JPH0621197A - マイクロ回路ウェファー加工装置 - Google Patents

マイクロ回路ウェファー加工装置

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JPH0621197A
JPH0621197A JP5076257A JP7625793A JPH0621197A JP H0621197 A JPH0621197 A JP H0621197A JP 5076257 A JP5076257 A JP 5076257A JP 7625793 A JP7625793 A JP 7625793A JP H0621197 A JPH0621197 A JP H0621197A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 効率よく経済的に製造できる既存タイプのマ
イクロ回路ウェファー加工装置を提供する。 【構成】 本装置は、ウェファー搭載カセット用の１基
の装入ステーション、ウェファー・キャリヤと付属の加
工処理手段を配置する少なくとも１基の加工ステーショ
ン、およびウェファーをカセットから取り出してウェフ
ァー・キャリヤに載せ、加工処理後ウェファーをウェフ
ァー・キャリヤから下ろしてカセットに戻す移送手段を
備えた１基の移送ステーションから構成される。少なく
とも装入ステーションと加工ステーションは、少なくと
も部分的に正多角形の断面を有し、これらのユニットが
正多角形の側面の位置で他のユニットと接続する、別個
の接続可能ユニットとして具体化される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ回路ウェファ
ー加工装置に関する。本装置はウェファー搭載カセット
用の装入ステーション、加工ステーション、および移送
ステーションから構成される。加工ステーションは少な
くとも１基あってそこにウェファー・キャリヤと付属の
加工手段が配置され、移送ステーションはウェファーを
カセットから取り出してウェファー・キャリヤに載せ、
加工処理後、ウェファー・キャリヤからウェファーを取
り出しカセットに戻す手段を備えている。
【０００２】
【従来の技術】このような装置は、集積回路の生産にお
いてシリコン・ウェファーの散布工程とＬＰＣＶＤ工程
などでよく知られ使用されている。この種の既存の装置
は、特定の単一あるいは複合加工処理専用に製造され、
この目的に沿って必要となるすべてのステーションと補
助手段を備えている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、効率
よく、したがって経済的に製造できる既存タイプの装置
を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】同目的は、請求項１に示
すステップを有する発明に基づく装置により達成され
る。
【０００５】これにより、装置は相互に接続可能なユニ
ットによって特定のアセンブリーに構成することができ
る。ある特定のステーションは、各ユニットの多数の側
面に接続可能である。したがって、例えば１基の装入ス
テーションに多数の加工ステーションを接続して、各種
の多様な加工処理を装置内で順次実行することができ
る。加工ステーションは別個のユニットであることか
ら、加工ステーションの組み合わせは自在である。
【０００６】さらに利点の多い発展形を請求項２に記載
する。これにより、各接続可能ユニット内の気体状態を
特定の要求に合致するように、厳密に制御し、適合させ
ることが可能である。
【０００７】請求項３で述べるさらに望ましい具体化に
より、ユニット接続の持つ効率の高い潜在能力が得られ
る。
【０００８】
【実施例】その他の本発明の利点およびステップを、付
属図に示す何種類かの具体化を参照しつつ以下に述べ
る。
【０００９】図１に示す装置１は、一般にターム・ウェ
ファーと称するマイクロ回路ディスクの加工処理用であ
る。ターム・ウェファーは、多数の加工ステップを施し
てウェファー表面上に多数の集積回路を形成し、集積回
路はそののちウェファーから切り出されて以後の工程に
供される。
【００１０】装置１を使用して、ターム・ウェファー上
で３種類の（場合によっては連続した）加工処理を施す
ことができる。
【００１１】通常、ウェファーはカセットに入れて移送
するが、カセットを図１の装入ステーション２の９番で
示す。装入ステーション２は、３レベルある各レベルに
それぞれ６個のカセット、合計１８個のカセットを搭載
できる回転テーブル４から構成される。
【００１２】装入ユニット２は、例えば壁面３で、有塵
率を極めて低く保ったクリーン・ルームに接続する。カ
セット９は装入口５を通して回転テーブル４に載せるこ
とができる。装入口５は図に示されていない遮閉機構か
らなる特殊装入ユニットに接続できる。これを使用する
ことにより、カセット挿入時に、特に酸素など、望まし
くない気体が装置１の内部に侵入するのを防止できる。
【００１３】図から明らかなように、ユニット２の断面
は少なくとも部分的に正多角形をなしている。すなわ
ち、図１の右手の３壁面の断面は正八角形の一部となっ
ている。後述する加工ステーション１０、１１、１２も
同様に断面が少なくとも部分的に正多角形をなしてい
る。ユニット２、１０、１１、１２は別個のユニットと
して具体化され、正多角形の側面７のような側面の位置
で他のユニットに接続する。
【００１４】装置１の中央ユニットは、後述するロボッ
ト・ユニットを備えた移送ユニット８で構成される。こ
のロボット・ユニット８は、カセット９からウェファー
１３を取り出し、加工ステーション１０、１１、１２内
のウェファー・キャリヤに載せる。加工処理後、ロボッ
ト８は加工処理済みウェファーを加工ステーションのウ
ェファー・キャリヤから再び取り出して、後続の加工ス
テーション、あるいは回転テーブル４により回転する空
のカセット９に入れる。加工処理済みウェファー１３搭
載カセット９は、出口６を通して装入ステーション２か
ら取り出すことができる。出口６は、例えば装入口５と
同様の遮閉機構を備えた別個の出口ステーションであっ
てもよい。
【００１５】図４を参照する段でもっと詳しく述べる
が、図１の加工ステーション１０、１１、１２は、それ
ぞれ本発明の望ましい具体化に基づいて３個の仕切り部
屋１５が定義されている回転テーブル１４を備えてい
る。各仕切り部屋はウェファー・キャリヤ１６を装備し
ている。回転テーブル１４は、３か所の回転位置で移動
・停止が可能である。この各位置で、移送ステーション
８にあるロボットはウェファー・キャリヤのいずれかに
アクセスできる。ウェファー・キャリヤ１６を３個の仕
切り部屋１５のいずれかに入れた後で、回転テーブル１
４は時計方向に３分の１回転する。ここで部屋に入れら
れたウェファー・キャリヤは昇降装置１７の上、オーブ
ンの下に位置づけられる。昇降装置１７により、部屋に
入れられたウェファー・キャリヤはオーブンの中に上昇
し、加熱処理を施される。
【００１６】加熱処理が完了すると、ウェファー・キャ
リヤは再びテーブル１４まで下降し、続いてテーブルが
さらに３分の１回転する。同時に後続のウェファー・キ
ャリヤ１６が部屋に入れられ、昇降装置１７を使用して
オーブンに入る。その間に加工処理済みウェファーは冷
却することができる。もう一度加工処理サイクルが終了
すると、回転テーブルがさらに３分の１回転し、加工処
理済みウェファーと冷却済みウェファーを載せたウェフ
ァー・キャリヤ１６は移送ステーション８に隣接する開
始位置に戻される。次に加工処理済みウェファーはウェ
ファー・キャリヤから取り出されて、例えば加工ステー
ション１１の待機中のウェファー・キャリヤか待機中の
カセット９に入れられる。この場合、加工ステーション
１１、１２の動作も同じである。
【００１７】図１で明らかなように、ユニット１０、１
１、１２は実質的に同一である。したがって、全体のユ
ニット１は、別個に製造できる複数の部分ユニットから
組み立てられる。
【００１８】他の応用例では、装入ステーション２を加
工ユニット１０、１１、１２のうちの１基または２基と
組み合わせることができる。もちろん、加工ユニット１
０、１１、１２の代わりに他の加工ステーションを使用
してもよい。断面が少なくとも部分的に正多角形をな
し、正多角形の側面の位置で他のユニットに接続すると
いう別個の接続可能ユニットを使用する結果、所望の加
工処理に合わせて極めて自由自在に装置を構成すること
が可能である。
【００１９】さらに図１では、移送ユニット８は正方形
をなすものとして具体化され、装入ステーションと加工
ステーション２、１０、１１、１２は、それぞれ角度１
３５゜、辺の長さが移送ステーション８の辺の長さに等
しい正八角形の一部をなす。これにより、４基のユニッ
トを１基の移送ユニット８と組み合わせて接続すること
ができる。
【００２０】ただし、本発明に基づく構成により別の組
み立て方法も可能である。
【００２１】例えば、図２では装置は図１の装入ユニッ
トに相当する１基の装入ユニット２１と、それぞれが加
工ユニット１０、１１、１２に相当する２基の加工ユニ
ット２３、３２から構成されている。この場合も、移送
ステーション２２が配置されている。この移送ユニット
は上述のようにウェファー１３をカセット９から取り出
して加工ステーションのウェファー・キャリヤ２７に載
せたり、その逆を行うロボット２５から構成されてい
る。ロボット２５はそれ自体は既存のロボットでよく、
ロボットの作動アームが下部カセット内の一番下のウェ
ファーと上部カセット９の一番上のウェファーの高さの
差を橋渡しすることができるように昇降装置に取り付け
られる。こうしない場合には、通常、ウェファーの移動
が一番下から一番上に向かって順次発生する。すなわ
ち、ウェファー１３が一番下のものから順次一番上のも
のに向かってカセット９またはウェファー・キャリヤ２
７から取り出され、再び一番上から一番下に向かって順
次ウェファー・キャリヤまたはカセットに戻される。こ
のようにして、塵粒子が下にあるウェファーに落ちるの
を防止する。
【００２２】図２から明らかなように、この具体化で
は、各接続可能ユニットには正多角形部分の側面の少な
くとも一つに閉鎖可能な通路口のある閉じた容器があ
る。この具体化では、加工ステーション２３、３２には
それぞれ、１個の通路口２６がある。装入ステーション
２１には３個の通路口２４がある。通路口は、ガイド３
０に受け止められ空圧シリンダー３１によって上下に移
動できるハッチ２９を使用して開閉することができる。
ガイド３０には膨張可能シールを取り付けるのが望まし
い。このシールは、ハッチ２９が閉じた状態で膨張する
ので密着性が得られる。ハッチ２９を動かす必要がある
場合は、シールがハッチ２９から分離するように無圧状
態にする。その結果、ハッチ２９を開いたときに本発明
に基づく装置の環境で特に望ましくない遊塵粒子の形成
のおそれが極めて小さくなるように接触は皆無か最小に
なる。
【００２３】図２には、回転テーブル２８が受け取った
ウェファー・キャリア２７も示してある。
【００２４】図３は、本発明に基づく装置用の接続可能
ユニットの別の具体化を示す。このユニット３５は、断
面で各側面が等しい完全な正八角形になっている。ユニ
ット３５には図２に示したユニット２１の通路口２４に
類似した４個の通路口３８がある。ユニット３５はすべ
ての側面で共同動作するユニットに結合できるように８
個の通路口を備えることも可能である。このようにし
て、本発明に基づく所望の装置に合わせてユニットを最
大限柔軟に組み立てることができる。
【００２５】ユニット３５も、３レベルある各レベルに
ウェファー１３用の８個のカセット９を載せることがで
きる回転テーブル３６から構成されている。テーブル３
６は、装置３５の閉じた仕切り部屋に収納された駆動装
置３７を使用して、回転させたり、異なる回転位置で停
止させることができる。
【００２６】ユニット３５にはそれ自体の気体循環装置
がある。これは回転テーブルのシャフト４０を経由する
中央気体供給装置から構成され、シャフトは中央に配置
された円筒形フィルター３９の内部空間に通じている。
シャフト４０経由で供給される気体は、このフィルター
３９を水平円筒方向に流れ、カセット９を層流となって
流れる。外縁付近では気体は上向きに流れ、装置３５の
上部にある出口４１から排出される。このように実現さ
れた中央気体供給装置により、装置３５のすべての側面
が他のユニットとの接続に使用できる。気体循環は、周
知のように装置内の塵粒子レベルを極めて低い状態に保
つために必要である。
【００２７】図４には、ウェファー１３用の加工ステー
ションを付けた前述のユニット１０を示す。通路口４４
は、通路口正面にあるウェファー・キャリヤにアクセス
するためのものである。前述のように、ウェファーを載
せたウェファー・キャリヤは昇降装置１７を使用してオ
ーブン４５の中に上昇し、加熱処理を施される。
【００２８】回転テーブル１４は回転できるようにユニ
ット１０に取り付けられ、駆動装置４６によって希望す
る３か所の回転位置で停止させることができる。
【００２９】ユニット１０にもそれ自体の気体循環装置
が付いている。気体は中央シャフト４７経由で４８の位
置で供給される。気体はそこで、それぞれウェファー・
キャリヤ１６を収容する３個の仕切り部屋１５の間の中
央の空間に入る。この中央の空間５１のある各仕切り部
屋１５の仕切り壁面にはフィルター素子５２が付いてい
る。供給気体は、このフィルター素子５２経由で仕切り
部屋１５に流入し、ウェファー・キャリヤに載せられた
ウェファーの間を層流となって流れる。対向するフィル
ター５２を持つ各仕切り部屋１５の側面に開口部５３が
回転テーブル１４の外縁付近に設けられ、この開口部は
回転テーブル１４が配置された空間の底部４９にある開
口部５０に対応する。ウェファー１３の間を流れる気体
は、これらの開口部を通して回転テーブル１４の下の空
間に排出される。気体はファンを使用してシャフト４７
経由でこの空間から再び気体供給装置４８に戻される。
装置の内部空間から望ましくない気体を強制排出しなけ
ればならない状況では（例えば、酸素を窒素によって排
出しなければならない場合）、純粋窒素を４８の位置で
供給し、望ましくない気体のレベルが十分低い値になる
まで混合気体を排出口５３、５０経由で装置から排出す
る。この状態になったら、ファン装置経由で排気を供給
装置４８に接続するように再循環に設定することができ
る。
【００３０】本装置は異なる接続ユニットから組み立て
ることができる。先の説明では垂直のオーブン・ユニッ
トを加工ステーションとして詳細に説明したが、本発明
はもちろんオーブン・ユニットを加工ステーションとす
る装置に限定するものではない。説明した方法で他の加
工ステーションを具体化し、本発明に基づく装置に組み
合わせることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一番目の具体化に基づく装置の水平断
面図である。
【図２】本発明の別の具体化に基づく一部を切りとった
内部透視図である。
【図３】本発明に基づく装入ステーションの一部を切り
とった内部透視図である。
【図４】本発明に基づく加工ステーションの一部を切り
とった内部透視図である。
【符号の説明】
２ 装入ステーション ４ 回転テーブル ５ 装入口 ６ 出口 ７ 側面 ８ ロボット・ユニット ９ カセット １０、１１、１２ 加工ステーション １３ ウェファー １４ 回転テーブル １５ 仕切り部屋 １６ ウェファー・キャリヤ １７ 昇降装置 ２１ 装入ユニット ２２ 移送ステーション ２３、３２ 加工ユニット ２４、２６ 通路口 ２５ ロボット ２７ ウェファー・キャリヤ ２８ 回転テーブル ２９ ハッチ ３０ ガイド ３１ 空圧シリンダー ３５ ユニット ３６ 回転テーブル ３７ 駆動装置 ３８ 通路口 ３９ 円筒形フィルター ４０ シャフト ４１ 出口 ４４ 通路口 ４５ オーブン ４６ 駆動装置 ４７ 中央シャフト ５０ 開口部 ５２ フィルター素子 ５３ 出口

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウェファー搭載カセット用の１基の装入
    ステーション、ウェファー・キャリヤと付属の加工処理
    手段を配置する少なくとも１基の加工ステーション、お
    よびウェファーをカセットから取り出してウェファー・
    キャリヤに載せ、加工処理後ウェファーをウェファー・
    キャリヤから下ろしてカセットに搭載する移送手段を備
    えた１基の移送ステーションから構成され、少なくとも
    装入ステーションと加工ステーションは、少なくとも部
    分的に正多角形の断面を有し、これらのユニットが正多
    角形の側面の位置で他のユニットと接続する別個の接続
    可能ユニットとして具体化されることを特徴とする、マ
    イクロ回路ウェファー加工装置。
  2. 【請求項２】 各接続可能ユニットが少なくとも正多角
    形の側面の一つに閉鎖可能な通路口を有し、水平断面で
    少なくとも部分的に正多角形をなす閉じた容器を持つこ
    とを特徴とする、請求項１に記載のマイクロ回路ウェフ
    ァー加工装置。
  3. 【請求項３】 移送ステーションが正方形をなし、装入
    ステーションと加工ステーションがそれぞれ角度が１３
    ５゜の正八角形の一部をなして移送ステーションの側面
    と等しい長さの側面で移送ステーションに接続すること
    を特徴とする、請求項１または２に記載のマイクロ回路
    ウェファー加工装置。
  4. 【請求項４】 各ユニットがそれ自体の気体循環装置を
    備えることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか
    １項に記載のマイクロ回路ウェファー加工装置。
  5. 【請求項５】 気体循環装置が外縁付近の中央気体散布
    手段と気体排出手段から構成され、気体を層流として気
    体散布手段からウェファーに沿い気体排出手段に導く気
    体誘導手段を備えることを特徴とする、請求項４に記載
    のマイクロ回路ウェファー加工装置。
  6. 【請求項６】 装入ステーションが多数のウェファー・
    カセットを支えるため回転テーブルから構成され、気体
    誘導手段がテーブルの回転軸と同心配置された円筒形フ
    ィルター素子から構成され、気体散布手段が円筒形フィ
    ルター素子内部に接続されることを特徴とする、請求項
    ５に記載のマイクロ回路ウェファー加工装置。
  7. 【請求項７】 少なくとも加工ステーションのうちの１
    基が熱処理ステーションであってウェファー・キャリヤ
    が回転テーブル上に配置され、気体誘導手段が各ウェフ
    ァー・キャリヤに隣接してそれに平行に配置されたフィ
    ルター素子と、気体を中央散布手段からウェファー・キ
    ャリヤから遠い方のフィルター素子の側面に導くための
    ガイド壁面から構成されることを特徴とする、請求項５
    に記載のマイクロ回路ウェファー加工装置。
  8. 【請求項８】 各ウェファー・キャリヤが回転テーブル
    の隔離された仕切り部屋に配置されることを特徴とす
    る、請求項７に記載のマイクロ回路ウェファー加工装
    置。
  9. 【請求項９】 回転テーブルが３個のウェファー・キャ
    リヤから構成され、テーブルを３か所の回転位置に移動
    ・停止させる駆動手段および停止手段が存在し、チュー
    ブ形オーブンが回転位置におけるウェファー・キャリヤ
    のうちの１個の位置に対応した位置の上方に配置され、
    ウェファー・キャリヤをテーブルと相対的にオーブン内
    に上昇させる昇降手段が存在することを特徴とする、請
    求項７または８に記載のマイクロ回路ウェファー加工装
    置。
  10. 【請求項１０】 移送ステーションが昇降装置に取り付
    けられたそれ自体は既存のロボット・ユニットから構成
    されることを特徴とする、請求項１ないし９のいずれか
    １項に記載のマイクロ回路ウェファー加工装置。
  11. 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれか１項に
    記載のマイクロ回路ウェファー加工装置用に明白に意図
    された装入ステーション。
  12. 【請求項１２】 請求項１ないし１１のいずれか１項に
    記載のマイクロ回路ウェファー加工装置用に明白に意図
    された加工ステーション。
  13. 【請求項１３】 請求項１ないし１２のいずれか１項に
    記載のマイクロ回路ウェファー加工装置用に明白に意図
    された移送ステーション。
JP07625793A 1992-03-10 1993-03-10 マイクロ回路ウェファー加工装置 Expired - Fee Related JP3408278B2 (ja)

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NL9200446A NL9200446A (nl) 1992-03-10 1992-03-10 Inrichting voor het behandelen van microschakeling-schijven (wafers).
NL9200446 1992-03-10

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Publication Number Publication Date
JPH0621197A true JPH0621197A (ja) 1994-01-28
JP3408278B2 JP3408278B2 (ja) 2003-05-19

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EP (1) EP0560439B1 (ja)
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KR (1) KR100278154B1 (ja)
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DE (1) DE69322671T2 (ja)
NL (1) NL9200446A (ja)
SG (1) SG49224A1 (ja)
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