JP4186536B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンウェハなどの半導体基板のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置に用いられるシリコンウェハの製造工程では、半導体装置の薄型化にともない基板の厚さを薄くするための薄化加工が行われる。この薄化加工は、シリコン基板の表面に回路パターンを形成した後に、回路形成面の裏面を機械研磨することによって行われ、研磨加工後には機械研磨によってシリコン基板の研磨面に生成されたダメージ層をエッチングにより除去することを目的として、プラズマ処理が行われる。
【０００３】
このプラズマ処理に際しては、シリコンウェハは処理対象面（裏面）を上向きにした姿勢で保持する必要があるため、シリコンウェハは回路形成面側を基板載置部の載置面に向けた姿勢で保持される。このとき、回路形成面には回路が直接載置面に接触してダメージを受けるのを防止する目的で保護テープが貼着される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このようなシリコンウェハを保持する方法として、静電吸着による方法が知られている。この方法は、導電体の表面が薄い絶縁層で覆われた基板載置部にシリコンウェハを載置し、導電体に直流電圧を印加して基板載置部の表面を静電吸着面とし、シリコンウェハと絶縁層の下の導電体との間にクーロン力を作用させることによってシリコンウェハを基板載置部に保持するものである。
【０００５】
ところが、前述の保護テープが貼着された状態のシリコンウェハを静電吸着によって保持する場合には、クーロン力は絶縁層に加えて絶縁性の保護テープを介在させた状態で作用するため、保護テープを介さずに直接シリコンウェハを静電吸着面に密着させた場合と比較して静電吸着力が低く十分な保持力が得られない場合があった。
【０００６】
また、基板載置部の全面が絶縁層で覆われていることから、シリコンウェハを載置した状態においてシリコンウェハは基板載置部の導電体と直接接触せず、シリコンウェハから基板載置部への熱伝導率が低い。このためプラズマ処理時にシリコンウェハから効率よく熱を奪って冷却することが難しい。そして基板が過度に昇温すると、基板に貼着された保護テープが熱ダメージを受けるため、プラズマ処理条件の設定においては、基板載置部の基板冷却能力に制約されてプラズマ処理時の電源出力を低く設定せざるを得なかった。このように、絶縁層を有する半導体基板を処理対象とする場合には、十分な静電保持力を確保しながら冷却効率を向上させることが難しく、高エッチングレートのプラズマ処理を実現することが困難であった。
【０００７】
そこで本発明は、半導体基板を十分な静電保持力で保持するとともに、半導体基板の冷却効率を向上させることができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載のプラズマ処理装置は、回路形成面に静電吸着する際の誘電体として機能する保護テープを有する半導体基板を処理室内に収容してこの半導体基板の前記回路形成面の裏面をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、導電体で形成され且つこの半導体基板の外形よりも大形の上面を有する電極と、この電極を冷却する冷却手段と、前記半導体基板を前記保護テープを前記電極の上面に接触させて静電吸着によって保持するために前記電極に直流電圧を印加する直流電源部と、前記処理室内を減圧する減圧手段と、前記処理室内にプラズマ発生用のガスを供給するプラズマ発生用ガス供給部と、前記電極に高周波電圧を印加して前記処理室内にプラズマを発生させる高周波電源部を備え、前記電極の上面は、前記半導体基板の外形位置よりも所定幅だけ内側の境界線から内側に設けられ導電体が上面に露呈した上面中央部と、この上面中央部を環状に取り囲んで設けられ導電体が絶縁被覆層によって覆われた上面外周部と、前記半導体基板を真空吸着する吸着孔を有し、前記絶縁被覆層の外縁部を環状に覆う絶縁部を備えた。
【０００９】
請求項２記載のプラズマ処理装置は、請求項１記載のプラズマ処理装置であって、前記外形位置から前記境界線までの範囲において、電極の上面に保持された半導体基板の絶縁層の外縁部と前記絶縁被覆層とが接触する。
【００１１】
請求項３記載のプラズマ処理装置は、請求項１記載のプラズマ処理装置であって、前記絶縁被覆層が、前記電極の側面まで形成されている。
【００１２】
請求項４記載のプラズマ処理装置は、請求項１記載のプラズマ処理装置であって、前記絶縁被覆層がアルミナである。
【００１６】
本発明によれば、基板を静電吸着によって保持する電極の上面を、基板の外形位置よりも所定幅だけ内側の境界線から内側に設けられ導電体が上面に露呈した上面中央部と、この上面中央部を環状に取り囲んで設けられ導電体が絶縁被覆層によって覆われた上面外周部で構成することにより、半導体基板を十分な静電保持力で保持するとともに、基板を電極に密着させて基板の冷却効率を向上させることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の側断面図、図２は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の第１電極の側断面図、図３、図４は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の側断面図、図５は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の平断面図、図６、図７は本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の部分断面図である。
【００１８】
まず図１を参照してプラズマ処理装置の構成について説明する。図１において、真空チャンバ１の内部はプラズマ処理を行う処理室２となっており、減圧下でプラズマを発生させるための密閉された処理空間が形成可能となっている。処理室２は円筒形状となっており（図６参照）、処理室２の内部には、第１電極３（電極）および第２電極４が上下に対向して配設されている。第１電極３および第２電極４はそれぞれ円筒形状であり、処理室２内において同心配置となっている。
【００１９】
第１電極３は、処理室２の底部を埋める形で装着された２層の絶縁体５Ａ，５Ｂに周囲を取り囲まれ、処理室２の底の中央部に処理対象物を保持する上面を露呈させて固定された状態で配設されている。第１電極３はアルミニウムなどの導電体によって製作されており、円盤状の電極部３ａから下方に支持部３ｂを延出させた形状となっている。そして支持部３ｂを絶縁部材５Ｃを介して真空チャンバ１に保持させることにより、電気的に絶縁された状態で装着されている。
【００２０】
第２電極４は、第１電極３と同様にアルミニウムなどの導電体で製作されており、円盤状の電極部４ａから上方に支持部４ｂを延出させた形状となっている。支持部４ｂは真空チャンバ１と電気的に導通しており、昇降機構２４（図３）によって昇降可能となっている。第２電極４が下降した状態では、処理室２内の処理空間は、第２電極４によって機能が異なる２つの空間に仕切られる。
【００２１】
すなわち、第２電極４の下方の第１電極３との間には放電空間２ｂが形成され、第２電極４の上方には真空チャンバ１の天井面との間に排気空間２ａが形成される。放電空間２ｂは、第１電極３上に載置されたシリコンウェハ６を対象としてプラズマ処理を行うためのプラズマ放電を発生させる空間である。排気空間２ａは、放電空間２ｂ内のガスを外部に排気するための空間である。
【００２２】
次に、図１，図２を参照して、第１電極３の詳細構造について説明する。第１電極３の電極部３ａの上面は、処理対象物の基板であるシリコンウェハ６を載置する載置面となっており、シリコンウェハ６の外形よりも大きい形状となっている。ここでシリコンウェハ６は、表面側に論理回路が形成された半導体基板であり、回路形成面の裏側を機械加工によって研磨された後に、この裏面を対象としてプラズマ処理によるエッチングが行われる。そしてこのエッチングによって、機械加工により半導体基板の裏面に生成したマイクロクラックを除去する。
【００２３】
図２に示すように、第１電極３の上面は、シリコンウェハ６を載置したときのシリコンウェハ６の外形位置Ｐ１よりも所定幅Ｃだけ内側に位置する境界線Ｐ２によって、内外２つの部分に分けられている。すなわち、境界線Ｐ２から内側は、素材の導電体であるアルミニウムが上面に露呈した上面中央部Ａとなっており、境界線Ｐ２から外側は、上面中央部Ａを環状に取り囲んで設けられ導電体のアルミニウムが絶縁被覆層３ｆによって覆われた上面外周部Ｂとなっている。ここで、所定幅Ｃは必ずしも全周にわたって等しい幅である必要はなく、位置によって異なってもよい。
【００２４】
絶縁被覆層３ｆは、アルミナなどのセラミックによって形成されており、第１電極３が真空チャンバ１内に装着された状態では、図１に示すように、絶縁被覆層３ｆの外縁部は部分的に絶縁体５Ａによって覆われる（図６も参照）。これにより、第１電極３の外縁部は放電空間２ｂ内に発生したプラズマから絶縁され、異常放電の発生が防止される。
【００２５】
図２に示すようにシリコンウェハ６の表面（図２において下面側）の回路形成面には保護テープ６ａが貼着されており、プラズマ処理時には保護テープ６ａを第１電極３の上面３ｇに向け、機械研磨面を上向きにした状態で載置される。保護テープ６ａは、ポリオレフィン、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレートなどの絶縁体の樹脂を１００μｍ程度の厚みの膜に形成した樹脂テープであり、粘着材によりシリコンウェハ６の回路形成面に貼着される。シリコンウェハ６に貼着された保護テープ６ａは、回路形成面（表面）に形成された絶縁層となっており、後述するようにこの絶縁層はシリコンウェハ６を静電吸着する際の誘電体として機能する。
【００２６】
シリコンウェハ６を第１電極３に載置する際には、図２に示すように、シリコンウェハ６の保護テープ６ａの中央部Ｄ、外縁部Ｅを、第１電極３の上面の上面中央部Ａ、上面周辺部Ｂの絶縁被覆層３ｆに、それぞれ接触させて載置する。この状態では、外形位置Ｐ１から境界線Ｐ２までの範囲において、第１電極３の上面３ｇに保持されたシリコンウェハ６の保護テープ６ａの外縁部Ｅと、絶縁被覆層３ｆとが重ね合わされて接触する。
【００２７】
シリコンウェハ６を静電吸着する際には、主に保護テープ６ａの中央部Ｄを静電吸着を行うための誘電体として利用して、シリコンウェハ６を上面中央部Ａで静電吸着する。このとき外縁部Ｅの範囲においても保護テープ６ａおよび絶縁被覆層３ｆを介してわずかながら静電吸着力が作用し、これらの静電吸着力によって、保護テープ６ａの外縁部Ｅは絶縁被覆層３ｆに密着する。
【００２８】
この密着状態では、第１電極３の上面において導電体が表面に露呈した上面中央部Ａの外周端である境界線Ｐ２の位置は、シリコンウェハ６の外径寸法のばらつきや第１電極３上における載置位置にのばらつきに拘わらず、シリコンウェハ６によって覆われる。これにより、第１電極３の導電部は放電空間２ｂ内のプラズマから確実に絶縁される。したがって、プラズマ放電中の第１電極３における異常放電を防止して、プラズマ処理装置の稼動状態を安定させることが可能となっている。
【００２９】
図２に示すように、第１電極３には上面に開口する吸着孔３ｅが多数設けられており、吸着孔３ｅは第１電極３の内部に設けられた吸引孔３ｃに連通している。吸引孔３ｃはガスライン切り換え開閉機構１１を介して真空吸着ポンプ１２に接続されており、ガスライン切り換え開閉機構１１は、図１に示すようにチッソガスを供給するＮ2ガス供給部１３及びヘリウムガスを供給するＨｅガス供給部１４に接続されている。ガスライン切り換え開閉機構１１を切り換えることにより、吸引孔３ｃを真空吸着ポンプ１２，Ｎ2ガス供給部１３及びＨｅガス供給部１４に選択的に接続させることができる。
【００３０】
吸引孔３ｃが真空吸着ポンプ１２と連通した状態で真空吸着ポンプ１２を駆動することにより、吸着孔３ｅから真空吸引して第１電極３に載置されたシリコンウェハ６を真空吸着して保持する。したがって吸着孔３ｅ、吸引孔３ｃ、真空吸着ポンプ１２は第１電極３の上面３ｇに開口した吸着孔３ｅから真空吸引することにより、シリコンウェハ６を真空吸着して保持する真空保持手段となっている。
【００３１】
また、吸引孔３ｃをＮ2ガス供給部１３またはＨｅガス供給部１４に接続させることにより、吸着孔３ｅからシリコンウェハ６の下面に対してチッソガスまたはヘリウムガスを供給することができるようになっている。後述するように、チッソガスはシリコンウェハ６を載置面３ｇから強制的に離脱させる目的のブロー用ガスであり、ヘリウムガスはプラズマ処理時にシリコンウェハの冷却を促進する目的で吸着孔３ｅ内に充填される熱伝達用のガスである。
【００３２】
第１電極３には冷却用の冷媒流路３ｄが設けられており、冷媒流路３ｄは冷却機構１０と接続されている。冷却機構１０を駆動することにより、冷媒流路３ｄ内を冷却水などの冷媒が循環し、これによりプラズマ処理時に発生した熱によって昇温した第１電極３や第１電極３上の保護テープ６ａが冷却される。冷媒流路３ｄおよび冷却機構１０は、第１電極３を冷却する冷却手段となっている。
【００３３】
処理室２の排気空間２ａに連通して設けられた排気ポート１ａには、バルブ開放機構７を介して真空排気部８が接続されており、バルブ開放機構７を開放状態にして真空排気部８を駆動することにより、真空チャンバ１の処理室２内部が真空排気され、処理空２内が減圧される。真空排気部８は、排気空間２ａに形成された排気ポート１ａより排気を行って処理室２内を減圧する減圧手段となっている。
【００３４】
第１電極３は、マッチング回路１６を介して高周波電源部１７に電気的に接続されている。高周波電源部１７を駆動することにより、接地部１９に接地された真空チャンバ１と導通した第２電極４と第１電極３の間には高周波電圧が印加され、これにより処理室２内部でプラズマ放電が発生する。マッチング回路１６は、処理室２内でプラズマを発生させるプラズマ放電回路と高周波電源部１７のインピーダンスを整合させる。第１電極３，第２電極４および高周波電源部１７は、載置面に載置されたシリコンウェハ６をプラズマ処理するためのプラズマを発生するプラズマ発生手段となっている。
【００３５】
また第１電極３には、ＲＦフィルタ１５を介して静電吸着用ＤＣ電源部１８（直流電源部）が接続されている。静電吸着用ＤＣ電源部１８を駆動することにより、第１電極３の表面には、負電荷が蓄積される。そしてこの状態で高周波電源部１７を駆動して処理室２内にプラズマを発生させることにより、第１電極３上に載置されたシリコンウェハ６と接地部１９とを接続する直流回路が処理室２内のプラズマを介して形成され、これにより、第１電極３，ＲＦフィルタ１５，静電吸着用ＤＣ電源部１８，接地部１９，プラズマ、シリコンウェハ６を順次結ぶ閉じた直流回路が形成され、シリコンウェハ６には正電荷が蓄積される。
【００３６】
そして第１電極３に蓄積された負電荷とシリコンウェハ６に蓄積された正電荷との間にはクーロン力が作用し、このクーロン力によってシリコンウェハ６は誘電体としての保護テープ６ａを介して第１電極３に保持される。このとき、ＲＦフィルタ１５は、高周波電源部１７の高周波電圧が静電吸着用ＤＣ電源部１８に直接印加されることを防止する。第１電極３，静電吸着用ＤＣ電源部１８は、板状基板であるシリコンウェハ６を第１電極に静電吸着によって保持する静電吸着手段となっている。なお、静電吸着用ＤＣ電源部１８の極性は正負逆でもよい。
【００３７】
次に第２電極４の詳細構造について説明する。第２電極４は、中央の電極部４ａと電極部４ａを囲んで外周部に張り出して設けられた絶縁体からなる張出部４ｆを備えた構成となっている。張出部４ｆの外形は第１電極３よりも大きく、第１電極３よりも外側に広がった形状で配置されている。第２電極４の下面中央部には、ガス吹出部４ｅが設けられている。ガス吹出部４ｅは、放電空間２ｂにおいてプラズマ放電を発生するためのプラズマ発生用ガスを供給する。ガス吹出部４ｅは、内部に多数の微細孔を有する多孔質材料を円形の板状に加工した部材であり、ガス滞留空間４ｇ内に供給されたプラズマ発生用ガスを、これらの微細孔を介して放電空間２ｂ内に満遍なく吹き出させて均一な状態で供給する。
【００３８】
支持部４ｂ内には、ガス滞留空間４ｇに連通するガス供給孔４ｃが設けられており、ガス供給孔４ｃは開閉バルブ２０を介してプラズマ発生用ガス供給部２１に接続されている。開閉バルブ２０を開にした状態でプラズマ発生用ガス供給部２１を駆動することにより、フッ素系ガスを含んだプラズマ発生用ガスがガス吹出部４ｅより放電空間２ｂ内に供給される。
【００３９】
また第２電極４には冷却用の冷媒流路４ｄが設けられており、冷媒流路４ｄは冷却機構１０と接続されている。冷却機構１０を駆動することにより、冷媒流路４ｄ内を冷却水などの冷媒が循環し、これによりプラズマ処理時に発生した熱によって昇温した第２電極４が冷却される。
【００４０】
図３に示すように、処理室２の側面には、処理対象物の出し入れ用の開口部１ｂが設けられている（図５も参照）。開口部１ｂの外側には開閉機構２３によって昇降する扉２２が設けられており、扉２２を昇降させることにより開口部１ｂが開閉される。図４は、扉２２を下降させて開口部１ｂを開放した状態でシリコンウェハ６を出し入れする状態を示している。昇降機構２４により第２電極４を上昇させて第１電極３上に搬送用のスペースを確保した状態で、アーム２５ａに保持された吸着ヘッド２５を開口部１ｂを介して処理室２内に進入させることにより、シリコンウェハ６の出し入れが行われる。上記構成に示すように、排気空間２ａが広く確保できるような構成とすることにより、第２電極４を上昇させる際の電極間距離を広く確保することができ、処理対象物の出し入れ操作を容易に行うことができる。
【００４１】
ここで、図５を参照して、処理室２，第１電極３および第１電極３上に載置されるシリコンウェハ６、第２電極４の相互の平面位置関係について説明する。図５は、真空チャンバ１を水平方向に輪切りにした状態を示しており、図５に示す同心円は、外側から順に処理室２（真空チャンバ１）の内面２ｃ、第２電極４の外側面４ｈ（図６参照）、第１電極３の外側面３ｈ、シリコンウェハ６の外形位置を示す境界線Ｐ１，第１電極３の上面における境界線Ｐ２を示している。
【００４２】
図５から判るように、処理室２および第２電極４は略円筒形であり、したがって処理室２の内面２ｃと第２電極４の外側面４ｈとの間に形成された空間Ｓ１は、２つの同心円筒面に挟まれた円筒を開口部１ｂによって部分的に切り欠いた略円筒形状となっている。
【００４３】
次に、放電空間２ｂ内のガスを外周方向へ導くガス流路と、導かれたガスを排気空間２ａに排気するガス排気路について説明する。図６に示すように、第２電極４が下降した状態では、処理室２（真空チャンバ１）の内面と第２電極４の張出部４ｆの側面４ｈとの間には、第２電極４の全周にわたって略均一な隙間Ｇ１を有する形状の空間Ｓ１が形成される。この空間Ｓ１は、放電空間２ａ内のガスを排気空間２ｂへ排気するガス排気路として機能する。
【００４４】
また、張出部４ｆの下面と第１電極３の周囲に設けられた絶縁体５Ａの上面との間には、第２電極４の全周にわたって略均一な隙間Ｇ２を有する形状の空間Ｓ２が形成される。この空間Ｓ２は、ガス吹出部４ｅから放電空間２ｂ内に供給されたプラズマ発生用ガスや、プラズマ放電によって生成された反応ガスを外周方向に導くガス流路として機能する。
【００４５】
ここで、上記隙間Ｇ１，Ｇ２はともに、排気空間２ａの高さ方向の最大寸法Ｈ（図３参照）よりも狭くなるように、各部寸法が設定されている。これにより、ガスの流れやすさを示すコンダクタンスで比較した場合、ガス排気路としての空間Ｓ１，ガス流路としての空間Ｓ２におけるコンダクタンスを、排気空間２ａにおけるコンダクタンスよりも小さくすることができる。
【００４６】
減圧下にある処理室２内におけるプラズマ発生用ガスの流れ状態は、ガス分子の平均自由行程が大きい分子流の状態となっており、この分子流状態においてはコンダクタンスは圧力とは無関係にその空間の壁面間距離の３乗に比例する。したがって、前記の寸法Ｈに対してＧ１，Ｇ２が小さければ小さいほど、空間Ｓ１，Ｓ２におけるコンダクタンスは排気空間２ａにおけるコンダクタンスよりも小さくなる。すなわち、減圧下で行われるプラズマ処理において、空間Ｓ１，Ｓ２内におけるガスの流れと比較して、排気空間２ａ内においてガスはより流れやすくなっている。
【００４７】
したがって、プラズマ処理時に放電空間２ｂ内のガスを排気ポート１ａを介して排気する際に、空間Ｓ１から排気空間２ａ内に流入したガスはコンダクタンスが大きいことから速やかに排気ポート１ａを介して排出され、排気空間２ａ内におけるガスの流動状態の分布に大きなばらつきが生じない。このため、空間Ｓ１から排気空間２ａ内に流入するガスについては、第２電極４の全周にわたってほぼ均一な流入状態が実現される。また、空間Ｓ２内のガスが空間Ｓ１内に流入する際においても同様に、第２電極４の全周にわたってほぼ均一な流れが実現される。これにより、放電空間２ｂ内におけるガスの状態が均一化され、プラズマ処理によるエッチング分布を均一化することが可能となっている。
【００４８】
このプラズマ処理装置は上記のように構成されており、以下プラズマ処理方法について各図を参照しながら説明する。このプラズマ処理は、表面に絶縁層としての保護テープ６ａを有するシリコンウェハ６を第１電極３の上面に静電吸着によって保持した状態で、且つこの第１電極３を冷却しながらプラズマ処理を行うものである。
【００４９】
先ず処理対象物であるシリコンウェハ６が処理室２内に搬送され、第１電極３上に載置される。この後開口部１ｂが閉じられ、真空吸着ポンプ１２を駆動することにより、吸着孔３ｅ、吸引孔３ｃを介して真空吸引し、シリコンウェハ６は第１電極３の上面３ｇに密着した状態で真空吸着により保持される。
【００５０】
次いで真空排気部８を駆動して処理室２内を真空排気した後、プラズマ発生用ガス供給部２１によってプラズマ発生用ガスが処理室２内に供給される。そしてこの後、静電吸着用ＤＣ電源部１８を駆動してＤＣ電圧を印加し、高周波電源部１７を駆動してプラズマ放電を開始する。これにより放電空間２ｂにはプラズマが発生し、シリコンウェハ６を対象としたプラズマ処理が行われる。このプラズマ処理においては、第１電極３とシリコンウェハ６との間には静電吸着力が発生し、シリコンウェハ６は第１電極３に静電吸着力により保持される。
【００５１】
この静電吸着においては、図２に示すようにシリコンウェハ６の保護テープ６ａの中央部Ｄを第２電極３の上面中央部Ａに接触させ、保護テープ６ａの外縁部Ｅを第２電極３の上面周辺部Ｂの絶縁被覆層３ｆに接触させて載置する。そして主に保護テープ６ａの中央部Ｄを静電吸着を行うための誘電体として利用してシリコンウェハ６を上面中央部Ａで静電吸着するとともに、保護テープ６ａの外縁部Ｅを絶縁被覆層３ｆに密着させることにより、プラズマと第１電極３の上面中央部Ａとの間を絶縁する。
【００５２】
この後、ガスライン切り替え開閉機構１１を駆動して真空吸着をＯＦＦし、バックＨｅ導入が行われる。すなわち、真空吸引によるシリコンウェハ６の第１電極３への保持を解除した後に、Ｈｅガス供給部１４から伝熱用のヘリウムガスを吸引孔３ｂを介して供給し、吸着孔３ｅ内に充填する。このプラズマ処理においては、第１電極３は冷却機構１０によって冷却されており、プラズマ処理によって昇温したシリコンウェハ６の熱を伝熱性に富む気体であるヘリウムガスを介して第１電極３に伝達することにより、シリコンウェハ６の冷却が効率よく行われる。
【００５３】
そして所定のプラズマ処理時間が経過して放電を終了したならばバックＨｅを停止し、真空吸着を再びＯＮする。これにより、プラズマ放電が終了することにより消失した静電吸着力に替えて、真空吸着力によってシリコンウェハ６が第１電極３に保持される。
【００５４】
この後、静電吸着用ＤＣ電源部１８を停止してＤＣ電圧をＯＦＦにし、大気開放機構９を駆動して処理室２内の大気開放を行う。この後、再びガスライン切り替え開閉機構１１を駆動して真空吸着をＯＦＦし、次いでウェハブローを行う。すなわちチッソガスを吸引孔３ｃを介して供給して吸着孔３ｅから噴出させ、シリコンウェハ６を第１電極３から離脱させる。そして開口部１ｂを開状態にし、シリコンウェハ６を処理室２の外部に搬送したならば、ウェハブローをＯＦＦし、プラズマ処理の１サイクルを終了する。
【００５５】
なお、上記実施形態における第１電極３の外縁部および絶縁被覆層３ｆの形状を、図７（ｂ）に示すような形状に変更しても良い。図７（ａ）は、図１〜図６における第１電極３の外縁部および絶縁被覆層３ｆを対比のために示しており、図７（ｂ）は、形状が変更された第１電極１０３，絶縁被覆層１０３ｆを示している。
【００５６】
変更後の形状においては、第１電極１０３の外径Ｄ３は、図７（ａ）に示す第１電極３の外径Ｄ２よりも小さく設定されており、さらに第１電極１０３の外縁部の上面はＲ加工されている。そして絶縁被覆層１０３ｆは、図７（ａ）における境界線Ｐ２と同じ位置から外側の範囲に形成され、Ｒ加工された外縁部を覆うとともに第１電極１０３の外側面の上部を覆って形成されている。これにより、図７（ａ）に示す例と同様にプラズマ処理時における異常放電が防止される。また、絶縁被覆層１０３ｆはＲ形状となっていることから、クラックが発生しにくい形状となっている。
【００５７】
上記構成を採用することにより、上記効果を確保しつつ第１電極１０３の外径Ｄ３を図７（ａ）に示す外径Ｄ２と比較して小さくすることができ、同一径Ｄ１のシリコンウェハを対象として、第１電極のコンパクト化が実現される。これにより、同一高周波電源出力でプラズマ処理を行った場合に、処理対象のシリコンウェハ６上でのプラズマ密度を向上させてより高速のエッチングを行うことができるとともに、真空チャンバ１０１の外形サイズＢ２を、図７（ａ）に示す真空チャンバ１の外形サイズＢ１と比較して小型化することができ、装置のコンパクト化が実現される。
【００５８】
上記説明したように、本実施の形態のプラズマ処理装置は、絶縁層としての保護テープ６ａが貼着されたシリコンウェハ６を静電吸着によって保持する第１電極３の上面を、導電体が上面に露呈した上面中央部Ａと、この上面中央部を環状に取り囲んで設けられ導電体が絶縁被覆層によって覆われた上面外周部Ｂで構成している。
【００５９】
このため、静電吸着によってシリコンウェハ６を保持する際には、上面中央部Ａによって導電体を直接シリコンウェハ６に接触させて、シリコンウェハ６を十分な静電保持力で保持するとともに、シリコンウェハ６の保護テープ６ａを第１電極３の導電体に密着させて冷却効率を向上させることができる。これにより、シリコンウェハ６や保護テープ６ａの熱ダメージを防止するとともに、高エッチングレートの効率の良いプラズマ処理を実現することができる。
【００６０】
さらに上記構成では、放電空間２ｂ内のプラズマとの間で異常放電を発生しやすい第１電極３の外縁部を絶縁被覆層３ｆで覆うとともに、絶縁被覆層３ｆの内周端が必ずシリコンウェハ６で覆われるように寸法を設定していることから、プラズマ処理時の異常放電を防止して装置の安定稼動を実現できる。
【００６１】
【発明の効果】
本発明によれば、基板を静電吸着によって保持する電極の上面を、基板の外形位置よりも所定幅だけ内側の境界線から内側に設けられ導電体が上面に露呈した上面中央部と、この上面中央部を環状に取り囲んで設けられ導電体が絶縁被覆層によって覆われた上面外周部で構成することにより、基板を十分な静電保持力で保持するとともに、基板を電極に密着させて基板の冷却効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の側断面図
【図２】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の第１電極の側断面図
【図３】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の側断面図
【図４】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の側断面図
【図５】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の平断面図
【図６】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の部分断面図
【図７】本発明の一実施の形態のプラズマ処理装置の部分断面図
【符号の説明】
１ 真空チャンバ
２ 処理室
３ 第１電極
３ｆ 絶縁被覆層
４ 第２電極
６ シリコンウェハ
８ 真空排気部
１７ 高周波電源部
１８ 静電吸着用ＤＣ電源部

Claims (4)

  1. 回路形成面に静電吸着する際の誘電体として機能する保護テープを有する半導体基板を処理室内に収容してこの半導体基板の前記回路形成面の裏面をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、導電体で形成され且つこの半導体基板の外形よりも大形の上面を有する電極と、この電極を冷却する冷却手段と、前記半導体基板を前記保護テープを前記電極の上面に接触させて静電吸着によって保持するために前記電極に直流電圧を印加する直流電源部と、前記処理室内を減圧する減圧手段と、前記処理室内にプラズマ発生用のガスを供給するプラズマ発生用ガス供給部と、前記電極に高周波電圧を印加して前記処理室内にプラズマを発生させる高周波電源部を備え、前記電極の上面は、前記半導体基板の外形位置よりも所定幅だけ内側の境界線から内側に設けられ導電体が上面に露呈した上面中央部と、この上面中央部を環状に取り囲んで設けられ導電体が絶縁被覆層によって覆われた上面外周部と、前記半導体基板を真空吸着する吸着孔を有し、前記絶縁被覆層の外縁部を環状に覆う絶縁部を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
  2. 前記外形位置から前記境界線までの範囲において、電極の上面に保持された半導体基板の絶縁層の外縁部と前記絶縁被覆層とが接触することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
  3. 前記絶縁被覆層が、前記電極の側面まで形成されていることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
  4. 前記絶縁被覆層がアルミナであることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
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