JP6380094B2 - 載置台及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
基板が載置される角柱状の金属製の載置台本体と、
前記載置台本体の側部に形成された係合部と、
前記係合部に係合して前記載置台本体に取り付けられた位置決め部材と、
その上面がプラズマ発生空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられると共に、前記位置決め部材により位置決めされた状態で当該位置決め部材の上に載置されている絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられた側部絶縁部材と、を備え、
前記リング部材には、上下方向の貫通部分が形成されていないことを特徴とする。
真空容器内に設けられた既述の載置台と、
前記真空容器内にプラズマ化するための処理ガスを供給するガス供給部と、
真空容器内に電界を発生させて前記処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ発生部と、を備えたことを特徴とする。
以下、本発明の載置台を備えたプラズマ処理装置の第1の実施形態の構成例について、図1〜図11を参照しながら説明する。このプラズマ処理装置は、例えば液晶表示装置(LCD)製造用のガラス基板Gに所定のプラズマ処理を実施するものであり、真空容器2と、この真空容器2内の底面中央に配設された載置台3と、載置台3の上方に当該載置台3と対向するように設けられた上部電極4とを備えている。
真空容器2は接地されており、また真空容器2の底面の排気口21には排気路22を介して真空排気機構23が接続されている。この真空排気機構23には図示しない圧力調整部が接続されており、これにより真空容器2内が所望の真空度に維持されるように構成されている。真空容器2の側面には、ゲートバルブ25により開閉される、基板用の搬送口24が設けられている。
リング部材5は、絶縁材例えばアルミナ等の絶縁性セラミックにより構成され、図2及び図3に示すように、例えば長尺体である帯状部分51〜54を組み合わせることにより、平面視矩形型リング形状に形成されている。図2はリング部材5の平面図、図3はその底面図である。
載置台本体の角部この例では第1の電極体31の4つの角部301、302、303、304の夫々の側部には、図4及び図5に示すように、係合部をなす凹部61が形成されると共に、この凹部61に係合するように位置決め部材7が取り付けられている。この位置決め部材7は、その上にリング部材5が位置決めされた状態で載置されるものである。この例では第1の電極体31の外周囲にリング部材5が設けられるため、図2及び図4に示すように、載置台本体の角部は、帯状部分51〜54が交差している領域Sの基板載置面30側の交点である。
ネジ部材74は例えば内側部材63内に収まるように設けられ、例えばネジ部材74により内側部材63を締め付けた後、外側部材64及び外側リング部材65が取り付けられる。こうして位置決め部材7は、第1の電極体31によりその内端側の高さ方向及び横方向(水平方向)の位置が夫々規制される。なお図1ではネジ部材74は省略している。
さらに位置決め部材7を平面視L字型に形成することにより、1つの位置決め部材7によって、リング部材5の帯状部分51〜54の内、隣接する2つの帯状部分51〜54を位置決めすることができる。このため角部を介して互いに隣接する2つの帯状部分(51,52)、(52、53)、(53、54)、(54、51)同士の位置ずれが発生しにくい。
さらに側部絶縁部材62を、ネジ部材74により外周面側から第1の電極体31の側周面に向かって締め付けているので、側部絶縁部材62を介して位置決め部材7が第1の電極体31に圧接されて位置が規制されると共に、プラズマの短絡を抑制することができる。
この例では、第1の電極体31の各角部301〜304は、例えば三角柱状に切り取られて切欠き部310となっており、こうして切り取られた三角柱の底面にあたる領域が平面視三角形状に露出して載置領域311を形成している。
その他の構成は第1の実施形態と同様であり、同じ構成部材については同符号を付し、説明を省略するが、載置台本体に形成される係合部、位置決め部材の形状及び側部絶縁部材の取り付け構造以外については第1の実施形態と同様に構成されているので、第1の実施形態と同様の効果が得られる。
続いて本発明の第2の実施形態について、図16〜図20を参照して説明する。図16は第2の実施形態の載置台8を備えたプラズマ処理装置の縦断面図、図17は図16のD−D´線に沿って切断した横断面図、図18は図17のE−E´線に沿って切断した縦断面図、図19は図17のF−F´線に沿って切断した縦断面図-である。
載置台本体は第1の電極体81と、その下方側の第2の電極体82とよりなり、これらは例えば四角柱状に形成される。第1の電極体81の表面は基板載置面80を成しており、第2の電極体82の平面形状は基板載置面80の平面形状よりも一回り大きく形成されている。第1の電極体81の平面形状は基板載置面80の下方側にて、第2の電極体82の平面形状と揃う大きさに拡大してフランジ部(段部)811を形成している。
一方、図18に位置決め部材9の側面図、図20に位置決め部材9の平面図を夫々示すように、位置決め部材9は平面視長方形状に構成され、例えば基台91の内端に載置領域821に対応する形状の係合領域90を備えると共に、リング部材5を位置決めするための突起部92が設けられている。そして切欠き部812により形成された載置領域821の上面に位置決め部材9の係合領域90が載置されることにより、位置決め部材9が第1及び第2の電極体81、82よりなる載置台本体に係合して取り付けられるように構成されている。
位置決め部材9は、電極体の切欠き部812に係合させた後、その外端面に当接する例えば絶縁部材により構成されたネジ部材94によって側部絶縁部材83の内側部材831側から第1の電極体31に向けて押し込まれる。また図17及び図19に示すように、載置台8の角部以外の領域においては、互いに間隔を開けて設けられたネジ部材95により側部絶縁部材83をその外周面側から第1及び第2の電極体81、82の側周面に向かって締め付けている。なお内側部材831には位置決め部材9の切欠き部833、ネジ部材94の開口部834及びネジ部材95の開口部835が夫々形成されている。ネジ部材95が金属製である場合には、異常放電を抑制するために、開口部835には絶縁部材による蓋体836が設けられる。
こうして第1の電極体81の各角部の側部に係合部をなす切欠き部812を形成すると共に、これら切欠き部812に係合するように位置決め部材9を設ける。そして図18及び図19に示すように、位置決め部材9の突起部92に凹部55、56を嵌めるようにリング部材5を位置決め部材9上に置くことにより、リング部材5が位置決めされた状態で載置される。
3、8 載置台
30、80 基板載置面
31 第1の電極体
32 第2の電極体
4 上部電極
5 リング部材
51〜54 帯状部分
55、56 凹部
61 凹部
62 側部絶縁部材
7 位置決め部材
72、73 突起部
Claims (8)
- 基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置される角柱状の金属製の載置台本体と、
前記載置台本体の側部に形成された係合部と、
前記係合部に係合して前記載置台本体に取り付けられた位置決め部材と、
その上面がプラズマ発生空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられると共に、前記位置決め部材により位置決めされた状態で当該位置決め部材の上に載置されている絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられた側部絶縁部材と、を備え、
前記リング部材には、上下方向の貫通部分が形成されていないことを特徴とする載置台。 - 前記リング部材には、その下面に未貫通の凹部が形成され、
前記未貫通の凹部と前記位置決め部材の上面の凸部とが係り合って前記リング部材が位置決めされていることを特徴とする請求項1記載の載置台。 - 前記載置台本体の側部に形成された係合部は、切欠き部または凹部であることを特徴とする請求項1または2記載の載置台。
- 前記側部絶縁部材は、前記位置決め部材を囲んだ状態で前記載置台本体に固定され、
前記側部絶縁部材を外周面側から螺合して貫通し、その先端部が前記位置決め部材の外側面に当接するネジ部材が設けられ、
前記位置決め部材は、前記ネジ部材を締め付けることにより前記載置台本体に押し付けられることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の載置台。 - 前記リング部材は、平面的に見たときの前記載置台本体の各辺に沿って伸びる帯状部分に分割され、
平面的に見たときの前記載置台本体の各角部に、角部を介して互いに隣接するリング部材の一の帯状部分及び他の帯状部分に対して共通の位置決め部材が設けられていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の載置台。 - 前記リング部材は、平面的に見たときの前記載置台本体の各辺に沿って伸びる帯状部分に分割され、
平面的に見たときの前記載置台本体の各角部の近傍の各辺に対応する部位に、各帯状部分毎に位置決め部材が設けられていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の載置台。 - 前記位置決め部材はセラミックにより構成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の載置台。
- 真空容器内に設けられ、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の載置台と、
前記真空容器内にプラズマ化するための処理ガスを供給するガス供給部と、
真空容器内に電界を発生させて前記処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ発生部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
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