO-E-SO-, -SO2-E-SO2-, -CH2-NH-E-NH-CH2- 또는이며, 이때 E는 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬렌 또는 시클로헥실렌 중간 또는 말단에 갖는 8 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고; R2및 R2´는 동일하거나 상이하며 또 상기 R2에서 정의한 바와 같고; 또 상기 일반식(Ⅴ)의 화합물중에서, X,Y 및 R1은 상기 정의된 바와 같고; n은 2 내지 4이며; n=2이면, Q는 2 내지 16개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌; 또는 1 내지 8개 -CH=CH- 또는 -O-를 중간에 포함하는 알킬렌; 또는 상술한 기의 조합물 중간에 포함하고 또 그에 의해 치환된 알킬렌이거나; 또는 Q는 크실릴렌 또는 -CONH-R8-NHCO-, -CH2CH(OH)CH2O-R9-OCH2CH(OH)CH2-, -CO-R10-CO-, 또는 -CHNH-R8-NHCO- 기이며, -(CH2)m-COO-R11-OOC-(CH2)m, 이때 m은 1 내지 3이며; 또는 Q는이며; R8은 상기 정의한 바와 같고; R9는 2 내지 50개 탄소원자를 갖는 알킬렌; 또는 1 내지 10개의 -O-, 페닐렌 또는 -페닐렌-G-페닐렌(이때, G는 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH2)2- 임)기를 중간에 포함하는 상기 알킬렌이고; R10은 6 내지 12개 탄소원자를 갖는 아릴렌이며; R11은 4 내지 20개 탄소원자를 갖는 알킬렌, 또는 1 내지 8개 -O-를 포함하는 상기 알킬렌이고; k=3이면, Z는 -[(CH2)mCOO]3-R12(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸트리일임)기이고; n=4이면, Q는 -[(CH2)mCOO]4-R3(이때, m은 1 내지 3이고 또 R12는 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알칸테트릴임)기이고; 또 상기 일반식(Ⅵ)의 화합물에서, X 및 Y는 상기 정의된 바와 같고; t는 0 내지 9이며; L은 상기 정의된 바와 같고, 단 한개 이상의 L연결이 페닐 고리의 5-위치에 부착되며; 또 R2는 상기 정의된 바와 같다.단, Z가 수소이고 또 R1이 n-헥실이면, X 및 Y는 각각 5-n-헥실-2,4-디히드록실페닐이 아니며; 또 상기 일반식(B)의 화합물의 경우, t는 0 내지 9이고; X, X´, Y, 및 Y´는 동일하거나 상이
  3. 제1항에 있어서, X, Y, X´, 및 Y´가 페닐 또는 한개 또는 세개의 저급 알킬 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐이고; R1이 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 3 내지 12개 탄소원자를 갖는 알켄일, -Cl, -SR3, -SOR3또는 -SO2R3이거나,; 페닐, -OR5, -N(R5)2, =NR5, =O에 의해 치환되거나 및/또는 -O-, -NR5-, -CO- 또는 그의 조합물을 중간에 포함하는 상기 알킬; 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬; 또는 n 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이며; R2및 R2´가 수소 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬 또는 1 또는 2개의 -OR5에 의해 치환된 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬이고; R5가 H, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬 또는 페닐이며; 또 L이 메틸렌; 벤질리덴;
    인 화합물.
  4. 제3항에 있어서, A 및 A´가 페닐, 일반식의 기 또는 1 또는 2개의 저급 알킬기에 의해 치환된 페닐이고; R1이 1 내지 18개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 플로펜일, -Cl, 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노알킬, 4 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬아미노알킬, 2 내지 18개 탄소원자를 갖는 알칸오일, 벤조일, -SR3, -SOR2또는 -SO2R3이거나; 또는 페닐 및/또는 -OH에 의해 치환된 C1-C7알킬이며; R2및 R2´가 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 알킬, 또는 1 또는 2개의 -OR5에 의해 치환된 2 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬이고; R3가 페닐이며; 또 R5가 H, 1 내지 12개 탄소원자를 갖는 알킬 또는 페닐인 화합물.
  5. 제2항에 있어서, X,Y,X´및 Y´가 페닐 또는 한개 또는 세개의 저급 알킬 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐이고; R1, R1´및 R1´˝는 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 또는 7 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이고; R1및 R1´가 2 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 1 또는 2개의 -OR5에 의해 치환된 상기 알킬이고, 이때 R5가 수소, 1 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 페닐이며; L이 메틸렌; 벤질리덴;
    인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, a, 2-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)s-트리아진; b. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[5-헥실-2-히드록시-4-(2-디히드록시-3-페녹시프로폭시)페닐]-2-트리아진; c. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[4-(3-도데실옥시-2-히드록시-프로폭시)-5-헥실페닐-2-히드록시페닐]-s-2-트리아진; d. 2-(2,4-디히록시-5-에틸페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)s-트리아진; e. 2-[2,4-디히록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)s-트리아진; f. 2-[2,4-디히록시-5-1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)s-트리아진; g. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시)-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진; h. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[4-헥실옥시-2-히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진; i. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진; j. 2-[2-히드록시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-옥틸옥시페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진; k. 2-(5-클로로-2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; l. 2-(2,4-디히드록시-5-프로피오닐페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; m. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-이소부틸이미노)프로필페닐]-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; n. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-이소부틸이미노)프로필페닐]-4,6--비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; o. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2,4-디히드록시-5-(1-히드록시프로필)페닐]-s-트리아진; p. 2-(5-벤조일-2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; q. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2,4-디히드록시-5-(α-히드록시벤질)페닐]-s-트리아진; r. 2-(2,4-디히드록시-5-페닐티오닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; s. 2-(2,4-디히드록시-5-페닐술피닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; t. 2-(2,4-디히드록시-5-페닐술피닐페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; u. 2-(5-클로로-2,4-디히드록시페닐)-4,6-디페닐-s-트리아진;
    v. 4,6-디페닐-2-(5-클로로-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진; x. 2-[4-93-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-4,6-디페닐-s-트리아진; y. 2-[2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-s-트리아진; z. 4,6-비스94-메틸페닐)-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진; aa. 2-[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실-2-히드록시페닐]-4,6-비스(4-메틸페닐)-s-트리아진; bb. 2-[4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)-5-헥실2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; cc. 2,4-비스(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-6-페닐-s-트리아진; dd. 2,4-비스(4-3-부틸옥시-2히드록시프로폭시)-5-헥실2-히드록시페닐]-6-페닐
    -s-트리아진; ee. 2,4-비스(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-6-페닐-s-트리아진; ff. 2-[2,4-디히드록시-5-(1-프로펜일)페닐]4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; gg. 2-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-4,6-디페닐-s-트리아진; hh. 4,6-디페닐-2-(5-헥실-4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진; ii. 4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-2-(5-헥실-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진; jj. 2-[5-헥실-2-히드록시-4-(2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스-페닐-s-트리아진;kk. 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-[2-히드록시-4-헥실옥시-5-(1-메틸-1-페닐에틸)페닐]-s-트리아진; ll. 1,3-비스{1-[2,4-디히드록시-5-(3,5-비스(2,4-디메틸페닐-s-트리아진일)페닐]-1-메틸에틸}벤젠; mm. 메틸렌-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진의 혼합물(3:5, 5:5 및 3:3 위치에서 5:4:1 비율로 연결됨); 또는 nn. 벤질리덴-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진의 혼합물(3:5 및 5:5 위치에서 1:1 비율로 연결됨)인 화합물.
  7. 110℃ 내지 250℃의 온도에서 촉매량의 프리델-크라프트 알킬화 촉매 존재하에서 하기 일반식(A)의 화합물을 일반식(A)의 화합물량에 대하여 2 내지 10배 과량의 4 내지 24개 탄소원자를 갖는 알켄, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알켄 또는 8 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알켄과 반응시키는 것을 포함하는 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방버비:
    식중에서, R1은 4 내지 24개 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬, 5 내지 12개 탄소원자를 갖는 시클로알킬 또는 8 내지 15개 탄소원자를 갖는 페닐알킬이고, R2가 수소이며, 또 X ALC Y가 동일하거나 상이하며 또 페닐 또는 1 내지 3개의 저급 알킬 또는 1 내지 3개의 염소 기에 의해 치환된 페닐임.
  8. 제7항에 있어서, 상기 촉매가 염화 알루미늄, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산, 디이소부틸알루미늄 히드리드 또는 알루미늄 이소프로폭사이드인 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 촉매가 알루미늄 이소프로폭사이드인 방법.
  10. (a) 화학선에 노출되면 분해되기 쉬운 유기물질 및 (b) 유효 안정량의 일반식(A) 또는 (B)의 화합물을 포함하는 화학선의 악영향으로 부터 안정화된 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 상기 성분(a)의 유기물질이 중합체인 조성물.
  12. 제10항에 있어서, 조성물의 0.01 내지 20중량%의 양으로 성분(b)의 안정화제를 함유하는 조성물.
  13. 제10항에 있어서, 상기 중합체가 고 고형분 열가소성 아크릴/멜라민 수지 또는 아크릴 우레탄 수지인 조성물.
  14. 제10항에 있어서, 상기 조성물이 (c) 금속 기판에 접촉하는 전착도료 하도제. (d) 하도 도료 또는 투명 도료 또는 하도 도료와 투명 도료 모두에 함유된 유효 안정량의 한개 이상의 트리스-아릴-s-트리아진 자외선 흡수제를 포함하는 중합체 막 조성물인 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 성분(d)가 필름형성 결합제의 1 내지 20중량%의 조성물.
  16. 제14항에 있어서, 성분(d)가 하도 도료에 혼입되는 조성물.
  17. 제14항에 있어서, 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸;트리스-아릴-s-트리아진; 또는 입체장애 아민 광 안정화제 또는 그의 혼합물중 한개 이상을 유효 안정량으로 추가로 함유하는 조성물.
  18. 제14항에 있어서, 상기 필름 형성 결합제가 고 고형분 열가소성 아크릴/멜라민 수지 또는 아크릴 우레탄 수지인 조성물.
  19. 광, 산소 및/또는 열에 의한 분해로 부터 유기물질을 보호하기 위한 안정화제로서 제1항에 따른 일반식 (A) 또는 (B)의 화합물의 용도.
  20. 제1항에 따른 일반식 (A) 또는 (B)의 화합물 1개 이상을 유기물질에 혼입하는 것을 포함하는 광, 산호 및/또는 열에 의한 분해로 부터 유기 중합체를 보호하는 방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 유기 중합체가 표면 도료용 결합제인 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950021471A 1994-07-27 1995-07-21 트리스-아릴-s-트리아진및그를포함하는조성물 KR100346064B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US8/281,381 1994-07-27
US08/281381 1994-07-27
US08/281,381 US5556973A (en) 1994-07-27 1994-07-27 Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960004328A true KR960004328A (ko) 1996-02-23
KR100346064B1 KR100346064B1 (ko) 2002-11-16

Family

ID=23077052

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950021471A KR100346064B1 (ko) 1994-07-27 1995-07-21 트리스-아릴-s-트리아진및그를포함하는조성물

Country Status (12)

Country Link
US (7) US5556973A (ko)
EP (1) EP0704437B1 (ko)
JP (1) JP3965603B2 (ko)
KR (1) KR100346064B1 (ko)
AT (1) ATE224880T1 (ko)
BR (1) BR9503460A (ko)
CA (1) CA2154626A1 (ko)
CZ (1) CZ192595A3 (ko)
DE (1) DE69528331T2 (ko)
ES (1) ES2181760T3 (ko)
SK (1) SK283404B6 (ko)
TW (1) TW308602B (ko)

Families Citing this family (210)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2879756B2 (ja) * 1993-12-02 1999-04-05 カシオ計算機株式会社 プリンタ装置
CA2230604C (en) * 1995-08-30 2008-12-02 Cytec Technology Corp. Compositions containing 1,3,5-triazine carbamates and epoxy compounds
US5759689A (en) * 1996-06-13 1998-06-02 General Electric Company Coextruded polycarbonate sheet with improved weathering
US5726309A (en) * 1996-08-27 1998-03-10 Ciba Specialty Chemicals Corporation Tris-aryls-triazines substituted with biphenylyl groups
BE1012529A3 (fr) * 1996-09-13 2000-12-05 Ciba Sc Holding Ag Melange de triaryltriazines et son utilisation pour la stabilisation de materiaux organiques.
US6013704A (en) * 1996-09-13 2000-01-11 Ciba Specialty Chemicals Corporation Hydroxyphenyltriazines
CN1232477A (zh) * 1996-10-08 1999-10-20 Cytec技术有限公司 交联剂组合物和由其制得的低光泽度环氧涂层
KR100562926B1 (ko) * 1996-11-20 2006-10-19 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 히드록시페닐트리아진
GB2319523B (en) 1996-11-20 2000-11-08 Ciba Sc Holding Ag Hydroxyphenyltriazines
US6117997A (en) * 1997-11-19 2000-09-12 Ciba Specialty Chemicals Corporation Hydroxyphenyltriazines
US6242597B1 (en) 1997-11-21 2001-06-05 Ciba Specialty Chemicals Corporation Trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers
US5985251A (en) * 1997-12-01 1999-11-16 Roche Vitamins Inc. Light screening compositions
US6018044A (en) * 1998-01-02 2000-01-25 Roche Vitamins Inc. Light screening compositions
DE69941073D1 (de) * 1998-03-02 2009-08-20 Ciba Holding Inc Verfahren zur Herstellung von 2,4-Diaryl-6-o-hydroxyphenyl-1,3,5-triazin Derivaten in Anwesenheit eines Protonensäure-Katalysators
JP2000026435A (ja) * 1998-05-07 2000-01-25 Ciba Specialty Chem Holding Inc トリスレゾリシニルトリアジン
US6239276B1 (en) 1998-06-22 2001-05-29 Cytec Technology Corporation Non-yellowing para-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
JP2002518489A (ja) * 1998-06-22 2002-06-25 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド ポリ(トリスアリール−1,3,5−トリアジン=カルバマート)紫外光吸収剤
DE69927372T2 (de) * 1998-06-22 2006-07-13 Cytec Technology Corp., Wilmington In den roten Bereich verschobene Trisaryl-1,3,5-Triazin-Ultraviolettlicht-Absorptionsmittel
WO1999067225A1 (en) * 1998-06-22 1999-12-29 Cytec Technology Corp. Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
US6297377B1 (en) 1998-06-22 2001-10-02 Cytec Technology Corporation Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
US6187374B1 (en) 1998-09-02 2001-02-13 Xim Products, Inc. Coatings with increased adhesion
EP1109793A1 (en) 1998-09-04 2001-06-27 Ciba SC Holding AG Process for making 2-hydroxy-4-alkoxyphenyl or 2,4-dihydroxyphenyl substituted 1,3,5-triazine uv absorbers
JP2002524452A (ja) 1998-09-04 2002-08-06 サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)もしくは2−(2,4−ジアルコキシフェニル)−4,6−ビスアリール−1,3,5−トリアジンの製造方法
TWI259182B (en) 1998-11-17 2006-08-01 Cytec Tech Corp Process for preparing triazines using a combination of Lewis acids with reaction promoters
EP1094094A4 (en) * 1999-04-12 2002-07-24 Asahi Denka Kogyo Kk POLYMERIC COMPOSITION
US6191199B1 (en) 1999-05-03 2001-02-20 Ciba Speciatly Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction photostable hydroxyphenyl-s-triazine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
BR0117305B1 (pt) * 2000-02-01 2013-02-05 mÉtodo de proteÇço de conteédos contra os efeitos prejudiciais de radiaÇço ultravioleta.
CN1302002C (zh) 2000-05-19 2007-02-28 西巴特殊化学品控股有限公司 作为聚合引发剂的羟胺酯类
US6409017B1 (en) 2000-06-30 2002-06-25 Corning Incorporated Use of inhibitor in optical fiber reel covers
CO5231248A1 (es) 2000-07-26 2002-12-27 Ciba Sc Holding Ag Articulos transparentes de polimero de baja consistencia
US6867250B1 (en) 2000-10-30 2005-03-15 Cytec Technology Corp. Non-yellowing ortho-dialkyl aryl substituted triazine ultraviolet light absorbers
DE60219447T2 (de) 2001-03-22 2007-12-13 Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. Verwendung von aromatischen verbindungen als mittel zur kontrolle der phase sowie zur reduzierung der teilchengrösse von chinacridonpigmenten
US6855269B2 (en) * 2001-11-09 2005-02-15 Cytec Technology Corp. Phenyl ether-substituted hydroxyphenyl triazine ultraviolet light absorbers
WO2003046068A1 (en) * 2001-11-30 2003-06-05 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. 2-hydroxyphenyl-s-triazine crosslinkers for polymer networks
WO2003057772A2 (en) * 2001-12-27 2003-07-17 Cytec Technology Corp. Uv stabilized thermoplastic olefins
ZA200301683B (en) * 2002-03-04 2004-09-06 Ciba Sc Holding Ag Synergistic combinations of UV absorbers for pigmented polyolefins.
JP4486810B2 (ja) 2003-01-08 2010-06-23 富士フイルム株式会社 着色組成物及びインクジェット記録方法
PT1581272E (pt) * 2003-01-09 2006-08-31 Alcon Inc Absorventes de uv com dupla funcao como materiais para lentes oftalmicas
EP1608620B1 (en) 2003-02-26 2011-12-28 Basf Se Water compatible sterically hindered hydroxy substituted alkoxyamines
US7431760B2 (en) 2003-06-18 2008-10-07 Fujifilm Corporation Ink and ink-jet recording ink
KR101179522B1 (ko) 2003-09-29 2012-09-07 후지필름 가부시키가이샤 잉크젯 기록 재료, 잉크젯 기록 재료의 제조방법 및 잉크젯 기록 방법
MY149850A (en) 2003-09-29 2013-10-31 Ciba Holding Inc Stabilization of photochromic systems
JP5204974B2 (ja) 2003-10-23 2013-06-05 富士フイルム株式会社 インクジェット用インクならびにインクセット
EP1709483A4 (en) 2004-01-30 2007-06-27 Fujifilm Corp PHOTOSENSITIVE COLOR PHOTOGRAPHIC MATERIAL BASED ON SILVER HALIDE AND METHOD OF FORMING COLOR IMAGE
KR101204282B1 (ko) 2004-02-02 2012-11-26 시바 홀딩 인크 관능화된 광개시제
JP2005320517A (ja) * 2004-04-06 2005-11-17 Matsushita Electric Works Ltd 塗料組成物、塗膜付基材、照明器具及びランプ
US7595011B2 (en) 2004-07-12 2009-09-29 Ciba Specialty Chemicals Corporation Stabilized electrochromic media
US20060204732A1 (en) 2005-03-08 2006-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
DE102005012056A1 (de) * 2005-03-16 2006-09-28 Basf Coatings Ag Mehrschichtlackierungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung im Automobilbau
PL1888539T3 (pl) 2005-06-10 2014-03-31 Basf Se Hydroksyfenylotriazyny z układem skondensowanych aromatycznych pierścieni karbocyklicznych
US10047231B2 (en) * 2005-06-10 2018-08-14 Basf Se Tris(hydroxyphenyl) triazines
JP4662822B2 (ja) 2005-07-19 2011-03-30 富士フイルム株式会社 光硬化型インクジェット記録装置
JP4677306B2 (ja) 2005-08-23 2011-04-27 富士フイルム株式会社 活性エネルギー硬化型インクジェット記録装置
US20070049651A1 (en) 2005-08-23 2007-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, planographic printing plate, and oxcetane compound
JP4757574B2 (ja) 2005-09-07 2011-08-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
ATE494341T1 (de) 2005-11-04 2011-01-15 Fujifilm Corp Härtbare tintenzusammensetzung und oxetanverbindung
EP1829684B1 (en) 2006-03-03 2011-01-26 FUJIFILM Corporation Curable composition, ink composition, inkjet-recording method, and planographic printing plate
JP4719606B2 (ja) 2006-03-30 2011-07-06 富士フイルム株式会社 インクジェットヘッド記録装置
CN101455123A (zh) 2006-05-26 2009-06-10 富士胶片株式会社 表面发射型电致发光器件
JP5215538B2 (ja) 2006-06-30 2013-06-19 富士フイルム株式会社 アゾ色素、着色組成物、感熱転写記録用インクシート、感熱転写記録方法、カラートナー、インクジェット用インクおよびカラーフィルタ
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
US8092909B2 (en) * 2006-09-07 2012-01-10 Columbia Insurance Company Color foundation coat and color top coat paint system
CN101611101A (zh) * 2007-01-15 2009-12-23 西巴控股有限公司 用2-羟基苯基三嗪稳定的着色透明涂层uv
JP2008189776A (ja) 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP2008208266A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
US7888365B2 (en) * 2007-03-02 2011-02-15 The University Of Tennessee Research Foundation Tri-aryl/heteroaromatic cannabinoids and use thereof
EP1970196A3 (en) 2007-03-13 2010-01-27 FUJIFILM Corporation Hydrophilic member and process for producing the same
CN101636455B (zh) 2007-03-15 2013-11-27 巴斯夫欧洲公司 基于间苯二酚基三嗪衍生物的热敏涂料组合物
US8129309B2 (en) 2007-03-29 2012-03-06 Fujifilm Corporation Heat-sensitive transfer sheet for use in heat-sensitive transfer system and image-forming method using heat-sensitive transfer system
EP1974948A3 (en) 2007-03-29 2012-02-08 FUJIFILM Corporation Image-forming method using heat-sensitive transfer system
US8119562B2 (en) 2007-03-29 2012-02-21 Fujifilm Corporation Heat-sensitive transfer sheet and image-forming method using heat-sensitive transfer system
JP2008246793A (ja) 2007-03-29 2008-10-16 Fujifilm Corp 活性エネルギー線硬化型インクジェット記録装置
JP5159141B2 (ja) 2007-03-30 2013-03-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP2008248124A (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 着色組成物、感熱転写記録用インクシート、感熱転写記録方法、カラートナー、インクジェット用インク、カラーフィルターおよびアゾ色素
JP2008273641A (ja) 2007-04-25 2008-11-13 Fujifilm Corp 感熱転写受像シート用紙管、感熱転写受像シートのロール形態加工物、及び画像形成方法
JP5337394B2 (ja) 2007-05-15 2013-11-06 富士フイルム株式会社 親水性コーティング組成物及びこれを用いた親水性部材
US7951854B2 (en) 2007-06-08 2011-05-31 Fujifilm Corporation Ink composition, ink set and inkjet recording method
WO2009003930A1 (en) 2007-06-29 2009-01-08 Basell Poliolefine Italia S.R.L. An irradiated polyolefin composition comprising a non - phenolic stabilizer
JP5581208B2 (ja) 2007-07-18 2014-08-27 データレース リミテッド レーザー感受性被覆配合物
JP5213382B2 (ja) 2007-08-09 2013-06-19 富士フイルム株式会社 水性インク組成物、インクセット、及び画像記録方法
JP2009256568A (ja) 2007-08-17 2009-11-05 Fujifilm Corp 親水性膜形成用組成物、スプレー用組成物およびこれを用いた親水性部材
ATE538185T1 (de) 2007-08-22 2012-01-15 Datalase Ltd Laserempfindliche beschichtungszusammensetzung
JP5469837B2 (ja) 2007-09-12 2014-04-16 富士フイルム株式会社 親水性組成物
JP2009090641A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 防曇性カバー、及び該防曇性カバーを用いたメーター用カバー
JP2009256564A (ja) 2007-09-26 2009-11-05 Fujifilm Corp 親水性膜形成用組成物および親水性部材
US8076393B2 (en) 2007-09-26 2011-12-13 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
JP5111039B2 (ja) 2007-09-27 2012-12-26 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5236238B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用ホワイトインク組成物
JP2009084494A (ja) 2007-10-01 2009-04-23 Fujifilm Corp 水系着色剤分散物、水系着色剤分散物の製造方法、及びインクジェット記録用水系インク
JP2009090489A (ja) 2007-10-04 2009-04-30 Fujifilm Corp 画像形成方法及び画像形成装置
CN101896669A (zh) 2007-11-07 2010-11-24 巴斯夫欧洲公司 新纤维产品
JP4642892B2 (ja) 2007-11-09 2011-03-02 富士フイルム株式会社 顔料組成物、水性顔料分散物、水性顔料分散物の製造方法、インクジェット記録用水系インク
JP5201954B2 (ja) 2007-11-19 2013-06-05 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用記録媒体及びその製造方法、並びにインクジェット記録方法
JP5201955B2 (ja) 2007-11-19 2013-06-05 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用記録媒体及びその製造方法、並びにインクジェット記録方法
US8240838B2 (en) 2007-11-29 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material
JP5124496B2 (ja) 2008-02-01 2013-01-23 富士フイルム株式会社 親水性部材
JP5591473B2 (ja) 2008-02-05 2014-09-17 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、及び印刷物
JP5383225B2 (ja) 2008-02-06 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、および印刷物
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP5079538B2 (ja) 2008-02-13 2012-11-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インクセットおよび画像記録方法
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009226781A (ja) 2008-03-24 2009-10-08 Fujifilm Corp インクジェット画像の形成方法
JP2009227909A (ja) 2008-03-25 2009-10-08 Fujifilm Corp インクジェット用インクセット、画像記録方法、及び画像記録装置
JP2009235113A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp インクジェット画像の形成方法
JP2009233867A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp インクジェット記録方法及び記録物
JP5427382B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-26 富士フイルム株式会社 親水性部材、フィン材、アルミニウム製フィン材、熱交換器およびエアコン
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5568222B2 (ja) 2008-06-16 2014-08-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクセット、インクカートリッジ、インクジェット記録方法及び記録物
US8523990B2 (en) 2008-06-16 2013-09-03 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording ink composition, ink set, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
JP2010030223A (ja) 2008-07-30 2010-02-12 Fujifilm Corp インクジェット記録方法、インクジェット記録装置、及び、印刷物
DK2331625T3 (da) 2008-09-05 2012-04-02 Thor Gmbh Flammebeskyttelsespræparat indeholdende et phosphonsyrederivat
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010069805A (ja) 2008-09-19 2010-04-02 Fujifilm Corp インクセット及びインクジェット記録方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
JP2010077285A (ja) 2008-09-26 2010-04-08 Fujifilm Corp インクセット及び画像形成方法
EP2169018B1 (en) 2008-09-26 2012-01-18 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
JP5461809B2 (ja) 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
WO2010046285A2 (en) 2008-10-23 2010-04-29 Basf Se Heat absorbing additives
US9267042B2 (en) 2008-10-27 2016-02-23 Datalase Ltd. Coating composition for marking substrates
JP5645832B2 (ja) 2008-10-27 2014-12-24 データレース リミテッドDatalase Ltd. 基材にマーキングするためのレーザー感受性水性組成物
JP5344892B2 (ja) 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
WO2010072592A1 (en) 2008-12-22 2010-07-01 Basf Se Method of improving scratch resistance and related products and uses
CN102341370B (zh) 2009-01-08 2014-12-24 巴斯夫欧洲公司 聚合引发剂
JP5675647B2 (ja) 2009-01-19 2015-02-25 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 有機黒色顔料およびその製造
JP5225156B2 (ja) 2009-02-27 2013-07-03 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物
JP2010202756A (ja) 2009-03-03 2010-09-16 Fujifilm Corp 活性エネルギー線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、及び印刷物
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP2010229349A (ja) 2009-03-27 2010-10-14 Fujifilm Corp 活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク組成物インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5405174B2 (ja) 2009-03-30 2014-02-05 富士フイルム株式会社 インク組成物
US8940806B2 (en) 2009-03-30 2015-01-27 Basf Se Polymerizable compositions
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
US8268202B2 (en) 2009-07-07 2012-09-18 Basf Se Potassium cesium tungsten bronze particles
JP5613481B2 (ja) 2009-07-29 2014-10-22 富士フイルム株式会社 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
JP5579533B2 (ja) 2009-08-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 新規なオキセタン化合物、活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク組成物、及びインクジェット記録方法
JP5583376B2 (ja) 2009-09-15 2014-09-03 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2011068783A (ja) 2009-09-25 2011-04-07 Fujifilm Corp インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5489616B2 (ja) 2009-09-28 2014-05-14 富士フイルム株式会社 インク組成物及び印刷物成型体の製造方法
JP5448924B2 (ja) 2010-02-25 2014-03-19 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及びこれを用いた画像形成方法
JP2011202144A (ja) * 2010-03-01 2011-10-13 Fujifilm Corp 粘着剤組成物及びそれを用いた粘着テープ若しくはフィルム、表面保護フィルム、合わせガラス又は太陽電池モジュール
JP5448934B2 (ja) 2010-03-01 2014-03-19 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及びこれを用いた画像形成方法
JP5371844B2 (ja) 2010-03-16 2013-12-18 富士フイルム株式会社 処理液、インクセット及び画像形成方法
JP5538964B2 (ja) 2010-03-16 2014-07-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及びこれを用いた画像形成方法
JP5566745B2 (ja) 2010-03-26 2014-08-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、および画像形成方法
JP5554114B2 (ja) 2010-03-29 2014-07-23 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
JP5496739B2 (ja) 2010-03-30 2014-05-21 富士フイルム株式会社 画像形成方法
CN102248777B (zh) 2010-03-31 2016-03-02 富士胶片株式会社 图像形成方法
EP2371912B1 (en) 2010-03-31 2014-04-30 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
JP5813352B2 (ja) 2010-04-09 2015-11-17 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、インクセット、並びに画像形成方法
JP5518588B2 (ja) 2010-06-17 2014-06-11 富士フイルム株式会社 インクセット、並びに画像形成方法
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
JP5544239B2 (ja) 2010-07-29 2014-07-09 富士フイルム株式会社 重合性組成物
JP5785799B2 (ja) 2010-07-30 2015-09-30 富士フイルム株式会社 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物
JP5866150B2 (ja) 2010-07-30 2016-02-17 富士フイルム株式会社 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物
JP5850654B2 (ja) 2010-12-28 2016-02-03 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク
EP2682438B1 (en) 2011-02-28 2017-04-05 FUJIFILM Corporation Ink composition and image forming method
JP2012211293A (ja) 2011-03-18 2012-11-01 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
JP5696004B2 (ja) 2011-08-30 2015-04-08 富士フイルム株式会社 トリアジン側鎖を有する新規化合物、着色組成物、インクジェット用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルター、及びカラートナー
EP2760947B1 (en) 2011-09-29 2015-11-04 FUJIFILM Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
JP5667955B2 (ja) * 2011-09-29 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
KR101717829B1 (ko) 2011-11-08 2017-03-17 후지필름 가부시키가이샤 착색 조성물 및 잉크젯 기록용 잉크
CN104011142B (zh) 2011-12-26 2016-11-16 富士胶片株式会社 具有呫吨骨架的化合物、着色组合物、喷墨记录用油墨及喷墨记录方法
US9759844B2 (en) 2012-01-06 2017-09-12 Konica Minolta, Inc. Film mirror, film mirror manufacturing method, film mirror for photovoltaic power generation, and reflection device for photovoltaic power generation
WO2013129265A1 (ja) 2012-02-29 2013-09-06 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法
JP2014062219A (ja) 2012-03-07 2014-04-10 Fujifilm Corp 捺染用着色組成物、捺染方法、及び布帛
JP5666498B2 (ja) 2012-03-22 2015-02-12 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクセット、及び、画像形成方法
JP5836200B2 (ja) 2012-05-30 2015-12-24 富士フイルム株式会社 キサンテン骨格を有する化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法
EP2669338B1 (en) 2012-05-31 2017-04-05 Fujifilm Corporation Coloring composition, ink for inkjet recording and inkjet recording method
EP2671449A1 (en) 2012-06-06 2013-12-11 Construction Research & Technology GmbH Use of vanadium pentoxide particles as a biocide
EP3753997A1 (en) * 2012-07-31 2020-12-23 Adeka Corporation Latent additive and composition containing latent additive
JP2014198816A (ja) 2012-09-26 2014-10-23 富士フイルム株式会社 アゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物
JP6246223B2 (ja) 2012-10-23 2017-12-13 ビーエーエスエフ エスイー ポリマー安定剤基を含有するエチレン性不飽和オリゴマー
EP2912023B1 (en) 2012-10-23 2017-01-11 Basf Se Iminoxytriazines as radical generators
EP2921530A4 (en) 2012-11-15 2016-08-03 Fujifilm Corp COLORING COMPOSITION, INK-INK PRINTING INK USING THE COLORING COMPOSITION, INK-JET PRINTING METHOD USING THIS INK FOR INK-JET PRINTING, INK CARTRIDGE, AND JET-PRINTED MATERIAL INK
EP2921531A1 (en) 2012-11-15 2015-09-23 Fujifilm Corporation Coloring composition, ink jet recording ink, ink jet recording method, ink jet printer cartridge, and ink jet recording material
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
CN105377568B (zh) 2013-07-12 2017-11-07 富士胶片株式会社 图像形成方法及图像记录物
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
EP3049464B1 (en) 2013-09-27 2020-04-01 Basf Se Polyolefin compositions for building materials
JP6117072B2 (ja) 2013-09-30 2017-04-19 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、インクジェット記録方法、及び化合物の製造方法
EP3071544B1 (en) 2013-11-22 2022-07-06 Polnox Corporation Macromolecular antioxidants based on dual type moiety per molecule: structures methods of making and using the same
TWI685524B (zh) 2013-12-17 2020-02-21 美商畢克美國股份有限公司 預先脫層之層狀材料
JP6170901B2 (ja) 2014-01-10 2017-07-26 富士フイルム株式会社 化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、インクジェット記録物、カラーフィルタ、カラートナー、及び転写用インク
JP6169501B2 (ja) 2014-01-31 2017-07-26 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク
KR102304586B1 (ko) * 2014-08-05 2021-09-27 토카이 옵티칼 주식회사 매트릭스에 자외선 흡수능 및/또는 고굴절률을 부여하기 위한 첨가제와 그것을 사용한 수지 부재
JP6169545B2 (ja) 2014-09-09 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6169548B2 (ja) 2014-09-26 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6086888B2 (ja) 2014-09-26 2017-03-01 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
TW201703879A (zh) 2015-06-02 2017-02-01 西克帕控股有限公司 用於生產光學效應層之製程
US20190010308A1 (en) 2015-07-20 2019-01-10 Basf Se Flame Retardant Polyolefin Articles
TWI678364B (zh) * 2015-09-24 2019-12-01 南韓商Lg化學股份有限公司 化合物及含有該化合物的有機發光裝置
US11008741B2 (en) * 2016-05-09 2021-05-18 Xenidev Ab Hot water use warning device for faucets
WO2018021159A1 (ja) 2016-07-28 2018-02-01 富士フイルム株式会社 インクジェット捺染方法、着色組成物、インクジェットインク、インクカートリッジ、及び染料ポリマー
KR102413864B1 (ko) * 2016-11-30 2022-06-28 바스프 에스이 광경화성 하드코트 조성물, 방법, 및 이로부터 유도된 물품
EP3677647B1 (en) 2017-08-29 2021-08-25 FUJIFILM Corporation Pigment composition, production method therefor, and water-based ink composition
CN109651275B (zh) * 2017-10-12 2022-12-06 江苏裕事达新材料科技有限责任公司 三嗪类化合物、其组合物及其制备方法
WO2019189817A1 (ja) 2018-03-30 2019-10-03 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク、インクジェット記録用インクの製造方法及び画像記録方法
EP3556748A1 (en) * 2018-04-20 2019-10-23 Basf Se Hydroxyphenyl-triazine uv absorbers
WO2020041181A1 (en) 2018-08-22 2020-02-27 Basf Se Stabilized rotomolded polyolefin
EP3941970A1 (en) 2019-03-18 2022-01-26 Basf Se Uv curable compositions for dirt pick-up resistance
US20220282064A1 (en) 2019-07-30 2022-09-08 Basf Se Stabilizer composition
EP4212591A4 (en) 2020-10-14 2024-03-13 FUJIFILM Corporation COMPOUND, TAUTOMER THEREOF OR SALT OF SUCH COMPOUND OR TAUTOMER, METHOD FOR PRODUCING THEREOF, DYEING COMPOSITION, DYEING PROCESS AND DYED ARTICLE
CN116368122A (zh) * 2020-10-21 2023-06-30 株式会社艾迪科 组合物、固化物、固化物的制造方法及添加剂
WO2023085246A1 (ja) * 2021-11-11 2023-05-19 コニカミノルタ株式会社 非感光性表面改質剤、積層体、プリント基板及び電子デバイス

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3118887A (en) * 1961-03-06 1964-01-21 American Cyanamid Co O-hydroxy substituted tris aryl-s-triazines
NL275368A (ko) * 1961-03-06
BE639330A (ko) * 1962-10-30
NL130993C (ko) * 1963-02-07
CH533853A (de) * 1970-03-23 1973-02-15 Ciba Geigy Ag Verwendung von 2'-Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen als Stabilisierungsmittel gegen Ultraviolettstrahlung in photographischem Material
GB2042562B (en) 1979-02-05 1983-05-11 Sandoz Ltd Stabilising polymers
US4259467A (en) 1979-12-10 1981-03-31 Bausch & Lomb Incorporated Hydrophilic contact lens made from polysiloxanes containing hydrophilic sidechains
US4355147A (en) 1981-02-26 1982-10-19 Bausch & Lomb Incorporated Polysiloxane with polycyclic modifier composition and biomedical devices
DE3581002D1 (de) * 1984-06-22 1991-02-07 Ilford Ag Hydroxyphenyltriazine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als uv-absorber.
AU573053B2 (en) * 1984-12-07 1988-05-26 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Sulfonated triazine as photostabilisers on fibres and leather
US4619956A (en) * 1985-05-03 1986-10-28 American Cyanamid Co. Stabilization of high solids coatings with synergistic combinations
US4831068A (en) * 1987-02-27 1989-05-16 Ciba-Geigy Corporation Process for improving the photochemical stability of dyeings on polyester fibre materials
US4950304A (en) * 1987-10-02 1990-08-21 Ciba-Geigy Corporation Process for quenching or suppressing the fluorescence of substrates treated with fluorescent whitening agents
US4962142A (en) * 1987-12-29 1990-10-09 Milliken Research Corporation Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
US4826978A (en) * 1987-12-29 1989-05-02 Milliken Research Corporation Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
JPH02280462A (ja) * 1989-04-20 1990-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像データ圧縮方法
EP0425429B1 (de) * 1989-08-25 1995-02-22 Ciba-Geigy Ag Lichtstabilisierte Tinten
US5175312A (en) 1989-08-31 1992-12-29 Ciba-Geigy Corporation 3-phenylbenzofuran-2-ones
DE69030362T2 (de) * 1989-12-05 1997-10-23 Ciba Geigy Ag Stabilisiertes organisches Material
DE59106390D1 (de) * 1990-02-16 1995-10-12 Ciba Geigy Ag Gegen Schädigung durch Licht, Wärme und Sauerstoff stabilisierte Ueberzugsmittel.
EP0444323B1 (en) * 1990-02-28 1997-03-19 Cytec Technology Corp. Stabilization of high solids coating with liquid compositions of triazine UV absorbers
DE59107052D1 (de) * 1990-03-30 1996-01-25 Ciba Geigy Ag Lackzusammensetzungen
DE59105836D1 (de) * 1990-07-23 1995-08-03 Ciba Geigy Ag Wässrige Dispersion schwerlöslicher UV-Absorber.
EP0483488B1 (en) * 1990-10-29 1997-03-12 Cytec Technology Corp. Synergistic ultraviolet absorber compositions containing hydroxy aryl triazines and tetraalkyl piperidines
KR100187320B1 (ko) * 1991-02-21 1999-04-01 월터 클리웨인 광, 산소 및 열에 대해 안정화된 도료
EP0512946B1 (de) * 1991-05-02 1995-09-13 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Verbesserung der Lichtechtheit von Leder
US5252643A (en) 1991-07-01 1993-10-12 Ciba-Geigy Corporation Thiomethylated benzofuran-2-ones
TW206220B (ko) 1991-07-01 1993-05-21 Ciba Geigy Ag
TW260686B (ko) 1992-05-22 1995-10-21 Ciba Geigy
GB2267490B (en) 1992-05-22 1995-08-09 Ciba Geigy Ag 3-(Carboxymethoxyphenyl)benzofuran-2-one stabilisers
NL9300801A (nl) 1992-05-22 1993-12-16 Ciba Geigy 3-(acyloxyfenyl)benzofuran-2-on als stabilisatoren.
WO1994005645A1 (en) * 1992-09-07 1994-03-17 Ciba-Geigy Ag Hydroxyphenyl-s-triazines
MX9305489A (es) 1992-09-23 1994-03-31 Ciba Geigy Ag 3-(dihidrobenzofuran-5-il)benzofuran-2-onas, estabilizadores.
TW255902B (ko) 1992-09-23 1995-09-01 Ciba Geigy
BE1006797A5 (fr) * 1992-12-03 1994-12-13 Ciba Geigy Ag Absorbeurs d'uv.
US5354794A (en) 1993-02-03 1994-10-11 Ciba-Geigy Corporation Electro coat/base coat/clear coat finishes stabilized with S-triazine UV absorbers

Also Published As

Publication number Publication date
CA2154626A1 (en) 1996-01-28
EP0704437A3 (en) 1996-10-23
SK283404B6 (sk) 2003-07-01
EP0704437B1 (en) 2002-09-25
US5556973A (en) 1996-09-17
ATE224880T1 (de) 2002-10-15
US5648488A (en) 1997-07-15
KR100346064B1 (ko) 2002-11-16
TW308602B (ko) 1997-06-21
CZ192595A3 (en) 1996-02-14
DE69528331T2 (de) 2003-05-15
BR9503460A (pt) 1996-02-27
EP0704437A2 (en) 1996-04-03
JPH0853427A (ja) 1996-02-27
US5543518A (en) 1996-08-06
ES2181760T3 (es) 2003-03-01
DE69528331D1 (de) 2002-10-31
US5675004A (en) 1997-10-07
US5637706A (en) 1997-06-10
US5684070A (en) 1997-11-04
SK93595A3 (en) 1996-02-07
US5681955A (en) 1997-10-28
JP3965603B2 (ja) 2007-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960004328A (ko) 트리스- 아릴-s-트리아진 및 그를 포함하는 조성물
BE1011537A3 (fr) Composition de revetement comprenant un compose stabilisant, ledit compose et son utilisation.
AU757138B2 (en) Red-shifted trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers
US6262151B1 (en) Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability
AU725829B2 (en) Tris-aryl s-triazines substituted with biphenylyl groups
EP0682680B1 (en) ELECTRO COAT/BASE COAT/CLEAR COAT FINISHES STABILIZED WITH s-TRIAZINE UV ABSORBERS
US4826978A (en) Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
KR100457006B1 (ko) 안정화제혼합물
KR100421831B1 (ko) 광안정화제로서유용한비페닐-치환트리아진
KR100729944B1 (ko) 안정화제 혼합물
US4962142A (en) Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
WO2002012205A1 (en) BENZOTRIAZOLES CONTAINING α-CUMYL GROUPS SUBSTITUTED BY HETEROATOMS AND COMPOSITIONS STABILIZED THEREWITH
US6489383B1 (en) 2H-benzotriazole UV absorbers substituted with 1,1-diphenylalkyl groups and compositions stabilized therewith
GB2319523A (en) Hydroxyphenyltriazines as stabilisers for organic materials
JPH10115898A (ja) カラー写真記録材料
DE60202860T2 (de) Langkettige, sterisch gehinderte amine und damit stabilisierte zusammensetzungen
EP0946658B1 (en) Coating composition and method for reducing ultraviolet light degradation
US6245915B1 (en) Asymmetrical bisbenzotriazoles substituted by a perfluoroalkyl moiety
AU1592499A (en) Trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers
BR9911401A (pt) Composto, processos de estabilização de um material que está sujeito a degradação por radiação actìnica, e de proteção de um substrato contra a degradação por radiação actìnica, composição de revestimento adequada para a formação de uma pelìcula estabilizada contra a degradação por radiação actìnica, composição de estabilização da radiação actìnica, material fotográfico, e, composição cosmética
US6855269B2 (en) Phenyl ether-substituted hydroxyphenyl triazine ultraviolet light absorbers
US6800757B2 (en) Red-shifted triazine ultravioletlight absorbers
CA1272729A (en) Ultraviolet light absorbers of 2-phenylbenzotriazole type
AU5083199A (en) Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
Malshe et al. Substituted benzotriazole as UV absorber for paints

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20050610

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee