JP5536667B2 - 低コヒーレンス走査干渉法における走査エラー補正 - Google Patents
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Description
一般的に、例えば、監視カメラによって見える二次参照境界面だけに基づく干渉の影響の解析は、一次カメラによって見える一次参照境界面だけに基づく干渉の影響の解釈を円滑化する情報を提供する。
一般的に、一態様において、本発明は、被験物体からの試験光と参照物体からの参照光を合成して、検出器上に干渉パターンを形成するための干渉計光学系を含む広帯域走査干渉計システムが含まれる装置を特徴とする。ここで、試験光及び参照光は、共通の光源から導出される。本干渉系には、更に、共通の光源から検出器への試験光と参照光との間の光路差(OPD)を走査するように構成された走査ステージと、検出器を含み、一連の各OPD増分に対する干渉パターンを記録するための検出系が含まれる。ここで、各OPD増分の周波数は、フレームレートと定義する。干渉計光学系は、OPDが走査される際、各々OPDの変化を示す少なくとも2つの監視干渉信号を生成するように構成される。ここで、検出系は、更に、監視干渉信号を記録するように構成されている。本装置には、更に、検出系及び走査ステージに電子的に結合され、また、フレームレートより高い周波数におけるOPD増分への摂動に対する感度でOPD増分に関する情報を決定するように構成された電子プロセッサが含まれる。
幾つかの実施形態において、検出器は、多素子検出器である。多素子検出器には、少なくとも2つの監視干渉信号を記録するように構成された要素を含み得る。
本方法には、更に、検出器を用いて記録された干渉パターンに対応する一次干渉信号に基づき、被験物体に関する情報を決定する段階を含み得る。情報を決定する段階は、OPD増分に関する情報に基づき、情報の不確定性を低減し得る。
1つ又は複数の干渉信号には、被験物体の異なる位置に対応する多数の干渉信号を含み得る。これら1つ又は複数の干渉信号には、被験物体を照射して干渉信号を生成するために用いられる対物レンズ用の瞳面の異なる位置に対応する多数の干渉信号を含み得る。各干渉信号は、同じ複数の基底関数からの寄与に分解し得る。
干渉信号を分解する段階には、行列の各列が基底関数に対応する行列を形成する段階と、行列の逆行列をとる段階と、逆行列を各干渉信号に適用する段階と、を含み得る。各基底関数の要素の数は、基底関数の数を超過し得る。
他の態様において、本発明は、検出サブシステムと、干渉計光学系と、走査ステージと、電子プロセッサと、が含まれる干渉系を特徴とする。検出サブシステムには、監視検出器が含まれる。干渉計光学系は、被験物体からの試験光と第1参照境界面からの一次参照光及び第2参照境界面からの二次参照光を合成して、監視検出器上に監視干渉パターンを形成する。ここで、第1及び第2参照境界面は、互いに及び試験光に対して機械的に固定される。走査ステージは、検出サブシステムが一連の各OPD増分に対する監視干渉パターンを記録する間、監視検出器への試験光と一次及び二次参照光との間の光路差(OPD)を走査するように構成される。電子プロセッサは、検出サブシステム及び走査ステージに電子的に結合され、また、検出された監視干渉パターンに基づき、OPD増分に関する情報を決定するように構成される。
干渉系には、試験光、一次参照光、及び二次参照光を生成するための照射サブシステムを含み得る。照射サブシステムには、試験光、一次参照光、及び二次参照光を生成する共通の光源を含み得る。幾つかの実施形態では、共通の光源は、広帯域光源である。照射サブシステムには、試験光及び一次参照光を提供するための一次光源と、二次参照光を提供するための監視光源と、を含み得る。一次光源は、広帯域光源であってよい。監視光源は、狭帯域光源(例えば、単色光源)であってよい。
一般的に、他の態様において、本発明は、方法を特徴とする。本方法には、被験物体からの試験光と第1参照境界面からの一次参照光及び第2参照境界面からの二次参照光を合成して、監視検出器に監視干渉パターンを形成する段階が含まれる。ここで、第1及び第2参照境界面は、互いに及び試験光に対して機械的に固定される。更に、本方法には、監視検出器への試験光と一次及び二次参照光との間の光路差(OPD)を走査する段階と、一連の各OPD増分に対する監視干渉パターンを記録する段階と、検出された監視干渉パターンに基づき、OPD増分に関する情報を決定する段階と、が含まれる。本方法の実施例には、他の態様の任意の特徴を含み得る。
異なる図面における同様の参照記号は、同様の要素を示す。
上記議論は、被験物体を検出器に結像するように構成された干渉顕微鏡に関するが、走査エラー補正は、更に、他の構成に適用し得る。例えば、幾つかの実施形態では、干渉顕微鏡は、顕微鏡の瞳面を検出器に結像するように構成し得る。そのような構成をPUPS構成と称する。この動作モードは、例えば、試験面の複素反射率を求めるために有用なことがある。
図1及び6に関連して述べた上記の実施形態では、双方共、焦点走査を提供するミロー対物系を利用する。しかしながら、一般的には、他の構成も可能である。例えば、リンニク対物系を含む干渉系を用いることができる。そのようなシステムを図9に示す。具体的には、システム300には、被験物体175を検出器上に結像するように構成された干渉顕微鏡310が含まれる。システム300には、システム100に関して上述した多数の要素が含まれる。しかしながら、システム300には、ミロー対物系ではなく、ビームスプリッタ379を特徴とするリンニク干渉対物系325が含まれ、このビームスプリッタは、ビームスプリッタ170からの光を対物系の異なるアームに沿った試験光及び参照光に分離する。対物系325は、試験光のアームに試験対物レンズ327を含み、また、対応する参照対物レンズ329を参照光アームに含む。参照物体381は、参照アーム内に配置され、参照光を反射してビームスプリッタ379に戻す。
一般的に、様々な方法が、監視データから走査位置を求めるために利用可能である。例えば、解析を低周波源の走査エラーに限定する場合、特定のカメラフレーム及び特定の画素における監視信号の位相を推定するには、従来の位相シフト干渉法(PSI)アルゴリズムを適用すれば充分である。例えば、カメラフレーム間の公称位相シフトがπ/2である場合、公知の位相シフトアルゴリズムは、次の形式をとる。
ここで、rは、画素位置を指定するベクトルであり、また、g1,2,…5は、データ取込み走査時に取り込まれた一連のカメラフレームに対するその画素における対応する強度測定値である(例えば、シュヴァイダー(Schwider)ら、1983年、光学百科事典(Encyclopedia_of_Optics)、p.2101、表2を参照)。式(1)は、基本的には、中間フレームg3の位相Φを提供する。他の例として、走査位置を求めるために、デック(L.Deck、「耐振動性位相シフト干渉法(Vibration−resistant_phase−shifting_interferometry)」応用光学35、6655−6662(1996))によって提案されたPSIアルゴリズム、並びにオルスザック(Olszak)及びシュミット(Schmit)(米国6,624,894)によって提案されたPSIアルゴリズムを適用し得る。しかしながら、PSIアルゴリズム法は、低周波振動のみに効果的であるが、これは、アルゴリズムそれ自体が、低コヒーレンス信号と同様に高周波振動に敏感であるという理由による。
上式において、z0は、理想的走査を示し、εは、エラー又は雑音の項を示す。干渉計の位相は、次のように与えられる。
上式において、Φ0は、画素面の異なる点に潜在的な位相差を与える位相オフセットである。二次光源からの光の波長は、λによって与えられ、また、rから独立していると仮定される。
経路差の走査は、リンニクシステムのように物体及び参照鏡が一緒に移動して、これにより平行空間における走査を実現する場合、θに依存しない。しかし、ミローシステムのように物体焦点を走査する場合、OPDは、θに依存する。従って、2つの制限的な場合がある。
z0(t,r)=cos(θ(r))z0(t,0)、(焦点走査の場合)
・・・(5)
経路長及び焦点の双方を走査する場合(これは、例えば、リンニクシステムで可能)、z0は、これら2種類の運動の算術和である。
ε(t,r)=εp(t)+cos(θ(r))εf(t)・・・(7)
この式の第1の和は、平行空間における振動又は走査エラーを表す。また、cos(θ)に比例する第2項は、焦点エラーに起因する干渉計の高開口数空間における振動又は走査エラーを表す。εは、小さいと仮定する。
I(t,r)=[A(r)+dA(t,r)]cos[Φ(t,r)]+c(r)+dc(t,r)・・・(8)
A(r)は、点rにおける干渉像の平均振幅を示す。dA(t,r)は、点rにおける干渉像の振幅の平均を中心とした変動を示す。Φ(t,r)は、rにおける位相を時間tの関数として示す。c(r)は、一般的にr依存である干渉像信号の平均オフセットを示す。dc(t,r)は、オフセットの平均を中心とした変動を示す。これは、通常、ゆっくりと変動する時間の関数である。
ti+1=ti+δt、(δtはiから独立)・・・(9)
点rについて、時間の完全な組{ti}は、一次元配列として考えられ、雑音項εp(t)及びεf(t)の推定を行うことができる。単一の画素では、上述したように、高振動周波数でこれら誤差項の信頼度の高い推定が得られない。しかし、多数のそのようなベクトルが異なる点{ri}にあれば、これらの各雑音項について数多くの推定を行い得る。最終的な推定は、測定値の組に中央値を適用することによって得られる。
ベクトルIFineから、π/2の奇数倍の位相で起こる信号の極値(極大及び極小の双方)を計算し得る。
これらのピーク値を用いて、以下の量、即ち、c(t)+dc(t)、A+dA(t)、及び理想的位相Φidealをtの関数として全て推定することができる。Φidealは、以下の関数形式をピークデータに近似させることによって求める。
上式において、経路長走査と焦点走査の場合、それぞれ
この式は、ベクトルの全てのサンプル点に適用すべきである。一旦、dΦを推定すると、エラーε(t,r)を計算することは、簡単なことである。θの異なる値に対する複数のそのようなベクトルを処理することで、誤差項εp(t)及びεf(t)を分離するために充分な情報が提供される。例えば、n個の監視信号が異なる入射角で解析される場合、収集した情報は、各時間サンプルtについてn個の式を生成する。
一般的に、走査エラーが明らかになると、低コヒーレンス干渉データは、エラーの根拠を示すために補正し得る。以下は、何らかの更なる処理に先立つ低コヒーレンス信号自体の補正を例示する更に詳細な例である。一旦、走査位置を測定すると、低コヒーレンス走査データは、三次補間又は他の種類の補間式によって補正し得る。Iw(t,r)は、低コヒーレンス走査データを示すものとする。走査エラー解析から、このデータは、時間{ti}にサンプリングされたのではなく、これらの時間プラス誤差項にサンプリングされたことが分かる。即ち、実際のサンプルは、時間
Ti(r)=ti+Δi(r)・・・(16)
に発生した。上式において、
Δi(r)=[ep(ti)+cos(θ(r))ef(ti)]/(dzideal(r)/dt)・・・(17)
上式において、経路長走査及び物体焦点走査の場合、それぞれ
Iw(ti,r)=Iw(Ti−Δi(r),r)・・・(19)
を用いることによってIw(ti,r)を概算するために、三次式近似補間を用いることができる。
Si(t)=ai(t−Ti)3+bi(t−Ti)2+ci(t−Ti)+di、t∈[Ti,Ti+1]の場合・・・(20)
を有し、これら多項式セグメントは、合わせてスプラインS(t)で示す。
Si(Ti)=Ii、Si(Ti+1)=Ii+1・・・(21)
これらの条件は、結果として区分的連続関数になることに留意されたい。2n個の更なる条件が、依然として必要である。補間は、出来るだけ滑らかにすることが望ましいため、一次及び二次導関数も連続的であることを要求できる。
これらの条件は、i=1、2、…、n−1、について当てはまり、結果的に2n−1個の制約条件を生じる。従って、2つの更なる条件が、スプラインを完全に確定するのに必要である。幾つかの標準的な選択肢が、ユーザに残されている。即ち、
S’’0(T0)=0,S’’n−1(Tn),(「自然境界」と呼ばれる)・・・(23)
S’0(T0)=I’0,S’n−1(Tn)=I’n,(「締境界」と呼ばれる)・・・(24)
関数が周期的である場合、他の選択肢が考えられる。どれが最良であるかは、用途に依存する。
このように補正された低コヒーレンス干渉信号は、次に、表面構造のPUPS解析であれ、従来の表面特徴の測定であれ、用途に応じて処理し得る。
幾つかの実施形態では、監視信号からの走査エラー情報を用いて、「J行列」法と称する取り組み方法を用いて干渉データを補正し得る。この取り組み方法については、後述する。
図13A乃至13Eは、振動及びカメラ雑音のない信号(即ち、走査エラーを有さない信号)の場合のデータを示す。図13Aは、信号自体を示すが、これは、人工的に生成した余弦関数であり、ガウス包絡線を伴う。実線は、非擾乱連続信号であり、これに対して、実際のデータ点は、点によって示す。それら信号点は、SWLI信号全体の約4分の1だけを示す。図13B乃至13Eは、DFT及びJ行列法によって取得されたスペクトル振幅並びにスペクトルエラーの大きさを示す。具体的には、図13B及び13Dは、DFT法を用いる場合のスペクトル及びスペクトルエラーを示し、一方、図13C及び13Eは、J行列法を用いる場合のスペクトル及びスペクトルエラーを示す。走査エラーの無い状態では、DFT及びJ行列周波数スペクトルは、同じガウス分布を有し、また、スペクトルエラーは、双方共ゼロである。
幾つかの実施形態では、走査エラーに関する情報は、複合参照体を用いて決定する。複合参照体とは、少なくとも2つの参照境界面、即ち、一次参照境界面及び二次参照境界面を有する参照物体である。
図19は、フィゾー(Fizeau)型レーザ干渉系2000の一実施形態の略図を示す。フィゾー型レーザ干渉系2000には、光源2163、ビームスプリッタ2198、被験物体2175及び複合参照体2100によって形成された干渉空胴を含む。複合参照体2100は、反射率r1の一次参照面2181A及び反射率r2の二次参照面2181Bを有する。複合参照体2100は、干渉走査を実施するために、アクチュエータ2193(移相器とも称する)でZ方向に変位可能である。干渉系2000は、更に、一次カメラ2191及び開口2106、並びに二次カメラ2199(監視カメラとも称する)を含む。図19では、レンズ等の追加の光学要素、又は撮像干渉系の他の特徴を示さないが、その内の幾つかは、例えば、図28に関連して説明する。
θ=arg(r0)・・・(41)
また、参照体に関連した位相プロファイルオフセットは、
φ=arg(r1)・・・(42)
監視カメラ2199について、干渉は、次のように記述できる。
一例として、図20は、複合型強度反射率プロファイルPを示す。複合型強度反射率プロファイルPは、100×100画素の格子に渡ってシミュレーションによって計算された。この場合、被験物体2175は、存在せず、一次参照面2181Aと二次参照面2181Bとの間の相対的な傾きが、2波長分の光路差にまで蓄積され、視野(FOV)全体に渡って一次反射率R1が4%、二次反射率R2が0.4%である。
そして、監視干渉信号から決定した位相シフトに関する情報を用いて、一次カメラで検出した干渉信号を解析し、例えば、被験物体表面の3D面の高さを決定する(ステップ2030)。
例えば、図29は、光源・検出ユニット3215及び複合参照体2250を含む干渉系2002を示す。光源・検出ユニット3215は、光源・検出ユニット3210と同様である。しかしながら、複合参照体2250は、平面ではなく球面の波面を形成して、湾曲した被験物体3175を照射するように構成される点において、複合参照体2200と異なる。具体的には、複合参照体2250は、第1光学要素2252A、レンズ2258、及び第2光学要素2252Bを含む。レンズ2258及び第2光学要素2252Bは、共に単一ユニットに搭載され、これが、搭載フランジ2204を介して第2光学要素2252Bに機械的に固定される。第1光学要素2252Aは、湾曲した第1参照面2181Aを提供し、第2光学要素は、平面の第2参照面2181Bを提供し、これによって、干渉系2002のFOVにおいて位相が変動する干渉空胴の視野依存性複素実効反射率が提供される。
被験物体2175の変位の監視は、監視画像を介して行い、別個の二次光源3197に依拠する。監視画像は、一次参照面2181A及び二次参照2181Bの実効参照面の固定複素反射率を含む3面の干渉を介して形成される。監視画像は、位相シフト補正を決定するために用いる。幾つかの実施形態では、監視画像の品質が、SWLI干渉像より劣ることがある。
変位測定干渉計
幾つかの実施形態では、走査エラーに関する情報は、変位測定干渉計(DMI)を用いて決定するが、DMIは、干渉顕微鏡から分離されており(例えば、共通の光学部品を利用しない)、また、干渉顕微鏡のOPDを走査する間、干渉顕微鏡に対して被験物体の変位を監視するように構成されている。そのようなシステムの例を図19に示す。図は、二次光源197及び二次検出器199をもはや含まないように改造した干渉顕微鏡110を示す。むしろ、レーザ光源等を利用する変位測定干渉計1801が、ミロー(Mirau)対物系167に搭載され、また、測定ビームを導いて被験物体175から反射するように構成される。DMI1801は、コンピュータ192に接続され、動作時、コンピュータ192に干渉信号を送る。コンピュータ192は、干渉信号に基づきミロー(Mirau)対物系167と被験物体175との間の相対変位を監視し、また、干渉顕微鏡110の動作と連係して、干渉顕微鏡110を用いて行われる測定に関連する走査エラーに関する情報を提供する。
走査エラー監視用のファイバベースDMI系(「センサ系」とも称する)の様々な実施例について、図33乃至48Bに関連して述べる。
一例として、センサ系を備えた顕微鏡の動作について図36乃至38に関連して述べる。センサ系は、例えば、図33に関連して上述したセンサ系であってよい。その動作は、センサ系の自動合焦機能及び運動(又は位相)監視機能を含む。
図37は、自動合焦のOPD走査中に測定された監視空胴の試験信号の変調ピーク4410、及び参照空胴の参照信号の変調ピーク4420を概略的に示す。測定信号は、例えば、変調ピーク位置を識別し、最良の焦点位置に対して被験物体の表面位置を計算する電子プロセッサを用いて解析する(ステップ4330)。本例では、最良の焦点位置は、参照信号の変調ピーク位置4420によって示される。
自動合焦モードを用いる幾つかの実施形態では、OPD走査及びセンサ系のパラメータは、例えば、5mmより大きい作動距離に対して、例えば、1mmより大きい作動範囲、例えば、約100nmの位置解像度、例えば、約250nmの位置繰り返し精度(構造化した部品上で)、例えば、直径約0.5mmのスポットサイズ、及び、例えば、10Hzより大きい速度を提供するように選択される。
上述の実施形態の幾つかにおける光源サブシステムは、一次光源163及び二次光源197を含むが、他の構成も可能である。一般的に、二次光源197からの光の波長は、波長(1つ又は複数)が二次検出器199によって検出可能であるという前提で、望み通りに変動し得る。選択された波長は、一次光源163の帯域幅内にあってもよく、全く異なる波長であってもよい。例えば、一次光源163は、白色の可視波長光を提供するように選択してよく、一方、二次光源197は、スペクトルのUV又はIR部分の光を提供するように選択してよい。更に、二次光源197は、一連の離散的な波長の光を一緒に又は順々に提供してもよい。
実施形態において、開口絞りは、光源の空間的広がりを制御するために用い得る。更に、中間面照射が実現可能である。
上記に開示した実施形態は、リンニク又はミロー対物系のいずれかを有する干渉顕微鏡を特徴とするが、走査エラー発生のための技法は、他の種類の干渉顕微鏡(例えば、マイケルソン干渉計を用いる顕微鏡)を用いても同様に実現し得る。更に一般的に、本技法は、干渉顕微鏡での使用に限定されず、顕微鏡でない干渉計を用いても同様に実現し得る。
上述したコンピュータ解析方法のいずれも、ハードウェア又は双方の組合せで実現し得る。これらの方法は、本明細書に記載した方法及び図に従う標準的なプログラミング手法を用いて、コンピュータプログラムで実現してもよい。プログラムコードは、本明細書に述べた機能を実施するためのデータを入力し、出力情報を生成するために適用される。出力情報は、表示モニタ等1つ又は複数の出力装置に適用される。各プログラムは、高級手続き型又はオブジェクト指向プログラミング言語で実装し、コンピュータシステムと通信を行い得る。しかしながら、プログラムは、望ましい場合、アセンブリ言語又は機械語で実装し得る。いずれにせよ、言語は、コンパイル型又はインタプリタ型言語であってよい。更に、プログラムは、その目的のために予め設定された専用の集積回路上で実行し得る。
上述した走査エラー補正を組み込んだ低コヒーレンス干渉法及びシステムは、次の表面解析問題、即ち、単純な薄膜と、多層薄膜と、回折もしくは複雑な干渉効果を生成する鋭利な端部及び表面特徴と、未定の表面粗さと、未定の表面特徴、例えば、溝以外は滑らかな面にある波長より小さい幅の溝と、異種の材料と、偏光に依存する表面特性と、表面のたわみ、振動、又は運動、又は干渉現象の入射角依存摂動をもたらす変形可能な表面特徴と、のいずれかに用い得る。薄膜の場合、対象の可変パラメータは、膜厚、膜の屈折率、基板の屈折率、又はそのいずれかの組合せであってよい。そのような特徴を呈する物体及び装置を含む代表的な用途について、次に議論する。
上述したシステム及び方法は、半導体工程において、特定ツールの監視又は工程フロー自体を制御するために用い得る。工程監視用途において、単層/多層膜は、パターン形成されていないSiウェーハ(モニタウェーハ)上で対応する処理ツールによって、成長、成膜、研磨、又はエッチング除去され、その後、厚さ及び/又は光学特性が、本明細書に開示する走査エラー補正技法を用いる干渉系を使用して測定される。これらのモニタウェーハの平均厚さ(及び/又は光学特性)は、もちろんウェーハが均一であるという前提で、関連処理ツールが、目標の仕様で動作しているか又はツールの的を再設定すべきか、調整すべきか、もしくはツールを生産用途から外すべきか判断するために用いられる。
所謂「二重ダマシン銅」プロセスを用いてチップの異なる部品間の電気的な相互接続部を組み立てることが、チップ製造業者の間で一般的になりつつある。これは、適切な表面トポグラフシステムを用いて効果的に特徴付け得るプロセスの例である。二重ダマシンプロセスは、6つの部分を有すると見なし得る。即ち、(1)誘電材料(ポリマ又はガラス等)層をウェーハ表面(複数の個々のチップを含む)上に成膜する層間誘電体(ILD)成膜、(2)高精度光学リソグラフィに適する滑らかな表面を生成するように、誘電体層を研磨する化学機械研磨(CMP)、(3)ウェーハ表面に平行に走る狭い溝と、溝の底からその下にある(前もって画成した)電気伝導層に走っている小さなバイアと、が含まれる複雑な回路網を生成するリソグラフィパターン形成及びリアクティブイオンエッチング段階の組合せ、(4)銅溝及びバイアの成膜に至る金属成膜段階の組合せ、(5)銅溝及びバイアに誘電体を塗布する誘電体成膜段階、及び(6)余分な銅を除去し、誘電材料によって取り囲まれ銅で充填された溝(及び可能性として、バイア)の回路網を残す最終的なCMP段階、を有すると見なし得る。
多くの小型電子回路用途では、フォトリソグラフィが、シリコンウェーハ等の基板を覆うフォトレジスト層をパターン形成するために用いられる。図20A及び20Bにおいて、物体30には、ウェーハ等の基板32、及び上層、例えば、フォトレジスト層34が含まれる。物体30には、屈折率の異なる材料間に発生する複数の境界面が含まれる。例えば、物体を囲む境界面38は、フォトレジスト層34の外側表面39が、物体30を囲む環境、例えば、液体、空気、他の気体、又は真空に接触する部分に画成される。基板層境界面36は、ウェーハ32の表面35とフォトレジスト層34の底部表面37との間に画成される。ウェーハの表面35は、複数のパターン特徴部29を含み得る。これらの特徴部の一部には、基板の隣接部分と高さは同じだが、屈折率の異なるものがある。他の特徴部は、基板の隣接部分に対して上方又は下方に延在し得る。従って、境界面36は、フォトレジストの外側表面の下に横たわる複雑で変動する形状を呈し得る。
図21A及び21Bにおいて、構造1050は、半田バンプ処理中に生成される代表的構造である。構造1050は、基板1051、非半田濡れ性領域1002、及び半田濡れ性領域1003を含む。領域1002は、外側表面1007を有する。領域1003は、外側表面1009を有する。従って、境界面1005が、領域1002と基板1001との間に形成される。
本明細書に開示する干渉系及び方法は、フラットパネル表示装置、例えば、液晶表示装置(LCD)等の製造に用い得る。
レーザは、同時に製造した異なる構造、例えば、マイクロ電子回路構造を分離するための準備中に物体をスクライブするために用い得る。分離の品質は、スクライブ条件、例えば、レーザ焦点サイズ、レーザパワー、物体の並進速度及びスクライブ深さに関係する。構造の特徴部の密度が大きくなり得ることから、スクライブラインは、構造の薄膜又は層に隣接してよい。薄膜又は層に関連する境界面は、干渉法がスクライブ深さを決定するために用いられた時に出現する干渉パターンを生成し得る。本明細書に述べた方法及びシステムは、そのような隣接する膜又は層がある状態でも、スクライブ深さを決定するために用いることができる。
[付記1]
装置であって、
被験物体からの試験光と参照物体からの参照光を合成して、検出器上に干渉パターンを形成する干渉計光学系を含む広帯域走査干渉計システムであって、前記試験光及び前記参照光は、共通の光源から導出され、
前記干渉計システムは、更に、前記共通の光源から前記検出器への前記試験光と前記参照光との間の光路差(OPD)を走査するように構成された走査ステージと、一連のOPD増分の各々に対する前記干渉パターンを記録する前記検出器を含む検出系とを含み、各OPD増分の周波数は、フレームレートを定義し、
前記干渉計光学系は、更に、前記OPDの走査時の前記OPDの変化を各々示す少なくとも2つの監視干渉信号を生成するように構成され、前記検出系は、更に、前記監視干渉信号を記録するように構成される、前記広帯域走査干渉計システムと、
前記検出系及び走査ステージに電子的に結合され、前記フレームレートより高い周波数において、前記OPD増分への摂動に対する感度で、前記OPD増分に関する情報を決定するように構成される電子プロセッサと
を備える装置。
[付記2]
付記1に記載の装置であって、前記走査ステージは、前記共通の光源のコヒーレンス長より大きい範囲に渡って前記OPDを走査するように構成される、装置。
[付記3]
付記1に記載の装置であって、前記走査ステージは、前記被験物体に対して前記干渉計光学系の焦点を変動させることによって、前記OPDを走査するように構成される、装置。
[付記4]
付記1に記載の装置であって、前記走査ステージは、前記被験物体に対して前記干渉計光学系の焦点を変動させることなく前記OPDを走査するように構成される、装置。
[付記5]
付記4に記載の装置であって、前記走査ステージは、前記干渉計光学系に対して前記参照物体の位置を変動させることによって、前記OPDを走査する、装置。
[付記6]
付記1に記載の装置であって、前記干渉計光学系は、ミロー対物レンズを含む、装置。
[付記7]
付記1に記載の装置であって、前記干渉計光学系は、リンニク対物レンズを含む、装置。
[付記8]
付記1に記載の装置であって、前記干渉計光学系は、前記被験物体を前記検出器に結像するように構成される、装置。
[付記9]
付記1に記載の装置であって、前記干渉計光学系は、瞳面を定義し、前記瞳面を前記検出器に結像するように構成される、装置。
[付記10]
付記9に記載の装置であって、前記走査ステージは、前記OPDが、前記瞳面の位置に依存して変動する方法で前記OPDを走査するように構成され、前記OPD増分に関する情報を決定することは、前記干渉パターンの位置依存性を説明することを含む、装置。
[付記11]
付記10に記載の装置であって、前記走査ステージは、前記被験物体に対して前記干渉計光学系の焦点を変動させることなく前記OPDを走査するように構成される、装置。
[付記12]
付記1に記載の装置であって、前記干渉計光学系は、前記干渉計光学系によって提供された出力光から監視光を導出するように構成された光学部品を含み、前記出力光は、前記試験光及び参照光を含む、装置。
[付記13]
付記12に記載の装置であって、前記光学部品は、前記出力光の一部を前記検出器に向け、前記出力光の他の一部を、前記監視干渉信号を記録するように構成された二次検出器に向けるように構成されたビームスプリッタである、装置。
[付記14]
付記12に記載の装置であって、前記光学部品は、前記出力光の一部を前記検出系に向けるように構成されたスペクトルフィルタであり、前記監視干渉信号は、前記出力光の前記一部に基づき検出される、装置。
[付記15]
付記14に記載の装置であって、前記一部は、前記出力光の単色部分である、装置。
[付記16]
付記12に記載の装置であって、前記監視光は、前記共通の光源から導出される、装置。
[付記17]
付記16に記載の装置であって、前記監視光は、前記試験光及び参照光のスペクトル成分に対応する、装置。
[付記18]
付記12に記載の装置であって、前記干渉パターンは、前記出力光の強度プロファイルに対応する、装置。
[付記19]
付記12に記載の装置であって、前記監視光は、前記共通の光源と異なる二次光源から導出される、装置。
[付記20]
付記19に記載の装置であって、前記監視光の光源は、前記共通の光源のコヒーレンス長より長いコヒーレンス長を有する、装置。
[付記21]
付記1に記載の装置であって、前記電子プロセッサは、対応する正弦波関数を前記少なくとも2つの監視干渉信号の各々と適合させることによって、前記OPD増分に関する情報を決定するように構成される、装置。
[付記22]
付記21に記載の装置であって、前記監視干渉信号は、各々、前記OPDの走査中、前記検出器を用いて取り込まれた複数のサンプリングされたデータ点を含み、前記正弦波関数を前記監視干渉信号と適合させることは、前記サンプリングされたデータ点を補間して、補間された信号を提供することを含む、装置。
[付記23]
付記22に記載の装置であって、前記正弦波関数を前記監視干渉信号と適合させることは、更に、前記補間された信号に基づき、公称干渉位相に各干渉信号を関連付けることを含む、装置。
[付記24]
付記23に記載の装置であって、前記OPD増分に関する情報を決定することは、更に、対応する前記公称干渉位相に基づき、前記監視干渉信号の測定された位相の偏差を計算することを含む、装置。
[付記25]
付記1に記載の装置であって、前記少なくとも2つの監視干渉信号は、異なる干渉位相を有する、装置。
[付記26]
付記1に記載の装置であって、前記少なくとも2つの監視干渉信号は、異なる周波数を有する、装置。
[付記27]
付記1に記載の装置であって、前記検出器は、多素子検出器である、装置。
[付記28]
付記27に記載の装置であって、多素子検出器は、前記少なくとも2つの監視干渉信号を記録するように構成された素子を含む、装置。
[付記29]
付記1に記載の装置であって、前記検出系は、前記一次検出器とは別の二次検出器を含み、前記二次検出器は、前記少なくとも2つの監視干渉信号を記録するように構成される、装置。
[付記30]
付記29に記載の装置であって、前記二次検出器は、各素子が、対応する監視干渉信号を記録するように構成された多素子検出器である、装置。
[付記31]
付記1に記載の装置であって、前記電子プロセッサは、更に、前記検出器を用いて記録された前記干渉パターンに対応する一次干渉信号に基づき、前記被験物体に関する情報を決定するように構成されている、装置。
[付記32]
付記31に記載の装置であって、前記情報を決定することは、前記OPD増分に関する情報に基づき、前記情報の不確定性を低減することを含む、装置。
[付記33]
方法であって、
走査干渉系を用いて生成された低コヒーレンス干渉信号を提供することであって、前記走査干渉系は、一連のOPD増分の各々について試験光と参照光との間の光路差(OPD)を走査する間に、干渉計光学系を用いて、被験物体からの試験光と参照物体からの参照光を合成することによって、前記低コヒーレンス干渉信号を生成して、検出器上に干渉パターンを形成し、前記検出器は前記干渉パターンを記録し、各OPD増分の周波数は、フレームレートを定義する、前記低コヒーレンス干渉信号を提供すること、
前記干渉計光学系を用いて各々生成され、前記OPDの走査時の前記OPDの変化を各々示す少なくとも2つの監視干渉信号を提供すること、
前記監視干渉信号に基づき、前記フレームレートより高い周波数において、前記OPD増分への摂動に対する感度で前記OPD増分に関する情報を決定すること
を備える方法。
[付記34]
表示パネルを作製するためのプロセスであって、
前記表示パネルの構成要素を提供すること、
付記33の方法を用いて、前記構成要素に関する情報を決定すること、
前記構成要素を用いて、前記表示パネルを形成すること
を備えるプロセス。
[付記35]
走査干渉計システムと電子プロセッサとを含む装置であって、
前記走査干渉計システムは、照射角度の範囲に渡って試験光を被験物体に向け、前記被験物体から反射された試験光と参照物体からの参照光を合成して、多素子検出器上に干渉パターンを形成する干渉計光学系を含み、前記試験光及び参照光は、共通の光源から導出され、前記干渉計光学系は、前記検出器の異なる素子が、前記試験光による前記被験物体の異なる照射角度に対応するように、合成された光の少なくとも一部を前記検出器に向けるように構成され、
前記干渉計システムは、更に、前記共通の光源から前記検出器への前記試験光と参照光との間の光路差(OPD)を走査するように構成された走査ステージと、一連のOPD増分の各々に対する前記干渉パターンを記録する検出器を含む検出系とを含み、
前記走査干渉計システムは、更に、前記OPDの走査時の前記OPDの変化を示す少なくとも1つの監視干渉信号を生成するように構成されており、
前記電子プロセッサは、前記検出系及び走査ステージに電子的に結合され、前記OPD増分への摂動に対する感度で前記OPD増分に関する情報を決定するように構成される、装置。
[付記36]
装置であって、
対物レンズ及び前記対物レンズに対して移動可能なステージを含む干渉顕微鏡と、
入力放射光からの第1波面及び第2波面を導出し、前記第1及び第2波面を合成して、出力放射光を提供するように構成されたセンサであって、前記出力放射光は、前記第1及び第2波面の経路間の光路長差に関する情報を含み、前記センサは、前記第1波面の経路に配置された反射性要素を含み、前記反射性要素は、前記対物レンズ又は前記ステージのいずれかに搭載される、前記センサと、
前記センサに前記入力放射光を出力するように、又は、前記センサから対応する検出器に前記出力放射光を出力するように構成されたファイバ導波路と、
前記センサからの前記情報に基づき、前記対物レンズに対する前記ステージの変位を監視するように構成された電子コントローラと
を備える装置。
Claims (26)
- 方法であって、
被験物体に1つ又は複数の干渉信号を提供することであって、前記干渉信号は、一連の光路差(OPD)値に対応しており、前記一連の光路差(OPD)値のうちの少なくともいくつかは、雑音のために、互いに不等間隔に配置されている、前記1つ又は複数の干渉信号を提供すること、
前記一連のOPD値の不等間隔に関する情報を提供すること、
前記干渉信号の各々を、異なる周波数に各々対応し、前記不等間隔で配置されたOPD値で各々サンプリングされる複数の基底関数からの寄与に分解すること、
前記複数の基底関数の各々から前記干渉信号の各々への寄与に関する情報を用いて、前記被験物体に関する情報を決定すること
を備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、前記基底関数の各々からの寄与への各干渉信号の分解は、各干渉信号に対する各基底関数の振幅及び位相に関する情報を含む、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、各基底関数は、前記不等間隔で配置されたOPD値でサンプリングされる正弦波基底関数である、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記分解は、線形分解である、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記1つ又は複数の干渉信号は、前記被験物体の異なる位置に対応する複数の干渉信号を含む、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記1つ又は複数の干渉信号は、前記干渉信号を生成するために前記被験物体の照射に用いられる対物レンズの瞳面の異なる位置に対応する複数の干渉信号を含む、方法。
- 請求項6に記載の方法であって、前記干渉信号の各々は、同じ複数の基底関数からの寄与に分解される、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、各干渉信号は、前記被験物体から出現する試験光が、異なるOPD値の各々について検出器上で参照光と合成される際に測定された干渉強度値に対応し、前記試験光及び参照光は、共通の光源から導出され、前記OPDは、前記共通の光源から前記検出器への前記試験光と前記参照光との間の光路長差である、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記複数の基底関数は、非直交基底関数を含む、方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記複数の基底関数は、線形独立基底関数である、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記干渉信号を分解することは、行列を形成することであって、前記行列の各列が基底関数に対応する、前記行列を形成すること、前記行列の逆行列を計算すること、前記逆行列を各干渉信号に適用することを含む、方法。
- 請求項11に記載の方法であって、各基底関数の要素の数が、基底関数の数を超える、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、各干渉信号は、前記被験物体から出現する試験光が、異なるOPD値の各々について検出器上で参照光と合成される際に測定された干渉強度値に対応し、前記試験光及び参照光は、共通の光源から導出され、各基底関数は、エラーがない干渉信号に対応する公称値からの前記測定された干渉強度値の変動の根拠を示す、方法。
- 請求項13に記載の方法であって、前記変動は、前記光源の強度レベルの変動に起因するものである、方法。
- 請求項13に記載の方法であって、前記変動は、前記検出器の有限のフレーム蓄積時間に起因するものである、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記一連のOPD値の不等間隔に関する情報を提供することは、前記OPDの変化を示す少なくとも1つの監視干渉信号を生成することを含み、前記監視干渉信号は、前記一連のOPD値に対応する前記干渉信号が取り込まれる間に生成される、方法。
- 請求項16に記載の方法であって、前記一連のOPD値の不等間隔に関する情報は、複数の監視干渉信号を生成することを含む、方法。
- 請求項17に記載の方法であって、前記監視干渉信号は、前記一連のOPD値に対応する前記干渉信号を生成するために用いられるのと同じ干渉計光学系を用いて生成される、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記情報を用いることは、前記複数の基底関数の各々から前記干渉信号の各々への寄与に関する情報に基づき、補正された干渉信号を構築すること、前記補正された干渉信号に基づき、前記被験物体に関する情報を決定することを含む、方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記一連のOPD値の不等間隔に関する情報は、変位測定干渉計、加速度計、接触式プローブ、静電容量式ゲージ、空気ゲージ、及び光学エン
コーダから成るグループから選択されたセンサを用いて生成される、方法。 - 表示パネルを作製するためのプロセスであって、
前記表示パネルの構成要素を提供すること、
請求項1の方法を用いて、前記構成要素に関する情報を決定することであって、前記構成要素は、前記被験物体に対応する、前記決定すること、
前記構成要素を用いて、前記表示パネルを形成すること
を備えるプロセス。 - 請求項21に記載のプロセスであって、前記構成要素は、間隙によって分離された1対の基板を含み、前記情報は、前記間隙に関する情報を含み、前記表示パネルを形成することは、前記情報に基づき、前記間隙を調整することを含む、プロセス。
- 請求項21に記載のプロセスであって、前記構成要素は、基板と、前記基板上のレジスト層とを含み、前記情報は、前記レジスト層の厚さに関する情報を含む、プロセス。
- 請求項21に記載のプロセスであって、前記構成要素は、スペーサを含む基板を含み、前記情報は、前記スペーサに関する情報を含む、プロセス。
- 請求項24に記載のプロセスであって、前記表示パネルを形成することは、前記情報に基づき、前記スペーサを修正することを含む、プロセス。
- 干渉計システムと電子プロセッサとを備える装置であって、
前記干渉計システムは、被験物体からの試験光と参照物体からの参照光を合成して、検出器上に干渉パターンを形成する干渉計光学系を含み、前記試験光及び参照光は、共通の光源から導出され、
前記干渉計システムは、更に、前記共通の光源から前記検出器への前記試験光と参照光との間の光路差(OPD)を走査するように構成された走査ステージと、一連の各OPD値の前記干渉パターンを記録し、1つ又は複数の干渉信号を提供する検出器を含む検出系とを含み、
前記電子プロセッサは、前記検出系に結合され、前記1つ又は複数の干渉信号に基づき、前記被験物体に関する情報を決定するように構成され、
前記一連のOPD値のうちの少なくともいくつかは、雑音のために、互いに不等間隔に配置されており、前記電子プロセッサは、異なる周波数に各々対応し、不等間隔で配置されたOPD値で各々サンプリングされる複数の基底関数からの寄与に前記干渉信号の各々を分解することによって、前記被験物体に関する情報を決定するように構成される、装置。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11815108P | 2008-11-26 | 2008-11-26 | |
US61/118,151 | 2008-11-26 | ||
US12/509,083 | 2009-07-24 | ||
US12/509,098 | 2009-07-24 | ||
US12/509,098 US8004688B2 (en) | 2008-11-26 | 2009-07-24 | Scan error correction in low coherence scanning interferometry |
US12/509,083 US8120781B2 (en) | 2008-11-26 | 2009-07-24 | Interferometric systems and methods featuring spectral analysis of unevenly sampled data |
PCT/US2009/065529 WO2010062853A2 (en) | 2008-11-26 | 2009-11-23 | Scan error correction in low coherence scanning interferometry |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011508241A JP2011508241A (ja) | 2011-03-10 |
JP5536667B2 true JP5536667B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=42195958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010540961A Active JP5536667B2 (ja) | 2008-11-26 | 2009-11-23 | 低コヒーレンス走査干渉法における走査エラー補正 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US8004688B2 (ja) |
EP (1) | EP2238430B9 (ja) |
JP (1) | JP5536667B2 (ja) |
KR (2) | KR101191842B1 (ja) |
CN (1) | CN102057269B (ja) |
TW (1) | TWI425184B (ja) |
WO (2) | WO2010062860A2 (ja) |
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- 2009-07-24 US US12/509,098 patent/US8004688B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-07-24 US US12/509,083 patent/US8120781B2/en active Active
- 2009-08-14 US US12/541,325 patent/US7978338B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-08-31 US US12/551,308 patent/US8379218B2/en active Active
- 2009-11-23 EP EP09829736.9A patent/EP2238430B9/en active Active
- 2009-11-23 WO PCT/US2009/065572 patent/WO2010062860A2/en active Application Filing
- 2009-11-23 KR KR1020107015982A patent/KR101191842B1/ko active IP Right Grant
- 2009-11-23 WO PCT/US2009/065529 patent/WO2010062853A2/en active Application Filing
- 2009-11-23 KR KR1020127007041A patent/KR101530898B1/ko active IP Right Grant
- 2009-11-23 CN CN200980120703.5A patent/CN102057269B/zh active Active
- 2009-11-23 JP JP2010540961A patent/JP5536667B2/ja active Active
- 2009-11-25 TW TW098140066A patent/TWI425184B/zh active
-
2013
- 2013-02-13 US US13/765,936 patent/US8902431B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201037267A (en) | 2010-10-16 |
WO2010062860A2 (en) | 2010-06-03 |
KR101191842B1 (ko) | 2012-10-18 |
US7978338B2 (en) | 2011-07-12 |
EP2238430A2 (en) | 2010-10-13 |
JP2011508241A (ja) | 2011-03-10 |
WO2010062853A3 (en) | 2010-08-19 |
EP2238430B1 (en) | 2016-03-30 |
US8902431B2 (en) | 2014-12-02 |
WO2010062860A3 (en) | 2010-08-26 |
US20100128276A1 (en) | 2010-05-27 |
CN102057269A (zh) | 2011-05-11 |
US20100128280A1 (en) | 2010-05-27 |
KR20100094584A (ko) | 2010-08-26 |
CN102057269B (zh) | 2014-08-13 |
EP2238430B9 (en) | 2016-07-13 |
KR20120053043A (ko) | 2012-05-24 |
US20130155413A1 (en) | 2013-06-20 |
US8120781B2 (en) | 2012-02-21 |
TWI425184B (zh) | 2014-02-01 |
KR101530898B1 (ko) | 2015-06-23 |
US20100128278A1 (en) | 2010-05-27 |
US8004688B2 (en) | 2011-08-23 |
EP2238430A4 (en) | 2012-02-01 |
WO2010062853A2 (en) | 2010-06-03 |
US20100128283A1 (en) | 2010-05-27 |
US8379218B2 (en) | 2013-02-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120328 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120515 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120810 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120817 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120914 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130423 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130730 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140415 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140424 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |