JP2616711B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- magnetic recording
- magnetic
- recording medium
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
- G11B5/73937—Substrates having an organic polymer comprising a ring structure
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
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- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31725—Of polyamide
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に関する
ものである。
ものである。
【０００２】
【従来の技術】芳香族ポリアミドフィルムは、その優れ
た耐熱性、機械特性を活かして種々の用途に検討されて
いる。特にパラ配向系の芳香族ポリアミドは剛性、強度
等の機械特性が他のポリマより優れているため、フィル
ムの薄物化に非常に有利であり、プリンターリボン、磁
気テープ、コンデンサー等の用途が考えられている。例
えば磁気記録媒体では特開昭58ー 168655号公報、特開昭
62ー 112218号公報などがある。
た耐熱性、機械特性を活かして種々の用途に検討されて
いる。特にパラ配向系の芳香族ポリアミドは剛性、強度
等の機械特性が他のポリマより優れているため、フィル
ムの薄物化に非常に有利であり、プリンターリボン、磁
気テープ、コンデンサー等の用途が考えられている。例
えば磁気記録媒体では特開昭58ー 168655号公報、特開昭
62ー 112218号公報などがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年、ビデオカメラの
屋外での使用の増加、あるいは小型化、記録時間の長時
間化の要請により、またコンピュータの外部メモリとし
て使用するため、薄膜で、温度の大きな変動があっても
安定して使用できる耐久性に優れた磁気記録媒体の要求
が強くなってきている。
屋外での使用の増加、あるいは小型化、記録時間の長時
間化の要請により、またコンピュータの外部メモリとし
て使用するため、薄膜で、温度の大きな変動があっても
安定して使用できる耐久性に優れた磁気記録媒体の要求
が強くなってきている。
【０００４】しかしながら、ポリエステルフィルムベー
スあるいは芳香族ポリアミドベースからなる磁気記録媒
体では、常温では問題ないが高温条件下で使用すると走
行性や、出力特性が悪化したり、また、長時間使用する
と走行性が悪化するという問題が出てきている。これは
基材フィルムの強度や耐熱性が不十分であったり、フイ
ルムからオリゴマ等の不純物が出てくることが原因と考
えられる。
スあるいは芳香族ポリアミドベースからなる磁気記録媒
体では、常温では問題ないが高温条件下で使用すると走
行性や、出力特性が悪化したり、また、長時間使用する
と走行性が悪化するという問題が出てきている。これは
基材フィルムの強度や耐熱性が不十分であったり、フイ
ルムからオリゴマ等の不純物が出てくることが原因と考
えられる。
【０００５】本発明はかかる問題点を解決し、芳香族ポ
リアミドの優れた耐熱性、高剛性を活かし、かつ長時間
使用しても走行性の安定した磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。
リアミドの優れた耐熱性、高剛性を活かし、かつ長時間
使用しても走行性の安定した磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族ポリア
ミドからなる基材フィルムの片面に磁性層を設けてなる
磁気記録媒体であって、該基材フィルムは少なくとも１
方向のヤング率が７００ｋｇ／ｍｍ2 以上であり、塩化
メチレン抽出物が０．５％以下であり、該基材フィルム
の縦方向の１ｍｍ2 あたり１ｋｇの荷重をかけたときの
１００℃、１０分間の寸法変化率が２％以下であること
を特徴とする磁気記録媒体である。
ミドからなる基材フィルムの片面に磁性層を設けてなる
磁気記録媒体であって、該基材フィルムは少なくとも１
方向のヤング率が７００ｋｇ／ｍｍ2 以上であり、塩化
メチレン抽出物が０．５％以下であり、該基材フィルム
の縦方向の１ｍｍ2 あたり１ｋｇの荷重をかけたときの
１００℃、１０分間の寸法変化率が２％以下であること
を特徴とする磁気記録媒体である。
【０００７】本発明の芳香族ポリアミドとは、次の一般
式（Ｉ）および／または一般式（II）で表わされる繰り
返し単位を５０モル％以上含むものが好ましく、７０モ
ル％以上からなるものがより好ましい。
式（Ｉ）および／または一般式（II）で表わされる繰り
返し単位を５０モル％以上含むものが好ましく、７０モ
ル％以上からなるものがより好ましい。
【０００８】一般式（Ｉ）
【化１】 一般式（II）
【化２】 ここで、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 は、例えば、
【化３】 などが挙げられ、Ｘ、Ｙは −Ｏ−，−ＣＨ2 −，−ＣＯ−，−ＳＯ2 −，−Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選ばれるが、これに限定され
るものではない。更にこれらの芳香環上の水素原子の一
部が、ハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ1 〜Ｃ3
のアルキル基（特にメチル基）、Ｃ1 〜Ｃ3 のアルコキ
シ基などの置換基で置換されているものも含み、また、
重合体を構成するアミド結合中の水素が他の置換基によ
って置換されているものも含む。
−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −等から選ばれるが、これに限定され
るものではない。更にこれらの芳香環上の水素原子の一
部が、ハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ1 〜Ｃ3
のアルキル基（特にメチル基）、Ｃ1 〜Ｃ3 のアルコキ
シ基などの置換基で置換されているものも含み、また、
重合体を構成するアミド結合中の水素が他の置換基によ
って置換されているものも含む。
【０００９】特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合
されたものが、全芳香環の５０％以上、好ましくは７０
％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。また吸湿率を小さくする点
からは、芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に
塩素）で置換された芳香環が全体の３０％以上である重
合体が好ましい。
されたものが、全芳香環の５０％以上、好ましくは７０
％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。また吸湿率を小さくする点
からは、芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に
塩素）で置換された芳香環が全体の３０％以上である重
合体が好ましい。
【００１０】より好ましい構造としては
【化４】 を５０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上か
らなるものである（ここでｍ、ｎは０〜４）。
らなるものである（ここでｍ、ｎは０〜４）。
【００１１】本発明の芳香族ポリアミドは、一般式
（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り返し
単位を５０モル％以上含むものであって、５０モル％未
満は他の繰り返し単位が共重合（たとえば芳香族ポリイ
ミドなど）、またはブレンドされていても差し支えな
く、またフィルムの物性を損なわない程度に導電性粒
子、滑剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレンドされ
ていてもよい。
（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り返し
単位を５０モル％以上含むものであって、５０モル％未
満は他の繰り返し単位が共重合（たとえば芳香族ポリイ
ミドなど）、またはブレンドされていても差し支えな
く、またフィルムの物性を損なわない程度に導電性粒
子、滑剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレンドされ
ていてもよい。
【００１２】本発明の磁気記録媒体は、少なくとも１方
向のヤング率が７００ｋｇ／ｍｍ2以上である必要があ
る。好ましくは９００ｋｇ／ｍｍ2 以上、より好ましく
は１２００ｋｇ／ｍｍ2 以上である。７００ｋｇ／ｍｍ
2 より小さいと腰の弱い磁気テープとなり、出力が出な
かったり、テープが変形して実用に耐えなくなる。
向のヤング率が７００ｋｇ／ｍｍ2以上である必要があ
る。好ましくは９００ｋｇ／ｍｍ2 以上、より好ましく
は１２００ｋｇ／ｍｍ2 以上である。７００ｋｇ／ｍｍ
2 より小さいと腰の弱い磁気テープとなり、出力が出な
かったり、テープが変形して実用に耐えなくなる。
【００１３】本発明の磁気記録媒体は塩化メチレン抽出
物が０．５％以下である必要がある。より好ましくは
０．２％以下、さらに好ましくは０．１％以下である。
０．５％より大きいと使用中にオリゴマ等の不純物がフ
イルムから表面に出てきて磁気テープの走行性を悪化さ
せ、またテープの耐久性も悪化する。磁性層あるいは非
磁性層の表面にこれら不純物が析出して走行性、耐久性
を悪化させるものと考えられる。なお抽出物量が、０．
１ｐｐｍより多いと潤滑効果を発揮することがあり、
０．１ｐｐｍ以上含有することが好ましい。より好まし
くは１ｐｐｍ以上である。
物が０．５％以下である必要がある。より好ましくは
０．２％以下、さらに好ましくは０．１％以下である。
０．５％より大きいと使用中にオリゴマ等の不純物がフ
イルムから表面に出てきて磁気テープの走行性を悪化さ
せ、またテープの耐久性も悪化する。磁性層あるいは非
磁性層の表面にこれら不純物が析出して走行性、耐久性
を悪化させるものと考えられる。なお抽出物量が、０．
１ｐｐｍより多いと潤滑効果を発揮することがあり、
０．１ｐｐｍ以上含有することが好ましい。より好まし
くは１ｐｐｍ以上である。
【００１４】また該基材フィルムの縦方向の１ｍｍ2 あ
たり１ｋｇの荷重をかけたときの１００℃、１０分間の
寸法変化率が２％以下である必要がある。より好ましく
は１．５％以下、更に好ましくは１．０％以下である。
本発明の磁気記録媒体は磁気記録媒体の薄膜化の要請に
応えて薄膜で使用されることが多いので、寸法変化率が
２％より大きいと高温下で使用された場合テープ走行
中、あるいはストップ／スタート時にかかるテンション
によりテープの伸縮が起こり記録再生性が低下する。ま
た、基材フィルムが高い寸法安定性（２％以下）を持つ
ことによりたとえば塗布層形成後の乾燥工程においてテ
ープの寸法変化が抑えられるため、加工上も有利であ
る。
たり１ｋｇの荷重をかけたときの１００℃、１０分間の
寸法変化率が２％以下である必要がある。より好ましく
は１．５％以下、更に好ましくは１．０％以下である。
本発明の磁気記録媒体は磁気記録媒体の薄膜化の要請に
応えて薄膜で使用されることが多いので、寸法変化率が
２％より大きいと高温下で使用された場合テープ走行
中、あるいはストップ／スタート時にかかるテンション
によりテープの伸縮が起こり記録再生性が低下する。ま
た、基材フィルムが高い寸法安定性（２％以下）を持つ
ことによりたとえば塗布層形成後の乾燥工程においてテ
ープの寸法変化が抑えられるため、加工上も有利であ
る。
【００１５】本発明の磁気記録媒体の走行性、耐久性を
安定化させるには、適度な粗さを持つために、基材フィ
ルム中に粒子を存在させておくことが好ましい。粒子の
種類としては、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｃａ
ＳＯ4 、ＢａＳＯ4 、ＣａＣＯ3 、カ−ボンブラック、
ゼオライト、その他の金属微粉末などの無機粒子や、シ
リコン粒子、ポリイミド粒子、架橋共重合体粒子、架橋
ポリエステル粒子、テフロン粒子などの有機高分子など
があるが、耐熱性の点から無機粒子の方がより好まし
い。粒子径としては０．０１〜１．０μｍ、より好まし
くは０．０５〜０．５μｍの範囲である場合に電磁変換
特性、走行性とも良好となるので好ましい。また含有量
は０．０１〜１０ｗｔ％、好ましくは０．１〜５ｗｔ％
である場合に電磁変換特性、走行性とも良好となるので
好ましい。
安定化させるには、適度な粗さを持つために、基材フィ
ルム中に粒子を存在させておくことが好ましい。粒子の
種類としては、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｃａ
ＳＯ4 、ＢａＳＯ4 、ＣａＣＯ3 、カ−ボンブラック、
ゼオライト、その他の金属微粉末などの無機粒子や、シ
リコン粒子、ポリイミド粒子、架橋共重合体粒子、架橋
ポリエステル粒子、テフロン粒子などの有機高分子など
があるが、耐熱性の点から無機粒子の方がより好まし
い。粒子径としては０．０１〜１．０μｍ、より好まし
くは０．０５〜０．５μｍの範囲である場合に電磁変換
特性、走行性とも良好となるので好ましい。また含有量
は０．０１〜１０ｗｔ％、好ましくは０．１〜５ｗｔ％
である場合に電磁変換特性、走行性とも良好となるので
好ましい。
【００１６】フイルムの表面あらさはＲｐで２〜５００
ｎｍ、より好ましくは３〜３００ｎｍ、Ｒａで０．１〜
１００ｎｍより好ましくは０．２〜５０ｎｍ、Ｒｚで２
〜５００ｎｍ、より好ましくは３〜４００ｎｍである。
ｎｍ、より好ましくは３〜３００ｎｍ、Ｒａで０．１〜
１００ｎｍより好ましくは０．２〜５０ｎｍ、Ｒｚで２
〜５００ｎｍ、より好ましくは３〜４００ｎｍである。
【００１７】本発明は、上記基材フィルム上の片面に磁
性層を設けた磁気記録媒体である。磁性層を形成する方
法は、強磁性粉末を各種バインダ−を用いて磁性塗料と
し基材フィルム上に塗布する湿式法、蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレ−ティング法などの乾式法があ
り、特に限定されるものではないが、ここでは湿式法を
例にとって説明する。
性層を設けた磁気記録媒体である。磁性層を形成する方
法は、強磁性粉末を各種バインダ−を用いて磁性塗料と
し基材フィルム上に塗布する湿式法、蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレ−ティング法などの乾式法があ
り、特に限定されるものではないが、ここでは湿式法を
例にとって説明する。
【００１８】磁性体となる磁性粉末の種類は特に限定さ
れないが、強磁性粉末、例えば、酸化鉄、酸化クロム、
Ｆｅ、Ｂａ−Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ等が好ましく用いられる。
れないが、強磁性粉末、例えば、酸化鉄、酸化クロム、
Ｆｅ、Ｂａ−Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ等が好ましく用いられる。
【００１９】磁性粉末は各種バインダーを用いて磁性塗
料とすることができるが、熱硬化性樹脂系バインダーお
よび放射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤
として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。
例えば、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共
重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネ
ートよりなるバインダーを用いることができる。
料とすることができるが、熱硬化性樹脂系バインダーお
よび放射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤
として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。
例えば、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共
重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネ
ートよりなるバインダーを用いることができる。
【００２０】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの厚みは好ましくは０．５〜１５μｍ、より好ましく
は１〜８μｍ、更に好ましくは２〜５μｍであると、薄
膜の磁気記録媒体として本発明の効果である優れた走行
性、電磁変換特性が実現されるので望ましい。。
ムの厚みは好ましくは０．５〜１５μｍ、より好ましく
は１〜８μｍ、更に好ましくは２〜５μｍであると、薄
膜の磁気記録媒体として本発明の効果である優れた走行
性、電磁変換特性が実現されるので望ましい。。
【００２１】また、本発明の磁気記録媒体は、該基材フ
ィルムの少なくとも一方向の引張りヤング率が７００ｋ
ｇ／ｍｍ2 以上であれば、長手方向にテンシライズまた
は幅方向にテンシライズされても差し支えない。テンシ
ライズの度合いは特に限定されないが、伸度、引き裂き
抵抗力等の特性を考慮に入れると、長手方向の引張りヤ
ング率ＥMDと幅方向の引張りヤング率ＥTDが、 ０．５≦ＥMD／ＥTD≦２ の範囲であるのが実用的である。
ィルムの少なくとも一方向の引張りヤング率が７００ｋ
ｇ／ｍｍ2 以上であれば、長手方向にテンシライズまた
は幅方向にテンシライズされても差し支えない。テンシ
ライズの度合いは特に限定されないが、伸度、引き裂き
抵抗力等の特性を考慮に入れると、長手方向の引張りヤ
ング率ＥMDと幅方向の引張りヤング率ＥTDが、 ０．５≦ＥMD／ＥTD≦２ の範囲であるのが実用的である。
【００２２】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの少なくとも一方向の伸度は１０％以上、より好まし
くは２０％以上、更に好ましくは３０％以上であるとテ
ープが適度な柔軟性を持つので望ましい。
ムの少なくとも一方向の伸度は１０％以上、より好まし
くは２０％以上、更に好ましくは３０％以上であるとテ
ープが適度な柔軟性を持つので望ましい。
【００２３】本発明の磁気記録媒体における基材フィル
ムの吸湿率は、４％以下、より好ましくは３％以下、更
に好ましくは２％以下であると湿度変化によるテープの
寸法変化が小さく良好な電磁変換特性を保てるので望ま
しい。
ムの吸湿率は、４％以下、より好ましくは３％以下、更
に好ましくは２％以下であると湿度変化によるテープの
寸法変化が小さく良好な電磁変換特性を保てるので望ま
しい。
【００２４】次に本発明の製造方法を説明するが、これ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
【００２５】まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン
（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、水酸化
リチウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の
中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、などの有機の中和剤が使用
される。また、イソシアネートとカルボン酸との反応
は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行な
われる。
ドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン
（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、水酸化
リチウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の
中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、などの有機の中和剤が使用
される。また、イソシアネートとカルボン酸との反応
は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行な
われる。
【００２６】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
【００２７】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためにはポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で
１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、０．
５以上であることが好ましい。
ためにはポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で
１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、０．
５以上であることが好ましい。
【００２８】製膜原液には溶解助剤として無機塩例えば
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリ
マ濃度は２〜４０wt％程度が好ましい。
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポリ
マ濃度は２〜４０wt％程度が好ましい。
【００２９】粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。
【００３０】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいづれの
方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式法
を例にとって説明する。
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいづれの
方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式法
を例にとって説明する。
【００３１】乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金か
らニッケル、ステンレス、銅、チタン、ハステロイ、タ
ンタル等の材質からなるドラム、エンドレスベルト等の
支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜層か
ら溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性をもつまで乾燥す
る。乾燥条件は室温〜２５０℃、６０分以内の範囲であ
り、好ましくは室温〜２００℃の範囲である。乾燥温度
が２５０℃を越えると、急激な加熱によるボイドの発
生、表面の荒れ等が起こり工業材料、磁気材料として実
用的なフィルムが得られない。
らニッケル、ステンレス、銅、チタン、ハステロイ、タ
ンタル等の材質からなるドラム、エンドレスベルト等の
支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜層か
ら溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性をもつまで乾燥す
る。乾燥条件は室温〜２５０℃、６０分以内の範囲であ
り、好ましくは室温〜２００℃の範囲である。乾燥温度
が２５０℃を越えると、急激な加熱によるボイドの発
生、表面の荒れ等が起こり工業材料、磁気材料として実
用的なフィルムが得られない。
【００３２】上記乾式工程を終えたフィルムは支持体か
ら剥離されて湿式工程に導入され、ここでフィルム中に
含有されている溶剤や不純物が除去される。この浴は一
般に水系媒体からなるものであり、水の他に有機溶媒や
無機塩等を含有していてもよい。しかし一般には水分量
は３０％以上好ましくは５０％以上含有されているもの
であり、浴温度は通常０〜１００℃で使用される。
ら剥離されて湿式工程に導入され、ここでフィルム中に
含有されている溶剤や不純物が除去される。この浴は一
般に水系媒体からなるものであり、水の他に有機溶媒や
無機塩等を含有していてもよい。しかし一般には水分量
は３０％以上好ましくは５０％以上含有されているもの
であり、浴温度は通常０〜１００℃で使用される。
【００３３】さらにフイルム中の不純物を減少させるた
めに、浴温を５０℃以上に上げたり、有機溶剤の浴を設
けてこの中を通すことが有効である。有機溶剤としては
クロロホルム、塩化メチレン、フレオン等のハロゲン化
炭化水素や、アルコール、ケトン、エーテル等の有機溶
剤などがある。この湿式工程では剥離されたフィルムは
かかる浴中に緊張下で浸漬され、フィルム中の不純物は
０．５％以下好ましくは０．２％以下より好ましくは
０．１％以下まで抽出される。
めに、浴温を５０℃以上に上げたり、有機溶剤の浴を設
けてこの中を通すことが有効である。有機溶剤としては
クロロホルム、塩化メチレン、フレオン等のハロゲン化
炭化水素や、アルコール、ケトン、エーテル等の有機溶
剤などがある。この湿式工程では剥離されたフィルムは
かかる浴中に緊張下で浸漬され、フィルム中の不純物は
０．５％以下好ましくは０．２％以下より好ましくは
０．１％以下まで抽出される。
【００３４】湿式工程を出たフィルムは更に延伸、乾
燥、熱処理が行われてフィルムとなる。
燥、熱処理が行われてフィルムとなる。
【００３５】以上のように形成されるフィルムはその製
膜工程中で、機械特性が本発明の範囲となるように延伸
が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜５．０
（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意
味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは１．１〜３．０である。また熱処理後のフィルムを
徐冷する事により寸法変化率を低減することができ、１
００℃／秒以下の速度で冷却する事が有効である。
膜工程中で、機械特性が本発明の範囲となるように延伸
が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜５．０
（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意
味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは１．１〜３．０である。また熱処理後のフィルムを
徐冷する事により寸法変化率を低減することができ、１
００℃／秒以下の速度で冷却する事が有効である。
【００３６】次にこのフィルムに磁性層を塗布する。磁
性層を塗布する方法は公知の方法で行うことができる
が、グラビアロールを使用する方法が塗膜の均一性の点
ではより好ましい。塗布後の乾燥温度は８０℃〜１５０
℃が好ましい。またカレンダー工程は２５℃〜１５０℃
の範囲で行うのが好ましい。
性層を塗布する方法は公知の方法で行うことができる
が、グラビアロールを使用する方法が塗膜の均一性の点
ではより好ましい。塗布後の乾燥温度は８０℃〜１５０
℃が好ましい。またカレンダー工程は２５℃〜１５０℃
の範囲で行うのが好ましい。
【００３７】この後、磁性層と反対側の面に更に走行性
を向上させるために、公知の方法によりバックコート層
を設けてもよい。
を向上させるために、公知の方法によりバックコート層
を設けてもよい。
【００３８】更に、この磁性層を塗布したフィルムをキ
ュアした後スリットして本発明の磁気記録媒体となる。
例えば８ｍｍなどの民生用、プロ用、Ｄ−１、２、３な
どの放送局用、ＤＤＳ−２、３、４、ＱＩＣ、データ８
ｍｍなどのデータ用が挙げられるがこれに限定されるも
のではない。
ュアした後スリットして本発明の磁気記録媒体となる。
例えば８ｍｍなどの民生用、プロ用、Ｄ−１、２、３な
どの放送局用、ＤＤＳ−２、３、４、ＱＩＣ、データ８
ｍｍなどのデータ用が挙げられるがこれに限定されるも
のではない。
【００３９】
【測定方法、評価法】本発明の物性の測定方法、効果の
評価方法は次の方法による。
評価方法は次の方法による。
【００４０】（１）ヤング率 テンシロン型引張り試験機により２５℃における歪・応
力曲線における接線の勾配から求めた。サンプルは幅１
０ｍｍ、試長１００ｍｍとし、引張り速度は３００ｍｍ
／分で行った。
力曲線における接線の勾配から求めた。サンプルは幅１
０ｍｍ、試長１００ｍｍとし、引張り速度は３００ｍｍ
／分で行った。
【００４１】（２）寸法変化率 フィルムに１５０mm間隔で標線を入れ、これを１０mm幅
にスリットし測定サンプルとする。厚さをマイクロメー
タにより測定し、荷重が１ｋｇ／ｍｍ2 になるようにお
もりをつけオーブンで１００℃、１０分間の加熱を行い
寸法変化率を下式で計算する。
にスリットし測定サンプルとする。厚さをマイクロメー
タにより測定し、荷重が１ｋｇ／ｍｍ2 になるようにお
もりをつけオーブンで１００℃、１０分間の加熱を行い
寸法変化率を下式で計算する。
【００４２】
【数１】 （３）塩化メチレン抽出物量 裁断したフイルムをソックスレー抽出器に仕込みこの中
へ精製した塩化メチレンをいれて１時間沸点で加熱抽出
を行う。次にこの液をロータリーエバポレータに移し減
圧度を調整しながら恒量になるまで濃縮し残留物の重量
を測定して求める。
へ精製した塩化メチレンをいれて１時間沸点で加熱抽出
を行う。次にこの液をロータリーエバポレータに移し減
圧度を調整しながら恒量になるまで濃縮し残留物の重量
を測定して求める。
【００４３】（４）表面粗さ 小坂研究所製の薄膜段差測定器（ＥＴ−１０）を用い、
触針先端半径０．５μｍ、触針荷重５ｍｇ、カットオフ
値０．０８ｍｍ、測定長０．５ｍｍの条件で５回測定
し、その平均であらわした。
触針先端半径０．５μｍ、触針荷重５ｍｇ、カットオフ
値０．０８ｍｍ、測定長０．５ｍｍの条件で５回測定
し、その平均であらわした。
【００４４】（５）走行性 磁性層を形成したフィルムを幅１／２インチの幅にスリ
ットしたものをテ−プ走行性試験機を使用してガイドピ
ン（表面粗度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走
行速度１００ｍ／分、巻き付け角：６０度）。走行試験
の前に６０℃、８０％ＲＨの雰囲気下で４８時間エージ
ングを施す。走行試験は非磁性面をガイドピン側にし
て、４０℃、８０％ＲＨ雰囲気で走行さる。１０パス走
行させ動摩擦係数の変動を測定し、変動率が２０％以内
のものは○、これをこえるものは×とした。
ットしたものをテ−プ走行性試験機を使用してガイドピ
ン（表面粗度：Ｒａで１００ｎｍ）上を走行させる（走
行速度１００ｍ／分、巻き付け角：６０度）。走行試験
の前に６０℃、８０％ＲＨの雰囲気下で４８時間エージ
ングを施す。走行試験は非磁性面をガイドピン側にし
て、４０℃、８０％ＲＨ雰囲気で走行さる。１０パス走
行させ動摩擦係数の変動を測定し、変動率が２０％以内
のものは○、これをこえるものは×とした。
【００４５】（６）耐久性 走行性試験を行う条件で走行パス数を１００パスとし、
試験終了後にテープの観察を行う。所々にわずかなテー
プ変形があるものまでは○、全長に渡ってテープ変形の
あるものは×とした。
試験終了後にテープの観察を行う。所々にわずかなテー
プ変形があるものまでは○、全長に渡ってテープ変形の
あるものは×とした。
【００４６】
【実施例】以下に実施例にもとずいて本発明を説明する
が、これらに限定されるものではない。
が、これらに限定されるものではない。
【００４７】実施例１ Ｎーメチルー２ーピロリドン（ＮＭＰ）中で一次粒径
０．０２μｍの乾式シリカ粒子を平均粒径０．２μｍに
分散させたスラリーを準備する。
０．０２μｍの乾式シリカ粒子を平均粒径０．２μｍに
分散させたスラリーを準備する。
【００４８】重合槽にＮＭＰと上記シリカスラリーを仕
込み、この中に芳香族ジアミン成分として８５モル％に
相当する２−クロルパラフェニレンジアミンと、１５モ
ル％に相当する４、４’−ジアミノジフェニルエ−テル
とを溶解させ、これに９９モル％に相当する２−クロル
テレフタル酸クロリドを添加し、２時間撹拌して重合を
完了した。これを水酸化リチウムで発生塩化水素の９７
モル％を中和し、さらにジエタノールアミンを７モル％
添加してポリマ溶液を得た。なお粒子の含有量は芳香族
ポリアミドに対して２ｗｔ％とした。ポリマ濃度１１ｗ
ｔ％、３０℃での溶液粘度を４０００ポイズに調整して
製膜原液とした。
込み、この中に芳香族ジアミン成分として８５モル％に
相当する２−クロルパラフェニレンジアミンと、１５モ
ル％に相当する４、４’−ジアミノジフェニルエ−テル
とを溶解させ、これに９９モル％に相当する２−クロル
テレフタル酸クロリドを添加し、２時間撹拌して重合を
完了した。これを水酸化リチウムで発生塩化水素の９７
モル％を中和し、さらにジエタノールアミンを７モル％
添加してポリマ溶液を得た。なお粒子の含有量は芳香族
ポリアミドに対して２ｗｔ％とした。ポリマ濃度１１ｗ
ｔ％、３０℃での溶液粘度を４０００ポイズに調整して
製膜原液とした。
【００４９】この製膜原液を１００Ｔｏｒｒの真空下で
スクリュー押出機で原液中の気泡を除去し、５μｍカッ
トのフィルタ−を通した後、５０℃に加熱された口金よ
り金属ベルト上に流延した。この流延されたフィルムを
１５０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己
保持性を得たフィルムをベルトから連続的に剥離した。
次にＮＭＰの濃度勾配をつけた６０℃の水槽内へフィル
ムを導入して残存溶媒と中和で生じた無機塩等の抽出を
行なった。抽出時間は５分である。さらに３０℃のクロ
ロホルムの浴へ２分間浸漬した。なおこれら浴中で縦方
向（ＭＤ方向）に１．１倍延伸した。
スクリュー押出機で原液中の気泡を除去し、５μｍカッ
トのフィルタ−を通した後、５０℃に加熱された口金よ
り金属ベルト上に流延した。この流延されたフィルムを
１５０℃の熱風で２分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己
保持性を得たフィルムをベルトから連続的に剥離した。
次にＮＭＰの濃度勾配をつけた６０℃の水槽内へフィル
ムを導入して残存溶媒と中和で生じた無機塩等の抽出を
行なった。抽出時間は５分である。さらに３０℃のクロ
ロホルムの浴へ２分間浸漬した。なおこれら浴中で縦方
向（ＭＤ方向）に１．１倍延伸した。
【００５０】つぎにテンタ−に導入し２８０℃で１分間
で水分の乾燥と熱処理を行なった。この間にフィルムの
幅方向に１．４倍延伸を行ない、さらに３０℃／秒の速
度で２００℃まで徐冷し、４．５μｍのフイルムを得
た。このフィルムの主な特性を第１表に示す。またフイ
ルムの破断強度はＭＤ、ＴＤ各々５２，７０Ｋｇ／ｍｍ
2 、破断伸度はＭＤ，ＴＤ各々５０，４３％であった。
また吸湿率は１．５％である。表面粗さは、Ｒａが７ｎ
ｍ、Ｒｐ４１ｎｍ、Ｒｚ５６ｎｍであった。
で水分の乾燥と熱処理を行なった。この間にフィルムの
幅方向に１．４倍延伸を行ない、さらに３０℃／秒の速
度で２００℃まで徐冷し、４．５μｍのフイルムを得
た。このフィルムの主な特性を第１表に示す。またフイ
ルムの破断強度はＭＤ、ＴＤ各々５２，７０Ｋｇ／ｍｍ
2 、破断伸度はＭＤ，ＴＤ各々５０，４３％であった。
また吸湿率は１．５％である。表面粗さは、Ｒａが７ｎ
ｍ、Ｒｐ４１ｎｍ、Ｒｚ５６ｎｍであった。
【００５１】次にこのフイルムの製膜時の金属ベルトと
接しない側の表面に、次の組成から成る磁性塗料を調製
し、グラビアロールで所定の塗布厚になるように塗布
し、硬化した後、カレンダー処理した。磁性層の厚みは
２μｍとした。
接しない側の表面に、次の組成から成る磁性塗料を調製
し、グラビアロールで所定の塗布厚になるように塗布
し、硬化した後、カレンダー処理した。磁性層の厚みは
２μｍとした。
【００５２】 磁性粉（メタル粉） ８０重量部 塩ビ系共重合体 １０重量部 ポリウレタン １０重量部 硬化剤 ５重量部 研磨剤 ５重量部 トルエン １００重量部 メチルエチルケトン １００重量部 さらにこれをスリットして磁気テープとし、走行性、耐
久性を評価したが非常に優れたものであった。
久性を評価したが非常に優れたものであった。
【００５３】実施例２ 芳香族ジアミン成分として２−クロルパラフェニレンジ
アミンを９５モル％、４、４’−ジアミノジフェニルエ
−テルを５モル％として実施例１と同様に重合、中和を
行った。ポリマ濃度は９ｗｔ％、３０℃での溶液粘度を
４０００ポイズに調整して製膜原液とした。
アミンを９５モル％、４、４’−ジアミノジフェニルエ
−テルを５モル％として実施例１と同様に重合、中和を
行った。ポリマ濃度は９ｗｔ％、３０℃での溶液粘度を
４０００ポイズに調整して製膜原液とした。
【００５４】さらに実施例１と同様に金属ベルト上に流
延し、溶媒を蒸発させ、さらに水槽内へフィルムを導入
して残存溶媒と中和で生じた無機塩等の抽出を行なっ
た。抽出時間は５分である。さらに３０℃のクロロホル
ムの浴へ１分間浸漬した。なおこれら浴中で縦方向（Ｍ
Ｄ方向）に１．４倍延伸した。
延し、溶媒を蒸発させ、さらに水槽内へフィルムを導入
して残存溶媒と中和で生じた無機塩等の抽出を行なっ
た。抽出時間は５分である。さらに３０℃のクロロホル
ムの浴へ１分間浸漬した。なおこれら浴中で縦方向（Ｍ
Ｄ方向）に１．４倍延伸した。
【００５５】つぎにテンタ−に導入し２８０℃で１分間
の間に水分の乾燥と熱処理を行なった。この間にフィル
ムの幅方向に１．２倍延伸を行ない、さらに５０℃／秒
で１５０℃まで徐冷し、４．５μｍのフイルムを得た。
このフィルムの主な特性を第１表に示す。またフイルム
の破断強度はＭＤ、ＴＤ各々７２，５５Ｋｇ／ｍｍ2、
破断伸度はＭＤ，ＴＤ各々３５，４３％であった。また
吸湿率は１．２％である。
の間に水分の乾燥と熱処理を行なった。この間にフィル
ムの幅方向に１．２倍延伸を行ない、さらに５０℃／秒
で１５０℃まで徐冷し、４．５μｍのフイルムを得た。
このフィルムの主な特性を第１表に示す。またフイルム
の破断強度はＭＤ、ＴＤ各々７２，５５Ｋｇ／ｍｍ2、
破断伸度はＭＤ，ＴＤ各々３５，４３％であった。また
吸湿率は１．２％である。
【００５６】次にこのフイルムを実施例１と同様に磁性
層を２μｍ設け、さらに非磁性面に０．５μｍのバック
層を設けた。バックコート層用塗料は次の組成から成っ
ている。
層を２μｍ設け、さらに非磁性面に０．５μｍのバック
層を設けた。バックコート層用塗料は次の組成から成っ
ている。
【００５７】 カーボンブラック １００重量部 塩ビ系共重合体 ２０重量部 ポリウレタン ５０重量部 トルエン ２００重量部 メチルエチルケトン ４００重量部 これをスリットして磁気テープを作成し走行性、耐久性
を評価したが非常に優れたものであった。
を評価したが非常に優れたものであった。
【００５８】実施例３ 実施例１と同じ構造のポリマを用いて蒸着テープを作成
する。芳香族ジアミンを溶解したＮＭＰ中へ５０ｎｍの
球状シリカをポリマ当たり０．５ｗｔ％になるように分
散した。この中へ実施例１と同様に２−クロルテレフタ
ル酸クロリドを添加して重合を完了し、さらに中和を行
ってポリマ濃度１１ｗｔ％、３０℃で溶液粘度５０００
ポイズに調整した。
する。芳香族ジアミンを溶解したＮＭＰ中へ５０ｎｍの
球状シリカをポリマ当たり０．５ｗｔ％になるように分
散した。この中へ実施例１と同様に２−クロルテレフタ
ル酸クロリドを添加して重合を完了し、さらに中和を行
ってポリマ濃度１１ｗｔ％、３０℃で溶液粘度５０００
ポイズに調整した。
【００５９】この製膜原液を１μｍカットのフィルタ−
を通した後、口金より金属ベルト上に流延し１８０℃の
熱風で５０秒間加熱して溶媒を蒸発させ、ベルトから連
続的に剥離して４０℃の水槽内へ導入した。浸漬時間は
３分である。さらに３０℃の塩化メチレン浴へ２分間浸
漬した。なおこれら浴中で縦方向（ＭＤ方向）に１．２
倍延伸した。
を通した後、口金より金属ベルト上に流延し１８０℃の
熱風で５０秒間加熱して溶媒を蒸発させ、ベルトから連
続的に剥離して４０℃の水槽内へ導入した。浸漬時間は
３分である。さらに３０℃の塩化メチレン浴へ２分間浸
漬した。なおこれら浴中で縦方向（ＭＤ方向）に１．２
倍延伸した。
【００６０】つぎにテンタ−に導入し３００℃で１分間
水分の乾燥と熱処理を行なった。この間にフィルムの幅
方向に１．３倍延伸を行ない、５０℃／秒で１５０℃ま
で徐冷し、３．５μｍのフイルムを得た。このフィルム
の主な特性を第１表に示す。またフイルムの破断強度は
ＭＤ、ＴＤ各々６４，６３Ｋｇ／ｍｍ2 、破断伸度はＭ
Ｄ，ＴＤ各々４０，４１％であった。また吸湿率は１．
５％である。表面粗さはＲａが１ｎｍ、Ｒｐ７ｎｍ、Ｒ
ｚ８ｎｍであった。
水分の乾燥と熱処理を行なった。この間にフィルムの幅
方向に１．３倍延伸を行ない、５０℃／秒で１５０℃ま
で徐冷し、３．５μｍのフイルムを得た。このフィルム
の主な特性を第１表に示す。またフイルムの破断強度は
ＭＤ、ＴＤ各々６４，６３Ｋｇ／ｍｍ2 、破断伸度はＭ
Ｄ，ＴＤ各々４０，４１％であった。また吸湿率は１．
５％である。表面粗さはＲａが１ｎｍ、Ｒｐ７ｎｍ、Ｒ
ｚ８ｎｍであった。
【００６１】次にこのフイルムを真空槽内に装填し、１
０-2トールのアルゴン雰囲気中でグロー処理し、ついで
真空槽を１０-5トールまで真空にしてフイルムを２０℃
のドラムに沿わせて走行させながら電子ビームによりＣ
ｏ−Ｎｉ合金（Ｃｏ：８０ｗｔ％、Ｎｉ：２０ｗｔ％）
を加熱しフイルム上に１５０ｎｍの磁性槽を形成した。
さらに実施例２と同様にバックコート層を設け、磁気テ
ープを作成した。このテープの走行性、耐久性ともすぐ
れていた。
０-2トールのアルゴン雰囲気中でグロー処理し、ついで
真空槽を１０-5トールまで真空にしてフイルムを２０℃
のドラムに沿わせて走行させながら電子ビームによりＣ
ｏ−Ｎｉ合金（Ｃｏ：８０ｗｔ％、Ｎｉ：２０ｗｔ％）
を加熱しフイルム上に１５０ｎｍの磁性槽を形成した。
さらに実施例２と同様にバックコート層を設け、磁気テ
ープを作成した。このテープの走行性、耐久性ともすぐ
れていた。
【００６２】実施例４ 実施例３の製膜原液を用いて３．５μｍのフイルムを得
た。塩化メチレンのかわりに浴には２０℃のフレオンを
入れ１分浸漬した以外は同様にして製膜した。これに実
施例３と同様に磁性層、バックコート層を設け評価した
が、走行性、耐久性ともすぐれていた。
た。塩化メチレンのかわりに浴には２０℃のフレオンを
入れ１分浸漬した以外は同様にして製膜した。これに実
施例３と同様に磁性層、バックコート層を設け評価した
が、走行性、耐久性ともすぐれていた。
【００６３】比較例１ 芳香族ジアミン成分としてメタフェニレンジアミン、酸
成分として５０モル％のイソフタル酸クロリドと５０モ
ル％のテレフタル酸クロリドを用いる以外は実施例１と
同様にして４．５μｍのフイルムを得た。このフイルム
は機械的にも耐熱的にも本発明のフイルムより劣ったも
のある。
成分として５０モル％のイソフタル酸クロリドと５０モ
ル％のテレフタル酸クロリドを用いる以外は実施例１と
同様にして４．５μｍのフイルムを得た。このフイルム
は機械的にも耐熱的にも本発明のフイルムより劣ったも
のある。
【００６４】走行性、耐熱性を評価したがやはり悪いも
のであった。
のであった。
【００６５】比較例２ 実施例１の製膜原液を用いて乾式工程は実施例１と同じ
条件で製膜した。湿式工程は、水温０℃、浸漬時間を１
分とし、クロロホルム浴を使用しなかった。第１表に示
すように抽出物量は多いフイルムとなった。走行性、耐
久性を評価したところ悪いものであった。
条件で製膜した。湿式工程は、水温０℃、浸漬時間を１
分とし、クロロホルム浴を使用しなかった。第１表に示
すように抽出物量は多いフイルムとなった。走行性、耐
久性を評価したところ悪いものであった。
【００６６】
【表１】
【００６７】
【発明の効果】本発明は、耐熱性、機械特性に優れた芳
香族ポリアミドからなる基材フィルムを使用し、強度
（ヤング率）が大きく、荷重下での寸法変化率が小さ
い。またフイルム中の不純物量が少ないため、厳しい環
境下（特に高温下）におかれても、耐久性に優れ、走行
性、出力特性が良好でかつ使用環境が悪化しても変動が
きわめて少ない磁気記録媒体が得られる。また、これら
の優れた特性により磁気記録媒体製造時の走行性、耐熱
性が向上し加工生産性の向上も可能となる。
香族ポリアミドからなる基材フィルムを使用し、強度
（ヤング率）が大きく、荷重下での寸法変化率が小さ
い。またフイルム中の不純物量が少ないため、厳しい環
境下（特に高温下）におかれても、耐久性に優れ、走行
性、出力特性が良好でかつ使用環境が悪化しても変動が
きわめて少ない磁気記録媒体が得られる。また、これら
の優れた特性により磁気記録媒体製造時の走行性、耐熱
性が向上し加工生産性の向上も可能となる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−125921（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−22242（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−63124（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−22213（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−193618（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−81854（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−247162（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−112218（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−28695（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】 芳香族ポリアミドからなる基材フィルム
の片面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体であって、該
基材フィルムは少なくとも１方向のヤング率が７００ｋ
ｇ／ｍｍ2 以上であり、塩化メチレン抽出物が０．５％
以下であり、該基材フィルムの縦方向の１ｍｍ2 あたり
１ｋｇの荷重をかけたときの１００℃、１０分間の寸法
変化率が２％以下であることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 基材フイルムの塩化メチレン抽出物が
０．１ｐｐｍ以上、０．５％以下であることを特徴とす
る請求項１記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6219676A JP2616711B2 (ja) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | 磁気記録媒体 |
| KR1019950029620A KR100351611B1 (ko) | 1994-09-14 | 1995-09-12 | 자기기록매체 |
| US08/527,269 US5645918A (en) | 1994-09-14 | 1995-09-12 | Magnetic recording medium having an aromatic polyamide substrate |
| CA002158219A CA2158219A1 (en) | 1994-09-14 | 1995-09-13 | Magnetic recording medium |
| EP19950306499 EP0702361B1 (en) | 1994-09-14 | 1995-09-14 | Magnetic recording medium |
| CN95118445A CN1069775C (zh) | 1994-09-14 | 1995-09-14 | 磁记录介质 |
| DE1995620815 DE69520815T2 (de) | 1994-09-14 | 1995-09-14 | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6219676A JP2616711B2 (ja) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0887737A JPH0887737A (ja) | 1996-04-02 |
| JP2616711B2 true JP2616711B2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=16739236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6219676A Expired - Lifetime JP2616711B2 (ja) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5645918A (ja) |
| EP (1) | EP0702361B1 (ja) |
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