CN105742147A - 载置台和等离子体处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种在周围配置有由绝缘材料构成的环形部件的载置台，能够抑制粒子或异常放电的产生的技术。设置在等离子体处理装置中的载置台(3)，包括：棱柱状的金属制的载置台主体；形成于载置台主体的侧部的作为卡合部的凹部(61)；和与凹部卡合安装于载置台主体上的定位部件(7)。在定位部件上设置有突起部(72、73)，以在该突起部嵌合形成于环形部件(5)的下表面的凹部(55、56)的方式载置设置环形部件。因此，环形部件上表面作构成为未设置上下方向的贯通孔的平坦面，不会形成成为粒子的产生原因的间隙或与从环形部件的上表面用螺丝向载置台固定时的异常放电相关联的间隙，所以能够抑制粒子和异常放电的产生。

Description

载置台和等离子体处理装置

技术领域

本发明涉及一种为了在用于进行等离子体处理的真空容器内载置基板而设置的载置台、和具备该载置台的等离子体处理装置。

背景技术

在FPD(FlatPanelDisplay)的制造工序中，具有对玻璃基板等实施蚀刻处理或成膜处理等规定的等离子体处理的工序。作为进行这些工序的等离子体处理装置，专利文献1中记载有一种腔室内具备作为下部电极的基座和作为上部电极的平板电极的构成。在该构成中，通过在基座上外加高频电力而生成等离子体，由此将从平板电极供给到室内的处理气体等离子体化，对基板实施等离子体处理。

专利文献1的基座形成为截面凸状，截面凸状体的上部平面成为基板载置面，台阶部表面构成为凸缘部。另外，以包围基板载置面的方式设置有用于使等离子体均匀性高地分布于基板上的称为聚焦环等的由绝缘材料构成的环形部件，该环形部件通过螺丝固定于凸缘部的上表面。还周知有下述构成：在环形部件形成有上下方向贯通的开口部，螺丝部插入该开口部内，固定于凸缘部的上表面，以金属制的螺丝部不暴露于等离子体的方式设置有从上方侧覆盖螺丝部的盖部。

这样，在环形部件的表面设置有盖部的构成中，如果因等离子体处理，膜堆积在盖部和环形部件的间隙，则该堆积物比其它区域的堆积物易剥离，会成为粒子产生原因。另外，还会担心因盖部暴露于等离子体，所以等离子体从盖部和环形部件的间隙进入，在螺丝部产生异常放电，成为产品不良的原因。

另外，专利文献1还记载有下述构成：在凸缘部埋设一部分相对于基座不能移动设置有导向件，另一方面，设置有导向件与环形部件动配合的凹部即导向孔。然而，在该例中由于还形成有开口部即联接部，所以没能解决本发明的技术问题。另外，一般的，在基座的表面形成有喷镀膜，在凸缘部的表面设置有导向件的情况下，需要设置用于固定的螺丝孔等，该部位由于没有设喷镀膜，所以还会担心绝缘性降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013－46002号公报：段落0042～0045、0073、图1、图10等

发明内容

发明想要解决的技术问题

本发明是鉴于这种情况而完成的，其目的在于，提供一种用于等离子体处理、在周围配置有由绝缘材料构成的环形部件的载置台上，能够抑制粒子和异常放电的产生的技术。另外，本发明的另一目的在于，提供包括上述载置台的等离子体处理装置。

因此，本发明的载置台，其为了在用于对基板进行等离子体处理的真空容器内载置上述基板而设置，上述载置台的特征在于，包括：

用于载置基板的棱柱状的金属制的载置台主体；

形成于上述载置台主体的侧部的卡合部；

定位部件，其与上述卡合部卡合，安装于上述载置台主体上；

由绝缘材料构成的环形部件，该环形部件设置成其上表面面对等离子体发生空间且包围上述载置台主体，并且在由上述定位部件定位了的状态下被载置于该定位部件上；和

侧部绝缘部件，其设置成在上述环形部件的下方侧包围上述载置台主体，

在上述环形部件不形成上下方向的贯通部分。

另外，本发明的等离子体处理装置，其特征在于，包括：

设置于真空容器内的、上述的载置台；

向上述真空容器内供给用于产生等离子体的处理气体的气体供给部；和

用于使真空容器内产生电场而将上述处理气体等离子体化的等离子体发生部。

发明效果

根据本发明，在用于等离子体处理、在周围配置有由绝缘材料构成的环形部件的载置台中，在载置台主体的侧部形成卡合部，以与该卡合部卡合的方式安装定位部件，以在被定位于该定位部件上的状态下载置的方式设置环形部件。因此，在环形部件不形成上下方向的贯通部分，其上表面构成为平坦面。这样，不会形成成为粒子的产生原因的间隙、或与用螺丝从环形部件的上表面固定于载置台时那样的异常放电相关联的间隙，所以能够抑制粒子或异常放电的产生。

附图说明

图1是表示具备本发明的第一实施方式的载置台的等离子体处理装置的纵剖面图。

图2是表示设置于第一实施方式的载置台的环形部件的俯视图。

图3是表示设置于第一实施方式的载置台的环形部件的仰视图。

图4是表示第一实施方式的载置台的横剖面图。

图5是表示第一实施方式的载置台的一部分的纵剖面图。

图6是表示第一实施方式的载置台的一部分的纵剖面图。

图7是表示第一实施方式的定位部件的俯视图。

图8是表示第一实施方式的定位部件的侧视图。

图9是表示第一实施方式的载置台的一部分的横剖面图。

图10是表示第一实施方式的载置台的一部分的纵剖面图。

图11是表示第一实施方式的载置台的一部分的纵剖面图。

图12是表示第一实施方式的载置台的一部分的纵剖面图。

图13是表示第一实施方式的变形例的载置台的一部分的横剖面图。

图14是表示第一实施方式的变形例的载置台的一部分的俯视图。

图15是表示第一实施方式的变形例的载置台的一部分的纵剖面图。

图16是表示包括本发明的第二实施方式的载置台的等离子体处理装置的纵剖面图。

图17是表示第二实施方式的载置台的横剖面图。

图18是表示第二实施方式的载置台的一部分的纵剖面图。

图19是表示第二实施方式的载置台的一部分的纵剖面图。

图20是表示第二实施方式的载置台的一部分的横剖面图。

附图标记说明

2真空容器

3、8载置台

30、80基板载置面

31第一电极体

32第二电极体

4上部电极

5环形部件

51～54带状部分

55、56凹部

61凹部

62侧部绝缘部件

7定位部件

72、73突起部

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。

(第一实施方式)

以下，对于包括本发明的载置台的等离子体处理装置的第一实施方式的构成例，参照图1～图11进行说明。该等离子体处理装置例如是对液晶显示装置(LCD)制造用的玻璃基板G实施规定的等离子体处理的装置，包括：真空容器2；置于该真空容器2内的底面中央的载置台3；和该载置台3相对的方式设置于载置台3的上方的上部电极4。

真空容器2接地，另外，真空容器2的底面的排气口21经由排气路径22与真空排气机构23连接。该真空排气机构23连接有未图示的压力调节部，由此，真空容器2内被维持为所要求的真空度。在真空容器2的侧面设置有通过闸阀25来开闭的基板用的输送口24。

载置台3例如是载置有一边为数m的矩形状的玻璃基板(以下称为“基板”)G的部件，包括第一电极体31和设置于该第一电极体31的下方的第二电极体32，隔着绝缘部件33配设于真空容器2的底面。第一电极体31和第二电极体32例如由表面被铝阳极化处理过的铝或不锈钢等构成，在该例中，由第一电极体31和第二电极体32构成载置基板G的金属制的载置台主体。第一电极体31的表面形成基板载置面30，与基板G对应，基板载置面30也形成为矩形状，例如，第一电极体31和第二电极体32分别形成为与平面形状一致的四棱柱状。第一电极体31分别经由匹配器351、352连接有例如等离子体生成用的高频电源341和用于供给离子引入用的偏压电力的高频电源342。高频电源341相当于使真空容器2内产生电场并用于将后述的处理气体等离子体化的等离子体发生部。

另外，第一电极体31是在上部设置有静电吸盘36的静电吸盘组件，不仅其上表面，而且侧周面也被陶瓷热喷涂膜覆盖。静电吸盘36通过从高压直流电源37经由未图示的开关施加电压，将基板G静电吸附于载置台3。另外，在图4～图6和图9～图11中，省略了静电吸盘36的图示。另外，也可以构成为通过在载置台3上内置未图示的加热器，或形成温度调节介质通过的未图示的温度调节流路，将基板G维持在设定温度。另外，在载置台3上，用于基板G的交接的升降销38通过升降机构39可升降地插通。

上部电极4形成为中空状，在其下表面，例如均等配置有用于向真空容器2内分散供给处理气体的多个孔41，构成气体供给部。另外，在上部电极4的上表面中央设置有气体供给路径42，并且气体供给路径42在上游侧经由阀V1和质量流控制器(MFC)43与气体供给源44连接。这些阀V1、质量流控制器43可以通过来自后述控制部100的控制信号，进行气体流量和供给切断的控制。

在载置台3上，以包围第一电极体31的基板载置面30的方式配置有由绝缘材料构成的环形部件(聚焦环)5。该环形部件5以面对等离子体发生空间的方式配置，所以经由该环形部件5，等离子体聚束于载置台3上的基板G上。例如，载置有环形部件5时的环形部件5的上表面以与基板载置面30一致的方式构成。

环形部件5由绝缘材料例如氧化铝等绝缘性陶瓷构成，如图2和图3所录，例如，通过将长条体即带状部分51～54组合，形成为俯视时呈矩形环形状。图2是环形部件5的俯视图，图3是其仰视图。

如图2所示，该例的环形部件5是将分别沿着矩形的基板载置面30的各边中相互相对的两个短边配置的俯视时呈长方形状的带状部分51、53、和分别沿着基板载置面30的各边中相互相对的两个长边配置的俯视时呈长方形状的带状的带状部分52、54组合而构成。各带状部分51～54的两端部中，长度方向的一端侧为固定端511、521、531、541，另一端侧为自由端512、522、532、542。而且，如图2和图3所示，各带状部分51～54配置为在带状部分51～54的固定端511～541各自的端面与相邻的另一带状部分51～54的自由端512～542的侧面低接的状态下，彼此相邻的带状部分正交。

接着，参照图4～图11对环形部件5的安装构造进行说明。图4是沿着图1的A－A′线切断的横剖面图，图5是沿着图4的B－B′线切断的纵剖面图，图6是沿着图4的C－C′线切断的纵剖面图。

在载置台主体的角部，该例中在第一电极体31的四个角部301、302、303、304的每个侧部，如图4和图5所示，形成有构成卡合部的凹部61，并且以与该凹部61卡合的方式安装有定位部件7。该定位部件7是在其上以被定位的状态载置环形部件5的部件。该例中，由于在第一电极体31的外周围设置有环形部件5，因此如图2和图4所示，载置台主体的角部为带状部分51～54交叉的区域S的基板载置面30侧的交点。

如图4所示，定位部件7与第一电极体31的四个凹部61对应，配置于第一电极体31的四个角部301、302、303、304。该定位部件7由绝缘材料例如陶瓷构成，构成为包括：与第一电极体31的凹部61卡合的基部71；和从基部71向上方突出的突起部72、73。该例的定位部件7设置为，将环形部件5的带状部分51～54之内、经由第一电极体31的角部彼此相邻的2个带状部分(51、52)、(52、53)、(53、54)、(54、51)这四组定位。因此，分别如图7的俯视图和图8的侧视图所示，基部71例如形成为俯视时呈L字型，并且包括一带状部分用的突起部72和另一带状部分用的突起部73。

对应该定位部件7的形状，该例中的第一电极体31上形成的凹部61，例如，如在图9中以角部301为例所示，横跨基板载置面30的彼此相邻的两边而形成，其平面形状形成大致L字型。另外，若将基部71的与凹部61卡合的区域称为卡合区域70，则凹部61的高度(上下方向的大小)形成为与基部71的卡合区域70的厚度一致，构成为在使定位部件7与凹部61卡合时，例如，基部71的内端面711与构成凹部61的底部的面611抵接(参照图10)。突起部72、73分别设置于例如俯视时呈L字型的基部71的两端部附近，即卡合区域70的外侧。

在第一电极体31和第二电极体32的周围，在环形部件5的下侧以覆盖这些第一电极体31和第二电极体32的侧面的方式配置有侧部绝缘部件62。该侧部绝缘部件62例如由氧化铝等绝缘性的陶瓷或聚四氟乙烯等绝缘性的树脂形成为俯视时呈矩形环形状。该例的侧部绝缘部件62如图5和图6所示，通过将纵剖面形状分别设计为大致L字型且各自设置为俯视时呈为矩形环形状的内侧部件63和外侧部件64组合而构成。

另外，在侧部绝缘部件62的周围，配置有覆盖侧部绝缘部件62的侧面且位于载置台的侧部最外侧的外侧环形部件65。该外侧环形部件65利用与例如环形部件5相同的材质形成为俯视时呈矩形环形状，环形部件5的背面侧周缘部被载置于该外侧环形部件65的表面。

如图9和图10所示，定位部件7使基部71与第一电极体31的凹部61卡合后，例如从外周面侧将内侧部件63螺合贯通，其前端部通过将与定位部件7的外侧面抵接的定位用的螺钉部件74紧固而朝向第一电极体31按压。该螺钉部件74例如由绝缘部件构成，分别设置于定位部件7的两端部附近，在内侧部件63上，在与定位部件7对应的位置设置有切口部631，并且形成有螺钉部件74用的开口部632。另一方面，如图4和图6所示，在不设置有定位部件7的区域，内侧部件63通过相互空开间隔设置的许多螺钉部件741固定于第一电极体31。图6中，633为螺钉部件741用的开口部。在螺钉部件741为金属制的情况下，为了抑制异常放电，在开口部633设置有绝缘部件构成的盖体634。

而且，通过螺钉部件741将侧部绝缘部件62的内侧部件63从其外周面侧朝向第一电极体31的侧周面进行紧固，由此，定位部件7以被压接在内侧部件63和第一电极体31之间的状态被安装。通过将内侧部件63固定于第一电极体31上，将定位部件7按压到第一电极体31，而利用螺钉部件74将定位部件7按压到第一电极体31，由此，定位部件7以更可靠地定位于第一电极体31上的状态被卡合。

螺钉部件74例如以收纳于内侧部件63内的方式设置，例如通过螺钉部件74将内侧部件63紧固后，安装外侧部件64和外侧环形部件65。这样，定位部件7通过第一电极体31分别限制其内端侧的高度方向和横方向(水平方向)的位置。另外，图1中省略了螺钉部件74。

另一方面，在环形部件5的背面，在与定位部件7的突起部72、73对应的位置形成有这些突起部72、73嵌合的凹部55、56。一个定位部件7的两个突起部72、73是分别将隔着第一电极体31的角部彼此相邻的两个带状部分(51、52)、(52、53)、(53、54)、(54、51)各组进行定位的部分。因此，在各带状部分51～54的两端侧分别形成有凹部55、56。例如参照图3，以带状部分51为例进行说明，带状部分51的固定端511侧的凹部55形成为与突起部72卡合，限制带状部分51的固定端511侧的高度方向和横方向的位置的大小。另外，图3中将凹部55和突起部72重叠进行描绘。

另一方面，带状部分51的自由端512侧的凹部56形成为：具有带状部分51的长度方向长的平面形状，与突起部73卡合，限制除带状部分51的自由端侧的高度方向和长度方向的方向的位置。在带状部分51发生了热膨胀时，由于固定端511侧的位置被限制，所以自由端512侧向带状部分51的长度方向延伸。因此，自由端512侧的凹部56设定为即使带状部分51因热而延伸，突起部73也收纳于凹部56内的形状。另一方面，固定端511由于位置被限制，所以即使带状部分51热膨胀，其固定端511也会推压相邻的带状部分54的自由端542的侧面，不可能使环形部件5变形。这样，定位部件7的突起部72、73的一突起部72作为带状部分51～54的固定端511～541侧的定位用发挥作用，另一突起部73作为带状部分51～54的自由端512～542侧的定位用发挥作用。

这样，在载置台主体(第一电极体31)的各角部的侧部形成构成卡合部的凹部61，并且以与这些凹部61卡合的方式安装定位部件7(参照图10)。而且，如图11所示，通过以使凹部55、56嵌合于定位部件7的突起部72、73的方式环形部件5放置在定位部件7上，在被定位的状态下载置环形部件5。由此，环形部件5其外端侧载置于外侧环形部件65上，限制高度方向的位置，其内端侧经由定位部件7并通过第一电极体31分别限制高度方向的位置和横方向的位置。

在等离子体处理装置中，例如设置有由计算机构成的控制部100。该控制部100包括由程序、存储器、CPU构成的数据处理部等，在上述程序中编入命令，从控制部100向等离子体处理装置的各部输送控制信号，通过进行后述的各步骤，对基板G实施等离子体处理。该程序储存于计算机存储介质例如软磁盘、光盘MO(光磁盘)等未图示的存储部，并被安装于控制部100。

在上述的等离子体处理装置中，首先，打开闸阀25，通过未图示的输送机构向真空容器2内输送基板G，水平载置于载置台3上后，使基板G与载置台3静电吸附。之后，使输送机构从真空容器2退出，关闭闸阀25，通过真空排气机构23经由排气路径22进行真空排气，将真空容器2内维持在规定的真空度后，供给作为处理气体的蚀刻气体。另一方面，分别对第一电极体31施加等离子体发生用的高频和离子引入用的高频，利用在基板G的上方侧的空间形成的等离子体，执行对基板G的蚀刻处理。由此，等离子体中的离子通过偏压用的高频被吸到载置台3一侧，进行垂直性高的蚀刻处理。另外，由于在基板G的周围设置有由绝缘部件构成的环形部件5，所以等离子体被吸到基板侧，这样，使等离子体集中在基板G上，提高蚀刻速度。

根据上述的实施方式，在设置包围载置台3的第一电极体31的环形部件5时，在第一电极体31的侧部形成作为卡合部的凹部61，另一方面，以与该凹部61卡合的方式安装定位部件7，在被定位于该定位部件7上的状态下载置环形部件5。因此，不需要在环形部件5的上表面设置有螺丝孔等进行固定，环形部件5的上表面构成为没有上下方向的贯通部分的平坦面。因此，即使通过等离子体处理，膜堆积在环形部件5的上表面，与在环形部件5的上表面存在间隙或台阶部等的情况相比，堆积的膜难以剥离，能够抑制粒子的产生。另外，如从环形部件5的上表面进行螺丝固定的情况，由于并未形成与等离子体的异常放电相关联的间隙，所以能够抑制异常放电的产生。

另外，环形部件5通过以与第一电极体31卡合的方式设置的定位部件7而被定位，所以环形部件5基于第一电极体31被定位，环形部件5的安装位置的精度高。另外，与将环形部件螺丝固定于载置台上的构成相比，能够实现环形部件5的薄壁化，能够有助于成本降低。另外，定位部件7由热膨胀率低的陶瓷形成，所以即使安装在第一电极体31上，也不易因热而变形，能够抑制环形部件5的位置偏移。

另外，定位部件7在俯视时，与第一电极体31的各角部卡合而安装，所以即使第一电极体31因热膨胀而反复伸缩，由于定位部件7的安装位置是第一电极体31的各角部，因此也不易产生位置偏移。

另外，通过将定位部件7形成为在俯视时呈L字型，利用一个定位部件7就能够将环形部件5的带状部分51～54之内相邻的两个带状部分51～54定位。因此，不易产生隔着角部相邻的两个带状部分(51、52)、(52、53)、(53、54)、(54、51)彼此的位置偏移。

另外，使用在俯视时呈L字型的定位部件7，进行正交的两个带状部分51～54的定位，所以即使带状部分51～54因热膨胀向长度方向延伸，也能够使热变形时产生的间隙最小化。

另外，通过螺钉部件74将侧部绝缘部件62从外周面侧朝向第一电极体31的侧周面紧固，所以经由侧部绝缘部件62，定位部件7被压接在第一电极体31上，位置被限制，并且能够抑制等离子体短路。

以上，如图12所示，本实施方式的载置台3也可以按照在第一电极体31和第二电极体32之间设置定位部件7的方式构成。该例中，构成形成于载置台主体的侧部的卡合部的凹部67，由形成于第二电极体32的上表面和第一电极体31的切口部构成。其它构成和效果与图1～图11所示的实施方式一样。

接着，作为第一实施方式的变形例，对载置台主体上形成的卡合部为切口部的情况，参照图13～图15进行说明。图13是载置台主体(第一电极体31)的角部301附近的安装有定位部件75的部位的横剖面图，图14是其概略俯视图，图15是沿着图13的α－α′线切断的纵剖面图。该例中，第一电极体31的各角部301～304例如以三棱柱状切下，成为切口部310，相当于这样被切下的三棱柱的底面范围的区域，俯视时以三角形状露出，形成载置区域311。

另一方面，定位部件75构成为，例如在基部76的内端具备与载置区域311对应的形状的卡合区域761，并且以将经由载置台主体的角部相邻的两个带状部分定位的方式在与设置于两个带状部分的凹部55、56对应的位置设置有突起部77、78。该例的定位部件75在沿着角部形成的基部76的两端部具备突起部77、78，所以形成为俯视时呈L字形状。另外，在定位部件75的基部76的下表面，设置有俯视时呈L字形状的垂直的脚部762，该脚部762沿着隔着第一电极体31的角部而相邻的侧部设置。

通过这样在由形成卡合部的切口部310形成的载置区域311的上表面载置定位部件75的卡合区域761，定位部件75卡合安装在载置台主体的第一电极体31上。另外，在第一和第二电极体31、32的外侧，以包围这些电极体31、32的方式设置有侧部绝缘部件621。在侧部绝缘部件621上，在与定位部件75对应的位置形成有切口部622，并且分别形成有定位部件75的定位用的螺钉部件79的开口部623、和侧部绝缘部件621的固定用的螺钉部件791的开口部624。定位用的螺钉部件79例如由绝缘部件构成，分别设置于定位部件75的两端部附近。固定用的螺钉部件791遍及侧部绝缘部件621的周方向整体相互隔开间隔而形成。在螺钉部件791为金属制的情况下，为了抑制异常放电，在开口部624设置有绝缘部件构成的盖体625。

定位部件75卡合安装在第一电极体31后，通过与其外端面抵接的螺钉部件79从侧部绝缘部件621侧朝向第一电极体31压入。而且，通过螺钉部件791将侧部绝缘部件621从其外周面侧朝向第一和第二电极体31、32的侧周面紧固，由此，定位部件75被压接在第一和第二电极体31、32侧。由此，定位部件75通过第一和第二电极体31、32限制其内端侧的高度方向和横方向(水平方向)的位置。

其它构成和第一实施方式同样，对相同的构成部件标注相同附图标记并省略说明，关于载置台主体上形成的卡合部、定位部件的形状和侧部绝缘部件的安装构造以外，由于与第一实施方式同样地构成，所以能够得到与第一实施方式同样的效果。

(第二实施方式)

接着，参照图16～图20对本发明的第二实施方式进行说明。图16是包括第二实施方式的载置台8的等离子体处理装置的纵剖面图，图17是沿着图16的D－D′线切断的横剖面图，图18是沿着图17的E－E′线切断的纵剖面图，图19是沿着图17的F－F′线切断的纵剖面图。

该实施方式的载置台8是在载置台主体的外缘部包括凸缘部(台阶部)的装置。载置台主体由第一电极体81和其下方侧的第二电极体82构成，他们例如形成为四棱柱状。第一电极体81的表面构成基板载置面80，第二电极体82的平面形状形成为比基板载置面80的平面形状大一圈。第一电极体81的平面形状在基板载置面80的下方侧扩大为与第二电极体82的平面形状一致的大小，形成凸缘部(台阶部)811。

该情况下，例如如图18和图19所示，在其内缘部的下表面载置于凸缘部811的状态下配置环形部件5，但在该情况下，由于环形部件5以包围载置台主体的比凸缘部811靠上部侧的方式设置，所以也包含于“以包围载置台主体的方式设置”这种意思

在该例中，在载置台主体的第一电极体81的四个角部801、802、803、804的附近的侧部，形成有构成卡合部的切口部812。如图20中以角部801为例所示，在各角部801～804的附近区域，例如形成有俯视时呈为四边形状的切口部812，第二电极体82的上表面露出，形成载置区域821。

另一方面，图18是表示定位部件9的侧视图，图20是表示定位部件9的俯视图，如图18、图19所示，定位部件9构成为俯视时呈长方形状，例如在基台91的内端包括与载置区域821对应的形状的卡合区域90，并且设置有用于将环形部件5定位的突起部92。而且，通过在由切口部812形成的载置区域821的上表面载置定位部件9的卡合区域90，构成为定位部件9被卡合安装于由第一和第二电极体81、82构成的载置台主体上。

在第一电极体81和第二电极体82的周围，以覆盖这些电极体81、82的侧面的方式配置有由内侧部件831和其外侧部件832构成的侧部绝缘部件83，并且在侧部绝缘部件83的周围，以覆盖侧部绝缘部件83的侧面的方式设置有外侧环形部件65。

定位部件9与电极体的切口部812卡合后，通过由与其外端面抵接的例如绝缘部件构成的螺钉部件94从侧部绝缘部件83的内侧部件831侧朝向第一电极体31压入。另外，如图17和图19所示，在载置台8的角部以外的区域，通过相互空开间隔设置的螺钉部件95将侧部绝缘部件83从其外周面侧朝向第一和第二电极体81、82的侧周面紧固。另外，在内侧部件831上分别形成有定位部件9的切口部833、螺钉部件94的开口部834和螺钉部件95的开口部835。在螺钉部件95为金属制的情况下，为了抑制异常放电，在开口部835设置有绝缘部件形成的盖体836。

这样，定位部件9通过与其外端面抵接的螺钉部件94从内侧部件831侧朝向第一电极体81压入，通过螺钉部件95的紧固，经由侧部绝缘部件83压接在第一和第二电极体81、82一侧。在该例中也同样，环形部件5的背面侧周缘部被载置于外侧环形部件65的表面，定位部件9通过第一和第二电极体81、82限制其内端侧的高度方向和横方向(水平方向)的位置。另一方面，环形部件5的构成和第一实施方式同样，在该例中，一个定位部件9的突起部92作为一个带状部分51～54的固定端511～541或自由端512～542侧的任一方的定位用发挥作用。

这样，在载置台主体(第一电极体81)的角部附近设置有形成卡合部的切口部812。载置台主体的角部如上所述为环形部件5的带状部分(带状部分)交叉的区域S的基板载置面80侧的交点。

这样，在第一电极体81的各角部的侧部形成构成卡合部的切口部812，并且，以与这些切口部812卡合的方式设置定位部件9。而且，如图18和图19所示，通过以将凹部55、56嵌合在定位部件9的突起部92的方式将环形部件5放置在定位部件9上，环形部件5以被定位的状态载置好。

在该方法中，环形部件5其外端侧载置于外侧环形部件65并限制高度方向的位置，其内端侧经由定位部件9通过第一电极体81限制高度方向的位置和横方向的位置。其它构成与第一实施方式同样，对于相的构成部件，标注相同的附图标记并省略说明，关于形成于载置台主体的卡合部、定位部件的形状和侧部绝缘部件的安装构造以外，与第一实施方式同样地构成，所以能够得到与第一实施方式同样的效果。

以上，由等离子体处理装置实施的等离子体处理不限于蚀刻处理，也可以是成膜处理等，该情况下不需要设置用于对载置台施加偏压电力的高频电源。另外，环形部件采用四个带状部分的组合体，但也可以是一体构成的部件，即使是通过组合构成的情况，带状部分也可以是两个或三个或四个以上。另外，环形部件和定位部件具有从环形部件的下表面向下方突出的突出部，也可以是通过该突出部与设置于定位部件的凹部嵌合来定位的构造。

另外，设置于载置台主体的卡合部除设置于载置台主体的角部或角部附近区域以外，也可以设置于角部或角部附近区域以外的其它区域。另外，本发明的等离子体处理装置不限于平行平板型，还可以将例如称为ICP(InductiveCoupledPlasma：电感耦合等离子体)等的、通过从卷绕在真空容器的线圈向处理气体赋予电场和磁场的方法等而生成等离子体的装置，应用于等离子体处理装置。另外，还可以应用于通过称为螺旋波等离子体等的例如13.56MHz的高频和通过电磁线圈外加的磁场的相互作用而生成螺旋波等离子体的装置、通过称为磁控管等离子体等的在两片平行的阴极上以大体平行的方式外加磁场而生成等离子体的装置。因此，载置台主体不一定需要构成为电极体。

Claims (8)

1.一种载置台，其为了在用于对基板进行等离子体处理的真空容器内载置所述基板而设置，所述载置台的特征在于，包括：

用于载置基板的棱柱状的金属制的载置台主体；

形成于所述载置台主体的侧部的卡合部；

定位部件，其与所述卡合部卡合，安装于所述载置台主体上；

由绝缘材料构成的环形部件，该环形部件设置成其上表面面对等离子体发生空间且包围所述载置台主体，并且在由所述定位部件定位了的状态下被载置于该定位部件上；和

侧部绝缘部件，其设置成在所述环形部件的下方侧包围所述载置台主体，

在所述环形部件不形成上下方向的贯通部分。

2.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：

所述环形部件在其下表面形成有不贯通的凹部，

所述不贯通的凹部和所述定位部件的上表面的凸部相卡合，将所述环形部件定位。

3.如权利要求1或2所述载置台，其特征在于：

形成于所述载置台主体的侧部的卡合部为切口部或凹部。

4.如权利要求1～3中任一项所述的载置台，其特征在于：

所述侧部绝缘部件在包围所述定位部件的状态下被固定于所述载置台主体上，

设置有螺钉部件，该螺钉部件从外周面侧螺合贯通所述侧部绝缘部件，且其前端部与所述定位部件的外侧面抵接，

所述定位部件是通过将所述螺钉部件紧固而被按压到所述载置台主体的。

5.如权利要求1～4中任一项所述的载置台，其特征在于：

所述环形部件被分割成沿着俯视时的所述载置台主体的各边延伸的带状部分，

在俯视时的所述载置台主体的各角部，设置有由隔着角部相邻的环形部件的一带状部分和另一带状部分共用的定位部件。

6.如权利要求1～4中任一项所述的载置台，其特征在于：

所述环形部件被分割成沿着俯视时的所述载置台主体的各边延伸的带状部分，

在与俯视时的所述载置台主体的各角部的附近的各边对应的部位，对各带状部分各自设置有定位部件。

7.如权利要求1～6中任一项所述的载置台，其特征在于：

所述定位部件由陶瓷构成。

8.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

设置于真空容器内的、权利要求1～6中任一项所述的载置台；

向所述真空容器内供给用于产生等离子体的处理气体的气体供给部；和

用于使真空容器内产生电场而将所述处理气体等离子体化的等离子体发生部。