JP6197118B2 - 硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法 - Google Patents

硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6197118B2
JP6197118B2 JP2016536164A JP2016536164A JP6197118B2 JP 6197118 B2 JP6197118 B2 JP 6197118B2 JP 2016536164 A JP2016536164 A JP 2016536164A JP 2016536164 A JP2016536164 A JP 2016536164A JP 6197118 B2 JP6197118 B2 JP 6197118B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
curable
silsesquioxane polymer
groups
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2016536164A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017508013A (ja
Inventor
ジテンドラ エス. ラソア,
ジテンドラ エス. ラソア,
バブ エヌ. ガッダム,
バブ エヌ. ガッダム,
ミェチスワフ エイチ. マズレク,
ミェチスワフ エイチ. マズレク,
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Innovative Properties Co
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of JP2017508013A publication Critical patent/JP2017508013A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6197118B2 publication Critical patent/JP6197118B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/045Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen

Description

発明の詳細な説明
[概要]
本開示は、硬化性シルセスキオキサンポリマー、かかるポリマーを含む組成物、層を有し、その層上に硬化性ポリマー及び/又は硬化ポリマーが配置された物品、並びに硬化コーティングの形成方法を提供する。
1つの実施形態では、本開示は、以下の式を有する三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンポリマーを提供する、

(式中、における酸素原子は、三次元分岐状ネットワーク内で、別のSi原子と結合し、Rは、エチレン性不飽和基を含む有機基であり、R2は、エチレン性不飽和基ではない有機基であり、R3は、非加水分解性基であり、n又はn+mは3よりも大きい整数である。)
1つの実施形態では、本開示は、式:Z−Y−Si(Rを有する化合物の反応生成物である三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンポリマーを提供し、式中、Yは、結合基又は、アルキレン、アリーレン、アルキルアリーレン、及びアラアルキレンから選択される二価基であり、Zは、ビニル基、ビニルエーテル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、及び(メタ)アクリロイルアミノ基から選択されるエチレン性不飽和基であり、各R基は独立して加水分解性基であり、ここで、加水分解性基の反応生成物は、OSi(R[式中、Rは、非加水分解性基である。]に変換される。
別の実施形態では、前述の式:Z−Y−Si(Rを有する化合物と、式:X−Y−Si(Rを有する化合物との縮合反応である三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンポリマーが提供され、式中、各R基及びYは、前述と同じであり、Xは、水素、並びに、アルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、又はエチレン性不飽和基ではない反応性基、又はこれらの組み合わせから選択される基である。アルキル基は、任意に、フルオロアルキルの場合などにおいて、置換基(例えば、ハロゲン)を含み得る。
いくつかの実施形態では、シルセスキオキサンポリマーは、−OH基などの加水分解された基を含まない。他の実施形態では、シルセスキオキサンポリマーは、典型的には、5重量%以下の量で加水分解された基を更に含む。
1つの実施形態では、(例えば、フリーラジカル)光開始剤及び本明細書に記載されるような硬化性シルセスキオキサンポリマーを含む硬化性組成物が記載されている。別の実施形態では、白金触媒などのヒドロシリル化触媒、任意にポリヒドロシロキサン架橋剤、及び本明細書に記載されるような硬化性シルセスキオキサンポリマーを含む硬化性組成物が記載されている。特定の実施形態では、硬化性組成物は、任意にナノ粒子を含み得る。特定の実施形態では、硬化性組成物は、任意に有機溶媒を含み得る。
1つの実施形態では、本開示は、基材及び本開示の硬化性組成物を基材の少なくとも一方の面の少なくとも一部分上に配置した層中に含む物品を提供する。
1つの実施形態では、本開示は、基材及び本明細書に記載されるような硬化性組成物をUV硬化及び/又は熱硬化することで調製される硬化コーティング層を基材の少なくとも一方の面の少なくとも一部分上に配置した層中に含む物品を提供する。
1つの実施形態では、本開示は、基材表面に硬化コーティングを作成する方法を提供する。1つの実施形態では、本方法は、少なくとも一方の基材表面の少なくとも一部分上に本開示の硬化性組成物を塗布することと、塗布された硬化性組成物を、有機溶媒(存在する場合)を硬化性組成物から蒸発させることを可能にする条件下で任意に曝すことと、硬化性組成物をUV硬化及び/又は熱硬化することと、を含む。
実施例EX−1及び比較例CE−1の熱重量分析(TGA)曲線を示す。
[詳細な説明]
本明細書で使用するとき、用語「有機基」は、脂肪族基、環状基又は脂肪族基と環状基との組み合わせ(例えば、アルキルアリール及びアリールアルキル基)として分類される、炭化水素基(酸素、窒素、硫黄、ケイ素、及びハロゲンなどの炭素及び水素以外の任意の元素を含む)を意味する。本発明の文脈において、有機基は、硬化性シルセスキオキサンの形成を妨げないものである。用語「脂肪族基」は、飽和又は不飽和の直鎖又は分枝鎖炭化水素基を意味する。この用語は、例えばアルキル、アルケニル、及びアルキニル基を包含する。用語「アルキル基」は以下で定義される。用語「アルケニル基」は、ビニル基などの1つ以上の炭素−炭素二重結合を有する不飽和の、直鎖又は分枝鎖炭化水素基を意味する。用語「アルキニル基」は、1つ以上の炭素−炭素三重結合を有する不飽和の、直鎖又は分枝鎖炭化水素基を表す。用語「環状基」は、脂環式基、芳香族基、又は複素環基として分類される閉環炭化水素基を表す。用語「脂環式基」は、脂肪族基の特性に似た特性を有する環式炭化水素基を意味する。用語「芳香族基」又は「アリール基」は、本明細書中、以下で定義される。用語「複素環基」は、環内の1つ以上の原子が、炭素以外の元素(例えば、窒素、酸素、硫黄など)である閉環炭化水素を意味する。有機基は任意の好適な価数を有し得るが、多くの場合は一価又は二価である。
用語「アルキル」は、アルカンのラジカルである一価の基を意味し、直鎖、分枝鎖、環式、及び二環式のアルキル基並びにこれらの組み合わせである基を含み、これには非置換及び置換両方のアルキル基が含まれる。別段の指示がない限り、アルキル基は一般的には1〜30個の炭素原子を含む。いくつかの実施形態では、アルキル基は1〜20個の炭素原子、1〜10個の炭素原子、1〜6個の炭素原子、1〜4個の炭素原子、又は1〜3個の炭素原子を含有する。アルキル基の非限定的な例としては、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、イソブチル、t−ブチル、イソプロピル、n−オクチル、n−ヘプチル、エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、アダマンチル及びノルボルニルなどが挙げられる。
用語「アルキレン」は、アルカンのラジカルである二価の基を指し、直鎖、分枝鎖、環式、二環式、又はこれらの組み合わせである基を含む。別段の指示がない限り、アルキレン基は、典型的には1〜30個の炭素原子を有する。いくつかの実施形態では、アルキレン基は、1〜20個の炭素原子、1〜10個の炭素原子、1〜6個の炭素原子、又は1〜4個の炭素原子を有する。アルキレン基の非限定的な例としては、メチレン、エチレン、1,3−プロピレン、1,2−プロピレン、1,4−ブチレン、1,4−シクロヘキシレン、及び1,4−シクロヘキシルジメチレンが挙げられる。
用語「アルコキシ」は、アルキル基に直接結合されるオキシ基を有する一価の基を指す。
用語「アリール」は、芳香族であって、任意に炭素環式である一価の基を指す。アリールは、少なくとも1つの芳香環を有する。任意の更なる環は不飽和でも、部分的に飽和していても、飽和していても、又は芳香族であってもよい。任意に、芳香環は、芳香環に縮合される1つ以上の更なる炭素環を有し得る。別段の指示がない限り、アリール基は一般的には6〜30個の炭素原子を含む。いくつかの実施形態では、アリール基は6〜20個、6〜18個、6〜16個、6〜12個、又は6〜10個の炭素原子を含有する。アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、ビフェニル、フェナンスリル、及びアントラシルが挙げられる。
用語「アリーレン」は、芳香族であって、任意に炭素環式である、二価の基を指す。アリーレンは、少なくとも1つの芳香環を有する。任意の更なる環は、不飽和、部分飽和、又は飽和であってもよい。任意に、芳香環は、芳香環に縮合される1つ以上の更なる炭素環を有し得る。別段の指示がない限り、アリーレン基は、多くの場合、6〜20個の炭素原子、6〜18個の炭素原子、6〜16個の炭素原子、6〜12個の炭素原子、又は6〜10個の炭素原子を有する。
用語「アリールアルキル」は、アリール基で置換されたアルキル基である一価の基(例えば、ベンジル基など)を指す。用語「アルキルアリール」は、アルキル基で置換されたアリール基である一価の基(例えば、トリル基など)を指す。別段の指示がない限り、どちらの基においても、アルキル部分は多くの場合1〜10個の炭素原子、1〜6個の炭素原子、又は1〜4個の炭素原子を有し、アリール部分は多くの場合6〜20個の炭素原子、6〜18個の炭素原子、6〜16個の炭素原子、6〜12個の炭素原子、又は6〜10個の炭素原子を有する。
用語「アリールアルキレン」は、アリーレン基に結合されるアリール基又はアルキレン基で置換されたアルキレン基である二価の基を指す。用語「アルキルアリーレン」は、アルキレン基に結合されるアルキル基又はアリーレン基で置換されたアリーレン基である二価の基を指す。別段の指示がない限り、どちらの基においても、アルキル又はアルキレン部分は、典型的には、1〜20個の炭素原子、1〜10個の炭素原子、1〜6個の炭素原子、又は1〜4個の炭素原子を有する。別段の指示がない限り、どちらの基においても、アリール又はアリーレン部分は、典型的には、6〜20個の炭素原子、6〜18個の炭素原子、6〜16個の炭素原子、又は6〜12個の炭素原子、又は6〜10個の炭素原子を有する。
用語「加水分解性基」は、大気圧の条件下で1〜10のpHを有する水と反応し得る基を指す。加水分解性基は、多くの場合、反応の際に、ヒドロキシル基に変換される。典型的な加水分解性基としては、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アルキルアリールオキシ、アシルオキシ、又はハロゲン(直接ケイ素原子に結合する)が挙げられるが、これらに限定されない。加水分解反応によって、加水分解性基から加水分解された基(例えば、ヒドロキシル基)に変換され、縮合反応などの更なる反応を受ける。本明細書で使用するとき、この用語は、多くの場合、シリル基中のケイ素原子に結合する1つ以上の基に関して使用される。
用語「アルコキシ」は、アルキル基に直接結合されるオキシ基を有する一価の基を指す。
用語「アリールオキシ」は、アリール基に直接結合されるオキシ基を有する一価の基を指す。
用語「アリールアルキルオキシ」及び「アルキルアリールオキシ」は、アリールアルキル基又はアルキルアリール基のそれぞれに直接結合されるオキシ基を有する一価の基を指す。
用語「アシルオキシ」は、Rが、アルキル、アリール、又はアリールアルキルである式:−O(CO)R(式中、Rは、アルキル、アリール、アリールアルキル、又はアルキルアリールである)の一価の基を指す。多くの場合、好適なアルキルR基は、1〜10個の炭素原子、1〜6個の炭素原子、又は1〜4個の炭素原子を有する。多くの場合、好適なアリールR基は、例えばフェニルなどの、6〜12個の炭素原子を有する。好適なアリールアルキル及びアルキルアリールR基は、多くの場合、1〜10個の炭素原子、1〜6個の炭素原子、又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、及び6〜12個の炭素原子を有するアリール基を有する。
用語「ハロ」は、フルオロ、ブロモ、ヨード、又はクロロなどのハロゲン原子を指す。ハロ基は、反応性シリルの一部であるとき、多くの場合、クロロである。
用語「(メタ)アクリロイルオキシ基」は、アクリロイルオキシ基(−O−(CO)−CH=CH)及びメタクリロイルオキシ基(−O−(CO)−C(CH)=CH)を含む。
用語「(メタ)アクリロイルアミノ基」としては、アクリロイルアミノ基(−NR−(CO)−CH=CH)及びメタアクリロイルアミノ基(−NR−(CO)−C(CH)=CH)が挙げられ、式中、アミド窒素が水素、メチル基、又はエチル基(RはH、メチル、又はエチル)と結合される実施形態が含まれる。
用語「含む」及びこの変化形は、明細書及び特許請求の範囲においてこれらの用語が用いられる箇所において限定的な意味を有するものではない。
「好ましい」及び「好ましくは」の言葉は、特定の状況下で、特定の利益をもたらし得る本開示の実施形態のことを指す。しかしながら、同様又は他の環境下では、他の実施形態が好ましい場合もある。更に、1つ又は複数の好ましい実施形態の説明は、他の実施形態が有用ではないことを示唆するものではなく、かつ本開示の範囲から他の実施形態を除外することを目的としたものではない。
本出願において、「a」、「an」、及び「the」といった語は、1つの実体のみを指すことを意図したものではなく、その説明のために具体的な例が用いられ得る一般的な部類を含む。「a」、「an」、及び「the」なる語は、「少なくとも1つの」なる語と互換可能に使用される。リストがその後に続く「〜のうちの少なくとも1つ」及び「〜のうちの少なくとも1つを含む」という語句は、リスト内の品目のうちの任意の1つ、及びリスト内の品目のうちの2つ以上の品目の任意の組み合わせを指す。
本明細書で使用するとき、用語「又は」は、内容が明確に他を指示しない限り、概ね、「及び/又は」を含む普通の意で利用される。用語「及び/又は」は、1つ若しくは全ての列挙した要素、又は2つ以上の列挙した要素のいずれかの組み合わせを意味する。
また、本明細書においては、全ての数は「約」という用語で修正されたとみなされ、好ましくは「厳密に」という用語で修正されたとみなされる。本明細書において、測定された量に関連して使用するとき、用語「約」は、測定をし、測定の対象物及び使用された測定装置の精度と同等の水準の注意を行使した当業者によって期待される測定量における変動を指す。
本明細書ではまた、端点による数値範囲の列挙には、範囲並びに端点内に含まれる全ての数が包含される(例えば、1〜5には、1、1.5、2、2.75、3、3.80、4、5、などを含む)。
ある基が本明細書で記載した式中に2回以上存在するとき、各基は特に記載しようとしまいと、「独立に」選択される。例えば、式中に2つ以上のR基が存在するとき、各R基は独立して選択される。更に、これらの基に含まれる下位基も独立して選択される。例えば、各R基がYを含むとき、各Yも独立して選択される。
本明細書で使用するとき、用語「室温」は、約20℃〜約25℃又は約22℃〜約25℃の温度を指す。
シルセスキオキサンは、実験化学式:R’SiO3/2を有する有機ケイ素化合物であって、式中、Siは、ケイ素元素であり、Oは酸素であり、R’は水素、若しくは脂肪族基又は芳香族有機基のいずれかである。したがって、シルセスキオキサンポリマーは、3つの酸素原子に結合されるケイ素原子を含む。ランダムに分岐した構造を有するシルセスキオキサンポリマーは、典型的には室温で液体である。立方体、六角柱、八角柱、十角柱、及び十二角柱のような非ランダム構造を有するシルセスキオキサンポリマーは、典型的には室温で固体である。
上記概要は、開示された各実施形態、又は本開示の全ての実現形態を記載することを意図したものではない。以下の説明は、例示的実施形態をより詳細に例証する。本出願の全体を通じて幾つかの箇所で、実施例のリストによって指針が与えられるが、これらの実施例は異なる組み合わせで使用することができる。いずれの場合も、記載されるリストは、あくまで代表的な群としてのみの役割を果たすものであって、排他的なリストとして解釈するべきではない。
硬化性シルセスキオキサンポリマーは、ホモポリマー又はコポリマーであり得る。本明細書で使用するとき、用語「ポリマー」は、別段の指示がない限り、ホモポリマー及びコポリマーを指す。
1つの実施形態では、本開示は、以下の式を有する三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンポリマーを提供する、

式中、における酸素原子は、三次元分岐状ネットワーク内で、別のSi原子と結合し、Rは、エチレン性不飽和基を含む有機基であり、
は、独立して、非加水分解性基である。典型的な実施形態では、Rは、任意にハロゲン置換基、アリール、又はこれらの組み合わせを含むC〜C12アルキルである。
別の実施形態では、本開示は、以下の式を有する三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンポリマーを提供する。

式中、における酸素原子は、三次元分岐状ネットワーク内で、別のSi原子と結合し、Rは、エチレン性不飽和基を含む有機基であり、
R2は、エチレン性不飽和基ではない有機基であり、Rは、非加水分解性基であり、n又はn+mは3よりも大きい整数である。)
三次元分岐状ネットワークという用語は、分岐したシルセスキオキサンポリマーを指す。分岐状シルセスキオキサンポリマーは、架橋可能なエチレン性不飽和基を含む。したがって、分岐状シルセスキオキサンポリマーは、ゲル化点にまだ到達していない前駆体であるとみなされ得る。
硬化性シルセスキオキサンポリマーの特定の実施形態では、Rは、エチレン性不飽和基を含む有機基である。硬化性シルセスキオキサンポリマーの特定の実施形態では、以下に記載されるように、Rは、式Y−Zを有する。
硬化性シルセスキオキサンポリマーの特定の実施形態では、R2は、エチレン性不飽和基を含まない有機基である。硬化性シルセスキオキサンポリマーの特定の実施形態では、以下に記載されるように、R2は、式Y−Xを有する。
SSQポリマーは、少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む。したがって、nは少なくとも2の整数であり、いくつかの実施形態では、少なくとも3、4、5、6、7、8又は9の整数である。実施形態において、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、n及びm単位の両方を含むコポリマーであって、mは少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9であり、n+mの総計は3又は3を超える整数である。特定の実施形態では、n、m、又はn+mは、少なくとも10、15、20、25、30、35、40、45、又は50の整数である。特定の実施形態では、n又はmは、500以下、450以下、400以下、350以下、300以下、250以下、又は200以下の整数である。したがって、n+mは最大で1000である。特定の実施形態では、n+mは、175以下、150以下、又は125以下の整数である。いくつかの実施形態では、n及びmは、コポリマーがエチレン性不飽和基Rを含む繰り返し単位を少なくとも25、26、27、28、29、又は30モル%含むように選択される。いくつかの実施形態では、n及びmは、コポリマーがエチレン性不飽和基Rを含む繰り返し単位を85モル%以下、80モル%以下、75モル%以下、70モル%以下、65モル%以下、又は60モル%含むように選択される。
いくつかの実施形態では、シルセスキオキサンポリマーは、−OH基などの加水分解された基を含まない。他の実施形態では、シルセスキオキサンポリマーは、−OH基などの加水分解された基を含まない。いくつかの実施形態では、加水分解された基(例えば、−OH基)の量は、15、10、又は5重量%以下である。更に他の実施形態では、加水分解された基(例えば、−OH基)の量は、4、3、2、又は1重量%以下である。シルセスキオキサンポリマー及び前述のようなものを含む硬化性組成物は、高濃度の−OH基を有する硬化性シルセスキオキサンポリマーと比較して、貯蔵寿命及び熱安定性の向上を示し得る。
図1を参照すると、実施例において更に記載されるように、−OH基の濃度を低減させることで、熱重量分析によって測定され得る際、加熱時に、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、実質的な重量減少の低下を示し得る。いくつかの実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、200℃において、90%未満、91%未満、92%未満、93%未満、94%未満、95%未満、96%未満、97%未満、99%未満、又は98%未満の重量減少を有する。更には、いくつかの実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、300℃〜400℃にわたる温度において、85%未満、90%未満、又は95%未満の重量低減を有する。いくつかの実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、500℃において、80%未満、85%未満、又は90%未満の重量減少を有する。
1つの実施形態では、本開示は、式:Z−Y−Si(Rを有する化合物の反応生成物である三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンポリマーを提供する。この実施形態では、Rは、式:Y−Zを有する。
別の実施形態では、本開示は、式:Z−Y−Si(Rを有する化合物とびX−Y−Si(Rを有する化合物との反応生成物である三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンコポリマーを提供する。この実施形態では、Rは式Y−Zを有し、R2は式Y−Xを有する。
Y基は、共有結合(上記の式で示される通り)であるか、又はアルキレン基、アリーレン基、アルキルアリーレン(alkyarylene)基、及びアリールアルキレン基から選択される二価の有機基である。特定の実施形態では、Yは、(C1〜C20)アルキレン基、(C6〜C12)アリーレン基、(C6〜C12)アルキル(C1〜C20)アリーレン基、(C6〜C12)アリール(C1〜C20)アルキレン基、又はこれらの組み合わせである。Yは、任意に、酸素、窒素、硫黄、ケイ素、又はハロゲン置換基、及びこれらの組み合わせを(例えば、連続して)更に含み得る。いくつかの実施形態では、Yは、熱安定性が低いことがある酸素又は窒素置換基を含まない。
Z基は、ビニル基、ビニルエーテル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、及び(メタ)アクリロイルアミノ基から選択されるエチレン性不飽和基である(窒素が、任意にメチル又はエチルなどのアルキルで置換される実施形態を含む)。特定の実施形態では、Zはビニル基である。Yがアルキレンであり、Zがビニル基である場合、Y−Zはアルケニル基である。かかるアルケニル基は、式:(HC=CH(CH−、[式中、−(CH)nは、上記で定義されるようなアルキレンである。]を有してもよい。
X基は、水素、又は任意にハロゲン又は他の置換基を含むアルキル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキルから選択される(一価)有機基、又は、エチレン性不飽和基ではない反応性基である。Xは、任意に、(例えば、連続して)酸素、窒素、硫黄、ケイ素、置換基を更に含み得る。いくつかの実施形態では、Xは、(C4〜C6)フルオロアルキル、(C6〜C12)アリール基、(C6〜C12)アルキル(C1〜C20)アリール基、(C6〜C12)アリール(C1〜C20)アルキル基などの任意にハロゲン化された(C1〜C20)アルキル基、エチレン性不飽和基ではない反応性基、又はこれらの組み合わせである。いくつかの実施形態では、Xはエポキシド環を含む。
硬化性シルセスキオキサンポリマーは、式:Z−Y−Si(Rの反応体の加水分解及び縮合によって作成され得る。かかる反応体の例としては、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルフェニルプロピルトリエトキシシラン、3−ブテニルトリエトキシシラン、ドコセニルトリエトキシシラン、及びヘキセニルトリエトキシシランが挙げられる。かかる反応体の縮合は、実施例の項で例示される通り、従来技術を使用して実行され得る。いくつかの実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、式:Z−Y−Si(R及びX−Y−Si(Rの反応体の加水分解及び縮合によって作成される。
式:Z−Y−Si(R及びX−Y−Si(Rのそれぞれにおいて、Rは、独立して、加水分解中、−OHなどの加水分解された基に変換される加水分解性基である。Si−OH基は、多くのケイ素原子が3つの酸素原子に結合されるように、互いに結合してケイ素−酸素結合を形成する。加水分解後、−OH基は、末端封止剤と反応して、加水分解された基、例えば、−OH、を−OSi(Rに変換する。シルセスキオキサンポリマーは、末端封止後、式:−Si(Rを有する末端基を含む。
様々なアルコキシシラン末端封止剤が既知である。いくつかの実施形態では、末端封止剤は、一般構造:ROSi(R又はO[Si(Rを有し、式中、Rは、メトキシ又はエトキシなどの加水分解性基であり、Rは、独立して非加水分解性基である。したがって、いくつかの実施形態では、Rは、一般的には、ケイ素原子に直接結合される酸素原子又はハロゲンを含まない。したがって、Rは、一般的には、アルコキシ基を含まない。Rは、独立して、アルキル、アリール(例えば、フェニル)、又はこれらの組み合わせ(例えば、アリールアルキレン、アルキルアリーレン)であり、任意にハロゲン置換基(例えば、クロロ、ブロモ、フルオロ)を含む。任意に置換されるアルキル基は、直鎖、分枝鎖、又は環状構造を有し得る。いくつかの実施形態では、Rは、任意にハロゲン置換基を含むC〜C12又はC〜Cアルキルである。Rは、任意に、酸素、窒素、硫黄、又はケイ素置換基を(例えば、連続して)含み得る。いくつかの実施形態では、Rは、熱安定性が低いことがある酸素又は窒素置換基を含まない。
末端封止剤の実例における非限定的なリスト及び生じるR基は以下の通りである:
末端封止に先だって、式:Z−Y−Si(Rの反応体から調製される代表的なポリマーは、以下の通りである:
かかる式:Z−Y−Si(Rの反応体から作成されるポリマーは、ポリ(ビニルシルセスキオキサン)(A)、ポリ(アリルシルセスキオキサン)(B)、ポリ(アリルフェニルプロピルシルセスキオキサン)(C)、ポリ(3−ブテニルシルセスキオキサン)(D)、ポリ(ドコセニルシルセスキオキサン)(E)、及びポリ(ヘキセニルシルセスキオキサン)(F)である。
1つの命名規則において、末端封止剤から誘導されるR基は、ポリマーの名称に含まれる。エトキシトリメチルシランで末端封止された、本開示の1つの例示的な硬化性シルセスキオキサンポリマーは、以下の一般式を有するトリメチルシリルポリ(ビニルシルセスキオキサン)である。

ここで、上記の式中の*における酸素原子は、三次元分岐状ネットワーク内で別のSi原子と結合されている。かかる三次元分岐状ネットワーク構造は、以下の通りに示される。
他の実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、式:Z−Y−Si(Rの2つ以上の反応体から作成され得る。例えば、ビニルエトキシシラン又はアリルトリエトキシシランは、3−ブテニルトリエトキシシラン及びヘキセニルトリエトキシシランと共反応され得る。本実施形態では、シルセスキオキサンポリマーは、少なくとも2つの異なるZ基(例えば、Z’及びZ”)、更には同じY基を含み得る。あるいは、シルセスキオキサンポリマーは、少なくとも2つの異なるY基(例えば、Y’及びY”)、更には同じZ基(例えば、ビニル)を含み得る。更には、シルセスキオキサンポリマーは、少なくとも2つの反応体を含んでよく、ここで、Y及びZの両方は互いに異なっている。かかる実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマー式のRは、独立して、エチレン性不飽和基(例えば、ビニル基など)を含む有機基である。更には、nは、独立してエチレン性不飽和基を含む繰り返し単位の総数を表す。
更に他の実施形態では、硬化性シルセスキオキサンコポリマーは、式:Z−Y−Si(Rの少なくとも1つの反応体、及び式:X−Y−Si(Rの少なくとも1つの反応体から作成され得る。式:X−Y−Si(Rの例としては、フェニルトリメトキシシランなどの芳香族トリアルコキシシラン、メチルトリメトキシシランなどの(例えば、C1〜C12)アルキルトリアルコキシシラン、ノナフルオロヘキシルトリエトキシシランなどのフルオロアルキルトリアルコキシシラン、及びグリシドオキシプロピルトリエトキシランなどのエチレン性不飽和基ではない反応性基を含むトリアルコキシシラン、(3−グリシドオキシプロピルトリエトキシシラン5,6−エポキシヘキシルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン3−(ジフェニルホスフィノ)プロピルトリエトキシシラン、メルカプロプロピルトリエトキシシラン、s−(オクタノイル)メルカプロプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、ヒドロキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリエトキシシラン、3−シアノプロピルトリエトキシシラン、2−シアノエチルトリエトキシシラン、及び2−(4−ピリジルエチル)トリエトキシシラン、が挙げられる。
他の市販のX−Y−Si(R反応体には、例えば、トリメチルシロキシトリエトキシシラン、p−トリルトリエトキシシラン、テトラヒドロフルフリルオキシプロピルトリエトキシシラン;n−プロピルトリエトキシシラン、(4−ペルフルオロオクチルフェニル)トリエトキシシラン;ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン、ノナフルオロヘキシルトリエトキシシラン、1−ナフチルトリエトキシシラン、3,4−メチレンジオキシフェニルトリエトキシシラン、p−メトキシフェニルトリエトキシシラン、3−イソオクチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン、3,5−ジメトキシフェニルトリエトキシシラン、(n,n−ジエチルアミノメチル)トリエトキシシラン、n−シクロヘキシルアミノメチル)トリエトキシシラン、11−クロロウンデシルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、p−クロロフェニルトリエトキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、ブチルポリ(ジメチルシロキサニル)エチルトリエトキシシラン、
n,n−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、及び、2−[(アセトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリエトキシシラン、が挙げられる。
硬化性シルセスキオキサンポリマーが式:X−Y−Si(Rの2つ以上の反応体から作成される際、シルセスキオキサンポリマーは、少なくとも2つの異なるX基(例えば、X’及びX”)、更には同じY基を含み得る。あるいは、シルセスキオキサンポリマーは、少なくとも2つの異なるY基(例えば、Y’及びY”)、更には同じX基を含み得る。更には、シルセスキオキサンポリマーは、少なくとも2つの反応体を含んでよく、ここで、Y及びXの両方は互いに異なっている。かかる実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマー式のR2は、独立して、エチレン性不飽和基(例えば、ビニル基など)を含む有機基である。更には、mは、独立して、エチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位の総数を表す。
式:Z−Y−Si(Rの共反応体の封入は、R2基の選択に応じて特定の特性を向上させるのに使用され得る。例えば、R2がフェニルなどの芳香族基を含む場合、(ビニルトリメトキシシランのホモポリマーに対して)熱安定性が向上され得る。R2がエポキシなどの反応性基を含む場合、(ビニルトリメトキシシランのホモポリマーに対して)硬度の向上が得られる。更には、R2がフルオロアルキル基を含む場合、疎水性が向上され得る。
式:Z−Y−Si(Rの反応体の量は、ホモポリマーの場合には、最大で100モル%に及び得る。コポリマーは、典型的には、99、98、97、96、95、94、93、92、91、又は90モル%の式:Z−Y−Si(Rの反応体を含む。いくつかの実施形態では、式:Z−Y−Si(Rの反応体の量は、85、80、75、70、又は60モル%以下である。いくつかの実施形態では、式:Z−Y−Si(Rの反応体の量は、少なくとも15、20、25、又は30モル%である。
式:X−Y−Si(Rの反応体の量は、コポリマーの1、2、3、4、5、6、7、8、9、又は10モル%以下であり得る。式:X−Y−Si(Rの反応体の量は、典型的には、75モル%又は70モル%以下である。いくつかの実施形態では、式:X−Y−Si(Rの反応体の量は、少なくとも15、20、25、又は30モル%である。いくつかの実施形態では、式:X−Y−Si(Rの反応体の量は、65又は60モル%以下である。式:Z−Y−Si(R又は式:X−Y−Si(Rの反応体の量は、式:Z−Y−Si(R又は式:X−Y−Si(Rから誘導される繰り返し単位の量に等しいことが理解される。いくつかの実施形態では、式:Z−Y−Si(Rの反応体のモル比と、式:X−Y−Si(Rの反応体のモル比とは、約10:1;15:1、又は10:1〜1:4;又は1:3、又は1:2に及ぶ。本開示の例示的な硬化性シルセスキオキサンコポリマーは、以下の一般式を有し得る。

式中、上記の式中のにおける酸素原子は、三次元分岐状ネットワーク内で別のSi原子と結合されており、Rはビニル基であり、nは3を超える整数であり、及びR2は、水素、フェニル、メチル、ノナフルオロヘキシル、又はグリシドキシプロピルは、以下で示される。

トリメチルシリルビニル−co−ノナフルオロヘキシルシルセスキオキサン、

トリメチルシリルビニル−co−グリコシドキシプロピルシルセスキオキサン、

トリメチルシリルビニル−co−フェニルシルセスキオキサン、

トリメチルシリルビニル−co−メチルシルセスキオキサン、及び

トリメチルシリルビニル−co−ヒドロシルセスキオキサン。
本明細書で示される各式において、SiMeの1つ以上のメチル末端基は、前述の他の任意の非加水分解性基であり得る。
いくつかの実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、一般的には、有機溶媒(特に、極性有機溶媒)において粘着質かつ可溶性であり、塗布可能である。したがって、かかる硬化性シルセスキオキサンポリマーは、容易に加工され得る。これは、基材に容易に塗布され得る。また、様々な基材にも良好に付着する。例えば、特定の実施形態では、本開示の硬化性ポリマーは、実施例の項目で詳述される剥離接着力測定法により、少なくとも0.1、0.2、0.3、0.4、0.5又は1ニュートン/デシメートル(N/dm)、又は少なくとも2N/dm、の対ガラス剥離力を有する。特定の実施形態では、本開示の硬化性シルセスキオキサンポリマーは、実施例の項目で詳述される剥離接着力測定法により、6N/dm以下の対ガラス剥離力を有する。
他の実施形態では、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、複数の用途を有する保護性(例えば、耐候性)硬質コーティングをもたらし得る。例えば、かかるコーティングは、光学的透明度、耐久性、疎水性などの更なる特性を必要とする、様々なポリカーボネートレンズ及びポリエステルフィルムにおいて、又は、温度、放射線、又は湿気がフィルムの劣化を引き起こし得るような任意の他の用途において、抗かき傷及び耐摩耗性コーティングとして使用され得る。
本明細書に記載する通り、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、光開始剤と混和され、UV硬化され得る。好適な光開始剤は、様々なフリーラジカル光開始剤を含む。例示的なフリーラジカル光開始剤は、ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、安息香酸ベンゾイル、フェニルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、α,α−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル−ケトン(商標名「IRGACURE 184」でBASF Corp.,(Florham Park,NJ)から入手可能)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(商標名「DAROCURE 1173」でBASF Corp.から入手可能)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、及びこれらの組み合わせ(例えば、商標名「DAROCURE 4265」でBASF Corp.から入手可能な2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシドと2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンとの50:50重量比混合物)から選択され得る。
光開始剤は、典型的には、コーティング組成物の硬化性材料の総重量に対して、少なくとも0.01重量パーセント(重量%)の量でコーティング組成物中に存在する。光開始剤は、典型的には、コーティング組成物の硬化性材料の総重量に対して、5重量%以下の量でコーティング組成物中に存在する。
本明細書に記載されるように、エチレン性不飽和基を硬化性シルセスキオキサンポリマーは、他のエチレン性不飽和モノマー、オリゴマー、及び/又はポリマーと架橋するのに用いられ得る。驚くべきことに、ビニル及びアルケニル基を含むシルセスキオキサンポリマーは、光硬化(例えば、室温、25℃)によってフリーラジカル重合することが分かっている。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマーは、ポリジメチルシロキサン材料など、ビニル又は(メタ)アクリレート官能性シロキサンを架橋するのに用いられ得る。いくつかの実施形態では、ポリジメチルシロキサンは、ビニル又は(メタ)アクリレートで終端されており、一般式:R−L−[Si(CHO]Si(CH−L−Rを有し、式中、nは、繰り返しモノマー[SiO(CH]単位の数であり、Lは二価(例えば、C〜C)アルキレン)連結基であり、Rはビニル又は(メタ)アクリレートである。あるいは、ポリジメチルシロキサンは、商品名「VMS−T11」でGelestから入手可能なビニルメチルシロキサンホモポリマーの場合などに、主鎖にビニル基を含み得る。様々な他のビニル又は(メタ)アクリレート官能性ポリジメチルシロキサンは、主鎖中に他のシロキサン単位、他の末端基を含み、及び/又は異なる構造を有することが知られている。
かかるビニル又は(メタ)アクリレート官能性シロキサンの分子量(Mw)は、典型的には、約200〜約200,000g/モルである。いくつかの実施形態では、分子量は、100,000又は50,000g/モル以下である。いくつかの実施形態では、分子量は、約20,000;15,000;10,000又は5,000g/モル以下である。官能性シロキサンのビニル又は(メタ)アクリレートの重量%は、典型的には、少なくとも0.02、0.03、0.04、又は0.05重量%であって、最大で約10、15、20、25、又は30重量%に及ぶ。いくつかの実施形態では、ビニル又は(メタ)アクリレートの重量%は、1〜0.5重量%未満である。
本明細書に記載する通り、硬化性シルセスキオキサンポリマーは、ヒドロシリル化触媒、及び任意にポリヒドロシロキサン架橋剤と混和され、硬化性コーティングを加熱することによって熱硬化され得る。
様々なヒドロシリル化触媒が知られている。例えば、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、又は白金の様々な錯体を、ケイ素が結合した水素を含有する化合物と脂肪族不飽和を含有する化合物との間の熱活性化付加反応を促進するための触媒として使用することが、多くの特許に教示されている。様々な白金触媒、米国特許第4,530,879号;米国特許第4,510,094号;米国特許第4,600,484号;米国特許第5,145,886号;及び欧州特許第0 398701号などで既知であり、これらは参照として本明細書に組み込まれる。1つの実施形態では、触媒は、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第3,775,452号に記載される通り、白金及び不飽和シラン又はシロキサンを含む錯体である。この種類の1つの例示的な触媒は、ビス(1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン)白金である。
様々なヒドロシロキサン架橋剤が知られている。ヒドロシロキサン架橋剤は、以下の一般式:

であり、式中、Tは0、1、2であってよく、典型的には300未満であり、
Sは0、1、2であってよく、典型的には500未満であり、
は、独立して、水素又はC〜Cアルキルであり、更に典型的にはH、メチル又はエチルである。
但し、Tが0である場合、少なくとも1つのRは水素である。
硬化性シルセスキオキサンポリマーは、コーティングに硬度を付与し得るナノ粒子と混和され得る。本開示の好適なナノ粒子には、無機酸化物が含まれる。例示的なナノ粒子としては、非金属の酸化物、金属の酸化物、又はこれらの組み合わせが挙げられる。非金属の酸化物として、例えばケイ素又はゲルマニウムの酸化物が挙げられる。金属の酸化物としては、例えば鉄、チタン、セリウム、アルミニウム、ジルコニウム、バナジウム、亜鉛、アンチモン、及びスズの酸化物が挙げられる。金属及び非金属酸化物の組み合わせには、アルミニウム及びケイ素の酸化物が含まれる。
ナノ粒子は100ナノメートル(nm)以下、75ナノメートル以下、50ナノメートル以下、25ナノメートル以下、20ナノメートル以下、15ナノメートル以下、又は10ナノメートル以下の平均粒径を有し得る。ナノ粒子は少なくとも1ナノメートル、少なくとも5ナノメートル、少なくとも15ナノメートル、少なくとも20ナノメートル、少なくとも25ナノメートル、少なくとも50ナノメートル、又は少なくとも75ナノメートルの平均粒径を有し得る。
様々なナノ粒子が、市販されている。ナノ粒子の市販品は、Nyacol Co.(Ashland,MA)、Solvay−Rhodia(Lyon,France)、及びNalco Co.(Naperville,IL)から入手可能である。ナノ粒子は、当該技術分野において既知の技術を使用して作成することもできる。例えば、ジルコニアナノ粒子は、例えば国際公開第2009/085926号(Kolbら)に記載されているように、水熱技術を使用して調製され得る。好適なジルコニアナノ粒子には、例えば、米国特許第7,241,437号(Davidsonら)に記載のものもある。
いくつかの実施形態では、ナノ粒子はコロイド状分散体の形態であり得る。極性溶媒においては、コロイド状シリカナノ粒子が特に望ましい。イソプロパノールなどの極性溶媒中のシリカゾルは、商品名「ORGANOSILICASOL IPA−ST−ZL」、「ORGANOSILICASOL IPA−ST−L」、及び「ORGANOSILICASOL IPA−ST」で、Nissan Chemical Industries,Ltd.(Chiyoda−Ku Tokyo,Japan)から市販されている。
好ましくは、ナノ粒子は、本開示の硬化性コーティング組成物中に分散している。使用する場合、ナノ粒子は、典型的には、組成物の総重量に対して、少なくとも5重量%の量でコーティング組成物中に存在する。使用する場合、ナノ粒子、典型的には、組成物の総重量に対して、80重量%以下、又は50重量%以下の量でコーティング組成物中に存在する。ナノ粒子の粒径及びナノ粒子の添加量に応じて、特定の組成物は濁ることがある。例えば、10ナノメートルのナノ粒子を50重量%を超えて含む組成物は濁ることがあるが、かかる組成物は特定の用途において有用であり得る。
硬化性シルセスキオキサンポリマー、光開始剤、光学ナノ粒子を含むコーティング組成物は、所望であれば、任意に有機溶媒を含み得る。コーティング組成物に有用な溶媒には、化合物が所望の濃度で可溶性であるものが含まれる。典型的は、かかる有機溶媒は極性有機溶媒である。例示的な有用な極性溶媒としては、エタノール、イソプロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド、及びテトラヒドロフランが挙げられるが、これらに限定されない。これらの溶媒は、単独で又はそれらの混合物として使用できる。
任意の有機溶媒は、いかなる量でも使用され得る。例えば、硬化性コーティング組成物は、最大50重量%又はそれ以上の有機溶媒を含み得る。コーティング組成物に所望の粘度を提供するために、溶媒を加えることができる。いくつかの実施形態では、硬化性コーティング組成物中に、溶媒は使用されないか、又は低濃度でのみ(例えば、最大10重量%)有機溶媒が使用される。
コーティング組成物は、典型的には、塗布条件及び方法に適切な粘度の均質混合物(例えば、硬化性シルセスキオキサンポリマーと光開始剤との単純混合物)である。例えば、ブラシ又はローラー塗布される材料は、ディップコーティング組成物より高い粘度を有することが好ましい可能性がある。典型的には、コーティング組成物は、コーティング組成物の総重量に対して、少なくとも5重量%のポリマーを含む。コーティング組成物は、コーティング組成物の総重量に対して、80重量%以下のポリマーを含む。
ブラッシング、スプレー、ディッピング、ローリング、スプレッディングなどの広範な塗布方法が使用され、本開示の組成物が塗布され得る。特に、コーティング組成物に溶媒が含まれない場合、他の塗布方法も使用され得る。かかる方法としては、例えば、ナイフ塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、及び押出塗布が挙げられる。
本開示の硬化性コーティング組成物は、連続層又はパターン層に塗布され得る。かかる層は、基材の少なくとも一方の面の少なくとも一部分上に配置される。硬化性組成物が溶媒を含む場合、硬化した硬化性組成物は、硬化性組成物をUV硬化する前に、有機溶媒を硬化性組成物から蒸発させる条件に曝され得る。かかる条件としては、例えば、組成物を室温、又は高温(例えば、60℃〜70℃)に曝すというものである。
本開示の硬化性組成物は、UV照射又は加熱(熱硬化の場合には、約50℃〜120℃に及ぶ温度によって硬化され得る。典型的には、硬化は、コーティングが、触れる際に実質的に非粘着性となるのに有効な時間、行われる。
いくつかの実施形態では、硬化後の鉛筆硬度は、少なくとも3B、B、HB、H、2H、又は3Hである。いくつかの実施形態では、鉛筆硬度は、6H、5H、又は4H以下である。
コーティングが配置される基材は、広範な硬質又は可撓性材料のいずれでもあり得る。有用な基材としては、セラミクス、ガラスを含むシリカ系基材、金属、天然及び人造石、熱プラスチック及び熱硬化性などのポリマー材料が挙げられる。好適な材料としては、例えば、ポリ(メタ)アクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、スチレンアクリロニトリルコポリマーなどのスチレンコポリマー、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラートが挙げられる。
以下は、本開示の例示的な実施形態の一覧である。
本発明の目的及び利点は、以下の実施例によって更に例示されるが、これらの実施例において列挙された特定の材料及びその量は、他の諸条件及び詳細と同様に、本発明を不当に制限するものと解釈されるべきではない。これら実施例は単に例示のためのものに過ぎず、添付の「特許請求の範囲」の範囲を限定することを意図するものではない。
原料
特に記載のない限り、実施例及び本明細書の残りの部分における全ての部、百分率、及び比率などは、重量による。特に記載のない限り、すべての化学物質は、Aldrich Chemical Company(Milwaukee、WI)などの化学物質供給元から入手した又は入手可能である。
試験法
FTIRによるOH基の算出(%)手順
以下で記載する実施例1及び比較例1にしたがって調製した試料に存在する−OH基の量を、以下のように測定した。乾燥した臭化カリウムペレット上に、約0.1gのポリ(ビニルシルセスキオキサン)を均一厚の層になるように直接塗布した後、そのまま、フーリエ変換赤外分光法(FTIR)(Nicolet 6700 FTIRモデル、Thermo Fisher Scientific(Madison,WI))によって分析した。統合ソフトウェア(「OMNIC」ソフトウェアバージョン7.3、Thermo Fisher Scientific(Madison,WI)から入手)を使用して、500cm−1〜4000cm−1の総ピーク面積を、3100〜3600cm−1のブロードな−OH吸光度ピーク面積とともに算出した。−OH吸光度ピーク面積対総ピーク面積を使用してOH(%)を算出した。
鉛筆硬度の方法
以下で記載する実施例及び比較例にしたがって調製した硬化フィルムの硬度を、ASTM D3363−05(2011)e2「Standard Test Method for Film Hardness by Pencil Test」(ASTM International(West Conshohocken,PA)から入手可能)を使用して確認した。本研究に使用される器具は、ELCOMETER 3086 Scratch Boy(Elcometer Instruments Limited,MI)から入手)であった。指定された硬度等級(すなわち、9B、8B、7B、6B、5B、4B、3B、2B、B、HB、F、H、2H、3H、4H、5H、6H、7H、8H、9H:最も柔らかい等級〜最も硬い等級の鉛筆)の鉛筆を動かした後、顕微鏡で表面にひっかき傷があるか否か観察することで鉛筆硬度を測定した。試料は、試料の表面を顕微鏡的にひっかき傷のない最も硬い鉛筆に対応する硬度値に指定した。
熱重量分析法(TGA)
TGA 2950熱重量分析計(TA Instruments(New Castle,DE))において、約8〜10gのポリマーを600℃までの温度のパンでランピングする(ランプ速度:10℃/分)ことでポリマーのTGA分析を実行した。温度ランプに対する温度ポリマーの重量損失を記録した。
実施例1(EX1)
実施例1において、モノマー1(100g;0.52モル)、蒸留水(50g)、酒石酸(1.0g)を、室温で、コンデンサを備えた500mL丸底フラスコ中で一緒に混合した。この混合物を室温で撹拌し、撹拌20分後、発熱が観察され、その後、70℃の温度で3〜4時間維持した。反応混合物にCAP−1(50g)又はCAP−2(80g)を加え、続けて、70℃で3時間撹拌して、シラノール基をトリアルキルシリル(すなわち、トリメチルシリル)基に変換した。溶媒(水/エタノール混合物)を蒸発させて、ヘプタン(200mL)に溶解した、粘稠液であるビニルシルセスキオキサンを得た。ヘプタン溶液を1マイクロメートルの濾紙に通し、不溶性の酒石酸を分離させた。ヘプタンを100℃の減圧下で蒸発させ、ゴム状の液体を得た。
比較例CE1において、モノマー1(100g;0.52モル)、蒸留水(50g)、酒石酸(1.0g)を、室温で、コンデンサに備えた500mL丸底フラスコ中で一緒に混合した。この混合物を室温で撹拌し、撹拌20分後、発熱が観察され;その後、70℃の温度で5〜6時間維持した。溶媒(水/エタノール混合物)を蒸発させて、ヘプタン(200mL)に溶解した、粘稠液であるビニルシルセスキオキサンを得た。ヘプタン溶液を1マイクロメートルの濾紙に通し、不溶性の酒石酸を分離させた。ヘプタンを100℃の減圧下で蒸発させ、ゴム状の液体であるビニルシルセスキオキサンを得た。
実施例2〜実施例9のコポリマーを、以下の表1で列挙されるモノマーをそれぞれ使用する以外は、実施例1と同じ方法で調製した。
実施例10〜16(EX1〜EX16)
実施例10において、30gのEX1を、ヘプタン/MEK(70:30)(100g)混合物中に溶解し、続けて、IRGACURE 184(0.3g)を加えた。次に、8番のマイヤーロッドを使用して、混合物を3SAB PETフィルム上に塗布した。塗布したフィルムを、12メートル/分で、試料の5.3cm上方に位置するH−バルブ15を備える、「LIGHT HAMMER 6」UVチャンバ(商標名「LIGHT HAMMER 6」で、Fusion UV Systems,Inc.(Gaithersburg,Maryland)から入手)に通過させた。触れられるようになるまでコーティングを硬化し、PETフィルムにしっかりと付着させた。
実施例11〜実施例13を、対応するコーティング混合物が、それぞれ40gのIPA−ST−L、60gのIPA−ST、及び10gのIPA−ST−ZLを更に含有する以外、実施例10と同じ方法で調製した。触れられるようになるまで実施例11〜実施例13の試料を硬化し、PETフィルムにしっかりと付着させた。
実施例14〜実施例16試料を、使用されるコポリマーを表2で要約されるように変更した以外、実施例10と同じ方法で調製した。
実施例17〜19(EX17〜EX19)
実施例17において、30gの実施例1で調製した材料を、ヘプタン/MEK(70:30)(100g)混合物中で溶解し、続けて、「Syl−Off 7048」(1g)及びカールシュテット触媒(総固体に対して200ppmのPt)を加えた。次に、8番のマイヤーロッドを使用して、混合物を3SAB PETフィルム上に塗布した。塗布した層を、溶媒排出孔を備えたオーブン内において110℃で60秒間硬化させた。触れられるようになるまでコーティングを硬化し、PETフィルムにしっかりと付着させた。
実施例18において、30gの実施例8で調製した材料を、ヘプタン/MEK(70:30)(100g)混合物中で溶解し、続けて、カールシュテット触媒(総固体に対して200ppmのPt)を加えた。次に、8番のマイヤーロッドを使用して、混合物を3SAB PETフィルム上に塗布した。塗布した層を、溶媒排出孔を備えたオーブン内において110℃で60秒間硬化させた。触れられるようになるまでコーティングを硬化し、PETフィルムにしっかりと付着させた。
実施例19において、実施例18に記載されるのと同じプロセスを使用して実施例9で調製した材料を硬化した。
実施例20において、実施例17に記載されるのと同じプロセスを使用して比較例1で調製した材料を硬化した。
剥離接着力試験方法
以下に記載する実施例1及び比較例1にしたがって調製した、ポリ(ビニルシルセスキオキサン)(50重量%メチルエチルケトン溶液)試料を、ナイフコーターを使用して、3SAB PETフィルムに塗布して、2〜3ミル(0.058〜0.076mm)の厚さを有する乾燥コーティングをもたらした。塗布したPETフィルムを、70℃(2分間)で維持された熱風乾燥機中に載置して溶媒を蒸発させた。乾燥後、塗布したPETフィルムを、以下に記載する方法にしたがって、剥離接着力の測定用の試料に切断した。
次に、0.5インチ×5インチ(約1.25cm×12.7cm)の試料を使用して、IMASS SP−2000剥離試験機(IMASS,Inc.(Accord,MA)から入手)で実施例1及び比較例1の試料の剥離接着力を測定した。試料を、2kgの硬質ゴムローラを合計4回通過させて清潔なガラスパネルに塗布した。試験前、この試料を室温及び相対湿度50%にて20分間そのままにしておいた。次に、パネルをIMASS SP−2000剥離試験機に取り付け、試料を30.48cm/分の速度で90度の角度でパネルから引き剥がした。剥離力は、オンス/インチ(oz/inch)単位で測定され、3つの試料の最小値から平均剥離力を算出するのに使用し、次に、ニュートン/デシメートル(N/dm)に変換した。
TGA
図1は、周囲条件下及び10℃/分で40〜600℃の温度をランピングすることで、TGA曲線を、TA instrument(商標)で記録した。TGA曲線から明らかなように、実施例1は、比較例1と比較して、著しく良好な熱安定性を示した。
実施例21
実施例1のSSQ材料(SSQ−1、5g)及び商標名「DMS−V00」でGelest,Inc.(Morrisville,PA)から入手可能なビニル末端ポリジメチルシロキサン(5g)を、100gのヘプタン/メチルエチルケトン混合物(50/50)中に溶解し、続けて、IRGACURE 184(0.3g)を加えてコーティング可能な混合物を形成した。次に、8番のマイヤーロッドを使用して、コーティング可能な混合物を2ミル(0.058ミリメートル(mm)厚の3SAB PETフィルム上に塗布した。塗布したフィルムを、12メートル/分で、試料の5.3cm上方に位置するH−バルブを備える、UVチャンバ(商標名「LIGHT HAMMER 6」で、Fusion UV Systems,Inc.(Gaithersburg,Maryland)から入手)に通過させた。触れられるようになるまで、コーティングを硬化した。
実施例22〜31
以下の表で指定される材料の種類及び量を用いて、実施例21と同じ方法で、実施例22〜31を作成し、硬化した。これらのコーティングも、触れられるようになるまで硬化した。

Claims (12)

  1. 以下の式を有する三次元分岐状ネットワークを含む硬化性シルセスキオキサンポリマー。
    [式中、
    における酸素原子は、三次元分岐状ネットワーク内で、別のSi原子と結合し、
    Rは、エチレン性不飽和基を含む有機基であり、
    は、非加水分解性基であり、
    nは少なくとも2の整数である。]、又は
    [式中、
    における酸素原子は、三次元分岐状ネットワーク内で、別のSi原子と結合し、
    Rは、エチレン性不飽和基を含む有機基であり、
    R2は、エチレン性不飽和基ではない有機基であり、
    は、非加水分解性基であり、
    n+mは3よりも大きい整数である。]
  2. は独立して、アルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリールから選択され、任意に置換基を含む、請求項1に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマー。
  3. 前記ポリマーは、前記シルセスキオキサンポリマーの5重量%以下の量で存在する−OH基を更に含む、請求項1又は2に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマー。
  4. nは200以下の整数である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマー。
  5. 光開始剤及び請求項1〜4のいずれか一項に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマーを含む、硬化性組成物。
  6. ヒドロシリル化触媒、任意にポリヒドロシロキサン架橋剤、及び請求項1〜4のいずれか一項に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマーを含む、硬化性組成物。
  7. ナノ粒子、有機溶媒、又はこれらの混合物を更に含む、請求項5又は6に記載の硬化性組成物。
  8. 前記硬化性シルセスキオキサンポリマーは、200℃で90%未満の重量損失を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマー。
  9. 前記エチレン性不飽和基は、ビニル基又はアルケニル基である、請求項1〜4又は8のいずれか一項に記載の硬化性シルセスキオキサンポリマー。
  10. エチレン性不飽和基を含む少なくとも1つのモノマー、オリゴマー、又はポリマーを更に含み、
    前記エチレン性不飽和基は、(メタ)アクリレート、ビニル、又はこれらの組み合わせから選択される、請求項5〜7のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
  11. 基材と、前記基材の少なくとも一方の面の少なくとも一部分上に配置された層に請求項7又は10のいずれか一項に記載の硬化性組成物と、を含む物品。
  12. 前記硬化性組成物が硬化している、請求項11に記載の物品。
JP2016536164A 2013-12-09 2014-12-08 硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法 Expired - Fee Related JP6197118B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361913568P 2013-12-09 2013-12-09
US61/913,568 2013-12-09
US201462014735P 2014-06-20 2014-06-20
US62/014,735 2014-06-20
PCT/US2014/068982 WO2015088932A1 (en) 2013-12-09 2014-12-08 Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017508013A JP2017508013A (ja) 2017-03-23
JP6197118B2 true JP6197118B2 (ja) 2017-09-13

Family

ID=52273529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016536164A Expired - Fee Related JP6197118B2 (ja) 2013-12-09 2014-12-08 硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10066123B2 (ja)
EP (1) EP3080219A1 (ja)
JP (1) JP6197118B2 (ja)
KR (1) KR101774984B1 (ja)
CN (2) CN105814155A (ja)
WO (1) WO2015088932A1 (ja)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015195355A1 (en) 2014-06-20 2015-12-23 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods
JP2017519081A (ja) 2014-06-20 2017-07-13 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー シルセスキオキサンポリマーコア及びシルセスキオキサンポリマー外層を含む硬化性ポリマー並びに方法
WO2015195391A1 (en) 2014-06-20 2015-12-23 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods
KR102467762B1 (ko) 2014-08-27 2022-11-15 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 전기적 다층 라미네이션 전사 필름
KR20170063735A (ko) 2014-09-22 2017-06-08 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 실세스퀴옥산 중합체 코어와 실세스퀴옥산 중합체 외층, 및 반응성 기를 포함하는 경화성 중합체
US9957416B2 (en) 2014-09-22 2018-05-01 3M Innovative Properties Company Curable end-capped silsesquioxane polymer comprising reactive groups
KR102375701B1 (ko) * 2015-10-02 2022-03-16 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 형성용 조성물
US10254650B2 (en) * 2016-06-29 2019-04-09 Honeywell International Inc. Low temperature SC1 strippable oxysilane-containing coatings
JP2018177951A (ja) * 2017-04-12 2018-11-15 株式会社ダイセル 硬化性組成物、硬化物及びハードコートフィルム
CN111065699B (zh) * 2017-09-22 2021-02-23 3M创新有限公司 倍半硅氧烷聚合物、组合物、方法和制品
EP3684877B1 (en) * 2017-09-22 2020-12-02 3M Innovative Properties Company Silsesquioxane polymers, compositions, and articles
EP3684874B1 (en) * 2017-09-22 2021-11-03 3M Innovative Properties Company Polycarbodiimide-containing compositions, methods, and articles
WO2019058231A1 (en) * 2017-09-22 2019-03-28 3M Innovative Properties Company COMPOSITIONS COMPRISING SILSESQUIOXANE POLYMER AND FREE SILOXANE, AND ARTICLES
JP6930354B2 (ja) * 2017-10-06 2021-09-01 東亞合成株式会社 硬化性組成物及びその利用
CN111465669B (zh) 2017-12-06 2022-12-16 3M创新有限公司 阻隔性粘合剂组合物和制品
CN111465665B (zh) 2017-12-13 2022-02-15 3M创新有限公司 可固化的氟化倍半硅氧烷组合物
US20210163802A1 (en) 2017-12-14 2021-06-03 3M Innovative Properties Company Siloxane-based dual-cure transparent transfer film
US11345828B2 (en) 2017-12-21 2022-05-31 Columbia Insurance Co. Siloxane-modified binders and compositions thereof
EP3733779B1 (en) * 2017-12-28 2023-06-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Ultraviolet curable organopolysiloxane composition, silicone gel cured product and method for producing same, and pressure sensor
EP3792290A4 (en) * 2018-05-07 2022-02-16 Ochanomizu University SILSESQUIOXANE
JP2022547069A (ja) 2019-09-05 2022-11-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー フルオロポリマー及び分岐シルセスキオキサンポリマーを含む組成物及び物品
WO2022189938A1 (en) 2021-03-10 2022-09-15 3M Innovative Properties Company Branched silsesquioxane polymer and compositions and articles including the same
WO2023100992A1 (ja) * 2021-12-01 2023-06-08 東亞合成株式会社 シルセスキオキサン誘導体、硬化性組成物、硬化物及び基材
WO2024062392A1 (en) 2022-09-20 2024-03-28 3M Innovative Properties Company Composition and article including a thermoplastic and a branched silsesquioxane polymer and related process

Family Cites Families (239)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3775452A (en) 1971-04-28 1973-11-27 Gen Electric Platinum complexes of unsaturated siloxanes and platinum containing organopolysiloxanes
US4351875A (en) 1978-09-25 1982-09-28 Rohm And Haas Company Heteropolymer acrylic latices and textiles treated therewith
JPS55111148A (en) 1979-02-21 1980-08-27 Hitachi Ltd Semiconductor device
US4415615A (en) 1982-01-15 1983-11-15 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Cellular pressure-sensitive adhesive product and method of making
US4535485A (en) 1982-03-12 1985-08-20 Medical Biological Sciences, Inc. Polymeric acrylic prothesis
US4530879A (en) 1983-03-04 1985-07-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation activated addition reaction
US4510094A (en) 1983-12-06 1985-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Platinum complex
US4600484A (en) 1983-12-06 1986-07-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Hydrosilation process using a (η5 -cyclopentadienyl)tri(σ-aliphatic) platinum complex as the catalyst
GB2178182B (en) 1985-07-16 1988-12-21 Fuji Photo Film Co Ltd Electrostatographic encapsulated toner
US4723978A (en) 1985-10-31 1988-02-09 International Business Machines Corporation Method for a plasma-treated polysiloxane coating
JPS62124159A (ja) 1985-11-25 1987-06-05 Showa Denko Kk コ−テイング用組成物
JPH0617017B2 (ja) 1985-12-02 1994-03-09 昭和電工株式会社 離型性の向上方法
JPS62255957A (ja) 1986-04-28 1987-11-07 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真用トナ−
EP0254418A3 (en) 1986-06-20 1990-03-14 Courtaulds Plc Preparation of polymer dispersions
US4732934A (en) 1986-12-08 1988-03-22 General Electric Company Functionalized thermoplastic polymers, blends prepared therefrom, and methods for preparing blends
JPS63291962A (ja) 1987-05-25 1988-11-29 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 耐熱部材
DE3720475A1 (de) 1987-06-20 1988-12-29 Bayer Ag Thermoplastische silikonkautschukpfropfpolymerisate (ii)
JP2541566B2 (ja) 1987-07-14 1996-10-09 富士通株式会社 パタ−ン形成材料
US4788252A (en) 1987-07-22 1988-11-29 General Electric Company Mixtures based on polycarbonates having improved physical and chemical properties
JPS6490201A (en) 1987-09-30 1989-04-06 Nisshin Kagaku Kogyo Kk Detackifier
JPH0196265A (ja) 1987-10-09 1989-04-14 Showa Denko Kk コーティング剤
NL8702632A (nl) 1987-11-04 1989-06-01 Gen Electric Polycarbonaat met lage relatieve viscositeit en polymeermengsels.
DE3737637A1 (de) 1987-11-06 1989-05-18 Bayer Ag Mischungen von polycarbonaten mit siloxanhaltigen pfropfpolymerisaten
DE3738109A1 (de) 1987-11-10 1989-05-18 Bayer Ag Mischungen von polycarbonaten mit siloxanhaltigen pfropfpolymerisaten
US5073595A (en) 1987-12-23 1991-12-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Epoxide resin compositions and method
US4879362A (en) 1987-12-31 1989-11-07 E. I. Dupont De Nemours And Company Modified polytetrafluoroethylene resins
JPH01195458A (ja) 1988-01-30 1989-08-07 Toshiba Corp 現像剤
CA1338989C (en) 1988-03-08 1997-03-11 Masashi Matsuo Water and oil repellant
US5145886A (en) 1988-05-19 1992-09-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation activated hydrosilation reaction
US5030699A (en) 1988-06-07 1991-07-09 Showa Denko K.K. Ladder silicone oligomer composition
US4889901A (en) 1988-11-16 1989-12-26 Desoto, Inc. Ultraviolet-curable blends of acrylated polyurethanes and silsesquioxane oligomers having improved adhesion to glass
JPH0655828B2 (ja) 1988-12-15 1994-07-27 信越化学工業株式会社 表面変性ポリメチルシルセスキオキサン球状微粒子及びその製造方法
US4997260A (en) 1988-12-28 1991-03-05 Makoto Honjo Optical fiber having a protective coating
DE3907019A1 (de) 1989-03-04 1990-09-06 Roehm Gmbh Thermoplastisch verarbeitbare loesungsmittelbestaendige kunststoffmischungen
DE3907018A1 (de) 1989-03-04 1990-09-06 Roehm Gmbh Kunststoffmischungen
JPH02233537A (ja) 1989-03-07 1990-09-17 Fujikura Ltd 光ファイバ心線の製造方法
CA2014996A1 (en) 1989-05-19 1990-11-19 Joel D. Oxman Radiation activated hydrosilation reaction
JPH032808A (ja) 1989-05-31 1991-01-09 Fujikura Ltd 光ファイバ心線
JPH03110555A (ja) 1989-09-26 1991-05-10 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
JPH0699634B2 (ja) 1989-09-28 1994-12-07 信越化学工業株式会社 熱硬化型シリコーンゴム組成物
JP3057161B2 (ja) 1989-11-13 2000-06-26 住友電気工業株式会社 有機光導波路
JP2992591B2 (ja) 1989-12-18 1999-12-20 ジーイー東芝シリコーン株式会社 シリカコア―シリコーンシェル体、これを分散含有するエマルジョンおよびエマルジョンの製造方法
FR2656319B1 (fr) 1989-12-27 1992-03-20 Rhone Poulenc Chimie Microspheres composites magnetisables a base d'un polymere organosilicie reticule, leur procede de preparation et leur application en biologie.
DE4017571A1 (de) 1990-05-31 1991-12-05 Bayer Ag Thermoplastische, flexible polyurethan-zusammensetzungen und verfahren zu ihrer herstellung
JP2892779B2 (ja) 1990-06-18 1999-05-17 昭和電工株式会社 被覆物品
JPH04110351A (ja) 1990-08-31 1992-04-10 Toshiba Silicone Co Ltd シリコーン水性エマルジョン組成物およびそれを用いたシリコーン粉末の製造方法
JP2613128B2 (ja) 1990-10-01 1997-05-21 三菱電機株式会社 半導体装置
JPH04173863A (ja) 1990-11-07 1992-06-22 Showa Denko Kk 樹脂組成物
JPH04175370A (ja) 1990-11-08 1992-06-23 Showa Denko Kk 樹脂組成物
JP2907229B2 (ja) 1990-11-09 1999-06-21 昭和電工株式会社 紫外線硬化性接着剤組成物
DE4040986A1 (de) 1990-12-20 1992-06-25 Wacker Chemie Gmbh Elastomere pfropfcopolymerisate mit kern-huelle-struktur
JPH05197304A (ja) 1992-01-20 1993-08-06 Hitachi Ltd 溶着部材
US5360878A (en) * 1992-03-04 1994-11-01 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Highly crosslinked silicon polymers for gas chromatography columns
JP3511628B2 (ja) 1992-03-23 2004-03-29 藤倉化成株式会社 電気レオロジー流体組成物
JPH05271362A (ja) 1992-03-30 1993-10-19 Nippon Shokubai Co Ltd シリコーン系被覆重合体粒子の製法
US5506279A (en) 1993-10-13 1996-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Acrylamido functional disubstituted acetyl aryl ketone photoinitiators
US5602221A (en) 1993-11-10 1997-02-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure sensitive adhesives with good low energy surface adhesion
US5773485A (en) 1994-07-29 1998-06-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Acrylic syrup curable to a crosslinked viscoelastomeric material
EP0700951B1 (en) * 1994-09-08 2000-12-27 Showa Denko Kabushiki Kaisha Polyorganosiloxane and process for producing the same
JPH08134308A (ja) 1994-11-08 1996-05-28 Showa Denko Kk 水性エマルジョン及びその製造法
US5738976A (en) * 1995-03-16 1998-04-14 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photo-curable organopolysiloxane composition and a method for producing a (meth) acryloyloxyl group-containing organopolysiloxane used therein
US5609925A (en) 1995-12-04 1997-03-11 Dow Corning Corporation Curing hydrogen silsesquioxane resin with an electron beam
JPH1160931A (ja) 1997-08-11 1999-03-05 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd ポリカーボネート樹脂組成物
JPH11116681A (ja) 1997-10-20 1999-04-27 Takemoto Oil & Fat Co Ltd ポリメチルシルセスキオキサン系微粒子及びこれを親水性媒体中に分散させた分散体
EP0958805A3 (en) 1998-05-20 2003-07-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Makeup cosmetic composition
JP3501658B2 (ja) 1998-08-26 2004-03-02 信越化学工業株式会社 シリコーン硬化物粉末を含有する化粧料
JP4275780B2 (ja) 1998-09-21 2009-06-10 関西ペイント株式会社 無機質基材用複合塗膜形成方法
JP2000169591A (ja) 1998-12-11 2000-06-20 Ube Nitto Kasei Co Ltd 光硬化性樹脂被覆粒子、その製造方法および液晶表示素子の製造方法
JP3932155B2 (ja) 1999-06-03 2007-06-20 信越化学工業株式会社 球状シリコーン樹脂微粒子
JP2001106925A (ja) 1999-10-13 2001-04-17 Kao Corp 複合体
EP1246856B1 (en) 1999-10-27 2009-07-15 3M Innovative Properties Company Fluorochemical sulfonamide surfactants
US6624214B2 (en) 2000-03-10 2003-09-23 The Goodyear Tire & Rubber Company Rubber compositions containing preciptated organosilicon particles having a core and a shell
JP2002121536A (ja) 2000-07-28 2002-04-26 Ube Nitto Kasei Co Ltd 接着性粒子及びその製造方法
US6627314B2 (en) 2000-10-06 2003-09-30 Carnegie Mellon University Preparation of nanocomposite structures by controlled polymerization
US6927301B2 (en) 2000-10-27 2005-08-09 The Regents Of The University Of Michigan Well-defined nanosized building blocks for organic/inorganic nanocomposites
JP4809993B2 (ja) 2001-04-27 2011-11-09 宇部日東化成株式会社 コアシェル型微粒子およびその製造方法
JP2003055459A (ja) 2001-08-14 2003-02-26 Jsr Corp 複合粒子、その分散体、分散体の製造方法、およびコーティング材
US6743510B2 (en) 2001-11-13 2004-06-01 Sumitomo Chemical Company, Limited Composition comprising a cationic polymerization compound and coating obtained from the same
JP3817192B2 (ja) 2001-12-28 2006-08-30 株式会社リコー 電子写真装置
JP4187974B2 (ja) * 2002-01-31 2008-11-26 東レ・ダウコーニング株式会社 シリコーン化合物の製造方法
JP2003226835A (ja) 2002-02-07 2003-08-15 Kansai Paint Co Ltd 上塗り塗料組成物
SG102047A1 (en) * 2002-05-02 2004-02-27 Dso Nat Lab Ladder-like silicone polymers
US20040247549A1 (en) 2002-06-12 2004-12-09 L'oreal S.A. Cosmetic emulsions containing at least one hetero polymer and at least one sunscreen and methods of using the same
US6907176B2 (en) * 2002-06-24 2005-06-14 Dow Corning Corporation Planar optical waveguide assembly and method of preparing same
JP4742212B2 (ja) 2002-08-06 2011-08-10 Jnc株式会社 シルセスキオキサン誘導体の製造方法およびシルセスキオキサン誘導体
US20070167552A1 (en) 2002-08-27 2007-07-19 Georg Stoeppelmann Polyamide moulding materials for the production of moulded articles having reduced surface carbonization
US20040166077A1 (en) 2002-12-04 2004-08-26 L'oreal Process for treating keratin materials with aromatic active principles
JP4433452B2 (ja) 2003-03-26 2010-03-17 大日本塗料株式会社 水性樹脂組成物
JP5107573B2 (ja) 2003-04-25 2012-12-26 ザ ペン ステイト リサーチ ファウンデーション 増殖抑制性脂質由来生物活性化合物の全身送達方法およびシステム
JP2005014293A (ja) 2003-06-24 2005-01-20 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録方法
WO2005010077A1 (ja) * 2003-07-29 2005-02-03 Toagosei Co., Ltd. 珪素含有高分子化合物及びその製造方法並びに耐熱性樹脂組成物及び耐熱性皮膜
US7081295B2 (en) 2003-08-18 2006-07-25 Eastman Kodak Company Method of manufacturing a polymethylmethacrylate core shell nanocomposite optical plastic article
US7396873B2 (en) * 2003-09-29 2008-07-08 Sanyo Electric Co., Ltd. Organometallic polymer material and process for preparing the same
US7056840B2 (en) 2003-09-30 2006-06-06 International Business Machines Corp. Direct photo-patterning of nanoporous organosilicates, and method of use
KR100628943B1 (ko) 2004-04-16 2006-09-27 학교법인 포항공과대학교 중심-껍질 구조의 나노입자, 및 이의 제조방법
DE102004022406A1 (de) 2004-05-06 2005-12-15 Wacker-Chemie Gmbh Polysiloxan-Pfropfpolymerisat
EP1773936B1 (en) 2004-06-01 2015-09-02 The Penn State Research Foundation Unagglomerated core/shell nanocomposite particles
DE102004044418A1 (de) 2004-09-14 2006-03-30 Wacker Chemie Ag Silicondecklack mit verbesserter Schmutzabweisung und verbesserter Verklebbarkeit mit Kernhülle-Partikel
WO2006059652A1 (ja) * 2004-12-01 2006-06-08 Sanyo Electric Co., Ltd. 有機金属ポリマー材料
CN101098911A (zh) * 2004-12-07 2008-01-02 松下电工株式会社 透射紫外线的多面硅倍半氧烷聚合物
JP2006160880A (ja) 2004-12-07 2006-06-22 Jsr Corp 水系分散体及びその製造方法、並びにその水系分散体を用いた水系防汚塗料
US20060147177A1 (en) * 2004-12-30 2006-07-06 Naiyong Jing Fluoropolymer coating compositions with olefinic silanes for anti-reflective polymer films
US8258083B2 (en) 2004-12-30 2012-09-04 Sun Drilling Products Corporation Method for the fracture stimulation of a subterranean formation having a wellbore by using impact-modified thermoset polymer nanocomposite particles as proppants
US20070181302A1 (en) 2004-12-30 2007-08-09 Sun Drilling Products Corporation Method for the fracture stimulation of a subterranean formation having a wellbore by using thermoset polymer nanocomposite particles as proppants, where said particles are prepared by using formulations containing reactive ingredients obtained or derived from renewable feedstocks
US7241437B2 (en) 2004-12-30 2007-07-10 3M Innovative Properties Company Zirconia particles
CN100381484C (zh) 2005-03-04 2008-04-16 华东理工大学 核壳型聚硅氧烷复合粒子的制备方法
US7723438B2 (en) 2005-04-28 2010-05-25 International Business Machines Corporation Surface-decorated polymeric amphiphile porogens for the templation of nanoporous materials
JP4665133B2 (ja) 2005-06-06 2011-04-06 信越化学工業株式会社 シリコーンエラストマー球状粒子、その水性ディスパージョン及びそれらの製造方法
JP4820716B2 (ja) 2005-08-30 2011-11-24 富士フイルム株式会社 防眩フィルム、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2007112977A (ja) * 2005-09-26 2007-05-10 Fujifilm Corp 絶縁膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法
JP5046366B2 (ja) 2005-10-20 2012-10-10 信越化学工業株式会社 接着剤組成物及び該接着剤からなる接着層を備えたシート
JP2007146148A (ja) 2005-10-27 2007-06-14 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた電子部品装置
JP2007146150A (ja) 2005-11-02 2007-06-14 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた電子部品装置
FR2894164B1 (fr) 2005-12-01 2008-02-29 Centre Nat Rech Scient Preparation de substrats fibreux superhydrophobes
KR100564232B1 (ko) 2006-01-10 2006-03-28 학교법인 포항공과대학교 중심-껍질 구조의 나노입자를 이용한 저유전성 절연막의제조방법 및 이로부터 제조되는 저유전성 절연막
AU2007223713B2 (en) 2006-03-01 2009-11-19 Elc Management Llc Clear sunscreen gels and methods of use thereof
CN100523020C (zh) 2006-06-08 2009-08-05 武汉大学 高性能有机硅改性醋酸乙烯酯乳液及其制备方法
JP2008056751A (ja) 2006-08-30 2008-03-13 Asahi Kasei Chemicals Corp 水性樹脂分散体
US7794911B2 (en) 2006-09-05 2010-09-14 Xerox Corporation Toner compositions
US7385020B2 (en) 2006-10-13 2008-06-10 3M Innovative Properties Company 2-octyl (meth)acrylate adhesive composition
TWI361205B (en) * 2006-10-16 2012-04-01 Rohm & Haas Heat stable aryl polysiloxane compositions
JP2008115302A (ja) 2006-11-06 2008-05-22 Kaneka Corp シリコーン系重合体粒子を含有する光学材料用シリコーン系組成物
JP2008127405A (ja) 2006-11-16 2008-06-05 Toyota Central R&D Labs Inc コアシェル型球状シリカ系メソ多孔体、それを用いた触媒及び吸着材
US7654888B2 (en) 2006-11-22 2010-02-02 Applied Materials, Inc. Carrier head with retaining ring and carrier ring
JP2008144053A (ja) 2006-12-11 2008-06-26 Dow Corning Toray Co Ltd 複合微粒子及びその製造方法
CN101563414A (zh) 2006-12-20 2009-10-21 Hoya株式会社 金属氧化物系纳米粒子、其制造方法、纳米粒子分散树脂及其制造方法
FR2910286B1 (fr) 2006-12-20 2009-04-17 Oreal Composition comprenant des composes silicones encapsules
FR2910345A1 (fr) 2006-12-20 2008-06-27 Oreal Particules coeur/ecorce a base de composes silicones
JP2008201908A (ja) 2007-02-20 2008-09-04 Kaneka Corp 中空シリコーン系微粒子とフッ素系樹脂を含む被膜を有する被膜付基材
EP2155805A2 (en) 2007-05-11 2010-02-24 Basf Se Polymeric dyes
US7867689B2 (en) 2007-05-18 2011-01-11 International Business Machines Corporation Method of use for photopatternable dielectric materials for BEOL applications
US8470516B2 (en) 2007-05-18 2013-06-25 International Business Machines Corporation Method of forming a relief pattern by e-beam lithography using chemical amplification, and derived articles
KR101077274B1 (ko) 2007-05-28 2011-10-27 코오롱인더스트리 주식회사 폴리알킬실세스퀴옥산 미립자 및 그 제조방법
JP2008303358A (ja) 2007-06-11 2008-12-18 Kaneka Corp 中空シリコーン粒子系被膜形成用塗布液、被膜付基材
ES2435200T3 (es) 2007-06-15 2013-12-16 Mayaterials, Inc. Silsesquioxanos multifuncionales para nuevas aplicaciones de recubrimiento
JP5058692B2 (ja) 2007-06-29 2012-10-24 キヤノン株式会社 帯電部材、プロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置
WO2009008452A1 (ja) 2007-07-10 2009-01-15 Kaneka Corporation シリコーン系重合体粒子を含有するシリコーン系組成物およびその製造方法
JP2009024077A (ja) 2007-07-19 2009-02-05 Kaneka Corp シリコーン系重合体粒子を含有するシリコーン系組成物およびその製造方法
JP5599134B2 (ja) 2007-07-26 2014-10-01 旭化成ケミカルズ株式会社 多官能シランを用いた有機・無機複合組成物
JP2009051934A (ja) 2007-08-27 2009-03-12 Kaneka Corp フッ素含有中空シリコーン粒子およびそれとフッ素系樹脂を含む被膜を有する被膜付基材
JP2009091466A (ja) 2007-10-09 2009-04-30 Nikko Rika Kk 球状コア/シェル型複合微粒子およびその製造方法
KR100962936B1 (ko) 2007-12-20 2010-06-09 제일모직주식회사 반도체 조립용 접착 필름 조성물 및 접착 필름
KR101400323B1 (ko) 2007-12-21 2014-05-28 코오롱인더스트리 주식회사 코어-쉘 구조의 폴리머 비드 및 그의 제조방법
JP2009155442A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Nippon Steel Chem Co Ltd レンズ用樹脂組成物及びその硬化物
JP5255270B2 (ja) 2007-12-27 2013-08-07 日揮触媒化成株式会社 コアシェル構造を有する無機酸化物微粒子、該微粒子を含む分散ゾルおよび光学基材用塗布液
EP2244982B1 (en) 2007-12-28 2018-01-24 3M Innovative Properties Company Method of making zirconia-containing nanoparticles
JP2009191120A (ja) 2008-02-13 2009-08-27 Kaneka Corp シリコーン系重合体粒子を含有する粒子分散液の製造方法
US7807751B2 (en) 2008-02-25 2010-10-05 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Core-shell particle, method, and composition
JP2009253203A (ja) 2008-04-10 2009-10-29 Asahi Kasei E-Materials Corp 太陽電池用コーティング組成物
CN102007154B (zh) 2008-04-14 2012-11-28 综研化学株式会社 复合树脂颗粒团及其用途
DE102008020441A1 (de) 2008-04-23 2009-10-29 Merck Patent Gmbh Klebstoff
US8758854B2 (en) 2008-04-25 2014-06-24 Nikko Rica Corporation Process for producing sugar-plum-shaped particle
JP2009280706A (ja) 2008-05-22 2009-12-03 Asahi Kasei Chemicals Corp 有機・無機複合体
JP5411574B2 (ja) 2008-05-26 2014-02-12 旭化成ケミカルズ株式会社 複合体、機能性構造体及びコーティング剤
JP5688973B2 (ja) * 2008-08-26 2015-03-25 関西ペイント株式会社 重合性官能基を有するシルセスキオキサン化合物
CN101376812B (zh) 2008-09-28 2012-02-01 中国科学技术大学 一种核-壳型含硅协效阻燃剂及其制备方法
US8575383B2 (en) 2008-10-15 2013-11-05 Kansai Paint Co., Ltd. Silsesquioxane compound having polymerizable functional group
JP5329905B2 (ja) 2008-10-16 2013-10-30 株式会社カネカ ポリシロキサン系組成物およびそれから得られる硬化物
JP2010116442A (ja) 2008-11-11 2010-05-27 Kaneka Corp 透明被膜形成用塗布液、被膜付基材
JPWO2010055632A1 (ja) 2008-11-13 2012-04-12 株式会社カネカ シリコーン系重合体粒子およびシリコーン系組成物
JP5495537B2 (ja) 2008-11-26 2014-05-21 キヤノン株式会社 弾性現像ローラ
US8084177B2 (en) 2008-12-18 2011-12-27 Xerox Corporation Toners containing polyhedral oligomeric silsesquioxanes
US7985523B2 (en) 2008-12-18 2011-07-26 Xerox Corporation Toners containing polyhedral oligomeric silsesquioxanes
JP2010144153A (ja) 2008-12-22 2010-07-01 Nitto Denko Corp 有機−無機複合成形体
KR101190718B1 (ko) 2008-12-24 2012-10-12 제일모직주식회사 코어-쉘 구조를 갖는 (메타)아크릴계 미립자 및 그 제조방법
JP2010175798A (ja) 2009-01-29 2010-08-12 Konica Minolta Business Technologies Inc 2成分現像剤
JP5563232B2 (ja) 2009-03-27 2014-07-30 株式会社日本触媒 コアシェル型有機無機複合体粒子の製造方法、コアシェル型有機無機複合体粒子、および導電性微粒子
US8323803B2 (en) 2009-04-01 2012-12-04 Xerox Corporation Imaging member
JP2010260881A (ja) 2009-04-06 2010-11-18 Ube Nitto Kasei Co Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法及びシリカ粒子の製造方法
US20100280151A1 (en) 2009-05-04 2010-11-04 Toray Industries, Inc. Toughened fiber reinforced polymer composite with core-shell particles
CN101550217A (zh) 2009-05-12 2009-10-07 天津城市建设学院 一种无皂核壳型硅丙乳液的制备方法
CN101781390B (zh) 2009-05-12 2013-08-07 天津城市建设学院 一种建筑外墙用核壳结构高硅硅丙乳液的制备方法
JP2010265410A (ja) 2009-05-15 2010-11-25 Kaneka Corp Led封止剤
KR101050719B1 (ko) 2009-06-01 2011-07-20 이스트힐(주) 실리콘수지 코팅 이산화티탄 복합입자와 그의 제조방법 및 이를 포함하는 화장료 조성물
US8431220B2 (en) 2009-06-05 2013-04-30 Xerox Corporation Hydrophobic coatings and their processes
US8173342B2 (en) 2009-06-29 2012-05-08 Xerox Corporation Core shell photoconductors
US8168357B2 (en) 2009-06-29 2012-05-01 Xerox Corporation Polyfluorinated core shell photoconductors
US8329301B2 (en) 2009-07-29 2012-12-11 Xerox Corporation Fluoroelastomer containing intermediate transfer members
US8012583B2 (en) 2009-07-29 2011-09-06 Xerox Corporation Polyaniline silanol containing intermediate transfer members
JP5455501B2 (ja) 2009-08-07 2014-03-26 日揮触媒化成株式会社 コアシェル型複合酸化物微粒子の分散液および該分散液の製造方法、該コアシェル型複合酸化物微粒子を含む塗料組成物、硬化性塗膜および硬化性塗膜付き基材
JP5440065B2 (ja) 2009-09-17 2014-03-12 株式会社豊田中央研究所 金内包コアシェル型単分散球状メソポーラスシリカ
JP5419625B2 (ja) 2009-10-06 2014-02-19 株式会社日本触媒 コアシェル型粒子、光拡散剤、および光拡散媒体
US8389663B2 (en) 2009-10-08 2013-03-05 International Business Machines Corporation Photo-patternable dielectric materials curable to porous dielectric materials, formulations, precursors and methods of use thereof
KR101273167B1 (ko) 2009-10-08 2013-07-04 주식회사 엘지화학 눈부심 방지 조성물 및 이의 제조방법
JP2011099074A (ja) 2009-11-09 2011-05-19 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd プライマー層膜形成用塗料組成物およびプラスチックレンズ
JP5581662B2 (ja) 2009-11-18 2014-09-03 信越化学工業株式会社 化粧料
CN101717565B (zh) 2009-11-20 2012-01-04 金发科技股份有限公司 一种耐高低温阻燃聚碳酸酯组合物及其制备的模制品
CN101724394A (zh) 2009-12-01 2010-06-09 北京交通大学 一种生物荧光纳米颗粒和温度传感薄膜及其制备方法
JP5374343B2 (ja) 2009-12-07 2013-12-25 積水化学工業株式会社 コアシェル粒子及びコアシェル粒子の製造方法
JP5399886B2 (ja) 2009-12-25 2014-01-29 宇部エクシモ株式会社 中空無機粒子の製造方法、及び中空無機粒子
US9690218B2 (en) 2010-03-10 2017-06-27 Xerox Corporation Intermediate transfer member
WO2012002278A1 (ja) 2010-06-29 2012-01-05 日本ゼオン株式会社 静電荷像現像用トナー
JP5599674B2 (ja) 2010-08-10 2014-10-01 株式会社日本触媒 重合体微粒子および導電性微粒子
JP5841319B2 (ja) 2010-08-10 2016-01-13 株式会社日本触媒 重合体微粒子および導電性微粒子
KR20120021926A (ko) 2010-08-23 2012-03-09 웅진코웨이주식회사 실리콘 파우더 복합 입자, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 화장료 조성물
US20130221400A1 (en) * 2010-10-19 2013-08-29 Mitsuru Tanikawa Encapsulating agent for optical semiconductor devices, and optical semiconductor device using same
JP5354753B2 (ja) 2011-01-13 2013-11-27 信越化学工業株式会社 アンダーフィル材及び半導体装置
EP2675560B1 (en) 2011-02-14 2019-08-28 Dionex Corporation Liquid chromatographic column including a ligand comprising a polyhedral oligomeric silsequioxane moiety, and liquid chromatografic method using the column
US20120288692A1 (en) 2011-04-12 2012-11-15 Norman Scott Broyles Renewably sourced films and methods of forming same
KR20120132164A (ko) 2011-05-27 2012-12-05 삼성전자주식회사 내오염성 유무기 복합 화합물, 내오염성 막 및 내오염성 막의 제조 방법
JP5358623B2 (ja) 2011-06-29 2013-12-04 株式会社日立製作所 有機−無機ハイブリッド材料
EP2733178A4 (en) * 2011-07-14 2015-03-04 Sekisui Chemical Co Ltd SEALING AGENT FOR OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICES AND OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE
JP2013022791A (ja) 2011-07-19 2013-02-04 Sumitomo Light Metal Ind Ltd プレコートアルミニウム合金板
WO2013015469A1 (en) 2011-07-28 2013-01-31 Protavic Korea Co., Ltd. Flexible bismaleimide, benzoxazine, epoxy-anhydride adduct hybrid adhesive
KR101937140B1 (ko) 2011-08-03 2019-04-09 주식회사 동진쎄미켐 광경화형 유-무기 하이브리드 수지 조성물
CN102432920A (zh) 2011-08-17 2012-05-02 中科院广州化学有限公司 一种耐高温核壳结构型阻燃剂及其制备方法与应用
US20140323677A1 (en) * 2011-09-01 2014-10-30 Toagosei Co., Ltd. Thermal-shock-resistant cured product and method for producing same
KR101950516B1 (ko) 2011-09-06 2019-02-20 히타치가세이가부시끼가이샤 절연 피복용 입자, 절연 피복 도전 입자, 이방 도전 재료 및 접속 구조체
JP6049368B2 (ja) 2011-09-15 2016-12-21 日揮触媒化成株式会社 Al修飾無機酸化物微粒子とその製造方法、分散液、および塗料組成物
CN103030752B (zh) 2011-09-29 2016-02-03 比亚迪股份有限公司 聚合物微球及其制备方法和应用及组合物及光扩散板或光扩散膜及灯具和背光模组
TW201317281A (zh) 2011-10-20 2013-05-01 Univ Nat Central 一種核殼結構之次微米顆粒的製備方法
KR20130062054A (ko) * 2011-12-02 2013-06-12 한국전자통신연구원 광경화형 수지 조성물 및 이를 이용한 복제몰드의 제조방법
KR101317776B1 (ko) 2011-12-14 2013-10-11 한국과학기술연구원 코어-쉘 구조를 갖는 페닐폴리실록산 수지
CN103987826A (zh) 2011-12-16 2014-08-13 荷兰联合利华有限公司 织物处理
BR112014013660A2 (pt) 2011-12-16 2017-06-13 Unilever Nv uso de uma partícula
ES2567469T3 (es) 2011-12-16 2016-04-22 Unilever N.V. Tratamiento de tejidos
CN102532554A (zh) 2011-12-30 2012-07-04 山东省产品质量监督检验研究院 一种有机硅改性丙烯酸酯核壳材料的制备方法
CN102585073B (zh) 2012-01-16 2013-11-13 中山大学 氟硅改性丙烯酸酯乳液及其制备方法
JP5844219B2 (ja) 2012-05-31 2016-01-13 日本化学工業株式会社 導電性粒子の製造方法
JP2013249371A (ja) 2012-05-31 2013-12-12 Hayakawa Rubber Co Ltd コアシェル微粒子、コアシェル微粒子群及びコアシェル微粒子の製造方法
US20130318863A1 (en) 2012-06-05 2013-12-05 Jo-Shu Chang Core-shell magnetic composite and application on producing biodiesel using the same
WO2013192398A1 (en) 2012-06-21 2013-12-27 Massachusetts Institute Of Technology Particulate materials for uranium extraction and related processes
JP6009241B2 (ja) 2012-06-25 2016-10-19 早川ゴム株式会社 コアシェル微粒子の製造方法
JP6089462B2 (ja) 2012-06-25 2017-03-08 日本化学工業株式会社 導電性粒子、その製造方法及びそれを含む導電性材料
CN102718930B (zh) 2012-06-25 2013-12-11 东华大学 一种有机硅改性丙烯酸酯乳液及其制备方法
JP5704133B2 (ja) 2012-07-19 2015-04-22 信越化学工業株式会社 コアシェル型正方晶系酸化チタン固溶体水分散液、その製造方法、紫外線遮蔽性シリコーンコーティング組成物、及び被覆物品
JPWO2014024379A1 (ja) 2012-08-10 2016-07-25 パナソニックIpマネジメント株式会社 メソポーラスシリカ微粒子、メソポーラスシリカ微粒子の製造方法、メソポーラスシリカ微粒子含有組成物、メソポーラスシリカ微粒子含有成形物及び有機エレクトロルミネッセンス素子
CN103289021B (zh) 2012-12-18 2015-04-22 杭州师范大学 一种水性有机无机氟硅改性丙烯酸酯聚合物乳液及其制备方法与应用
US20140178698A1 (en) 2012-12-21 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
WO2014099699A1 (en) 2012-12-21 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
CN103012689B (zh) 2013-01-06 2014-08-20 江苏金陵特种涂料有限公司 有机硅丙烯酸改性水性环氧乳液及其制备方法
CN103113812A (zh) 2013-02-20 2013-05-22 合肥杰事杰新材料股份有限公司 一种poss基纳米材料改性聚酯粉末涂料及其制备方法
CN103173041B (zh) 2013-03-08 2014-06-04 北京化工大学 一种制备核壳型笼型倍半硅氧烷包覆多壁碳纳米管的方法
CN104045831B (zh) * 2013-03-14 2016-12-28 中国科学院化学研究所 一种硅氧烷桥基梯形聚硅氧烷及其制备方法
GB201308704D0 (en) * 2013-05-15 2013-06-26 Rolls Royce Plc Electrical apparatus encapsulant
CN103275273A (zh) 2013-06-08 2013-09-04 南开大学 一种核壳型分子印迹纳米材料的制备方法及其应用
WO2015195355A1 (en) 2014-06-20 2015-12-23 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods
JP2017519081A (ja) 2014-06-20 2017-07-13 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー シルセスキオキサンポリマーコア及びシルセスキオキサンポリマー外層を含む硬化性ポリマー並びに方法
WO2015195391A1 (en) 2014-06-20 2015-12-23 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions comprising a silsesquioxane polymer crosslinker, articles and methods

Also Published As

Publication number Publication date
CN105814155A (zh) 2016-07-27
US20160319156A1 (en) 2016-11-03
CN108299644A (zh) 2018-07-20
KR101774984B1 (ko) 2017-09-05
EP3080219A1 (en) 2016-10-19
KR20160086955A (ko) 2016-07-20
WO2015088932A1 (en) 2015-06-18
JP2017508013A (ja) 2017-03-23
US10066123B2 (en) 2018-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6197118B2 (ja) 硬化性シルセスキオキサンポリマー、組成物、物品、及び方法
EP2935493B1 (en) Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
US9725561B2 (en) Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core and silsesquioxane polymer outer layer and methods
JPS61278574A (ja) はつ油性およびはつ水性塗料組成物
US9938307B2 (en) Polyfluoroalkylated alkenes and silane compounds prepared therefrom
KR20080104979A (ko) 내찰상성 코팅 조성물 및 피복 물품
WO2016032794A1 (en) Novel polyfluoroalkylated alkenes and silicone compounds prepared therefrom
JP6864353B2 (ja) 塗装表面用水系組成物
US20140178698A1 (en) Curable silsesquioxane polymers, compositions, articles, and methods
JP3232004B2 (ja) コーティング材組成物
WO2016032739A1 (en) Novel polyfluoroalkylated alkenes and silicon compounds prepared therefrom
WO2018042302A1 (en) Curable silsesquioxane polymer comprising inorganic oxide nanoparticles, articles, and methods
US9957416B2 (en) Curable end-capped silsesquioxane polymer comprising reactive groups
JP6837226B2 (ja) 水系塗料組成物
JP3987505B2 (ja) 表面処理剤、表面処理方法及び該方法により処理された物品
US9957358B2 (en) Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core silsesquioxane polymer outer layer, and reactive groups
JP7307468B2 (ja) 塗装表面用水系組成物
JP7152010B2 (ja) 塗装表面用水系組成物
JP2011173966A (ja) 親水性コーティング材組成物及び外回り住宅部材

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170111

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170111

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20170111

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20170127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170207

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20170217

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20170220

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170418

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170711

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170725

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170821

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6197118

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees