KR100376963B1 - 배치방식 웨이퍼 이송장치 - Google Patents

배치방식 웨이퍼 이송장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 복수개의 웨이퍼 장착위치를 가지는 서셉터 상에, 외부로부터 전달되는 웨이퍼를 각 각 로딩(loading), 언로딩(unloading)하기 위한 웨이퍼 캐리어에 관한 것으로, 한 점을 중심으로 대응되게 위치하는 복수개의 웨이퍼 장착위치가 정의된 서셉터가 내장되는 챔버에 개재되어, 외부로부터 인입되는 복수개의 웨이퍼를 서셉터의 각 웨이퍼장착위치에 장착하는 배치방식 웨이퍼캐리어로서, 상기 각각의 웨이퍼 장착위치에는 복수개의 상하이동이 가능한, 서로 이격되어 위치하는 제 1 및 제 2 리프트핀과, 상기 제 1 및 제 2 리프트핀 보다 상기 한 점과의 거리가 작은 제 3 리프트핀이 위치하며, 상기 배치방식 웨이퍼 캐리어는 상기 한 점 위치에 회전가능하게 장착된 수직봉과; 상기 수직봉에 직각방향으로 배열되고 끝단이 상기 제 1 및 제 2 리프트핀의 안쪽에 위치하며, 상기 제 3 리프트핀에 대응되는 위치에 상기 제 3 리프트핀이 안착될 수 있는 우묵부가 형성된 아암을 포함하는 배치방식 웨이퍼 캐리어를 제공하여 보다 개선된 웨이퍼의 로딩 언로딩을 가능하게 한다.

Description

배치방식 웨이퍼 이송장치{Batch Type Wafer carrier}
본 발명은 반도체 제조장치에 관한 것으로, 좀 더 자세하게는 복수개의 웨이퍼 장착위치가 형성된 서셉터(susceptor)가 설치된 배치형 챔버형 장치에 있어서, 외부로부터 순차적으로 전달되는 복수개의 웨이퍼를 각각의 웨이퍼 장착위치로 로딩(loading)하거나, 언로딩(unlaoding)하는 웨이퍼 캐리어(waper carrier)에 관한 것이다.
근래에 들어 과학이 발달함에 따라서, 새로운 물질을 개발하는 신소재 분야의 개발에 힘입어 신 물질 개발이 가속화되었고, 이와 더불어 이러한 신소재 물질의 처리방법 또한 급속도로 발전되어 산업의 전반에 응용되고 있다. 특히 이러한신소재 물질의 개발 및 이의 처리방법의 발전은 반도체 분야에서 적용되어 초고밀도 집적회로(ULSI:Ultra Large Scale Integration) 등을 구현하는 것이 가능하게 되었다. 반도체 소자란, 웨이퍼 상에 수 차례에 걸친 박막의 증착공정과, 이러한 박막을 목적에 따라 처리하는 다수의 박막처리공정을 통하여 구현되는데, 이러한 박막의 증착 및 처리공정은 통상 밀폐된 반응 용기인 챔버내에서 이루어진다.
이러한 챔버를 포함하는 챔버형 장치는 목적하는 공정에 따라 다양하게 구분되나, 통상 웨이퍼 상에 박막을 증착하거나 또는 박막의 처리 등 직접적인 공정이 이루어지는 밀폐된 반응용기인 챔버와, 이러한 챔버내에 목적하는 공정이 원활히 진행될 수 있도록 적절한 환경을 부여하는 환경조절장치와, 웨이퍼의 처리를 위하여 필요한 가스물질을 저장하고 이를 챔버내로 공급하는 가스 저장공급장치를 포함하여 이루어진다.
이때 반응용기인 챔버는 통상 도 1 과 같이 구성되는데, 이의 벽면에는, 외부로부터 처리대상물인 웨이퍼가 들어오고 나갈 수 있는 통로인 슬롯밸브(2)와, 그 내부의 기체를 배출하기 위한 배출구(6)등을 가지고 있다. 또한 챔버(1)의 내부에는 전술한 가스공급장치에 저장된 다수의 가스가 인입되어 챔버의 전면적으로 분산되는 가스 분사장치(4)와, 처리대상물인 웨이퍼가 장착되는 웨이퍼 테이블(8)이 위치하는데, 일반적으로 챔버내에서 이루어지는 웨이퍼의 가공 및 처리공정은 가스물질의 화학적 반응을 이용하므로 반응속도의 향상과 보다 개선된 박막구현을 위하여 웨이퍼 테이블 상에 웨이퍼가 장착되는 장착위치에는 그 내부에 웨이퍼의 가열을 위한 히터(haeter)를 가지고 있는 서셉터(susceptor : 10)가 설치된다.
이러한 서셉터(10)는 웨이퍼의 지지 및 온도를 제어하는 역할을 하는 원판 형태의 장치로, 통상 그래파이트 또는 흑연 등의 탄소 물질로 이루어지며, 그 내부에는 웨이퍼의 가열을 위한 히터와, 웨이퍼의 로딩(loading), 언로딩(unloading) 작업을 원활이 진행가지 위한 다수개의 수직 연동하는 리프트 핀이 포함된다.
이러한 구성을 가지는 챔버내에서는, 처리대상물인 웨이퍼가 챔버내로 인입되어 서셉터 상에 장착되는 로딩(loading)과정을 통하여 목적하는 공정이 진행되고, 이 후 이러한 처리 완료된 웨이퍼를 챔버 외부로 빼내는 언로딩(unloading)과정이 순차적으로 진행되는데, 이러한 웨이퍼의 로딩, 언로딩 과정을 도면을 통하여 좀 더 자세히 설명한다. 도 2a와 같이 먼저 서셉터(10)에 설치된 복수개의 리프트 핀(12)이 상승한 상태에서 슬롯밸브(2)가 개방이 되고, 이러한 슬롯밸브(2)를 통하여 처리대상물인 웨이퍼가 챔버내로 인입된다.
참고로, 이러한 챔버 내로의 웨이퍼의 인입 및 후술하는 언로딩 과정에서의 웨이퍼의 인출은, 불순물의 영향을 최소화하고 최적의 작업환경 보전을 위하여 통상 수축 및 연장이 가능한 아암(arm)을 가진 로봇(robot)이 사용되는데, 이와 같은 로봇은, 도 2b와 같이 리프트 핀(12)이 상승된 상태에서 슬롯밸브(2)가 개방되면, 챔버외부에서 슬롯밸브(2)를 통하여 챔버의 내부로 웨이퍼(20)를 가지고 들어와 상승된 리프트핀(12)위에 웨이퍼(20)를 올려놓게 된다.
이후 로봇의 아암이 슬롯밸브(2)를 통하여 빠져나가면, 도 2c와 같이 슬롯밸브(2)가 닫히고, 이후 웨이퍼(20)를 지지하고 있는 다수의 리프트핀(12)이 하강하여 웨이퍼(20)를 서셉터(10)상에 장착한다. 이러한 웨이퍼의 로딩이 이루어지면 챔버내에서는 웨이퍼의 처리가 진행되고, 이후 전술한 로딩의 반대의 과정 즉, 웨이퍼를 지지하는 리프트핀이 상승하여 슬롯밸브가 개방된 후에 웨이퍼가 챔버외부로 빠져 나감으로서 웨이퍼의 언로딩과정이 이루어진다.
근래에는 생산성의 향상을 위하여, 하나의 챔버내에 복수개의 웨이퍼를 수평적으로 배열한 후, 한번의 처리공정으로 다수의 웨이퍼를 동시에 처리하는 배치(batch)형 챔버가 제공되었는데, 이러한 배치형 챔버 장치의 내부에는 웨이퍼가 장착되는 웨이퍼 장착위치가 다수개 정의된다. 이러한 복수개의 웨이퍼 장착위치는, 도 3a와 같이 테이블(10a) 상에 각각 웨이퍼 장착위치가 정의된 복수개의 서셉터(11a)를 사용하거나, 또는 도 3b와 같이 웨이퍼 장착위치(11b)가 정의된 하나의 서셉터(10b)가 사용되기도 하는데, 이 각각의 경우에 웨이퍼 장착위치(11a, 11b)에는 웨이퍼의 상승, 하강을 위한 리프트핀(12)이 포함되어 있다.
이와 같은 복수개의 장착위치를 가지는 챔버의 내부에는, 복수개의 웨이퍼가 인입되는데, 이러한 복수개의 웨이퍼를 각 웨이퍼 장착위치에 로딩 언로딩하기 위하여 여러 가지 방법이 개발되어 사용중이다. 그 중 한 방법으로 복수개의 웨이퍼를 상하 복층으로 적층 가능한 다수개의 적층된 아암을 가지는 로봇을 사용하는 방법이 있다.
즉, 도 4a에 개략적으로 도시한 것과 같이 상하 복층으로 적층된 아암 및 캐치플레이트(14)를 가지는 로봇(13)을 사용하여, 복수개의 웨이퍼를 한번에 슬롯밸브를 통하여 챔버내로 인입하고, 챔버내에 인입된 상태에서 각각의 아암 및 캐치플레이트(14)를 부채꼴 형상으로 펼쳐, 웨이퍼의 장착위치에 위치맞춤하여 리프트핀위에 올려놓는 방법이 사용되기도 한다. 그러나 이러한 경우에는 적층된 아암이 인입될 수 있도록 챔버의 측벽에 설치된 슬롯밸브의 크기 확장 역시 필수적인데, 이러한 슬롯 밸브의 크기 확장은 챔버내의 고유한 환경을 해쳐, 공정의 안정도를 해칠 수 있게 된다.
또한 도 4b와 같이 웨이퍼 테이블(8)상에 회전 가능한 디스크 원판(16)을 설치하고, 이러한 디스크 원판(16) 상에 복수개의 웨이퍼 장착위치(10c)를 구성하여, 디스트 원판(16)을 회전시키면서 각각 웨이퍼를 장착하는 방법이 사용되기도 한다. 그러나 이 경우에 웨이퍼가 장착되는 각각의 웨이퍼장착위치(10c)에는 웨이퍼의 가열을 히터와, 웨이퍼를 수직 연동하기 위한 다수의 리프트 핀(12)이 각각 설치되어야 하므로, 웨이퍼 테이블(8)로부터 독립된 디스크 원판상(16)에 전술한 장치의 구성을 하는 것이 매우 복잡하게 된다.
또한 외부로부터 인입되는 웨이퍼를 전달받아 이를 각 웨이퍼 장착위치에 분배하는 웨이퍼 캐리어를 챔버내에 개재하는 방법이 사용되기도 하는데, 이는 도 4c와 같이 수축, 연장이 가능한 다수의 아암(14b)을 가지는, 회전가능한 웨이퍼 캐리어(22)를 챔버내에 설치하여, 외부로부터 인입된 웨이퍼를 받아 이를 각 장착위치에 분배하는 방법이다. 그러나 이 경우 역시 챔버내에 개재되는 웨이퍼 캐리어(22)의 구조 및 동작이 복잡하여 챔버의 환경이 오염될 가능성 및 설치를 위한 비용의 증가라는 문제점을 가지고 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 챔버내로 인입되는 다수의 웨이퍼를 각 장착위치에 로딩 또는 언로딩 하기 위하여, 보다 간단한 구성과 단순한 동작을 통하여 안정적인 분배가 가능한 웨이퍼 캐리어를 제공하는 것을 목적으로 한다.
도 1은 일반적인 챔버의 내부구조를 도시한 사시도
도 2a, 2b, 2c 는 각각 일반적인 챔버에 개재되는 서셉터 상에 웨이퍼가 로딩 또는 언로딩 되는 과정을 도시한 동작 구조도
도 3a, 3b는 각각 배치형 챔버내에 개재되는 다수의 웨이퍼 장착위치를 도시한 사시도
도 4a는 일반적인 배치형 챔버내에 복수개의 웨이퍼를 로딩하는 복층 아암을 가지는 로봇을 도시한 사시도
도 4b는 일반적인 배치형 챔버내에 개재되는 회전가능한 원판상에 형성된 웨이퍼 장착위치를 도시한 사시도
도 4c는 일반적인 배치형 챔버내에 개재되는 웨이퍼 캐리어를 도시한 사시도
도 5는 배치형 챔버내에 개재되는 본 발명에 따른 복수개의 웨이퍼 장착위치 및 웨이퍼 캐리어를 도시한 개략 사시도
도 5b는 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어의 측면도
도 6a, 도 6b는 각각 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어에 포함되는 캐치플레이트를 도시한 평면도
도 7a, 7b, 7c, 7d는 각각 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어를 통하여 웨이퍼를 로딩 또는 언로딩하는 과정을 도시한 동작 구조도
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
29 : 서셉터 30 : 웨이퍼캐리어
31 : 아암 및 캐치플레이트 34a : 제 1 및 제 2 리프트핀
34b : 제 3 리프트핀 38 : 웨이퍼장착위치
G : 중심점
본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 복수개의 웨이퍼장착위치가 정의된 서셉터가 내장되고, 상기 복수개의 장착위치는 한 점을 중심으로 대응되게 위치하고, 상하이동이 가능한, 서로 이격되어 위치하는 제 1 및 제 2 리프트핀과, 상기 제 1 및 제 2 리프트핀 보다 상기 한 점과의 거리가 작은 제 3 리프트핀이 설치된 챔버에 개재되어 외부로부터 인입되는 복수개의 웨이퍼를 서셉터의 각 웨이퍼장착위치에 장착하는 배치방식 웨이퍼캐리어로서, 상기 한 점 위치에 회전가능하게 장착된 수직봉과; 상기 수직봉에 직각방향으로 배열되고 끝단이 상기 제 1 및 제 2 리프트핀의 안쪽에 위치하며, 상기 제 3 리프트핀에 대응되는 위치에 상기 제 3 리프트핀이 안착될 수 있는 우묵부가 형성된 아암을 포함하는 배치방식 웨이퍼 캐리어를 제공한다.
이때 본 발명은 상기 복수개의 웨이퍼가 각각 장착되는 복수개의 웨이퍼장착위치는 복수개의 서셉터에 각각 정의되거나 또는 하나의 서셉터 상에 정의되는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은 상기 아암의 끝단에 그 위에 웨이퍼가 놓일수 있도록 절곡되어 있거나 또는 상기 아암의 끝단은 그 위에 웨이퍼가 놓일수 있도록 복수개의 브랜치로 갈라진 배치방식 웨이퍼캐리어를 제공한다.
또한 이때 상기 복수개의 웨어퍼장착위치는 3개인 것을 특징으로 한다.
이하 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 통하여 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어가 장치되는 챔버는 일반적인 반도체 소자의 박막증착 및 이러한 박막의 처리가 일어나는 배치형 챔버와 동일한 구성을 가지므로 동일 기능을 하는 요소에 대해서는 동일부호를 부여하여 설명한다. 본 발명에 따른 복수개의 웨이퍼 장착위치 및 웨이퍼 캐리어는 웨이퍼 테이블 상에 장착되는 것을 특징으로 하는데, 이러한 웨이퍼 테이블에는 그 상부에 다수의 웨이퍼가 각각 장착되는 다수개의 웨이퍼장착위치를 가지는 서셉터가 설치된다. 이 때 이러한 서셉터는 통상의 경우와 동일하게 복수개의 장착위치를 가지는 하나의 서셉터나 또는 각각 웨이퍼가 장착되는 웨이퍼 장착위치를 가지는 복수개의 서셉터를 사용하는 것도 가능한데(도 3a, 도 3참조), 따라서, 이하 본 발명의 설명의 편의를 위하여, 어느 하나의 경우를 예를 들어 설명하더라도, 이는 본 발명을 한정하지는 않음은 이하의 설명과 청구범위에 의하여 당업자에게는 자명한 사실이 될 것이다.
도 5a와 같이, 본 발명에 따른 테이블 상에 설치되는 복수개의 웨이퍼장착위치(28)는 테이블상의 한 점(G)을 중심으로 하여, 서로 일정한 간격을 두고 서로 대응 되도록 배열되며, 각각의 웨이퍼 테이블의 장착위치(28)에는 그 내부에 소정의 높이 까지 수직 연동이 가능한 복수개, 바람직하게는 세 개의 리프트 핀(34a, 34b)이 설치되어 있다.
이때 웨이퍼장착위치(28)는 생산성의 향상을 위하여 두 개 이상인 것이 바람직하다. 또한 리프트핀(34)의 개수는 세 개 이상인 경우도 가능한데, 이 경우에 한 점(G)으로부터 가까운 거리에 위치하는 하나의 리프트핀(34b)과, 후술하는 웨이퍼캐리어의 아암보다 한 점(G)으로부터 먼 거리에 위치하는 다수개의 리프트핀으로 구성될 수 있지만, 안정적인 공정을 위하여 리프트핀(34)은 세 개가 가장 바람직하다. 또한 각 장착위치(28)에 설치되는 세 개의 리프트핀(34a, 34b)은 상기 중심 점(G)을 기준으로 그려지는 서로 다른 반지름을 가지는 가상의 두개의 원주(실선으로 표시)상에 배열되는 것을 특징으로 하는데, 즉 한 점(G)으로부터 먼거리에 위치하는 원주상에는 두 개의 리프트핀(34a)이 일정정도의 거리를 두고 이격되어 위치하며, 이보다 작은 원의 원주상에 하나의 리프트핀(34b)이 위치한다.
이후 설명의 편의를 위하여 중심점(G)을 기준으로, 보다 외각에 위치하는 두 개의 리프트핀을 제 1 및 제 2 리프트핀(34a)이라 하고 그 내부에 위치하는 원주상에 대응되는 하나의 리프트핀을 제 3 리프트핀(34b)이라 하며, 각 리프트핀의 이격거리는 하나의 제 3 리프트핀(34b) 및 두 개의 제 1 및 제 2 리프트핀(34a)에 의하여 그 상부에 웨이퍼가 지지될 수 있을 정도가 바람직하다.
이러한 제 1 및 제 2 리프트핀(34a)과 제 3 리프트핀(34b)을 각각 가지는 복수개의 웨이퍼 장착위치(28)의 중심점(G)에는, 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어(30)가 장착되는데, 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어(30)는, 바람직하게는 도 5b와 같이, 상기 한점에(G)에 수직 설치되는 하나의 수직봉(33)과, 그 상부에 상기 복수개의웨이퍼 장착위치(28)와 각각 대응되는 위치에 펼쳐 배열되는 다수개의 아암(31)으로 구성된다. 이때 이러한 웨이퍼 캐리어의 높이는 전술한 각각의 리프트핀(34)의 최대 상승높이 보다 낮으며, 상기 수직봉(33)은 회전이 가능하여 그 말단에 연결되는 각 아암 또한 회전가능한 것을 특징으로 한다. 또한 본 발명에 따른 웨이퍼 케리어는 다수개의 아암(31)의 끝단에, 각각 그 위에 웨이퍼를 지지할 수 있는 캐치플레이트가 위치하는데, 일례로 이는 도 6a 와 같이 아암의 끝단을 소정의 형태로 절곡하여, 그 위에 웨이퍼를 지지할 수 있는 형상을 가지게 하거나, 또는 6b와 같이 다수개의 부채꼴 형상으로 펼쳐진 브랜치(branch) 형태로 구성될 수 있지만 특히 이들 각각의 경우에 있어서, 캐치플레이트(32)는 제 1 및 제 2 리프트핀(34)과 제 3 리프트핀의 사이에 위치한다.(도 5, 7a, 7b 참조)
또한 아암(31)의 회전에 의하여 제 3 리프트핀(34b)이 대응하는 위치에는 제 3 리프트핀(34b)이 그 내부에 안착될 수 있도록 한쪽방향을 향한 우묵부(31a, 31b)가 형성되어 있는데, 즉, 후술하는 웨이퍼의 로딩 또는 언로딩 과정에서 리프트 핀(34)이 상승된 상태로 웨이퍼 캐리어(30)가 회전할 경우에, 각각의 아암(31)과 리프트 핀(34)과의 충돌을 방지하기 위하여 캐치플레이트(32)는 제 1 및 제 2 리프트핀(34a)의 안쪽에서 회전할 수 있을 정도의 작은 길이를 가지며, 제 3 리프트핀(34b)이 대응하는 위치에는 우묵부(31a)가 형성되어 그 내부로 제 3 리프트핀(34b)이 안착된다.
전술한 구성을 가지는 본 발명에 따른 웨이퍼 케리어가 장착된 챔버형 장치내에서 외부로부터 전달받은 웨이퍼를 각각의 웨이퍼장착위치에 장착하거나 또는처리가 종료된 웨이퍼를 외부로 언로딩하는 과정을 도 7a∼7d를 통하여 설명한다.
이때 외부로부터 챔버 내부로 웨이퍼를 인입하는 것을 통상의 아암을 가지는 로봇(미도시)이 사용될 수 있는데, 먼저 도 7a와 같이 웨이퍼 장착위치에 위치한 리프트핀(34)이 하강한 상태에서 챔버의 측면에 위치한 슬롯밸브(2)가 개방된다. 이 후 개방된 슬롯밸브(2)를 통하여 챔버외부의 로봇이 순차적으로 웨이퍼(20)를 인입하여 회전하는 웨이퍼캐이어(30)의 아암의 캐치플레이트(32)상에 각각 올려놓게 된다.
이러한 웨이퍼 캐리어(30)의 각 캐치플레이트(32)로의 웨이퍼(20) 전달이 이루어지면 슬롯밸브(2)가 닫혀, 챔버는 밀폐된 공간을 이루며, 이후 웨이퍼캐리어(30)의 회전에 의하여 도 7b와 같이 캐치플레이트(32)상의 웨이퍼(20)는 각 웨이퍼장착위치(28)에 위치맞춤된다. 이후 각 웨이퍼 장착위치(28)에 위치한 리프트핀(34a, 34b)이 상승하여 캐치플레이트(32)상의 웨이퍼(20)를 전달받게 되는데, 전술한 바와 같이 리프트핀(34a, 34b)의 상승높이는 웨이퍼캐리어의 아암 및 캐치플레이트(32)의 높이보다 크므로 리프트핀(34a, 34b)은 웨이퍼캐리어(30)로부터 웨이퍼(20)를 전달받아 웨이퍼캐리어(30)의 캐치플레이트(32)의 위쪽에서 웨이퍼(20)를 지지한다. 특히 이때 제 3 리프트핀(34b)은 웨이퍼캐리어(30)의 아암상에 형성된 우묵부(31)의 내부에 안착된 상태에서 웨이퍼(20)를 지지하게 된다.(도 7c 참조)
이와 같이 웨이퍼(20)를 지지한 상태로 리프트핀(34)의 상승이 완료되면, 웨이퍼캐리어(30)는 우묵부(31)의 반대방향으로 회전하여 도 7d와 같이 아암 및 캐치플레이트(32)가 웨이퍼 장착위치(28)들의 사이에 위치하게 되는데, 이때 웨이퍼 케리어(30)의 아암 및 캐치플레이트(32)는 제 1 및 2 리프트핀(34a)의 안쪽에 위치하고, 제 3 리프트핀(34b)은 우묵부(31)를 통하여 빠져나갈 수 있으므로 웨이퍼캐리어(30)의 회전은 리프트핀(34a, 34b)에 방해를 받지 않게 된다. 이와 같이 웨이퍼캐리어(30)의 회전으로 아암 및 캐치플레이트(32)가 웨이퍼장착위치의 중간으로 각각 배치되면 리프트핀(34a, 34b)이 하강하여 웨이퍼(20)를 웨이퍼 장착위치(28)에 장착함으로써 로딩이 이루어지게 된다.
이후 진행되는 웨이퍼의 처리과정에서 웨이퍼캐리어의 아암은 웨이퍼장착위치의 중간에 위치하게 되므로 웨이퍼의 저리공정은 원활하게 진행되는 것이 가능하다. 또한 웨이퍼의 처리공정이 완료되면, 웨이퍼의 언로딩과정이 진행되는데 이는 전술한 로딩의 역순, 즉 웨이퍼를 지지하는 리프트핀이 상승한 후, 서셉터와 웨이퍼사이에 위치하는 웨이퍼캐리어가 회전하여 그 중간에 위치하고 이러한 웨이퍼캐리어의 캐치플레이트상에 리프트핀의 하강으로 인하여 각각 웨이퍼가 전달된다.
이후 슬롯밸브가 열리게 되면 외부로부터 인입된 로봇에 회전하는 웨이퍼 캐리어가 순차적으로 각 웨이퍼를 전달함으로써 언로딩과정을 진행하게 된다.
본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어를 통한 웨이퍼의 로딩 및 언로딩 방법은, 웨이퍼 캐리어가 단순한 운동인 회전운동만을 진행하므로 챔버내의 고유한 환경의 저하 및 파티클의 발생가능성을 최소화 하여 안정적인 공정의 진행이 가능하게 된다.
또한 외부로부터 웨이퍼를 전달하는 로봇은 웨이퍼를 한 장씩 가지고 들어오므로 슬럿밸브의 크기를 일반적인 복층형 로봇을 사용하는 경우보다 축소가 가능하며 또는 리프트핀과 외부의 로봇사이에서 웨이퍼를 전달하는 웨이퍼 캐리어가 장착되어 로봇의 상승 하강운동의 거리를 짧게 할 수 있어, 슬롯밸브의 크기는 더욱 축소하는 것이 가능하며 이는 챔버내에 조성된 고유한 환경의 변화를 최소화 할 수 있어 보다 신뢰성있는 반도체 소자의 형성을 가능하게 한다.

Claims (5)

  1. 복수개의 웨이퍼장착위치가 정의된 서셉터가 내장되고, 상기 복수개의 장착위치는 한 점을 중심으로 대응되게 위치하고, 상하이동이 가능한, 서로 이격되어 위치하는 제 1 및 제 2 리프트핀과, 상기 제 1 및 제 2 리프트핀 보다 상기 한 점과의 거리가 작은 제 3 리프트핀이 설치된 챔버에 개재되어 외부로부터 인입되는 복수개의 웨이퍼를 서셉터의 각 웨이퍼장착위치에 장착하는 배치방식 웨이퍼캐리어로서,
    상기 한 점 위치에 회전가능하게 장착된 수직봉과;
    상기 수직봉에 직각방향으로 배열되고 끝단이 상기 제 1 및 제 2 리프트핀의 안쪽에 위치하며, 상기 제 3 리프트핀에 대응되는 위치에 상기 제 3 리프트핀이 안착될 수 있는 우묵부가 형성된 아암
    을 포함하는 배치방식 웨이퍼 캐리어
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수개의 웨이퍼가 각각 장착되는 복수개의 웨이퍼장착위치는 복수개의 서셉터에 각각 정의되거나 또는 하나의 서셉터 상에 정의되는 배치방식 웨이퍼 캐리어
  3. 청구항 1에 있어서
    상기 아암의 끝단은 그 위에 웨이퍼가 놓일수 있도록 절곡되어 있는 배치방식 웨이퍼 캐리어
  4. 청구항 1에 있어서
    상기 아암의 끝단은 그 위에 웨이퍼가 놓일수 있도록 복수개의 브랜치로 갈라진 배치방식 웨이퍼캐리어
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수개의 웨어퍼장착위치는 3개인 배치방식 웨이퍼캐리어
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