KR102269706B1 - 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템 - Google Patents

적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템 Download PDF

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Abstract

적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템이 개시된다. 본 시스템은 여기 광원, 여기 광원에서 발생된 여기 광의 광 경로 상에 배치되고, 측정 대상에 일 말단이 닿도록 배치되며, 측정 대상에 여기 광이 이동되는 여기 광 채널과 전달된 여기 광에 의해 발생된 방출 광이 전달되는 방출 광 채널을 포함하는 하나 이상의 광섬유, 여기 광의 광 경로 상에 배치되어 상기 여기 광을 광섬유로 전달하는 대물렌즈, 대물렌즈에 인접하여 광섬유 각각의 여기 광 채널로만 여기 광이 전달되게 하는 마스크, 여기 광의 광 경로를 변경하여 여기 광이 측정 대상에 전달되게 하는 제1 디지털 미러, 제1 디지털 미러의 반사 각도를 소정 구역 별로 설정하는 제1 반사 각도 조정부 및 광섬유를 통해 전달되는 방출 광을 제1 측정하는 촬영부를 포함한다. 이에 따라, 측정 대상의 여러 위치에서 발생되는 신경 활성이 보다 수월하게 측정될 수 있다.

Description

적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템{MULTI CHANNEL FIBER PHOTOMETRY SYSTEM USING ADAPTIVE OPTICS}
본 발명은 신경 활성(Neural Activity)의 측정 기술에 관한 것으로 보다 상세하게는 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템에 관한 것이다.
광섬유 광도 측정 방법은 광섬유를 이용하여 타겟 샘플에 여기(Excitation) 광을 조사하고, 여기된 형광 신호를 다시 광섬유를 통해 받는 일종의 형광 현미경으로서, 살아있는 동물의 뇌 깊은 위치에서 발생되는 형광 신호를 측정할 수 있어서 신경 활성 연구에 적용되고 있다.
다만, 종래의 광섬유 광도 측정 방법은 단일 광섬유를 이용하여 광도를 측정하므로 여러 위치에서 동시 다발적으로 발생되는 신경 활성을 동시에 측정하기에는 한계가 있었다.
공개특허공보 제10-2016-0079501호(공개일 : 2016.7.6)
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 일 실시 예는 측정 대상의 광도 측정 지점 각각에 광섬유을 매핑하여 동시 다발적인 신경 활성 측정을 수행하는 다채널 광섬유 광도 측정 시스템을 제안한다.
또한, 본 발명의 일 실시 예는 미세한 픽셀 단위로 반사 각도가 조절 가능한 디지털 미러를 적용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템을 제안한다.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템은 여기(Excitation) 광원; 상기 여기 광원에서 발생된 여기 광의 광 경로 상에 배치되고, 측정 대상에 일 말단이 닿도록 배치되며, 상기 측정 대상에 여기 광이 이동되는 여기 광 채널과 전달된 여기 광에 의해 발생된 방출(Emission) 광이 전달되는 방출 광 채널을 포함하는, 하나 이상의 광섬유; 상기 여기 광의 광 경로 상에 배치되어 상기 여기 광을 상기 광섬유로 전달하는 대물렌즈; 상기 대물렌즈에 인접하여 상기 광섬유 각각의 상기 여기 광 채널로만 여기 광이 전달되게 하는 마스크(Mask); 상기 여기 광의 광 경로를 변경하여 상기 여기 광이 상기 측정 대상에 전달되게 하는 제1 디지털 미러; 상기 제1 디지털 미러의 반사 각도를 소정 구역 별로 설정하는 제1 반사 각도 조정부; 및 상기 광섬유를 통해 전달되는 방출 광을 제1 측정하는 촬영부를 포함한다.
여기서, 상기 마스크는, 상기 광섬유의 개수에 대응되는 홀을 포함하고, 상기 홀 내부로만 여기 광과 방출 광이 이동하며, 상기 홀 주변에 발생되는 형광 신호가 상기 마스크를 통해 제거될 수 있다.
몇몇 실시 예에서, 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템은 상기 광섬유를 통해 전달되는 방출 광을 제2 측정하는 포토 디텍터; 상기 방출 광의 광 경로를 변경하여 상기 방출 광이 상기 포토 디텍터로 인입하게 하는 제2 디지털 미러; 및 상기 제2 디지털 미러의 반사 각도를 소정 구역 별로 다르게 설정하여, 특정 광섬유로부터 인입되는 방출 광만 상기 포토 디텍터로 전달하는 제2 반사 각도 조정부를 더 포함할 수 있다.
몇몇 실시 예에서, 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템은 상기 제1 디지털 미러와 상기 대물렌즈 사이에 배치되는 이색성(Dichroic) 미러를 더 포함하며, 상기 이색성(Dichroic) 미러에 의해, 상기 여기 광은 반사되며, 상기 방출 광은 상기 이색성(Dichroic) 미러를 투과할 수 있다.
몇몇 실시 예에서, 상기 방출 광의 광 경로 상에 배치되고, 상기 촬영부와 상기 대물렌즈 사이에 배치되며, 상기 방출 광의 광 경로를 상기 촬영부를 향하는 제1 방향과 상기 제2 디지털 미러를 향하는 제2 방향으로 나누는 광분할 미러를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면 아래와 같은 효과가 발생된다.
첫째로, 측정 대상의 복수 지점에서 동시 다발적으로 발생되는 신경 활성이 동시에 측정될 수 있다.
둘째로, 디지털 미러를 이용하여 하나의 시스템으로 복수 지점에서 발생하는 신경활성이 독립적으로 측정될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템을 개념적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 다채널 광섬유를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템에서 촬영부에 광도를 측정한 상을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 디지털 미러의 구동 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 6은 상기 적용 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템의 구현 예를 나타낸다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 다양한 실시 예를 보다 상세하게 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템(1000)을 개념적으로 설명하기 위한 도면이며, “적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템(1000)”을 간단하게 “광도 측정 시스템(1000)”으로 명명하기로 한다.
여기서, 적응 광학 기술은 광학계가 실시간으로 변화하면서 측정에서 발생된 오류를 보정하는 기술을 의미하며, 다채널 광섬유는 여러 개의 광섬유를 포함하는 광섬유 다발을 의미하고, 광도 측정 시스템은 광도를 측정하는 장치를 의미한다.
도 1을 참고하면, 광도 측정 시스템(1000)은 특정 파장대의 여기(Excitation) 광을 광섬유를 통해 측정 대상(TO)의 소정 영역에 조사하며, 조사된 여기 광에 의해 발생된 방출(Emission) 광의 광도를 측정할 수 있다.
여기서, 여기 광은 여기 광원을 통해 특정 파장대로 생성될 수 있으며, 방출 광은 여기 광이 측정 대상(TO)에 조사될 때, 측정 대상(TO)에 배치된 형광물질에 의해 생성될 수 있다.
상기 광도 측정 시스템(1000)은 여기 광 경로(EcPa)와 방출 광 경로(EmPa)를 포함하는데, 여기 광 경로(EcPa)는 특정 파장의 여기 광이 조사되어 측정 대상(TO)까지 전달되는 경로를 의미하고, 방출 광 경로(EmPa)는 측정 대상(TO)에 여기 광이 반응한 형광 신호인 방출 광이 전달되는 경로를 의미한다. 상기 여기 광 경로(EcPa) 및 상기 방출 광 경로(EmPa)는 미러, 렌즈, 스플리터 등에 의해 경로가 변경될 수 있다.
광도 측정 시스템(1000)은 복수의 미러(M1, M2), 복수의 렌즈(L1, L2, L3), 복수의 필터(EcF, EmF), 복수의 광섬유(OF1~OFN)를 포함하며, 복수의 디지털 미러(DM1, DM2), 이색성(Dichroic) 미러(DiM), 광분할 미러(Beam Splitter, BS), 대물렌즈(OL), 마스크(Mask), 촬영부(CA), 포토 디텍터(Photo Detector, PD)를 포함할 수 있다.
여기서, 복수의 디지털 미러(DM1, DM2)는 미러의 픽셀 단위까지 개별적인 반사각 세팅이 가능하여 픽셀마다 다른 반사각을 가지도록 설정될 수 있다. 하나의 광섬유에 매핑되는 픽셀은 그룹화되어 관리될 수 있다. 상기 디지털 미러(DM1, DM2)가 사용되면 광의 반사각이 미세하게 조정될 수 있으므로 시스템 구성에 유리하다. 가령, 좁은 공간에 상기 광도 측정 시스템(1000)이 배치될 수 있으며, 방출 광 경로(EmPa) 및 여기 광 경로(EcPa)의 미세한 조절이 수행될 수 있다.
이색성(Dichroic) 미러(DiM)는 제1 디지털 미러(DM1)와 대물렌즈(OL) 사이에 배치되어, 광의 파장에 따라 광을 선별적으로 투과 또는 반사시킬 수 있다. 구체적으로, 이색성(Dichroic) 미러 (DiM)는 여기 광을 반사하여 대물렌즈(OL) 방향으로 향하게 하며, 방출 광의 경우, 제1 디지털 미러(DM1)를 투과하여 광분할 미러(BS) 방향으로 향하게 할 수 있다.
광분할 미러(BS)는 방출 광의 광 경로(EmPa) 상에 배치되고, 촬영부(CA)와 대물렌즈(OL) 사이에 배치될 수 있으며, 빔을 촬영부(CA) 및 포토 디텍터(PD)로 쪼갤 수 있으며, 촬영부(CA)는 다채널 광섬유의 모든 방출 광을 측정할 수 있으나 다채널의 방출 광에 대한 신호 처리를 수행해야 하므로 처리 속도가 다소 더딜 수 있다.
포토 디텍터(PD)는 다채널 광섬유 각각의 방출 광을 측정할 수 있으며, 다채널 광섬유 각각의 방출 광에 대한 신호 처리를 상기 촬영부(CA)처럼 수행하지 않으므로 처리 속도가 신속하다.
대물 렌즈(OL)는 여기 광의 광 경로 상에 배치되어 상기 여기 광을 상기 광섬유로 전달하는 구성으로, 현미경에 필요한 구성에 해당된다.
또한, 복수의 단면(AA, BB, CC, DD)에 상(Image)이 맺히도록 상기 광도 측정 시스템(1000)의 다양한 구성요소들이 배치될 수 있다.
이하에서는 도 2a 내지 도 3을 참고하여 다채널 광섬유를 설명하기 위한 도면이다. 도 2a는 본 발명의 일 실시 예에 따른 다채널 광섬유 말단(250)을 나타내며, 도 2b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 다채널 광섬유 번들(250A)을 나타내며, 도 2c는 상기 다채널 광섬유 번들(250A)에서 마스크가 적용된 경우의 광섬유의 복수의 채널을 나타낸다. 다채널에 포함된 채널 각각은 하나의 광섬유에 매핑될 수 있다.
대물렌즈 앞 다채널 광섬유 말단(250)은 다채널 광섬유 번들(250A)을 포함하고, 다채널 광섬유 번들(250A)을 감싸는 구조물을 포함할 수 있다. 다채널 광섬유 번들(250A)은 복수 개의 광섬유 채널(OF1~OF7)을 나타내는 홀과 홀 주변을 구성하는 테두리 번들(OFB)를 포함한다.
복수의 광섬유와 연결되는 각 홀이자 채널(OF1~OF7)의 경우, 직경이 각각 0.4mm로 구현될 수 있다. 또한, 광섬유 홀(OF1~OF7)을 감싼 테두리 번들(250A)의 직경이 1.3mm일 수 있다. 다만, 사이즈는 실시 예에 따라서는 다르게 구현될 수 있다. 아울러, 상기 광섬유 홀(OF1~OF7)이 일곱 개인 것으로 설명하나, 실시 예는 광섬유의 개수에 따라 다르게 구현될 수 있다. 다채널 광섬유의 다른 말단은 각각 분리되어 측정 대상의 여러 위치에 배치될 수 있다.
또한, 다채널 광섬유는 여기 광원에서 발생된 여기 광의 광 경로 상에 배치되고, 측정 대상(TO)에 일 말단이 닿도록 배치되며, 상기 측정 대상에 여기 광이 이동되는 여기 광 채널과 전달된 여기 광에 의해 발생된 방출 광이 전달되는 방출 광 채널을 포함할 수 있다.
도 2c를 참고하면, 마스크가 적용되어 광섬유 번들(250A)에서 광섬유가 배치되는 영역을 제외한 영역(가령, OFD 영역)이 제외되어 표시될 수 있다. 마스크는 대물렌즈(OL)에 인접하여 상기 광섬유의 여기 광 채널들로만 상기 여기 광이 전달되게 할 수 있다.
마스크는 광섬유의 개수에 대응되는 홀을 포함하고, 홀 내부로만 여기 광이 이동되게 하며, 홀 주변에 발생되는 형광 신호가 상기 마스크를 통해 제거될 수 있다. 이에 따라, 여기 광 중에서 OFD 영역 등에 의해 발생된 노이즈가 제거된 상태로 광섬유 각각의 여기 채널로만 여기 광이 전달될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템에서 촬영부에 광도를 측정한 상을 나타낸다.
도 3을 참고하면, 촬영부(CA)에는 광섬유에 대응되는 영역(COF1~COF7)에만 형광 신호가 검출될 수 있으며, 그 외의 영역에는 형광 신호가 검출되지 않는다.
광섬유에 대응되는 영역(COF1~COF7)의 광도의 세기는 측정 대상(TO)의 신경 활성에 따라 다르게 측정될 수 있으며, 이를 근거로 연구 자료가 도출될 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 디지털 미러의 구동 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4에서 좌측의 경우 디지털 미러의 각 픽셀들(131AA 내지 131AC 등)의 반사 각도를 조절하는 구성을 나타내고, 우측의 경우 실제 디지털 미러가 각 픽셀 단위로 반사 각도가 조절된 것을 나타낸다.
제1 디지털 미러(DM1) 및 제2 디지털 미러(DM2) 모두 각 픽셀 단위 별, 소정 구역 별로 다른 반사각도로 설정될 수 있으며, 각 구성요소들의 배치에 따라 각 픽셀들에 대한 반사각도가 설정되기 위한 라이브러리로 만들어 놓고 실시간으로 전환하면서 사용될 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 광도 측정 시스템(1000)의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 5를 참고하면, 광도 측정 시스템(1000)은 디지털 미러 설정부(100), 촬영부(200), 포토 디텍터(300), 디스플레이(400), 여기 광 전원부(500), 저장부(600) 및 제어 모듈(700)을 포함한다. 다만, 상기 구성요소들은 상기 광도 측정 시스템(1000)을 구현하는데 필수적인 것은 아닌 바, 상기 광도 측정 시스템(1000)은 상술한 구성요소보다 더 많거나 더 적게 구현될 수 있다.
구체적으로, 디지털 미러 설정부(100)는 제1 및 제2 디지털 미러(110, 120) 및 상기 디지털 미러의 반사각도를 조정하는 제1 및 제2 반사각도 조정부(130, 140)를 포함한다.
제1 디지털 미러(110)는 여기 광을 반사하는 디지털 미러로, 여기 광의 광 경로가 광섬유 별로 다르게 설정되게 설정될 수 있다. 제1 디지털 미러(110)는 행과 열과 포함하는 픽셀들을 포함할 수 있으며, 하나의 광섬유는 소정만큼의 픽셀 그룹에 대응될 수 있다.
이에, 여기 광원에 의해 여기 광이 제1 디지털 미러(110)를 통해 반사되는 경우, 복수의 광섬유 각각으로 여기 광이 전달되게 반사 각도가 설정될 수 있다. 상기 제1 반사각도 조정부(130)는 측정 대상(TO)과 맞닿은 광섬유들 각각에 여기 광이 전달될 수 있도록 제1 디지털 미러(110)의 픽셀들의 반사각도를 조정할 수 있다.
제2 디지털 미러(120)는 방출 광을 반사하는 디지털 미러로 복수의 광섬유로부터 방출된 방출 광에서 특정 광섬유에서 방출된 광만 반사하여 포토 디텍터(300)로 제공할 수 있다.
구체적으로, 제2 반사각도 조정부(140)는 제2 디지털 미러(120)의 반사 각도를 소정 구역 별로 다르게 설정하여, 특정 광섬유에서 인입되는 방출 광만 상기 포토 디텍터로 전달할 수 있다. 상기 소정 구역은 하나의 광섬유마다 대응되는 영역일 수 있다.
이 경우, 광도 시스템(1000)은 광섬유 모두에서 방출된 광에 대해 신호 처리를 수행하고 이에 기초하여 광도 측정을 수행하는 촬영부(200)에 비해 보다 빠른 광도 측정을 포토 디텍터(300)를 이용하여 수행할 수 있다.
촬영부(200)는 복수의 광섬유 전체로부터 전달되는 방출 광을 촬영할 수 있으며, CMOS 카메라로 구현될 수 있으나, 실시 예가 이에 국한되는 것은 아니다.
촬영부(200)는 방출 광 측정부(210)를 구비하여 광섬유 체널별로 광도를 측정할 수 있다. 상기 측정된 광도에 기반하여 측정 대상의 신경 활성이 분석될 수 있다.
포토 디텍터(300)는 광섬유 각각의 광도를 측정하는 바, 고속으로 광도 측정이 가능하다. 포토 디텍터(300)는 파장 스펙트럼 분석기를 구현시에 구비하여, 방출 광의 파장 스펙트럼 분석도 수행할 수 있다.
디스플레이(400)는 제1 및 제2 디지털 미러의 반사 각도를 모니터링하는데 사용될 수 있으며, 광도 측정 결과를 표시할 수 있으며, 광도 측정에 따른 분석된 신경 활성 정보를 표시할 수도 있다.
여기 광 전원부(500)는 여기 광원을 제어하는 모듈로 특정 파장대의 여기 광이 광출될 수 있게 할 수 있으며, 특정 파장은 470nm로 설정될 수 있으나, 실시 예에 따라서는 다르게 구현될 수 있다.
저장부(600)는 구성된 제1 및 제2 디지털 미러에 대한 반사각도 정보, 측정 대상별 광도 측정 정보 등을 저장할 수 있으며, 제어 모듈(700)의 제어에 따라 다양한 정보를 저장할 수 있다.
제어 모듈(700)은 제1 디지털 미러(110) 및 제2 디지털 미러(120)의 반사각도를 설정할 수 있으며, 광도 측정 시스템(1000)의 전반적인 구동을 제어할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 광도 측정 시스템(1000A)을 나타낸다.
도 6을 참고하면, 광도 측정 시스템(1000A)은 제1 디지털 미러(110), 제2 디지털 미러(120), 촬영부(200), 포토 디텍터(300), 빔 스플리터(BS) 등을 포함할 수 있으며, 구동되는 방법은 상술한 바 여기서는 생략하기로 한다.
여기서, 광도 측정 시스템(1000A)의 구성들이 도 6과 같이 배치될 수 있으나, 다양한 환경(공간, 장비 사이즈 등)을 고려하여 다른 형태로 광도 측정 시스템(1000A)이 구현될 수도 있다.
한편, 본 명세서에서 설명하는 기능적인 동작과 주제의 구현물들은 디지털 전자 회로로 구현되거나, 본 명세서에서 개시하는 구조 및 그 구조적인 등가물들을 포함하는 컴퓨터 소프트웨어, 펌웨어 혹은 하드웨어로 구현되거나, 이들 중 하나 이상의 결합으로 구현 가능하다. 본 명세서에서 설명하는 주제의 구현물들은 하나 이상의 컴퓨터 프로그램 제품, 다시 말해 제어 시스템의 동작을 제어하기 위하여 혹은 이것에 의한 실행을 위하여 유형의 프로그램 저장매체 상에 인코딩된 컴퓨터 프로그램 명령에 관한 하나 이상의 모듈로서 구현될 수 있다.
한편, 본 명세서는 그 제시된 구체적인 용어에 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 따라서, 상술한 예를 참조하여 본 발명을 상세하게 설명하였지만, 당업자라면 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서도 본 예들에 대한 개조, 변경 및 변형을 가할 수 있다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (5)

  1. 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템으로서,
    여기(Excitation) 광원;
    상기 여기 광원에서 발생된 여기 광의 광 경로 상에 배치되고, 측정 대상에 일 말단이 닿도록 배치되며, 상기 측정 대상에 여기 광이 이동되는 여기 광 채널과 전달된 여기 광에 의해 발생된 방출(Emission) 광이 전달되는 방출 광 채널을 포함하는, 하나 이상의 광섬유;
    상기 여기 광의 광 경로 상에 배치되어 상기 여기 광을 상기 광섬유로 전달하는 대물렌즈;
    상기 대물렌즈에 인접하여 상기 광섬유 각각의 상기 여기 광 채널로만 여기 광이 전달되게 하는 마스크(Mask);
    상기 여기 광의 광 경로를 변경하여 상기 여기 광이 상기 측정 대상에 전달되게 하는 제1 디지털 미러;
    상기 제1 디지털 미러의 반사 각도를 소정 구역 별로 설정하는 제1 반사 각도 조정부;
    상기 광섬유 전부를 통해 전달되는 방출 광에 대해, 신호 처리를 수행하고 이에 기초하여 광도를 측정하는 촬영부;
    특정 광섬유를 통해 전달되는 특정 방출 광의 광도를 측정하는 포토 디텍터;
    광 경로를 변경하여 상기 특정 방출 광이 상기 포토 디텍터로 인입하게 하는 제2 디지털 미러;
    상기 제2 디지털 미러의 반사 각도를 소정 구역 별로 다르게 설정하여, 상기 특정 광섬유로부터 인입되는 방출 광만 상기 포토 디텍터로 전달하는 제2 반사 각도 조정부;
    상기 제1 디지털 미러와 상기 대물렌즈 사이에 배치되는 이색성(Dichroic) 미러; 및
    상기 방출 광의 광 경로 상에 배치되고, 상기 촬영부와 상기 대물렌즈 사이에 배치되며, 상기 방출 광의 광 경로를 상기 촬영부를 향하는 제1 방향과 상기 제2 디지털 미러를 향하는 제2 방향으로 나누는 광 분할 미러를 포함하며,
    상기 이색성(Dichroic) 미러에 의해, 상기 여기 광은 반사되며, 상기 방출 광은 상기 이색성(Dichroic) 미러를 투과하는, 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 마스크는,
    상기 광섬유의 개수에 대응되는 홀을 포함하고, 상기 홀 내부로만 여기 광과 방출 광이 이동하며,
    상기 홀 주변에 발생되는 형광 신호가 상기 마스크를 통해 제거되는, 적응 광학을 이용한 다채널 광섬유 광도 측정 시스템.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
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