JP2000121317A - 光干渉計の干渉位相検出方式 - Google Patents
光干渉計の干渉位相検出方式Info
- Publication number
- JP2000121317A JP2000121317A JP10289741A JP28974198A JP2000121317A JP 2000121317 A JP2000121317 A JP 2000121317A JP 10289741 A JP10289741 A JP 10289741A JP 28974198 A JP28974198 A JP 28974198A JP 2000121317 A JP2000121317 A JP 2000121317A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- laser
- reflected
- interference
- measurement surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定面の反射率が変動した場合でも、正確に
その段差間距離又は突起物の高さに相当する位相差を測
定できるようにする。 【解決手段】 レーザ光はビームスプリッタによって互
いに偏光面が直交するように分岐される。分岐されたレ
ーザ光に対して周波数変調が加えられ、参照面と測定面
に照射される。参照面と測定面で反射したレーザ光同士
の干渉波形を観察することによって測定面の段差間距離
又は突起物の高さなどに相当する位相差を検出する。こ
のとき、参照面は常に同じ面なので、その反射率は一定
であるのに対して、測定面の反射率は常に変動する。反
射率が低下すると反射光のショットノイズ成分によって
干渉波形のＳ／Ｎ指数が著しく低下する。従って、この
発明では測定面の反射率の変動に応じて分岐前のレーザ
光をその光軸を中心に所定角度だけ回転させる偏光角調
整手段を設けた。このように参照面及び測定面に照射さ
れるレーザ光の強度を調節することによって、反射光の
ショットノイズによる影響を少なくし、干渉波形のＳ／
Ｎ指数が著しく低下しないようにした。
その段差間距離又は突起物の高さに相当する位相差を測
定できるようにする。 【解決手段】 レーザ光はビームスプリッタによって互
いに偏光面が直交するように分岐される。分岐されたレ
ーザ光に対して周波数変調が加えられ、参照面と測定面
に照射される。参照面と測定面で反射したレーザ光同士
の干渉波形を観察することによって測定面の段差間距離
又は突起物の高さなどに相当する位相差を検出する。こ
のとき、参照面は常に同じ面なので、その反射率は一定
であるのに対して、測定面の反射率は常に変動する。反
射率が低下すると反射光のショットノイズ成分によって
干渉波形のＳ／Ｎ指数が著しく低下する。従って、この
発明では測定面の反射率の変動に応じて分岐前のレーザ
光をその光軸を中心に所定角度だけ回転させる偏光角調
整手段を設けた。このように参照面及び測定面に照射さ
れるレーザ光の強度を調節することによって、反射光の
ショットノイズによる影響を少なくし、干渉波形のＳ／
Ｎ指数が著しく低下しないようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光の位相干渉を
用いた光干渉計を用いて磁気ディスクなどの表面欠陥を
正確に検出する光干渉計の干渉位相検出方式に関する。
用いた光干渉計を用いて磁気ディスクなどの表面欠陥を
正確に検出する光干渉計の干渉位相検出方式に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年ではパーソナルコンピュータの情報
記憶媒体としてハードディスク装置が標準装備されるよ
うになり、その容量も数Ｇバイト程度のものが主流であ
る。また、ノート型パソコンにおいては、小さな容積に
対して高密度のハードディスク装置を内蔵可能にするこ
とが望まれている。
記憶媒体としてハードディスク装置が標準装備されるよ
うになり、その容量も数Ｇバイト程度のものが主流であ
る。また、ノート型パソコンにおいては、小さな容積に
対して高密度のハードディスク装置を内蔵可能にするこ
とが望まれている。
【０００３】ハードディスク装置の記憶密度を上げるた
めには磁気ヘッドの磁気ディスク表面からの浮上量を２
０〜５０ｎｍ程度と極めて小さくしなければならない。
このようなハードディスク装置に用いられる磁気ディス
クの表面欠陥を検査する場合、その浮上量に応じた検出
精度で行わなければならない。
めには磁気ヘッドの磁気ディスク表面からの浮上量を２
０〜５０ｎｍ程度と極めて小さくしなければならない。
このようなハードディスク装置に用いられる磁気ディス
クの表面欠陥を検査する場合、その浮上量に応じた検出
精度で行わなければならない。
【発明が解決しようとする課題】従来、磁気ディスクの
表面欠陥の検査は、グライドテスタと呼ばれる装置で行
っていた。グライドテスタは、予め設定された浮上量で
磁気ディスクを回転させ、そのときに磁気ヘッドがディ
スク表面の異常突起に何回衝突したかを検出し、その衝
突回数に基づいてその磁気ディスクのグライドレベル
（磁気ディスク表面の突起高さ）を判定している。
表面欠陥の検査は、グライドテスタと呼ばれる装置で行
っていた。グライドテスタは、予め設定された浮上量で
磁気ディスクを回転させ、そのときに磁気ヘッドがディ
スク表面の異常突起に何回衝突したかを検出し、その衝
突回数に基づいてその磁気ディスクのグライドレベル
（磁気ディスク表面の突起高さ）を判定している。
【０００４】ところが、浮上量が２０〜５０ｎｍ程度の
極めて小さな値になると、磁気ヘッドが異常突起に衝突
する回数も増加し、衝突によって磁気ヘッドがディスク
表面に接触し、磁気ヘッドが頻繁に破損することとな
り、その交換や位置合わせなどに多大の時間を要するよ
うになるため問題であった。
極めて小さな値になると、磁気ヘッドが異常突起に衝突
する回数も増加し、衝突によって磁気ヘッドがディスク
表面に接触し、磁気ヘッドが頻繁に破損することとな
り、その交換や位置合わせなどに多大の時間を要するよ
うになるため問題であった。
【０００５】そこで、最近では、異常突起の高さを光学
的に検出し、グライドテスタと同じような試験を行って
いる。このような装置を光学式グライドテスタと呼ぶ。
図４は従来の光学式グライドテスタの概略構成を示す図
である。光学式グライドテスタの基本構成は光干渉計で
ある。レーザ装置３１は波長５３２ｎｍのレーザ光ｆ１
を出射する。レーザ光ｆ１は変調手段３２によって変調
される。変調手段３２は、ビームスプリッタ３３及び３
４、光学音響素子（ＡＯＭ：Ａｃｃｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉ
ｃ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）３５及び３６、反射鏡３７及
び３８から構成される。レーザ光ｆ１は、ビームスプリ
ッタ３３によって反射レーザ光ｆ４と透過レーザ光ｆ２
に分岐される。透過レーザ光ｆ２は光学音響素子３５に
入射し、そこで周波数ｆｍの変調が加えら、レーザ光ｆ
３（＝ｆ２＋ｆｍ）として出射される。一方、反射レー
ザ光ｆ４は反射鏡３７によって再び反射し、光学音響素
子３６に入射し、そこで周波数ｆｎの変調が加えられ、
レーザ光ｆ５（＝ｆ４＋ｆｎ）として出射される。光学
音響素子３５から出射するレーザ光ｆ３は反射鏡３８で
反射され、ビームスプリッタ３４に入射する。一方、光
学音響素子３６から出射するレーザ光ｆ５もビームスプ
リッタ３４に入射する。ビームスプリッタ３４に入射し
たレーザ光ｆ３とレーザ光ｆ５は合成されて、分岐手段
３９に入射する。
的に検出し、グライドテスタと同じような試験を行って
いる。このような装置を光学式グライドテスタと呼ぶ。
図４は従来の光学式グライドテスタの概略構成を示す図
である。光学式グライドテスタの基本構成は光干渉計で
ある。レーザ装置３１は波長５３２ｎｍのレーザ光ｆ１
を出射する。レーザ光ｆ１は変調手段３２によって変調
される。変調手段３２は、ビームスプリッタ３３及び３
４、光学音響素子（ＡＯＭ：Ａｃｃｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉ
ｃ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）３５及び３６、反射鏡３７及
び３８から構成される。レーザ光ｆ１は、ビームスプリ
ッタ３３によって反射レーザ光ｆ４と透過レーザ光ｆ２
に分岐される。透過レーザ光ｆ２は光学音響素子３５に
入射し、そこで周波数ｆｍの変調が加えら、レーザ光ｆ
３（＝ｆ２＋ｆｍ）として出射される。一方、反射レー
ザ光ｆ４は反射鏡３７によって再び反射し、光学音響素
子３６に入射し、そこで周波数ｆｎの変調が加えられ、
レーザ光ｆ５（＝ｆ４＋ｆｎ）として出射される。光学
音響素子３５から出射するレーザ光ｆ３は反射鏡３８で
反射され、ビームスプリッタ３４に入射する。一方、光
学音響素子３６から出射するレーザ光ｆ５もビームスプ
リッタ３４に入射する。ビームスプリッタ３４に入射し
たレーザ光ｆ３とレーザ光ｆ５は合成されて、分岐手段
３９に入射する。
【０００６】分岐手段３９はビームスプリッタ３４から
のレーザ光ｆ３とｆ５の合成レーザ光ｆ３＋ｆ５を進行
方向及び光路長が同じで所定距離だけ離れた２つのレー
ザ光ｆ３１＋ｆ５１及びｆ３２＋ｆ５２に分岐し、それ
らを偏光ビームスプリッタ３Ａに出射する。偏光ビーム
スプリッタ３Ａは２つのレーザ光ｆ３１＋ｆ５１及びｆ
３２＋ｆ５２の一部（所定方向の直線偏光ｆ３１及びｆ
３２）を反射して、参照面３Ｂに照射し、残りのレーザ
光ｆ５１及びｆ５２を透過して、それを測定面３Ｃの各
地点Ａ及びＢに照射する。なお、参照面３Ｂと偏光ビー
ムスプリッタ３Ａとの間、及び測定面３Ｃと偏光ビーム
スプリッタ３Ａとの間には直線偏光を円偏光に変換する
４分の１波長板３Ｄ及び４分の１波長板３Ｅが設けられ
ている。参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ３１及びｆ３
２は、直線偏光から円偏光に変換されているので、偏光
ビームスプリッタ３Ａを透過して受光素子３Ｆ及び３Ｇ
に入射する。測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５１及び
ｆ５２も同じく直線偏光から円偏光に変換されているの
で、偏光ビームスプリッタ３Ａで反射して受光素子３Ｆ
及び３Ｇに入射する。
のレーザ光ｆ３とｆ５の合成レーザ光ｆ３＋ｆ５を進行
方向及び光路長が同じで所定距離だけ離れた２つのレー
ザ光ｆ３１＋ｆ５１及びｆ３２＋ｆ５２に分岐し、それ
らを偏光ビームスプリッタ３Ａに出射する。偏光ビーム
スプリッタ３Ａは２つのレーザ光ｆ３１＋ｆ５１及びｆ
３２＋ｆ５２の一部（所定方向の直線偏光ｆ３１及びｆ
３２）を反射して、参照面３Ｂに照射し、残りのレーザ
光ｆ５１及びｆ５２を透過して、それを測定面３Ｃの各
地点Ａ及びＢに照射する。なお、参照面３Ｂと偏光ビー
ムスプリッタ３Ａとの間、及び測定面３Ｃと偏光ビーム
スプリッタ３Ａとの間には直線偏光を円偏光に変換する
４分の１波長板３Ｄ及び４分の１波長板３Ｅが設けられ
ている。参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ３１及びｆ３
２は、直線偏光から円偏光に変換されているので、偏光
ビームスプリッタ３Ａを透過して受光素子３Ｆ及び３Ｇ
に入射する。測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５１及び
ｆ５２も同じく直線偏光から円偏光に変換されているの
で、偏光ビームスプリッタ３Ａで反射して受光素子３Ｆ
及び３Ｇに入射する。
【０００７】受光素子３Ｆ及び３Ｇは、参照面３Ｂで反
射したレーザ光ｆ３１及びｆ３２と、測定面３Ｃで反射
したレーザ光ｆ５１及びｆ５２の合成されたレーザ光ｆ
６及びｆ７を入射し、それに応じた電気信号を位相差測
定回路３Ｈに出力する。位相差測定回路３Ｈは受光素子
３Ｆ及び３Ｇからの電気信号に基づいて測定面３Ｃの突
起高さを測定する。
射したレーザ光ｆ３１及びｆ３２と、測定面３Ｃで反射
したレーザ光ｆ５１及びｆ５２の合成されたレーザ光ｆ
６及びｆ７を入射し、それに応じた電気信号を位相差測
定回路３Ｈに出力する。位相差測定回路３Ｈは受光素子
３Ｆ及び３Ｇからの電気信号に基づいて測定面３Ｃの突
起高さを測定する。
【０００８】図５及び図６は、突起の高さがどのように
して測定されるのか、その検出原理を示す図であり、図
５は測定面に突起又は段差等がない場合を示し、図６は
測定面に高さΔδの突起又は段差等が存在する場合を示
す。図５及び図６には、図４における偏光ビームスプリ
ッタ３Ａ、参照面３Ｂ、測定面３Ｃ、受光素子３Ｆ及び
３Ｇのみが示されている。レーザ光ｆ６及びｆ７の入射
によって受光素子３Ｆ及び３Ｇからは、図５及び図６の
右側に示すような干渉出力信号がそれぞれ出力される。
レーザ装置３１からは波長５３２ｎｍのレーザ光が出力
し、それを変調手段３２で変調周波数ｆｍ＝１５０ＭＨ
ｚ、変調周波数ｆｎ＝１４０ＭＨｚのように約１０ＭＨ
ｚの周波数差となるように変調する。これによって、受
光素子３Ｆ及び３Ｇは周波数１０ＭＨｚ（周期１００ｎ
ｓｅｃ）の干渉出力信号を出力するようになる。この干
渉出力信号の１周期がレーザ光の波長の約２分の１であ
る２６６ｎｍに相当するので、この受光素子３Ｆ及び３
Ｇから出力される干渉出力信号の位相差を測定すること
によって、測定面における地点Ａ及びＢの高さ、すなわ
ち突起の場合にはその突起の高さ、段差の場合にはその
段差間距離を測定することができる。
して測定されるのか、その検出原理を示す図であり、図
５は測定面に突起又は段差等がない場合を示し、図６は
測定面に高さΔδの突起又は段差等が存在する場合を示
す。図５及び図６には、図４における偏光ビームスプリ
ッタ３Ａ、参照面３Ｂ、測定面３Ｃ、受光素子３Ｆ及び
３Ｇのみが示されている。レーザ光ｆ６及びｆ７の入射
によって受光素子３Ｆ及び３Ｇからは、図５及び図６の
右側に示すような干渉出力信号がそれぞれ出力される。
レーザ装置３１からは波長５３２ｎｍのレーザ光が出力
し、それを変調手段３２で変調周波数ｆｍ＝１５０ＭＨ
ｚ、変調周波数ｆｎ＝１４０ＭＨｚのように約１０ＭＨ
ｚの周波数差となるように変調する。これによって、受
光素子３Ｆ及び３Ｇは周波数１０ＭＨｚ（周期１００ｎ
ｓｅｃ）の干渉出力信号を出力するようになる。この干
渉出力信号の１周期がレーザ光の波長の約２分の１であ
る２６６ｎｍに相当するので、この受光素子３Ｆ及び３
Ｇから出力される干渉出力信号の位相差を測定すること
によって、測定面における地点Ａ及びＢの高さ、すなわ
ち突起の場合にはその突起の高さ、段差の場合にはその
段差間距離を測定することができる。
【０００９】図５の場合、測定面３Ｃには突起又は段差
等が存在しないので、測定面３Ｃの地点Ａ及び地点Ｂで
反射した光は同じ光路長を経由して受光素子３Ｆ及び３
Ｇに入射する。従って、受光素子３Ｆ及び３Ｇの干渉出
力信号の位相は同じである。一方、図６の場合、測定面
３Ｃには段差が存在するので、図示のように受光素子３
Ｆ及び３Ｇの干渉出力信号は段差間距離Δδに相当する
Δｔの位相差を有する。この位相差Δｔが測定面３Ｃの
地点Ａ及びＢ間の段差間距離に相当する。従って、この
位相差Δｔを測定することによって、段差間距離Δδを
検出することができる。この位相差Δｔの測定は、測定
面の地点Ａの干渉出力信号を所定のスライス電圧でパル
ス化して得られた基準パルスＰＡと、測定面３Ｃの地点
Ｂの干渉出力信号を同じく所定のスライス電圧でパルス
化して得られた測定パルスＰＢとの位相を比較すること
によって行われる。
等が存在しないので、測定面３Ｃの地点Ａ及び地点Ｂで
反射した光は同じ光路長を経由して受光素子３Ｆ及び３
Ｇに入射する。従って、受光素子３Ｆ及び３Ｇの干渉出
力信号の位相は同じである。一方、図６の場合、測定面
３Ｃには段差が存在するので、図示のように受光素子３
Ｆ及び３Ｇの干渉出力信号は段差間距離Δδに相当する
Δｔの位相差を有する。この位相差Δｔが測定面３Ｃの
地点Ａ及びＢ間の段差間距離に相当する。従って、この
位相差Δｔを測定することによって、段差間距離Δδを
検出することができる。この位相差Δｔの測定は、測定
面の地点Ａの干渉出力信号を所定のスライス電圧でパル
ス化して得られた基準パルスＰＡと、測定面３Ｃの地点
Ｂの干渉出力信号を同じく所定のスライス電圧でパルス
化して得られた測定パルスＰＢとの位相を比較すること
によって行われる。
【００１０】ところが、干渉出力信号の振幅すなわち干
渉効率は測定面３Ｃの反射率によって変動するものであ
る。すなわち、光学式グライドテスタは、参照面３Ｂと
測定面３Ｃに対して均等にレーザ光ｆ３１，ｆ３２，ｆ
５１，ｆ５２が照射するようにパワー配分してあるが、
測定面３Ｃの反射率が変動することによって、干渉出力
信号の振幅すなわち干渉効率が低下し、それに伴ってＳ
／Ｎが悪化し、測定精度が低下するという欠点を有す
る。また、干渉効率が低下しても、干渉出力信号の直流
分の変化は少なく、この直流分によるショットノイズが
一定であるため、Ｓ／Ｎが低下するという問題を有す
る。
渉効率は測定面３Ｃの反射率によって変動するものであ
る。すなわち、光学式グライドテスタは、参照面３Ｂと
測定面３Ｃに対して均等にレーザ光ｆ３１，ｆ３２，ｆ
５１，ｆ５２が照射するようにパワー配分してあるが、
測定面３Ｃの反射率が変動することによって、干渉出力
信号の振幅すなわち干渉効率が低下し、それに伴ってＳ
／Ｎが悪化し、測定精度が低下するという欠点を有す
る。また、干渉効率が低下しても、干渉出力信号の直流
分の変化は少なく、この直流分によるショットノイズが
一定であるため、Ｓ／Ｎが低下するという問題を有す
る。
【００１１】本発明は、上述の点に鑑みてなされたもの
であり、測定面の反射率が変動して場合でも、正確にそ
の段差間距離又は突起物の高さに相当する位相差を測定
することのできる光干渉計の干渉位相検出方式を提供す
ることを目的とする。
であり、測定面の反射率が変動して場合でも、正確にそ
の段差間距離又は突起物の高さに相当する位相差を測定
することのできる光干渉計の干渉位相検出方式を提供す
ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】出願時の請求項１に記載
された発明に係る光干渉計の干渉位相検出方式は、レー
ザ光を分岐し、分岐されたレーザ光を異なる周波数で変
調し、参照面と測定面に照射し、そこからのそれぞれの
反射光の干渉成分を受光することによって測定面の位相
を検出する光干渉計の干渉位相検出方式において、前記
測定面の反射率に応じて前記分岐前のレーザ光をその光
軸を中心に所定角度だけ回転させる偏光角調整手段を設
けたものである。
された発明に係る光干渉計の干渉位相検出方式は、レー
ザ光を分岐し、分岐されたレーザ光を異なる周波数で変
調し、参照面と測定面に照射し、そこからのそれぞれの
反射光の干渉成分を受光することによって測定面の位相
を検出する光干渉計の干渉位相検出方式において、前記
測定面の反射率に応じて前記分岐前のレーザ光をその光
軸を中心に所定角度だけ回転させる偏光角調整手段を設
けたものである。
【００１３】レーザ光はビームスプリッタによって互い
に偏光面が直交するように分岐される。分岐されたレー
ザ光に対して周波数変調が加えられ、参照面と測定面に
照射される。参照面と測定面で反射したレーザ光同士の
干渉波形を観察することによって測定面の段差間距離又
は突起物の高さに相当する位相差を検出する。このと
き、参照面は常に同じ面なので、その反射率は一定であ
るのに対して、測定面の反射率は検出されるディスクの
製造工程によって変動したり、製造ロットによって変動
したり、ディスク内でその平均的な反射率が変動したり
する場合がある。反射率が低下すると反射光のショット
ノイズ成分によって干渉波形のＳ／Ｎ指数が著しく低下
する。従って、この発明では測定面の反射率の変動に応
じて分岐前のレーザ光をその光軸を中心に所定角度だけ
回転させる偏光角調整手段を設けた。このように参照面
及び測定面に照射されるレーザ光の強度を調節する（パ
ワー配分する）ことによって、反射光のショットノイズ
による影響を少なくし、干渉波形のＳ／Ｎ指数が著しく
低下しないようにした。
に偏光面が直交するように分岐される。分岐されたレー
ザ光に対して周波数変調が加えられ、参照面と測定面に
照射される。参照面と測定面で反射したレーザ光同士の
干渉波形を観察することによって測定面の段差間距離又
は突起物の高さに相当する位相差を検出する。このと
き、参照面は常に同じ面なので、その反射率は一定であ
るのに対して、測定面の反射率は検出されるディスクの
製造工程によって変動したり、製造ロットによって変動
したり、ディスク内でその平均的な反射率が変動したり
する場合がある。反射率が低下すると反射光のショット
ノイズ成分によって干渉波形のＳ／Ｎ指数が著しく低下
する。従って、この発明では測定面の反射率の変動に応
じて分岐前のレーザ光をその光軸を中心に所定角度だけ
回転させる偏光角調整手段を設けた。このように参照面
及び測定面に照射されるレーザ光の強度を調節する（パ
ワー配分する）ことによって、反射光のショットノイズ
による影響を少なくし、干渉波形のＳ／Ｎ指数が著しく
低下しないようにした。
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を添
付図面に従って説明する。図１は、本発明の光干渉計の
干渉位相検出方式の第１の実施の形態に係る概略構成を
示す図である。この干渉位相検出方式においては、レー
ザ装置３１から出力されるレーザ光ｆ０をその光軸を中
心に所定角度だけ回転させる偏光角調整手段１を有する
ものである。この偏光角調整手段１は具体的には２分の
１波長板で構成され、変調手段３２のビームスプリッタ
３３に入射するレーザ光ｆ1 の偏光角を調節するもので
ある。なお、偏光角調整手段１の代わりにレーザ装置３
１自体を回転制御してもよいことはいうまでもない。図
１では、分岐手段３９及び受光素子３Ｆを省略してあ
る。
付図面に従って説明する。図１は、本発明の光干渉計の
干渉位相検出方式の第１の実施の形態に係る概略構成を
示す図である。この干渉位相検出方式においては、レー
ザ装置３１から出力されるレーザ光ｆ０をその光軸を中
心に所定角度だけ回転させる偏光角調整手段１を有する
ものである。この偏光角調整手段１は具体的には２分の
１波長板で構成され、変調手段３２のビームスプリッタ
３３に入射するレーザ光ｆ1 の偏光角を調節するもので
ある。なお、偏光角調整手段１の代わりにレーザ装置３
１自体を回転制御してもよいことはいうまでもない。図
１では、分岐手段３９及び受光素子３Ｆを省略してあ
る。
【００１４】レーザ装置３１は波長５３２ｎｍのレーザ
光ｆ０を出射する。このレーザ光ｆ０は直線偏光なの
で、偏光角調整手段１を通過することによってその偏光
面が光軸回りに所定角度だけ回転させられた直線偏光ｆ
１となり、ビームスプリッタ３３に入射するようにな
る。ビームスプリッタ３３は、レーザ光ｆ１の入射角度
（偏光角度）に応じたそれぞれ異なる強度の２つの偏光
レーザ光（透過レーザ光ｆ２と反射レーザ光ｆ３）を光
学音響素子３５及び３６に出力する。なお、反射レーザ
光ｆ２と透過レーザ光ｆ３の両方の強度はビームスプリ
ッタ３３の入射レーザ光の強度に等しく、その強度の比
率がレーザ光ｆ１の偏光角度（ビームスプリッタ３３へ
の入射角度）に依存している。
光ｆ０を出射する。このレーザ光ｆ０は直線偏光なの
で、偏光角調整手段１を通過することによってその偏光
面が光軸回りに所定角度だけ回転させられた直線偏光ｆ
１となり、ビームスプリッタ３３に入射するようにな
る。ビームスプリッタ３３は、レーザ光ｆ１の入射角度
（偏光角度）に応じたそれぞれ異なる強度の２つの偏光
レーザ光（透過レーザ光ｆ２と反射レーザ光ｆ３）を光
学音響素子３５及び３６に出力する。なお、反射レーザ
光ｆ２と透過レーザ光ｆ３の両方の強度はビームスプリ
ッタ３３の入射レーザ光の強度に等しく、その強度の比
率がレーザ光ｆ１の偏光角度（ビームスプリッタ３３へ
の入射角度）に依存している。
【００１５】従って、測定面３Ｃの反射率が低い場合に
は、測定面３Ｃに到達するレーザ光ｆ５の強度がレーザ
光ｆ４の強度よりも強くなるように、レーザ光ｆ０のビ
ームスプリッタ３３の入射角度（偏光角度）を調節す
る。このように強度の調節された透過レーザ光ｆ２は光
学音響素子３５に入射し、そこで周波数ｆｍの変調が加
えら、レーザ光ｆ４（＝ｆ２＋ｆｍ）として反射鏡３８
に出射される。一方、反射レーザ光ｆ３は光学音響素子
３６に入射し、そこで周波数ｆｎの変調が加えられ、レ
ーザ光ｆ５（＝ｆ３＋ｆｎ）として反射鏡３７に出射さ
れる。光学音響素子３５から出射するレーザ光ｆ４は反
射鏡３８で反射し、ビームスプリッタ３４に入射する。
一方、光学音響素子３６から出射するレーザ光ｆ５も反
射鏡３７で反射し、ビームスプリッタ３４に入射する。
ビームスプリッタ３４に入射したレーザ光ｆ４とレーザ
光ｆ５は合成されて、偏光ビームスプリッタ３Ａに入射
される。なお、ここでは図４の分岐手段３９は省略して
ある。
は、測定面３Ｃに到達するレーザ光ｆ５の強度がレーザ
光ｆ４の強度よりも強くなるように、レーザ光ｆ０のビ
ームスプリッタ３３の入射角度（偏光角度）を調節す
る。このように強度の調節された透過レーザ光ｆ２は光
学音響素子３５に入射し、そこで周波数ｆｍの変調が加
えら、レーザ光ｆ４（＝ｆ２＋ｆｍ）として反射鏡３８
に出射される。一方、反射レーザ光ｆ３は光学音響素子
３６に入射し、そこで周波数ｆｎの変調が加えられ、レ
ーザ光ｆ５（＝ｆ３＋ｆｎ）として反射鏡３７に出射さ
れる。光学音響素子３５から出射するレーザ光ｆ４は反
射鏡３８で反射し、ビームスプリッタ３４に入射する。
一方、光学音響素子３６から出射するレーザ光ｆ５も反
射鏡３７で反射し、ビームスプリッタ３４に入射する。
ビームスプリッタ３４に入射したレーザ光ｆ４とレーザ
光ｆ５は合成されて、偏光ビームスプリッタ３Ａに入射
される。なお、ここでは図４の分岐手段３９は省略して
ある。
【００１６】偏光ビームスプリッタ３Ａはレーザ光ｆ４
を反射して４分の１波長板３Ｄを介して参照面３Ｂに照
射し、またレーザ光ｆ０＋ｆ２を透過して４分の１波長
板３Ｅを介して測定面３Ｃに照射する。４分の１波長板
３Ｄ及び３Ｅを通過した直線偏光は円偏光に変換され
る。参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ４は、直線偏光か
ら円偏光に変換されているので、偏光ビームスプリッタ
３Ａを透過して偏光板２を介して受光素子３Ｇに入射す
る。一方、測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５も同じく
直線偏光から円偏光に変換されているので、偏光ビーム
スプリッタ３Ａで反射して偏光板２を介して受光素子３
Ｇに入射する。すなわち、４分の１波長板３Ｄ及び３Ｅ
は入射光と戻り光の偏光を直交させ、戻り光を偏光板２
へ導く。偏光板２は参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ４
と測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５とから干渉成分を
取り出し、それを受光素子３Ｇに出力する。
を反射して４分の１波長板３Ｄを介して参照面３Ｂに照
射し、またレーザ光ｆ０＋ｆ２を透過して４分の１波長
板３Ｅを介して測定面３Ｃに照射する。４分の１波長板
３Ｄ及び３Ｅを通過した直線偏光は円偏光に変換され
る。参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ４は、直線偏光か
ら円偏光に変換されているので、偏光ビームスプリッタ
３Ａを透過して偏光板２を介して受光素子３Ｇに入射す
る。一方、測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５も同じく
直線偏光から円偏光に変換されているので、偏光ビーム
スプリッタ３Ａで反射して偏光板２を介して受光素子３
Ｇに入射する。すなわち、４分の１波長板３Ｄ及び３Ｅ
は入射光と戻り光の偏光を直交させ、戻り光を偏光板２
へ導く。偏光板２は参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ４
と測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５とから干渉成分を
取り出し、それを受光素子３Ｇに出力する。
【００１７】受光素子３Ｇは、参照面３Ｂで反射したレ
ーザ光ｆ４と、測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５との
干渉成分に応じた電気信号を位相差測定回路３Ｈに出力
する。参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ４をａＳｉｎω
１ｔとし、測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５をｂＳｉ
ｎ（ω２ｔ＋φ）とすると、偏光板２を通過する干渉成
分は図２（Ａ）に示すような式で表される。ここで、ａ
は参照面３Ｂの反射率であり、固定値である。ｂは測定
面３Ｃの反射率であり、Θはレーザ方位角すなわち偏光
角調整手段１によって回転されたレーザ光の回転角度で
あり、φは測定面３Ｃの段差に応じた両レーザ光ｆ４，
ｆ５間の位相差である。
ーザ光ｆ４と、測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５との
干渉成分に応じた電気信号を位相差測定回路３Ｈに出力
する。参照面３Ｂで反射したレーザ光ｆ４をａＳｉｎω
１ｔとし、測定面３Ｃで反射したレーザ光ｆ５をｂＳｉ
ｎ（ω２ｔ＋φ）とすると、偏光板２を通過する干渉成
分は図２（Ａ）に示すような式で表される。ここで、ａ
は参照面３Ｂの反射率であり、固定値である。ｂは測定
面３Ｃの反射率であり、Θはレーザ方位角すなわち偏光
角調整手段１によって回転されたレーザ光の回転角度で
あり、φは測定面３Ｃの段差に応じた両レーザ光ｆ４，
ｆ５間の位相差である。
【００１８】図２（Ｂ）は測定面３Ｃの反射率ｂ及びレ
ーザ方位角Θをパラメータとした場合における偏光板２
を通過後の干渉成分の振幅を示す図である。この図から
明らかなように反射率ｂの大きさに係わらずレーザ方位
角Θは約４５度付近の方が干渉振幅は大きいことがわか
る。しかしながら、反射率ｂが小さくなると干渉成分が
ショットノイズの影響を受けるようになるため、レーザ
方位角Θは４５度付近よりも小さくした方がよい。図３
（Ｂ）は、測定面３Ｃの反射率ｂ及びレーザ方位角Θを
パラメータとした場合におけるＳ／Ｎの指数、すなわち
干渉振幅を平均値の平方根で割った値である。この演算
式は図３（Ａ）に示す通りである。図３（Ｂ）から明ら
かなように、測定面３Ｃの反射率ｂが低下した場合に
は、測定面３Ｃに供給されるレーザ光成分を増加する方
向にレーザ方位角Θを回転させればよいことがわかる。
図３（Ｃ）は反射率ｂが約０．３７の場合におけるレー
ザ方位角ΘとそのＳ／Ｎ指数との関係を示す図である。
レーザ方位角Θが３５度付近にピークがあることが分か
る。従って、反射率ｂが０．３７のような場合にはレー
ザ方位角Θを約３５度付近にすれば、Ｓ／Ｎのよい干渉
振幅信号を得られることになる。
ーザ方位角Θをパラメータとした場合における偏光板２
を通過後の干渉成分の振幅を示す図である。この図から
明らかなように反射率ｂの大きさに係わらずレーザ方位
角Θは約４５度付近の方が干渉振幅は大きいことがわか
る。しかしながら、反射率ｂが小さくなると干渉成分が
ショットノイズの影響を受けるようになるため、レーザ
方位角Θは４５度付近よりも小さくした方がよい。図３
（Ｂ）は、測定面３Ｃの反射率ｂ及びレーザ方位角Θを
パラメータとした場合におけるＳ／Ｎの指数、すなわち
干渉振幅を平均値の平方根で割った値である。この演算
式は図３（Ａ）に示す通りである。図３（Ｂ）から明ら
かなように、測定面３Ｃの反射率ｂが低下した場合に
は、測定面３Ｃに供給されるレーザ光成分を増加する方
向にレーザ方位角Θを回転させればよいことがわかる。
図３（Ｃ）は反射率ｂが約０．３７の場合におけるレー
ザ方位角ΘとそのＳ／Ｎ指数との関係を示す図である。
レーザ方位角Θが３５度付近にピークがあることが分か
る。従って、反射率ｂが０．３７のような場合にはレー
ザ方位角Θを約３５度付近にすれば、Ｓ／Ｎのよい干渉
振幅信号を得られることになる。
【００１９】なお、図１の実施の形態では、測定面３Ｃ
の反射率に応じて偏光角調整手段１を調整する場合につ
いて説明したが、レーザ光ｆ６の一部を用いて、図３
（Ａ）のような演算式に対応した値を検出する手段を設
け、その値を偏光角調整手段１にフィードバックするよ
うにしてもよい。これによって、測定面３Ｃの反射率が
変動した場合でも、最適な干渉振幅信号を得ることがで
きる。
の反射率に応じて偏光角調整手段１を調整する場合につ
いて説明したが、レーザ光ｆ６の一部を用いて、図３
（Ａ）のような演算式に対応した値を検出する手段を設
け、その値を偏光角調整手段１にフィードバックするよ
うにしてもよい。これによって、測定面３Ｃの反射率が
変動した場合でも、最適な干渉振幅信号を得ることがで
きる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の光干渉計の干渉位相検出方式に
よれば、測定面の反射率が変動して場合でも、正確にそ
の段差間距離又は突起物の高さに相当する位相差を測定
することができるという効果がある。
よれば、測定面の反射率が変動して場合でも、正確にそ
の段差間距離又は突起物の高さに相当する位相差を測定
することができるという効果がある。
【図１】 本発明の光干渉計の干渉位相検出方式の実施
の形態に係る概略構成を示す図である。
の形態に係る概略構成を示す図である。
【図２】 参照面と測定面で反射したレーザ光の干渉成
分の干渉式と、この干渉式に対応した干渉振幅の様子を
示す図である。
分の干渉式と、この干渉式に対応した干渉振幅の様子を
示す図である。
【図３】 参照面と測定面で反射したレーザ光の干渉成
分のＳ／Ｎ指数を示す式と、この式に対応したＳ／Ｎ指
数の様子を示す図である。
分のＳ／Ｎ指数を示す式と、この式に対応したＳ／Ｎ指
数の様子を示す図である。
【図４】 従来の光学式グライドテスタの概略構成を示
す図である。
す図である。
【図５】 測定面に突起又は段差等がない場合に突起又
は段差の高さがどのようにして測定されるのか、その検
出原理を示す図である。
は段差の高さがどのようにして測定されるのか、その検
出原理を示す図である。
【図６】 測定面に高さΔδの突起又は段差等が存在す
る場合に突起又は段差の高さがどのようにして測定され
るのか、その検出原理を示す図である。
る場合に突起又は段差の高さがどのようにして測定され
るのか、その検出原理を示す図である。
１…偏光角調整手段、２…偏光板、３１…レーザ装置、
３２…変調手段、３３，３４…ビームスプリッタ、３
５，３６…光学音響素子、３７，３８…反射鏡、３Ａ…
偏光ビームスプリッタ、３Ｂ…参照面、３Ｃ…測定面、
３Ｄ，３Ｅ…４分の１波長板、３Ｆ，３Ｇ…受光素子、
３Ｈ…位相差測定回路
３２…変調手段、３３，３４…ビームスプリッタ、３
５，３６…光学音響素子、３７，３８…反射鏡、３Ａ…
偏光ビームスプリッタ、３Ｂ…参照面、３Ｃ…測定面、
３Ｄ，３Ｅ…４分の１波長板、３Ｆ，３Ｇ…受光素子、
３Ｈ…位相差測定回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 信彦 東京都渋谷区東３丁目16番３号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2F064 AA09 CC01 CC10 FF01 GG12 GG22 GG23 GG33 GG34 GG38 GG70 HH05 2F065 AA49 BB03 CC03 DD04 EE03 FF49 FF52 GG04 HH04 HH13 JJ15 LL12 LL33 LL34 LL36 LL37 LL46 LL57 NN08
Claims (2)
- 【請求項１】 レーザ光を分岐し、分岐されたレーザ光
を異なる周波数で変調し、参照面と測定面に照射し、そ
こからのそれぞれの反射光の干渉成分を受光することに
よって測定面の位相を検出する光干渉計の干渉位相検出
方式において、 前記測定面の反射率に応じて前記分岐前のレーザ光をそ
の光軸を中心に所定角度だけ回転させる偏光角調整手段
を設けたことを特徴とする光干渉計の干渉位相検出方
式。 - 【請求項２】 前記所定角度は前記反射光の干渉成分の
Ｓ／Ｎ指数が最大となるように制御することを特徴とす
る請求項１に記載の光干渉計の干渉位相検出方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10289741A JP2000121317A (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 光干渉計の干渉位相検出方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10289741A JP2000121317A (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 光干渉計の干渉位相検出方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000121317A true JP2000121317A (ja) | 2000-04-28 |
Family
ID=17747169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10289741A Pending JP2000121317A (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 光干渉計の干渉位相検出方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000121317A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001090685A2 (en) * | 2000-05-19 | 2001-11-29 | Zygo Corporation | Height scanning interferometer for determining the absolute position and surface profile of an object with respect to a datum |
| JP2001351842A (ja) * | 2000-06-05 | 2001-12-21 | Canon Inc | 位置検出方法、位置検出装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
| US6597460B2 (en) | 2000-05-19 | 2003-07-22 | Zygo Corporation | Height scanning interferometer for determining the absolute position and surface profile of an object with respect to a datum |
| WO2008103244A1 (en) * | 2007-02-21 | 2008-08-28 | Corning Incorporated | Apparatus for measuring defects in a glass sheet |
| US7684049B2 (en) | 2003-03-06 | 2010-03-23 | Zygo Corporation | Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features |
| US7812963B2 (en) | 2002-09-09 | 2010-10-12 | Zygo Corporation | Interferometry method for ellipsometry, reflectometry, and scatterometry measurements, including characterization of thin film structures |
| US7869057B2 (en) | 2002-09-09 | 2011-01-11 | Zygo Corporation | Multiple-angle multiple-wavelength interferometer using high-NA imaging and spectral analysis |
| US7884947B2 (en) | 2005-01-20 | 2011-02-08 | Zygo Corporation | Interferometry for determining characteristics of an object surface, with spatially coherent illumination |
| US7889355B2 (en) | 2007-01-31 | 2011-02-15 | Zygo Corporation | Interferometry for lateral metrology |
| US7924435B2 (en) | 2006-12-22 | 2011-04-12 | Zygo Corporation | Apparatus and method for measuring characteristics of surface features |
| US7952724B2 (en) | 2005-01-20 | 2011-05-31 | Zygo Corporation | Interferometer with multiple modes of operation for determining characteristics of an object surface |
| US7978338B2 (en) | 2008-11-26 | 2011-07-12 | Zygo Corporation | Compound reference interferometer |
| US7978337B2 (en) | 2007-11-13 | 2011-07-12 | Zygo Corporation | Interferometer utilizing polarization scanning |
| US8072611B2 (en) | 2007-10-12 | 2011-12-06 | Zygo Corporation | Interferometric analysis of under-resolved features |
| US8107085B2 (en) | 2003-09-15 | 2012-01-31 | Zygo Corporation | Methods and systems for interferometric analysis of surfaces and related applications |
| US8126677B2 (en) | 2007-12-14 | 2012-02-28 | Zygo Corporation | Analyzing surface structure using scanning interferometry |
-
1998
- 1998-10-12 JP JP10289741A patent/JP2000121317A/ja active Pending
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001090685A2 (en) * | 2000-05-19 | 2001-11-29 | Zygo Corporation | Height scanning interferometer for determining the absolute position and surface profile of an object with respect to a datum |
| WO2001090685A3 (en) * | 2000-05-19 | 2002-03-28 | Zygo Corp | Height scanning interferometer for determining the absolute position and surface profile of an object with respect to a datum |
| US6597460B2 (en) | 2000-05-19 | 2003-07-22 | Zygo Corporation | Height scanning interferometer for determining the absolute position and surface profile of an object with respect to a datum |
| JP2001351842A (ja) * | 2000-06-05 | 2001-12-21 | Canon Inc | 位置検出方法、位置検出装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
| US7812963B2 (en) | 2002-09-09 | 2010-10-12 | Zygo Corporation | Interferometry method for ellipsometry, reflectometry, and scatterometry measurements, including characterization of thin film structures |
| US7869057B2 (en) | 2002-09-09 | 2011-01-11 | Zygo Corporation | Multiple-angle multiple-wavelength interferometer using high-NA imaging and spectral analysis |
| US7684049B2 (en) | 2003-03-06 | 2010-03-23 | Zygo Corporation | Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features |
| US7948636B2 (en) | 2003-03-06 | 2011-05-24 | Zygo Corporation | Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features |
| US8107085B2 (en) | 2003-09-15 | 2012-01-31 | Zygo Corporation | Methods and systems for interferometric analysis of surfaces and related applications |
| US7952724B2 (en) | 2005-01-20 | 2011-05-31 | Zygo Corporation | Interferometer with multiple modes of operation for determining characteristics of an object surface |
| US7884947B2 (en) | 2005-01-20 | 2011-02-08 | Zygo Corporation | Interferometry for determining characteristics of an object surface, with spatially coherent illumination |
| US7924435B2 (en) | 2006-12-22 | 2011-04-12 | Zygo Corporation | Apparatus and method for measuring characteristics of surface features |
| US9025162B2 (en) | 2007-01-31 | 2015-05-05 | Zygo Corporation | Interferometry for lateral metrology |
| US7889355B2 (en) | 2007-01-31 | 2011-02-15 | Zygo Corporation | Interferometry for lateral metrology |
| WO2008103244A1 (en) * | 2007-02-21 | 2008-08-28 | Corning Incorporated | Apparatus for measuring defects in a glass sheet |
| US7808653B2 (en) | 2007-02-21 | 2010-10-05 | Corning Incorporated | Apparatus for measuring defects in a glass sheet |
| US7570366B2 (en) | 2007-02-21 | 2009-08-04 | Corning Incorporated | Apparatus for measuring defects in a glass sheet |
| US8072611B2 (en) | 2007-10-12 | 2011-12-06 | Zygo Corporation | Interferometric analysis of under-resolved features |
| US7978337B2 (en) | 2007-11-13 | 2011-07-12 | Zygo Corporation | Interferometer utilizing polarization scanning |
| US8126677B2 (en) | 2007-12-14 | 2012-02-28 | Zygo Corporation | Analyzing surface structure using scanning interferometry |
| US8120781B2 (en) | 2008-11-26 | 2012-02-21 | Zygo Corporation | Interferometric systems and methods featuring spectral analysis of unevenly sampled data |
| US8004688B2 (en) | 2008-11-26 | 2011-08-23 | Zygo Corporation | Scan error correction in low coherence scanning interferometry |
| US8379218B2 (en) | 2008-11-26 | 2013-02-19 | Zygo Corporation | Fiber-based interferometer system for monitoring an imaging interferometer |
| US8902431B2 (en) | 2008-11-26 | 2014-12-02 | Zygo Corporation | Low coherence interferometry with scan error correction |
| US7978338B2 (en) | 2008-11-26 | 2011-07-12 | Zygo Corporation | Compound reference interferometer |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000121317A (ja) | 光干渉計の干渉位相検出方式 | |
| Ing et al. | Broadband optical detection of ultrasound by two‐wave mixing in a photorefractive crystal | |
| US7289220B2 (en) | Broadband cavity spectrometer apparatus and method for determining the path length of an optical structure | |
| JPH0216419A (ja) | 散乱表面からの過渡運動の光学的検出方法及び装置 | |
| US5371582A (en) | Thickness/depth measuring apparatus and method for measuring the thickness of a film and the depth of a groove | |
| US7050178B2 (en) | Method and apparatus for increasing signal to noise ratio in a photoacoustic film thickness measurement system | |
| US7667851B2 (en) | Method and apparatus for using a two-wave mixing ultrasonic detection in rapid scanning applications | |
| JPWO2009050993A1 (ja) | 非接触膜厚測定方法及び装置 | |
| US5392118A (en) | Method for measuring a trench depth parameter of a material | |
| US7903238B2 (en) | Combination of ellipsometry and optical stress generation and detection | |
| US4474467A (en) | Wavefront sensor using a surface acoustic wave diffraction grating | |
| JP2746446B2 (ja) | 光学計測装置 | |
| JP4204112B2 (ja) | 光干渉計の干渉位相検出方式 | |
| US5956146A (en) | Birefringence measuring apparatus for optical disc substrate | |
| JP6337543B2 (ja) | 形状測定装置及び形状測定方法 | |
| US6295131B1 (en) | Interference detecting system for use in interferometer | |
| JPS60132327A (ja) | 薄膜の膜厚モニタデバイス | |
| US5436884A (en) | Optical data reading apparatus and an optical data reading method | |
| JPH11237223A (ja) | 光干渉計の干渉位相検出方式 | |
| JP2003222616A (ja) | ビート光共振による薄膜評価装置 | |
| JP2003207457A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JPS61149846A (ja) | 板状部材の複屈折測定方法及び複屈折測定装置 | |
| JPH06273386A (ja) | 超音波の検出装置 | |
| Tiziani | Heterodyne interferometry using two wavelengths for dimensional measurements | |
| JPH06265496A (ja) | 試料の欠陥評価方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050308 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060516 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070327 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071002 |