CN105655267A - 一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备，包括：发射单元和控制单元；其中，发射单元提供第一基准光和第二基准光，第一基准光传输至控制单元，第二基准光经过基板的调制生成一束测试光，测试光传输至控制单元；控制单元获取第一基准光的功率和测试光的功率，将第一基准光的功率与测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断基板表面是否具有异物。这样，可以通过检测基板表面上的异物情况，例如是否具有光刻胶，对基板表面上的异物起到预警作用，防止了光刻胶等异物对清洗设备、沉积设备等其他生产设备造成影响，有利于生产设备的维护和保养。

Description

一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤指一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备。
背景技术
目前，在半导体制造尤其是液晶面板生产领域，清洗设备和沉积设备是阵列(Array)工序-前清洗(Preclean)工艺和沉积(Dep)工艺中必不可少的生产设备。
Array工序-Dep工艺之前需要清洗，清洗的目的是除去基板表面影响成膜的具有物理化学特性、电学特性的杂质及基板表面附着的灰尘、油分、自然氧化物，露出的干净的膜及洁净的质地等，但有一些异物在被洗掉时会容易堵塞清洗设备中的过滤器，例如进行刻蚀工艺之后的基板上的表面容易有光刻胶残留或者未剥离光刻胶，当该基板进入清洗设备进行清洗时，会导致较多的光刻胶被洗掉，时间长了，就会堵塞过滤器。并且，当该基板进入沉积设备进行沉积时，无论是使用溅射还是等离子增强化学气相沉积的方法，都会因为等离子体对光刻胶等异物的轰击而使沉积设备中的工作腔受到污染。这样，清洗设备会因过滤器堵塞造成设备停机、沉积设备会因工作腔受污染造成设备停机，稼动率降低。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备，通过检测基板的表面异物情况，及时作出预警。
因此，本发明实施例提供了一种预警系统，包括：包括：发射单元和控制单元；其中，
所述发射单元，用于提供第一基准光和第二基准光，所述第一基准光传输至所述控制单元，所述第二基准光经过所述基板的调制生成一束测试光，所述测试光传输至所述控制单元；
所述控制单元，用于获取所述第一基准光的功率和所述测试光的功率，将所述第一基准光的功率与所述测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断所述基板表面是否具有异物。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，当所述控制单元判断所述基板表面具有异物时，则发出警告。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述发射单元包括用于发出激光光束的激光发射器，以及设置在所述激光光束的传输光路上的分光镜；其中，
所述分光镜，用于将所述激光光束进行分光，分成所述第一基准光和第二基准光。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述分光镜为半反射镜；
所述第一基准光的功率和第二基准光的功率相同。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述控制单元包括：第一功率传感器、第二功率传感器、控制器和报警器；其中，
所述第一功率传感器，用于接收所述第一基准光，并计算所述第一基准光的功率；
所述第二功率传感器，用于接收所述测试光，并计算所述测试光的功率；
所述控制器，用于将所述第一功率传感器与所述第二功率传感器的计算结果进行比较，获得测试比值；
所述报警器，用于根据所述测试比值，判断所述基板表面具有异物时则发出警告。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述报警器，具体用于在获取所述测试比值时，当所述测试比值大于预定数值时，则做出判断结果为所述基板表面具有异物，并发出警告。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述基板表面具有透射膜层；
所述测试光为所述第二基准光经过所述基板表面的透射膜层的透射后生成的透射光；
所述第二功率传感器位于所述透射光的传输光路上。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述基板表面具有反射膜层；
所述测试光为所述第二基准光经过所述基板表面的反射膜层的反射后生成的反射光；
所述第二功率传感器位于所述反射光的传输光路上。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述基板表面具有反射膜层；
所述测试光为在所述第二基准光垂直入射至所述基板表面时，所述第二基准光经过所述基板表面的反射膜层的反射，再经过所述发射单元后生成的透射光；
所述第二功率传感器位于所述透射光的传输光路上。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述第二基准光和测试光的光程之和与所述第一基准光的光程相同。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述预警系统中，所述基板为待清洗的基板或待沉积的基板。
本发明实施例还提供了一种生产设备，包括本发明实施例提供的上述预警系统。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述生产设备中，所述生产设备为清洗设备或沉积设备。
本发明实施例的有益效果包括：
本发明实施例提供的一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备，该预警系统包括：发射单元和控制单元；其中，发射单元提供第一基准光和第二基准光，第一基准光传输至控制单元，第二基准光经过基板的调制生成一测试光，测试光传输至控制单元；控制单元获取第一基准光的功率和测试光的功率，将第一基准光的功率与测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断基板表面是否具有异物。这样，可以通过检测基板表面上的异物情况，例如是否具有光刻胶，对基板表面上的异物起到预警作用，防止了光刻胶等异物对清洗设备、沉积设备等其他生产设备造成影响，有利于生产设备的维护和保养。
附图说明
图1为本发明实施例提供的预警系统的结构示意图之一；
图2为本发明实施例提供的预警系统的结构示意图之二；
图3为图2所示的预警系统的工作流程图；
图4为本发明实施例提供的预警系统的结构示意图之三；
图5为图4所示的预警系统的工作流程图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明实施例提供的用于对基板进行检测的预警系统及生产设备的具体实施方式进行详细地说明，所举实施例仅用于解释本发明，并非以此限定本发明的保护范围。
本发明实施例提供了一种用于对基板1进行检测的预警系统，如图1所示，包括：发射单元2和控制单元3；其中，
发射单元2，用于提供第一基准光01和第二基准光02，第一基准光01传输至控制单元3，第二基准光02经过基板1的调制生成一测试光03，测试光03传输至控制单元3；
控制单元3，用于获取第一基准光01的功率和测试光03的功率，将第一基准光01的功率与测试光03的功率进行比较，根据比较结果，判断基板1表面是否具有异物。
需要说明的是，上述基板表面具有的异物可以是容易堵塞清洗设备中的过滤器的一些异物，容易污染沉积设备的一些异物，等等，例如光刻胶。
在本发明实施例提供的上述预警系统，包括：发射单元和控制单元；其中，发射单元提供第一基准光和第二基准光，第一基准光传输至控制单元，第二基准光经过基板的调制生成一测试光，测试光传输至控制单元；控制单元获取第一基准光的功率和测试光的功率，将第一基准光的功率与测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断基板表面是否具有异物。这样，可以通过检测基板表面上的异物情况，对基板表面上的异物起到预警作用，在Array工序中，例如在Preclean工艺之前，或Dep工艺之前，及时作出预警，可以防止光刻胶等异物对清洗设备、沉积设备等其他生产设备造成影响，有利于生产设备的维护和保养。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，当控制单元3判断基板1表面具有异物时，则发出警告。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，如图2和图4所示，发射单元2可以包括用于发出激光光束的激光发射器21(LaserHead)，以及设置在激光光束的传输光路上的分光镜22(BeamSplit)；其中，该分光镜22用于将激光光束进行分光，分成第一基准光01和第二基准光02。第一基准光01传输至控制单元3，第二基准光传输至基板1的表面，经过基板1的调制生成测试光03，用于对基板表面是否具有异物进行测试；利用第一基准光01作为测试光03的比较基础，以检测光经过基板1表面后的功率变化。
需要说明的是，经过分光镜22分光形成的第一基准光01和第二基准光02，两者的传输方向、功率和波长等可以依据分光镜22的结构设定。任一结构的分光镜都可以预先计算所分光形成的第一基准光01的功率和第二基准光02的功率之间的关系，以用于生成测试光后的计算参考数值。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，为了方便数值计算，优选地，如图2和图4所示，分光镜22可以设置为半反射镜；利用半反射镜的原理，所分成的第一基准光01的功率和第二基准光02的功率相同。更优选地，经过半反射镜分光后，第一基准光01和第二基准光02的传输方向可以互相垂直。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，如图2和图4所示，控制单元3可以包括：第一功率传感器31、第二功率传感器32、控制器33和报警器34；其中，该第一功率传感器31用于接收第一基准光01，并计算第一基准光01的功率；该第二功率传感器32用于接收测试光03，并计算测试光03的功率；该控制器33用于将第一功率传感器31与第二功率传感器32的计算结果进行比较，获得测试比值；该报警器34用于根据测试比值，判断基板1表面具有异物时则发出警告，此时，可以停止生产设备并提醒工作人员检查。
需要说明的是，上述第一功率传感器和第二功率传感器可以是激光能量计、激光功率计或其他仪器，只要能计算出第一基准光的功率和第二基准光的功率即可，在此不做限定。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，当控制器33分别从第一功率传感器31与第二功率传感器32接收数据信号，经过比较，获得测试比值，该报警器34具体用于在获取测试比值时，当测试比值大于预定数值时，则做出判断结果为基板表面具有异物，并发出警告。
需要说明的是，根据工作人员长期积累的使用经验，预先设定出基板表面异物会造成生产设备不良的预定数值(例如设定为2或5)，当报警器判断所获得的测试比值大于该预定数值时，则发出警告。根据基板表面的膜层对光的调制(例如反射或透射)，预定数值会有所不同。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，如图2所示，当基板1表面具有透射膜层时，测试光03为第二基准光02经过基板表面的透射膜层的透射后生成的透射光；第二功率传感器32位于透射光的传输光路上，即此时第二功率传感器32应放置在基板1的后方，才可以接收到透射光。
需要说明的是，上述透射膜层可以为非金属膜层，例如钝化层、绝缘层，也可以是其他能发生透射的膜层，例如透明电极层，在此不做限定。此时预设数值可以设定为5，当报警器判断所获得的测试比值大于5时，则发出警告。
在具体实施时，采用本发明中图2的预警系统进行对基板的检测，其工作流程可以采用如下步骤，如图3所示：
S301、激光发射器发出激光光束；
S302、激光光束经分光镜分光之后分别形成第一基准光和第二基准光，其中第一基准光传输至的第一功率传感器，第二基准光传输至基板表面；
S303、基板表面的透射膜层将第二基准光进行透射后生成测试光，测试光传输至第二功率传感器；
S304、第一功率传感器接收第一基准光，并计算第一基准光的功率；第二功率传感器接收测试光，并计算测试光的功率；
S305、控制器将第一功率传感器与第二功率传感器的计算结果进行比较，获得测试比值；
S306、报警器在获取测试比值时，当测试比值大于预定数值时，判断基板表面具有异物时则发出警告。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，当基板表面具有反射膜层时，测试光为第二基准光经过基板表面的反射膜层的反射后生成的反射光；第二功率传感器位于反射光的传输光路上，即此时第二功率传感应放置在基板的前方，才可以接收到反射光，只要不遮挡住第二基准光即可。
需要说明的是，上述反射膜层可以为金属膜层，例如栅极、源漏极，也可以是其他能发生反射的膜层，例如黑矩阵层，在此不做限定。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，如图4所示，当基板1表面具有反射膜层时，测试光03为在第二基准光02垂直入射至基板1表面时，第二基准光02经过基板1表面的反射膜层的反射，再经过发射单元2后生成的透射光；第二功率传感器32位于透射光的传输光路上，即此时第二功率传感器32应放置在基板1的前方，才可以接收到透射光。
需要说明的是，如图4所示，发射单元2中的分光镜22可以接收基板1表面所反射的反射光，经分光镜22再次分光之后生成透射光，该透射光作为测试光03，并传输至控制单元3。上述反射膜层可以为金属膜层，例如栅极、源漏极，也可以是其他能发生反射的膜层，例如黑矩阵层，在此不做限定。此时预设数值可以设定为2，当报警器判断所获得的测试比值大于2时，则发出警告。
在具体实施时，采用本发明中图4的预警系统进行对基板的检测，其工作流程可以采用如下步骤，如图5所示：
S501、激光发射器发出激光光束；
S502、激光光束经分光镜分光之后分别形成第一基准光和第二基准光，其中第一基准光传输至的第一功率传感器，第二基准光垂直入射至基板表面；
S503、基板表面的反射膜层将第二基准光进行反射后，再经过分光镜分光后生成测试光，测试光传输至第二功率传感器；
S504、第一功率传感器接收第一基准光，并计算第一基准光的功率；第二功率传感器接收测试光，并计算测试光的功率；
S505、控制器将第一功率传感器与第二功率传感器的计算结果进行比较，获得测试比值；
S506、报警器在获取测试比值时，当测试比值大于预定数值时，判断基板表面具有异物时则发出警告。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，为了使光路损耗一致，第二基准光和测试光的光程之和可以与第一基准光的光程设置为相同的，这样可以进一步提高预警的准确性。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述预警系统中，基板可以为待清洗的基板或待沉积的基板。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种生产设备，包括本发明实施例提供的上述预警系统，该生产设备可以为清洗设备、沉积设备等其它设备。需要说明的是，该预警系统可以设置在清洗设备或沉积设备的入口处，在清洗或沉积之前对基板进行检测和预警。对于该生产设备的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该生产设备的实施可以参见上述预警系统的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备，包括：发射单元和控制单元；其中，发射单元提供第一基准光和第二基准光，第一基准光传输至控制单元，第二基准光经过基板的调制生成一测试光，测试光传输至控制单元；控制单元获取第一基准光的功率和测试光的功率，将第一基准光的功率与测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断基板表面是否具有异物。这样，可以通过检测基板表面上的异物情况，例如是否具有光刻胶，对基板表面上的异物起到预警作用，防止了光刻胶等异物对清洗设备、沉积设备等其他生产设备造成影响，有利于生产设备的维护和保养。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (13)

1.一种用于对基板进行检测的预警系统，其特征在于，包括：发射单元和控制单元；其中，
所述发射单元，用于提供第一基准光和第二基准光，所述第一基准光传输至所述控制单元，所述第二基准光经过所述基板的调制生成一束测试光，所述测试光传输至所述控制单元；
所述控制单元，用于获取所述第一基准光的功率和所述测试光的功率，将所述第一基准光的功率与所述测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断所述基板表面是否具有异物。
2.如权利要求1所述的预警系统，其特征在于，当所述控制单元判断所述基板表面具有异物时，则发出警告。
3.如权利要求1所述的预警系统，其特征在于，所述发射单元包括用于发出激光光束的激光发射器，以及设置在所述激光光束的传输光路上的分光镜；其中，
所述分光镜，用于将所述激光光束进行分光，分成所述第一基准光和第二基准光。
4.如权利要求3所述的预警系统，其特征在于，所述分光镜为半反射镜；
所述第一基准光的功率和第二基准光的功率相同。
5.如权利要求1所述的预警系统，其特征在于，所述控制单元包括：第一功率传感器、第二功率传感器、控制器和报警器；其中，
所述第一功率传感器，用于接收所述第一基准光，并计算所述第一基准光的功率；
所述第二功率传感器，用于接收所述测试光，并计算所述测试光的功率；
所述控制器，用于将所述第一功率传感器与所述第二功率传感器的计算结果进行比较，获得测试比值；
所述报警器，用于根据所述测试比值，判断所述基板表面具有异物时则发出警告。
6.如权利要求5所述的预警系统，其特征在于，所述报警器，具体用于在获取所述测试比值时，当所述测试比值大于预定数值时，则做出判断结果为所述基板表面具有异物，并发出警告。
7.如权利要求5所述的预警系统，其特征在于，所述基板表面具有透射膜层；
所述测试光为所述第二基准光经过所述基板表面的透射膜层的透射后生成的透射光；
所述第二功率传感器位于所述透射光的传输光路上。
8.如权利要求5所述的预警系统，其特征在于，所述基板表面具有反射膜层；
所述测试光为所述第二基准光经过所述基板表面的反射膜层的反射后生成的反射光；
所述第二功率传感器位于所述反射光的传输光路上。
9.如权利要求5所述的预警系统，其特征在于，所述基板表面具有反射膜层；
所述测试光为在所述第二基准光垂直入射至所述基板表面时，所述第二基准光经过所述基板表面的反射膜层的反射，再经过所述发射单元后生成的透射光；
所述第二功率传感器位于所述透射光的传输光路上。
10.如权利要求1所述的预警系统，其特征在于，所述第二基准光和测试光的光程之和与所述第一基准光的光程相同。
11.如权利要求1-10任一项所述的预警系统，其特征在于，所述基板为待清洗的基板或待沉积的基板。
12.一种生产设备，其特征在于，包括如权利要求1-11任一项所述的预警系统。
13.如权利要求12所述的生产设备，其特征在于，所述生产设备为清洗设备或沉积设备。
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